JPS6289060A - ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法 - Google Patents
ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法Info
- Publication number
- JPS6289060A JPS6289060A JP23028685A JP23028685A JPS6289060A JP S6289060 A JPS6289060 A JP S6289060A JP 23028685 A JP23028685 A JP 23028685A JP 23028685 A JP23028685 A JP 23028685A JP S6289060 A JPS6289060 A JP S6289060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing
- plate
- developer
- negative
- development
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 21
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 claims description 9
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims 3
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 46
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 3
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 abstract 9
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 26
- -1 methylene phosphonic acid Chemical compound 0.000 description 26
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 25
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 4
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 3
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N monoethyl amine Natural products CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000306 component Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000002362 mulch Substances 0.000 description 2
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N tetraazanium;phosphonato phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 2
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUCTUWYCFFUCOR-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihexoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCC YUCTUWYCFFUCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMWMTSCFTPQVCJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.CC1=CC=CC=C1O LMWMTSCFTPQVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPONAPFARZGDTH-UHFFFAOYSA-N Cl.OS(O)=O Chemical compound Cl.OS(O)=O MPONAPFARZGDTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008055 alkyl aryl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- AQOVICURMQMZKZ-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AQOVICURMQMZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-prop-2-enylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L disodium;2-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].OS(=O)(=O)C(C([O-])=O)CC([O-])=O JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940031993 lithium benzoate Drugs 0.000 description 1
- LDJNSLOKTFFLSL-UHFFFAOYSA-M lithium;benzoate Chemical compound [Li+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 LDJNSLOKTFFLSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N n-hexadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I pentapotassium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical group 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AZXQLMRILCCVDW-UHFFFAOYSA-M sodium;5-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(C(C)C)=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O AZXQLMRILCCVDW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000012089 stop solution Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感光性平版印刷版の現像液組成物及び現像方法
に関し、更に詳しくは冬が型感光性平版印刷版及びポジ
型感光性平版印刷版に対し共通に使用し得る現像液組成
物及び該組成物を用いた感光性平版印刷版の現像方法に
関する。
に関し、更に詳しくは冬が型感光性平版印刷版及びポジ
型感光性平版印刷版に対し共通に使用し得る現像液組成
物及び該組成物を用いた感光性平版印刷版の現像方法に
関する。
従来、感光性平版印刷版(以下28版という)の現像処
理に当たっては、ネガ型PS版とポジ型感光性平服印刷
とで適合する現像液の組成が異なり、それぞれの専用現
像液でのみ、適正な現像が可能であった。かりに、専用
現像液でない現像液を用いて、現像ができたとしても、
十分な性能を有する平版印刷版は得られず、ネガ型PS
版とポジ型PS版を同一の現像液で共通処理することは
実質的にはできないのが現状であった。
理に当たっては、ネガ型PS版とポジ型感光性平服印刷
とで適合する現像液の組成が異なり、それぞれの専用現
像液でのみ、適正な現像が可能であった。かりに、専用
現像液でない現像液を用いて、現像ができたとしても、
十分な性能を有する平版印刷版は得られず、ネガ型PS
版とポジ型PS版を同一の現像液で共通処理することは
実質的にはできないのが現状であった。
一方、特開昭80−64351号には、1台の自動現像
槻でネガ型PS版とポジ型感光性平印刷版を共に現像処
理する共通現像方法が記載されている。しかし、この技
術はそれぞれの専用現像液を並べた別の現像浴に入れて
、ネガ型PS版用の現像とポジ型感光性平版印刷用の現
像を連続し上行なうものであり、同一処方の現像液で現
像するものではないため、それぞれの専用現像液を使用
するので、液管理が面倒であり、安定した現像を艮時間
行なうのが困難であった。
槻でネガ型PS版とポジ型感光性平印刷版を共に現像処
理する共通現像方法が記載されている。しかし、この技
術はそれぞれの専用現像液を並べた別の現像浴に入れて
、ネガ型PS版用の現像とポジ型感光性平版印刷用の現
像を連続し上行なうものであり、同一処方の現像液で現
像するものではないため、それぞれの専用現像液を使用
するので、液管理が面倒であり、安定した現像を艮時間
行なうのが困難であった。
また、ネガ型18版およびボン型PS版を単独で共通に
現像処理できる現像−amm初物して、特開昭57−1
92952号公報および同80−130741号公報に
ネガポジ両用水系アルカリ現像液が提案されている。
現像処理できる現像−amm初物して、特開昭57−1
92952号公報および同80−130741号公報に
ネガポジ両用水系アルカリ現像液が提案されている。
しかし、こうした現像液では23版の種類を選べば一応
ネガ型PS版およびポジ型28版の共通処理はできるも
のの、現像濃縮液を希釈水使用する場合の希釈水の硬度
の影響によって現像性が著しく変動しやすく、またネガ
型28版およびポジ型28版の混合処理に帰因する現像
液中へのヘドロ状の沈澱物発生が著しく、現像性能の安
定性および自動現像機による大量処理性やロングラン処
理性に問題を有していた。
ネガ型PS版およびポジ型28版の共通処理はできるも
のの、現像濃縮液を希釈水使用する場合の希釈水の硬度
の影響によって現像性が著しく変動しやすく、またネガ
型28版およびポジ型28版の混合処理に帰因する現像
液中へのヘドロ状の沈澱物発生が著しく、現像性能の安
定性および自動現像機による大量処理性やロングラン処
理性に問題を有していた。
従って、従来より知られている現像液組成物については
ネγ型PS版及びポジ型28版を自動現像機を用いて安
定して良好に共通処理でき、しかも多数枚を長時間にわ
たって安定して処理できるものがないのが現状である。
ネγ型PS版及びポジ型28版を自動現像機を用いて安
定して良好に共通処理でき、しかも多数枚を長時間にわ
たって安定して処理できるものがないのが現状である。
本発明の目的はネガ型18版とポジ型28版を共に処理
できる共用現像′e、組成物を提供することにある。
できる共用現像′e、組成物を提供することにある。
更に本発明の他の目的は、該共用現像’a All e
、物でネガ型及びポジ型平版印刷版を処理する現像方法
を提供することである。
、物でネガ型及びポジ型平版印刷版を処理する現像方法
を提供することである。
本発明の更に別の目的は、ネガ型18版およびポジ型2
8版を自動現像機を用いて多数枚を長時間にわたって処
理しても、ネガ型18版びおよびボン型PS版各々につ
いて安定した現像性能を示し、しかも現像濃縮液を希釈
使用する場合の希釈水として硬度の高い水道水や井戸水
用いても現像性能が変動することなく、常に安定した現
像性能の得られるネガ型18版、ポジ型PS版共用現像
液組成物および現像方法を提供することにある。
8版を自動現像機を用いて多数枚を長時間にわたって処
理しても、ネガ型18版びおよびボン型PS版各々につ
いて安定した現像性能を示し、しかも現像濃縮液を希釈
使用する場合の希釈水として硬度の高い水道水や井戸水
用いても現像性能が変動することなく、常に安定した現
像性能の得られるネガ型18版、ポジ型PS版共用現像
液組成物および現像方法を提供することにある。
本発明者らは、画像露光されたネガ型18版およびポジ
型28版の現像処理において水を主たる溶媒とするアル
カリ性水溶液にキレート剤を含有させたネガ型18版お
よびポジ型PS版用共用現像液組成物(以下単に本発明
の現像液組成物ともいう)、及び該現像液組成物を用い
てネガ型だ現像方法によって上記の目的が達成されるこ
とを見出だした。
型28版の現像処理において水を主たる溶媒とするアル
カリ性水溶液にキレート剤を含有させたネガ型18版お
よびポジ型PS版用共用現像液組成物(以下単に本発明
の現像液組成物ともいう)、及び該現像液組成物を用い
てネガ型だ現像方法によって上記の目的が達成されるこ
とを見出だした。
本発明の実施に当たっては、前記アルカリ性水溶液がア
ニオン界面活性剤及び亜硫酸塩のうち少なくとも1つを
含み、かつ、H値が10.0から13.5の範囲にある
ことが好ましい。
ニオン界面活性剤及び亜硫酸塩のうち少なくとも1つを
含み、かつ、H値が10.0から13.5の範囲にある
ことが好ましい。
また本発明の方法は自動現像機に適用した場合とくに有
効である。
効である。
次に本発明の現像液組成物について具体的に説明する。
本発明に用いられるキレート剤としては、アルカリ水溶
液に可溶でありかつアルカリ性水溶液中でカルシウムイ
オンおよびマグネシウムイオンをM頷しうるものがあげ
られる。すなわち、使用される現像液組成物が示すpH
値における封鎖率が50%以上のもの、より好ましくは
pH10,0から13.5における封鎖率が50%以上
のキレート剤が使用される。
液に可溶でありかつアルカリ性水溶液中でカルシウムイ
オンおよびマグネシウムイオンをM頷しうるものがあげ
られる。すなわち、使用される現像液組成物が示すpH
値における封鎖率が50%以上のもの、より好ましくは
pH10,0から13.5における封鎖率が50%以上
のキレート剤が使用される。
このようなキレート剤の例としては、エチレンノアミン
チトラ酢酸、ノエチレントリアミンベンタ酢酸、トリエ
チレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレ
ンノアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、シクロヘキサ
ンノアミンチトラ酢酸、1.3−ノアミノ−2−プロパ
/−ルテトラ酢酸およびこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩などの7ミノボリカルボン酸類、2−ホスホノブタ
ン−1,2,4−)リカルボン酸、2−ホスホ7ブタン
ー2.3.4−)リカルボン酸、1−ホスホ/エタン−
1,2,2−)リカルボン酸、1−ヒドロキシエタン−
1,1−ジホスホン酸、アミノド(メチレンホスホン酸
)およびこれらのナトリウム塩、カリウム塩などの有機
ホスホン酸類あるいはホスホントリカルボン酸類をあげ
ることができる。
チトラ酢酸、ノエチレントリアミンベンタ酢酸、トリエ
チレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレ
ンノアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、シクロヘキサ
ンノアミンチトラ酢酸、1.3−ノアミノ−2−プロパ
/−ルテトラ酢酸およびこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩などの7ミノボリカルボン酸類、2−ホスホノブタ
ン−1,2,4−)リカルボン酸、2−ホスホ7ブタン
ー2.3.4−)リカルボン酸、1−ホスホ/エタン−
1,2,2−)リカルボン酸、1−ヒドロキシエタン−
1,1−ジホスホン酸、アミノド(メチレンホスホン酸
)およびこれらのナトリウム塩、カリウム塩などの有機
ホスホン酸類あるいはホスホントリカルボン酸類をあげ
ることができる。
上述のごときキレート剤の添加量は、現像液岨成約の全
量に対して0.001〜1重量%、好ましくは0.01
〜0.2重量%であり、単独あるいは組合せて用いるこ
とができる。また、さらにこれらキレート剤は現像液組
成物中に予め添加されていても良く、また現像の際に現
像液SU を物に添加して現像処理を行っても良い。
量に対して0.001〜1重量%、好ましくは0.01
〜0.2重量%であり、単独あるいは組合せて用いるこ
とができる。また、さらにこれらキレート剤は現像液組
成物中に予め添加されていても良く、また現像の際に現
像液SU を物に添加して現像処理を行っても良い。
本発明/現像液組成物に用いられるアルカリ剤としては
、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリ
ウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第
ニリン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン
酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウ
ムなどのような無機アルカリ剤、モノ、ン、又はトリエ
タ/−ルアミン及び水酸化テトラアルキルアンモニウム
のような有機アルカリ剤等が有用である。これらの中で
、珪酸アルカリが現像の安定性が良く最も好ましい。ア
ルカリ剤の現像液組成範囲で用いるのが好適であり、よ
り好ましくは0゜1〜10重量パーセントである。これ
らのアルカリ剤は現像液のpl+を所要の値になるよう
組み合わせて使用することができる。
、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリ
ウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第
ニリン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン
酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウ
ムなどのような無機アルカリ剤、モノ、ン、又はトリエ
タ/−ルアミン及び水酸化テトラアルキルアンモニウム
のような有機アルカリ剤等が有用である。これらの中で
、珪酸アルカリが現像の安定性が良く最も好ましい。ア
ルカリ剤の現像液組成範囲で用いるのが好適であり、よ
り好ましくは0゜1〜10重量パーセントである。これ
らのアルカリ剤は現像液のpl+を所要の値になるよう
組み合わせて使用することができる。
アニオン型界面活性剤としては、高級アルコール(C,
〜C2□)硫酸エステル塩M[例えば、ラウリルアルコ
ールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコール
サルフェートのナトリウム、塩、ラウリルアルコールサ
ルフェートのアンモニウム塩、rTeepol D−8
1J(商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムアルキ
ルサルフェートなど]、脂肪族アルコールリン酸エステ
ル塩M(例えば、セチルアルコールリン酸エステルのナ
トリウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩M
(例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩
イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シ
ナ7タリンノスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベ
ンゼンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミ
ドのスルホンRmlJi 物中における含有量は0.05〜20重量パーセントの
性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウ
ムスルホコハク酸ノオクチルエステル、ナトリウムスル
ホコハク酸ジヘキシルエステルなど)がある。これらの
中でvrIこスルホン酸塩類が好適に用いられる。
〜C2□)硫酸エステル塩M[例えば、ラウリルアルコ
ールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコール
サルフェートのナトリウム、塩、ラウリルアルコールサ
ルフェートのアンモニウム塩、rTeepol D−8
1J(商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムアルキ
ルサルフェートなど]、脂肪族アルコールリン酸エステ
ル塩M(例えば、セチルアルコールリン酸エステルのナ
トリウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩M
(例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩
イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シ
ナ7タリンノスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベ
ンゼンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミ
ドのスルホンRmlJi 物中における含有量は0.05〜20重量パーセントの
性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウ
ムスルホコハク酸ノオクチルエステル、ナトリウムスル
ホコハク酸ジヘキシルエステルなど)がある。これらの
中でvrIこスルホン酸塩類が好適に用いられる。
亜硫酸塩は、水溶液で水下、溶性ノアゾ樹脂を溶解する
働きを有し、特に疎水性樹脂と組合せた感′#、層から
成る38版の現像において、製造後長期間経過した版材
でも汚れのない印刷版を作ることが出来る。亜硫酸塩と
してはナトリウム、カリウム、リチウムのごときアルカ
リ金属および、マグネシウムのごときアルカリ土類金属
塩及びアンモニウム塩等が有用である。
働きを有し、特に疎水性樹脂と組合せた感′#、層から
成る38版の現像において、製造後長期間経過した版材
でも汚れのない印刷版を作ることが出来る。亜硫酸塩と
してはナトリウム、カリウム、リチウムのごときアルカ
リ金属および、マグネシウムのごときアルカリ土類金属
塩及びアンモニウム塩等が有用である。
本発明の現像液組成物には更に有は溶媒を添加すること
がて・きる。好ましい有機溶媒としては20°Cおけろ
水に対する溶解度が10重量%以下のものが挙げられ、
例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベ
ンノル、エチレングリコールモノブチルアセード、乳酸
ブチル、レプリーツ、酸ブ(例えば、C+7113zC
ONCIIzCI12SOJaなど)、二塩基C1l。
がて・きる。好ましい有機溶媒としては20°Cおけろ
水に対する溶解度が10重量%以下のものが挙げられ、
例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベ
ンノル、エチレングリコールモノブチルアセード、乳酸
ブチル、レプリーツ、酸ブ(例えば、C+7113zC
ONCIIzCI12SOJaなど)、二塩基C1l。
チル、のようなカルボン酸エステル;エチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、のよ
うなケトン類;エチレングリコールモノブチルエーテル
、エチレングリコールベンノルエーテル、エチレングリ
コールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メ
チルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メ
チルアミルアルコール、のようなアルコール類;キシレ
ンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレンジク
ロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン
のようなハロゲン化炭化水素などがある。
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、のよ
うなケトン類;エチレングリコールモノブチルエーテル
、エチレングリコールベンノルエーテル、エチレングリ
コールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メ
チルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メ
チルアミルアルコール、のようなアルコール類;キシレ
ンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレンジク
ロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン
のようなハロゲン化炭化水素などがある。
これら有機溶媒は一種以上を用いてもよい。上記有機溶
媒に中では、エチレングリコールモノフェニルエーテル
、エチレングリコールベンノルエーテル及びベンジルア
ルコールが特に好ましい。
媒に中では、エチレングリコールモノフェニルエーテル
、エチレングリコールベンノルエーテル及びベンジルア
ルコールが特に好ましい。
本発明の現像液組成物には更に現像性能を高めるために
以下の様な添加剤を加えることができる。
以下の様な添加剤を加えることができる。
例えば、特開昭58−75152号公報記載のNaCf
1.KCf、KDr等の中性塩、特開昭59−1213
36号公報記載の[C。
1.KCf、KDr等の中性塩、特開昭59−1213
36号公報記載の[C。
324号公報記載のN−テトラデシル−N、 N−ジヒ
ドロキシエチルベタイン等の両性界面活性剤、米国特許
g 4374920号明細書記載のテトラメチルデシン
ジオール等の非イオン性界面活性剤、特開昭55−95
946号公報記載のp−ツメチルアミ/メチルポリスチ
レンのメチルクロライド4級化物等のカチオニツクボリ
マー、特開昭56−142528号公報記載のビニルベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸
ンーグの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭57−
192952号公報記載の亜硫酸ンーグ等の還元性黒磯
塩、特開昭58−59444号公報記載の塩化リチウム
等の無機リチウム化合物、特公昭50−34442号公
報記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特
開昭59−75255号公報記載のSi。
ドロキシエチルベタイン等の両性界面活性剤、米国特許
g 4374920号明細書記載のテトラメチルデシン
ジオール等の非イオン性界面活性剤、特開昭55−95
946号公報記載のp−ツメチルアミ/メチルポリスチ
レンのメチルクロライド4級化物等のカチオニツクボリ
マー、特開昭56−142528号公報記載のビニルベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸
ンーグの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭57−
192952号公報記載の亜硫酸ンーグ等の還元性黒磯
塩、特開昭58−59444号公報記載の塩化リチウム
等の無機リチウム化合物、特公昭50−34442号公
報記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特
開昭59−75255号公報記載のSi。
Ti等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−842
41号公報記載の有機硼素化合物、ヨーロッパ特許第1
01010号明細書記載のテトラアルキルアンモニウム
オキサイド等の4級アンモニヴム塩が挙げられる。
41号公報記載の有機硼素化合物、ヨーロッパ特許第1
01010号明細書記載のテトラアルキルアンモニウム
オキサイド等の4級アンモニヴム塩が挙げられる。
本発明に使用される23版の感光性組成物は必須成分と
して感光性物質を含んでおり、感光性物質として、露光
またはその後の現像処理により、その物理的、化学的性
質が変化するもので、例えば露光により現像液に対する
溶解性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力
に差が生じるもの、露光またはその後の現像処理により
水および油に対する親和性に差が生じるもの、更に電子
写真方式により画像部を形成できるもの、また特開昭5
5−166645号公報記載の多層構成のもの等が使用
できる。
して感光性物質を含んでおり、感光性物質として、露光
またはその後の現像処理により、その物理的、化学的性
質が変化するもので、例えば露光により現像液に対する
溶解性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力
に差が生じるもの、露光またはその後の現像処理により
水および油に対する親和性に差が生じるもの、更に電子
写真方式により画像部を形成できるもの、また特開昭5
5−166645号公報記載の多層構成のもの等が使用
できる。
感光性物質の代表的なものとしては、例えば感光性ジア
ゾ化合物、感光性アット化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するシリルエーテルポリマーやC−0−
C−基を有する化合物等があげられる。
ゾ化合物、感光性アット化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するシリルエーテルポリマーやC−0−
C−基を有する化合物等があげられる。
感光性ノアゾ化合物としては、露光によりアルカリ可溶
性に変化するポジ型のものとして。−キノンジアット化
合物、露光により溶解性が減少するネガ型のものとして
芳香族ジアゾニウム塩等があげられる。
性に変化するポジ型のものとして。−キノンジアット化
合物、露光により溶解性が減少するネガ型のものとして
芳香族ジアゾニウム塩等があげられる。
0−キノンジアット化合物の具体例としては、例えば特
開昭47−5303号、同48−63802号、同48
−63803号、同49−38701号、同56−10
44号、 同56−1045号、特公昭41−1122
2号、同43−28403号、同45−9610号、同
49−17481号の各公報、米国特許t52,797
,213号、同第3,046,120号、同3,188
,210号、同3,454,400号、同3,544,
323号、同3,573,917号、同第3,674゜
495号、同第3,785,825号、英国特許第1
、277’、 602号、同第1.251,345号、
同第1,267.005号、同第1.329,888号
、 同fn1..330,932号、ドイツ特許第85
4.890号 などの各明細H中に記載されているもの
をあげることができ、これらの化合物を単独あるいは組
合せて感光成分として用いた23版に対して本発明を好
ましく適用することができる。
開昭47−5303号、同48−63802号、同48
−63803号、同49−38701号、同56−10
44号、 同56−1045号、特公昭41−1122
2号、同43−28403号、同45−9610号、同
49−17481号の各公報、米国特許t52,797
,213号、同第3,046,120号、同3,188
,210号、同3,454,400号、同3,544,
323号、同3,573,917号、同第3,674゜
495号、同第3,785,825号、英国特許第1
、277’、 602号、同第1.251,345号、
同第1,267.005号、同第1.329,888号
、 同fn1..330,932号、ドイツ特許第85
4.890号 などの各明細H中に記載されているもの
をあげることができ、これらの化合物を単独あるいは組
合せて感光成分として用いた23版に対して本発明を好
ましく適用することができる。
これらの感光成分には芳香族ヒドロキシ化合物の0−キ
ノンジアットスルホン酸エステルまたは。
ノンジアットスルホン酸エステルまたは。
−キノンジアジドカルボン酸エステル、および芳1り族
アミノ化合物の0−キノンノアノドスルホン酸または。
アミノ化合物の0−キノンノアノドスルホン酸または。
−キ/ンジアノドヵルボン酸7ミドが包含され、また、
これら 0−キノンジアット化合物を単独で使用したも
の、およびアルカリ可溶性樹脂と混合し、この混合物を
感光層として設けたものが包含される。
これら 0−キノンジアット化合物を単独で使用したも
の、およびアルカリ可溶性樹脂と混合し、この混合物を
感光層として設けたものが包含される。
アルカリ可溶性Og脂には、ノボラック型フェノール樹
脂が含まれ、具体的には、7エ7−ルホルムアルデヒド
樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂フェノールクレ
ゾール混合ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールキシレ7
−ル混合ホルムアルデヒド樹上などが含まれる。
脂が含まれ、具体的には、7エ7−ルホルムアルデヒド
樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂フェノールクレ
ゾール混合ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールキシレ7
−ル混合ホルムアルデヒド樹上などが含まれる。
更に特開昭50−125806号公報に記載されている
様に、上記のようなフェノールI(Ilfflと共に、
し−ブチル7エ/−ルホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたは
クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用した
ものも適用できる。
様に、上記のようなフェノールI(Ilfflと共に、
し−ブチル7エ/−ルホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたは
クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用した
ものも適用できる。
0−キノンノアノド化合物を感光成分とする感光層には
、必要に応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト性能
を与える成分などの添加剤を加えることができる。
、必要に応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト性能
を与える成分などの添加剤を加えることができる。
0−キノンノアノド化合物を感光成分とする感光層の単
位面積当たりの量は少なくと6約0.5〜7g/ 、
2の範囲について本発明を適用できる。
位面積当たりの量は少なくと6約0.5〜7g/ 、
2の範囲について本発明を適用できる。
本発明の方法を適用するボン型PS版の画像露光は特に
変える必要はなく常法に従えばよい。
変える必要はなく常法に従えばよい。
ネガ型感光層の感光成分の代表的なものはジアゾ化合物
であり、例えば、ノアゾニウム塩及V/又はp−ノアゾ
フェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物であるノ
アゾ樹脂、特公昭52−73[34号公報に記載されて
いるp−)7ゾノフエニルアミンの7二/−ル塩または
フルオロカプリン酸塩等、特公昭49−48001号公
報に記載されている3−ノトキンノフエニルアミン十ジ
アゾニウムクロライドと4−ニトロノフェニルアミンと
ホルムアルデヒドとの共重縮合物の有機溶媒可溶性塩か
らなるノアゾ樹脂、 p−ノアジノフェニルアミンとホ
ルムアルデルヒトとの縮合物の2−メFキンー4−ヒド
ロキシー5ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩、p−ノア
ジノフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のテ
トラブルオロホ・7酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩等が
挙げられる。
であり、例えば、ノアゾニウム塩及V/又はp−ノアゾ
フェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物であるノ
アゾ樹脂、特公昭52−73[34号公報に記載されて
いるp−)7ゾノフエニルアミンの7二/−ル塩または
フルオロカプリン酸塩等、特公昭49−48001号公
報に記載されている3−ノトキンノフエニルアミン十ジ
アゾニウムクロライドと4−ニトロノフェニルアミンと
ホルムアルデヒドとの共重縮合物の有機溶媒可溶性塩か
らなるノアゾ樹脂、 p−ノアジノフェニルアミンとホ
ルムアルデルヒトとの縮合物の2−メFキンー4−ヒド
ロキシー5ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩、p−ノア
ジノフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のテ
トラブルオロホ・7酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩等が
挙げられる。
これらを感光成分とするネガ型PS版、その他各種のネ
ガ型PS版に対しても本発明を好ましく適用できる。
ガ型PS版に対しても本発明を好ましく適用できる。
これらのジアゾ化合物を単独で使用したもののほかに感
光層の物性を向上させるため、種/ZのU4脂と混合し
て用いたものに対しても本発明を適用できる。
光層の物性を向上させるため、種/ZのU4脂と混合し
て用いたものに対しても本発明を適用できる。
かかる樹脂としては、シェラツク、ポリビニルアルコー
ルの誘導体等のほか特開昭50−118802号公報中
に記載されている側鎖にアルコール性水酸基を有する共
重合体、特開昭55−155355号公報中に記載され
ている7エ/−ル性水酸基を側鎖に持つ共重合体が挙げ
られる。
ルの誘導体等のほか特開昭50−118802号公報中
に記載されている側鎖にアルコール性水酸基を有する共
重合体、特開昭55−155355号公報中に記載され
ている7エ/−ル性水酸基を側鎖に持つ共重合体が挙げ
られる。
これらのり!脂には下記一般式で示される構造単位を少
なくとも50重量%を含む共重合体、一般式
R1 鳴 −(CH2−C) − COO−(CIl 2CIIO) −nH(式中、R1
は水素原子まだはメチル基を示し、R2は水素原子、メ
チル基、エチル基またはクロルメチル基を示し、I]は
1〜10の整数である。、)及び、芳香族水酸基を有す
る単量体単位を1〜80モル%、ならびにアクリル酸エ
ステル及び/又はメタクリル酸エステル単量単位を5〜
90モル%有し、10〜200の酸価を持つ高分子化合
物が包含される。
なくとも50重量%を含む共重合体、一般式
R1 鳴 −(CH2−C) − COO−(CIl 2CIIO) −nH(式中、R1
は水素原子まだはメチル基を示し、R2は水素原子、メ
チル基、エチル基またはクロルメチル基を示し、I]は
1〜10の整数である。、)及び、芳香族水酸基を有す
る単量体単位を1〜80モル%、ならびにアクリル酸エ
ステル及び/又はメタクリル酸エステル単量単位を5〜
90モル%有し、10〜200の酸価を持つ高分子化合
物が包含される。
本発明の処理方法か適用されるネガ型PS版の感光層に
は更に、染料、可塑剤、プリントアフト性能を与える成
分等の添加剤を加えることができる。
は更に、染料、可塑剤、プリントアフト性能を与える成
分等の添加剤を加えることができる。
」二元感光層の単位面積当たりの量は少なくとも0.1
〜7g/m2の範囲について本発明を適用できる。
〜7g/m2の範囲について本発明を適用できる。
上記のようなPS版に使用される支持体としては、紙、
プラスチックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリスチレンなと)ラミネート紙、アルミニウム(ア
ルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の
板、二酢酸セルロース、三部酸セルロース、プロピオン
酸セルa−ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタールなどのようなプラスチックスのフィルム、上記
のごとき金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしく
はプラスチックフィルム、アルミニウムもしくはクロー
ムメッキが施された銅版などがあげられ、これらのうち
特に、アルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合
支持体が好ましい。
プラスチックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリスチレンなと)ラミネート紙、アルミニウム(ア
ルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の
板、二酢酸セルロース、三部酸セルロース、プロピオン
酸セルa−ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタールなどのようなプラスチックスのフィルム、上記
のごとき金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしく
はプラスチックフィルム、アルミニウムもしくはクロー
ムメッキが施された銅版などがあげられ、これらのうち
特に、アルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合
支持体が好ましい。
また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め、感光層
との密着性を向上させる目的で粗面化処理されているこ
とが望ましい。
との密着性を向上させる目的で粗面化処理されているこ
とが望ましい。
粗面化方法とし゛では、一般に公知のブラシ研摩法、ポ
ール研摩法、電解エツチング、化学的エツチング、液体
ホーニング、サンドブラスト等の方法及びこれらの組合
せがあげられ、好ましくはブラシ研摩法、電解エツチン
グ、化学的エツチングおよび液体ホーニングがあげられ
、これらのうちで、特に電解エツチングの使用を含む粗
面化方法が好ましい、また、電解エツチングの際に用い
られる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩
を含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いら
れ、これらの内で特に塩酸、硝酸、塩酸と硝酸の組み合
わせ、またはそれらの塩を含む電解液が好ましい。さら
に、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、必要に応
じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理され
る。
ール研摩法、電解エツチング、化学的エツチング、液体
ホーニング、サンドブラスト等の方法及びこれらの組合
せがあげられ、好ましくはブラシ研摩法、電解エツチン
グ、化学的エツチングおよび液体ホーニングがあげられ
、これらのうちで、特に電解エツチングの使用を含む粗
面化方法が好ましい、また、電解エツチングの際に用い
られる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩
を含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いら
れ、これらの内で特に塩酸、硝酸、塩酸と硝酸の組み合
わせ、またはそれらの塩を含む電解液が好ましい。さら
に、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、必要に応
じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理され
る。
こうして得られたアルミニウム板は、陽極酸化処理され
ることが望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸
を含む浴で処理する方法があげられる。またさらに必要
に応じて、1(孔処理、その他部化ノルフニウム酸カリ
ウム水溶液への浸漬などによる表面処理を行うことがで
きる。
ることが望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸
を含む浴で処理する方法があげられる。またさらに必要
に応じて、1(孔処理、その他部化ノルフニウム酸カリ
ウム水溶液への浸漬などによる表面処理を行うことがで
きる。
11ff期の現像液を用いて18版を現像する方法とし
ては従来公知の種々の方法、例えば18版の感光層に対
して多数のノズルから現像液を噴射する方法、多量の現
像液に浸漬する方法、現像液を含んだスボンノ″cPS
版の感光層を拭う方法、18版の感光層に現像液をロー
ラーで塗布する方法等を用いることができる。またこれ
らの現像方法は同一のもの、あるいは互いに異なる方法
を複数組み合わせて使用土ることもできる。
ては従来公知の種々の方法、例えば18版の感光層に対
して多数のノズルから現像液を噴射する方法、多量の現
像液に浸漬する方法、現像液を含んだスボンノ″cPS
版の感光層を拭う方法、18版の感光層に現像液をロー
ラーで塗布する方法等を用いることができる。またこれ
らの現像方法は同一のもの、あるいは互いに異なる方法
を複数組み合わせて使用土ることもできる。
また現像を促すため上記のようにして18版の感光層上
にに現像液が供給された後、あるいは現像液中に18版
が浸漬された状態で感光層表面をブラシ等で摩擦するこ
ともできる。現像の条件は使用する現像方法に応じて適
宜設定することができるが、使用時の現像液の温度は一
般的には5〜60°C1好ましくは10〜45°C1よ
り好ましくは25〜35°Cの範囲である。また現像時
間は10〜90秒であることが好ましい。
にに現像液が供給された後、あるいは現像液中に18版
が浸漬された状態で感光層表面をブラシ等で摩擦するこ
ともできる。現像の条件は使用する現像方法に応じて適
宜設定することができるが、使用時の現像液の温度は一
般的には5〜60°C1好ましくは10〜45°C1よ
り好ましくは25〜35°Cの範囲である。また現像時
間は10〜90秒であることが好ましい。
また前記の各現像液には、その現像処理による疲労ある
いは空気中の炭酸ブスの吸収などによる疲労に応じて補
充液を補充液してもよい。補充液の組成、補充の方法等
は従来公知の種々のものを用いることができる。
いは空気中の炭酸ブスの吸収などによる疲労に応じて補
充液を補充液してもよい。補充液の組成、補充の方法等
は従来公知の種々のものを用いることができる。
本発明の現像処理においては、前記現像処理工程の他、
必要に応じ現像処理後現像停止工程、(停止液は使捨て
方式や循環使用の方式を含む)、不感脂化処理工程の個
々の処理工程、現像処理工程とそれに引き続く不感脂化
工程、現像処理工程と不感脂化工程とを組み合わせた処
理工程、あるいは現像停止1−処理工程と不感脂化処理
工程を組み合わせた例えば特開昭54−8002号公報
記載の処理工程等を含んでいてもよい。
必要に応じ現像処理後現像停止工程、(停止液は使捨て
方式や循環使用の方式を含む)、不感脂化処理工程の個
々の処理工程、現像処理工程とそれに引き続く不感脂化
工程、現像処理工程と不感脂化工程とを組み合わせた処
理工程、あるいは現像停止1−処理工程と不感脂化処理
工程を組み合わせた例えば特開昭54−8002号公報
記載の処理工程等を含んでいてもよい。
以下、実施例をもって本発明の詳細な説明する実施例1
厚さ0.24+o+oのJIS−1050アルミニツム
板を2%の水酸化す) +7ウム水溶液中に浸漬し、脱
脂処理を行った後に、希硝酸溶液中で電気化学的に粗面
化し、よく洗浄した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を
行って2.5g/lo2の酸化皮膜を上記アルミニウム
板表面上に形成させた。このように処理されたアルミニ
ウム板を水洗、乾燥後、下記組成の感光液を乾燥重量2
.5g/τ12となるように塗布し、乾燥してポジ型p
s版を得た。
板を2%の水酸化す) +7ウム水溶液中に浸漬し、脱
脂処理を行った後に、希硝酸溶液中で電気化学的に粗面
化し、よく洗浄した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を
行って2.5g/lo2の酸化皮膜を上記アルミニウム
板表面上に形成させた。このように処理されたアルミニ
ウム板を水洗、乾燥後、下記組成の感光液を乾燥重量2
.5g/τ12となるように塗布し、乾燥してポジ型p
s版を得た。
(感光1(1j)
□ ・・・0.03
重■こうして得られたボン型PS版を多数枚用意し、透
明ポジチイブフィルムを密着させて2キロワツトのメタ
ルハライドランプで70cmの距離から60秒間露光を
行った。
重■こうして得られたボン型PS版を多数枚用意し、透
明ポジチイブフィルムを密着させて2キロワツトのメタ
ルハライドランプで70cmの距離から60秒間露光を
行った。
一方、ネガ型PS服を次のようにして作製した。
厚さ0.24111mのJIS−1050アルミニウム
板を20%リン酸す) 17ウム水溶液に浸漬して脱脂
し、希塩酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よく洗浄
した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を行って1.5g
/塾2の酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上に形成さ
せた。このように処J!I!されたアルミニウム板を、
さらにメタケイ酸ナトリウム水溶液中に浸漬して封孔処
理を行い、水洗、乾燥した後に、下記組成の感光液を乾
燥重量2.0ε/Ir12となるように塗布し、乾燥し
てネガ型23版を得た。
板を20%リン酸す) 17ウム水溶液に浸漬して脱脂
し、希塩酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よく洗浄
した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を行って1.5g
/塾2の酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上に形成さ
せた。このように処J!I!されたアルミニウム板を、
さらにメタケイ酸ナトリウム水溶液中に浸漬して封孔処
理を行い、水洗、乾燥した後に、下記組成の感光液を乾
燥重量2.0ε/Ir12となるように塗布し、乾燥し
てネガ型23版を得た。
(感光1ffl)
こうして得られたネガ型のPS版を多数枚用意し、透明
ネガティブフイル1.を密着させて2キロワツトのメタ
ルハライドランプで70cmの距離から30秒間露光を
行った。
ネガティブフイル1.を密着させて2キロワツトのメタ
ルハライドランプで70cmの距離から30秒間露光を
行った。
また、自動現像fi PSP−860(小西六写真工業
(株)製)の現像路r!!、部に下記に示す水性アルカ
リ現像液を30f仕込み、現像液温を25°Cに1!4
整した。
(株)製)の現像路r!!、部に下記に示す水性アルカ
リ現像液を30f仕込み、現像液温を25°Cに1!4
整した。
(現像液)
・・・500重量部
上記現像液のpHは25°Cにおいて、12.4であっ
た。
た。
自動現像機の撮送スヒードを現像時間が45秒間になる
ように設定し、現像処理の工程として水洗を行うため循
環水洗槽には水を181入れた。 画像露光した前記の
ネガ型98版とポジ型PS版を無差別に上記の自動現像
機に通して、 10010O380(hmサイズのもの
を250飯/日の?1合で20日間処理しつづ(すだ。
ように設定し、現像処理の工程として水洗を行うため循
環水洗槽には水を181入れた。 画像露光した前記の
ネガ型98版とポジ型PS版を無差別に上記の自動現像
機に通して、 10010O380(hmサイズのもの
を250飯/日の?1合で20日間処理しつづ(すだ。
途中で現像処理による現像液の疲労を下記の補充液を加
えて常に液の活性度を初めの現像液と同じに保つ様にし
た。その結果20日間の処理中に自動現像代のスプレー
ノズルが詰まることなく正常に作動した。20口間処理
後に現像液を除去してカスの発生を調べたところほとん
ど発生していなかった。この様にして現像処理、水洗処
理された平版印刷版に〃ム液を塗布し印刷したところい
ずれの印刷版も非画像部に汚れのない高品質の印刷物が
得られた。
えて常に液の活性度を初めの現像液と同じに保つ様にし
た。その結果20日間の処理中に自動現像代のスプレー
ノズルが詰まることなく正常に作動した。20口間処理
後に現像液を除去してカスの発生を調べたところほとん
ど発生していなかった。この様にして現像処理、水洗処
理された平版印刷版に〃ム液を塗布し印刷したところい
ずれの印刷版も非画像部に汚れのない高品質の印刷物が
得られた。
(補充液)
・・・6.6重量部
・・・500重量部
比較例1
実施例1において用いrこ現像液および補充液からエチ
レン−ノアミンチトラ酢酸四カリウムを除いたものを使
用しrこ以外は実施例1と同様にした。
レン−ノアミンチトラ酢酸四カリウムを除いたものを使
用しrこ以外は実施例1と同様にした。
その結果12日目に自動現像機のスプレーノズル部分に
目づまりが発生し、現像処理で得られた印刷版の一部に
現像不良が生じた。また20口間処理後に現像液を除去
してカスの発生度を調べたところスプレーバイブ内に多
量のカスが発生していることが認められた。
目づまりが発生し、現像処理で得られた印刷版の一部に
現像不良が生じた。また20口間処理後に現像液を除去
してカスの発生度を調べたところスプレーバイブ内に多
量のカスが発生していることが認められた。
実施例2
実施例1におけるポジ型PS版と同一のアルミニラム支
持体上に下記組成の感′#S液を乾燥重量2.23/
l112となるように塗布し、乾燥してポジ型PS版を
得た。
持体上に下記組成の感′#S液を乾燥重量2.23/
l112となるように塗布し、乾燥してポジ型PS版を
得た。
(感光液)
こうして得られたポジ型23版を多数枚用意し、透明ポ
ジティブフィルムを密着させて2キロワツトのメタルハ
ライドランプ 間露光を行った。
ジティブフィルムを密着させて2キロワツトのメタルハ
ライドランプ 間露光を行った。
一方、実施例1におけるネガ型PS版と同一のアルミニ
ツム支持体上に下記組成の感光液を乾燥型ffi1.8
g/m2となるように塗布し、乾燥してネガ型13版を
得た。
ツム支持体上に下記組成の感光液を乾燥型ffi1.8
g/m2となるように塗布し、乾燥してネガ型13版を
得た。
(感光液)
こうして得られたネガ型23版を多数枚用意し、j亙明
ネガティブフイルムを密着させて、2キロワツトのメタ
ルハライドランプで7 0 c +nの距離から、30
秒間露光を行った。
ネガティブフイルムを密着させて、2キロワツトのメタ
ルハライドランプで7 0 c +nの距離から、30
秒間露光を行った。
次に、実施例1と同様の自動現像代の現像処理部に下記
に示す水性アルカリ現像液を301仕込み、現像液温度
を27°Cに調整した。
に示す水性アルカリ現像液を301仕込み、現像液温度
を27°Cに調整した。
上記現像液のpHは25°Cにおいて12.6であった
。
。
自動現像機の搬送スピードを現像時間が20秒問になる
ように設定し、現像処理後の工程としてリンス処理を行
うため、リンス槽には下記に示す界面活性剤水溶液を1
51入れr:、に うした条件で実施例1と同様にして露光済みのPS版を
処理したところ、ネガ型PS版は1 0 0 3 +a
+n X8 0 0 +++ mサイズのものが85
枚まで、また同じサイズのボン型23版は60枚まで処
理できた。この様にして現像処理およびリンス処理され
た平版印刷版にがム液を塗布し印刷したところ、いづれ
も非画像部に汚れのない高品質の印刷物が得られた。
ように設定し、現像処理後の工程としてリンス処理を行
うため、リンス槽には下記に示す界面活性剤水溶液を1
51入れr:、に うした条件で実施例1と同様にして露光済みのPS版を
処理したところ、ネガ型PS版は1 0 0 3 +a
+n X8 0 0 +++ mサイズのものが85
枚まで、また同じサイズのボン型23版は60枚まで処
理できた。この様にして現像処理およびリンス処理され
た平版印刷版にがム液を塗布し印刷したところ、いづれ
も非画像部に汚れのない高品質の印刷物が得られた。
比較例 2
実施例2において朋いた現像液から二) IJロトリ酢
酸三メトリウムをを除いたものを使用した以外は実施例
2と同様にした。
酸三メトリウムをを除いたものを使用した以外は実施例
2と同様にした。
その結果ネガ型23版の非画像部の一部に現像不良によ
る残膜があり、この版を印刷機にかけて印刷したところ
、非画像部にインクが付着して汚れが生じた。
る残膜があり、この版を印刷機にかけて印刷したところ
、非画像部にインクが付着して汚れが生じた。
実施例3
実施例1と同様にして得られたポジ型28版およびネガ
型PS版を多数枚用;Q;シ、原稿フィルムを密着させ
て実施例1と同様の条件で露光を行なった。
型PS版を多数枚用;Q;シ、原稿フィルムを密着させ
て実施例1と同様の条件で露光を行なった。
次に、実施例1と同様の自動現像機の現像処理部に、次
のようにして、水性アルカリ現像液を307’仕込み、
現像液温を25°Cに調整した。F記の組成を有する予
め調整された;層線現像液を151用意し、使用面同容
量の米国硬度200 (+ 11 +nの硬水で希釈し
更にエチレンノアミンチトラ酢酸四ナトリウム10%水
溶液を150mN添加し、よく攪拌した後に、上記の現
像処理部に注入した。
のようにして、水性アルカリ現像液を307’仕込み、
現像液温を25°Cに調整した。F記の組成を有する予
め調整された;層線現像液を151用意し、使用面同容
量の米国硬度200 (+ 11 +nの硬水で希釈し
更にエチレンノアミンチトラ酢酸四ナトリウム10%水
溶液を150mN添加し、よく攪拌した後に、上記の現
像処理部に注入した。
前記のようにして仕上げられた希釈現像液のpHは25
℃において12.7であった。現像時間および現像後の
後処理は実施例1と同様にした。結果として、ネガ型P
S版は1003+aL6X 800+oa+サイズのも
のが90枚まで、また同じサイズのポジ型28版は63
枚まで処理でき、得られた印刷版を印刷機にかけて印刷
したところ、いづれも汚れることなく良好な印刷物が得
られた。
℃において12.7であった。現像時間および現像後の
後処理は実施例1と同様にした。結果として、ネガ型P
S版は1003+aL6X 800+oa+サイズのも
のが90枚まで、また同じサイズのポジ型28版は63
枚まで処理でき、得られた印刷版を印刷機にかけて印刷
したところ、いづれも汚れることなく良好な印刷物が得
られた。
本発明の現像tL組組成物ジブ現像方法を用いることに
より、ネガ型PSmおよびポジ型28版を効率的に共通
処理が可能となり、しかも多数枚長時間にわたって処理
してらネプ型P S liおよびポジ型1’S版各々に
ついて安定した現像処理が可能となった。
より、ネガ型PSmおよびポジ型28版を効率的に共通
処理が可能となり、しかも多数枚長時間にわたって処理
してらネプ型P S liおよびポジ型1’S版各々に
ついて安定した現像処理が可能となった。
さらに現像濃縮液、あるいは補充濃縮液を希釈使用する
場合の希釈水として硬度の高い水道水や、井水を用いて
も、現像性能が変動することなく現像液の長期間使用に
よる自動現像機のシャワーパイプの詰りも改善されるた
め、処理扱作を簡易にし、また、処理コストを低減でき
る。
場合の希釈水として硬度の高い水道水や、井水を用いて
も、現像性能が変動することなく現像液の長期間使用に
よる自動現像機のシャワーパイプの詰りも改善されるた
め、処理扱作を簡易にし、また、処理コストを低減でき
る。
Claims (3)
- (1)水を主たる溶媒とするアルカリ性溶液に、キレー
ト剤を含有させたことを特徴とする、ネガ型感光性平版
印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物。 - (2)前記キレート剤を含むアルカリ性溶液が、更にア
ニオン界面活性剤及び亜硫酸塩少なくとも一方を含み、
かつそのpH値が10.0乃至13.5の範囲にあるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のネガ型感光
性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組
成物。 - (3)水を主たる溶媒とするアルカリ性溶液に、キレー
ト剤を含有させた同一の現像液組成物によりネガ型感光
性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版を共通に処理
することを特許とする感光性平版印刷版の現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23028685A JPS6289060A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23028685A JPS6289060A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6289060A true JPS6289060A (ja) | 1987-04-23 |
Family
ID=16905430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23028685A Pending JPS6289060A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6289060A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03198046A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-08-29 | Konica Corp | 着色画像形成材料用現像液 |
| JPH04258958A (ja) * | 1991-02-13 | 1992-09-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂用現像液 |
| WO1998038550A1 (fr) * | 1997-02-27 | 1998-09-03 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Solution revelatrice pour plaque de resine photosensible |
-
1985
- 1985-10-15 JP JP23028685A patent/JPS6289060A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03198046A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-08-29 | Konica Corp | 着色画像形成材料用現像液 |
| JPH04258958A (ja) * | 1991-02-13 | 1992-09-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂用現像液 |
| WO1998038550A1 (fr) * | 1997-02-27 | 1998-09-03 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Solution revelatrice pour plaque de resine photosensible |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4885230A (en) | Burn-in gumming composition for offset printing plates | |
| JP2639693B2 (ja) | 感光性平版印刷版の現像処理方法 | |
| JPS5958431A (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
| JPS58190952A (ja) | 感光性印刷版の現像液 | |
| JPH0570815B2 (ja) | ||
| JPS622254A (ja) | 感光材料の現像方法 | |
| JPS62159148A (ja) | 感光性平版印刷版用現像液組成物および現像方法 | |
| JPS6289060A (ja) | ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版共用現像液組成物、及び現像方法 | |
| JPS6236673A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS62168160A (ja) | 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法 | |
| JPH01287561A (ja) | 感光性平版印刷版の現像液組成物 | |
| JPS6225761A (ja) | 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法 | |
| JPS62125357A (ja) | 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法 | |
| JPS6224263A (ja) | 感光性平版印刷版の現像方法 | |
| JPS63109442A (ja) | ネガ型とポジ型を共通に安定に処理できる感光材料の処理方法 | |
| JPS62131263A (ja) | 感光性平版印刷版の現像液組成物及び現像方法 | |
| JPS6255658A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JP2516001B2 (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
| JPH08272083A (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
| JPH0612443B2 (ja) | 感光性平版印刷版の現像液組成物及び現像方法 | |
| JPS6256965A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS6238470A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPS6221154A (ja) | 感光性平版印刷版の現像処理方法及び装置 | |
| JPS6235351A (ja) | 現像液組成物および現像方法 | |
| JPH01223448A (ja) | 感光材料の処理方法 |