JPH08283320A - カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法 - Google Patents
カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法Info
- Publication number
- JPH08283320A JPH08283320A JP11632695A JP11632695A JPH08283320A JP H08283320 A JPH08283320 A JP H08283320A JP 11632695 A JP11632695 A JP 11632695A JP 11632695 A JP11632695 A JP 11632695A JP H08283320 A JPH08283320 A JP H08283320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical formula
- compound represented
- cationically polymerizable
- organic material
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 60
- 239000011368 organic material Substances 0.000 title claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 title claims description 6
- -1 alkylphenyl sulfide Chemical compound 0.000 claims abstract description 104
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 20
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- IJVLVRYLIMQVDD-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=NC=CS1 IJVLVRYLIMQVDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M sulfenamide Chemical compound [Cl-].COC1=C(C)C=[N+]2C3=NC4=CC=C(OC)C=C4N3SCC2=C1C QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 60
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 22
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 20
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N Ethylenethiourea Chemical compound S=C1NCCN1 PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OEISQDWSEZCYNH-UHFFFAOYSA-N bis-(4-hydroxybenzyl)sulfide Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CSCC1=CC=C(O)C=C1 OEISQDWSEZCYNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 6
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=N)NC1=CC=CC=C1 OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 4
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 3
- KAJICSGLHKRDLN-UHFFFAOYSA-N 1,3-dicyclohexylthiourea Chemical compound C1CCCCC1NC(=S)NC1CCCCC1 KAJICSGLHKRDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 claims description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 claims 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 4
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 15
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 15
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- KMOGUSYRHMVKFI-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-4-methoxypyridin-1-ium-2-carbonitrile Chemical class N#CC1=CC(OC)=CC=[N+]1CC1=CC=CC=C1 KMOGUSYRHMVKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N TMG Natural products CNC(N)=NC LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTDVPWWJRCOIIO-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)methanethiolate Chemical compound COC1=CC=C(C[S-])C=C1 PTDVPWWJRCOIIO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZSPQVOFATJEJMT-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetraethylthiourea Chemical compound CCN(CC)C(=S)N(CC)CC ZSPQVOFATJEJMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXMRAWVFMYZQMG-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-triethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)N(CC)CC HXMRAWVFMYZQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethylthiourea Chemical compound CNC(=S)N(C)C JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQGWBPQBZHMUFG-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylthiourea Chemical compound CN(C)C(N)=S ZQGWBPQBZHMUFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLTOQCPDBGSVTG-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazol-5-yl thiohypochlorite Chemical compound ClSC1=CC=C2SC=NC2=C1 QLTOQCPDBGSVTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazol-2-amine Chemical compound NC1=NC=CS1 RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-[2-(2-ethenoxyethoxy)ethoxy]ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOCCOC=C UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKVROWZQJVDFSO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylimidazol-1-yl)ethanamine Chemical compound CC1=NC=CN1CCN QKVROWZQJVDFSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXMOBLWTCSCLLR-UHFFFAOYSA-N 4-benzylsulfanylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SCC1=CC=CC=C1 UXMOBLWTCSCLLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMIHFTDZEIOVQX-UHFFFAOYSA-N 4-ethylsulfanylphenol Chemical compound CCSC1=CC=C(O)C=C1 FMIHFTDZEIOVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether Chemical compound C1CC2OC2C1OC1CCC2OC21 ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNVSHALFPVGANN-UHFFFAOYSA-N C1COCOC1.O=C1CCCCC1 Chemical compound C1COCOC1.O=C1CCCCC1 JNVSHALFPVGANN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N N,N'-dibutylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)NCCCC KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000003631 expected effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】カチオン重合触媒とカチオン重合性有機材料を
必須成分とする組成物に、当該組成物の安定剤としてグ
アニジン系化合物、チアゾール系化合物、ベンゾチアゾ
ール系化合物、チアゾールカルボン酸系化合物、スルフ
ェンアミド系化合物、チオウレア系化合物、イミダゾー
ル系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、アルキルフ
ェニルスルフィド系化合物の1種または2種以上を添加
してなるカチオン重合性有機材料組成物 およびその安
定化方法。 【効果】本発明の安定化方法によれば、放射線、紫外線
の照射および/または熱によって硬化可能なカチオン重
合触媒を添加したカチオン重合性有機材料組成物におい
て、そのものの室温安定性(ポットライフ)を改善せし
める。よって、カチオン重合触媒、カチオン重合性有機
材料を加えた一液化組成物において良好な安定方法とな
る。
必須成分とする組成物に、当該組成物の安定剤としてグ
アニジン系化合物、チアゾール系化合物、ベンゾチアゾ
ール系化合物、チアゾールカルボン酸系化合物、スルフ
ェンアミド系化合物、チオウレア系化合物、イミダゾー
ル系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、アルキルフ
ェニルスルフィド系化合物の1種または2種以上を添加
してなるカチオン重合性有機材料組成物 およびその安
定化方法。 【効果】本発明の安定化方法によれば、放射線、紫外線
の照射および/または熱によって硬化可能なカチオン重
合触媒を添加したカチオン重合性有機材料組成物におい
て、そのものの室温安定性(ポットライフ)を改善せし
める。よって、カチオン重合触媒、カチオン重合性有機
材料を加えた一液化組成物において良好な安定方法とな
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカチオン重合触媒とカチ
オン重合性有機材料を必須成分とする熱あるいは放射線
(紫外線や電子線等)照射により硬化するカチオン重合
有機材料組成物およびその組成物の安定化方法に関す
る。更に詳しくは、その組成物のポットライフを長くす
るためのカチオン重合性有機材料組成物およびその一液
化組成物の安定化方法に関する。
オン重合性有機材料を必須成分とする熱あるいは放射線
(紫外線や電子線等)照射により硬化するカチオン重合
有機材料組成物およびその組成物の安定化方法に関す
る。更に詳しくは、その組成物のポットライフを長くす
るためのカチオン重合性有機材料組成物およびその一液
化組成物の安定化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、カチオン重合有機材料、とりわけ
一液化エポキシ樹脂用の重合触媒として、ジシアンジア
ミドが広く使用させているが、室温での安定性は優れる
ものの、硬化に際してかなりの高温と時間を要する。ま
た、この欠点を解決するため、わずかな加熱で短時間に
硬化可能な硬化触媒として、p−メトキシベンジルテト
ラメチレンスルホニウム塩(特開昭58−37003
号、特開昭63−223002号) やp−メトキシベ
ンジル−2−シアノピリジニウム塩(第39回熱硬化性
樹脂講演討論開要旨集(1989)p67〜70)等が
提案されている。
一液化エポキシ樹脂用の重合触媒として、ジシアンジア
ミドが広く使用させているが、室温での安定性は優れる
ものの、硬化に際してかなりの高温と時間を要する。ま
た、この欠点を解決するため、わずかな加熱で短時間に
硬化可能な硬化触媒として、p−メトキシベンジルテト
ラメチレンスルホニウム塩(特開昭58−37003
号、特開昭63−223002号) やp−メトキシベ
ンジル−2−シアノピリジニウム塩(第39回熱硬化性
樹脂講演討論開要旨集(1989)p67〜70)等が
提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記、p−メトキシベ
ンジルテトラメチレンスルホニウム塩やp−メトキシベ
ンジル−2−シアノピリジニウム塩等は高活性である
が、室温での安定性に乏しく、ポットライフが短いとい
った欠点があり、低温での一液化エポキシ樹脂の保存を
余儀なくされており、実用的でない。また、特開平5−
5006号では、その解決手段として、ハロゲンイオ
ン、過塩素酸イオン、アルキル硫酸イオン、p−トルエ
ンスルホン酸イオンのいずれかで示される求核性対アニ
オンをもつオニウム塩もしくは鉄芳香族化合物塩を安定
剤として添加することが提案されているが、これは、吸
水性や、溶剤溶解性の点で実用的でない。
ンジルテトラメチレンスルホニウム塩やp−メトキシベ
ンジル−2−シアノピリジニウム塩等は高活性である
が、室温での安定性に乏しく、ポットライフが短いとい
った欠点があり、低温での一液化エポキシ樹脂の保存を
余儀なくされており、実用的でない。また、特開平5−
5006号では、その解決手段として、ハロゲンイオ
ン、過塩素酸イオン、アルキル硫酸イオン、p−トルエ
ンスルホン酸イオンのいずれかで示される求核性対アニ
オンをもつオニウム塩もしくは鉄芳香族化合物塩を安定
剤として添加することが提案されているが、これは、吸
水性や、溶剤溶解性の点で実用的でない。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前述したよ
うな課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、カチオン
重合触媒とカチオン重合性有機材料を必須成分とする組
成物に、その安定剤として作用する特定の化合物を添加
することで、室温、または室温遮光下で貯蔵安定性に優
れ、放射線および/または加熱で短時間に重合または硬
化可能なカチオン重合性有機材料組成物を見い出し、本
発明を完成するに至った。即ち、本発明はカチオン重合
触媒とカチオン重合性有機材料を必須成分とするカチオ
ン重合性有機材料組成物に、グアニジン系化合物、チア
ゾール系化合物、スルフェンアミド系化合物、チオウレ
ア系化合物、イミダゾール系化合物の1種または2種以
上を添加することを特徴とするカチオン重合性有機材料
組成物および当該組成物による安定化法に関する。
うな課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、カチオン
重合触媒とカチオン重合性有機材料を必須成分とする組
成物に、その安定剤として作用する特定の化合物を添加
することで、室温、または室温遮光下で貯蔵安定性に優
れ、放射線および/または加熱で短時間に重合または硬
化可能なカチオン重合性有機材料組成物を見い出し、本
発明を完成するに至った。即ち、本発明はカチオン重合
触媒とカチオン重合性有機材料を必須成分とするカチオ
ン重合性有機材料組成物に、グアニジン系化合物、チア
ゾール系化合物、スルフェンアミド系化合物、チオウレ
ア系化合物、イミダゾール系化合物の1種または2種以
上を添加することを特徴とするカチオン重合性有機材料
組成物および当該組成物による安定化法に関する。
【0005】本発明をさらに具体的に例示すれば、カチ
オン重合触媒とカチオン重合性有機材料を必須成分とす
るカチオン重合性有機材料組成物に、化10で表される
グアニジン系化合物、化11で表されるチアゾール系化
合物、化12で表されるベンゾチアゾール系化合物、化
13で表されるチアゾールカルボン酸系化合物、化14
で表されるスルフェンアミド系化合物、化15で表され
るチオウレア系化合物、エチレンチオ尿素、化16で表
されるイミダゾール系化合物、化17で表されるベンズ
イミダゾール系化合物、化18で表されるアルキルフェ
ニルスルフィド系化合物の1種または2種以上を安定剤
として添加することを特徴とするカチオン重合性有機材
料組成物および当該組成物による安定化法に関する。
オン重合触媒とカチオン重合性有機材料を必須成分とす
るカチオン重合性有機材料組成物に、化10で表される
グアニジン系化合物、化11で表されるチアゾール系化
合物、化12で表されるベンゾチアゾール系化合物、化
13で表されるチアゾールカルボン酸系化合物、化14
で表されるスルフェンアミド系化合物、化15で表され
るチオウレア系化合物、エチレンチオ尿素、化16で表
されるイミダゾール系化合物、化17で表されるベンズ
イミダゾール系化合物、化18で表されるアルキルフェ
ニルスルフィド系化合物の1種または2種以上を安定剤
として添加することを特徴とするカチオン重合性有機材
料組成物および当該組成物による安定化法に関する。
【0006】
【化10】 (ただし、式中R1,R2は独立して、水素、メチル基、
フェニル基、トリル基のいずれかを示す。)
フェニル基、トリル基のいずれかを示す。)
【0007】
【化11】 (ただし、式中R3は、水素、ハロゲン、アミノ基、メ
ルカプト基のいずれかを示す。)
ルカプト基のいずれかを示す。)
【0008】
【化12】 (ただし、式中R4は、核置換されていてもよいベンゾ
チアジルジチオ基、シクロヘキシルジチオ基、メルカプ
ト基を、R5,R6は独立して、水素、メチル基、ハロゲ
ンのいずれかを示す。)
チアジルジチオ基、シクロヘキシルジチオ基、メルカプ
ト基を、R5,R6は独立して、水素、メチル基、ハロゲ
ンのいずれかを示す。)
【0009】
【化13】 (ただし、式中R7は、水素、メチル基、ハロゲンのい
ずれかを、n は1〜4を示す。)
ずれかを、n は1〜4を示す。)
【0010】
【化14】 (ただし、式中R8,R9は独立して、水素、C1〜C4の
アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基のいずれか
を示すかあるいは、-NR8R9でモルホリノ基を示す。
R10は、水素、メチル基、ハロゲンのいずれかを示
す。)
アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基のいずれか
を示すかあるいは、-NR8R9でモルホリノ基を示す。
R10は、水素、メチル基、ハロゲンのいずれかを示
す。)
【0011】
【化15】 (ただし、式中R11〜14は独立して、水素、C1〜C4の
アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基のいずれか
を示す。)
アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基のいずれか
を示す。)
【0012】
【化16】 (ただし、式中R15,R16は独立して、水素、置換され
ていてもよいC1〜C4のアルキル基、フェニル基のいず
れかを示す。)
ていてもよいC1〜C4のアルキル基、フェニル基のいず
れかを示す。)
【0013】
【化17】 (ただし、式中R17は、水素、メルカプト基のいずれか
を、R18は、水素、メチル基、ハロゲンのいずれかを示
す。)
を、R18は、水素、メチル基、ハロゲンのいずれかを示
す。)
【0014】
【化18】 (ただし、式中R19は、水素、C1〜C4のアルキル基、
ベンジル基のいずれかを、R20は、C1〜C4のアルキル
基、ベンジル基のいずれかを示す。)
ベンジル基のいずれかを、R20は、C1〜C4のアルキル
基、ベンジル基のいずれかを示す。)
【0015】本発明に使用される安定剤を例示する。グ
アニジン系化合物としては、N,N′−ジメチルグアニ
ジン、N,N′−ジフェニルグアニジン等が挙げられ
る。チアゾール系化合物を例示すれば、2−メルカプト
チアゾール、2−アミノチアゾール、ベンゾチアゾー
ル、2−メルカプトベンゾチアゾール、5−クロロメル
カプトベンゾチアゾール、5,6−ジクロロメルカプト
ベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド、2
−シクロヘキシルジチオ−5,6−ジクロロベンゾチア
ゾール、(2−ベンゾチアジルチオ)酢酸、3−(2−
ベンゾチアジルチオ)プロピオン酸等が挙げられる。
アニジン系化合物としては、N,N′−ジメチルグアニ
ジン、N,N′−ジフェニルグアニジン等が挙げられ
る。チアゾール系化合物を例示すれば、2−メルカプト
チアゾール、2−アミノチアゾール、ベンゾチアゾー
ル、2−メルカプトベンゾチアゾール、5−クロロメル
カプトベンゾチアゾール、5,6−ジクロロメルカプト
ベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド、2
−シクロヘキシルジチオ−5,6−ジクロロベンゾチア
ゾール、(2−ベンゾチアジルチオ)酢酸、3−(2−
ベンゾチアジルチオ)プロピオン酸等が挙げられる。
【0016】スルフェンアミド系化合物を例示すれば、
2−スルフェンアミドベンゾチアゾール、2−スルフェ
ンアミド−5−クロロベンゾチアゾール、N−シクロヘ
キシルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド、N−t
ert−ブチルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド
等が挙げられる。
2−スルフェンアミドベンゾチアゾール、2−スルフェ
ンアミド−5−クロロベンゾチアゾール、N−シクロヘ
キシルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド、N−t
ert−ブチルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド
等が挙げられる。
【0017】チオウレア系化合物を例示すれば、チオウ
レア、エチレンチオウレア、N,N−ジメチルチオウレ
ア、N,N′−ジエチルチオウレア、N,N′−ジブチ
ルチオウレア、トリメチルチオウレア、トリエチルチオ
ウレア、ジシクロヘキシルチオウレア、テトラメチルチ
オウレア、テトラエチルチオウレア等が挙げられる。イ
ミダゾール系化合物を例示すれば、イミダゾール、2−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−
メルカプトベンズイミダゾール、1−アミノエチル−2
−メチルイミダゾール等が挙げられる。
レア、エチレンチオウレア、N,N−ジメチルチオウレ
ア、N,N′−ジエチルチオウレア、N,N′−ジブチ
ルチオウレア、トリメチルチオウレア、トリエチルチオ
ウレア、ジシクロヘキシルチオウレア、テトラメチルチ
オウレア、テトラエチルチオウレア等が挙げられる。イ
ミダゾール系化合物を例示すれば、イミダゾール、2−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−
メルカプトベンズイミダゾール、1−アミノエチル−2
−メチルイミダゾール等が挙げられる。
【0018】アルキルフェニルスルフィド系化合物を例
示すれば、4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド、
4−ヒドロキシフェニルエチルスルフィド、4−ヒドロ
キシフェニルベンジルスルフィド、4−メトキシフェニ
ルメチルスルフィド等が挙げられる。
示すれば、4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド、
4−ヒドロキシフェニルエチルスルフィド、4−ヒドロ
キシフェニルベンジルスルフィド、4−メトキシフェニ
ルメチルスルフィド等が挙げられる。
【0019】本発明の組成物における安定剤の使用割合
は、カチオン重合触媒100重量部に対して0.01〜
20重量部が好ましく、特に好ましくは0.1〜10重
量部である。安定剤の使用量が多いと硬化時に重合反応
の成長末端を攻撃し、早い停止反応を起こし、網目構造
