JPH01223448A - 感光材料の処理方法 - Google Patents

感光材料の処理方法

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JPH01223448A
JPH01223448A JP5049988A JP5049988A JPH01223448A JP H01223448 A JPH01223448 A JP H01223448A JP 5049988 A JP5049988 A JP 5049988A JP 5049988 A JP5049988 A JP 5049988A JP H01223448 A JPH01223448 A JP H01223448A
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JP
Japan
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developer
photosensitive material
plate
compounds
photosensitive
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Application number
JP5049988A
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English (en)
Inventor
Akira Nogami
野上 彰
Masabumi Uehara
正文 上原
Mieji Nakano
中野 巳恵治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH01223448A publication Critical patent/JPH01223448A/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、感光材料の処理方法に関するものであり、更
に詳しくは、ネガ型及び/又はポジ型感光性平版印刷版
を同一の自動現像機によって処理することのできる方法
に関するものである。
〔発明の背ffi] 像様露光された感光性平版印刷版(以下、「88版」と
いう。)を多数枚現像処理するには自動現像機を用いる
のが一般的である。このような自動現像機においては、
従来は大量の現像液を貯蔵タンクにためておいて、これ
をポンプでノズルより88版に供給し、更に循環使用し
ていた。しかしながら、このような方法では経時疲労、
処理疲労等により貯蔵された現像液の活性度が低下する
ため、これを補充液の供給により補なう方法が行なわれ
ていた。しかしながら、上記方法においては補充通を決
定するための活性度の検知が難かしく、補充が正しく行
なわれないため現象液の活性度が常に変動し、安定な処
理が行なわれないという欠点があった。
一方、88版の現像処理においては一般にネガ型PS版
とポジ型88版は、それぞれ専用の現像液で処理される
°必要があるため、別々の自動現像機が用いられていた
。ネガ型PS版及びポジ型88版を一台の自動現amで
共通現象する試みとして特開昭58−223150号、
同59−91446号公報に示されているごとく、二つ
の現像槽を有する二階式の自動現像機が知られている。
また、特開昭60−64351号公報、同60−214
3594公報にはネガ現像部とポジ現像部を搬送方向に
直列に配置させた技術もある。しかしながら、上記いず
れの技術も、自動現像機が大型化かつ複雑化するため実
用化に乏しいという欠点があった。
[発明の目的] 本発明の目的は上記のJ:うな従来技術の欠点を改良し
、ネガ型18版及び/又はポジ型PS版を同一の現像処
理槽において処理しうる方法を提供することにある。
更に、本発明の目的は長期間安定な処理を行なうことの
できる感光材料の処理方法を提供することにある。
[発明の構成1 本発明者らは、鋭意研究の結果、前記の目的は自動現像
機を用いて、像様露光された感光材料を自動的に搬送し
つつ、実質的に未使用の現像液を現像時に該感光材料上
に供給して処理する方法において、前記現像液が少なく
とも(1)アルカリ剤、(2)有m溶剤、(3)アニオ
ン型界面活性剤、(4)水溶性還元剤及び(5)非イオ
ン型界面活性剤及び/又はカチオン型界面活性剤を含有
することを特徴とする感光材料の処理方法により達成で
きることを見い出した。
[発明の具体的構成] 本発明において対象とされる感光材料としては、活性光
線の照射により画像部と非画像部の間で溶解性の変化を
生じ、この物性変化により、非画像部を現像工程におい
て洗いおとす、いわゆるウオツシュオフ型の感光材料が
ある。このような感光材料としては、例えばPS版、カ
ラーブルーフフィルム、フォ1へマスクフィルム、プリ
ン1〜配線用レジスト、コンタクトリ、スフィルム等が
あるが、特にPS版において本発明は効果的である。
本発明においては供給する現像液は実質的に未使用の現
像液であればよい。
ここに言う実質的に未使用の現像液とは、未使用の現像
液と同等の現像能力を有する現象液を意味し、全く未使
用の現像液の外、未使用現陳液にその現像能力を低下さ
せない範囲内で使用済の現像液を混合して使用すること
も可能であり、例えば現像の際未使用液の供給と共に現
像液供給手段の一部から一度使用した現像液を版面に供
給して現像を行なう等の方法をとることもできるが、全
量未使用液を使用することが最も好ましい。
本発明は現象液を感光材料上に処理のたびごとに必要量
だけ供給する新液供給方式のため、常に安定した現像仕
上りが得られるものである。
感光材料上に現像液を供給する方法としては、噴射方法
、滴下方法、塗布方法などが挙げられる。
具体的にはシャワーパイプ、ノズルなどから供給する方
法、また、ワイヤーバー、ブレードなどにより塗布する
方法等がある。現像液を供給したあと、スポンジやブラ
シなどで感光材料上を擦ることにより、さらに良好な均
一現像を行うことができる。
現像液は使いすてするためできるだけ少ない量で使用す
ることが好ましいが、少なすぎると現像ムラや現像不良
を生じるため、使用量としては感光材料1f当り70顧
から100011が好ましい。
本発明に用いる現像液は、アルカリ剤、有機溶剤、アニ
オン型界面活性剤、水溶性還元剤及び非イオン型界面活
性剤及び/又はカチオン型界面活性剤を含有する。
本発明の1i!e液に用いるアルカリ剤としては、珪酸
すトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリウ
ム、第三リン酸カリウム、第ニリン酸カリウム、第三リ
ン酸アンモニウム、第ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸
ナトリ・クム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭該アンモニウムなどのような無機アルカ
リ剤、モノ−、ジーまたはトリエタノールアミンおよび
水酸化テトラアルキルアンモニアのような有機アルカリ
剤および有機珪酸アンモニウム等が有用である。これら
の中で、珪酸塩アルカリが最も好ましい。アルカリ剤の
現像液中における含有岱は0.05〜20重量%の範囲
で用いるのが好適であり、より好ましくは0.1〜10
1!%である。
本発明に用いる有機溶剤としては20℃において水に対
する溶解度が10重量%以下であるものが好ましいがこ
のような有機溶剤としては、例えば酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチ
レングリコールモノブチルアセテ−I・、乳酸ブチル、
レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル:エチル
ブチルケトンンのようなケトン類:エチレングリコール
モノブチルエーテル、エチレングリコールベンジルエー
テル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベン
ジルアルコール、メチルフェニルカルビノール、n−ア
ミルアルコール、メチルアミルアルコールのようなアル
コール類:キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水
素:メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モ
ノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがあ
る。これら有機溶媒は一種以上用いてもよい。これらの
有機IIの中では、エチレングリコールモノフェニルエ
ーテル、エチレングリコールベンジルエーテル及びベン
ジルアルコールが特に好ましい。
該有機溶剤は、ネガ型とポジ型の両板に対して現像性を
向上するためのすぐれた添加剤である。
また、本発明に用いられるアニオン型界面活性剤として
は、高級アルコール(Ca〜C 22 ) Wa f1
gエステル塩類[例えば、ラウリルアルコールサルフェ
ートのナトリウム塩、オクチルアルコールサルフエ−1
・のす1ヘリウム塩、ラウリルアルコールサルフェート
のアンモニウム塩、[ティーボールB−81J (商品
名・シール化学製)、第二ナトリウムアルキルサルフエ
ー1・など]、脂肪族アルコールリン酸エステル塩類(
例えば、セヂルアルコールリン酸エステルのナトリウム
塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩類(例えば、
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、イソプロピ
ルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シナフタリン
ジスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロペンピンスル
ホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミドのスルホ
ン酸塩類(例えば、C17H33CONCH2 CH2
 SOa Naなど)、鳳 H 3 二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナ
トリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウ
ムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなど)がある。こ
れらの中で特に゛アルキルナフタレンスルホン酸塩類が
好適に用いられる。
上記アニオン界面活性剤の濃度は好ましくは0、2〜1
0重量%、特に1〜5ffiffiの範囲が好ましい。
また本発明に係わる現像液には水溶性還元剤が含有され
るが、この水溶性還元剤としては有機およびj!!機の
還元剤が含まれる。
有機の還元剤としては、例えばハイドロキノン、メトー
ル、メトキシキノン等のフェノール化合物、フェニレン
ジアミン、フェニルヒドラジン等のアミン化合物があり
、無機の還元剤としては、例えば亜硫酸ナトリウム、亜
fAMカリウム、亜1iiii酸アンモニウム、亜硫酸
水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム等の亜硫酸塩、亜
リン酸す1−リウム、亜リン酸カリウム、亜リン酸水素
ナトリウム、亜リン酸水素カリウム、亜硫酸水素ナトリ
ウム、亜硫酸水素カリウム等のリン酸塩、ヒドラジン、
チオ硫酸ナトリウム、亜ジチオン酸ナトリウム等を挙げ
ることができるが、本発明において特に効果美優れてい
る還元剤は亜硫酸塩である。
本発明で言う水溶性還元剤の水溶性という意味の中には
アルカリ可溶性をも含むものであり、これら水溶性還元
剤は、好ましくは0.1〜10i[%、より好ましくは
0.5〜5逅囚%の範囲で含有される。
さらに本発明に係わる現像液には、非イオン型及びまた
はカチオン型界面活性剤を含有せしめる。
上記の非イオン型界面活性剤としては各種の化合物を用
いることができるが、大別するとポリエチレングリコー
ル系化合物と多価アルコール系化合物に分けることがで
き、ポリエチレングリコール系化合物がよ°り好ましく
は使用される。中でもオキシエチレン単位が3以上の繰
返し構造を有し、かつHLB値( H ydroohi
le−L ipophileBalance)が5以上
、さらに好ましくは10〜20の非イオン型界面活性剤
が好適である。すなわち上記の好ましい非イオン型界面
活性剤を一般式で表わすと下記の通りである。
8O−(CH2CHtO)nH (ここでn、I、a、b、C,X、Yは何れも1〜40
の整数を表わす。) 上記−紋穴で表わされる化合物の具体例を挙げると下記
の通りである。
例えばポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、
ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエ
ーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオ
キシエチレンポリオキシブロビレンセチルエーテル、ボ
リオキシエチレンポリオキシブOピレンベヘニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミ
ン、ポリオキシエチレンステアリン酸アミド、ポリオキ
シエチレンオレイン酸アミド、ポリオキシエチレンヒマ
シ油、ポリオキシエチレンアビエチルエーテル、ポリオ
キシエチレンラノリンエーテル、ポリオキシエチレンモ
ノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、
ポリオキシエチレングリセリルモノオレート、ポリオキ
シエチレングリセリルモノステアレート、ポリオキシエ
チレンブロビレングリ゛コールモノステアレート、オキ
シエチレンオキシプロピレンブロツクボリマー、ジスチ
レン化フェノールポリエチレンオキシド付加物、トリベ
ンジルフェノールポリエチレンオキシド付加物、オクチ
ルフェノールポリオキシエチレンポリ第4ジプロピレン
付加物、グリセロールモノステアレー1・、ソルビタン
モノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラ
ウレート等を挙げることができる。
これらの非イオン型界面活性剤の添加量は、好ましくは
0.001〜5ffiffi%であり、より好ましくは
、0.01〜1.Ol[%の範囲である。
また、これら非イオン型界面活性剤の重量平均分子量は
、300〜so、 oooが好ましく、特に好ましくは
500〜s、oooの範囲である。
本発明によれば、本発明に係わる非イオン型界面活性剤
は単独で用いられるが、2種以上を併用してもよい。一
方、本発明に係わるカチオン型界面活性剤としては、各
種の化合物があるが、有線アミン系化合物と第四級アン
モニウム塩系化合物を挙げることができる。
有機アミン系化合物の例としては、ポリオキシエチレン
アルキルアミン、N−アルキルプロピレンジアミン、N
−アルキルポリエチレンポリアミン、N−アルキルポリ
エチレンポリアミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニ
ド、長鎖アミンオキシド、アルキルイミダシリン、1−
ヒドロキシエチル−2−アルキルイミダシリン、1−ア
セチルアミノエチル−2−アルキルイミダシリン、2−
アルキル−4−メチル−4−とドロキシメチルオキサゾ
リン等がある。または第四級アンモニウム塩系化合物の
例としては、長鎖第1アミン塩、アルキルトリメチルア
ンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、ア
ルキルメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、アルキル
キノリニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、アルキ
ルピリジニウム@酸塩、ステアミドメチルピリジニウム
塩、アシルアミノエチルジエチルアミン塩、アシルアミ
ノエチルメチルジエチルアンモニウム塩、アルキルアミ
ドプロビルジメチ“ルベンジルアンモニウム塩、脂肪酸
ポリエチレンポリアミドアシルアミノエチルビリジニウ
ム塩、アシルコラミノホルミルメチルピリジニウム塩、
ステアロオキシメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエタ
ノールアミン、脂肪酸トリエタノールアミンギII、ト
リオキシエチレン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸
ジブチルアミノエタノール、セチルオキシメチルピリジ
ニウム塩、p−イソオクチルフェノキシエトキシエチル
ジメチルベンジルアンモニウム塩等がある。これらの化
合物の中では、特に水溶性の第四級アンモニウム塩のカ
チオン型界面活性剤が効果に優れ、アルキルトリメチル
アンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウ
ム塩、エチレンオキシド付加アンモニウム塩等を挙げる
ことができる。またカチオン成分をくり返し単位として
有する重合体も一般的にはカチオン型界面活性剤であり
、効果的である。特に、親油性モノマーと共重合して得
られた第四級アンモニウム塩を含む重合体は好適に用い
ることができる。
上記カチオン型界面活性剤の添加量は非イオン型界面活
性剤と同じく好ましくは0.001〜5重段%、より好
ましくは0.01〜1.0重量%の範囲である。
た信の平均分子偽は300〜so、 oooの範囲で特
に好ましくは500〜s 、 oooの範囲である。
これらカチオン型界面活性剤も単独で用いられるが、2
F!1以上を併用してらよい。
さらに本発明によれば、非イオン型界面活性剤とカチオ
ン型界面活性剤とを併用しても本発明の効果を得ること
かできる。
本発明に係る現象液には更に現像性能を高めるために以
下のような添加剤を加えることができる。
例エバ、特R[58−75152号記載のNaC1、K
Cl、KBr等の中性塩、特開昭58−190952号
記載のEDTA、NTA等のキレート剤、特開昭59−
121336号記載の(Co  (NH3)61CI!
3等の錯体、特開昭50−51324号記載のフルキル
ナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−テトラデシル−
N、N−ジヒドロキシエチルベタイン等のアニオンまた
は両性界面活性剤、特開昭55−95946号記載のp
−ジメチルアミノメチルポリ°スチレンのメチルクロラ
イド4級化物等のカチオニツクボリマー、特開昭56−
142528号記載のビニルベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等
の両性高分子電解質、特開昭57−192952号記載
の還元性無機塩、特開昭58−59444号記載の塩化
リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭50−344
42号記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物
、特開昭59−75255号記載のSi 、Ti等を含
む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241号記載
の有機硼素化合物等が挙げられる。
本発明に係る88版の画像形成層は感光性物質を含んで
おり、感光性物質として露光またはその後の現像処理に
より、その物理的、化学的性質が変化するもので、例え
ば露光により現像液に対する溶解性に差が生じるもの、
露光の前後で分子間の接着力に差が生じるもの、露光ま
たはその後の現像処理により水および油に対する親和性
に差が生じるもの、更に電子写真方式により画像部を形
成できるもの、また特開昭55−166645号に記載
されている多層構成のもの等が使用できる。
感光性物質の代表的なものとしては、例えば感光性ジア
ゾ化合物、感光性アジド化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するC−0−C−基を有する化合物等が
挙げられる。
露光によりアルカリ可溶性に変化する代表的なポジ型の
ものとして0−キノンジアジド化合物や酸分解性のエー
テル化合物、エステル化合物が挙げられる。露光により
溶解性が減少するネガ型のものとして芳香族ジアゾニウ
ム塩等が挙げられる。
0−キノンジアジド化合物の具体例としては、例えば特
開昭47−5303号、四48−63802号、百48
−63803号、同49−38701号、同56−10
44号、同56−1045号、特公昭41−11222
号、同43−28403号、同45−9610号、同4
9−17481号、米国特許2,797,213号、同
3,046.120号、同3,188,210号、同3
,454,400号、同3.544.323号、同3,
573,917号、同3,674.495号、同3,7
85,825号、英国特許1,227,602号、同 
1,251,345号、同 1 、267、005号、
°同 1,329,888号、同1,330,932号
、ドイツ特許854,890号等に開示されたものがあ
り、酸分解性化合物の例としては特開昭60−3754
9号、同60−10247号、同60−3625号など
に記載されているものを挙げることができ、これらの化
合物を単独あるいは組合せて感光成分として用いたPS
版に対して少なくとも本発明を好ましく適用することが
できる。
これらの感光成分には芳香族ヒトOキシ化合物のO−キ
ノンジアジドカルボン酸エステルまたは0−キノンジア
ジドカルボン酸エステルおよび芳香族アミノ化合物の0
−キノンジアジドスルホン酸または0−キノンジアジド
カルボン酸アミドが包含され、また、これら0−キノン
ジアジド化合物を単独で使用したもの、およびアルカリ
可溶性樹脂と混合し、この混合物を感光層として設けた
ものが包含される。
アルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂
が含まれ、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹脂
、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノールクレゾ
ール混合ホルムアルデビト樹脂、クレゾールキシレノー
ル混合ホルムアルデヒド樹脂、などが含まれる。更に特
開昭50−125806号に記載されているように、上
記のようなフェノール樹脂に共に、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキ
ル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホルム
アルデヒドとの縮合物とを併用したものも適用できる。
0−キノンジアジド化合物を感光成分とする感光層には
、必要に応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト性能
を与える成分などの添加剤を加えることができる。
O−キノンジアジド化合物を感光成分とする感光層の単
位面積当りの量は好ましくは約0,5〜7 a/fの範
囲について本発明を適用できる。
本発明の方法を適用するポジ型88版の画像露光は特に
変える必要はなく常法に従えばよい。
ネガ型感光層の感光成分の代表的なものはジアゾ化合物
であり、例えばジアゾニウム塩および/またはp−ジア
ゾフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物である
ジアゾ樹脂、特公昭52−7364号に記載されている
p−ジアゾフェニルアミンのフェノール塩またはフルオ
ロカプリン醜塩等、特公昭、49−a8001@に記載
されている3−メトキシジフェニルアミン−4−ジアゾ
ニウムクロライドと4−二トロジフIニルアミンとホル
ムアルデヒドとの共重縮合物の有機溶媒可溶性塩からな
るジアゾ樹脂、p−ジアゾジフェニルアミンとホルムア
ルデヒドとの縮合物の2−メトキシ−4−ヒドロキシ−
5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩、p−ジアゾフェ
ニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のテトラフル
オロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩等が挙げられる
。これらを感光成分とするネガ蟹PS版に対して少なく
とも本発明を好ましく適用できる。  ゛ これらのジアゾ化合物を単独で使用したもののほかに感
光層の物性を向上させるため、種々の樹脂と混合して用
いたものに対しても本発明を適用できる。かかる樹脂と
しては、シーラック、ポリビニルアルコールの誘導体の
ほかに特開昭5O−1t8802号中に記載されている
lll1tBにアルコール性水酸基を有する共重合体、
特開昭55−155355号に記載されているフェノー
ル性水IIをllI鎖に持つ共重合体が挙げられる。
これらの樹脂には下記−紋穴で示される構造単位を少な
くととも5011%含む共重合体、−紋穴    R1 (式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2は
水素原子、メチル基、エチル基またはクロルメチル基を
示し、nは1〜10の整数である。)および芳香族性水
酸基を有する単3体単位を1〜80モル%、ならびにア
クリル酸エステルおよび/またはメ゛タクリル酸エステ
ル単量体単位を5〜90モル%有し、10〜20Gの酸
価を持つ高分子化合物が包含される。
本発明の現像液及び現像方法が適用されるネガ型18版
の感光層には、更に染料、可塑剤、プリントアウト性能
を与える成分等の添°加剤を加えることができる。
上記感光層の単位面積当りの塗布口は少なくとも0.1
〜7 U/fの範囲について本発明を適用できる。
前記のPS版に使用される支持体としては、紙、プラス
チック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど)ラミネート紙、アルミニウム(アルミニウ
ム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金底の板、二酢
酸セルロース、三酢酸セルロース、ブOピオン酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ルなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如ぎ金
属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはクローム
メツキが施された鋼板などが挙げられ、これらのうち特
にアルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合支持
体が好ましい。
また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め感光層と
密着性を向上させる目的で粗面化処理されていることが
望ましい。
粗面化方法としては、一般に公知のブラシ研磨法、ボー
ル研磨法、電解エツチング、化学的エツチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法およびこれらの組合
せが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エツチン
グ、化学的エツチングおよび液体ホーニングが挙げられ
、これらのうちで特に電解エツチングの使用を含む粗面
1ヒ方法が特に好ましい。また、′Ji解エツチングの
際に用いられる電解浴としては、酸、アルカリまたはそ
れらの塩を含む水溶液あるいは有礪溶剤を含む水性溶液
が用いられ、これらのうちで特に塩酸、硝酸またはそれ
らの塩を含む電解液が好ましい。さらに粗面化処理の施
されたアルミニウム板は、必要に応じて酸またはアルカ
リの水溶液にてデスマット処理される。
こうして得られたアルミニウム板は陽極酸化処理される
ことが望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸を
含む浴で処理する方法が挙げられる。また、さらに必要
に応じて封孔処理、その他律化ジルコニウム酸カリウム
水溶液゛への浸漬などによる表面処理を行うことができ
る。
また、本発明に係る現像液を用いる現像処理方法は現像
処理工程の他に必要ならば現像処理工程後、現像停止処
理工程(停止処理液は使い捨て方式や循環使用の方式を
含む)、不感脂化処理工程の各々個々の処理工程、現像
停止処理工程とそれに引き継ぐ不感脂化処理工程、現6
;処理工程と不感脂化処理と組合せた処理工程、或いは
現像停止処理工程と不感脂化処理工程とを組合せた例え
ば特開昭54−8001号公報の処理工程等を含んでい
てもよい。
なお、本発明におけるネガ型とポジ型のPS版を同じ現
幽液で共通に現像する場合、現像液組成以外の条件(例
えば現像温度、現像時間等)はネガ型とポジ型とで変え
る等任意である。
[実施例] 以下、具体的実施例により本発明を更に詳細に説明する
。
実施例1 厚さ0.24−園のJIS1050アルミニウム板を2
%の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、脱脂処理を行
った後に、希塩酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よ
く洗浄した後に希塩酸溶液中で陽極酸化処理を行って2
.5(1,/fの酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上
に形成させた。
得られたアルミニウム板を水洗、乾燥後、下記組成の感
光液を乾燥mm 2.5 (J/fとなるように塗布し
、乾燥してポジ型PS版を得た。版の寸法は1003x
800n+mとした。
(感光液) レゾルシン−ベンズアルデヒド樹脂の ナフトキノン−1,2−ジアジド(2)−5−スルホン
酸エステル(特開昭 56−1044号公報の実施例1に記載されているもの
)           ・・・1部クレゾールーフェ
ノールー ホルムアルデヒド樹脂       ・・・3部ter
t−ブチルフェノールーベンズ アルデヒド樹脂のプツトキノン−。
1.2−ジアジド(2)−5− スルホン酸エステル(特開昭60−31138号公報の
実施例1に記載されているもの)・・・0.1部 クリスタルバイオレット (B、A、S、F、[染料)     ・・・0.05
部エチレングリコールモノメチルエーテル・・・20部 得られたポジ型98版に透明ポジティブフィルムを密着
させて2キロワットのメタルハライドランプで70ca
+の距離から60秒間露光を行った。
また、厚さ0.24mm+のJ I S 1050アル
ミニウム板を20%リン酸す1〜リウム水溶液に浸漬し
て脱脂し、希硝酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よ
く洗浄した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を行って1
.5 Q/fの酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上に
形成させた。
得られたアルミニウム板を、ざらにメタケイ酸ナトリウ
ム水溶液中に浸漬して封孔処理を行い、水洗、乾燥した
後に、下記の感光液を乾燥重傷2、OQ/fとなるよう
に塗布し、乾燥してネガ型88版を得た。
(感光液) p−ジアゾジフェニルアミンと バラホルムアルデヒドとの縮合物 のヘキサフルオロ燐酸塩      ・・・1部N−(
4−ヒドロキシフェニル メタクリルアミド共重合体(特公昭 57−43890号公報の実施例1に記載のもの)・・
・10部 ビクトリア・ピュア・ブルー・BOH (保土谷化学@製、染料)    ・・・0.2部エチ
レングリコールモノメチルエーテル・・・ 100部 このネガ型88版に透明ネガティブフィルムを密着させ
て2キロワツトのメタルハライドランプで7部cmの距
離から、30秒間露光を行った。
上記の露光済みのポジ型及びネガ型88版を第1図に示
した自動現像機を用い、下記現像液工で現像処理した。
現像液I ・ケイ酸ナトリウム (JISケイ酸ソーダ3号)    5重量部・水酸化
ナトリウム        211部・フェニルセロソ
ルブ       11ifli部・ペレックスN B
 −L (商品名 花王−社製 アニオン型界面活性剤)101
1部 ・無水亜硫酸ナトリウム       1f![1部・
エマルゲン141 (商品名 花王−社製 非イオン型界面活性剤)0.1
f!量部 ・水              120重量部第1図
において88版1が搬送ローラ2により現像部に搬送さ
れると現像液工はタンク3からポンプ4で2枚の板状体
供給口5の間から88版1上に供給される。供給量はP
S版1v当り200.1とした。この時好ましくは、温
調されるのが良い。
その後、88版は現像液中に浸漬され、ブラシ7で擦ら
れたあとスクイーズされる。現像液は廃液タンク8に貯
められ廃棄される。次いで水洗・ガム引ぎされるが、こ
の時ガムのかわりにリンスを行っても良い。また、水洗
せずに現像後、すぐにガム引き又はリンスしても良い。
前記作製したネガ型88版とポジ型98版を双方100
枚をランダムに処理したところ、どの版も同様な仕上が
りで良好な画像が得られた。
[発明の効gA] 以上詳細に説明したように、本発明の方法により、ネガ
型88版及び/又はポジ型98版を同一の現像処理槽に
おいて安定に現像処理することができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例及び比較例において用いた自動現像機の
概略口である。 く主な参照番号〉 1・・・感光材料    2・・・搬送口−ラ3・・・
貯蔵タンク   4・・・ポンプ5・・・現像液供給口
  6・・・押え串0−ラフ・・・ブラシローラ  8
・・・廃、液タンク9・・・ノズル

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 自動現像機を用いて、像様露光された感光材料を自動的
    に搬送しつつ、実質的に未使用の現像液を現像時に該感
    光材料上に供給して処理する方法において、前記現像液
    が、少なくとも(1)アルカリ剤、(2)有機溶剤、(
    3)アニオン型界面活性剤、(4)水溶性還元剤及び(
    5)非イオン型界面活性剤及び/又はカチオン型界面活
    性剤を含有することを特徴とする感光材料の処理方法。
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