JPH08290112A - ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤で安定化されたコーティングおよび記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤で安定化さ
れたコーティングおよび記録材料を提供する。 【解決手段】次式 【化１】 ［式中、Ｒ₁ は水素原子を表し、Ｒ₂ は炭素原子数８な
いし１２のアルキル基を表すか、もしくは−Ｃ_m Ｈ_2mＣ
ＯＯＲ₄ （式中、ｍは２を表し、Ｒ₄ は炭素原子数１な
いし１２のアルキル基を表す。）を表し、およびＲ₃ は
α−クミル基を表す。］で表されるベンゾトリアゾール
紫外線吸収剤よりなるポリマーフィルム組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は選択されたベンゾト
リアゾール紫外線吸収剤の存在により破滅的な破壊に対
して保護されたポリマーコーティングもしくは記録組成
物に関する。

【０００２】

【従来の技術】米国特許第４２７８５８９号は２−（２
−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三−オクチルフ
ェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールおよび２−（２−
ヒドロキシ−３−第三−オクチル−５−α−クミルフェ
ニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの製造法を開示して
いる。米国特許第４２７８５８９号はまた、２−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミル−フェニル）−２
Ｈ−ベンゾトリアゾールの製造を開示している。この後
者の化合物は非常に効果的な紫外線吸収剤であるが、し
かし残念なことに相対的に不溶性であって、キシレン中
に約１４％（重量％）程度のみ溶解する。かかる芳香族
溶媒は環境問題のために禁止されるおそれがあるので、
２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの一般的な光安定化有
効性を有し、かつ環境的に認められた溶媒に溶解しうる
効果的なベンゾトリアゾールの入念な研究が要求されて
いる。

【０００３】特開昭５０−１５８５８８号は、２−（２
−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−メチルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの製造法および２−（２−
ヒドロキシ−３−メチル−５−α−クミルフェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾールを効果的な紫外線吸収剤とし
て開示している。

【０００４】米国特許第４２８３３２７号は２−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第三−オクチルフェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾールおよび５−クロロ−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三−オクチルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの製造を開示している。米
国特許第４５８７３４６号、同第４６７５３５２号、同
第４９７３７０１号、同第５０９５０６２号および同第
５２４０９７５号は、高級アルケンおよび酸触媒を使用
する予備形成されたベンゾトリアゾールの後アルキル化
による、液体ベンゾトリアゾール混合物の製造を開示し
ている。かかる生成物は種々の関連するベンゾトリアゾ
ールの錯液体混合物であり、また環境的に受け入れられ
る溶媒に溶解する。

【０００５】しかしながら、これらの紫外線吸収剤は、
環境的に受け入れられる溶媒に非常に可溶である一方
で、それらは３位においてα−クミル部分により置換さ
れたベンゾトリアゾール化合物の熱的安定性を有しな
い。

【０００６】本発明のベンゾトリアゾール化合物は３位
においてα−クミル基で置換され、そして５位において
アルキル基、もしくはカルボキシアルキル基により置換
されたアルキル基のいずれかにより置換されている。こ
れらの物質は、単純なアルキル基で官能的にされたトリ
ス−アリール−ｓ−トリアジンよりも、慣用のコーティ
ング溶媒中に良く溶解する。慣用のコーティング溶媒に
は、キシレン、メチルアミルケトン、ブチルセルロー
ス、ブチルカルビトールおよびメチルイソブチルケトン
が含まれる。高分子量の化合物との組み合わせによるこ
の官能性は、クリアーコート／ベースコート系のベース
コートに混和された場合に、本発明の化合物に低い移行
性傾向を与える。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フェ
ニル環の３位においてα−クミル部分により置換された
選択された溶解性ベンゾトリアゾールを基材中に混和す
ることにより、電着コート／ベースコート／クリアーコ
ート系を基材からの離層に対して保護するための方法を
提供することである。

【０００８】本発明の他の目的は、フェニル環の３位に
おいてα−クミル部分により置換された選択された溶解
性ベンゾトリアゾールを使用することにより、化学線の
劣化作用に対して安定化された記録材料を提供すること
である。

【０００９】注目されることは、自動車用ペイントおよ
びコーティングへの要求は、ここ数年間で劇的な変化を
とげてきたことである。これは、いくつかの芳香族炭化
水素溶媒の使用についての環境問題の高まりと結びつい
て、いくつかの大変困難な挑戦に対し新たな解決法を見
いだすように、当該産業に大きな圧力を加えてきた。

【００１０】ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤は、この
領域において長いこと大黒柱的存在にあり、２−［２−
ヒドロキシ−３，５−ジ（α−クミル）フェニル］−２
Ｈ−ベンゾトリアゾールは提供されているベンゾトリア
ゾール紫外線吸収剤の主力でありかつ主要(eptimony)な
ものである。残念なことに、この化合物は、トルエンも
しくはキシレン中においてのみ、限られた溶解性（約１
４重量％）を有し、そして環境的により優しい溶媒中に
ゆるやかに溶解する。芳香族溶媒は、環境問題のため禁
止の途上にあるので、これは厳しい制限となっている。
加えて、芳香族溶媒中の前記化合物の相対的に低い溶解
性は、コーティング系に加えられ得るベンゾトリアゾー
ル紫外線吸収剤の全濃度を制限している。自動車用仕上
げ剤に要求される寿命は２倍であるので、前記ベンゾト
リアゾールの低い溶解度は実際の障害となっている。

【００１１】幸せなことに、溶解性でありまた熱的に安
定なベンゾトリアゾール紫外線吸収剤、主として、２−
（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三−オクチ
ルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの新しい結晶
変態が存在し、それは２−［２−ヒドロキシ−３，５−
ジ（α−クミル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ルと同一の低揮発性および優れた光安定性効果を有する
環境に優しい溶媒に溶解し、自動車用仕上げ剤中に該仕
上げ剤に要求される新たに延長された寿命を十分に満た
す高い濃度で加えられる。これは実施例において示され
る。

【００１２】かかる環境に優しい溶媒は、例えば酢酸エ
チル、イソプロピルアセテート、ブチルアセテート、イ
ソブチルアセテート、アミルアセテート、プロピルアセ
テート、オキソヘキシルアセテート、オキソ−オクチル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリ
コールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｔ
−ブチルエーテル、ｎ−アミルプロピオネート、ジイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケ
トン、メチルアミルケトン、ジイソアミルケトン、メチ
ルヘキシルケトン、エタノール、２−エチルヘキサノー
ル、ジアセトンアルコール、エチルアミルアルコール、
プロパノール、イソブタノール、イソトリデシルアルコ
ール、ブトキシエトキシプロパノール、イソブチルイソ
ブチレート、グルタル酸ジメチルエステル、３−メトキ
シ−ｎ−ブチルアセテート、ｎ−アミルプロピオネート
である。

【００１３】新規な組成物はまた、付加的に有効安定量
のトリス−アリール−ｓ−トリアジン、ヒンダートアミ
ンもしくはベンゾフラン−２−オン光安定剤もしくはそ
れらの混合物を含有する組成物に関する。

【００１４】好ましい組成物は、付加的に有効安定量の
２，４−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−６−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ
−トリアジン、２，４−ビス−（２，４−ジメチルフェ
ニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−［３−（ペンタデ
シルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ］−ｓ−トリ
アジン、ビス−（１−オクチルオキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジニ−４イル）セバケート、ビス
−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４
イル）セバケート、Ｎ−１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジニ−４イル−ｎ−ドデシルコハク酸イミ
ド、もしくはＮ−１−アセチル−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジニ−４イル−ｎ−ドデシルコハク酸イ
ミドを含有している。

【００１５】該コーティング系により安定化された有機
材料はポリマーフィルムであり、それは例えば、アクリ
ル／メラミン樹脂、ポリエステル／メラミン樹脂、アク
リル／ウレタン樹脂、ポリエステル／ウレタン樹脂、エ
ポキシ／酸樹脂もしくはシロキサン変性アクリル樹脂で
ある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）金属基
材に接着している電着コートプライマー、（ｂ）電着コ
ートに接着し、またフィルム形成バインダーおよび有機
顔料もしくは無機顔料またはそれらの混合物を含んでい
るベースコートもしくはカラーコート、（ｃ）ベースコ
ートに接着し、またフィルムコーティングバインダーを
含んでいるクリアーコート、および（ｄ）ベースコート
もしくはクリヤーコートのいずれか、またはベースコー
トおよびクリヤーコートの双方、好ましくはクリヤーコ
ートに、次式Ｉ

【化３】 ［式中、Ｒ₁ は水素原子もしくは塩素原子を表し、Ｒ₂
は炭素原子数４ないし２８のアルキル基もしくは−Ｃ_m
Ｈ_2mＣＯＯＲ₄ （式中、ｍは１ないし４を表し、および
Ｒ₄ は水素原子もしくは炭素原子数１ないし１８のアル
キル基を表す。）を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を
表す。］で表される少なくとも１つのベンゾトリアゾー
ル紫外線吸収剤からなる、ベンゾトリアゾールを含有す
るコートの１ないし２０重量％のフィルム形成バインダ
ーよりなるポリマーフィルム組成物に関する。

【００１７】

【発明の実施の形態】好ましくはＲ₁ は水素原子を表
し、Ｒ₂ は炭素原子数８ないし１２のアルキル基を表す
か、もしくは−Ｃ_m Ｈ_2mＣＯＯＲ₄ （式中、ｍは２を表
し、Ｒ₄ は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
す。）を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を表す。

【００１８】最も好ましくはＲ₁ は水素原子を表し、Ｒ
₂ は第三−オクチル基、ノニル基もしくはドデシル基を
表し、およびＲ₃ はα−クミル基を表す。非常に好まし
くはＲ₁ は水素原子を表し、Ｒ₂ は第三−オクチル基を
表し、およびＲ₃ はα−クミル基を表す。

【００１９】炭素原子数１ないし１８のアルキル基は、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデ
シル基、ヘキサデシル基およびオクタデシル基、および
相当する枝分かれ異性体を表す。

【００２０】上記のポリマーフィルム組成物はまた付加
的な層を、電着コートプライマーとベースコートもしく
はカラーコート間に含有し、この付加的な層は（ｉ）フ
ィルム形成バインダーおよび有機顔料もしくは無機顔料
またはそれらの混合物、および（ｉｉ）少なくとも１つ
の溶解性および熱的に安定な式Ｉのベンゾトリアゾール
紫外線吸収剤を含んでいる。さらに、この付加的な層は
また有効安定量のヒンダードアミン光安定剤を含有して
いる。

【００２１】本発明に従い光および湿気の作用に対して
安定化され得るコーティングは、例えば、特に、自動車
をコーティングするために使用される、慣用のアルキド
樹脂焼き付けラッカー（自動車用仕上げラッカー）、例
えばアルキド／メラミン樹脂およびアルキド／アクリル
／メラミン樹脂をベースとするラッカー（H.Wagner and
H.F.Sarx " Lackkunstharze(1977),pages 99-123 参
照) である。他の架橋剤にはグリコウリル樹脂(glycour
il resins)、ブロックドイソシアネートもしくはエポキ
シ樹脂が含まれる。

【００２２】本発明に従って安定化されたラッカーは金
属仕上げコーティングおよびソリッドシェード仕上げの
双方に適しており、特に仕上げの修正を行う場合、並び
に種々のコイルコーティング塗装に適している。本発明
により安定化されたラッカーは好ましくは、２つの方法
により、１−コート方法もしくは２−コート方法のいず
れかによる慣用の方法により塗布される。後者の方法の
場合、顔料含有ベースコートが最初に塗布されそしてそ
の後に、その上にクリヤーラッカーの被覆コートが塗布
される。

【００２３】また、注目すべきことは、本発明のコーテ
ィングは、酸触媒されていない、熱硬化性樹脂、例えば
所望によりシリコン、イソシアネートもしくはイソシア
ヌレートで変性されている、エポキシ樹脂、エポキシ−
ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、アルキド樹脂、アクリ
ル樹脂およびポリエステル樹脂であることにもまた注目
されるべきである。エポキシ樹脂およびエポキシ−ポリ
エステル樹脂は慣用の架橋剤、例えば酸、酸無水物、ア
ミン等で架橋される。同様に、エポキシドは、主鎖構造
上の反応基の存在により変性された種々のアクリル樹脂
もしくはポリエステル樹脂系のための架橋剤として使用
される。

【００２４】２−コート仕上げに使用された場合、本発
明の化合物はクリアーコート中、もしくはクリアーコー
ト中および着色ベースコート中に混和され得る。

【００２５】最大の光安定化を得るために、他の慣用の
光安定剤の併用が都合よい。該安定剤の例はベンゾフェ
ノン、ベンゾトリアゾール、シアノアクリレートもしく
はオキサニリドタイプの紫外線吸収剤、もしくは金属含
有光安定剤、例えば有機ニッケル化合物、またはヒンダ
ードアミン光安定剤である。２−コート系において、こ
れらの付加的な光安定剤がクリアーコート中にまたはク
リアーコートおよび着色ベースコート中の双方に加えら
れ得る。

【００２６】一般に、本発明の化合物は、フィルム形成
バインダーの約１ないし約２０重量％で使用される。都
合の良い範囲は１ないし５％、好ましくは１．５ないし
５％である。

【００２７】得られる安定化された本発明の組成物はま
た所望により約０．０１ないし約５重量％、好ましくは
約０．０２５ないし約２重量％、および特に約０．１な
いし約１重量％の種々の慣用の添加剤、例えば以下に列
記される材料、もしくはそれらの混合物を含有する。

【００２８】他の特に興味のある組成物には、ベンゾフ
ェノン、ベンゾトリアゾール、シアノアクリル酸誘導
体、ヒドロキシアリール−ｓ−トリアジン、有機ニッケ
ル化合物およびオキサニリドよりなる群より選択された
紫外線吸収剤を付加的に含有する組成物が含まれる。

【００２９】好ましい紫外線吸収剤は、２［２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）フェ
ニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジ−第三−アミルフェニル）−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール、２［２−ヒドロキシ−３−第三−ブチ
ル−５−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）
カルボニル）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール、２［２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−
（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール、４，４’−ジオクチルオキ
サニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ
−第三−ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオ
キシ−５，５’−ジ−第三−ブチルオキサニリド、２−
エトキシ−２’エチルオキサニリド、２，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２−ヒドロキシ
−４−オクチルオキシフェニル−ｓ−トリアジン、２，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２，４
−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビ
ス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロ
ロフェニル）−、２，６−ビス（２，４−ジメチルフェ
ニル）−４−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
−３−ドデシルオキシプロパノキシ）フェニル］−ｓ−
トリアジンおよび２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−
ジメトキシベンゾフェノンである。

【００３０】付加的な興味のある組成物には、付加的に
有効安定化量のフェノール系抗酸化剤を含む組成物、付
加的にヒンダードアミン誘導体を含む組成物、もしくは
付加的にホスフィットもしくはホスホナイト安定剤を含
む組成物が含まれる。

【００３１】特に興味のある組成物にはまた、有機材料
が工業用仕上げに使用される高固形分のエナメルである
組成物、有機材料がコイル被覆として使用される組成
物、有機材料が含浸木材仕上げとして使用される組成物
もしくはフィルム形成木材仕上げとして使用される組成
物が含まれる。

【００３２】本発明の化合物がまた反応官能基を含んで
いる場合、前記化合物は、縮合もしくはフリーラジカル
付加反応により化学的にポリマー基材に結合され得る。
これにより非移行性、非昇華性の、紫外線吸収剤安定剤
が与えられる。該反応官能基にはヒドロキシル基、カル
ボキシル基およびエチレン性不飽和部分が含まれる。

【００３３】得られる安定化された本発明のポリマー組
成物は所望により、約０．０１ないし約５％、好ましく
は約０．０２５ないし約２％、特には約０．１ないし約
１重量％の種々の慣用の添加剤、例えば以下に列記され
る材料もしくはそれらの混合物を含む。

【００３４】１．抗酸化剤の例 １．１．アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−エチルフェノール、２−第三ブチル−
４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−第二ブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチル
−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキ
シル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオク
タデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシ
クロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−メトキシメチルフェノール、

【００３５】１．２．アルキル化ハイドロキノン、例え
ば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ
−第三−アミル−ハイドロキノン、及び２，６−ジフェ
ニル−４−オクタデシルオキシフェノール。

【００３６】１．３．ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、及び４，４′−チオビ
ス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）。

【００３７】１．４．アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−第二ブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ジ−（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシル
メルカプタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス
（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチ
レート] 、ジ−（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、及びジ−
［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−
メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニ
ル］テレフタレート。

【００３８】１．５．ベンジル化合物、例えば１，３，
５−トリ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
スルフィド、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビス
−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチ
ルベンジル）−ジチオールテレフタレート、１，３，５
−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアネート、１，３，５−トリス−（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）イソシアヌレート、３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル−ホスホン酸ジオクタデシル、及
び３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−
ホスホン酸モノエチルのカルシウム塩。

【００３９】１．６． アシルアミノフェノール、例え
ば４−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド、４−ヒドロキ
シ−ステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメ
ルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシアニリノ）−ｓ−トリアジン、及びＮ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルカ
ルバミン酸オクチル。

【００４０】１．７． β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価
または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、ネ
オペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタ
エリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌ
レート、またはジヒドロキシエチルオキサニル酸ジアミ
ド。

【００４１】１．８． β−（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の
一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソ
シアヌレート、またはジヒドロキシエチルオキサニル酸
ジアミド。

【００４２】１．９．β−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例え
ばＮ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン
または、Ｎ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００４３】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾールの誘導体 、例えば、５’−メチル、３’，
５’−ジ−第三ブチル−、５’−第三ブチル−、５’−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −、５−クロ
ロ−３’−第三ブチル−、５−クロロ−３’−第三−ブ
チル−５’−メチル−、３’−第二−ブチル−５’−第
三−ブチル−、４’−オクトキシ−、３’，５’−ジ−
第三アミル−、３’，５’−ビス−（α，α−ジメチル
ベンジル）、３’−第三−ブチル−５’−（２−（オメ
ガ−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニ
ル−エチル）−、３’−ドデシル−５’−メチル、およ
び３’−第三−ブチル−５’−（２−（オクチルオキシ
カルボニル）エチル−、およびドデシル化−５’−メチ
ル誘導体。

【００４４】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ンの誘導体、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ
−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデ
シルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′
−トリヒドロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′
−ジメトキシ誘導体。

【００４５】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えばフェニル＝サリチレート、４−第
三ブチルフェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート。

【００４６】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。

【００４７】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。

【００４８】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（ヒドロキ
シエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンとの
縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，
１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，
５−テトラメチルピペラジノン）。

【００４９】２．７． 蓚酸ジアミド、例えば４，４′
−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジオクチ
ルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，
２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサ
ニリド、２−エトキシ−２′−エトキサニリド、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミ
ド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキ
サニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル
−５，４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物，ｏ−
およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およ
びｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

【００５０】２．８． ヒドロキシフェニル−Ｓ−トリ
アジン、例えば２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル) −４−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェ
ニル）−Ｓ−トリアジン、２，６−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル) −４−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル)−６−（４−クロロフェニル）−、２，４−ビス
［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−６−（４−クロロフェニル）−Ｓ−トリアジ
ン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロ
キシエトキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル］−６−（２，４−ジメチルフェニル）−Ｓ−トリア
ジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニ
ル）−Ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ
−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−
（４−クロロフェニル）−Ｓ−トリアジン、２，４−ビ
ス（２，４−ジ−ヒドロキシフェニル）−６−（２，４
−ジメチルフェニル）−、２，４−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−６−｛２−ヒドロキシ−４［３−（２
−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキ
シ］フェニル｝−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−６−｛２−ヒドロキシ−４
［３−（ペンタデシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポ
キシ］フェニル｝−ｓ−トリアジン。

【００５１】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド。

【００５２】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ジ（２，４
−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフ
ィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト。

【００５３】５． 過酸化物分解化合物、例えばβ−チ
オジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステア
リル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプ
トベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイ
ミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜
鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトー
ルテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネー
ト。

【００５４】６．ヒドロキシルアミン、例えば水素化牛
脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロ
キシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ
−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシル
アミン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。

【００５５】７．ニトロン、例えば、水素化牛脂アミン
より誘導されたＮ−ベンジル−アルファ−フェニルニト
ロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オ
クチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−
アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−ア
ルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アル
ファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アル
ファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アル
ファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アル
ファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒド
ロキシアミンより誘導されたニトロン。

【００５６】８． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。

【００５７】９． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、
リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸Ｋ塩、ピロカテ
コールアンチモン塩およびピロカテコール錫塩。

【００５８】１０．核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。

【００５９】１１．充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオ
リン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および金属水酸
化物、カーボンブラック、グラファイト。

【００６０】１２．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、蛍光増白剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤およびチオシネルギスト、例えばジラウリルチオ
プロピオネートもしくはチオジプロピオネート。

【００６１】特に興味のあるフェノール系紫外線吸収剤
は、以下の群より選択される。ｎ−オクタデシル３，５
−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト、ネオペンタテトライルテトラキス（３，５−ジ−第
三−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ジ
−ｎ−オクタデシル３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、チオジエチレンビス（３，５−
ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、３，６−ジオキサオクタメチレンビス
（３−メチル−５−第三−ブチル−４−ヒドロキシシン
ナメート）、２，６−ジ−第三−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三−
ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（２，６−ジ
メチル−４−第三−ブチル−３−ヒドロキシ−ベンジ
ル）イソシアヌレート、１，１，３−トリス（２−メチ
ルヒドロキシ−５−第三−ブチルフェニルブタン、１，
３，５−トリス［２−（３，５−ジ−第三−ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナモイル）エチル］イソシアヌ
レート、３，５−ジ−（３，５−ジ−第三−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）メジトール、ヘキサメチレンビ
ス（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシヒドロ
シンナメート）、１−（３，５−ジ−第三−ブチル−４
−ヒドロキシアニリノ）−３，５−ジ（オクチルチオ）
−ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ，’−ヘキサメチレン−ビス
（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
ンナマイド、カルシウムビス（エチル３，５−ジ−第三
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホネート）、
エチレンビス［３，３−ジ（３−第三−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）ブチレート］、オクチル（３，５−
第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセ
テート、ビス（３，５−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ヒドロシンナモイル）ヒドラジド、およびＮ、Ｎ’−ビ
ス［２−（３，５−第三−ブチル−４−ヒドロキシヒド
ロシンナモイル）−エチル］−オキサミド

【００６２】最も好ましいフェノール系抗酸化剤は、ネ
オペンタンテトライルテトラキス（３，５−第三−ブチ
ル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−オクタ
デシル３，５−第三−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
ンナメート）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−
トリス（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−
第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ
ート、２，６−ジ−第三ブチル−ｐ−クレゾールもしく
は２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチ
ルフェノール）である。

【００６３】特に興味のあるヒンダードアミンは以下の
群より選択される。ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）セバ
ケート、ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリ
ジニ−４−イル）（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ブチルマロネート、４−ベンゾイル
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステ
アリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザ−スピロ［４．５］デカン−
２，４−ジオン、トリス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−ピペリジニ−４−イル）ニトロトリアセテート、
１，２−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−３−オ
キソピペラジニ−４−イル）エタン、２，２，４，４−
テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２１−
オキソジスピロ［５．１．１１．２］ヘネイコサン、
２，４−ジクロロ−６−ｔ−オクチルアミノ−ｓ−トリ
アジンと４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン）の縮合生成物、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合
生成物、４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン）と１，２−ブロ
モエタンの縮合生成物、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジニ−４−イル）１，２，３，４−
ブタンテトラカルボキシレートの縮合生成物、テトラキ
ス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４
−イル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
トの縮合生成物、２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−
ｓ−トリアジンおよび４，４’−ヘキサメチレンビス
（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）
の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキ
ス［（４，６−ビス（ブチル−２，２，６，６−テトラ
メチル−ピペリジニ−４−イル）−アミノ−ｓ−トリア
ジニ−２−イル］−１，１０−ジアミノ−４，７−ジ−
アザデカン、混合された［２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニ−４−イル／β，β，β’，β’−テトラ
メチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ［５．５］−ウンデカン）ジエチル］１，２，３，
４−ブタンテトラカルボキシレート、混合された［１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル／
β，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，
４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデ
カン）ジエチル］１，２，３，４−ブタンテトラカルボ
キシレート、オクタメチレンビス（２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジニ−４−カルボキシレート）、４’
４’−エチレンビス（２，２，６，６−テトラメチルピ
ペラジン−３−オン）、Ｎ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジニ−４−イル−ｎ−ドデシル−スクシンイ
ミド、Ｎ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ニ−４−イル−ｎ−ドデシル−スクシンイミド、Ｎ−１
−アセチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
−４−イル−ｎ−ドデシル−スクシンイミド、１−アセ
チル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−
１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４
−ジオン、ジ−（１−オクチルオキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ジ
−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジニ−４−イル）スクシネート、１−オ
クチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキ
シ−ピペリジン、ポリ−｛［６−第三オクチルアミノ−
ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］［２−（１−シクロ
ヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジニ−４−イル）イミノ−ヘキサメチレン−［４−（１
−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニ−４−イル）イミノ］］｝、２，４，６−
トリス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）−ｎ−ブ
チルアミノ］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［Ｎ−
（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジニ−４−イル）−ｎ−ブチルアミノ］−
６−［ジ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−ｓ−ト
リアジン、および２，４−ビス［Ｎ−（１−オクチルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−
イル）−ｎ−ブチルアミノ］−６−［ジ−（２−ヒドロ
キシエチル）アミノ］−ｓ−トリアジン。

【００６４】最も好ましいヒンダードアミンは以下の群
より選択される。ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）セバ
ケート、ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリ
ジニ−４−イル）（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ブチルマロネート、１−（２−ヒド
ロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合生成物、２，４
−ジクロロ−６−第三−オクチルアミノ−ｓ−トリアジ
ンと４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン）の縮合生成物、Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス［（４，６−ビス
（ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ
−４−イル）−アミノ−ｓ−トリアジニ−２−イル］−
１，１０−ジアミノ−４，７−ジアザデカン、ジ−（１
−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジニ−４−イル）セバケート、ジ−（１−シクロヘキ
シルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
−４−イル）スクシネート、１−オクチル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ−ピペリジン、
ポリ−｛［６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン−
２，４−ジイル］［２−（１−シクロヘキシルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）
イミノ−ヘキサメチレン−［４−（１−シクロヘキシル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４
−イル）イミノ］］｝もしくは２，４，６−トリス［Ｎ
−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジニ−４−イル）−ｎ−ブチルアミノ］
−ｓ−トリアジン。

【００６５】本発明において使用されるベンゾトリアゾ
ールは慣用の方法および知られている方法により製造さ
れる。かかる方法は以下の実施例１ないし９におおいて
与えられる。

【００６６】１０９ないし１１１℃の範囲内で溶融し、
かつＣｕ−Ｋα線を使用して得られるＸ線回折図（以下
のような回折角（２θ）を示す。）を有する

【表１】 ２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三−オ
クチル−第三−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾールの結晶変態は、前記化合物を芳香族溶媒中に溶
解しそして低級アルコールの添加により該化合物を沈殿
させることにより、または低級アルカノールのみもしく
は少量の芳香族溶媒を伴う低級アルカノールより該化合
物を結晶化させるかもしくは再結晶化させることにより
得られる。

【００６７】好ましくは、プロセスは前記化合物を炭素
原子数１ないし４のアルカノールのみから、または少量
の芳香族溶媒を伴う炭素原子数１ないし４のアルカノー
ルから結晶化させるかもしくは再結晶させることよりな
る。

【００６８】上記のプロセスにおいて使用され得る芳香
族溶媒は、例えば、トルエンもしくはキシレンである。
少量にて使用する場合、その量は例えば、使用される全
溶媒の１５容積％まで、もしくは好ましくは５ないし１
５容積％である。

【００６９】本発明のプロセスにおいて有用な、いくつ
かのアルカノールは、例えば、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノ
ール、第二−ブチルアルコールもしくはイソブチルアル
コールである。好ましくはアルカノールは、炭素原子数
が２、３もしくは４のアルカノールであり、最も好まし
くはイソプロパノールもしくは１−ブタノールである。

【００７０】本発明のさらに別の側面は、本発明の式Ｉ
の化合物の記録材料への応用である。本発明の記録材料
は、感圧コピー系、マイクロカプセルを使用するフォト
コピー系、感熱コピー系、写真材料およびインクジェッ
ト印刷に適している。

【００７１】本発明の記録材料は、品質特に光に対する
堅牢度に関して予期されていない改良特徴を有する。

【００７２】本発明の記録材料は特定の用途に知られて
いる構成を有する。それらは慣用のキャリアー、例えば
１もしくはそれよりも多くの層でコートされた紙もしく
はプラスチックフィルムを含む。材料のタイプによる
が、これらの層は適当な必要な成分、例えば写真材料の
場合、例えばハロゲン化銀エマルジョン、染料カップラ
ー、染料等を含む。インクジェット印刷に特に適してい
る材料は、慣用のキャリアー上にインクを特に吸収する
層を有する。コートされていない紙もまたインクジェッ
ト印刷に使用され得る。この場合紙は同時にキャリアー
材料としてまたインク−吸収層として働く。インクジェ
ット印刷に適した材料は、例えば米国特許第５０７３４
４８号（参考文献として組み込まれている。）において
記載されている。

【００７３】記録材料はまた、例えば映写用フィルムの
場合、透明であり得る。

【００７４】紙の製造において、例えば、紙パルプに加
えることにより、式Ｉの化合物はキャリアー材料中にキ
ャリアー材料の製造と同時に混和され得る。２つ目の適
用方法は、キャリアー材料に式Ｉの化合物の水溶液を噴
霧することもしくは式Ｉの化合物をコーティング組成物
に加えることである。

【００７５】映写に適した透明の記録材料を意図したコ
ーティング組成物は、光を散乱する粒子、例えば顔料お
よび充填剤のいずれも含むことができない。

【００７６】染料−結合コーティング組成物は多くの他
の添加剤、例えば抗酸化剤、光安定剤（本発明の紫外線
吸収剤に属さない、紫外線吸収剤を含む）、粘度指数向
上剤、蛍光増白剤、有害生物防除剤および／もしくは帯
電防止剤を含み得る。

【００７７】コーティング組成物は通常以下のようにし
て製造される。水溶性成分、例えばバインダーを水に溶
解しそして一緒に攪拌する。ソリッド成分、例えば既に
記載した充填剤および他の添加剤を、この水性媒体に分
散させる。分散は都合よくは、装置手段、例えば超音波
発振機、タービン攪拌機、ホモジナイザー、コロイドミ
ル、ビーズミル、サンドミル、高速攪拌機等を用いて行
われる。コーティング組成物に容易に混和され得る式Ｉ
の化合物が特に都合がよい。

【００７８】本発明の記録材料は好ましくは１ないし５
０００ｍｇ／ｍ² 、特に５０ないし１２００ｍｇ／ｍ²
の式Ｉの化合物を含む。

【００７９】既に記載したように、本発明の記録材料は
広範囲の分野を包含するものである。式Ｉの化合物は、
例えば感圧コピー系において使用される。それらはマイ
クロカプセル化の染料前駆物質を光から保護するために
紙に加えられるか、もしくは形成された染料を保護する
ために発色層のバインダー中に加えられ得る。

【００８０】圧力手段により発色する感光性マイクロカ
プセルを使用する写真コピー系は米国特許第４４１６９
６６号、同第４４８３９１２号、同第４３５２２００
号、同第４５３５０５０号、同第４５３６５４６３号、
同第４５５１４０７号、同第４５６２１３７号および同
第４６０８３３０号、およびヨーロッパ特許庁公開公報
第１３９４７９号、同第１６２６６４号、同第１６４９
３１号、同第２３７０２４号、同第２３７０２５号もし
くは同第２６０１２９号において開示されている。全て
のこれらの系において、式Ｉの化合物は染料受容体層
（dye-receiving layer)に加えられ得る。しかしなが
ら、カラー形成剤（colour formers) を光から保護する
ために、式Ｉの化合物はまたドナー層に加えられ得る。

【００８１】安定化され得る写真材料は、染料もしくは
それらの前駆物質を含む写真染料および写真層、例えば
写真紙および写真フィルムである。適した材料は、例え
ば米国特許第５３６４７４９（参考文献も含まれる）に
おいて開示されている。式Ｉの化合物はここでは静電フ
ラッシュに対する紫外線フィルターとして働く。カラー
写真材料中のカップラーおよび染料はまた光化学分解に
対してもまた保護され得る。

【００８２】式Ｉの化合物は全てのタイプのカラー写真
材料に使用され得る。例えば、それらはカラー紙、カラ
ー反転紙、直接ポジ型カラー材料、カラーネガフィル
ム、カラーポジフィルム、カラー反転フィルム等に使用
され得る。それらは好ましくは特に、反転基材を含むか
もしくはポジを形成する写真カラー材料に使用される。

【００８３】カラー写真記録材料は通常、支持体上に、
青色感光性層および／もしくは緑色感光性層および／も
しくは赤色感光性ハロゲン化銀エマルジョン層、並びに
所望により保護層を含み、式Ｉの化合物は好ましくは緑
色感光性層もしくは赤色感光性層にまたは緑色感光性層
と赤色感光性層の間の層にあるか、あるいは最上のハロ
ゲン化銀エマルジョン層の上の層にある。

【００８４】式Ｉの化合物はまた、光重合化、光可塑化
もしくはマイクロカプセルの破裂の原理に基づいてまた
は感熱性および感光性ジアゾニウム塩、酸化剤を有する
ロイコ染料もしくはルイス酸を有する染料ラクトンが使
用される場合に、記録材料中において使用される。

【００８５】さらに、それらは染料拡散トランスファー
印刷、サーマルワックストランスファー印刷およびドッ
トマトリックス印刷のためにまた静電印刷機、電送写真
印刷機、電気泳動印刷機、マグネトグラフ印刷機(magne
tografic )、レーザー電送写真印刷機 (laser-electrop
hotographic printers) およびペンプロッターを用いた
使用のために記録材料中で使用され得る。上記の中、染
料拡散トランスファー印刷のための記録材料が好まし
く、例えばヨーロッパ特許庁公開公報第５０７７３４号
において開示されている。

【００８６】式Ｉの化合物はまたインク、好ましくはイ
ンクジェット印刷であり、例えばさらに、米国特許第５
０９８４７７号（参考文献として組み込まれている。）
において記載されている。従って、他の本発明の目的
は、安定剤として少なく１つの式Ｉの化合物を含有する
インクである。特にインクジェット印刷のためのインク
であり、好ましくは水を含有している。０．０１ないし
２０重量％、特に０．５ないし１０重量％の式Ｉの安定
剤を含有するインクがまた好ましい。

【００８７】Ｘ−線回折図は、Ｃｕ−Ｋα照射とニッケ
ルフィルターを使用する、フィリップスノレルコＸ線回
折ユニット（Philips Norelco X-ray Diffractometer u
nit)上で測定された。全ての試料は４０ないし７５ミク
ロンの均質の粒子サイズを有する。これは従来技術の実
施例２の化合物で得られた粒子サイズ分布と同一であ
る。

【００８８】以下の実施例は本発明の説明の目的のため
にのみ与えられ、またいかなる方法によっても本発明の
本質および範囲を限定するものと解してはならない。

【００８９】実施例１ないし９の製造 実施例１：２−（２ヒドロキシ−３−α−クミル−５−
第三−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 攪拌機、温度計、還流凝縮機および窒素入れ口を取りつ
けた５リットルの３口フラスコに、２−ニトロ−２’−
ヒドロキシ−３’−α，α−ジメチルベンジル−５’−
第三−オクチルアゾベンゼン３８０ｇ（０．８モル）お
よびトルエン１２００ｍｌを充填した。得られる溶液に
イソプロパノール２４０ｍｌおよび水２４０ｍｌを加え
た。窒素雰囲気に置きそして５０．１％の水酸化ナトリ
ウム水溶液１６０ｍｌを加えた。亜鉛１５８．２ｇ
（２．４２グラム当量）を含有するフラスコを反応フラ
スコに連結させそして亜鉛粉末を、反応混合物に９０分
間に渡って分けて加えた。添加の間内部温度を４０ない
し４５℃の間に維持し、そしてさらに１時間保持し、そ
してその後混合物を３時間７０℃において加熱した。混
合物を室温まで冷却し、そして濃塩酸６００ｍｌで酸性
にした。亜鉛スラッジをろ過により取り除いた。生成物
は有機層中に含まれている。そしてそれを希薄塩酸３４
０ｍｌずつで４回洗浄し、そしてその後無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥させた。有機溶媒を真空下において取り除
いて粘稠なシロップとして粗生成物を得た。３００ｇの
粗生成物をキシレン３００ｍｌ中に溶解した。この溶液
に攪拌しながらエタノール６００ｍｌを加えて、１０９
ないし１１１℃の融点を有し、また薄層クロマトグラフ
ィー中でただ１つのスポットを示す式Ｉの化合物の新規
な結晶変態２５４ｇを得た。 Ｃ₂₉Ｈ₃₅Ｎ₃ Ｏの元素分析 計算値：Ｃ ７８．９ Ｈ ８．０ Ｎ ９．５ 実験値：Ｃ ７８．７ Ｈ ８．１ Ｎ ９．６ この生成物はＣｕ−Ｋα照射を使用して得られたＸ線回
折図（以下に示される回折角（２Θ）を示す。）を有す
るものである。

【表２】

【００９０】実施例２：無定形の２−（２−ヒドロキシ
−３−α−クミル−５−第三−オクチルフェニル）−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール 実施例１において製造された化合物を溶融体になるまで
加熱しそしてその後（放置して）再び固化させた（reso
lidify) 。得られた無定形の材料は５９ないし７４℃の
融点を有していた。薄層クロマトグラフィーは、実施例
１の生成物から得られたスポットと同一のスポットを示
した。Ｘ線回折図は特徴のないパターンを示し、この実
施例において得られた化合物の無定形の性質が確認され
た。

【００９１】実施例３：２−（２−ヒドロキシ−３−α
−クミル−５−ノニルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール 相当するｏ−ニトロアゾベンゼン中間体の還元は接触水
素添加を使用して行うことを除いて、実施例１の一般操
作に従って、表題化合物を琥珀色の樹脂として製造し
た。 Ｃ₃₀Ｈ₃₇Ｎ₃ Ｏの元素分析 計算値：Ｃ ７９．１ Ｈ ８．２ Ｎ ９．２ 実験値：Ｃ ７８．５ Ｈ ８．５ Ｎ ９．０

【００９２】実施例４：２−（２−ヒドロキシ−３−α
−クミル−５−第三−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール 実施例１において使用されたｏ−ニトロアゾベンゼンの
接触水素添加により、表題化合物をオフホワイト色のソ
リッドとして製造した。前記のソリッドの試料１００ｇ
をイソプロパノール１００ｍｌ、次に１９：１のイソプ
ロパノール：トルエン１００ｍｌそして最終的に９：１
のイソプロパノール：トルエン１００ｍｌより再結晶さ
せて、１０９ないし１１１℃で溶融しまた実施例１にお
いて製造された化合物と同一の結晶変態およびＸ線回折
図を有する表題化合物７８ｇを得た。

【００９３】実施例５：２−（２−ヒドロキシ−３−α
−クミル−５−ノニルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール 実施例１の一般操作に従って、表題化合物を琥珀色の樹
脂として製造した。

【００９４】実施例６：２−（２−ヒドロキシ−３−α
−クミル−５−ドデシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール 実施例１の一般操作に従って、表題化合物を琥珀色の樹
脂として製造した。以下に示されるＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ₃ ）［ｐｐｍ］データは表題化合物と一致していた。
０．８ないし０．９三重線；１．３ないし１．４２一重
線；１．９一重線；７．１４ないし７．３０複雑；７．
４４複雑；７．４８ないし７．６４メタ二重線；７．８
６複雑；８．２０ないし８．３４メタ二重線；１１．３
８ないし１１．４６一重線

【００９５】実施例７：２−（２−ヒドロキシ−３−α
−クミル−５−ドデシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール 相当するｏ−ニトロアゾベンゼン中間体の還元は接触水
素添加を使用して行うことを除いて、実施例１の一般操
作に従って、表題化合物を琥珀色の樹脂として製造し
た。

【００９６】実施例８および９：実施例１および４の一
般操作に従って、次式

【化４】 で表される化合物を製造した。 実施例；Ｒ ８ ；−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＯＯＣＨ₃ ９ ；−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＯＯＣ₈ Ｈ₁₇

【００９７】実施例１０：有機溶媒中における溶解度 紫外線吸収安定剤をハイソリッド熱硬化性アクリル樹脂
系に混和するためには、紫外線吸収剤は適当な有機溶媒
中に溶解できるものでなければならない。最新の溶媒、
例えば芳香族炭化水素、トルエンもしくはキシレンは、
ゆるやかに溶解する２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ
−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの
ような紫外線吸収剤にさえも十分な溶解性を与えた。し
かしながら、環境的理由から芳香族炭化水素溶媒がおそ
らく段階的に取り除かれること、ハイソリッドコーティ
ングの傾向、およびここ１０年続くであろう自動車産業
の自動車用コーティングに対するの需要の増大は、より
溶解性があり、非−揮発性であるがしかし同様に効果的
な紫外線吸収剤が要求されることを意味している。さら
に、紫外線吸収剤は環境に優しい溶媒に溶解しなければ
ならない。５つの異なるベンゾトリアゾール紫外線吸収
剤の７つの典型的な有機溶媒中における相対的溶解性
は、ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を、溶液が過飽和
するまで、５０ないし１００ｍｌの７つの異なる溶媒中
に溶解することにより測定された。ベンゾトリアゾール
が試験フラスコの底に沈み始めたとき、溶液が過飽和で
あると認められた。過飽和の溶液を一晩平静に放置し
た。その後、上部層をデカントしそしてろ過した。溶媒
中に溶解したベンゾトリアゾールを含有する得られるろ
過液を、ＡＳＴＭ試験法（Ｄ−２３６９−８１）を使用
してソリッド百分率について３回試験した。より高いソ
リッド百分率が見いだされたことはより溶解性のあるベ
ンゾトリアゾールであることを示す。結果は以下の表に
示される。

【表３】 * Ａは２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミル
フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを表す（比較の
ため）。Ｂは実施例４の化合物を表す。Ｃは実施例３の
化合物を表す。Ｄは実施例７の化合物を表す。登録商標
ＥＸＸＡＴＥ６００はＥｘｘｏｎからのヘキシルアセテ
ートを表す。ＰＭアセテートは１−メトキシ−２−プロ
ピルアセテートを表す。ＰＭ溶媒は１−メトキシ−２−
プロパノールを表す。

【００９８】キシレンは規制された溶媒であり、ＨＡ
Ｐ’Ｓ溶媒（Hazardous Air Pollutant)として列記され
ている。それからして、キシレンはあらゆる種類のコー
ティングのための溶媒として急速に段階的に取り除かれ
ようとしており、そして適当な代用の溶媒が義務付られ
ようとしている。

【００９９】上記の表に列記された他の溶媒は、最近、
規制もしくは除去の対象とされておらずまたコーティン
グ産業においてより慣用となりつつある。

【０１００】コーティング産業における最近の傾向は、
紫外線吸収剤を溶解するためのより少量の溶媒を意味す
るハイソリッドコーティングにある。より溶解性があ
り、非揮発性である紫外線吸収剤に対する需要はもはや
明確である。

【０１０１】表中のデータを調べることにより、紫外線
吸収剤Ａは各溶媒中において紫外線吸収剤Ｂ−Ｄよりも
明確に溶解性がないことが示された。実際に、キシレン
を除いた他の溶媒中の紫外線吸収剤Ａの溶解性は、それ
を、上記の制約のもとでの、新しい長期間自動車用コー
ティングにおける実用の安定剤として考慮から取り除く
ものである。

【０１０２】紫外線吸収剤ＢないしＤはまた紫外線吸収
剤Ａにより示される優秀な非−揮発性を有する。この特
性の組み合わせにより、紫外線吸収剤ＢないしＤは長期
間用自動車用ハイソリッドコーティングとしての用途の
第一の候補となる。

【０１０３】実施例１１：実施例２において製造された
２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三−オ
クチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールは、無定
形の２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三
−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが、
非−ＨＡＰＳ溶媒中においてより容易にかつ速く溶解す
ることを除いて、実施例１もしくは４において製造され
た２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三−
オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの新し
い結晶変態についての実施例１０において見られた種々
の溶媒中において、基本的に同一の溶解性パラメータを
示した。これは、実際の用途において実施例２の無定形
の化合物を使用することにとって明らかな利点である。

【０１０４】実施例１２：シルバーメタリックベースコ
ートおよび電着コートプライマー上に直接塗布された、
紫外線吸収剤を含有するハイソリッド熱硬化性アクリル
クリアーコートの光沢保留性 アドバンスドコーティングテクノロジーインコーポレー
ティッド(Advanced Coating Tecnology,Inc)より得られ
る電着コートプライマーを含有する４″×１２″（１
０．１６ｃｍ×３０．４８ｃｍ）のＵＮＩＰＲＩＭＥパ
ネル上に直接、商業的に入手可能なシルバーメタリック
ベースコート上にて、２重量％の試験安定剤を含有する
１．８ないし２．０ミル（０．０７２ないし０．１０２
ｍｍ）厚フィルムの、モデルＨＡＰＳ−コンプライアン
トハイソリッド（compliant high solids ) 熱硬化性ア
クリルメラミンクリアーコートをウェットオンウェット
で噴霧塗布することにより被覆パネルを製造した。被覆
パネルをその後２５０度Ｆ（１２１℃）で３０分間焼き
付けした。被覆パネルをその後、ＡＳＴＭＧ２６−９０
に従って、Ｃｉ−６５ウエザロメータ（アトラスエレク
トリックデバイス社）中で暴露した。暴露されたパネル
の光沢を３００時間間隔で測定した。光沢が大きいほ
ど、溶解性ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤により、よ
り強い保護がコーティングに与えられたことを示す。

【０１０５】本発明の式Ｉの溶解性化合物は、良好な光
沢保留性をコーティングに与えた。

【０１０６】実際に、より高濃度の溶解性ベンゾトリア
ゾールが都合よくコーティング中に混和されたので、溶
解性ベンゾトリアゾールは光沢保留性をハイソリッド熱
硬化性アクリルコーティング系に、溶解度の制限のため
制限されたわずかな量のベンゾトリアゾールが可能であ
るとき得られたものよりもはるかに超えて与えた。

【０１０７】実施例１３：シルバーメタリックベースコ
ートおよび電着コートプライマー上に直接塗布された、
紫外線吸収剤を含有するハイソリッド熱硬化性アクリル
クリアーコートの光沢保留性 実施例１２において製造した被覆パネルを、ＡＳＴＭＧ
５３に従って、ＱＵＶ暴露装置（Q Panel Co.,）中にお
いてまた暴露した。２０度の光沢をふたたび３００時間
間隔で測定した。光沢値がより高いほど、コーティング
についての保護がより大きいことを示す。

【０１０８】本発明の式Ｉの溶解性化合物は、コーティ
ングに良好な光沢保留性を与えた。

【０１０９】実際に、より高濃度の溶解性ベンゾトリア
ゾールが都合よくコーティング中に混和されたので、溶
解性ベンゾトリアゾールは光沢保留性をハイソリッド熱
硬化性アクリルコーティング系に、溶解度の制限のため
制限されたわずかな量のベンゾトリアゾールが可能であ
るとき得られたものよりもはるかに超えて与えた。

【０１１０】実際に、式Ｉの溶解性ベンゾトリアゾール
紫外線吸収剤で安定化されたパネルは、ＱＵＶ暴露装置
中で３０００時間暴露後に少なくとも５０％の光沢保留
性を示した。

【０１１１】実施例１４：シルバーメタリックベースコ
ートおよび電着コートプライマー上に直接塗布された、
紫外線吸収剤を含有するアクリルウレタンクリアーコー
トの光沢保留性 アドバンスドコーティングテクノロジーインコーポレー
ティッド(Advanced Coating Tecnology,Inc)より得られ
る電着コートプライマーを含有する４″×１２″（１
０．１６ｃｍ×３０．４８ｃｍ）のＵＮＩＰＲＩＭＥパ
ネル上に直接、商業的に入手可能なシルバーメタリック
ベースコート上にて、試験安定剤を含有する１．８ない
し２．０ミル（０．０３６ないし０．０５１ｍｍ）厚フ
ィルムの、モデルＨＡＰＳ−コンプライアントハイソリ
ッド（compliant high solids ) アクリルウレタンクリ
アーコートをウェットオンウェットで噴霧塗布すること
により被覆パネルを製造した。被覆パネルをその後２５
０度Ｆ（１２１℃）で３０分間焼き付けした。被覆パネ
ルをその後、ＡＳＴＭＧ２６−９０に従って、Ｃｉ−６
５ウエザロメータ（アトラスエレクトリックデバイス
社）中で暴露した。暴露されたパネルの光沢を３００時
間間隔で測定した。光沢が大きいほど、溶解性ベンゾト
リアゾール紫外線吸収剤により、より強い保護がコーテ
ィングに与えられたことを示す。

【０１１２】本発明の式Ｉの溶解性化合物は、良好な光
沢保留性を有するコーティングを与えた。

【０１１３】実際に、より高濃度の溶解性ベンゾトリア
ゾールが都合よくコーティング中に混和されたので、溶
解性ベンゾトリアゾールは光沢保留性をハイソリッド熱
硬化性アクリルコーティング系に、溶解度の制限のため
制限されたわずかな量のベンゾトリアゾールが可能であ
るとき得られたものよりもはるかに超えて与えた。

【０１１４】実施例１５：シルバーメタリックベースコ
ートおよび電着コートプライマー上に直接塗布された、
紫外線吸収剤を含有するクリアーコートの光沢保留性 実施例１４において製造した被覆パネルを、ＡＳＴＭＧ
５３に従って、ＱＵＶ暴露装置（Q Panel Co.,）中にお
いてまた暴露した。２０度の光沢をふたたび３００時間
間隔で測定した。光沢値がより高いほど、コーティング
についての保護がより大きいことを示す。

【０１１５】本発明の式Ｉの溶解性化合物は、コーティ
ングに良好な光沢保留性を与えた。

【０１１６】実際に、より高濃度の溶解性ベンゾトリア
ゾールが都合よくコーティング中に混和されたので、溶
解性ベンゾトリアゾールは光沢保留性をハイソリッド熱
硬化性アクリルコーティング系に、溶解度の制限のため
制限されたわずかな量のベンゾトリアゾールが可能であ
るとき得られたものよりもはるかに超えて与えた。

【０１１７】実施例１６：石英顕微鏡スライド上に直接
塗布されたハイソリッド熱硬化性アクリルクリアーコー
トのＵＶＡ保留性 コート石英顕微鏡スライドは、試験紫外線吸収剤を含有
している、モデルＨＡＰＳ−コンプライアントハイソリ
ッド（compliant high solids ) 熱硬化性アクリルメラ
ミンクリアーコートの０．９ないし１．０ミル（０．０
１８ないし０．０２６ｍｍ）厚フィルムの噴霧塗布より
製造した。コートされた石英スライドをその後、２５０
度Ｆ（１２１℃）で３０分間焼き付けした。フィルムの
光学濃度をその後３４５ｎｍで測定した。コートされた
石英スライドをその後、ＡＳＴＭＧ５３に従って、ＱＵ
Ｖ暴露装置（Q Panel Co.,）中においてまた暴露した。
光学濃度をその後をふたたび１０００時間間隔で測定し
た。光学濃度値がより高いほど、コーティングについて
の保護がより大きいことを示す。

【０１１８】本発明の式Ｉの溶解性化合物は、全ての間
隔においてより高い光学濃度値をコーティングに与え
た。

【０１１９】実際に、より高濃度の溶解性ベンゾトリア
ゾールが都合よくコーティング中に混和されたので、溶
解性ベンゾトリアゾールは光沢保留性をハイソリッド熱
硬化性アクリルコーティング系に、溶解度の制限のため
制限されたわずかな量のベンゾトリアゾールが可能であ
るとき得られたものよりもはるかに超えて与えた。

【０１２０】実施例１７：石英顕微鏡スライド上に直接
塗布されたハイソリッド熱硬化性アクリルクリアーコー
トのＵＶＡの保留性 コートされた石英顕微鏡スライドは、実施例１６の方法
に従って、製造された。これらのコートされたスライド
をＡＳＴＭＧ２６−９０に従って、Ｃｉ−６５ウエザロ
メータ（アトラスエレクトリックデバイス社）中で暴露
した。光学濃度を１０００時間間隔で測定した。光学濃
度値がより高いほど、コーティングについての保護がよ
り大きいことを示す。

【０１２１】本発明の式Ｉの溶解性化合物は、全ての間
隔においてより高い光学濃度値をコーティングに与え
た。

【０１２２】実際に、より高濃度の溶解性ベンゾトリア
ゾールが都合よくコーティング中に混和されたので、溶
解性ベンゾトリアゾールは光沢保留性をハイソリッド熱
硬化性アクリルコーティング系に、溶解度の制限のため
制限されたわずかな量のベンゾトリアゾールが可能であ
るとき得られたものよりもはるかに超えて与えた。

【０１２３】実施例１８：以下の表に示される紫外線吸
収剤の量を酢酸エチル２ｍｌ中に溶解した。この溶液１
ｍｌをゼラチン水溶液［ゼラチン２７．６ｇ／ｌおよび
水和剤として４，８−ジイソブチルナフタレン−２−ス
ルホン酸８％の水溶液（ナトリウム塩）６．８ｇ／ｌよ
りなる］９ｍｌと混合した。この混合物を３分間超音波
によりエマルジョン化させた。この紫外線吸収剤エマル
ジョン７．５ｍｌを硬化剤水溶液（０．２４％の２−ヒ
ドロキシ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン、カリウ
ム塩を含む）４．５ｍｌと混合した。このエマルジョン
８ｍｌをポリエステルベース（１３×１８ｃｍ）上に流
し込んだ。注型物を室温で７日間硬化させた。紫外線分
光計をその後使用して、３３０ないし３８０ｎｍの範囲
にある最大密度の値を測定した。試料をその後アトラス
ウエザロメータ装置中において、全体で３０、６０、９
０および１２０ｋＪ／ｃｍ² で暴露し、最大密度を再測
定し、そして相当する値間の差（−ΔＤ％）を計算し
た。ΔＤ値が小さいほど、紫外線吸収剤がより安定して
いる。

【表４】 Ａは２−（２−ヒドロキシ−３−第二−ブチル−５−第
三−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを表
す（比較のため）。Ｂは２−（２−ヒドロキシ−３−ド
デシル−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ールを表す（比較のため）。Ｃは２−（２−ヒドロキシ
−３，５−第三−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾールを表す（比較のため）。Ｄは２−（２−ヒドロ
キシ−３−α−クミル−５−第三−オクチルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを表す（実施例１）。Ｅは
２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ドデシル
フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを表す（実施例
７）。明らかなことに、紫外線吸収剤Ａ、ＢおよびＣは
紫外線吸収剤ＤおよびＥほど、光安定性を有していな
い。

【０１２４】実施例１９ないし２１：Ａは２−（２−ヒ
ドロキシ−３−α−クミル−５−第三−オクチルフェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを表す（実施例４の化
合物）。Ｂは２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−
５−ノニルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを表
す（実施例３の化合物）。Ｃは２−（２−ヒドロキシ−
３−α−クミル−５−ドデシルフェニル）−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾールを表す（実施例７の化合物）。Ｄは２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを表す（チバガイギー社よ
り登録商標Ｔｉｎｕｖｉｎ９００として商業的に入手可
能／比較のため）。Ｅはビス−（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）
セバケートを表す（チバガイギー社より登録商標Ｔｉｎ
ｕｖｉｎ１２３として商業的に入手可能）。

【０１２５】試験法１ クリアーコートは、６０部のアクリルポリオールを、４
０部の登録商標Ｒｅｓｉｍｅｎｅ７４７（ヘキサメトキ
シメチルメラミン、モンサント）と酸触媒および流れ助
剤(flow aids) と一緒に混合することにより製造され
た。ベースコートはアクリルメラミンであった。ブラッ
クベースコートを約０．６ミル厚で噴霧した。ベースコ
ートがまだ濡れているうちにクリアーコートをブラック
ベースコートの上に噴霧して、２ミル厚のクリアーコー
トを得た。

【０１２６】ベースコートは紫外線吸収剤もしくはヒン
ダードアミンを含有していなかった。化合物Ｄおよび化
合物Ａの溶解性は、紫外線吸収剤試験化合物を十分な量
の酢酸ブチル溶媒を含有するクリアーコートに加えるこ
とにより最大となり、このためクリアーコートは噴霧す
ることができる粘度を有するものになった。

【０１２７】比較の目的で、安定化されていない組成物
および、化合物Ａを通常３％もしくは４％程度で含有す
る、ヒンダードアミン有りもしくは無しの組成物につい
ても試験した。

【０１２８】試験法２ この試験において、光安定剤を含有していないシルバー
メタリックアクリルメラミンベースコートを使用した。
試験化合物ＡないしＤをモデルハイソリッド熱硬化性ア
クリルメラミン樹脂もしくは酢酸ブチルを使用するアク
リルコートとして使用されたアクリルウレタン樹脂に加
えた（非−ＨＡＰＳ溶媒）。

【０１２９】実施例１９：モデルハイソリッド熱硬化性
アクリルクリアーコート／ブラックベースコートについ
て試験法１を使用して、ＱＵＶ（ＦＳ４０バルブ）中に
おいて以下の表に記載された時間暴露した後の、以下の
２０度の光沢保留性を得た。

【表５】 ^* Ｉは安定化されていないブランクを表す。ＩＩは４
重量％の化合物Ａを有する。ＩＩＩは３重量％の化合物
Ａおよび１重量％の化合物Ｅを有する。ＩＶは４重量％
の化合物Ａおよび１重量％の化合物Ｅを有する。Ｖは
２．２７重量％の化合物Ｄを有する。およびＶＩは２．
２７重量％の化合物Ｄおよび１重量％の化合物Ｅを有す
る。^{* *} コーティングがこの時点でクラッキングにより破損
した。^a 試料ＩＩの値は、３７７０時間後もまだ６５であっ
た。

【０１３０】樹脂中に溶解され得る化合物Ａの最大量
は、４重量％であり、また樹脂中に溶解され得る化合物
Ｄの最大量は、２．２７重量％であった。

【０１３１】これらのデータより、化合物Ａはより樹脂
系に可溶であること、および、それは単独で使用された
ときまたは特にヒンダードアミン安定剤と組み合わせて
使用されたとき、樹脂系の２０度光沢を維持することに
ついて、従来技術の化合物Ｄ（これは樹脂系において限
られた溶解性を有する。）よりはるかに優れていること
は明らかである。

【０１３２】実際に、化合物Ａはコーティングを少なく
とも３７７０時間保護することができる一方、化合物Ｄ
が保護できる最大時間は３１６２時間であった。これは
化合物Ａにより得られる２０度光沢保留性が２０％良好
であったことを示す。

【０１３３】化合物Ｅと組み合わせて使用されたとき、
化合物Ａは、化合物Ｅと一緒に化合物Ｄを使用した場合
のそれよりも、２１％より良好な４６０２時間暴露した
後の２０度光沢保留性を与える。

【０１３４】実施例２０：モデルハイソリッド熱硬化性
アクリルクリアーコート／ブラックベースコートについ
て試験法２を使用して、試料をキセノンアーク（ＣＡＭ
１８０）中において、以下の表に記載された時間暴露し
た後に、以下に示される６０度および２０度の光沢保留
性および画像の等級(Distinction of Image)が得られ
た。

【表６】

【表７】

【表８】 ^* Ｉは安定化されていないブランクを表す。ＩＩは
０．２４重量％の化合物Ｄを有する。ＩＩＩは１．２重
量％の化合物Ａを有する。ＩＶは３重量％の化合物Ｃを
有する。およびＶは３重量％の化合物Ｂを有する。^{* *} コーティングがこの時点でクラッキングにより破損
した。

【０１３５】この試験において、紫外線吸収剤を非−Ｈ
ＡＰＳ溶媒酢酸ブチルに溶解し、そしてその後産業界に
おいて通常行われているように、それを樹脂系に加え
た。制限された酢酸ブチル中の化合物Ｄの溶解度は、樹
脂ソリッドに基づいてわずか０．２４重量％の化合物Ｄ
をコーティング中に存在し得るようにした。より優れた
酢酸ブチル中の化合物Ａの溶解度は、樹脂ソリッドに基
づいて１．２重量％の化合物Ａをコーティング中に存在
し得るようにした。さらに優れた酢酸ブチル中の化合物
Ｂおよび化合物Ｃの溶解度は、樹脂ソリッドに基づいて
３重量％の化合物Ｂもしくは化合物Ｃをコーティング中
に存在し得るようにした。

【０１３６】各場合において、溶解性の少ない化合物Ｄ
よりも、より溶解性のある化合物Ａ、ＢもしくはＣは、
はるかに優れた６０度および２０度の光沢保留性および
はるかに優れた画像の等級(Distinction of Image)を与
えた。

【０１３７】実施例２１：モデル２Ｋアクリルウレタン
仕上げについて試験法２を使用して、試料をキセノンア
ーク（ＣＡＭ１８０）中において、以下の表に記載され
た時間暴露した後に、以下に示される２０度の光沢保留
性および画像の等級(Distinction of Image)が得られ
た。

【表９】

【表１０】 ^* Ｉは安定化されていないブランクを表す。ＩＩは
０．２４重量％の化合物Ｄを表す。ＩＩＩは１．２重量
％の化合物Ａを有する。ＩＶは３重量％の化合物Ｃを有
する。およびＶは３重量％の化合物Ｂを有する。^{* *} コーティングがこの時点でクラッキングにより破損
した。

【０１３８】この試験において、紫外線吸収剤を非−Ｈ
ＡＰＳ溶媒酢酸ブチルに溶解し、そしてその後産業界に
おいて通常行われているように、それを樹脂系に加え
た。制限された酢酸ブチル中の化合物Ｄの溶解度は、樹
脂ソリッドに基づいてわずか０．２４重量％の化合物Ｄ
をコーティング中に存在し得るようにした。より優れた
酢酸ブチル中の化合物Ａの溶解度は、樹脂ソリッドに基
づいて１．２重量％の化合物Ａをコーティング中に存在
し得るようにした。さらに優れた酢酸ブチル中の化合物
Ｂおよび化合物Ｃの溶解度は、樹脂ソリッドに基づいて
３重量％の化合物Ｂもしくは化合物Ｃをコーティング中
に存在し得るようにした。

【０１３９】各場合において、溶解性の少ない化合物Ｄ
よりも、より溶解性のある化合物Ａ、ＢもしくはＣは、
はるかに優れた２０度の光沢保留性およびより優れた画
像の等級(Distinction of Image)を与えた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 11/00 ＰＳＺ Ｃ０９Ｄ 133/06 ＰＧＣ ＰＴＡ 161/28 ＰＨＪ 133/06 ＰＧＣ 175/04 ＰＨＷ 161/28 ＰＨＪ Ｇ０３Ｃ 1/815 175/04 ＰＨＷ 8/08 ５０１ Ｇ０３Ｃ 1/815 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ 8/08 ５０１ 7416−2Ｈ Ｂ４１Ｍ 5/26 １０１Ｈ (72)発明者 ラマナタン ラビチャンドラン アメリカ合衆国、10954 ニューヨーク、 ナヌエットケンシントンコート ７ (72)発明者 マーク ステファン ホルト アメリカ合衆国、10960 ニューヨーク、 ウエストナヤック ウエストナヤクロード 581 (72)発明者 ボルカー ヘルムート ボンアン アメリカ合衆国、10541 ニューヨーク、 マホパック、グリーンフィールドロード 30 (72)発明者 ジョセフ エドモンド バビアルツ アメリカ合衆国、10501 ニューヨーク、 アマウォーク、ピー．オー．ボックス653、 パインリッジロード（番地表示なし) (72)発明者 デビット ジョージ レパード スイス国、1723 マリー、ルートデュブル ガリヨン ６

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）金属基材に接着している電着コー
   トプライマー、（ｂ）電着コートに接着し、またフィル
   ム形成バインダーおよび有機顔料もしくは無機顔料また
   はそれらの混合物を含んでいるベースコートもしくはカ
   ラーコート、（ｃ）ベースコートに接着し、またフィル
   ムコーティングバインダーを含んでいるクリアーコー
   ト、および（ｄ）ベースコートもしくはクリヤーコート
   のいずれか、またはベースコートおよびクリヤーコート
   の双方に含まれた、次式Ｉ 【化１】 ［式中、Ｒ₁ は水素原子もしくは塩素原子を表し、Ｒ₂
   は炭素原子数４ないし２８のアルキル基もしくは−Ｃ_m
   Ｈ_2mＣＯＯＲ₄ （式中、ｍは１ないし４を表し、および
   Ｒ₄ は水素原子もしくは炭素原子数１ないし１８のアル
   キル基を表す。）を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を
   表す。］で表される少なくとも１つのベンゾトリアゾー
   ル紫外線吸収剤からなるベンゾトリアゾールを含有する
   コートの１ないし２０重量％のフィルム形成バインダー
   よりなるポリマーフィルム組成物。
2. 【請求項２】 付加的な層を、電着コートプライマーと
   ベースコートもしくはカラーコートの間に含有し、その
   付加的な層は、（ｉ）フィルム形成バインダーおよび有
   機顔料もしくは無機顔料またはそれらの混合物、および
   （ｉｉ）少なくとも１つの溶解性および熱的に安定な請
   求項１記載の式Ｉのベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を
   含むところの請求項１記載の組成物。
3. 【請求項３】 付加的な層はヒンダードアミン光安定剤
   を含有しているところの請求項２記載の組成物。
4. 【請求項４】 成分（ｄ）の量は、フィルム形成バイン
   ダーの１ないし５重量％であるところの請求項１記載の
   組成物。
5. 【請求項５】 成分（ｄ）中、Ｒ₁ は水素原子を表し、
   Ｒ₂ は炭素原子数８ないし１２のアルキル基を表すか、
   もしくは−Ｃ_m Ｈ_2mＣＯＯＲ₄ （式中、ｍは２を表し、
   Ｒ₄ は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す。）
   を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を表すところの請求
   項１記載の組成物。
6. 【請求項６】 成分（ｄ）中、Ｒ₁ は水素原子を表し、
   Ｒ₂ は第三−オクチル基、ノニル基もしくはドデシル基
   を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を表すところの請求
   項１記載の組成物。
7. 【請求項７】 成分（ｄ）はクリアーコート中に混和さ
   れるところの請求項１記載の組成物。
8. 【請求項８】 フィルム形成バインダーはハイソリッド
   熱硬化性アクリル／メラミン樹脂もしくはアクリル／ウ
   レタン樹脂であるところの請求項１記載の組成物。
9. 【請求項９】 ベースコートもしくはクリアーコート、
   またはベースコートおよびクリアーコートの双方中にヒ
   ンダードアミン光安定剤を付加的に含有しているところ
   の請求項１記載の組成物。
10. 【請求項１０】 （ａ）記録材料、および（ｂ）少なく
    とも１つの次式Ｉ 【化２】 ［式中、Ｒ₁ は水素原子もしくは塩素原子を表し、Ｒ₂
    は炭素原子数４ないし２８のアルキル基もしくは−Ｃ_m
    Ｈ_2mＣＯＯＲ₄ （式中、ｍは１ないし４を表し、および
    Ｒ₄ は水素原子もしくは炭素原子数１ないし１８のアル
    キル基を表す。）を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を
    表す。］で表されるベンゾトリアゾール紫外線吸収剤よ
    りなるポリマーフィルム組成物。
11. 【請求項１１】 成分（ｂ）中、Ｒ₁ は水素原子を表
    し、Ｒ₂ は炭素原子数８ないし１２のアルキル基を表す
    か、もしくは−Ｃ_m Ｈ_2mＣＯＯＲ₄ （式中、ｍは２を表
    し、Ｒ₄ は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
    す。）を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を表すところ
    の請求項１０記載の組成物。
12. 【請求項１２】 成分（ｂ）中、Ｒ₁ は水素原子を表
    し、Ｒ₂ は第三−オクチル基、ノニル基もしくはドデシ
    ル基を表し、およびＲ₃ はα−クミル基を表すところの
    請求項１０記載の組成物。
13. 【請求項１３】 記録材料はインクジェットプリントに
    適しているところの請求項１０記載の組成物。
14. 【請求項１４】 記録材料は写真材料であるところの請
    求項１０記載の組成物。
15. 【請求項１５】 記録材料は染料拡散転写に適している
    ところの請求項１０記載の組成物。