が充分に形成されず、満足のいく硬化物が得られない。
また、安定剤の使用量が少ないと、安定剤としての効果
が得られず、充分なポットライフを有する組成物が得ら
れない。
は、カチオン重合触媒100重量部に対して0.01〜
20重量部が好ましく、特に好ましくは0.1〜10重
量部である。安定剤の使用量が多いと硬化時に重合反応
の成長末端を攻撃し、早い停止反応を起こし、網目構造
が充分に形成されず、満足のいく硬化物が得られない。
また、安定剤の使用量が少ないと、安定剤としての効果
が得られず、充分なポットライフを有する組成物が得ら
れない。
【0020】本発明において使用されるカチオン重合触
媒としては、公知のスルホニウム塩やアンモニウム塩な
どが挙げられる。例えば、4−ヒドロキシフェニルベン
ジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロホスフェート、4−ヒドロキシフェ
ニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアル
セネート、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスル
ホニウム テトラフルオロボレート、4−(アセトキ
シ)フェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、4−ヒドロキシフェニル(o−メ
チルベンジル)メチルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネート、4−ヒドロキシフェニル(o−メチルベ
ンジル)メチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェ
ート、4−ヒドロキシフェニル(p−ニトロベンジル)
メチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
4−ヒドロキシフェニルメチル(α−ナフチルメチル)
スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、4−ヒ
ドロキシフェニルメチル(α−ナフチルメチル)スルホ
ニウム ヘキサフルオロホスフェート、4−ヒドロキシ
フェニルメチル(α−ナフチルメチル)スルホニウム
テトラフルオロボレート、4−アセトキシフェニルメチ
ル(α−ナフチルメチル)スルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジルテトラメチレンスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジルテトラメ
チレンスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、
(o−メチルベンジル)テトラメチレンスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、(α−ナフチルメチ
ル)テトラメチレンスルホニウム ヘキサフルオロアン
チモネート、トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリフェニルスルホニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、p−メトキシベンジル−o−シ
アノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、p
−メトキシベンジルジメチルアニリニウム ヘキサフル
オロアンチモネート等が挙げられる。
媒としては、公知のスルホニウム塩やアンモニウム塩な
どが挙げられる。例えば、4−ヒドロキシフェニルベン
ジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロホスフェート、4−ヒドロキシフェ
ニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアル
セネート、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスル
ホニウム テトラフルオロボレート、4−(アセトキ
シ)フェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、4−ヒドロキシフェニル(o−メ
チルベンジル)メチルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネート、4−ヒドロキシフェニル(o−メチルベ
ンジル)メチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェ
ート、4−ヒドロキシフェニル(p−ニトロベンジル)
メチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
4−ヒドロキシフェニルメチル(α−ナフチルメチル)
スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、4−ヒ
ドロキシフェニルメチル(α−ナフチルメチル)スルホ
ニウム ヘキサフルオロホスフェート、4−ヒドロキシ
フェニルメチル(α−ナフチルメチル)スルホニウム
テトラフルオロボレート、4−アセトキシフェニルメチ
ル(α−ナフチルメチル)スルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジルテトラメチレンスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジルテトラメ
チレンスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、
(o−メチルベンジル)テトラメチレンスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、(α−ナフチルメチ
ル)テトラメチレンスルホニウム ヘキサフルオロアン
チモネート、トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリフェニルスルホニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、p−メトキシベンジル−o−シ
アノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、p
−メトキシベンジルジメチルアニリニウム ヘキサフル
オロアンチモネート等が挙げられる。
【0021】ここにおいて、本発明の組成物におけるカ
チオン重合触媒の使用割合は、カチオン重合有機材料1
00重量部に対して0.01〜20重量部が好ましく、
特に好ましくは0.1〜10重量部である。本発明に用
いられるカチオン重合性有機材料としては、エポキシ樹
脂、スチレン、ビニルエーテル等のカチオン重合性ビニ
ル化合物、更にはスピロオルソエステル、ビシクロオル
ソエステル、スピロオルソカーボナートのような環状エ
ーテル類が挙げられる。エポキシ樹脂としては、従来か
ら公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂
肪族エポキシ樹脂、更にはエポキシド単量体類、エピサ
ルファイド単量体類が挙げられる。
チオン重合触媒の使用割合は、カチオン重合有機材料1
00重量部に対して0.01〜20重量部が好ましく、
特に好ましくは0.1〜10重量部である。本発明に用
いられるカチオン重合性有機材料としては、エポキシ樹
脂、スチレン、ビニルエーテル等のカチオン重合性ビニ
ル化合物、更にはスピロオルソエステル、ビシクロオル
ソエステル、スピロオルソカーボナートのような環状エ
ーテル類が挙げられる。エポキシ樹脂としては、従来か
ら公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂
肪族エポキシ樹脂、更にはエポキシド単量体類、エピサ
ルファイド単量体類が挙げられる。
【0022】ここで、芳香族エポキシ樹脂を例示すれ
ば、少なくとも1個の芳香族を有する多価フェノールま
たはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジル
エーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフェ
ノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合物
またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル
等が挙げられる。
ば、少なくとも1個の芳香族を有する多価フェノールま
たはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジル
エーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフェ
ノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合物
またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル
等が挙げられる。
【0023】また、脂環式エポキシ樹脂の具体的な例と
しては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−
(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−
ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)
エーテル、EHPE−3150(ダイセル化学工業株式
会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点71℃)等が挙げ
られる。
しては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−
(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−
ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)
エーテル、EHPE−3150(ダイセル化学工業株式
会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点71℃)等が挙げ
られる。
【0024】脂肪族エポキシ樹脂の例としては、脂肪族
多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物
のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例として
は、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、
1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グ
リセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールの
ジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに
1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エチレン
オキサイド、プロピレンオキサイド等)を付加すること
により得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジ
ルエーテルが挙げられる。
多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物
のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例として
は、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、
1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グ
リセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールの
ジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに
1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エチレン
オキサイド、プロピレンオキサイド等)を付加すること
により得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジ
ルエーテルが挙げられる。
【0025】エポキシド単量体類の例としては、脂肪族
高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノー
ル、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアル
キレンオキサイドを付加することにより得られるポリエ
ーテルアルコールのモノグリシジルエーテル等が挙げら
れる。
高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノー
ル、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアル
キレンオキサイドを付加することにより得られるポリエ
ーテルアルコールのモノグリシジルエーテル等が挙げら
れる。
【0026】カチオン重合性ビニル化合物としては、例
えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テト
ラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−
ブタンジオールジビルエーテル等が挙げられる。また、
これらのカチオン重合性有機材料は単独でも2種以上の
混合物でもかまわない。
えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テト
ラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−
ブタンジオールジビルエーテル等が挙げられる。また、
これらのカチオン重合性有機材料は単独でも2種以上の
混合物でもかまわない。
【0027】本発明のカチオン重合性有機材料組成物に
おいて、放射線、紫外線の照射および/または熱によっ
て硬化可能なカチオン重合触媒を添加してなるものは、
遮光、室温下、あるいは室温下でのポットライフを長く
保つことができる。本発明の構成成分の1つであるカチ
オン重合触媒は、放射線や紫外線および/または加熱に
対して活性がある。すなわち、放射線、紫外線または熱
により励起されたカチオン重合触媒は、例えば、ベンジ
ルカチオン、ナフチルメチルカチオン、プロトンなどの
カチオン種を放出し、前述のカチオン重合性有機材料の
重合を進行させると考えられている。
おいて、放射線、紫外線の照射および/または熱によっ
て硬化可能なカチオン重合触媒を添加してなるものは、
遮光、室温下、あるいは室温下でのポットライフを長く
保つことができる。本発明の構成成分の1つであるカチ
オン重合触媒は、放射線や紫外線および/または加熱に
対して活性がある。すなわち、放射線、紫外線または熱
により励起されたカチオン重合触媒は、例えば、ベンジ
ルカチオン、ナフチルメチルカチオン、プロトンなどの
カチオン種を放出し、前述のカチオン重合性有機材料の
重合を進行させると考えられている。
【0028】しかし、保存時、室温下または室内光等、
些少なエネルギー励起によってわずかながらカチオン種
の発生があり、重合が進行するために、室温安定性(ポ
ットライフ)に問題を生じる。本発明の安定化方法によ
れば、このわずかに発生したカチオン開始種を本発明の
安定剤が優先的に捉え、カチオン重合性有機材料の重合
を阻止しているものと考えられる。
些少なエネルギー励起によってわずかながらカチオン種
の発生があり、重合が進行するために、室温安定性(ポ
ットライフ)に問題を生じる。本発明の安定化方法によ
れば、このわずかに発生したカチオン開始種を本発明の
安定剤が優先的に捉え、カチオン重合性有機材料の重合
を阻止しているものと考えられる。
【0029】本発明の組成物は、更に場合によっては増
量剤、難燃剤、静電防止剤、界面活性剤、酸無水物に代
表される助剤等を混合して用いられ、本発明の組成物
は、艶出しワニス、インキ、塗料、接着剤、積層板、プ
リプレグ、成形材料、封止材料等に使用できる。本発明
の組成物は、室温での長期間保存可能、つまりポットラ
イフが長いこと、そして放射線、紫外線の照射および/
または加熱条件を加えるとすみやかに重合を開始する機
能を備え、硬化性に優れ、吸湿性がなく、耐水性、耐薬
品性、電気絶縁性に優れた硬化物を与える。
量剤、難燃剤、静電防止剤、界面活性剤、酸無水物に代
表される助剤等を混合して用いられ、本発明の組成物
は、艶出しワニス、インキ、塗料、接着剤、積層板、プ
リプレグ、成形材料、封止材料等に使用できる。本発明
の組成物は、室温での長期間保存可能、つまりポットラ
イフが長いこと、そして放射線、紫外線の照射および/
または加熱条件を加えるとすみやかに重合を開始する機
能を備え、硬化性に優れ、吸湿性がなく、耐水性、耐薬
品性、電気絶縁性に優れた硬化物を与える。
【0030】
【実施例】以下に実施例を示すが、本発明はこの実施例
に限定されるものではない。 実施例1〜5 エポキシド単量体であるフェニルグリシジルエーテル1
00重量部に対して、所定量の重合触媒と安定剤として
N,N’−ジフェニルグアニジンを用いて調製された組
成物を40℃で30日間保存し、1H NMRスペクト
ルから転化率を算出した。結果を表1に示す。
に限定されるものではない。 実施例1〜5 エポキシド単量体であるフェニルグリシジルエーテル1
00重量部に対して、所定量の重合触媒と安定剤として
N,N’−ジフェニルグアニジンを用いて調製された組
成物を40℃で30日間保存し、1H NMRスペクト
ルから転化率を算出した。結果を表1に示す。
【0031】
【表1】
【0032】実施例6〜11 フェニルグリシジルエーテル100重量部、カチオン重
合触媒として4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート3重量部、
更に、種々の安定剤を用いて調製された組成物の安定性
を実施例1〜5の方法に準じて評価した。その結果を表
2に示す。
合触媒として4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート3重量部、
更に、種々の安定剤を用いて調製された組成物の安定性
を実施例1〜5の方法に準じて評価した。その結果を表
2に示す。
【0033】
【表2】
【0034】実施例12〜16 フェニルグリシジルエーテル100重量部、カチオン重
合触媒としてベンジルテトラメチレンスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート3重量部、更に、種々の安
定剤を用いて調製された組成物の安定性を実施例1〜5
の方法に準じて評価した。その結果を表3に示す。
合触媒としてベンジルテトラメチレンスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート3重量部、更に、種々の安
定剤を用いて調製された組成物の安定性を実施例1〜5
の方法に準じて評価した。その結果を表3に示す。
【0035】
【表3】
【0036】実施例17〜21 フェニルグリシジルエーテル100重量部、カチオン重
合触媒としてp−メトキシベンジル−2−シアノピリジ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート3重量部、更
に、種々の安定剤を用いて調製された組成物の安定性を
実施例1〜5の方法に準じて評価した。その結果を表4
に示す。
合触媒としてp−メトキシベンジル−2−シアノピリジ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート3重量部、更
に、種々の安定剤を用いて調製された組成物の安定性を
実施例1〜5の方法に準じて評価した。その結果を表4
に示す。
【0037】
【表4】
【0038】比較例1〜3 安定剤を添加することなく実施例1〜5の方法に準じ
て、同様な試験を行なった。結果を表5に示す。なお、
40℃で30日間保存後の120℃、1時間の重合は行
なわなかった。
て、同様な試験を行なった。結果を表5に示す。なお、
40℃で30日間保存後の120℃、1時間の重合は行
なわなかった。
【0039】
【表5】
【0040】実施例22〜24,比較例4〜5 エピコート828(油化シェルエポキシ製 ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂)95重量部、反応性希釈剤とし
てn−ブチルグリシジルエーテル2.5重量部、および
所定量のカチオン重合触媒、安定剤により調製された組
成物を40℃で30日間保存後の組成物の粘度(25℃
における値)と硬化時間を測定した。硬化時間は、ガラ
スビンにとった少量の組成物を回転子で攪拌し、その回
転子が回らなくなるまでに要した時間とした。なお、比
較例4〜5の組成物の40℃で30日間保存後の硬化時
間は測定しなかった。結果を表6に示す。
ールA型エポキシ樹脂)95重量部、反応性希釈剤とし
てn−ブチルグリシジルエーテル2.5重量部、および
所定量のカチオン重合触媒、安定剤により調製された組
成物を40℃で30日間保存後の組成物の粘度(25℃
における値)と硬化時間を測定した。硬化時間は、ガラ
スビンにとった少量の組成物を回転子で攪拌し、その回
転子が回らなくなるまでに要した時間とした。なお、比
較例4〜5の組成物の40℃で30日間保存後の硬化時
間は測定しなかった。結果を表6に示す。
【0041】
【表6】
【0042】実施例25〜29 脂環式エポキシ樹脂 3,4−エポキシシクロヘキシル
メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ
ート(ダイセル化学工業製)100重量部に対して、所
定量のカチオン重合触媒、安定剤により調整された組成
物を遮光下、室温で30日間保存した。調製直後および
保存後の組成物の太陽光照射による硬化時間を測定し
た。硬化時間は、ガラスビンにとった少量の組成物に太
陽光を照射し、ガラスビンを傾けても組成物が流れなく
なるまでに要する時間とした。また、保存後の状態を観
察し、増粘のほとんどないものを〇、増粘はあるものの
組成物は流れるものを△、ゲル化しているものを×とし
た。結果を表7に示す。
メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ
ート(ダイセル化学工業製)100重量部に対して、所
定量のカチオン重合触媒、安定剤により調整された組成
物を遮光下、室温で30日間保存した。調製直後および
保存後の組成物の太陽光照射による硬化時間を測定し
た。硬化時間は、ガラスビンにとった少量の組成物に太
陽光を照射し、ガラスビンを傾けても組成物が流れなく
なるまでに要する時間とした。また、保存後の状態を観
察し、増粘のほとんどないものを〇、増粘はあるものの
組成物は流れるものを△、ゲル化しているものを×とし
た。結果を表7に示す。
【0043】
【表7】
【0044】比較例6〜8 安定剤を添加することなく、実施例25〜29の方法に
準じて同様な試験を行なった。結果を表8に示す。な
お、遮光下、室温で30日間保存後の硬化時間は測定し
なかった。
準じて同様な試験を行なった。結果を表8に示す。な
お、遮光下、室温で30日間保存後の硬化時間は測定し
なかった。
【0045】
【表8】
【0046】
【発明の効果】本発明の安定化方法によれば、カチオン
重合触媒、カチオン重合性有機材料を加えた一液化組成
物において良好な安定方法として作用する。よって所期
の効果が存する。
重合触媒、カチオン重合性有機材料を加えた一液化組成
物において良好な安定方法として作用する。よって所期
の効果が存する。
Claims (19)
- 【請求項1】カチオン重合触媒とカチオン重合性有機材
料を必須成分とする組成物に、グアニジン系化合物、チ
アゾール系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、チアゾ
ールカルボン酸系化合物、スルフェンアミド系化合物、
チオウレア系化合物、イミダゾール系化合物、ベンズイ
ミダゾール系化合物、アルキルフェニルスルフィド系化
合物の1種または2種以上を添加してなるカチオン重合
性有機材料組成物。 - 【請求項2】カチオン重合触媒とカチオン重合性有機材
料を必須成分とする組成物に、当該組成物の安定剤とし
てグアニジン系化合物、チアゾール系化合物、ベンゾチ
アゾール系化合物、チアゾールカルボン酸系化合物、ス
ルフェンアミド系化合物、チオウレア系化合物、イミダ
ゾール系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、アルキ
ルフェニルスルフィド系化合物の1種または2種以上を
添加してなるカチオン重合性有機材料組成物。 - 【請求項3】カチオン重合触媒とカチオン重合性有機材
料を必須成分とする組成物に、化1で表されるグアニジ
ン系化合物、化2で表されるチアゾール系化合物、化3
で表されるベンゾチアゾール系化合物、化4で表される
チアゾールカルボン酸系化合物、化5で表されるスルフ
ェンアミド系化合物、化6で表されるチオウレア系化合
物、エチレンチオ尿素、化7で表されるイミダゾール系
化合物、化8で表されるベンズイミダゾール系化合物、
化9で表されるアルキルフェニルスルフィド系化合物の
1種または2種以上を添加してなるカチオン重合性有機
材料組成物。 【化1】 (ただし、式中R1,R2は独立して、水素、メチル基、
フェニル基、トリル基のいずれかを示す。) 【化2】 (ただし、式中R3は、水素、ハロゲン、アミノ基、メ
ルカプト基のいずれかを示す。) 【化3】 (ただし、式中R4は、核置換されていてもよいベンゾ
チアジルジチオ基、シクロヘキシルジチオ基、メルカプ
ト基を、R5,R6は独立して、水素、メチル基、ハロゲ
ンのいずれかを示す。) 【化4】 (ただし、式中R7は、水素、メチル基、ハロゲンのい
ずれかを、n は1〜4を示す。) 【化5】 (ただし、式中R8,R9は独立して、水素、C1〜C4の
アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基のいずれか
を示すかあるいは、-NR8R9でモルホリノ基を示す。
R10は、水素、メチル基、ハロゲンのいずれかを示
す。) 【化6】 (ただし、式中R11〜14は独立して、水素、C1〜C4の
アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基のいずれか
を示す。) 【化7】 (ただし、式中R15,R16は独立して、水素、置換され
ていてもよいC1〜C4のアルキル基、フェニル基のいず
れかを示す。) 【化8】 (ただし、式中R17は、水素、メルカプト基のいずれか
を、R18は、水素、メチル基、ハロゲンのいずれかを示
す。) 【化9】 (ただし、式中R19は、水素、C1〜C4のアルキル基、
ベンジル基のいずれかを、R20は、C1〜C4のアルキル
基、ベンジル基のいずれかを示す。) - 【請求項4】カチオン重合触媒とカチオン重合性有機材
料を必須成分とする組成物に、当該組成物の安定剤とし
て、請求項3記載の化1で表されるグアニジン系化合
物、化2で表されるチアゾール系化合物、化3で表され
るベンゾチアゾール系化合物、化4で表されるチアゾー
ルカルボン酸系化合物、化5で表されるスルフェンアミ
ド系化合物、化6で表されるチオウレア系化合物、エチ
レンチオ尿素、化7で表されるイミダゾール系化合物、
化8で表されるベンズイミダゾール系化合物、化9で表
されるアルキルフェニルスルフィド系化合物の1種また
は2種以上を添加してなるカチオン重合性有機材料組成
物。 - 【請求項5】請求項3記載の化1で表されるグアニジン
系化合物がN,N′−ジフェニルグアニジンまたはN,
N′−ジアルキルグアニジンである請求項3または4に
記載のカチオン重合性有機材料組成物。 - 【請求項6】請求項3記載の化3で表されるベンゾチア
ゾール系化合物が2−メルカプトベンゾチアゾールであ
る請求項3または4に記載のカチオン重合性有機材料組
成物。 - 【請求項7】請求項3記載の化4で表されるチアゾール
カルボン酸系化合物が3−(2−ベンゾチアゾルチオ)
プロピオン酸である請求項3または4に記載のカチオン
重合性有機材料組成物。 - 【請求項8】請求項3記載の化5で表されるスルフェン
アミド系化合物がN−tert−ブチルベンゾチアジル−2
−スルフェンアミドである請求項3または4に記載のカ
チオン重合性有機材料組成物。 - 【請求項9】請求項3記載の化6で表されるチオウレア
系化合物がN,N′−ジアルキルチオウレア、N,N′
−ジシクロヘキシルチオウレア、トリアルキルチオウレ
ア、テトラアルキルチオウレアである請求項3または4
に記載のカチオン重合性有機材料組成物。 - 【請求項10】請求項3記載の化7で表されるイミダゾ
ール系化合物がイミダゾール、2−アルキルイミダゾー
ルである請求項3または4に記載のカチオン重合性有機
材料組成物。 - 【請求項11】請求項3記載の化8で表されるベンズイ
ミダゾール系化合物が2−メルカプトベンズイミダゾー
ルである請求項3または4に記載のカチオン重合性有機
材料組成物。 - 【請求項12】請求項3記載の化9で表されるアルキル
フェニルスルフィド系化合物が4−ヒドロキシフェニル
メチルスルフィドである請求項3または4に記載のカチ
オン重合性有機材料組成物。 - 【請求項13】カチオン重合性有機材料がエポキシ化合
物である請求項1〜12記載のカチオン重合性有機材料
組成物。 - 【請求項14】カチオン重合性有機材料がカチオン重合
性ビニル化合物である請求項1〜12記載のカチオン重
合性有機材料組成物。 - 【請求項15】カチオン重合性有機材料が環状有機エー
テルである請求項1〜12記載のカチオン重合性有機材
料組成物。 - 【請求項16】請求項1〜15記載の組成物によるカチ
オン重合性有機材料組成物の安定化法。 - 【請求項17】請求項3記載の化1で表されるグアニジ
ン系化合物、化2で表されるチアゾール系化合物、化3
で表されるベンゾチアゾール系化合物、化4で表される
チアゾールカルボン酸系化合物、化5で表されるスルフ
ェンアミド系化合物、化6で表されるチオウレア系化合
物、エチレンチオ尿素、化7で表されるイミダゾール系
化合物、化8で表されるアルキルフェニルスルフィド系
化合物の1種または2種以上をカチオン重合触媒100
重量部に対して0.01〜20重量部添加してなる請求
項16記載の安定化法。 - 【請求項18】請求項3記載の化1で表されるグアニジ
ン系化合物、化2で表されるチアゾール系化合物、化3
で表されるベンゾチアゾール系化合物、化4で表される
チアゾールカルボン酸系化合物、化5で表されるスルフ
ェンアミド系化合物、化6で表されるチオウレア系化合
物、エチレンチオ尿素、化7で表されるイミダゾール系
化合物、化8で表されるアルキルフェニルスルフィド系
化合物の1種または2種以上からなるカチオン重合性有
機材料組成物の安定剤。 - 【請求項19】請求項18記載の安定剤がN,N′−ジ
フェニルグアニジン、N,N′−ジアルキルグアニジ
ン、2−メルカプトベンゾチアゾール、3−(2−ベン
ゾチアジルチオ)プロピオン酸、N−tert−ブチルベン
ゾチアジル−2−スルフェンアミド、N,N′−ジアル
キルチオウレア、N,N′−ジシクロヘキシルチオウレ
ア、トリアルキルチオウレア、テトラアルキルチオウレ
ア、イミダゾール、2−アルキルイミダゾール、2−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、4−ヒドロキシフェニル
メチルスルフィドから選ばれた1種または2種以上であ
るカチオン重合性有機材料組成物の安定剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11632695A JP3566397B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11632695A JP3566397B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08283320A true JPH08283320A (ja) | 1996-10-29 |
| JP3566397B2 JP3566397B2 (ja) | 2004-09-15 |
Family
ID=14684212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11632695A Expired - Fee Related JP3566397B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3566397B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004323642A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Riso Kagaku Corp | カチオン重合性組成物及びインク |
| WO2006022153A1 (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-02 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | カチオン重合性組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びカチオン重合性組成物の製造方法 |
| EP2184173A1 (en) | 2008-11-11 | 2010-05-12 | Konica Minolta IJ Technologies, Inc. | Image forming apparatus |
| WO2011021598A1 (ja) | 2009-08-19 | 2011-02-24 | 国立大学法人茨城大学 | 透明含フッ素重合物 |
| US8344097B2 (en) | 2006-06-20 | 2013-01-01 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Cationically polymerizable composition and method for controlling cationic polymerization |
| WO2014024663A1 (ja) * | 2012-08-09 | 2014-02-13 | 横浜ゴム株式会社 | 硬化剤組成物およびこれを含有するエポキシ樹脂組成物 |
| CN107075231A (zh) * | 2014-10-24 | 2017-08-18 | 西门子公司 | 浸渍树脂、导体装置、电线圈和电机 |
| JPWO2022113981A1 (ja) * | 2020-11-26 | 2022-06-02 | ||
| WO2023200018A1 (ja) | 2022-04-15 | 2023-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム |
-
1995
- 1995-04-17 JP JP11632695A patent/JP3566397B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004323642A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Riso Kagaku Corp | カチオン重合性組成物及びインク |
| WO2006022153A1 (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-02 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | カチオン重合性組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びカチオン重合性組成物の製造方法 |
| US7417075B2 (en) | 2004-08-26 | 2008-08-26 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Cationically polymerizable composition, actinic radiation curable ink-jet ink, and production method of cationically polymerizable composition |
| US8344097B2 (en) | 2006-06-20 | 2013-01-01 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Cationically polymerizable composition and method for controlling cationic polymerization |
| EP2184173A1 (en) | 2008-11-11 | 2010-05-12 | Konica Minolta IJ Technologies, Inc. | Image forming apparatus |
| WO2011021598A1 (ja) | 2009-08-19 | 2011-02-24 | 国立大学法人茨城大学 | 透明含フッ素重合物 |
| WO2014024663A1 (ja) * | 2012-08-09 | 2014-02-13 | 横浜ゴム株式会社 | 硬化剤組成物およびこれを含有するエポキシ樹脂組成物 |
| CN107075231A (zh) * | 2014-10-24 | 2017-08-18 | 西门子公司 | 浸渍树脂、导体装置、电线圈和电机 |
| US10563007B2 (en) | 2014-10-24 | 2020-02-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Impregnating resin, conductor arrangement, electrical coil and electrical machine |
| JPWO2022113981A1 (ja) * | 2020-11-26 | 2022-06-02 | ||
| WO2022113981A1 (ja) * | 2020-11-26 | 2022-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 偏光板および画像表示装置 |
| US20230296820A1 (en) * | 2020-11-26 | 2023-09-21 | Fujifilm Corporation | Polarizing plate and image display device |
| WO2023200018A1 (ja) | 2022-04-15 | 2023-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3566397B2 (ja) | 2004-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1087262B1 (en) | Energy-ray curing resin composition | |
| JPH055006A (ja) | カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法 | |
| JPS58198532A (ja) | 硬化性組成物 | |
| JPH08283320A (ja) | カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法 | |
| JP5059634B2 (ja) | 液状硬化性組成物およびその硬化物 | |
| JPH1095833A (ja) | 感光性で再加工可能なカプセル材 | |
| JPH10287643A (ja) | 新規オニウム塩、光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH06345726A (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JPH0237924B2 (ja) | Netsukokaseisoseibutsu | |
| JPH107649A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JP2023110567A (ja) | 化合物、硬化性組成物、化合物の製造方法 | |
| EP2944634A1 (en) | Highly soluble tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate and method for producing same | |
| EP0511405A1 (en) | Cationically polymerizable organic material composition and stabilization of said composition | |
| JP3424772B2 (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JP2024094106A (ja) | エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JP3402520B2 (ja) | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH0641215A (ja) | カチオン発生剤溶液 | |
| JPS6112725A (ja) | 光重合性エポキシ樹脂組成物 | |
| JPH10204083A (ja) | 新規スルホニウム塩、光重合開始剤、エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH09278813A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH06271532A (ja) | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| JPH0725863A (ja) | 新規オニウム塩化合物および重合開始剤 | |
| US20050250929A1 (en) | Ferrocenium-derived catalyst for cationically polymerizable monomers | |
| JP2000007684A (ja) | ジアリールヨードニウム塩型反応開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 | |
| JPH09143212A (ja) | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040323 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040414 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20040518 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040610 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |