JPH08263830A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH08263830A JPH08263830A JP7091569A JP9156995A JPH08263830A JP H08263830 A JPH08263830 A JP H08263830A JP 7091569 A JP7091569 A JP 7091569A JP 9156995 A JP9156995 A JP 9156995A JP H08263830 A JPH08263830 A JP H08263830A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- powder
- weight
- recording medium
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 120
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 85
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 47
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 53
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 38
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 claims description 23
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 29
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 89
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 37
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- JZQOJFLIJNRDHK-CMDGGOBGSA-N alpha-irone Chemical compound CC1CC=C(C)C(\C=C\C(C)=O)C1(C)C JZQOJFLIJNRDHK-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 20
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 17
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 16
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 16
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 16
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 11
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 8
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 8
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 8
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 6
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 6
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 6
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 6
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 5
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 5
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical group OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 4
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 4
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 2-sulfobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1S(O)(=O)=O YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 3
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- BARWIPMJPCRCTP-UHFFFAOYSA-N oleic acid oleyl ester Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCC=CCCCCCCCC BARWIPMJPCRCTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BARWIPMJPCRCTP-CLFAGFIQSA-N oleyl oleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC BARWIPMJPCRCTP-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 3
- AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N oxobarium;oxo(oxoferriooxy)iron Chemical compound [Ba]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 1lambda4,2lambda4-dimolybdacyclopropa-1,2,3-triene Chemical compound [Mo]=C=[Mo] QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXEMJSOGSIWQCD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCCC TXEMJSOGSIWQCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C#N TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GXJLQJFVFMCVHG-QXMHVHEDSA-N 2-methylpropyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(C)C GXJLQJFVFMCVHG-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 2
- CARJPEPCULYFFP-UHFFFAOYSA-N 5-Sulfo-1,3-benzenedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1 CARJPEPCULYFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018137 Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018185 Al—Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018573 Al—Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910039444 MoC Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000021360 Myristic acid Nutrition 0.000 description 2
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910008427 Si—Al—Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical group OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLYJVQDYLFAUFC-UHFFFAOYSA-N butyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC GLYJVQDYLFAUFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-MDZDMXLPSA-N elaidic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 2
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQILCOQZDHPEAZ-UHFFFAOYSA-N octyl palmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC OQILCOQZDHPEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGDMPMKCHSXJJF-UHFFFAOYSA-N pentyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCC YGDMPMKCHSXJJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- HQHCYKULIHKCEB-UHFFFAOYSA-N tetradecanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCCCC(O)=O HQHCYKULIHKCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N tungsten disulfide Chemical compound S=[W]=S ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006540 α-FeOOH Inorganic materials 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGBXIDHAUUXLOV-UHFFFAOYSA-N 1-sulfocyclohexa-3,5-diene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)(C(O)=O)C1 SGBXIDHAUUXLOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZTHTNFCHNNDAQ-QXMHVHEDSA-N 11-methyldodecyl (Z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCCCCCCCCCCC(C)C IZTHTNFCHNNDAQ-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 1
- LGEZTMRIZWCDLW-UHFFFAOYSA-N 14-methylpentadecyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC(C)C LGEZTMRIZWCDLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFAAOBGYWOUHLU-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(CC)CCCC SFAAOBGYWOUHLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPJWPPVYCOPDCM-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(CC)CCCC OPJWPPVYCOPDCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRXOKLJPWSYWIA-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl tetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(CC)CCCC GRXOKLJPWSYWIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALKCLFLTXBBMMP-UHFFFAOYSA-N 3,7-dimethylocta-1,6-dien-3-yl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC(C)(C=C)CCC=C(C)C ALKCLFLTXBBMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXBIDOXPIIWDMX-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC(C)C NXBIDOXPIIWDMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQOEAOLRIMQDA-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC(C)C WDQOEAOLRIMQDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C(O)=O SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZXZINXFUSKTPH-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-butylcyclohexyl)cyclohexyl]-1,2-difluorobenzene Chemical compound C1CC(CCCC)CCC1C1CCC(C=2C=C(F)C(F)=CC=2)CC1 NZXZINXFUSKTPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIQIXEFWDLTDED-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-1-piperidin-4-ylpyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CC(O)CN1C1CCNCC1 HIQIXEFWDLTDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSYUFUJLFRBMEN-UHFFFAOYSA-N 4-sulfobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C(O)=O)=C1 JSYUFUJLFRBMEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910018131 Al-Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018461 Al—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018507 Al—Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N Butyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005169 Debye-Scherrer Methods 0.000 description 1
- VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N Diethyl adipate Chemical compound CCOC(=O)CCCCC(=O)OCC VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOFJDLLWVCMRU-UHFFFAOYSA-N Diisobutyl adipate Chemical compound CC(C)COC(=O)CCCCC(=O)OCC(C)C RDOFJDLLWVCMRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGKNOAMLMIIKO-UHFFFAOYSA-N Elaidinsaeure-aethylester Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(=O)OCC LVGKNOAMLMIIKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017114 Fe—Ni—Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- OXPCWUWUWIWSGI-MSUUIHNZSA-N Lauryl oleate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC OXPCWUWUWIWSGI-MSUUIHNZSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229910003286 Ni-Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018098 Ni-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018529 Ni—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- GWFGDXZQZYMSMJ-UHFFFAOYSA-N Octadecansaeure-heptadecylester Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC GWFGDXZQZYMSMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- MBPUYGZEDYDAHA-CLFAGFIQSA-N bis[(z)-octadec-9-enyl] 2-hydroxybutanedioate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOC(=O)CC(O)C(=O)OCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC MBPUYGZEDYDAHA-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- QZULIRBSQUIUTA-CLFAGFIQSA-N bis[(z)-octadec-9-enyl] hexanedioate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOC(=O)CCCCC(=O)OCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC QZULIRBSQUIUTA-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHAZIUXMHRHVMP-UHFFFAOYSA-N butyl tetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC DHAZIUXMHRHVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229940031769 diisobutyl adipate Drugs 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 239000010459 dolomite Substances 0.000 description 1
- 229910000514 dolomite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- LVGKNOAMLMIIKO-QXMHVHEDSA-N ethyl oleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC LVGKNOAMLMIIKO-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 1
- 229940093471 ethyl oleate Drugs 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000007716 flux method Methods 0.000 description 1
- XZSDLFHCPIUHJB-UHFFFAOYSA-N formamide;urea Chemical compound NC=O.NC(N)=O XZSDLFHCPIUHJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,1-triol Chemical compound CCCCCC(O)(O)O TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078545 isocetyl stearate Drugs 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- XUGNVMKQXJXZCD-UHFFFAOYSA-N isopropyl palmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC(C)C XUGNVMKQXJXZCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000008774 maternal effect Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- NKBWPOSQERPBFI-UHFFFAOYSA-N octadecyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC NKBWPOSQERPBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- QTDSLDJPJJBBLE-PFONDFGASA-N octyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC QTDSLDJPJJBBLE-PFONDFGASA-N 0.000 description 1
- QWPNJOHZHSJFIY-UHFFFAOYSA-N octyl tetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC QWPNJOHZHSJFIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOQRZWSWPNIGMP-UHFFFAOYSA-N pentyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCC MOQRZWSWPNIGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005464 sample preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、ロッピーディスクやスチルビデオフ
ロッピー用磁気記録ディスクとして好適に用いられる磁
気記録媒体に関する。 【構成】本発明は、非磁性支持体上に、非磁性粉末を結
合剤中に分散させて含有する下層を少なくとも一層を設
け、その上に強磁性粉末を結合剤中に分散させて含有す
る磁性層からなる上層を設けた磁気記録媒体において、
該磁性層の乾燥膜厚が0.5μm以下であり、該磁性層
中にモース硬度7以上、平均粒子径0.3μm以下、最
大粒子径0.6μm以下である研磨剤を含有することを
特徴とする磁気記録媒体である。
ロッピー用磁気記録ディスクとして好適に用いられる磁
気記録媒体に関する。 【構成】本発明は、非磁性支持体上に、非磁性粉末を結
合剤中に分散させて含有する下層を少なくとも一層を設
け、その上に強磁性粉末を結合剤中に分散させて含有す
る磁性層からなる上層を設けた磁気記録媒体において、
該磁性層の乾燥膜厚が0.5μm以下であり、該磁性層
中にモース硬度7以上、平均粒子径0.3μm以下、最
大粒子径0.6μm以下である研磨剤を含有することを
特徴とする磁気記録媒体である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体に関し、さ
らに詳しくは、例えばフロッピーディスクやスチルビデ
オフロッピー用磁気記録ディスクとして好適に用いられ
る磁気記録媒体に関する。
らに詳しくは、例えばフロッピーディスクやスチルビデ
オフロッピー用磁気記録ディスクとして好適に用いられ
る磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来技術】近年、大容量磁気記録用媒体への適用を念
頭に、下層に非磁性層を設けた薄膜上層塗布型媒体の開
発が進められてきている。上層を薄膜にすることにより
フロッピーディスク等のデータ用記録媒体に必要とされ
る特性の、オーバーライト特性を良好にすることができ
る。一方、磁性層を薄くすることで磁性層の剥離が発生
し易くなるが、非磁性支持体上に塗布される非磁性層が
湿潤状態のうちに磁性層を塗布するウェット・オン・ウ
ェット塗布方式で塗布することにより、磁性層剥離の問
題は低減される。
頭に、下層に非磁性層を設けた薄膜上層塗布型媒体の開
発が進められてきている。上層を薄膜にすることにより
フロッピーディスク等のデータ用記録媒体に必要とされ
る特性の、オーバーライト特性を良好にすることができ
る。一方、磁性層を薄くすることで磁性層の剥離が発生
し易くなるが、非磁性支持体上に塗布される非磁性層が
湿潤状態のうちに磁性層を塗布するウェット・オン・ウ
ェット塗布方式で塗布することにより、磁性層剥離の問
題は低減される。
【0003】上層を薄膜にすることで、電磁変換特性、
走行耐久性が低下する傾向にあるが、これについては研
磨剤の添加方法が検討された。例えば、特開平1−10
6331号公報にモース硬度6以上で粒径が0.5μm
以下の研磨剤を添加する方法が記載されている。しかし
ながら、この方法は研磨剤の中に含有されている粗粒子
のことは考慮されておらず、大粒径の研磨剤の脱離によ
るドロップアウトの増加や表面粗れによる電磁変換特性
の劣化の問題があった。また、特開平1−220219
号公報、同5−197946号公報等では比較的大きい
粒径の研磨剤を含有する方法が記載されている。しかし
ながら、磁性層が薄膜なため、磁性粉の絶対個数が少な
いところに体積の大きい研磨剤が存在することで電磁変
換特性の低下や、非磁性層との界面に研磨剤が入り込む
ために出力変動が発生しモジュレーション異常が発生す
る問題があった。
走行耐久性が低下する傾向にあるが、これについては研
磨剤の添加方法が検討された。例えば、特開平1−10
6331号公報にモース硬度6以上で粒径が0.5μm
以下の研磨剤を添加する方法が記載されている。しかし
ながら、この方法は研磨剤の中に含有されている粗粒子
のことは考慮されておらず、大粒径の研磨剤の脱離によ
るドロップアウトの増加や表面粗れによる電磁変換特性
の劣化の問題があった。また、特開平1−220219
号公報、同5−197946号公報等では比較的大きい
粒径の研磨剤を含有する方法が記載されている。しかし
ながら、磁性層が薄膜なため、磁性粉の絶対個数が少な
いところに体積の大きい研磨剤が存在することで電磁変
換特性の低下や、非磁性層との界面に研磨剤が入り込む
ために出力変動が発生しモジュレーション異常が発生す
る問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする問題】本発明の目的は、 1)記録容量が大きい磁気記録媒体で安定した高再生出
力が得られ、 2)オーバーライト特性にすぐれ、 3)走行耐久性が良好な、磁気記録媒体を提供すること
にある。
力が得られ、 2)オーバーライト特性にすぐれ、 3)走行耐久性が良好な、磁気記録媒体を提供すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記本発明の課題は、 1.非磁性支持体上に、非磁性粉末を結合剤中に分散さ
せて含有する下層を少なくとも一層を設け、その上に強
磁性粉末を結合剤中に分散させて含有する磁性層からな
る上層を設けた磁気記録媒体において、該磁性層の乾燥
膜厚が0.5μm以下であり、該磁性層中にモース硬度
7以上、平均粒子径0.3μm以下、最大粒子径0.6
μm以下である研磨剤を含有することを特徴とする磁気
記録媒体、
せて含有する下層を少なくとも一層を設け、その上に強
磁性粉末を結合剤中に分散させて含有する磁性層からな
る上層を設けた磁気記録媒体において、該磁性層の乾燥
膜厚が0.5μm以下であり、該磁性層中にモース硬度
7以上、平均粒子径0.3μm以下、最大粒子径0.6
μm以下である研磨剤を含有することを特徴とする磁気
記録媒体、
【0006】2.前記磁性層中の強磁性粉末が強磁性金
属粉末もしくは六方晶フェライトであることを特徴とす
る前記1記載の磁気記録媒体、
属粉末もしくは六方晶フェライトであることを特徴とす
る前記1記載の磁気記録媒体、
【0007】3.前記下層は、さらに強磁性粉末を含有
することを特徴とする前記2記載の磁気記録媒体、
することを特徴とする前記2記載の磁気記録媒体、
【0008】4.前記磁気記録媒体が磁気記録ディスク
であることを特徴とする前記1、2又は3記載の磁気記
録媒体、の各々により達成される。
であることを特徴とする前記1、2又は3記載の磁気記
録媒体、の各々により達成される。
【0009】
【発明の具体的説明】以下本発明について詳述する。 −磁気記録媒体の構成− 本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体(A)上に、強
磁性金属粉末を含有する層を上層磁性層(B)及び構成
層中の下層として前記非磁性支持体と磁性層との間に、
少なくとも一層の非磁性層(C)を設けてなる。
磁性金属粉末を含有する層を上層磁性層(B)及び構成
層中の下層として前記非磁性支持体と磁性層との間に、
少なくとも一層の非磁性層(C)を設けてなる。
【0010】(A)非磁性支持体 前記非磁性支持体を形成する材料としては、例えば、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、
アラミド樹脂、ポリカーボネート等のプラスチック等を
挙げることができる。
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、
アラミド樹脂、ポリカーボネート等のプラスチック等を
挙げることができる。
【0011】前記非磁性支持体の形態は特に制限はな
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状等がある。
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状等がある。
【0012】非磁性支持体の厚みには特に制約はない
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常の2〜
100μm、好ましくは3〜50μmであり、ディスク
やカード状の場合は30μm〜10mm程度、ドラム状
の場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常の2〜
100μm、好ましくは3〜50μmであり、ディスク
やカード状の場合は30μm〜10mm程度、ドラム状
の場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。
【0013】なお、この非磁性支持体は単層構造のもの
であっても多層構造のものであってもよい。また、この
非磁性支持体は、例えばコロナ放電処理等の表面処理を
施されたものであってもよい。
であっても多層構造のものであってもよい。また、この
非磁性支持体は、例えばコロナ放電処理等の表面処理を
施されたものであってもよい。
【0014】また、非磁性支持体上の上記磁性層が設け
られていない面(裏面)には、磁気記録媒体の走光性の
向上、帯電防止および転写防止等を目的として、バック
コート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁性支
持体との間には、下引き層を設けることもできる。また
最上層の磁性層に必要に応じてオーバーコート層を設け
ることもできる。また磁気記録媒体がディスク状の場合
には、支持体をはさんで両面に磁性層、下引き層等を設
けることもできる。
られていない面(裏面)には、磁気記録媒体の走光性の
向上、帯電防止および転写防止等を目的として、バック
コート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁性支
持体との間には、下引き層を設けることもできる。また
最上層の磁性層に必要に応じてオーバーコート層を設け
ることもできる。また磁気記録媒体がディスク状の場合
には、支持体をはさんで両面に磁性層、下引き層等を設
けることもできる。
【0015】また上層磁性層の厚みは、0.5μm以下
であり、好ましくは0.01〜0.5μmであり、より
好ましくは0.02〜0.3μmである。磁性層の乾燥
膜厚が0.01μmより小さいと記録が十分になされな
いことにより、再生時に出力が得られないことがあり、
一方、0.5μm以上であると、膜厚損失により十分な
再生出力が得られないことがある。更に磁気記録媒体の
保磁力Hcは1200〜2500 Oeであり、好まし
くは1300〜2400 Oe、より好ましくは140
0〜2300 Oeである。この範囲であれば十分な記
録を得ることができる。
であり、好ましくは0.01〜0.5μmであり、より
好ましくは0.02〜0.3μmである。磁性層の乾燥
膜厚が0.01μmより小さいと記録が十分になされな
いことにより、再生時に出力が得られないことがあり、
一方、0.5μm以上であると、膜厚損失により十分な
再生出力が得られないことがある。更に磁気記録媒体の
保磁力Hcは1200〜2500 Oeであり、好まし
くは1300〜2400 Oe、より好ましくは140
0〜2300 Oeである。この範囲であれば十分な記
録を得ることができる。
【0016】(B−1)磁性粉末 本発明に用いられる強磁性粉末としては、磁気記録媒体
の強磁性粉末として通常使用されているものを用いるこ
とができる。強磁性粉末の例としては、−Fe2O3、
Co含有γ−Fe2O3、Co被着γ−Fe2O3、C
rO2等の酸化物磁性体、マグネタイトに代表されるフ
ェライト類、即ち、Fe3O4、Co含有γ−Fe3O
4、Co被着γ−Fe3O4等の磁性体が挙げられる。
この中でも好ましい磁性体は強磁性金属粉や六方晶系フ
ェライト粉末である。
の強磁性粉末として通常使用されているものを用いるこ
とができる。強磁性粉末の例としては、−Fe2O3、
Co含有γ−Fe2O3、Co被着γ−Fe2O3、C
rO2等の酸化物磁性体、マグネタイトに代表されるフ
ェライト類、即ち、Fe3O4、Co含有γ−Fe3O
4、Co被着γ−Fe3O4等の磁性体が挙げられる。
この中でも好ましい磁性体は強磁性金属粉や六方晶系フ
ェライト粉末である。
【0017】前記フェライト中、板状で板面に垂直な方
向に磁化容易軸を有するものは好適な強磁性粉末として
使用することができる。このような強磁性粉末として
は、例えば、六方晶系フェライトを挙げることができ
る。
向に磁化容易軸を有するものは好適な強磁性粉末として
使用することができる。このような強磁性粉末として
は、例えば、六方晶系フェライトを挙げることができ
る。
【0018】(六方晶系フェライト)このような六方晶
系フェライトは、バリウムフェライト、ストロンチウム
フェライト等からなり、鉄元素の一部が他の元素(たと
えば、Ti、Co、Zn、In、Mn、Ge、Hb等)
で置換されていても良い。このフェライト磁性体につい
ては、IEEE Trans,on MAG−18 1
6(1982)に詳しく述べられている。
系フェライトは、バリウムフェライト、ストロンチウム
フェライト等からなり、鉄元素の一部が他の元素(たと
えば、Ti、Co、Zn、In、Mn、Ge、Hb等)
で置換されていても良い。このフェライト磁性体につい
ては、IEEE Trans,on MAG−18 1
6(1982)に詳しく述べられている。
【0019】本発明において、特に好ましい「板状であ
って板面に垂直な磁化容易軸を有する強磁性粉末」とし
ては、バリウムフェライト(以下Ba−フェライトと記
す)磁性粉を挙げることができる。本発明で用いること
のできる好ましいBa−フェライト磁性粉は、Ba−フ
ェライト粉の、Feの一部が少なくともCoおよびZn
で置換された平均粒径(六方晶系フェライトの板面の対
角線の高さ)300〜900Å、板状比(六方晶系フェ
ライトの板面の対角線の長さを板厚で除した値)2.0
〜10.0、保磁力(Hc)450〜1500 Oeの
Ba−フェライトである。
って板面に垂直な磁化容易軸を有する強磁性粉末」とし
ては、バリウムフェライト(以下Ba−フェライトと記
す)磁性粉を挙げることができる。本発明で用いること
のできる好ましいBa−フェライト磁性粉は、Ba−フ
ェライト粉の、Feの一部が少なくともCoおよびZn
で置換された平均粒径(六方晶系フェライトの板面の対
角線の高さ)300〜900Å、板状比(六方晶系フェ
ライトの板面の対角線の長さを板厚で除した値)2.0
〜10.0、保磁力(Hc)450〜1500 Oeの
Ba−フェライトである。
【0020】Ba−フェライト粉は、FeをCoで一部
置換することにより、保磁力が適正な値に制御されてお
り、さらにZnで一部置換することにより、Co置換の
みでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力
を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。また、さらにFeの一部をNbで置換するこ
とにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を得ることができる。また、本発明に
用いられるBa−フェライトは、さらにFeの一部がT
i、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の遷移金属で置換
されていても差支えない。
置換することにより、保磁力が適正な値に制御されてお
り、さらにZnで一部置換することにより、Co置換の
みでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力
を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。また、さらにFeの一部をNbで置換するこ
とにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を得ることができる。また、本発明に
用いられるBa−フェライトは、さらにFeの一部がT
i、In、Mn、Cu、Ge、Sn等の遷移金属で置換
されていても差支えない。
【0021】なお、この発明に使用するBa−フェライ
トは次の一般式で表される。 BaOn((Fe1−mMm)2O3) [ただし、m>0.36(ただし、Co+Zn=0.0
8〜0.3、Co/Zn=0.5〜10)であり、nは
5.4〜11.0であり、好ましくは5.4〜6.0で
あり、Mは置換金属を表し、平均価数が3となる2種以
上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。] 本発明において、Ba−フェライトの平均粒径、板状
比、保磁力が前記好ましい範囲内にあると好ましい理由
は、次の通りである。すなわち、平均粒径0.04μm
未満の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出力が不
十分となり、逆に0.1μmを超えると、磁気記録媒体
としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベル
が高くなりすぎることがあり、また、板状比が2.0未
満では、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した
垂直配向率が得られず、逆に板状比が6.0を越えると
磁気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、
ノイズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が350
Oe未満の場合には、記録信号の保持が困難になり、
2000 Oeを越えると、ヘッド限界が飽和減少を起
こし記録が困難になることがあるからである。
トは次の一般式で表される。 BaOn((Fe1−mMm)2O3) [ただし、m>0.36(ただし、Co+Zn=0.0
8〜0.3、Co/Zn=0.5〜10)であり、nは
5.4〜11.0であり、好ましくは5.4〜6.0で
あり、Mは置換金属を表し、平均価数が3となる2種以
上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。] 本発明において、Ba−フェライトの平均粒径、板状
比、保磁力が前記好ましい範囲内にあると好ましい理由
は、次の通りである。すなわち、平均粒径0.04μm
未満の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出力が不
十分となり、逆に0.1μmを超えると、磁気記録媒体
としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベル
が高くなりすぎることがあり、また、板状比が2.0未
満では、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した
垂直配向率が得られず、逆に板状比が6.0を越えると
磁気記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、
ノイズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が350
Oe未満の場合には、記録信号の保持が困難になり、
2000 Oeを越えると、ヘッド限界が飽和減少を起
こし記録が困難になることがあるからである。
【0022】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉は、
磁気特性である飽和磁化量(σs)が通常、50emu
/g以上であることが望ましい。この飽和磁化量が50
emu/g未満であると、電磁変換特性が劣化すること
がある。
磁気特性である飽和磁化量(σs)が通常、50emu
/g以上であることが望ましい。この飽和磁化量が50
emu/g未満であると、電磁変換特性が劣化すること
がある。
【0023】この発明に用いられるBa−フェライトの
好ましい一具体例としては、Co−置換Baフェライト
を挙げることができる。
好ましい一具体例としては、Co−置換Baフェライト
を挙げることができる。
【0024】さらに本発明においては、記録の高密度化
に応じて、BET法による比表面積が30m2/g以上
のBa−フェライト磁性粉を用いることが望ましい。
に応じて、BET法による比表面積が30m2/g以上
のBa−フェライト磁性粉を用いることが望ましい。
【0025】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉を製
造する方法としては、たとえば目的とするBa−フェラ
イトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶
融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、次いで
このガラスを所定温度で熱処理して目的とするBa−フ
ェライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシ
ド法、プラズマジェット法等が適用可能である。
造する方法としては、たとえば目的とするBa−フェラ
イトを形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物
を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶
融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、次いで
このガラスを所定温度で熱処理して目的とするBa−フ
ェライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシ
ド法、プラズマジェット法等が適用可能である。
【0026】本発明においては、前記六方晶系フェライ
トの磁性層中の含有量は通常、50〜99重量%であ
り、好ましくは60〜99重量%である。
トの磁性層中の含有量は通常、50〜99重量%であ
り、好ましくは60〜99重量%である。
【0027】磁気記録媒体としたときの再生出力を十分
とするには前記Ba−フェライトの平均粒径が300Å
以上であるのが好ましく、表面平滑性を向上させ、ノイ
ズレベルを低くするには900Å以下であるのが好まし
い。また板状比を2.0以上とすることで、磁気記録媒
体としたときの高密度記録に適した垂直配向率が得ら
れ、表面平滑性を向上させ、ノイズレベルを低くするた
めには、板状比が10.0以下であるのが好ましい。さ
らに記録信号の保持のためには保磁力が450Oe以上
が好ましく、ヘッドが飽和してしまうのを防ぐには15
00 Oe以下が好ましい。
とするには前記Ba−フェライトの平均粒径が300Å
以上であるのが好ましく、表面平滑性を向上させ、ノイ
ズレベルを低くするには900Å以下であるのが好まし
い。また板状比を2.0以上とすることで、磁気記録媒
体としたときの高密度記録に適した垂直配向率が得ら
れ、表面平滑性を向上させ、ノイズレベルを低くするた
めには、板状比が10.0以下であるのが好ましい。さ
らに記録信号の保持のためには保磁力が450Oe以上
が好ましく、ヘッドが飽和してしまうのを防ぐには15
00 Oe以下が好ましい。
【0028】(強磁性金属粉末)磁性層に用いられる強
磁性金属粉末としては、Fe、Coをはじめ、Fe−A
l系、Fe−Al−Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe
−Al−Co系、Fe−Al−Ca系、Fe−Ni系、
Fe−Ni−Al系、Fe−Ni−Co系、Fe−Ni
−Si−Al−Mn系、Fe−Ni−Si−Al−Zn
系、Fe−Al−Si系、Fe−Ni−Zn系、Fe−
Ni−Mn系、Fe−Ni−Si系、Fe−Mn−Zn
系、Fe−Co−Ni−P系、Ni−Co系、Fe、N
i、Co等を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が
挙げられる。中でも、Fe系金属粉が電気的特性に優れ
る。
磁性金属粉末としては、Fe、Coをはじめ、Fe−A
l系、Fe−Al−Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe
−Al−Co系、Fe−Al−Ca系、Fe−Ni系、
Fe−Ni−Al系、Fe−Ni−Co系、Fe−Ni
−Si−Al−Mn系、Fe−Ni−Si−Al−Zn
系、Fe−Al−Si系、Fe−Ni−Zn系、Fe−
Ni−Mn系、Fe−Ni−Si系、Fe−Mn−Zn
系、Fe−Co−Ni−P系、Ni−Co系、Fe、N
i、Co等を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が
挙げられる。中でも、Fe系金属粉が電気的特性に優れ
る。
【0029】他方、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Fe−Al系、Fe−Al−Ca系、Fe−Al−
Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−Co系、F
e−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−Ni−Si−A
l−Mn系などのFe−Al系金属粉が好ましい。
と、Fe−Al系、Fe−Al−Ca系、Fe−Al−
Ni系、Fe−Al−Zn系、Fe−Al−Co系、F
e−Ni−Si−Al−Zn系、Fe−Ni−Si−A
l−Mn系などのFe−Al系金属粉が好ましい。
【0030】特に、本発明の目的に好ましい強磁性金属
粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、Alまた
は、AlおよびCaを、Alについては重量比でFe:
Al=100:0.5〜100:20、Caについては
重量比でFe:Ca=100:0.1〜100:10の
範囲で含有するのが望ましい。
粉は、鉄を主成分とする金属磁性粉であり、Alまた
は、AlおよびCaを、Alについては重量比でFe:
Al=100:0.5〜100:20、Caについては
重量比でFe:Ca=100:0.1〜100:10の
範囲で含有するのが望ましい。
【0031】Fe:Alの比率をこのような範囲にする
ことで耐蝕性が著しく改良され、またFe:Caの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。
ことで耐蝕性が著しく改良され、またFe:Caの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。
【0032】本発明に用いられる好適な強磁性金属粉末
は、透過型電子顕微鏡により観察されるその平均長軸長
が0.25μm未満、特に0.03〜0.22μm、よ
り好ましくは0.05〜0.17μmで、かつ軸比(平
均長軸長/平均短軸長)が12以下、好ましくは10以
下、さらに好ましくは4〜9である、また前記強磁性金
属粉末のX線粒径(結晶子サイズ)は200Å未満、特
に50〜180Åであることが好ましい。強磁性金属粉
末の平均長軸長および結晶サイズ、軸比が前記範囲内に
あるとさらに高域特性、特に垂直記録成分の出力を高め
ることができる。
は、透過型電子顕微鏡により観察されるその平均長軸長
が0.25μm未満、特に0.03〜0.22μm、よ
り好ましくは0.05〜0.17μmで、かつ軸比(平
均長軸長/平均短軸長)が12以下、好ましくは10以
下、さらに好ましくは4〜9である、また前記強磁性金
属粉末のX線粒径(結晶子サイズ)は200Å未満、特
に50〜180Åであることが好ましい。強磁性金属粉
末の平均長軸長および結晶サイズ、軸比が前記範囲内に
あるとさらに高域特性、特に垂直記録成分の出力を高め
ることができる。
【0033】なお本発明で用いられる磁性粉末や非磁性
粉末の平均長軸長や数平均粒径(球状粒子の場合)は、
透過型電子顕微鏡写真により強磁性粉末又は非磁性粉末
の500個の長軸長又は平均粒径(球状粒子の場合)を
測定した平均値である。また結晶子サイズは、X線回折
装置によりFeの(110)回折線の積分幅を用いて、
Si粉末を基準としたシェラー法で測定した。また軸比
は電子顕微鏡写真で500個の粒子の平均長軸長と平均
短軸長を計測し(平均長軸長/平均短軸長)として求め
た。
粉末の平均長軸長や数平均粒径(球状粒子の場合)は、
透過型電子顕微鏡写真により強磁性粉末又は非磁性粉末
の500個の長軸長又は平均粒径(球状粒子の場合)を
測定した平均値である。また結晶子サイズは、X線回折
装置によりFeの(110)回折線の積分幅を用いて、
Si粉末を基準としたシェラー法で測定した。また軸比
は電子顕微鏡写真で500個の粒子の平均長軸長と平均
短軸長を計測し(平均長軸長/平均短軸長)として求め
た。
【0034】また、本発明に用いられる強磁性金属粉末
は、その保磁力(Hc)が通常600〜5,000 O
eの範囲にあることが好ましい。この保磁力が600
Oe未満であると、電磁変換特性が劣化することがあ
り、また保磁力が5,000Oeを超えると、通常のヘ
ッドでは記録不能になることがあるので好ましくない。
は、その保磁力(Hc)が通常600〜5,000 O
eの範囲にあることが好ましい。この保磁力が600
Oe未満であると、電磁変換特性が劣化することがあ
り、また保磁力が5,000Oeを超えると、通常のヘ
ッドでは記録不能になることがあるので好ましくない。
【0035】前述した平均長軸長、結晶子サイズ及び軸
比が特定の範囲にある強磁性金属粉末は、磁気特性であ
る飽和磁化量(σs)が通常、120emu/g以上で
あることが好ましく、特に130〜170emu/gで
あることが好ましい。さらに本発明においては、記録の
高密度化に応じて、BET法による比表面積で30m2
/g以上、特に45m2/g以上の強磁性金属粉末が好
ましく用いられる。
比が特定の範囲にある強磁性金属粉末は、磁気特性であ
る飽和磁化量(σs)が通常、120emu/g以上で
あることが好ましく、特に130〜170emu/gで
あることが好ましい。さらに本発明においては、記録の
高密度化に応じて、BET法による比表面積で30m2
/g以上、特に45m2/g以上の強磁性金属粉末が好
ましく用いられる。
【0036】前記強磁性金属粉末は、その構成元素とし
てFe、Al、および希土類元素の少なくとも1つを含
有する。即ち、SmとNdとYとPrとLaからなる群
より選択される1種以上の希土類元素を含有することが
好ましい。
てFe、Al、および希土類元素の少なくとも1つを含
有する。即ち、SmとNdとYとPrとLaからなる群
より選択される1種以上の希土類元素を含有することが
好ましい。
【0037】本発明における強磁性金属粉末は、前記強
磁性金属粉末全体における元素の量比として、Fe原子
100重量部に対して、Al原子は1〜20重量部であ
り、希土類元素の原子は1〜16重量部であり、かつ該
強磁性金属粉末の表面を形成する元素の平均存在比率
が、Fe原子数100に対して、Al原子数は70〜3
00であり、希土類元素の原子数は0.5〜100であ
るのが好ましい。
磁性金属粉末全体における元素の量比として、Fe原子
100重量部に対して、Al原子は1〜20重量部であ
り、希土類元素の原子は1〜16重量部であり、かつ該
強磁性金属粉末の表面を形成する元素の平均存在比率
が、Fe原子数100に対して、Al原子数は70〜3
00であり、希土類元素の原子数は0.5〜100であ
るのが好ましい。
【0038】また、より好ましくは、強磁性金属粉末
が、その構成元素として更にNa及びCaを含有し、該
強磁性金属粉末全体における元素の重量比が、Fe原子
100重量部に対して、Na原子は0.1重量部未満で
あり、Ca原子は0.1〜2重量部であり、Al原子は
2〜10重量部であり、希土類元素は1〜8重量部であ
り、かつ、該強磁性金属粉末の表面を形成する元素の平
均存在比率は、Fe原子数100に対して、Na原子数
は2〜30であり、Ca原子数は5〜30であり、Al
原子数は70〜200であり、希土類元素の原子数は
0.5〜30である。
が、その構成元素として更にNa及びCaを含有し、該
強磁性金属粉末全体における元素の重量比が、Fe原子
100重量部に対して、Na原子は0.1重量部未満で
あり、Ca原子は0.1〜2重量部であり、Al原子は
2〜10重量部であり、希土類元素は1〜8重量部であ
り、かつ、該強磁性金属粉末の表面を形成する元素の平
均存在比率は、Fe原子数100に対して、Na原子数
は2〜30であり、Ca原子数は5〜30であり、Al
原子数は70〜200であり、希土類元素の原子数は
0.5〜30である。
【0039】更に好ましくは、強磁性金属粉末が、その
構成元素として更にCo、NiおよびSiの中の少なく
とも一種を含有し、強磁性金属粉末全体における元素の
重量比が、Fe原子100重量部に対して、Co原子が
2〜50重量部であり、Ni原子が2〜20重量部であ
り、Si原子が0.3〜5重量部であり、Na原子が
0.1重量部未満であり、Ca原子が0.1〜2重量部
であり、Al原子が1〜20重量部であり、希土類元素
の原子が1〜16重量部であり、かつ該強磁性金属粉末
の表面を形成する元素の平均存在比率が、Fe原子数1
00に対して、Co原子数が0.1未満であり、Ni原
子数が0.1未満であり、Si原子数が20〜130で
あり、Na原子数が2〜30であり、Ca原子数が5〜
30であり、Al原子数が70〜300であり、希土類
元素の原子数は0.5〜100である。
構成元素として更にCo、NiおよびSiの中の少なく
とも一種を含有し、強磁性金属粉末全体における元素の
重量比が、Fe原子100重量部に対して、Co原子が
2〜50重量部であり、Ni原子が2〜20重量部であ
り、Si原子が0.3〜5重量部であり、Na原子が
0.1重量部未満であり、Ca原子が0.1〜2重量部
であり、Al原子が1〜20重量部であり、希土類元素
の原子が1〜16重量部であり、かつ該強磁性金属粉末
の表面を形成する元素の平均存在比率が、Fe原子数1
00に対して、Co原子数が0.1未満であり、Ni原
子数が0.1未満であり、Si原子数が20〜130で
あり、Na原子数が2〜30であり、Ca原子数が5〜
30であり、Al原子数が70〜300であり、希土類
元素の原子数は0.5〜100である。
【0040】(B−2)バインダー 磁性層が含有するバインダーとしては、例えば、ポリウ
レタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化
ビニル系樹脂等が代表的なものであり、これらの樹脂は
−SO3M、−OSO3M、−COOM、及び−PO
(OM1)2から選ばれた少なくとも一種の極性基を有
する繰り返し単位を含むことが好ましい。ただし、上記
極性基において、Mは水素原子あるいはNa、K、Li
等のアルカリ金属を表わし、またM1は水素原子、N
a、K、Li等のアルカリ原子あるいはアルキル基を表
す。
レタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化
ビニル系樹脂等が代表的なものであり、これらの樹脂は
−SO3M、−OSO3M、−COOM、及び−PO
(OM1)2から選ばれた少なくとも一種の極性基を有
する繰り返し単位を含むことが好ましい。ただし、上記
極性基において、Mは水素原子あるいはNa、K、Li
等のアルカリ金属を表わし、またM1は水素原子、N
a、K、Li等のアルカリ原子あるいはアルキル基を表
す。
【0041】上記極性基は強磁性粉末の分散性を向上さ
せる作用があり、各樹脂中の含有率は0.1〜8.0モ
ル%、好ましくは0.2〜6.0モル%である。この含
有率が0.1モル%未満であると、強磁性粉末の分散性
が低下し、また含有率が8.0モル%を超えると、磁性
塗料がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均
分子量は、15,000〜50,000の範囲が好まし
い。
せる作用があり、各樹脂中の含有率は0.1〜8.0モ
ル%、好ましくは0.2〜6.0モル%である。この含
有率が0.1モル%未満であると、強磁性粉末の分散性
が低下し、また含有率が8.0モル%を超えると、磁性
塗料がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均
分子量は、15,000〜50,000の範囲が好まし
い。
【0042】バインダーの含有率は、強磁性金属粉末1
00重量部に対して、通常8〜25重量部、好ましくは
10〜20重量部である。バインダーは一種単独に限ら
ず、二種以上を組み合わせて用いることができるが、こ
の場合、ポリウレタンおよび/またはポリエステルと塩
化ビニル系樹脂との比は、重量比で通常、90:10〜
10:90であり、好ましくは70:30〜30:70
の範囲である。
00重量部に対して、通常8〜25重量部、好ましくは
10〜20重量部である。バインダーは一種単独に限ら
ず、二種以上を組み合わせて用いることができるが、こ
の場合、ポリウレタンおよび/またはポリエステルと塩
化ビニル系樹脂との比は、重量比で通常、90:10〜
10:90であり、好ましくは70:30〜30:70
の範囲である。
【0043】本発明にバインダーとして用いられる極性
基含有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル−
ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する共重合
体と下記の極性基および塩素原子を有する化合物との付
加反応により合成することができる。
基含有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル−
ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する共重合
体と下記の極性基および塩素原子を有する化合物との付
加反応により合成することができる。
【0044】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。
【0045】エポキシ基を導入する場合、エボキシ基を
有する繰り返し単位の共重合体中における含有率は、1
〜30モル%が好ましく、1〜20モル%がより好まし
い。エポキシ基を導入するためのモノマーとしては、た
とえばクリシジルアクリレートが好ましい。
有する繰り返し単位の共重合体中における含有率は、1
〜30モル%が好ましく、1〜20モル%がより好まし
い。エポキシ基を導入するためのモノマーとしては、た
とえばクリシジルアクリレートが好ましい。
【0046】なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の
導入技術に関しては、特開昭57−44227号、同5
8−108052号、同59−8127号、同60−1
01161号、同60−235814号、同60−23
8306号、同60−238371号、同62−121
923号、同62−146432号、同62−1464
33号等の公報に記載があり、本発明においてもこれら
を利用することができる。
導入技術に関しては、特開昭57−44227号、同5
8−108052号、同59−8127号、同60−1
01161号、同60−235814号、同60−23
8306号、同60−238371号、同62−121
923号、同62−146432号、同62−1464
33号等の公報に記載があり、本発明においてもこれら
を利用することができる。
【0047】次に、ポリエステルについては、一般にポ
リエステルはポリオールと多塩基酸との反応により得ら
れる。この公知の方法を用いて、ポリオールと一部に極
性基を有する多塩基酸から、極性基を有するポリエステ
ル(ポリオール)を合成することができる。
リエステルはポリオールと多塩基酸との反応により得ら
れる。この公知の方法を用いて、ポリオールと一部に極
性基を有する多塩基酸から、極性基を有するポリエステ
ル(ポリオール)を合成することができる。
【0048】極性基を有する多塩基酸の例としては、5
−スルホイソフタル酸、2−スルホイソフタル酸、4−
スルホイソフタル酸、3−スルホフタル酸、5−スルホ
イソフタル酸ジアルキル、2−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、4−スルホイソフタル酸ジアルキル、3−スル
ホイソフタル酸ジアルキルおよびこれらのナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。
−スルホイソフタル酸、2−スルホイソフタル酸、4−
スルホイソフタル酸、3−スルホフタル酸、5−スルホ
イソフタル酸ジアルキル、2−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、4−スルホイソフタル酸ジアルキル、3−スル
ホイソフタル酸ジアルキルおよびこれらのナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。
【0049】ポリオールの例としては、トリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1.3−ブタンジオール、1.4−ブタンジオー
ル、1.6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。なお、他の極性基を導入したポリエステルも公知の
方法で合成することができる。
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1.3−ブタンジオール、1.4−ブタンジオー
ル、1.6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。なお、他の極性基を導入したポリエステルも公知の
方法で合成することができる。
【0050】次に、ポリウレタンについては、ポリオー
ルとポリイソシアネートとの反応から得られる。ポリオ
ールとしては、一般にポリオールと多塩基酸との反応に
よって得られるポリエステルポリオールが使用されてい
る。したがって、極性基を有するポリエステルポリオー
ルを原料として用いれば、極性基を有するポリウレタン
を合成することができる。
ルとポリイソシアネートとの反応から得られる。ポリオ
ールとしては、一般にポリオールと多塩基酸との反応に
よって得られるポリエステルポリオールが使用されてい
る。したがって、極性基を有するポリエステルポリオー
ルを原料として用いれば、極性基を有するポリウレタン
を合成することができる。
【0051】本発明においては芳香環を有するポリエス
テルポリオールを用いて作られた芳香族ポリエステルポ
リウレタンを用いることが本発明の目的を達成する上で
好ましい。
テルポリオールを用いて作られた芳香族ポリエステルポ
リウレタンを用いることが本発明の目的を達成する上で
好ましい。
【0052】ポリイソシアネートの例としては、ジフェ
ニルメタン−4−4′−ジイソシアネート(MDI)、
ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、トリレ
ンジイソシアネート(TDI)、1.5−ナフタレンジ
イソシアネート(NDI)、トリジンジイソシアネート
(TODI)、リジンイソシアネートメチルエステル
(LDI)等が挙げられる。
ニルメタン−4−4′−ジイソシアネート(MDI)、
ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、トリレ
ンジイソシアネート(TDI)、1.5−ナフタレンジ
イソシアネート(NDI)、トリジンジイソシアネート
(TODI)、リジンイソシアネートメチルエステル
(LDI)等が挙げられる。
【0053】また、極性基を有するポリウレタンの他の
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する下記の化合物との付加反応も有
効である。
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する下記の化合物との付加反応も有
効である。
【0054】なお、ポリウレタンへの極性基導入に関す
る技術としては、特公昭58−41565号、特開昭5
7−92422号、同57−92423号、同59−8
127号、同59−5423号、同59−5424号、
同62−121923号等の公報に記載があり、本発明
においてもこれらを利用することができる。
る技術としては、特公昭58−41565号、特開昭5
7−92422号、同57−92423号、同59−8
127号、同59−5423号、同59−5424号、
同62−121923号等の公報に記載があり、本発明
においてもこれらを利用することができる。
【0055】本発明においては、バインダーとして下記
の樹脂を併用することができる。その樹脂としては、重
量平均分子量が10,000〜200,000である、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重
合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリア
ミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体
(ニトロセルロース等)、スチレン−ブタジエン共重合
体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系
樹脂、尿素ホルムアミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等
が挙げられる。
の樹脂を併用することができる。その樹脂としては、重
量平均分子量が10,000〜200,000である、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重
合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリア
ミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体
(ニトロセルロース等)、スチレン−ブタジエン共重合
体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系
樹脂、尿素ホルムアミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等
が挙げられる。
【0056】(B−3)その他の成分 本発明では、磁性層の品質の向上を図るため、耐久性向
上剤、分散剤、潤滑剤、研摩剤等の添加剤をその他の成
分として含有させることができる。
上剤、分散剤、潤滑剤、研摩剤等の添加剤をその他の成
分として含有させることができる。
【0057】耐久性向上剤としては、ポリイソシアネー
トを挙げることができ、ポリイソシアネートとしては、
たとえばトリレンジイソシアネート(TDI)等と活性
水素化合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネート
と、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)等と
活性水素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシアネ
ートがある。ポリイソシアネートの重量平均分子量は、
100〜3,000の範囲にあることが望ましい。
トを挙げることができ、ポリイソシアネートとしては、
たとえばトリレンジイソシアネート(TDI)等と活性
水素化合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネート
と、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)等と
活性水素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシアネ
ートがある。ポリイソシアネートの重量平均分子量は、
100〜3,000の範囲にあることが望ましい。
【0058】分散剤としては、例えば特開平4−214
218号の段落番号0093に記載のものなどを挙げる
ことができる。これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対
して0.5〜5重量%の範囲で用いられる。
218号の段落番号0093に記載のものなどを挙げる
ことができる。これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対
して0.5〜5重量%の範囲で用いられる。
【0059】潤滑剤としては、脂肪酸および/または脂
肪酸エステルを使用することができる。この場合、脂肪
酸の添加量は主として用いられる強磁性粉や非磁性粉に
対し0.2〜10重量%が好ましく、0.5〜5重量%
がより好ましい。添加量が0.2重量%未満であると、
走行性が低下し易く、また10重量%を超えると、脂肪
酸が磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易く
なる。
肪酸エステルを使用することができる。この場合、脂肪
酸の添加量は主として用いられる強磁性粉や非磁性粉に
対し0.2〜10重量%が好ましく、0.5〜5重量%
がより好ましい。添加量が0.2重量%未満であると、
走行性が低下し易く、また10重量%を超えると、脂肪
酸が磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易く
なる。
【0060】また、脂肪酸エステルの添加量も主として
用いられる強磁性粉や非磁性粉に対して0.2〜10重
量%が好ましく、0.5〜5重量%がより好ましい。そ
の添加量が0.2重量%未満であると、スチル耐久性が
劣化し易く、また10重量%を超えると、脂肪酸エステ
ルが磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易く
なる。
用いられる強磁性粉や非磁性粉に対して0.2〜10重
量%が好ましく、0.5〜5重量%がより好ましい。そ
の添加量が0.2重量%未満であると、スチル耐久性が
劣化し易く、また10重量%を超えると、脂肪酸エステ
ルが磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易く
なる。
【0061】脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で10:90〜90:10が好ましい。脂肪酸
としては一塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、
炭素数は6〜30が好ましく、12〜22の範囲がより
好ましい。
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で10:90〜90:10が好ましい。脂肪酸
としては一塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、
炭素数は6〜30が好ましく、12〜22の範囲がより
好ましい。
【0062】脂肪酸の具体例としては、カプロン酸、カ
プリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,12−ド
デカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げ
られる。
プリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,12−ド
デカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げ
られる。
【0063】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、2−エチルヘキシルステアレート、2−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−2
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、2−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテートなどが挙げられる。
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、2−エチルヘキシルステアレート、2−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−2
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、2−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテートなどが挙げられる。
【0064】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤として、例えばシリコーンオイル、グラファイ
ト、フッ化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイドなど
も使用することができる。
潤滑剤として、例えばシリコーンオイル、グラファイ
ト、フッ化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイドなど
も使用することができる。
【0065】次に、研磨剤の具体例としてはα−アルミ
ナ、溶融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α−酸化
鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、炭化タング
ステン、炭化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、酸
化亜鉛、酸化セリウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素
などを挙げることができる。
ナ、溶融アルミナ、酸化クロム、酸化チタン、α−酸化
鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、炭化タング
ステン、炭化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、酸
化亜鉛、酸化セリウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素
などを挙げることができる。
【0066】これらのなかでもα−アルミナ、酸化クロ
ム、炭化ケイ素が好ましい。
ム、炭化ケイ素が好ましい。
【0067】前記研磨剤の平均粒子径としては、0.3
μm以下が好ましく、より好ましく0.05μm〜0.
3μmである。また、前記研磨剤の最大粒子径が0.6
μm以下であり、研磨剤の0.6μm以下含有率が99
%以上、粗粒率が1%以下である。
μm以下が好ましく、より好ましく0.05μm〜0.
3μmである。また、前記研磨剤の最大粒子径が0.6
μm以下であり、研磨剤の0.6μm以下含有率が99
%以上、粗粒率が1%以下である。
【0068】研磨剤の最大粒子径を0.6μm以下及び
研磨剤の0.6μm以下含有率を99%以上で粗粒率を
1%以下にするためには、ふるい等によって分級しても
よいし、高周波磁場内で発生する熱プラズマを利用し
て、更に粒径を小さくしたものを使用してもよい。
研磨剤の0.6μm以下含有率を99%以上で粗粒率を
1%以下にするためには、ふるい等によって分級しても
よいし、高周波磁場内で発生する熱プラズマを利用し
て、更に粒径を小さくしたものを使用してもよい。
【0069】前記研磨剤はモース硬度が7以上である。
【0070】前記研磨剤の磁性層からなる最上層中の含
有量としては、前記磁性粉末100重量部に対して2〜
20重量部であり、好ましくは2〜15重量部であり、
特に好ましくは2〜12重量部である。
有量としては、前記磁性粉末100重量部に対して2〜
20重量部であり、好ましくは2〜15重量部であり、
特に好ましくは2〜12重量部である。
【0071】本発明においては、研磨剤が上述した所定
の平均粒子径、モース硬度及び配合の条件を満足するこ
とにより、良好な再生出力、走行耐久性を得ることがで
きる。
の平均粒子径、モース硬度及び配合の条件を満足するこ
とにより、良好な再生出力、走行耐久性を得ることがで
きる。
【0072】また本発明においては、補助的に帯電防止
剤を使用することができる。即ち、前記カーボンブラッ
ク、グラファイト等の導電性粉末の他に、第四級アミン
等のカチオン界面活性剤;スルホン酸、硫酸、リン酸、
リン酸エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界
面活性剤;アミノスルホン酸等の両性界面活性剤;サポ
ニン等の天然界面活性剤等を挙げることができる。上述
した帯電防止剤は、通常、結合剤に対して0.01〜4
0重量%の範囲で添加される。
剤を使用することができる。即ち、前記カーボンブラッ
ク、グラファイト等の導電性粉末の他に、第四級アミン
等のカチオン界面活性剤;スルホン酸、硫酸、リン酸、
リン酸エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界
面活性剤;アミノスルホン酸等の両性界面活性剤;サポ
ニン等の天然界面活性剤等を挙げることができる。上述
した帯電防止剤は、通常、結合剤に対して0.01〜4
0重量%の範囲で添加される。
【0073】(C)下層非磁性層 下層は、非磁性粉末を含有する層であることのほかは特
に制限はなく、種々の方法を用いて形成することができ
る。特に非磁性粉としてα−Fe2O3(α酸化鉄とい
う)粉末が好ましい。
に制限はなく、種々の方法を用いて形成することができ
る。特に非磁性粉としてα−Fe2O3(α酸化鉄とい
う)粉末が好ましい。
【0074】下層は、非磁性粉末を含有し、さらにバイ
ンダーおよびその他の成分を含有してもよい。特に非磁
性粉としてα酸化鉄粉末が好ましい。
ンダーおよびその他の成分を含有してもよい。特に非磁
性粉としてα酸化鉄粉末が好ましい。
【0075】本発明においては、前記に示されるα酸化
鉄粉末と共に各種の公知の非磁性粉末を適宜に選択して
使用することができる。
鉄粉末と共に各種の公知の非磁性粉末を適宜に選択して
使用することができる。
【0076】使用することのできる非磁性粉末として
は、例えば、カーボンブラック、グラファイト、TiO
2、硫酸バリウム、ZnS、MgCO3、CaCO3、
ZnO、CaO、二硫化タングステン、二硫化モリブデ
ン、窒化ホウ素、MgO、SnO2、Cr2O3、α−
Al2O3、α−Fe2O3、α−FeOOH、Si
C、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、α
−酸化鉄、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、窒化ケイ
素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、炭化モリブデン、炭化ホ
ウ素、炭化タングステン、チタンカーバイド、トリボ
リ、ケイソウ土、ドロマイト等を挙げることができる。
は、例えば、カーボンブラック、グラファイト、TiO
2、硫酸バリウム、ZnS、MgCO3、CaCO3、
ZnO、CaO、二硫化タングステン、二硫化モリブデ
ン、窒化ホウ素、MgO、SnO2、Cr2O3、α−
Al2O3、α−Fe2O3、α−FeOOH、Si
C、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、α
−酸化鉄、ザクロ石、ガーネット、ケイ石、窒化ケイ
素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、炭化モリブデン、炭化ホ
ウ素、炭化タングステン、チタンカーバイド、トリボ
リ、ケイソウ土、ドロマイト等を挙げることができる。
【0077】それらの中で好ましいのは、カーボンブラ
ック、CaCO3、TiO2、硫酸バリウム、α−Al
2O3、α−FeOOH、Cr2O3等の無機粉末やポ
リエチレン等のポリマー粉末等である。
ック、CaCO3、TiO2、硫酸バリウム、α−Al
2O3、α−FeOOH、Cr2O3等の無機粉末やポ
リエチレン等のポリマー粉末等である。
【0078】本発明においては、粉末の形状が針状であ
るα酸化鉄粉末を使用することが好ましい。前記針状の
α酸化鉄粉末を用いると、下層の表面の平滑性を向上さ
せることができ、その上に積層される上層の表面の平滑
性も同時に向上させることができる点で好ましい。さら
に、このα酸化鉄粉末に0.01〜5wt%のγ−Fe
2O3、あるいはFe3O4の少なくとも1種、あるい
はα酸化鉄を母体とし、粉体構造中にγ−Fe2O3あ
るいはFe3O4の少なくとも1種の成分を含むことが
好ましい。そして、この粉末の保磁力は200〜600
Oeが好ましい。
るα酸化鉄粉末を使用することが好ましい。前記針状の
α酸化鉄粉末を用いると、下層の表面の平滑性を向上さ
せることができ、その上に積層される上層の表面の平滑
性も同時に向上させることができる点で好ましい。さら
に、このα酸化鉄粉末に0.01〜5wt%のγ−Fe
2O3、あるいはFe3O4の少なくとも1種、あるい
はα酸化鉄を母体とし、粉体構造中にγ−Fe2O3あ
るいはFe3O4の少なくとも1種の成分を含むことが
好ましい。そして、この粉末の保磁力は200〜600
Oeが好ましい。
【0079】前記α酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末の長軸径としては、通常0.30μm未満であり、好
ましくは0.20μm以下であり、特に好ましくは、
0.15μm以下である。
末の長軸径としては、通常0.30μm未満であり、好
ましくは0.20μm以下であり、特に好ましくは、
0.15μm以下である。
【0080】前記α酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末の短軸径としては、通常0.10μm以下であり、好
ましくは0.08μm以下であり、特に好ましくは、
0.06μm以下である。
末の短軸径としては、通常0.10μm以下であり、好
ましくは0.08μm以下であり、特に好ましくは、
0.06μm以下である。
【0081】前記α酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末の軸比としては、通常2〜20であり、好ましくは5
〜15であり、特に好ましくは、5〜10である。ここ
でいう軸比とは、短軸径に対する長軸径の比(長軸径/
短軸径)のことをいう。
末の軸比としては、通常2〜20であり、好ましくは5
〜15であり、特に好ましくは、5〜10である。ここ
でいう軸比とは、短軸径に対する長軸径の比(長軸径/
短軸径)のことをいう。
【0082】前記α酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末の比表面積としては、通常10〜250m2/gであ
り、好ましくは20〜150m2/gであり、特に好ま
しくは、30〜100m2/gである。
末の比表面積としては、通常10〜250m2/gであ
り、好ましくは20〜150m2/gであり、特に好ま
しくは、30〜100m2/gである。
【0083】前記範囲の長軸径、短軸径、軸比、および
比表面積を有するα酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末を使用すると、下層の表面性を良好にすることができ
ると共に、上層の表面性も良好な状態にすることができ
る点で好ましい。
比表面積を有するα酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末を使用すると、下層の表面性を良好にすることができ
ると共に、上層の表面性も良好な状態にすることができ
る点で好ましい。
【0084】前記α酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末の下層中における含有量としては、下層を構成する全
成分の合計に対して50〜99重量%、好ましくは、6
0〜95重量%、特に好ましくは、70〜95重量%で
ある。α酸化鉄を主体あるいは母体とする粉末の含有量
が前記範囲内にあると、下層および上層の塗膜表面の状
態を良好にすることができる点で好ましい。
末の下層中における含有量としては、下層を構成する全
成分の合計に対して50〜99重量%、好ましくは、6
0〜95重量%、特に好ましくは、70〜95重量%で
ある。α酸化鉄を主体あるいは母体とする粉末の含有量
が前記範囲内にあると、下層および上層の塗膜表面の状
態を良好にすることができる点で好ましい。
【0085】前記α酸化鉄を使用した下層の磁気特性
は、保磁力Hcが1000(Oe)以下、飽和磁束密度
が30(G)未満が好ましい。
は、保磁力Hcが1000(Oe)以下、飽和磁束密度
が30(G)未満が好ましい。
【0086】本発明において、乾燥した下層塗膜中に存
在するα酸化鉄を主体あるいは母体とする粉末の表面を
形成する元素の平均存在比率は、XPS表面分析装置を
用いてその値を測定する。
在するα酸化鉄を主体あるいは母体とする粉末の表面を
形成する元素の平均存在比率は、XPS表面分析装置を
用いてその値を測定する。
【0087】次にその方法について説明する。XPS表
面分析装置を以下の条件にセットする。
面分析装置を以下の条件にセットする。
【0088】X線アノード;Mg 分解能 ;1.5〜1.7eV(分解能は清浄なA
g3d5/2ピークの半値幅で規定する) XPS表面分析装置としては、特に限定はなく、いかな
る機種も使用することができるが、本発明においては、
VG社製ESCALAB−200を用いた。
g3d5/2ピークの半値幅で規定する) XPS表面分析装置としては、特に限定はなく、いかな
る機種も使用することができるが、本発明においては、
VG社製ESCALAB−200を用いた。
【0089】以下の測定範囲でナロースキャンを行い、
各元素のスペクトルを測定した。この時、データの取り
込み間隔は、0.2eVとし、目的とするピークが以下
に示す最低カウント数以上のカウントが得られるまで積
算することが必要である。
各元素のスペクトルを測定した。この時、データの取り
込み間隔は、0.2eVとし、目的とするピークが以下
に示す最低カウント数以上のカウントが得られるまで積
算することが必要である。
【0090】 ピーク 測定範囲 最低検出強度 (結合エネルギーeV) (カウント) Cls 305〜280 任意 Fe2p3/2 730〜700 60万 Na(KL23L23) 280〜250 60万 オージェピーク 得られたスペクトルに対して、Clsのピーク位置が2
84.6eVになるようにエネルギー位置を補正する。
84.6eVになるようにエネルギー位置を補正する。
【0091】次に、VAMAS−SCA−JAPAN製
のCOMMON DATA PROCESSING S
YSTEM Ver.2.3(以下、VAMASソフト
と称する)上で処理を行うために、前記のスペクトルを
各装置メーカーが提供するソフトを用いて、VAMAS
ソフトを使用することができるコンピューターに転送す
る。そして、VAMASソフトを用い、転送されたスペ
クトルをVAMASフォーマットに転換した後、データ
処理を行う。
のCOMMON DATA PROCESSING S
YSTEM Ver.2.3(以下、VAMASソフト
と称する)上で処理を行うために、前記のスペクトルを
各装置メーカーが提供するソフトを用いて、VAMAS
ソフトを使用することができるコンピューターに転送す
る。そして、VAMASソフトを用い、転送されたスペ
クトルをVAMASフォーマットに転換した後、データ
処理を行う。
【0092】定量処理に入る前に、各元素についてCo
unt Scaleのキャリブレーションを行い、5ポ
イントのスムージング処理を行う。各元素のピーク位置
を中心として、次表に示す定量範囲でピークエリア強度
(cps*eV)を求める。以下に示した感度係数を使
用し、各元素の原子数を求める。原子数はFe原子数1
00に対する原子数に換算し定量値とする。
unt Scaleのキャリブレーションを行い、5ポ
イントのスムージング処理を行う。各元素のピーク位置
を中心として、次表に示す定量範囲でピークエリア強度
(cps*eV)を求める。以下に示した感度係数を使
用し、各元素の原子数を求める。原子数はFe原子数1
00に対する原子数に換算し定量値とする。
【0093】 元素 ピーク位置(B.E.:ev)定量範囲(B.E.:ev) 感度係数 Fe 719.8付近 高B.E.側5eV 10.54 低B.E.側7eV Na 264.0付近 高B.E.側2eV 7.99 付近にある極小値、 低B.E.側6eV 上記元素以外については以下の条件で測定した。
【0094】
【表1】
【0095】〈試料準備方法〉上記測定をする前に媒体
(磁気テープ)の前処理を行う。
(磁気テープ)の前処理を行う。
【0096】磁気テープからバインダー樹脂をプラズマ
低温灰化処理法で除去し磁性粒子、非磁性粒子を露出さ
せる。処理方法はバインダー樹脂は灰化されるが磁性粒
子、非磁性粒子はダメージを受けない条件を選択する。
例えば、以下に記す装置及び処理条件で処理した後、下
層塗膜中の粉末の表面を形成する元素の平均存在比率を
測定した。
低温灰化処理法で除去し磁性粒子、非磁性粒子を露出さ
せる。処理方法はバインダー樹脂は灰化されるが磁性粒
子、非磁性粒子はダメージを受けない条件を選択する。
例えば、以下に記す装置及び処理条件で処理した後、下
層塗膜中の粉末の表面を形成する元素の平均存在比率を
測定した。
【0097】 装 置 ; 盟和商事 PL−850X 処理条件 ; FORWARD POWER 100W REFLECTED POWER 5W 真空度 10Pa 導入ガス種 Air 放電時間 1min 前記測定法によりα酸化鉄を主体あるいは母体とする粉
末の表面において、これを形成する元素の平均存在比率
がFe原子数100に対してAl原子数1〜100、S
i原子数1〜100であることが好ましい。
末の表面において、これを形成する元素の平均存在比率
がFe原子数100に対してAl原子数1〜100、S
i原子数1〜100であることが好ましい。
【0098】本発明の下層に用いられるバインダーとし
ては、(B−2)で述べた上層と同様のものが使用でき
る。
ては、(B−2)で述べた上層と同様のものが使用でき
る。
【0099】本発明においては、バインダー(結合剤)
として前記の樹脂を全バインダーの20〜80重量%の
使用量で併用することができる。
として前記の樹脂を全バインダーの20〜80重量%の
使用量で併用することができる。
【0100】本発明においては、下層の品質の向上を図
るために、研磨剤、潤滑剤、硬化剤、分散剤、帯電防止
剤及び導電性微粉末等の添加剤をその他の成分として含
有させることができる。
るために、研磨剤、潤滑剤、硬化剤、分散剤、帯電防止
剤及び導電性微粉末等の添加剤をその他の成分として含
有させることができる。
【0101】研磨剤としては、例えば特願平4−241
218号の段落番号0105に記載の公知の物質を使用
することができる。この研磨剤の平均粒子径は、通常
0.05〜0.6μmであり、好ましくは0.05〜
0.5μmであり、特に好ましくは0.05〜0.3μ
mである。
218号の段落番号0105に記載の公知の物質を使用
することができる。この研磨剤の平均粒子径は、通常
0.05〜0.6μmであり、好ましくは0.05〜
0.5μmであり、特に好ましくは0.05〜0.3μ
mである。
【0102】この研磨剤の磁性層又は下層における含有
量としては、通常3〜20重量部であり、好ましくは5
〜15重量部である。研摩剤を除く添加剤については
(B−3)のその他の成分のものと同様のものを使用で
きる。
量としては、通常3〜20重量部であり、好ましくは5
〜15重量部である。研摩剤を除く添加剤については
(B−3)のその他の成分のものと同様のものを使用で
きる。
【0103】帯電防止剤としては、同公報の段落番号0
107に記載の界面活性剤を挙げることができる。この
帯電防止剤は、通常バインダーに対して0.01〜40
重量%の範囲で添加される。更に本発明においては、帯
電防止剤として導電性微粉末を好ましく用いることがで
きる。前記帯電防止剤としては、カーボンブラック、グ
ラファイト、酸化錫、銀粉、酸化銀、硝酸銀、銀の有機
化合物、銅粉等の金属粒子等、酸化亜鉛、硫酸バリウ
ム、酸化チタン等の金属酸化物等の顔料を酸化錫皮膜又
はアンチモン固溶酸化錫皮膜等の導電性物質でコーティ
ング処理したもの等を挙げることができる。
107に記載の界面活性剤を挙げることができる。この
帯電防止剤は、通常バインダーに対して0.01〜40
重量%の範囲で添加される。更に本発明においては、帯
電防止剤として導電性微粉末を好ましく用いることがで
きる。前記帯電防止剤としては、カーボンブラック、グ
ラファイト、酸化錫、銀粉、酸化銀、硝酸銀、銀の有機
化合物、銅粉等の金属粒子等、酸化亜鉛、硫酸バリウ
ム、酸化チタン等の金属酸化物等の顔料を酸化錫皮膜又
はアンチモン固溶酸化錫皮膜等の導電性物質でコーティ
ング処理したもの等を挙げることができる。
【0104】前記導電性微粉末の平均粒子径としては、
5〜700nmであり、より好ましくは5〜200nm
である。この導電性微粉末の含有量としては、α酸化鉄
粉末100重量部に対して、1〜20重量部であり、好
ましくは2〜7重量部である。
5〜700nmであり、より好ましくは5〜200nm
である。この導電性微粉末の含有量としては、α酸化鉄
粉末100重量部に対して、1〜20重量部であり、好
ましくは2〜7重量部である。
【0105】(磁気記録媒体の製造)本発明の磁気記録
媒体は、磁性層の塗設を下層が湿潤状態にあるときに行
う所謂ウェット−オン−ウェット塗布方式で塗設するこ
とが好ましい。このウェット−オン−ウェット塗布方式
は公知の重層構造の磁気記録媒体の製造に使用される方
法を適宜に採用することができる。
媒体は、磁性層の塗設を下層が湿潤状態にあるときに行
う所謂ウェット−オン−ウェット塗布方式で塗設するこ
とが好ましい。このウェット−オン−ウェット塗布方式
は公知の重層構造の磁気記録媒体の製造に使用される方
法を適宜に採用することができる。
【0106】例えば、一般的には磁性粉末、バインダ
ー、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤と溶媒とを混
練して高濃度磁性塗料を調整し、次いでこの高濃度磁性
塗料を希釈して磁性塗料を調整したあと、この磁性塗料
を非磁性支持体の表面に塗布する。前記溶媒としては、
例えば特開平4−214418号の段落番号0119に
記載の溶媒を用いることができる。これらの各種溶媒は
単独で使用することもできるし、またそれらの二種以上
を併用することもできる。
ー、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤と溶媒とを混
練して高濃度磁性塗料を調整し、次いでこの高濃度磁性
塗料を希釈して磁性塗料を調整したあと、この磁性塗料
を非磁性支持体の表面に塗布する。前記溶媒としては、
例えば特開平4−214418号の段落番号0119に
記載の溶媒を用いることができる。これらの各種溶媒は
単独で使用することもできるし、またそれらの二種以上
を併用することもできる。
【0107】磁性層形成成分の混練にあたっては、各種
の混練分散機を使用することができる。この混練分散機
としては上記公報の段落番号0112に記載のものを挙
げることができる。
の混練分散機を使用することができる。この混練分散機
としては上記公報の段落番号0112に記載のものを挙
げることができる。
【0108】混練分散機のうち、0.05〜0.5KW
(磁性粉末1kgあたり)の消費電力負荷を提供するこ
とができる混練分散機は、加圧ニーダー、オープンニー
ダー、連続ニーダー、二本ロールミル、三本ロールミル
である。
(磁性粉末1kgあたり)の消費電力負荷を提供するこ
とができる混練分散機は、加圧ニーダー、オープンニー
ダー、連続ニーダー、二本ロールミル、三本ロールミル
である。
【0109】非磁性支持体上に、上層の磁性層と、下層
とを塗布するには、具体的には、図1に示すように、ま
ず供給ロール32から繰出した非磁性支持体1に、エク
ストルージョン方式の押し出しコーター10、11によ
り、上層塗料と下層塗料とをウェット−オン−ウェット
方式で重層塗布した後、配向用磁石または無配向用磁石
33を通過し、乾燥器34に導入し、ここで上下に配し
たノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次に、乾燥し
た各塗布層付きの非磁性支持体1をカレンダーロール3
8の組合せからなるスーパーカレンダー装置37に導
き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取りロール3
9に巻き取る。このようにして得られた磁性フィルムを
所望サイズのディスク状に裁断して例えば3.5インチ
フロッピーディスクを製造することができる。
とを塗布するには、具体的には、図1に示すように、ま
ず供給ロール32から繰出した非磁性支持体1に、エク
ストルージョン方式の押し出しコーター10、11によ
り、上層塗料と下層塗料とをウェット−オン−ウェット
方式で重層塗布した後、配向用磁石または無配向用磁石
33を通過し、乾燥器34に導入し、ここで上下に配し
たノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次に、乾燥し
た各塗布層付きの非磁性支持体1をカレンダーロール3
8の組合せからなるスーパーカレンダー装置37に導
き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取りロール3
9に巻き取る。このようにして得られた磁性フィルムを
所望サイズのディスク状に裁断して例えば3.5インチ
フロッピーディスクを製造することができる。
【0110】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター10、
11へと供給してもよい。なお、図中、矢印Dは非磁性
支持体1の搬送方向を示す。押し出しコーター10、1
1には夫々、液溜まり部13、14が設けられ、各コー
ターからの塗料をウェット−オン−ウェット方式で重ね
る。即ち、下層塗料の塗布直後(未乾燥状態のとき)に
上層塗料を重層塗布する。前記押し出しコーターとして
は、図2(ア)に示す2基の押し出しコータの他、同図
(イ)及び(ウ)のような型式の押し出しコータを使用
することもできる。これらの中で、図2(ウ)に示した
押し出しコータが本発明においては好ましい。押し出し
コータにより、下層塗料と上層塗料とを共押し出しして
重層塗布する。上記塗料に配合される溶媒またはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、特開平4−21421
8号の段落番号0119記載のものが使用できる。これ
らの各種の溶媒は単独で使用することもできるし、また
それらの二種以上を併用することもできる。前記配向用
磁石或いは無配向用磁石における磁場は、20〜10,
000ガウス程度であり、乾燥器による乾燥温度は約3
0〜120℃であり、乾燥時間は約0.1〜10分間程
度である。
いインラインミキサーを通して押し出しコーター10、
11へと供給してもよい。なお、図中、矢印Dは非磁性
支持体1の搬送方向を示す。押し出しコーター10、1
1には夫々、液溜まり部13、14が設けられ、各コー
ターからの塗料をウェット−オン−ウェット方式で重ね
る。即ち、下層塗料の塗布直後(未乾燥状態のとき)に
上層塗料を重層塗布する。前記押し出しコーターとして
は、図2(ア)に示す2基の押し出しコータの他、同図
(イ)及び(ウ)のような型式の押し出しコータを使用
することもできる。これらの中で、図2(ウ)に示した
押し出しコータが本発明においては好ましい。押し出し
コータにより、下層塗料と上層塗料とを共押し出しして
重層塗布する。上記塗料に配合される溶媒またはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、特開平4−21421
8号の段落番号0119記載のものが使用できる。これ
らの各種の溶媒は単独で使用することもできるし、また
それらの二種以上を併用することもできる。前記配向用
磁石或いは無配向用磁石における磁場は、20〜10,
000ガウス程度であり、乾燥器による乾燥温度は約3
0〜120℃であり、乾燥時間は約0.1〜10分間程
度である。
【0111】なお、ウェット−オン−ウェット方法で
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。
【0112】このウェット−オン−ウェット方式による
重層塗布においては、下層が湿潤状態になったままで上
層を塗布するので、下層の表面(即ち、上層と境界面)
が滑らかになるとともに上層の表面性が良好になり、か
つ、上下層間の接触性も向上する。この結果、特に高密
度記録のために高出力、低ノイズの要求される、たとえ
ば磁気ディスクとしての要求性能を満たしたものとなり
かつ、高耐久性の性能が要求されることに対しても膜剥
離をなくし、膜強度が向上し、耐久性が十分となる。ま
た、ウェット−オン−ウェット重層塗布方式により、ド
ロップアウトも低減することができ、信頼性も向上す
る。
重層塗布においては、下層が湿潤状態になったままで上
層を塗布するので、下層の表面(即ち、上層と境界面)
が滑らかになるとともに上層の表面性が良好になり、か
つ、上下層間の接触性も向上する。この結果、特に高密
度記録のために高出力、低ノイズの要求される、たとえ
ば磁気ディスクとしての要求性能を満たしたものとなり
かつ、高耐久性の性能が要求されることに対しても膜剥
離をなくし、膜強度が向上し、耐久性が十分となる。ま
た、ウェット−オン−ウェット重層塗布方式により、ド
ロップアウトも低減することができ、信頼性も向上す
る。
【0113】(表面の平滑化)本発明においては、次に
カレンダリングにより表面平滑化処理を行ってもよい。
その後は、必要に応じてバーニッシュ処理又はブレード
処理を行ってスリッティングされる。
カレンダリングにより表面平滑化処理を行ってもよい。
その後は、必要に応じてバーニッシュ処理又はブレード
処理を行ってスリッティングされる。
【0114】表面平滑処理においては、カレンダ条件と
して温度、線圧力、コーティングスピード(C/S)等
を挙げることができ、本発明においては前記温度を50
〜140℃、前記線圧力を50〜1000kg/cm、
前記C/Sを20〜1,000m/分に保持することが
好ましい。
して温度、線圧力、コーティングスピード(C/S)等
を挙げることができ、本発明においては前記温度を50
〜140℃、前記線圧力を50〜1000kg/cm、
前記C/Sを20〜1,000m/分に保持することが
好ましい。
【0115】<磁性金属粉末の諸元測定> (全体組成)強磁性金属粉末における全体組成中のF
e、Co、Ni、Nd、Si、Al各元素の存在比率に
ついては、波長分散型蛍光X線分析装置(WDX)を用
いて試料中の各元素の蛍光X線強度を測定した後、ファ
ンダメンタルパラメータ法(以下、FP法と称する)に
従い算出して求めた。
e、Co、Ni、Nd、Si、Al各元素の存在比率に
ついては、波長分散型蛍光X線分析装置(WDX)を用
いて試料中の各元素の蛍光X線強度を測定した後、ファ
ンダメンタルパラメータ法(以下、FP法と称する)に
従い算出して求めた。
【0116】(表面組成)強磁性金属粉末の表面におけ
る組成中のFe、Co、Ni、Nd、Si、Al各元素
の存在比率については、XPS表面分析装置を用いてそ
の値を求めた。
る組成中のFe、Co、Ni、Nd、Si、Al各元素
の存在比率については、XPS表面分析装置を用いてそ
の値を求めた。
【0117】
【発明の効果】本発明によれば、記憶容量が大きい磁気
記録媒体で安定した高再生出力が得られ、オーバーライ
ト特性に優れ、走行耐久性が良好な磁気記録媒体を得る
ことができる。
記録媒体で安定した高再生出力が得られ、オーバーライ
ト特性に優れ、走行耐久性が良好な磁気記録媒体を得る
ことができる。
【0118】
【実施例】以下に示す成分、割合、操作順序は本発明の
範囲から逸脱しない範囲において種々変更し得る。な
お、下記の実施例において「部」はすべて重量部であ
る。
範囲から逸脱しない範囲において種々変更し得る。な
お、下記の実施例において「部」はすべて重量部であ
る。
【0119】まず以下に示す組成処方の磁性層塗料、非
磁性層塗料をそれぞれニーダー、サンドミルを用いて混
練・分散し、得られた各塗料にそれぞれポリイソシアネ
ート(コロネートL、日本ポリウレタン工業(株)製)
5部を添加した後、ウェット・オン・ウェット方式によ
り厚み75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に表2に示す組み合わせで実施例1〜19及び比較例
1〜8の試料を塗布した後、塗膜が未乾燥であるうちに
無配向処理を行い、続いて乾燥を施してから、カレンダ
で表面処理化処理を行い、表2に示す厚みの磁性層及び
非磁性層の原反を作成した。このようにして得られた磁
性フィルムを直径86mmの円盤状に打ち抜き、カセッ
ト内に収容して3.5インチのフロッピーディスクを得
た。
磁性層塗料をそれぞれニーダー、サンドミルを用いて混
練・分散し、得られた各塗料にそれぞれポリイソシアネ
ート(コロネートL、日本ポリウレタン工業(株)製)
5部を添加した後、ウェット・オン・ウェット方式によ
り厚み75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に表2に示す組み合わせで実施例1〜19及び比較例
1〜8の試料を塗布した後、塗膜が未乾燥であるうちに
無配向処理を行い、続いて乾燥を施してから、カレンダ
で表面処理化処理を行い、表2に示す厚みの磁性層及び
非磁性層の原反を作成した。このようにして得られた磁
性フィルムを直径86mmの円盤状に打ち抜き、カセッ
ト内に収容して3.5インチのフロッピーディスクを得
た。
【0120】磁性層塗料処方 (塗料A) Fe−Al系強磁性金属粉末(Fe:Co:Al:Y=100:10:8:5 (重量比))(Hc:2200 Oe、結晶子サイズ:150Å、σs:145 emu/g、BET比表面積:55m2/g、針状比:6) 100部 スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂(日本ゼオン(株)製、MR−110 ) 10部 スルホン酸金属塩含有芳香族ポリエステルポリウレタン(東洋紡(株)製、U R−8300) 5部 研摩剤 (種類、粒径、添加量は表2に記載) カーボンブラック(平均粒径:40nm、DBP吸油量:150ml/100 g) 0.8部 ステアリン酸 1部 ミリスチン酸 2部 ブチルステアレート 2部 オレイルオレート 5部 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部
【0121】(塗料B)塗料AにおいてFe−Al系強
磁性金属粉末のかわりにCo置換バリウムフェライト
(Hc:1100 Oe、BET:45m2/g、σ
s:64emu/g、板状比:4)を用いた以外は塗料
Aと同じ。 非磁性層塗料処方
磁性金属粉末のかわりにCo置換バリウムフェライト
(Hc:1100 Oe、BET:45m2/g、σ
s:64emu/g、板状比:4)を用いた以外は塗料
Aと同じ。 非磁性層塗料処方
【0122】 (塗料a) α−Fe2O3(平均長軸長:150nm、針状比:8、Hc:600 Oe 、BET:50m2/g、Siをα−Fe2O3に対し重量比で0.2%、Al をα−Fe2O3に対し重量比で1.0%) 100部 カーボンブラック(数平均粒径:15nm) 15部 スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂(日本ゼオン(株)製、MR−110 ) 6部 スルホン酸金属塩含有芳香族ポリエステルポリウレタン(東洋紡(株)製、U R−8300) 3部 アルミナ(α−Al2O3、数平均粒径:0.3μm) 6部 ミリスチン酸 2部 ブチルステアレート 2部 オレイルオレート 5部 シクロヘキサノン 100部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部
【0123】(塗料b)塗料aにおいてα−Fe2O3
のかわりに酸化チタン100部(平均粒径30nm、S
iをTiO2に対し重量比で0.2%、AlをTiO2
に対し重量比で1.0%含有)にする他は塗料aと同
じ。
のかわりに酸化チタン100部(平均粒径30nm、S
iをTiO2に対し重量比で0.2%、AlをTiO2
に対し重量比で1.0%含有)にする他は塗料aと同
じ。
【0124】このフロッピーディスクの特性を下記の項
目に従い測定した。測定結果を表2に示す。
目に従い測定した。測定結果を表2に示す。
【0125】(1)再生出力 市販の下記ドライブを用いて、25信号(500KH
z)の正弦波信号で記録し、再生出力を測定した。
z)の正弦波信号で記録し、再生出力を測定した。
【0126】ドライブ:TOSHIBA(株)製、PD
−211 測定トラック:79トラック 測定した再生出力を、実施例1で製造したフロッピーデ
ィスクを100%としたときの相対値として示す。再生
出力が大きい程、良好な磁気ディスクである。
−211 測定トラック:79トラック 測定した再生出力を、実施例1で製造したフロッピーデ
ィスクを100%としたときの相対値として示す。再生
出力が大きい程、良好な磁気ディスクである。
【0127】(2)耐久性 記録再生装置に装填して、磁気ヘッドを(株)東芝製4
MB用ドライブPD−211にて挟圧50g/cm2で
摺接させ、ディスク回転速度300rpmで回転させな
がら、再生出力が初期出力の70%になるまでの走行時
間を耐久性時間として温湿度を変えて測定した。(0℃
〜60℃の間を24Hrでサイクルする。)
MB用ドライブPD−211にて挟圧50g/cm2で
摺接させ、ディスク回転速度300rpmで回転させな
がら、再生出力が初期出力の70%になるまでの走行時
間を耐久性時間として温湿度を変えて測定した。(0℃
〜60℃の間を24Hrでサイクルする。)
【0128】(3)オーバーライト特性 消磁済のサンプルに315KHzの信号を記録し、再生
出力を測定(AdB)後、1MHzの信号をオーバーラ
イトし(BdB)、そのときの315KHzの出力(B
dB)からオーバーライト特性B−A(dB)を求め
た。
出力を測定(AdB)後、1MHzの信号をオーバーラ
イトし(BdB)、そのときの315KHzの出力(B
dB)からオーバーライト特性B−A(dB)を求め
た。
【0129】
【表2】
【図1】ウエット−オン−ウエット塗布方式による磁性
層の同時重層塗布を説明するための図
層の同時重層塗布を説明するための図
【図2】磁性層塗料を塗布するためのコーターヘッドの
図
図
Claims (4)
- 【請求項1】非磁性支持体上に、非磁性粉末を結合剤中
に分散させて含有する下層を少なくとも一層を設け、そ
の上に強磁性粉末を結合剤中に分散させて含有する磁性
層からなる上層を設けた磁気記録媒体において、該磁性
層の乾燥膜厚が0.5μm以下であり、該磁性層中にモ
ース硬度7以上、平均粒子径0.3μm以下、最大粒子
径0.6μm以下である研磨剤を含有することを特徴と
する磁気記録媒体。 - 【請求項2】前記磁性層中の強磁性粉末が強磁性金属粉
末もしくは六方晶フェライトであることを特徴とする請
求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】前記下層は、さらに強磁性粉末を含有する
ことを特徴とする請求項2記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】前記磁気記録媒体が磁気記録ディスクであ
ることを特徴とする請求項1、2又は3記載の磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7091569A JPH08263830A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7091569A JPH08263830A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08263830A true JPH08263830A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=14030166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7091569A Pending JPH08263830A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08263830A (ja) |
-
1995
- 1995-03-24 JP JP7091569A patent/JPH08263830A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH05347017A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US5455104A (en) | Magnetic recording medium | |
| US5324571A (en) | Magnetic recording medium comprising a support and a plurality of layers in which the magnetic layer has a specified plastic deformation | |
| JPH08263839A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 | |
| JP3486793B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08263830A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3421461B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP3722296B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3451277B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08263829A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3385481B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3421481B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3350734B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3395022B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05242461A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08235584A (ja) | 磁気ディスク及びその製造方法 | |
| JPH08263838A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 | |
| JPH05282653A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2003123227A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08263828A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05290359A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05225547A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08180368A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08255336A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08167136A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |