BE1010550A3 - Compositions de film polymere de revetement et compositions de materiau d'enregistrement stabilisees. - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 title claims description 5
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title description 6
- -1 alpha-cumyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 58
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims abstract description 36
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 17
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 14
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 claims abstract description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052801 chlorine Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 29
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 29
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 18
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 13
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 9
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 8
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims description 4
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 54
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 81
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 75
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 41
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 31
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 28
- 239000002585 base Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 18
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 13
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 11
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 10
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 6
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 6
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 5
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 4
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- DSZOTMKIKJOOPG-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)-phenyldiazene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DSZOTMKIKJOOPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylphenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC1=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)C1 OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GGAUUQHSCNMCAU-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)C(C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 3
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 3
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 3
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 3
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- CHJJYTIOLUWORE-UHFFFAOYSA-N (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl dihydrogen phosphate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(COP(O)(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O CHJJYTIOLUWORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEBMSMUPGIOANU-UHFFFAOYSA-N (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methylphosphonic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CP(O)(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O ZEBMSMUPGIOANU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAXXZBQODQDCOW-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropyl acetate Chemical compound CCC(OC)OC(C)=O ZAXXZBQODQDCOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMKOHTDGXBBEAH-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-ol Chemical compound CCCCCCCCON1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C MMKOHTDGXBBEAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGCSUUSPRCDKBQ-UHFFFAOYSA-N 2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OCOCC21COCOC2 BGCSUUSPRCDKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DXCHWXWXYPEZKM-UHFFFAOYSA-N 2,4-ditert-butyl-6-[1-(3,5-ditert-butyl-2-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=1C(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C1O DXCHWXWXYPEZKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVUXDWXKPROUDO-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 BVUXDWXKPROUDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpropyl 2-methylpropionate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)C RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUCMKIKYKIHUTM-UHFFFAOYSA-N 3,3,5,5-tetramethyl-1-[2-(3,3,5,5-tetramethyl-2-oxopiperazin-1-yl)ethyl]piperazin-2-one Chemical compound O=C1C(C)(C)NC(C)(C)CN1CCN1C(=O)C(C)(C)NC(C)(C)C1 GUCMKIKYKIHUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEXOWHQZWLCHHD-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O YEXOWHQZWLCHHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCO STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 4-[4,4-bis(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butan-2-yl]-2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(C)CC(C=1C(=CC(O)=C(C=1)C(C)(C)C)C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DFHQAPGPWJFKQB-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-chlorophenyl)-6-(2,4-dihydroxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(Cl)=CC=2)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 DFHQAPGPWJFKQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZXTWMQYSSMUFH-UHFFFAOYSA-N 4-[6-(1-amino-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexyl]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-amine Chemical compound C1C(C)(C)N(N)C(C)(C)CC1CCCCCCC1CC(C)(C)N(N)C(C)(C)C1 YZXTWMQYSSMUFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKOBUGCCXMIKDM-UHFFFAOYSA-N Irganox 1098 Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)NCCCCCCNC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 OKOBUGCCXMIKDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTZPWDHBSKBJLJ-UHFFFAOYSA-N OCC(C)(CO)C.OCC(CO)(CO)CO.C(CCCCCO)O.C(COCCOCCO)O.C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)O.C(COCCO)O.CO Chemical compound OCC(C)(CO)C.OCC(CO)(CO)CO.C(CCCCCO)O.C(COCCOCCO)O.C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)O.C(COCCO)O.CO WTZPWDHBSKBJLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229920001688 coating polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005002 finish coating Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N glutaric acid Chemical compound OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N hexyl acetate Chemical compound CCCCCCOC(C)=O AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IXHMTDIIQNIVBN-UHFFFAOYSA-N n'-(2,2-dihydroxyethyl)oxamide Chemical compound NC(=O)C(=O)NCC(O)O IXHMTDIIQNIVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GXELTROTKVKZBQ-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzylhydroxylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(O)CC1=CC=CC=C1 GXELTROTKVKZBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWSRVQVEYJNFKQ-UHFFFAOYSA-N pentyl propanoate Chemical compound CCCCCOC(=O)CC TWSRVQVEYJNFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical compound OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N (2,6-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N (2-octylphenyl) 2-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHEANNSDVJOIBS-MHZLTWQESA-N (3s)-3-cyclopropyl-3-[3-[[3-(5,5-dimethylcyclopenten-1-yl)-4-(2-fluoro-5-methoxyphenyl)phenyl]methoxy]phenyl]propanoic acid Chemical compound COC1=CC=C(F)C(C=2C(=CC(COC=3C=C(C=CC=3)[C@@H](CC(O)=O)C3CC3)=CC=2)C=2C(CCC=2)(C)C)=C1 CHEANNSDVJOIBS-MHZLTWQESA-N 0.000 description 1
- GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N (5-benzoyl-2,4-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(O)=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- JDLQSLMTBGPZLW-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC(O)N1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C JDLQSLMTBGPZLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPUZPAIWNCLQGV-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCCOCCOC(O)CC HPUZPAIWNCLQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQQKTNDBASEZSD-UHFFFAOYSA-N 1-(octadecyldisulfanyl)octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCSSCCCCCCCCCCCCCCCCCC MQQKTNDBASEZSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEXRSLVRFLEMHJ-UHFFFAOYSA-N 1-o,4-o-bis[(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylphenyl)methyl] benzene-1,4-dicarbothioate Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C)=C1COC(=S)C1=CC=C(C(=S)OCC=2C(=C(O)C(=CC=2C)C(C)(C)C)C)C=C1 KEXRSLVRFLEMHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)COC1=CC=CC=C1 IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 1-tert-Butoxy-2-propanol Chemical compound CC(O)COC(C)(C)C GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXPOSFTVRJYKCR-UHFFFAOYSA-N 10-oxo-10-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl)oxydecanoic acid Chemical compound CN1C(C)(C)CCC(OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O)C1(C)C AXPOSFTVRJYKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUJLWPFSUCHPQL-UHFFFAOYSA-N 11-methyldodecan-1-ol Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCO XUJLWPFSUCHPQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-octadecoxypiperidine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.OCC(CO)(CO)CO GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUAIOYWXCDLHKT-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tricyclohexylphenol Chemical compound OC1=C(C2CCCCC2)C=C(C2CCCCC2)C=C1C1CCCCC1 UUAIOYWXCDLHKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPRYUXCVCCNUFE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C)=C1 BPRYUXCVCCNUFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMRXVBREYFZQHU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1,3,5-triazine Chemical compound ClC1=NC=NC(Cl)=N1 OMRXVBREYFZQHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMADMAFEFZHZLM-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-6-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)-2h-1,3,5-triazin-1-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=NC(Cl)=NC(Cl)N1N HMADMAFEFZHZLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-6-tert-butylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXWZXEJDKYWBOW-UHFFFAOYSA-N 2,4-ditert-butyl-6-[(3,5-ditert-butyl-2-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)O)=C1O LXWZXEJDKYWBOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2-methylbutan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CC)C=C1O CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKALLEFLBKHPTQ-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound OC=1C(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=CC(C)=CC=1CC1=CC(C)=CC(C(C)(C)C)=C1O LKALLEFLBKHPTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLUKQUGVTITNSY-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butyl-4-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SLUKQUGVTITNSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRAQIHUDFAFXHT-UHFFFAOYSA-N 2,6-dicyclopentyl-4-methylphenol Chemical compound OC=1C(C2CCCC2)=CC(C)=CC=1C1CCCC1 FRAQIHUDFAFXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBYWTKPHBLYYFJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-(2-methylpropyl)phenol Chemical compound CC(C)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 JBYWTKPHBLYYFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCXYLTWTWUGEAA-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-(methoxymethyl)phenol Chemical compound COCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SCXYLTWTWUGEAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQCWLRHNAHIIGW-UHFFFAOYSA-N 2,8-dimethylnonan-5-one Chemical compound CC(C)CCC(=O)CCC(C)C JQCWLRHNAHIIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBOGPIWNHXHYHN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-5-octylphenyl)sulfanyl-4-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(O)C(SC=2C(=CC=C(CCCCCCCC)C=2)O)=C1 LBOGPIWNHXHYHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEGTUMBJFRIDPZ-UHFFFAOYSA-N 2-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OEGTUMBJFRIDPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDNLOGRBAYJSMQ-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O XDNLOGRBAYJSMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQESJWNDTICJHW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methyl-3-nonylphenyl)methyl]-4-methyl-6-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(CCCCCCCCC)C=C(C)C=2)O)=C1O XQESJWNDTICJHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBXUJQFRMLQPCG-UHFFFAOYSA-N 2-[12-hydroxyimino-23-(2-hydroxy-4-methylphenyl)tricosyl]-5-methylphenol Chemical compound OC1=CC(C)=CC=C1CCCCCCCCCCCC(=NO)CCCCCCCCCCCC1=CC=C(C)C=C1O XBXUJQFRMLQPCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVNPSIYFJSSEER-UHFFFAOYSA-H 2-[2-(1,3,2-benzodioxastibol-2-yloxy)phenoxy]-1,3,2-benzodioxastibole Chemical compound O([Sb]1Oc2ccccc2O1)c1ccccc1O[Sb]1Oc2ccccc2O1 BVNPSIYFJSSEER-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- WQYFETFRIRDUPJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-hydroxy-5-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]sulfanyl-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(SC=2C(=CC=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)O)=C1 WQYFETFRIRDUPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGKJFLMTOOKUOQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(2-hydroxy-3-pentadecoxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 IGKJFLMTOOKUOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPGKCKOKTLQEOD-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(4-bromophenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(2-hydroxyethoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCO)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(Br)=CC=2)=NC(C=2C(=CC(OCCO)=CC=2)O)=N1 JPGKCKOKTLQEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWVUGNSYIROMGD-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(4-chlorophenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(2-hydroxyethoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCO)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(Cl)=CC=2)=NC(C=2C(=CC(OCCO)=CC=2)O)=N1 CWVUGNSYIROMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POHXPVPPMDIIOA-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-[4-(2-acetyloxyethoxy)-2-hydroxyphenyl]-6-(4-chlorophenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenoxy]ethyl acetate Chemical compound OC1=CC(OCCOC(=O)C)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(Cl)=CC=2)=NC(C=2C(=CC(OCCOC(C)=O)=CC=2)O)=N1 POHXPVPPMDIIOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXWDLAHVJDUQJM-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylamino]-2-oxoacetyl]amino]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCNC(=O)C(=O)NCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 OXWDLAHVJDUQJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSNHIFDTKFOOER-UHFFFAOYSA-N 2-[[4,6-bis[butyl-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound N=1C(N(CCO)CCO)=NC(N(CCCC)C2CC(C)(C)N(OC3CCCCC3)C(C)(C)C2)=NC=1N(CCCC)C(CC1(C)C)CC(C)(C)N1OC1CCCCC1 YSNHIFDTKFOOER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJJROAULDYNBJS-UHFFFAOYSA-N 2-[[4,6-bis[butyl-(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-yl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1N(CCCC)C1=NC(N(CCO)CCO)=NC(N(CCCC)C2CC(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)C2)=N1 QJJROAULDYNBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHPDFYDITNAMAM-UHFFFAOYSA-N 2-[cyclohexyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1CCCCC1 HHPDFYDITNAMAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-N 2-butylpropanedioic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)C(O)=O MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoprop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C(=C)C#N IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKNMPWVTPUHKCG-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-6-[(3-cyclohexyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound OC=1C(C2CCCCC2)=CC(C)=CC=1CC(C=1O)=CC(C)=CC=1C1CCCCC1 AKNMPWVTPUHKCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMCYEZUIYGPHDJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-N-[(2-hydroxyphenyl)methylideneamino]benzamide Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=NNC(=O)C1=CC=CC=C1O OMCYEZUIYGPHDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORSDGBOJHYJLV-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-n'-(2-hydroxybenzoyl)benzohydrazide Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)NNC(=O)C1=CC=CC=C1O UORSDGBOJHYJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZZYGYNZAOVRTG-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-n-(1h-1,2,4-triazol-5-yl)benzamide Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)NC1=NC=NN1 MZZYGYNZAOVRTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(Cl)=O)C(O)=CC=C21 WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHMOPDIHALNRZ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxycarbonyl-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound COC(=O)C(C(O)=O)=CC1=CC=CC=C1 LCHMOPDIHALNRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUSCCEJMFQWHHS-UHFFFAOYSA-N 2-n,4-n,6-n-tributyl-2-n,4-n,6-n-tris(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound N=1C(N(CCCC)C2CC(C)(C)N(OC3CCCCC3)C(C)(C)C2)=NC(N(CCCC)C2CC(C)(C)N(OC3CCCCC3)C(C)(C)C2)=NC=1N(CCCC)C(CC1(C)C)CC(C)(C)N1OC1CCCCC1 BUSCCEJMFQWHHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFHKLSPMRRWLKI-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)sulfanyl-6-methylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(SC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 YFHKLSPMRRWLKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)sulfanyl-4-methylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(SC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHLYPUYAVHSKBN-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[1-[3-tert-butyl-2-hydroxy-5-(2-methylpropyl)phenyl]ethyl]-4-(2-methylpropyl)phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC(C)C)=CC(C(C)C=2C(=C(C=C(CC(C)C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O UHLYPUYAVHSKBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNTWDNMNGNBFEA-UHFFFAOYSA-N 3,3,5,5-tetramethylpiperazin-2-one Chemical compound CC1(C)CNC(=O)C(C)(C)N1 HNTWDNMNGNBFEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCILJBJJZALOAL-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)-n'-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyl]propanehydrazide Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)NNC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 HCILJBJJZALOAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLZYQMOKBVFXJS-UHFFFAOYSA-N 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoic acid Chemical compound CC1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O FLZYQMOKBVFXJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 3h-1-benzofuran-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)CC2=C1 ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylenebis(2,6-di-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPFWYRKGZUGGPB-UHFFFAOYSA-N 4,6-dichloro-n-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)-1,3,5-triazin-2-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)NC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 HPFWYRKGZUGGPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHNJLIAGFKMCNX-UHFFFAOYSA-N 4,8-bis(2-methylpropyl)naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(CC(C)C)=CC=CC2=C1CC(C)C XHNJLIAGFKMCNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 4-(4,6-dichloro-1,3,5-triazin-2-yl)morpholine Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(N2CCOCC2)=N1 UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXULGGYCPFDQON-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis(octylsulfanyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]amino]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound C1N(SCCCCCCCC)CN(SCCCCCCCC)CN1NC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 BXULGGYCPFDQON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTWGHNZAQVTLSQ-UHFFFAOYSA-N 4-butyl-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 WTWGHNZAQVTLSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyric acid Chemical class OCCCC(O)=O SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZAIWKMQABZIDI-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2,6-dioctadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC(C)=CC(CCCCCCCCCCCCCCCCCC)=C1O LZAIWKMQABZIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 4-t-Butylbenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Butylphenyl Salicylate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVICEEPAFUYBJG-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2,2-difluoro-1,3-benzodioxole Chemical group C1=C(Cl)C=C2OC(F)(F)OC2=C1 CVICEEPAFUYBJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 6-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]hexyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCCCCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHOKCCUPZYSAJG-UHFFFAOYSA-N 6-oxohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCCC=O LHOKCCUPZYSAJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1h-1,3,5-triazin-2-one Chemical class OC1=NC=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VARGBNQSQQAYGN-UHFFFAOYSA-N 8-(2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-carbonyl)oxyoctyl 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-carboxylate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)OCCCCCCCCOC(=O)C1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 VARGBNQSQQAYGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYCLIHYYHGOPPW-UHFFFAOYSA-N 8-oxooctyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCCCCC=O KYCLIHYYHGOPPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- ZRZFCHCIMYNMST-UHFFFAOYSA-L C=1([O-])C([O-])=CC=CC1.[Zn+2] Chemical compound C=1([O-])C([O-])=CC=CC1.[Zn+2] ZRZFCHCIMYNMST-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 1
- 239000003508 Dilauryl thiodipropionate Substances 0.000 description 1
- 239000002656 Distearyl thiodipropionate Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N Hydrocyanic acid Natural products N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWGBGUINMSOOKP-UHFFFAOYSA-N OC1=C(C(=O)CCCCCCCCCCC)C=NN1C1=CC=CC=C1 Chemical compound OC1=C(C(=O)CCCCCCCCCCC)C=NN1C1=CC=CC=C1 IWGBGUINMSOOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFEJQNVAGUSCHH-UHFFFAOYSA-N OP(O)OP(O)O.OP(O)OP(O)O Chemical compound OP(O)OP(O)O.OP(O)OP(O)O NFEJQNVAGUSCHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003265 Resimene® Polymers 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 1
- JBSODNBBAKNHEU-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(CO)(CO)CO JBSODNBBAKNHEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDKNQIUGCIZISF-UHFFFAOYSA-N [4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenyl] 3-dodecoxy-2-hydroxypropanoate Chemical compound CC1=C(C=CC(=C1)C)C1=NC(=NC(=N1)C1=C(C=C(C=C1)OC(C(COCCCCCCCCCCCC)O)=O)O)C1=C(C=C(C=C1)C)C QDKNQIUGCIZISF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHFMFWAFQGUGOB-UHFFFAOYSA-N [5-(4-tert-butylbenzoyl)-2,4-dihydroxyphenyl]-(4-tert-butylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC(C(=O)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)=C(O)C=C1O HHFMFWAFQGUGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N alpha-phenylbenzeneacetic acid Natural products C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HCMAXDHDMGVMBS-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-butylpropanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)C(CCCC)C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 HCMAXDHDMGVMBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXIVRFXHQNHKCC-UHFFFAOYSA-N bis(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) butanedioate Chemical compound CC1(C)CC(OC(=O)CCC(=O)OC2CC(C)(C)N(OC3CCCCC3)C(C)(C)C2)CC(C)(C)N1OC1CCCCC1 UXIVRFXHQNHKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWDBZVIHZORXHG-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) decanedioate Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)ON1C(C)(C)CCCC1(C)C YWDBZVIHZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- WTVNFKVGGUWHQC-UHFFFAOYSA-N decane-2,4-dione Chemical compound CCCCCCC(=O)CC(C)=O WTVNFKVGGUWHQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000001470 diamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-M dibutyldithiocarbamate Chemical compound CCCCN(C([S-])=S)CCCC SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N diethylhydroxylamine Chemical compound CCN(O)CC FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019304 dilauryl thiodipropionate Nutrition 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical class C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019305 distearyl thiodipropionate Nutrition 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 239000002320 enamel (paints) Substances 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical compound N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- FNAZRRHPUDJQCJ-UHFFFAOYSA-N henicosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC FNAZRRHPUDJQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 150000002696 manganese Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001617 migratory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- QITVMFSGIKQAFH-UHFFFAOYSA-N n'-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)hexane-1,6-diamine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1NCCCCCCN QITVMFSGIKQAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N n'-(2-ethoxyphenyl)-n-(2-ethylphenyl)oxamide Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1CC YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJFPXDGPJMHQMW-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis[3-(dimethylamino)propyl]oxamide Chemical compound CN(C)CCCNC(=O)C(=O)NCCCN(C)C ZJFPXDGPJMHQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDLNUIWJEDITCB-UHFFFAOYSA-N n,n-di(tetradecyl)hydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCCCC DDLNUIWJEDITCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXOCDLHWYUUAG-UHFFFAOYSA-N n,n-didodecylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCC DHXOCDLHWYUUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTXXCIYKATWWQI-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexadecylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCCCCCC OTXXCIYKATWWQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITUWQZXQRZLLCR-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctadecylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCCCCCCCC ITUWQZXQRZLLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQAJFRSBFZAUPB-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCN(O)CCCCCCCC WQAJFRSBFZAUPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBINNYMQZVKNFF-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-1-phenylmethanimine oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=[N+]([O-])CC1=CC=CC=C1 UBINNYMQZVKNFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUUZFQPCUFYPV-UHFFFAOYSA-N n-dodecyldodecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCC LRUUZFQPCUFYPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBMIPYGHTZRCRH-UHFFFAOYSA-N n-ethylethanimine oxide Chemical compound CC[N+]([O-])=CC GBMIPYGHTZRCRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCWENWKZARTGU-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyloctadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC=[N+]([O-])CCCCCCCCCCCCCCCCC DBCWENWKZARTGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCBLWIBXXQTAW-UHFFFAOYSA-N n-hexadecyl-n-octadecylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCCCCCC WGCBLWIBXXQTAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCDJFNYVSDFWDB-UHFFFAOYSA-N n-hexadecylhexadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCC GCDJFNYVSDFWDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHAFFFSIDLDWQA-UHFFFAOYSA-N n-hexadecyloctadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC=[N+]([O-])CCCCCCCCCCCCCCCC FHAFFFSIDLDWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXGDIORKSOYRMQ-UHFFFAOYSA-N n-octadecylheptadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCCC ZXGDIORKSOYRMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMMSXFAWOGWQE-UHFFFAOYSA-N n-octadecylhexadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCC MCMMSXFAWOGWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HORBOHJHQGXXOR-UHFFFAOYSA-N n-octadecyloctadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCCCC HORBOHJHQGXXOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJGVICBAANVMZ-UHFFFAOYSA-N n-octyloctan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCC QXJGVICBAANVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLYJXPKHTZCZOG-UHFFFAOYSA-N n-tetradecyltetradecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCC SLYJXPKHTZCZOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKBLHLQAECPJPP-UHFFFAOYSA-N octyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)-2-sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(S)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 OKBLHLQAECPJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)methanone Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MQOCIYICOGDBSG-UHFFFAOYSA-M potassium;hexadecanoate Chemical compound [K+].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O MQOCIYICOGDBSG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- IJRHDFLHUATAOS-DPMBMXLASA-M sodium ricinoleate Chemical compound [Na+].CCCCCC[C@@H](O)C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O IJRHDFLHUATAOS-DPMBMXLASA-M 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N tridodecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Natural products NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N trioctadecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N vinyl sulfide Chemical group C=CSC=C UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
Ces compositions contiennent au moins un absorbant d'UV du type benzotriazole de formule I où R1 est l'hydrogène ou le chlore, R2 est un groupe alkyle de 4 à 28 atomes de carbone ou -CmH2mCOOR4 où m est de 1 à 4 et R4 est l'hydrogène ou un groupe alkyle de 1 à 18 atomes de carbone, et R3 est le groupe alpha-cumyle, apportent une excellente protection contre la lumière à des revêtements de finition à couche d'électrodéposition/couche colorée/couche transparente, ainsi qu'à des matériaux d'enregistrement tels que ceux utilisés pour l'impression à jet d'encre, la technologie photographique ou l'impression par transfert à diffusion de colorant.
Description
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Compositions de polymère de revêtement et compositions de matériau d'enregistrement stabilisées
La présente invention concerne des compositions de film polymère de revêtement et des compositions de matériau d'enregistrement, protégées contre une détérioration catastrophique par la présence de certains absorbants d'UV du type benzotriazole.
Le brevet des E. U. A. No 4 278 589 décrit la prépa-
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ration du 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-tert-octylphényl)- 2H-benzotriazole et du 2- (2-hydroxy-3-tert-octyl-5-a-cumylphényl)-2H-benzotriazole. Le brevet des E. U. A. No 4 278 589 décrit également la préparation du 2- (2-hydroxy-3, 5-dia-cumylphényl) -2H-benzotriazole.
Ce dernier composé est un absorbant d'UV très efficace, mais qui est malheureusement relativement insoluble, sa solubilité n'étant que d'environ 14 % (en poids) dans le xylène. Étant donné que ces solvants aromatiques sont menacés d'interdiction à cause d'inquiétudes pour l'environnement, il faut chercher assidûment un benzotriazole efficace qui possède l'efficacité générale de stabilisation à la" lumière du 2- (2-hydroxy-3, 5-di-a-cumyl- phényl) -2H-benzotriazole et qui soit soluble dans les solvants approuvés pour l'environnement.
Le document japonais Kokai 75/158588 décrit la
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préparation du 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-méthylphényl) - 2H-benzotriazole et du 2- (2-hydroxy-3-méthyl-5-a-cumylphényl)-2H-benzotriazole comme absorbants d'UV efficaces.
Le brevet des E. U. A. No 4 283 327 enseigne la préparation du 2- (2-hydroxy-3, 5-di-tert-octylphényl)- 2H-benzotriazole et du 5-chloro-2- (2-hydroxy-3, 5-di-tertoctylphényl)-2H-benzotriazole. Les brevets des E. U. A.
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No 4 587 346,4 675 352, 4 973 701,5 095 062 et 5 240 975 décrivent la préparation de mélanges de benzotriazoles liquides par post-alkylation de benzotriazoles préformés en utilisant des alcènes supérieurs et un catalyseur acide.
Ces produits sont des mélanges liquides complexes de divers benzotriazoles apparentés et sont solubles dans les solvants acceptables pour l'environnement. Cependant, bien que ces absorbants d'UV soient très solubles dans les solvants acceptables pour l'environnement, ils ne possèdent pas la stabilité thermique des dérivés de benzotriazole qui sont substitués à la position 3 par un fragment a-cumyle.
Les présents dérivés de benzotriazole sont substitués à la position 3 par un groupe a-cumyle et à la position 5 par un groupe alkyle ou par un groupe alkyle à substituant carboxyalkyle. Ces matières sont plus solubles dans les solvants d'étendage courants que les tris-aryls-triazines qui sont fonctionnalisées par des groupes alkyle simples. Les solvants d'étendage courants comprennent le xylène, la méthylamylcétone, le Butylcellosolve, le Butylcarbitol et la méthylisobutylcétone. Cette fonctionnalité, jointe au poids moléculaire élevé des composés, confère aux présents composés une faible tendance migratoire lorsqu'ils sont incorporés dans la couche de base d'un système à couche transparente/couche de base.
Le but de la présente invention est de fournir un procédé de protection d'un système de revêtement à couche d'électrbdépositi'on/couche de base/couche transparente pour l'empêcher'de se détacher d'un substrat, consistant à y incorporer un benzotriazole soluble spécifique substitué à la position 3 du noyau phényle par un fragment a-cumyle.
Un autre but de la présente invention est de fournir des matériaux d'enregistrement stabilisés contre les effets nuisibles de la lumière actinique en utilisant les benzotriazoles solubles spécifiques substitués à la position 3 du noyau phényle par un fragment a-cumyle.
Il faut remarquer que les exigences requises des peintures et produits de revêtement à usage automobile
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se sont considérablement modifiées au cours de ces dernières années. Ceci joint aux inquiétudes croissantes pour l'environnement que suscite l'utilisation de certains solvants hydrocarbonés aromatiques a poussé fortement l'industrie à apporter de nouvelles solutions à certains problèmes très difficiles à résoudre.
Les absorbants d'UV du type benzotriazole sont depuis longtemps un point d'appui dans ce domaine, le 2-[2-hydroxy- 3, 5-di ( < x-cumyl) phényl]-2H-benzotriazole étant le plus utile et le représentant type de ce que peuvent offrir les absorbants d'UV du type benzotriazole. Malheureusement, ce composé n'a qu'une solubilité limitée (environ 14 % en poids) dans le toluène ou le xylène, et il est peu soluble dans des solvants plus convenables pour l'environnement.
Cette limitation devient plus embarrassante depuis que les solvants aromatiques sont en voie de déclin à cause d'inquiétudes pour l'environnement. De plus, la solubilité relativement faible de ce composé, même dans les solvants aromatiques, limite la concentration totale d'absorbant d'UV du type benzotriazole qui peut être introduite dans le système de revêtement. Étant donné que les exigences de durée de vie sont en voie de doublement pour un revêtement de finition d'automobile, la faible solubilité dudit benzotriazole constitue un réel obstacle.
Heureusement, il existe des absorbants d'UV du type benzotriazole qui sont solubles et thermiquement
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stables, srincipalement la nouvelle variété cristalline de 2- (2-hydroxy-3-apumyl-S-tert-octylphényl) -2H-benzotriazole, qui possèdent la même faible volatilité et la même efficacité supérieure de stabilisation à la lumière que celles du 2- [2-hydroxy-3, 5-di ( < x-cumyl) phényl]-2H-benzotriazole, mais qui sont solubles dans des solvants convenables pour l'environnement et qui peuvent être ajoutés aux produits de finition d'automobile à une concentration suffisamment élevée pour répondre aux nouvelles exigences de plus longue durée de vie requises de ces revêtements de finition. Ceci est démontré dans les Exemples de travail.
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Ces solvants convenables pour l'environnement sont, par exemple, l'acétate d'éthyle, l'acétate d'isopropyle, l'acétate de butyle, l'acétate d'isobutyle, l'acétate d'amyle, l'acétate de propyle, l'acétate d'oxohexyle, l'acétate d'oxo-octyle, l'éther monométhylique de propylèneglycol, l'éther monométhylique de dipropylène-glycol, l'acétate d'éther monométhylique de propylène-glycol, l'acétate d'éther monométhylique de dipropylène-glycol, l'éther phénylique de propylène-glycol, l'éther n-propylique de propylène-glycol, l'éther t-butylique de propylèneglycol, le propionate de n-amyle, la diisobutylcétone, la cyclohexanone, la méthylisoamylcétone, la méthylamylcétone, la diisoamylcétone, la méthylhexylcétone, l'éthanol, le 2-éthylhexanol, le diacétone-alcool, l'alcool éthylamylique, le propanol,
l'isobutanol, l'alcool isotridécylique, le butoxyéthoxypropanol, l'isobutyrate d'isobutyle, l'ester diméthylique d'acide pentanedioïque, l'acétate de 3-méthoxyn-butyle, le propionate de n-amyle.
Les présentes compositions incluent également une composition qui contient, de plus, une quantité stabilisante efficace d'un stabilisant à la lumière du type tris-aryls-triazine, amine à empêchement stérique ou benzofuranne- 2-one, ou un mélange de tels stabilisants.
De préférence, ces compositions contiennent, de plus, une quantité stabilisante efficace de 2,4-bis- (2, 4-diméthylphényl)-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphényl)- s-triazifte, 2, 4-bris (2, 4-diméthylphényl) -6- {2-hydroxy- 4-[3- (pentadécyloxy) -2-hydroxypropoxy]phényl} -s-triazine, sébacate de bis (1-octyloxy-2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine- 4-yle), sébacate de bis (1,2, 2,6, 6-pentaméthylpipéridine- 4yle), N-1, 2,2, 6,6-pentaméthylpipéridine-4-yl-n-dodécylsuccinimide ou N-1-acétyl-2, 2,6, 6-tétraméthylpipéridine- 4-yl-n-dodécylsuccinimide.
La matière organique stabilisée dans ces systèmes de revêtement est un film polymère qui est, par exemple, une résine acrylique/mélamine, une résine polyester/ mélamine, une résine acrylique/uréthanne, une résine
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polyester/uréthanne, une résine époxy/acide ou une résine acrylique modifiée par un siloxane.
La présente invention concerne une composition de film polymère qui comprend (a) une couche primaire d'électrodéposition qui adhère à un substrat métallique ; (b) une couche de base ou couche colorée qui adhère à la couche d'électrodéposition et qui comprend un liant filmogène et un pigment organique ou un pigment minéral ou un mélange d'entre eux ;
(c) une couche transparente qui adhère à la couche de base et qui comprend un liant filmogène ; et (d) 1 à 20 % en poids, par rapport au poids du liant filmogène de la couche contenant le benzotriazole, d'au moins un absorbant d'UV du type benzotriazole de formule
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où
R1 est l'hydrogène ou le chlore,
R2 est un groupe alkyle de 4 à 28 atomes de carbone
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ou"CH COOR, où m est de 1 à 4 et R4 est l'hydrogène ou un groupe alkyle de 1 à 18 atomes de carbone, et
R3 est le groupe a-cumyle contenu tans la couche de base ou dans la couche transparente, ou à la'fois dans la couche de base et la couche transparente, de préférence dans la couche transparente.
De préférence, R1 est l'hydrogène, R2 est un groupe alkyle de 8 à 12 atomes de carbone ou-CHCOOR où m est 2 et R4 est un groupe alkyle de 1 à 12 atomes de carbone, et R3 est le groupe a-cumyle.
Très préférablement, R1 est l'hydrogène, R2 est un groupe tert-octyle, nonyle ou dodécyle, et R3 est le groupe a-cumyle ; et tout particulièrement R1 est l'hydrogène, R2 est le groupe tert-octyle et R3 est le groupe a-cumyle.
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Des exemples du groupe alkyle de 1 à 18 atomes de carbone sont les groupes méthyle, éthyle, propyle, butyle, pentyle, hexyle, heptyle, octyle, nonyle, décyle, undécyle, dodécyle, tétradécyle, hexadécyle et octadécyle, et les isomères ramifiés correspondants.
La composition de film polymère décrite ci-dessus peut également comporter une couche supplémentaire entre la couche primaire d'électrodéposition et la couche de base ou colorée, cette couche supplémentaire comprenant (i) un liant filmogène et un pigment organique ou un pigment minéral ou un mélange d'entre eux ; et (ii) au moins un absorbant d'UV du type benzotriazole, soluble et thermiquement stable, de formule I. En outre, cette couche supplémentaire peut également contenir une quantité stabilisante efficace d'un stabilisant à la lumière du type amine à empêchement stérique.
Les revêtements qui peuvent être stabilisés contre l'action de la lumière et de l'humidité selon la présente invention sont, par exemple, les vernis au four classiques à base de résine alkyde qui sont utilisés en particulier pour les peintures à usage automobile (vernis de finition pour automobiles), par exemple les vernis à base de résines alkyde/mélamine et de résines alkyde/acrylique/mélamine [voir :"Lackkunstharze"de H. Wagner et H. F. Sarx (1977), pages 99-123]. D'autres agents de réticulation comprennent des résines de glycolurile, des isocyanates bloqués ou des
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résines epoxy.
Les vernis stabilisés selon l'invention conviennent aussi bien pour les revêtements de finition métallisée que pour les finitions à teinte unie, en particulier dans le cas des retouches de finitions, ainsi que pour diverses applications d'enduction de bandes en continu. Les vernis stabilisés selon l'invention sont de préférence appliqués de la manière classique par deux procédés, soit le procédé à couche unique, soit le procédé à deux couches. Dans ce dernier procédé, la couche de base contenant le pigment est appliquée d'abord, puis une couche recouvrante de vernis transparent est appliquée sur celle-ci.
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Il est également à remarquer que les revêtements de la présente invention peuvent être des résines thermodurcissables non catalysées par un acide, telles que des résines époxy, époxy-polyesters, vinyliques, alkydes, acryliques et polyesters, facultativement modifiées par du silicium, des isocyanates ou des isocyanurates. Les résines époxy et époxy-polyesters sont réticulées par des agents de réticulation classiques tels que des acides, anhydrides d'acides, amines, etc. De même, l'époxyde peut être utilisé comme agent de réticulation pour divers systèmes à base de résine acrylique ou polyester qui ont été modifiés par la présence de groupes réactifs sur la structure du squelette.
Lorsqu'ils sont utilisés dans des revêtements de finition à deux couches, les composés de la présente invention peuvent être incorporés dans la couche transparente, ou à la fois dans la couche transparente et dans la couche de base pigmentée.
Pour réaliser le maximum de stabilisation à la lumière, il peut être avantageux d'utiliser conjointement d'autres stabilisants à la lumière classiques. Comme exemples de ces stabilisants, on peut citer des absorbants d'UV du type benzophénone, benzotriazole, cyanoacrylate ou oxanilide, ou des stabilisants à la lumière contenant un métal, tels que des composés organiques du nickel, ou des stabilisants à la lumière du type amine à empêchement stérique. Dans les systèmes à deux couches, ces autres stabilisants à la lumière peuvent être ajoutés à la couche transparente ou a chacune de la couche transparente et de la couche de base pigmentée.
En général, les composés de la présente invention sont utilisés en une proportion d'environ 1 à environ 20 % en poids du liant filmogène. Un intervalle avantageux est de 1 à 5 %, de préférence 1,5 à 5 %.
Les compositions stabilisés résultantes de la présente invention peut également contenir, facultativement, environ 0,01 à environ 5 %, de préférence environ 0,025 à environ 2 % et notamment environ 0,1 à environ 1 % en poids
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de divers additifs classiques, par exemple les substances énumérées ci-dessous, ou des mélanges d'entre elles.
D'autres compositions offrant un intérêt particulier comprennent celles qui contiennent, de plus, un absorbant
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d'UV choisi parmi les benzophénones, benzotriazoles, dérivés d'acide cyanoacrylique, hydroxyaryl-s-triazines, composés organiques du nickel et oxanilides.
Les absorbants d'UV préférés sont choisis parmi
EMI8.2
le 2-[2-hydroxy-3, S-di- (a, a-diméthylbenzyl) phényl]-2H-benzotriazole, le2- (2-hydroxy-3, 5-di-tert-amylphényl)-2H-benzotriazole, le 2-[2-hydroxy-3-tert-butyl-S- (w-hydroxy-octa- (éthylène-oxy) carbonyl) éthylphényl]-2H-benzotriazole, le 2-[2-hydroxy-3-tert-butyl-S- (2-octyloxycarbonyléthyl) phényl]-2H-benzotriazole, le 4, 4'-dioctyloxyoxanilide, le 2, 2'-dioctyloxy-5, 5'-di-tert-butyloxanilide, le2, 2'-didodécyloxy-5, 5'-di-tert-butyloxanilide, le 2-éthoxy-2'-éthyl-
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oxanilide, la 2, 6-bis (2,
4-diméthylphényl)-4- (2-hydroxy- 4-octyloxyphényl) -s-triazine, la 2, 6-bis (2, 4-diméthylphényl) -4- (2, 4-dihydroxyphényl) -s-triazine, la 2, 4-bis- (2, 4-dihydroxyphényl) -6- (4-chlorophényl) -s-triazine, la 2, 6-bis (2, 4-diméthylphényl)-4- [2-hydroxy-4- (2-hydroxy- 3-dodécyloxypropanoxy) phényl]-s-triazine et la 2,2'-dihydroxy-4,4'-diméthoxybenzophénone.
D'autres compositions intéressantes comprennent celles qui contiennent, de plus, une quantité stabilisante efficace d'un antioxydant phénolique ; celles qui contiennent, de'plus, un dérivé d'amine à empêchement stérique ; ou qui contiennent, de plus, un stabilisant du type phosphite ou phosphonite.
Les compositions offrant un intérêt particulier comprennent également celles dans lesquelles la matière organique est une peinture-émail à haut extrait sec qui est utilisée pour une finition industrielle, qui est utilisée comme produit d'enduction de bandes en continu, qui est utilisée comme produit de finition pénétrant pour le bois ou qui est utilisée comme produit de finition en film pour le bois.
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Lorsque les présents composés contiennent également un groupe fonctionnel réactif, ces composés peuvent être liés chimiquement au substrat polymère par une réaction de condensation ou une réaction d'addition radicalaire. On obtient ainsi un stabilisant absorbant d'UV non sublimable, non migrant. De tels groupes fonctionnels réactifs comprennent des groupements hydroxyle, carboxyle et éthyléniquement insaturés.
Les compositions de polymère stabilisées résultantes de l'invention peuvent également contenir, facultativement, environ 0,01 à environ 5 %, de préférence environ 0,025 à environ 2 % et notamment environ 0,1 à environ 1 % en poids de divers additifs classiques tels que les composés énumérés ci-dessous ou des mélanges d'entre eux.
1. Antioxydants
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1. 1. Monophénols alkylés, par exemple : 2, 6-di-tert-butyl- 4-méthylphénol, 2-tert-butyl-4, 6-diméthylphénol, 2, 6-di-tert-butyl-4-éthylphénol, 2, 6-di-tert-butyl- 4-n-butylphénol, 2, 6-di-tert-butyl-4-isobutylphénol, 2, 6-dicyclopentyl-4-méthylphénol, 2- (a-méthylcyclohexyl)-4, 6-diméthylphénol, 2, 6-dioctadécyl-4-méthyl- phénol, 2,4, 6-tricyclohexylphénol, 2,6-di-tert-butyl-
4-méthoxyméthylphénol.
1. 2. Hydroquinones alkylées, par exemple : 2, 6-di-tert- butyl-4-méthoxyphénol, 2, 5-di-tert-butylhydroquinone,
2,5-di-tert-amylhydroquinone, 2,6-diphényl-4-octadécyl-
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oxyp'hénol. o xyp 1.3. Thioéthers de diphényle hydroxylés, par exemple
2, 2'-thio-bis (6-tert-butyl-4-méthylphénol), 2,2'-thio- bis (4-octylphénol), 4,4'-thio-bis (6-tert-butyl-3-méthyl- phénol), 4,4'-thio-bis (6-tert-butyl-2-méthylphénol).
1.4. Alkylidène-bisphénols, par exemple : 2, 2'-méthylène-
EMI9.3
bis (6-tert-butyl-4-méthylphénol), 2, 2'-méthylènebis (6-tert-butyl-4-éthylphénol), 2, 2'-méthylène-bis- [4-méthyl-6- (a-méthylcyclohexyl) phénol], 2, 2'-méthylène- bis (4-méthyl-6-cyclohexylphénol), 2,2'-méthylènebis (6-nonyl-4-méthylphénol), 2,2'-méthylène-bis-
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[6- (a-méthylbenzyl)-4-nonylphénolL 2, 2'-méthylène-bis- [6- (a, a-diméthylbenzyl) -4-nonylphénol], 2, 2'-méthylènebis (4, 6-di-tert-butylphénol), 2, 2'-éthylidène-bis- (4, 6 di-tert-butylphénol), 2, 2'-éthylidène-bis (6-ter- butyl-4-isobutylphénol), 4,4'-méthylène-bis (2, 6-di- tert-butylphénol), 4,4'-méthylène-bis (6-tert-butyl-
EMI10.2
2-méthylphénol), 1, 1-bis (5-tert-butyl-4-hydroxy- 2-méthylphényl) butane, 2,
6-bis (3-tert-butyl-5-méthyl- 2-hydroxybenzyl)-4-méthylphénol, 1,1, 3-tris (5-ter- butyl-4-hydroxy-2-méthylphényl) butane, 1,1-bis (5-tertbutyl-4-hydroxy-2-méthylphényl)-3-n-dodécylmercapto-
EMI10.3
butane, bis [3, 3-bis (3'-tert-butyl-4'-hydroxyphényl) butyrate] d'éthylène-glycol, bis (3-tert-butyl-4-hydroxy-
5-méthylphényl) dicyclopentadiène, téréphtalate de bis[2-(3'-tert-butyl-2'-hydroxy-5'-méthylbenzyl)-
6-tert-butyl-4-méthylphényle].
1.5. Composés benzylés, par exemple : 1,3, 5-tris (3,5-di- tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-2, 4, 6-triméthylbenzène, sulfure de bis (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyle), ester isooctylique d'acide 3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxy- benzylthioglycolique, dithiotéréphtalate de bis (4-tert- butyl-3-hydroxy-2,6-diméthylbenzyle), isocyanurate de 1,3, 5-tris (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyle), isocyanurate de 1,3, 5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-
2,6-diméthylbenzyle), ester dioctadécylique d'acide
EMI10.4
3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphorique, sel de calcium de l'ester monoéthylique d'acide 3, 5-di-tert- butyl-4-hydroxybenzylphosphorique.
1.6. Acylaminophénols, par exemple : 4-hydroxyanilide d'acide laurique, 4-hydroxyanilide d'acide stéarique,
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2, 4-bis (octylmercapto) -6- (3, 5-tert-butyl-4-hydroxyanilino)-s-triazine, N- (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxy- phényl) carbamate d'octyle.
1.7. Esters de l'acide P- (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxy- phényl) propionique avec des mono-ou polyalcools tels que les suivants :
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méthanol diéthylène-glycol octadécanol triéthylène-glycol
1,6-hexanediol pentaérythritol néopentyl-glycol isocyanurate de tris (hydroxy- éthyle) thiodiéthylène-glycol dihydroxyéthyloxamide 1.8. Esters de l'acide ss- (5-tert-butyl-4-hydroxy-3-méthyl- phényl) propionique avec des mono-ou polyalcools tels que les suivants : méthanol diéthylène-glycol octadécanol triéthylène-glycol
1,6-hexanediol pentaérythritol néopentyl-glycol isocyanurate de tris (hydroxy- éthyle) thiodiéthylène-glycol dihydroxyéthyloxamide 1.9.
Amides de l'acide 0- (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxy- phényl) propionique, par exemple : N, N'-bis (3, 5-di-tert- butyl-4-hydroxyphénylpropionyl) hexaméthylènediamine,
N, N'-bis (3, S-di-tert-butyl-4-hydroxyphénylpropionyl) - triméthylènediamine, N, N'-bis (3, 5-de-tert-butyl-
4-hydroxyphénylpropionyl) hydrazine.
2. Absorbants d'UV et stabilisants à la lumière 2.1. 2- (2'-hydroxyphényl) benzotriazoles, par exemple les dérivés portant des substituants 5'-méthyle, 3', 5'-di- tert-butyle, S'-ert-butyle, 5'- (1, 1,3, 3-tétraméthyl-
EMI11.1
butyle), 5-chloro-3', 5'-di-tert-butyle, 5-chloro- 3'-tert-bubyl-S'-méthyle, 3'-sec-butyl-5'-tert-butyle, 4'-octoxy, 3', 5'-di-tert-amyle, 3', 5'-bis (a, a-diméthylbenzyle), 3'-tert-butyl-5'-[2- (w-hydroxyocta (éthylène- oxy) carbonyl-éthyle], 3'-dodécyl-5'-méthyle et 3'-tert- butyl-5'- (2-octyloxycarbonyl) éthyle et dodécyl- S'-méthyle.
2.2. 2-hydroxybenzophénones, par exemple les dérivés portant des substituants 4-hydroxy, 4-méthoxy, 4-octoxy,
4-décyloxy, 4-dodécyloxy, 4-benzyloxy, 4, 2', 4'-tri- hydroxy et 2'-hydroxy-4,4'-diméthoxy.
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2.3. Esters d'acides benzoïques facultativement substitués, par exemple : salicylate de phényle, salicylate de 4-tert-butylphényle, salicylate d'octylphényle, di- benzoylrésorcinol, bis (4-tert-butylbenzoyl) résorcinol, benzoylrésorcinol, ester 2,4-di-tert-butylphénylique de
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l'acide 3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoïque et ester hexadécylique de l'acide 3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxy- benzoïque.
2.4. Acrylates, par exemple : ester éthylique ou ester isooctylique de l'acide a-cyano-P, ss-diphénylacrylique, ester méthylique de l'acide a-carbométhoxycinnamique, ester méthylique ou ester butylique de l'acide a-cyano-
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P-méthyl-p-méthoxycinnamique, ester méthylique de l'acide a-carbométhoxy-p-méthoxycinnamique, N- (P-carbo- méthoxy-ss-cyanovinyl) -2-méthylindoline.
2.5. Composés du nickel, par exemple : complexes du nickel avec le 2, 2'-thio-bis [4- (1, 1,3, 3-tétraméthylbutyl)- phénol] tels que le complexe à 1 : 1 ou 1 : 2, facultati- vement avec des ligands supplémentaires tels que la n-butylamine, la triéthanolamine ou la N-cyclohexyldi- éthanolamine, dibutyldithiocarbamate de nickel, sels de nickel d'esters monoalkyliques de l'acide 4-hydroxy-
3,5-di-tert-butylbenzylphosphonique tels que l'ester de méthyle, éthyle ou butyle, complexes du nickel avec des cétoximes telles que la 2-hydroxy-4-méthylphényl- undécylcétoxime, complexes du nickel avec le 1-phényl- 4-lauroyl-5-hydroxypyrazole, facultativement avec des ligands supplémentaires.
2.6. Amines à empêchement stérique, par exemple : sébacate de bis (2,2, 6,6-tétraméthylpipéridyle), sébacate de bis (1,2, 2,6, 6-pentaméthylpipéridyle, ester bis- (1, 2,2, 6,6-pentaméthylpipéridylique) de l'acide n-butyl-
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3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylmalonique, produit de condensation de la 1-hydroxyéthyl-2, 2, 6, 6-tétraméthyl- 4-hydroxypipéridine et de l'acide succinique, produit de condensation de la N, N'- (2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridyl)hexaméthylènediamine et de la 4-tert-octylamino-
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2, 6-dichloro-s-triazine, nitrilotriacétate de tris- (2,2, 6,6-tétraméthylpipéridyle), butane-1,2, 3,4- tétracarboxylate de tétrakis (2,2, 6,6-tétraméthyl-
4-pipéridyle), 1, 1'- (éthane-1, 2-diyl)-bis (3,3, 5, 5- tétraméthylpipérazinone).
2.7. Diamides de l'acide oxalique, par exemple
4,4'-dioctyloxy-oxanilide, 2, 2'-dioctyloxy-5, 5'-di- tert-butyloxanilide, 2, 2'-didodécyloxy-5, 5'-di-tert- butyloxanilide, 2-éthoxy-2'-éthyloxanilide, N, N'-bis- (3-diméthylaminopropyl) oxamide, 2-éthoxy-5-tert-butyl-
2'-éthyloxanilide et son mélange avec le 2-éthoxy-
2'-éthyl-5, 4'-di-tert-butyloxanilide et mélanges d'ortho-et para-méthoxy-ainsi que de o-et p-éthoxy- oxanilides disubstitués.
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2. 8. Hydroxyphényl-s-triazines, par exemple : 2, 6-bis- (2, 4-diméthylphényl)-4- (2-hydroxy-4-octyloxyphényl)s-triazine, 2, 6-bis (2, 4-diméthylphényl)-4- (2, 4-dihydroxyphényl)-s-triazine, 2, 4-bis (2, 4-dihydroxyphényl) -6- (4-chlorophényl) -s-triazine, 2, 4-bis- [2-hydroxy-4- (2-hydroxyéthoxy) phényl]-6- (4-chlorophényl)-s-triazine, 2, 4-bis [2-hydroxy-4- (2-hydroxy- 4- (2-hydroxyéthoxy) phényl]-6- (2, 4-diméthylphényl) s-triazine, 2, 4-bis [2-hydroxy-4- (2-hydroxyéthoxy)phényl]-6- (4-bromophényl) -s-triazine, 2, 4-bis- (2-hydroxy-4- (2-acétoxyéthoxy) phényl]-6- (4-chlorophényl)-s-triazine, 2, 4-bis (2, 4-dihydroxyphényl)- 6- (24-diméthylphényl)-s-triazine, 2, 4-bis (2, 4-diméthylphényl) -6- (2-hydroxy-4-[3- (2-éthylhexyloxy) -2-hydroxypropoxy] phényl}--triazine, 2, 4-bis (2, 4-diméthylphényl)-6- {2-hydroxy-4- [3- (pentadécyloxy)
-2-hydroxy- propoxy] phényl}-s-triazine.
3. Désactivateurs de métaux, par exemple : N, N'-diphényl- oxamide, N-salicylal-N'-salicyloylhydrazine, N, N'-bis- (salicyloyl) hydrazine, N, N'-bis (3, 5-di-tert-butyl-
4-hydroxyphénylpropionyl) hydrazine, 3-salicyloylamino-
1,2, 4-triazole, bisbenzylidène-dihydrazide d'acide oxalique.
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4.
Phosphites et phosphonites, par exemple : phosphite de triphényle, phosphites de diphényle et d'alkyle, phosphites de phényle et de dialkyle, phosphite de tris (nonylphényle), phosphite de trilauryle, phosphite de trioctadécyle, diphosphite de distéaryle et de
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pentaérythritol, phosphite de tris (2, 4-di-tert-butyl- phényle), diphosphite de diisodécyle et de penta- érythritol, diphosphite de di (2, 4-di-tert-butylphényle) et de pentaérythritol, triphosphite de tristéaryle et de sorbitol, 4,4'-diphénylène-diphosphonite de
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tétrakis (2, 4-di-tert-butylphényle).
5. Composés qui détruisent les peroxydes, par exemple esters d'acide ss-thiodipropionique tels que les esters de lauryle, stéaryle, myristyle ou tridécyle, mercaptobenzimidazole ou sel de zinc du 2-mercaptobenzimidazole, dibutyldithiocarbamate de zinc, disulfure de diocta- décyle, tétrakis (ss-dodécylmercapto) propionate de penta- érythritol.
6. Hydroxylamines, par exemple : N, N-dibenzylhydroxylamine,
N, N-diéthylhydroxylamine, N, N-dioctylhydroxylamine,
N, N-dilaurylhydroxylamine, N, N-ditétradécylhydroxyl- amine, N, N-dihexadécylhydroxylamine, N, N-dioctadécyl- hydroxylamine, N-hexadécyl-N-octadécylhydroxylamine, N-heptadécyl-N-octadécylhydroxylamine, N, N-dialkyl- hydroxylamine dérivée d'amine de suif hydrogéné.
7. Nitrones, par exemple : N-benzyl-alpha-phénylnitrone,
N-éthyl-alpha-méthylnitrone, N-octyl-alpha-heptyl- nitrone, N-lauryl-alpha-undécylnitrone, N-tétradécyl- alpha-tridécylnitrone, N-hexadécyl-alpha-pentadécyl- nitrone, N-octadécyl-alpha-heptadécylnitrone, N-hexa- décyl-alpha-heptadécylnitrone, N-octadécyl-alpha- pentadécylnitrone, N-heptadécyl-alpha-heptadécyl- nitrone, N-octadécyl-alpha-hexadécylnitrone, nitrone dérivée de N, N-dialkylhydroxylamine dérivée d'amine de suif hydrogéné.
8. Stabilisants pour polyamides, par exemple : sels de cuivre en association avec des iodures et/ou des composés phosphorés et sels de manganèse divalent.
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9. Co-stabilisants basiques, par exemple : mélamine, polyvinylpyrrolidone, dicyandiamide, cyanurate de triallyle, dérivés d'urée, dérivés d'hydrazine, amines, polyamides, polyuréthannes, sels de métaux alcalins et sels de métaux alcalino-terreux d'acides gras supérieurs tels que le stéarate de calcium, le stéarate de zinc, le stéarate de magnésium, le ricinoléate de sodium et le palmitate de potassium, pyrocatécholate d'antimoine ou pyrocatécholate de zinc.
10. Agents de nucléation, par exemple : acide 4-tert-butyl- benzoïque, acide adipique, acide diphénylacétique.
11. Charges et agents de renforcement, par exemple carbonate de calcium, silicates, fibres de verre, amiante, talc, kaolin, mica, sulfate de baryum, oxydes et hydroxydes métalliques, noir de carbone, graphite.
12. Autres additifs, par exemple : plastifiants, lubrifiants, agents émulsionnants, pigments, agents d'avivage optique, ignifuges, agents antistatiques, agents gonflants et agents de synergisme sulfurés tels que le thiodipropionate de dilauryle ou le thiodipropionate de distéaryle.
Un antioxydant phénolique particulièrement intéressant est choisi parmi le 3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate de n-octadécyle, le tétrakis (3, 5-di-ter & -butyl- 4-hydroxyhydrocinnamate de néopentane-tétrayle, le 3, 5-ditert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate de di-n-octadécyle, l'isocyaHturate de.
1, 3,5-tris (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyle), le bis (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate) de thiodiéthylène, le 1,3, 5-triméthyl-2,4, 6-tris (3, 5-di- tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzène, le bis (3-méthyl-5-tert- butyl-4-hydroxyhydrocinnamate) de 3,6-dioxaoctaméthylène, le 2, 6-di-tert-butyl-p-crésol, le 2, 2'-éthylidène-bis (4,6-di-
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tert-butylphénol), l'isocyanurate 1, 3, 5-tris (2, 6-diméthyl- 4-tert-butyl-3-hydroxybenzyle), le 1, 1, 3-tris (2-méthyl- 4-hydroxy-5-tert-butylphényl) butane, l'isocyanurate de 1, 3, 5-tris [2- (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamoyloxy)- éthyle], le3, 5-d (3, 5-di- tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mési tol,
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le bis (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate) d'hexaméthylène, la 1- (3,
5-di-tert-butyl-4-hydroxyanilino) - 3, 5-di (octylthio)-s-triazine, le N, N'-hexaméthylène-bis (3, 5di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamamide), le sel de calcium de bis (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate de mono- éthyle), le bis [3, 3-di (3- tert-butyl-4-hydroxyphényl) butyrate] d'éthylène, le3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylthioglycolate d'octyle, le bis (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamoyl) hydrazide et le N, N'-bis[2- (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamoyloxy) éthyl] oxamide.
Un antioxydant phénolique très apprécié est le tétrakis (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate) de
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néopentane-tétrayle, le 3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate de n-octadécyle, le 1, 3, 5-triméthyl-2, 4, 6-tris- (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzène, l'isocyanurate de 1, 3, 5-tris (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyle), le 2, 6di-tert-butyl-p-crésol ou le 2, 2'-éthylidène-bis (4, 6-di- tert-butylphénol).
Une amine à empêchement stérique particulièrement intéressante est choisie parmi le sébacate de bis (2,2, 6,6tétraméthylpipéridine-4-yle), le sébacate de bis (1, 2,2, 6,6pentaméthylpipéridine-4-yle), le (3,5-di-tert-butyl- 4-hydroxybenzyl) butylmalonate de bis (1, 2,2, 6,6-pentaméthylpipéridine-4-yle), la 4-benzoyl-2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine, la 4-stéaryloxy-2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine, la 3-n-octyl-7,7, 9, 9-tétraméthyl-1, 3, 8-triazaspiro [4. 5]- décane-2-dione, -le ni trilotriacétate de tris (2,2, 6,6tétraméthylpipéridine-4-yle), le 1,2-bis (2,2, 6,6-tétraméthyl-3-oxopipérazine-4-yl) éthane, le 2,2, 4,4-tétraméthyl- 7-oxa-3, 20-diaza-21-oxodispiro [5. 1.11.
2] henéicosane, le produitdepolycondensationde2, 4-dichloro-6-tert-octyl- amino-s-triazine et de 4,4'-hexaméthylène-bis (amino-2,2, 6,6tétraméthylpipéridine), le produit de polycondensation de 1- (2-hydroxyéthyl)-2, 2,6, 6-tétraméthyl-4-hydroxypipéridine et d'acide succinique, le produit de polycondensation de 4,4'-hexaméthylène-bis (amino-2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine) et de 1,2-dibromoéthane, le butane-1, 2,3, 4-tétracarboxylate
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de tétrakis (2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine-4-yle), le butane- 1,2, 3, 4-tétracarboxylate de tétrakis (1, 2,2, 6,6-pentaméthylpipéridine-4-yle), le produit de polycondensation de 2, 4-dichloro-6-morpholino-s-triazine et de 4,4'-hexaméthylènebis (amino-2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine), le N, N',
N't Nltl- tétrakis [ (4,6-bis (butyl-2,2, 6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yl)-
EMI17.1
amino-s-triazine-2-yl]-1, 10-diamin-4, 7-diazadécane, le butane-1, 2, 3, 4-tétracarboxylate mixte de [2, 2, 6, 6-tétra- méthylpipéridine-4-yle/ss, ss, ss', ss'-tétraméthyl-3, 9- (2, 4, 8, 10tétraoxaspiro [5. 5] undécane) diéthyle], le butane-1, 2,3, 4tétracarboxylate mixte de [1, 2,2, 6,6-pentaméthylpipéridine- 4-yle/P, ss, P', ss'-tétraméthyl-3, 9- (2, 4, 8, 10-tétraoxaspiro- [5.
5] undécane) diéthyle], le bis (2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine-4-carboxylate) d'octaméthylène, la 4,4'-éthylène-bis- (2,2, 6,6-tétraméthylpipérazine-3-one), le N-2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine-4-yl-n-dodécylsuccinimide, leN-1, 2,2, 6,6pentaméthylpipéridine-4-yl-n-dodécylsuccinimide, le N-1-acétyl-2, 2,6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yl-n-dodécylsuccinimide, la 1-acétyl-3-dodécyl-7, 7,9, 9-tétraméthyl- 1,3, 8-triazaspiro [4.
5] décane-2, 4-dione, le sébacate de bis (1-octyloxy-2, 2,6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yle), le succinate de bis (1-cyclohexyloxy-2, 2,6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yle), la 1-octyloxy-2,2, 6,6-tétraméthyl- 4-hydroxypipéridine, le poly{{6-tert-ocylamino-s-triazine-
EMI17.2
2, 4-diyl] [2- (1-cyclohexyloxy-2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine- 4-yl) imino-hexaméthylène-[4- (1-cyclohexyloxy-2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yl) imino], la 2, 4, 6-tris[N- (1-cyclohexyloxy-2, 2, 6, 6-tétEaméthylpipéridine-4-yl)-n-butylamino]s-triazine, la 2, 4-bis[N- (1-cyclohexyloxy-2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yl) -n-butylamino]-6-[di (2-hydroxyéthyl) amino]-s-triazine et la 2, 4-bis[N- (1-octyloxy-2, 2, 6, 6tétraméthylpipéridine-4-yl) -n-butylamino]-6-[di (2-hydroxy- éthyl) amino]-s-triazine.
Une amine à empêchement stérique très appréciée est le sébacate de bis (2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine-4-yle), le sébacate de bis (1,2, 2,6, 6-pentaméthylpipéridine-4-yle), le (3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) butylmalonate de bis (1, 2,2, 6,6-pentaméthylpipéridine-4-yle), le produit de
<Desc/Clms Page number 18>
polycondensation de 1-(2-hydroxyéthyl)-2, 2,6, 6-tétraméthyl- 4-hydroxypipéridine et d'acide succinique, le produit
EMI18.1
de polycondensation de 2, 4-dichloro-6-tert-octylaminos-triazine et de 4, 4'-hexaméthylène-bis (amino-2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine), le N, N', N'', N'''-tétrakis [ (4, 6-bis (butyl- (2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yl) amino) -s-triazine- 2-yl]- 1, 1 0-diamino-4, 7 -diazadécane, le sébacate de bis (1 -octyloxy- 2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine-4-yle),
le succinate de bis- (1-cyclohexyloxy-2,2, 6,6-tétraméthylpipéridine-4-yle), la 1-octyloxy-2,2, 6, 6-tétraméthyl-4-hydroxypipéridine, le poly {[6-tert-octylamino-s-triazine-2,4-diyl][2-(1-cyclohexyloxy-2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yl) imino-hexa-
EMI18.2
méthylène-[4- (1-cyclohexyloxy-2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine- 4-yl) imino] ou la 2, 4, 6-tris[N- (1-cyclohexyloxy-2, 2, 6, 6- tétraméthylpipéridine-4-yl)-n-butylamino]-s-triazine.
Les benzotriazoles utilisés dans la présente invention peuvent être préparés selon des procédés classiques et connus. Des exemples de ces procédés sont donnés dans les Exemples de Préparation 1 à 9. La variété cristalline particulièrement préférée du 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert- octylphényl)-2H-benzotriazole fondant dans l'intervalle de 109 à 1110C et ayant un diagramme de diffraction des rayons X, obtenu en utilisant la raie Ka du cuivre, qui présente les angles de diffraction (2#) indiqués ci-dessous :
EMI18.3
<tb>
<tb> Pic <SEP> No <SEP> 2# <SEP> Pic <SEP> No <SEP> 2# <SEP> Pic <SEP> No <SEP> 20 <SEP> Pic <SEP> ? <SEP> 26
<tb> 1 <SEP> ", <SEP> "9, <SEP> 6 <SEP> 2 <SEP> 10,2 <SEP> 3 <SEP> 10,4 <SEP> 4 <SEP> 10,8
<tb> 5 <SEP> 1 <SEP> 2, <SEP> 8.... <SEP> 6 <SEP> 13,8 <SEP> 7 <SEP> 14,2 <SEP> 8 <SEP> 14,8
<tb> 9 <SEP> 15,0 <SEP> 10 <SEP> 16,4 <SEP> 11 <SEP> 16,8 <SEP> 12 <SEP> 17,8
<tb> 13 <SEP> 18,0 <SEP> 14 <SEP> 18,6 <SEP> 15 <SEP> 19,0 <SEP> 16 <SEP> 19,4
<tb> 17 <SEP> 19,8 <SEP> 18 <SEP> 20,2 <SEP> 19 <SEP> 20,6 <SEP> 20 <SEP> 21,2
<tb> 21 <SEP> 21,4 <SEP> 22 <SEP> 23,0 <SEP> 23 <SEP> 23,4 <SEP> 24 <SEP> 24,6
<tb> 25 <SEP> 26,0 <SEP> 26 <SEP> 28,0 <SEP> 27 <SEP> 29,0 <SEP> 28 <SEP> 30,4
<tb> 29 <SEP> 31,
<SEP> 0
<tb>
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peut être obtenue en dissolvant ledit composé dans un solvant aromatique et en précipitant le composé par addition d'un alcanol inférieur ; ou bien en cristallisant ou recristallisant le composé dans un alcanol inférieur seul en association avec une petite quantité d'un solvant aromatique.
De préférence, le procédé consiste à cristalliser ou recristalliser ledit composé dans un alcanol de 1 à 4 atomes de carbone, seul ou en association avec une petite quantité d'un solvant aromatique.
Des solvants aromatiques qui peuvent être utilisés dans le procédé ci-dessus sont, par exemple, le toluène et le xylène. Lorsqu'ils sont utilisés en petite quantité, cette petite quantité peut aller, par exemple, jusqu'à 15 % ou, de préférence, de 5 à 15 % en volume par rapport au volume total de solvant utilisé.
Quelques alcanols utiles dans le présent procédé sont, par exemple, le méthanol, l'éthanol, le n-propanol, l'isopropanol, le 1-butanol, l'alcool sec-butylique et l'alcool isobutylique. De préférence, l'alcanol est un alcanol de 2,3 ou 4 atomes de carbone, très préférablement l'isopropanol ou le 1-butanol.
Un autre aspect encore de la présente invention réside dans l'application des présents composés de formule I à des matériaux d'enregistrement. Les matériaux d'enregistrement selon l'invention conviennent à des systèmes de copie sensibles à'la pression, des systèmes de photocopie utilisant des microcapsules, des systèmes de copie thermosensibles, des matériaux photographiques et l'impression à jet d'encre.
Les matériaux d'enregistrement selon l'invention se distinguent par une amélioration de qualité inattendue, notamment pour ce qui concerne la solidité à la lumière.
Les matériaux d'enregistrement selon l'invention ont la structure connue pour leur usage particulier.
Ils consistent en un support usuel, par exemple du papier ou une pellicule de matière plastique, qui a été revêtu
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d'une ou plusieurs couches. Ces couches contiennent les constituants nécessaires appropriés selon le type du matériau. Par exemple, dans le cas de matériaux photographiques, elles contiennent des émulsions à l'halogénure d'argent, des coupleurs chromogènes, des colorants, etc.
Un matériau particulièrement approprié pour l'impression à jet d'encre comporte une couche très absorbante pour l'encre déposée sur un support usuel. Du papier non couché peut également être utilisé pour l'impression à jet d'encre. Dans ce cas, le papier sert à la fois de support et de couche absorbant l'encre. Un matériau approprié pour l'impression à jet d'encre est, par exemple, décrit dans le brevet des E. U. A. No 5 073 448.
Le matériau d'enregistrement peut également être transparent, comme dans le cas, par exemple, des films de projection.
Les composés de formule I peuvent être incorporé au matériau de support dès sa production. Par exemple, dans la production de papier, ils peuvent être ajoutés à la pâte à papier. Un autre procédé d'application consiste à pulvériser une solution aqueuse des composés de formule I sur le matériau de support, ou à ajouter les composés de formule à la composition de revêtement.
Les compositions de revêtement destinées à des matériaux d'enregistrement transparents convenant pour la projection ne peuvent contenir de particules qui diffusent la lumière, comme des pigments ou des charges.
La composition de revêtement pour liaison de colorants peuvent contenir un certain nombre d'autres additifs, par exemple des antioxydants, des stabilisants à la lumière (incluant aussi des absorbants d'ultraviolet qui n'appartiennent pas à la classe des absorbants d'ultraviolet selon l'invention), des agents améliorant la viscosité, des agents d'avivage fluorescents, des biocides et/ou des agents antistatiques.
La composition de revêtement est habituellement préparée comme suit : les composants hydrosolubles,
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par exemple le liant, sont dissous dans l'eau et agités ensemble. Les composants solides, par exemple des charges et autres additifs déjà décrits, sont dispersés dans ce milieu aqueux. La dispersion est avantageusement effectuée au moyen d'appareils, par exemple des agitateurs à ultrasons, agitateurs à turbine, homogénéisateurs, broyeurs colloïdogènes, broyeurs à billes, broyeurs à sable, agitateurs à grande vitesse, etc. Un avantage particulier des composés de formule I est qu'ils peuvent être facilement incorporés à la composition de revêtement.
Le matériau d'enregistrement selon la présente invention contient de préférence 1 à 5000 mg/m2, en particulier 50 à 1200 mg/m2, d'un composé de formule I.
Comme déjà indiqué, les matériaux d'enregistrement selon l'invention couvrent un large domaine. Les composés de formule I peuvent être utilisés, par exemple, dans des systèmes de copie sensibles à la pression. Ils peuvent être introduits soit dans le papier afin de protéger les précurseurs de colorant microencapsulés contre la lumière, soit dans le liant de la couche de développateur pour protéger les colorants qui y sont formés.
Des systèmes de photocopie utilisant des microcapsules sensibles à la lumière qui sont développées par pression sont décrits dans les brevets des E. U. A.
NO 4 416 966,4 483 912, 4 352 200,4 535 050,4 5365 463, 4 551 407,4 562 137 et 4 608 330, ainsi que dans les documentsEP-A-139'479, EP-A-162 664, EP-A-164 931, EP-A- 237 024, EP-A-237 025 et EP-A-260 129. Dans tous ces systèmes, les composés de formule I peuvent être introduits dans la couche réceptrice de colorant. Les composés de formule I peuvent cependant être introduits également dans la couche donneuse afin de protéger les formateurs de couleur contre la lumière.
Des matériaux photographiques qui peuvent être stabilisés sont les colorants photographiques et les couches contenant de tels colorants ou leurs précurseurs, par exemple le papier et les films photographiques. Des matériaux
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appropriés sont décrits, par exemple, dans le brevet des E. U. A. No 5 364 749. Les composés de formule I agissent dans ce cas comme un filtre anti-UV contre les éclairs électrostatiques. Dans les matériaux photographiques en couleurs, les coupleurs et colorants sont également protégés contre une décomposition photochimique.
Les composés de formule I peuvent être utilisés dans tous les types de matériaux d'enregistrement photographique en couleurs. Par exemple, ils peuvent être utilisés pour du papier photographique en couleurs, du papier photographique inversible en couleurs, un matériau positif direct de photographie en couleurs, un film négatif en couleurs, un film positif en couleurs, un film inversible en couleurs, etc.
Ils sont de préférence utilisés, entre autres, pour un matériau photographique en couleurs qui contient un substrat inversible ou forme des positifs.
Les matériaux d'enregistrement photographique en couleurs contiennent habituellement, sur un support, une couche d'émulsion à l'halogénure d'argent sensible au bleu et/ou sensible au vert et/ou sensible au rouge, et facultativement une couche de protection, les composés de formule I se trouvant, de préférence, dans la couche sensible au vert ou dans la couche sensible au rouge ou dans une couche située entre la couche sensible vert et la couche sensible au rouge, ou dans une couche se trouvant au-dessus des couches d'émulsion à l'halogénure d'argent.
Ces composés de formule I peuvent également être utilisés dans les matériaux d'enregistrement basés sur les principes de photopolymérisation, de photoplastification ou de rupture de microcapsules, ou dans les cas où l'on utilise des sels de diazonium sensibles à la chaleur et sensibles à la lumière, des leucobases de colorants ayant un agent oxydant ou des lactones de colorants ayant des acides de Lewis.
De plus, ils peuvent être employés dans les matériaux d'enregistrement pour l'impression par transfert à diffusion de colorant, l'impression par transfert thermique de cire et l'impression matricielle, et pour l'utilisation
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avec des imprimantes électrostatiques, électrographiques, électrophorétiques, magnétographiques et électrophotographiques à laser et des traceurs à style. Parmi ceux qui précèdent, les matériaux d'enregistrement pour l'impression par transfert à diffusion de colorant sont préférés, comme décrit par exemple dans le document EP-A-507 734.
Les composés de formule I peuvent également être utilisés dans des encres, de préférence pour l'impression à jet d'encre, comme décrit plus en détail, par exemple, dans le brevet des E. U. A. ? 5 098 477. Un autre objet de la présente invention est donc une encre contenant au moins un composé de formule I comme stabilisant. L'encre, en particulier pour l'impression à jet d'encre, contient de préférence de l'eau. Les encres contenant le stabilisant de formule I en une concentration de 0,01 à 20 % en poids, notamment de 0,5 à 10 % en poids, sont également préférées.
Les diagrammes de diffraction des rayons X sont enregistrés sur un radiodiffractomètre Philips Norelco utilisant la raie Ka du cuivre avec un filtre de nickel.
Tous les échantillons ont une granulométrie uniforme de 40 à 75 micromètres. Cette distribution granulométrique est la même que celle obtenue avec le composé de l'art antérieur de l'Exemple 2.
Les exemples suivants sont présentés pour illustrer l'invention et non pour en limiter la nature ou la portée.
Exemples de Préparation 1 à 9 Exemple T : 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-tert-octylphényl)-
2H-benzotriazole
Dans un ballon de 5 litres à trois tubulures équipé d'un agitateur, d'un thermomètre, d'un condenseur au reflux et d'une entrée d'azote, on place 380 g (0,8 mol) de 2-nitro- 2'-hydroxy-3'-a, a-diméthylbenzyl-5'-tert-octylazobenzène et 1200 ml de toluène. A la solution résultante, on ajoute 240 ml d'isopropanol et 240 ml d'eau. Une atmosphère d'azote est appliquée et l'on ajoute 160 ml d'une solution aqueuse à 50,1 % d'hydroxyde de sodium. Un ballon contenant 158,2 g (2,42 atomes-grammes) de zinc est raccordé au ballon
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de réaction et la poudre de zinc est ajoutée par portions au mélange réactionnel en une période de 90 minutes.
La température interne est maintenue entre 40 et 450C pendant l'addition et pendant une heure de plus, puis le mélange est chauffé pendant 3 heures à 70 C. Le mélange est refroidi à la température ambiante et acidifié avec 600 ml d'acide chlorhydrique concentré. La boue de zinc est enlevée par filtration. Le produit est contenu dans la phase organique qui est lavée avec 4 portions de 340 ml d'acide chlorhydrique dilué, puis déshydratée sur sulfate de sodium anhydre. Le solvant organique est éliminé sous vide en laissant un produit brut sous forme d'un sirop visqueux.
Un échantillon de 300 g du produit brut est dissous dans 300 ml de xylène. A cette solution sous agitation, on ajoute ensuite 600 ml d'éthanol pour obtenir 254 g de la nouvelle variété cristalline soluble du composé de formule I, ayant un point de fusion de 109 à 1110C et ne présentant qu'une seule tache dans la chromatographie en couche mince.
Analyse :
Calculé pour CqHN. O : C-78,9 ; H-8,0 ; N-9,5
Trouvé : C-78,7 ; H-8,1 ; N-9,6
Ce produit a un spectre de diffraction des rayons X, obtenu en utilisant la raie Ka du cuivre, qui présente les angles de diffraction (28) indiqués ci-dessous :
EMI24.1
<tb>
<tb> Pic <SEP> ? <SEP> 2# <SEP> Pic <SEP> ? <SEP> 29 <SEP> Pic <SEP> ? <SEP> 29 <SEP> Pic <SEP> No <SEP> 2#
<tb> 1 <SEP> 9,6 <SEP> 2 <SEP> 10, <SEP> 2 <SEP> 3 <SEP> 10,4 <SEP> 4 <SEP> 10,8
<tb> 5 <SEP> 12, <SEP> 8 <SEP> 6 <SEP> 13, <SEP> 8 <SEP> 7 <SEP> 14, <SEP> 2 <SEP> 8 <SEP> 14, <SEP> 8
<tb> 9 <SEP> 15, <SEP> 0 <SEP> 10 <SEP> 16,4 <SEP> 11 <SEP> 16, <SEP> 8 <SEP> 12 <SEP> 17,8
<tb> 13 <SEP> 18, <SEP> 0 <SEP> 14 <SEP> 18,6 <SEP> 15 <SEP> 19, <SEP> 0 <SEP> 16 <SEP> 19,4
<tb> 17 <SEP> 19, <SEP> 8 <SEP> 18 <SEP> 20,2 <SEP> 19 <SEP> 20,6 <SEP> 20 <SEP> 21,
2
<tb> 21 <SEP> 21, <SEP> 4 <SEP> 22 <SEP> 23,0 <SEP> 23 <SEP> 23,4 <SEP> 24 <SEP> 24,6
<tb> 25 <SEP> 26, <SEP> 0 <SEP> 26 <SEP> 28, <SEP> 0 <SEP> 27 <SEP> 29, <SEP> 0 <SEP> 28 <SEP> 30, <SEP> 4
<tb> 29 <SEP> 31,0
<tb>
<Desc/Clms Page number 25>
Exemple 2 : Forme amorphe du 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-S-tert- octylphényl)-2H-benzotriazole
Le composé préparé dans l'Exemple 1 est chauffé pour former une masse fondue, puis on le laisse se solidifier de nouveau. La matière amorphe obtenue a un point de fusion de 59 à 74 C. La chromatographie en couche mince présente une seule tache, identique à celle obtenue à partir du produit de l'Exemple 1.
La diffraction des rayons X montre un diagramme dépourvu de caractéristiques, confirmant la nature amorphe du composé obtenu dans cet exemple.
Exemple 3 : 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-nonylphényl)-
2H-benzotriazole
Le composé du titre est préparé selon le mode opératoire général de l'Exemple 1 sous forme d'une résine couleur d'ambre, mais en effectuant la réduction du o-nitroazobenzène intermédiaire correspondant par hydrogénation catalytique.
Analyse :
Calculé pour C30H37N30 : C-79,1 ; H-8,2 ; N-9, 2
Trouvé : C-79,5 ; H-8,5 ; N-9, 0 Exemple 4 : 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-tert-octylphényl)-
2H-benzotriazole
Le composé du titre est préparé par hydrogénation catalytique du o-nitroazobenzène utilisé dans l'Exemple 1 sous forme d'un solide d'un blanc cassé. Un échantillon
EMI25.1
de 100 g de ce solide est recristallisé dans 100 ml < t d'isopropanol,. de nouveau dans 100 ml d'un mélange isopropanol : toluène à 19 : 1 et finalement dans 100 ml d'un mélange isopropanol : toluène à 9 : 1 pour donner 78 g du composé du titre fondant entre 109 et 1110C et présentant la même variété cristalline et le même diagramme de diffraction des rayons X que le composé préparé dans l'Exemple 1.
Exemple 5 : 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-nonylphényl) -
2H-benzotriazole
Le composé du titre est préparé selon le mode opératoire général de l'Exemple 1 sous forme d'une résine couleur d'ambre.
<Desc/Clms Page number 26>
Exemple 6 : 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-S-dodécylphényl) -
2H-benzotriazole
Le composé du titre est préparé selon le mode opératoire général de l'Exemple 1 sous forme d'une résine couleur d'ambre.
Données de RMN de H dans CDC13 [ppm] : 0,8-0, 9 triplets ;
1,3-1, 42 singulets ; 1,9 singulets ; 7,14-7, 30 complexe ; 7,44 complexe ; 7,48-7, 64 doublets méta ; 7,86 complexe ; 8,20-8, 34 doublets méta ;
11,38-11, 46 singulet.
Les données confirment la structure du composé du titre.
Exemple 7 : 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-dodécylphényl)-
2H-benzotriazole
Le composé du titre est préparé selon le mode opératoire général de l'Exemple 1 sous forme d'une résine couleur d'ambre, mais en effectuant la réduction du o-nitroazobenzène correspondant par hydrogénation catalytique.
Exemples 8 et 9
En suivant le mode opératoire général des Exemples
EMI26.1
1 et 4, on prépare les composés suivants de formule
EMI26.2
H NNI,, N-- a-cumyle L i --t jTo.-cumyle / R
EMI26.3
Exemple R 8 2CH2COOCH3 . -CH2CH2COOCSH17 Exemple 10 : Solubilité dans les Solvants Organiques
Afin d'incorporer un stabilisant absorbant d'UV dans des systèmes à base de résine acrylique thermodurcissable à haut extrait sec, l'absorbant d'UV doit être soluble dans un solvant organique approprié. Jusqu'à maintenant, des solvants tels que des hydrocarbures aromatiques, le toluène ou le xylène, ont offert un pouvoir dissolvant suffisant pour ces absorbants d'UV, même pour le 2- (2-hydroxy-3, 5-di- α-cumylphényl)-2H-benzotriazole peu soluble.
<Desc/Clms Page number 27>
Cependant, l'éviction progressive possible de ces solvants hydrocarbonés aromatiques pour des raisons touchant à l'environnement, la tendance allant vers les produits de revêtement à plus haut extrait sec et les exigences croissantes de l'industrie automobile pour des peintures à usage automobile qui durent jusqu'à 10 ans conduisent au besoin d'un absorbant d'UV plus soluble, non volatil, mais tout aussi efficace. De plus, l'absorbant d'UV doit être soluble dans un solvant convenable pour l'environnement.
La solubilité relative de cinq absorbants d'UV du type benzotriazole différents dans sept solvants organiques typiques est mesurée en dissolvant l'absorbant d'UV du type benzotriazole dans 50 à 100 ml de sept solvants différents jusqu'à ce que le solutions soient sursaturées. Ceci se voit lorsque le benzotriazole commence à se déposer au fond du ballon d'essai. Les solutions sursaturées sont laissées au repos pendant une nuit. Ensuite, la phase supérieure est décantée et filtrée. Le filtrat résultant contenant le benzotriazole dissous dans le solvant est soumis à des essais en triple pour déterminer le pourcentage de matière sèche en utilisant la méthode d'essai ASTM D-2369-81.
Le benzotriazole est d'autant plus soluble que le pourcentage de matière sèche est plus élevé. Les résultats sont présentés dans le tableau ci-dessous.
EMI27.1
Solvant Solubilité en grammes/100 de solvant* A B C D Xylène 14 76 > 50 > 50 Acétate de butyle 6 33 > 50 > 50 Méthylamylcétone 4 33 > 50 > 50 Acétone n. d. n. d. > 50 > 50 EXXATEa600 4 22 > 50 > 50 Acétate de PM 3 14 > 50 > 50 Solvant PM n. d. 4 n. d. n. d.
<Desc/Clms Page number 28>
* A est le 2- (2-hydroxy-3, 5-di-a-cumylphényl)-
2H-benzotriazole (pour comparaison).
B est le composé de l'Exemple 4.
C est le composé de l'Exemple 3.
D est le composé de l'Exemple 7.
EMI28.1
EXXATE600 est l'acétate d'hexyle de Exxon. Acétate de PM est l'acétate de 1-méthoxy-2-propyle.
Solvant PM est le 1-méthoxy-2-propanol
Le xylène est actuellement un solvant réglementé et il est cité comme un solvant PAD (Polluant Atmosphérique Dangereux). En tant que tel, le xylène est en voie d'éviction rapide comme solvant pour tous types de produits de revêtement, et un solvant de remplacement approprié devient indispensable.
Les autres solvants énumérés sur le tableau ci-dessus ne font pas actuellement l'objet de réglementation ou de suppression et sont devenus plus courants dans l'industrie des revêtements.
La tendance récente dans l'industrie des revêtements est en faveur des produits de revêtement à plus haut extrait sec, ce qui conduit à utiliser encore moins de solvant pour dissoudre l'absorbant d'UV. Le besoin d'un absorbant d'UV non volatil plus soluble est très évident.
L'examen des résultats portés dans le tableau montre que l'absorbant d'UV A est nettement moins soluble dans chacun des solvants que ne le sont les absorbants d'UV B à D. De fait, la solubilité de l'absorbant d'UV A dans tout solvant autre que le xylène le disqualifie essentiellement en tant que stabilisant utilisable dans les nouveaux revêtements pour automobiles à longue durée de vie auxquelles s'imposent les contraintes mentionnées ci-dessus.
Les absorbants d'UV B à D possèdent également l'excellente non-volatilité manifestée par l'absorbant d'UV A. Cette combinaison de propriétés fait des absorbants d'UV B à D des candidats de choix pour l'utilisation dans des produits de revêtement à haut extrait sec pour automobiles à longue durée de vie.
<Desc/Clms Page number 29>
Exemple 11 :
La variété amorphe de 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-tertoctylphényl)-2H-benzotriazole, telle que préparée dans l'Exemple 2, présente essentiellement les mêmes paramètres de solubilité dans les divers solvants que ceux indiqués dans l'Exemple 10 pour la nouvelle variété cristalline de 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-tert-octylphényl)-2H-benzotriazole préparée dans l'Exemple 1 ou 4, excepté que la forme amorphe
EMI29.1
de2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-S-tert-octylphényl) -2H-benzo- triazole se dissout bien plus facilement et rapidement dans les solvants non-PAD. C'est là un net avantage en faveur de l'utilisation du composé amorphe de l'Exemple 2 dans les applications pratiques.
Exemple 12 : Rétention du brillant de couches transparentes acryliques thermodurcissables à haut extrait sec contenant des absorbants d'UV, appliquées directement sur une couche de base métallisée argentée et une couche primaire d'électrodéposition
Des panneaux revêtus sont préparés en appliquant par pulvérisation de fraîche à fraîche un film ayant une épaisseur de 0,072 à 0,102 mm d'une composition modèle pour couche transparente de mélamine acrylique thermodurcissable à haut extrait sec, admettant des PAD, contenant 2 % en poids d'un stabilisant examiné, sur une composition pour couche de base métallisée argentée disponible dans le commence, directement sur des panneaux UNIPRIMEQ de 10,16 cm x 30, 48 cm fournis par Advanced Coating Technology, Inc.,
portant une couche primaire d'électrodéposition. Les panneaux revêtus sont ensuite cuits à 121 C pendant trente minutes. Les panneaux revêtus sont ensuite exposés dans un appareil Weather-0-meter Ci-65 (Atlas Electric Devices) selon la norme ASTM G 26-90. Le brillant des panneaux exposés est mesuré à intervalles de 300 heures. Un brillant supérieur dénote une plus grande protection offerte au revêtement par l'absorbant d'UV du type benzotriazole soluble.
<Desc/Clms Page number 30>
Les présents composés solubles de formule I confèrent aux revêtements une bonne rétention du brillant.
En effet, étant donné qu'une bien plus forte concentration de benzotriazole soluble peut être facilement incorporée au revêtement, les benzotriazoles solubles apportent au système de revêtement acrylique thermodurcissable à haut extrait sec une rétention du brillant bien supérieure à celle obtenue lorsqu'une quantité seulement limitée de benzotriazole est possible à cause des limitations de solubilité.
Exemple 13 Rétention du brillant de couches transparentes acryliques thermodurcissables à haut extrait sec contenant des absorbants d'UV, appliquées directement sur une couche métallisée argentée et une couche primaire d'électrodéposition
Des panneaux revêtus préparés comme dans l'Exemple 12 sont également exposés dans un appareil d'exposition QUV (Q Panel Co. ) selon la norme ASTM G 53. Le brillant à 20 est de nouveau mesuré à intervalles de 300 heures, des valeurs de brillant plus élevées dénotant plus grande protection du revêtement.
Les présents composés solubles de formule I confèrent aux revêtements une bonne rétention du brillant.
En effet, étant donné qu'une bien plus forte concentration de benzotriazole soluble peut être facilement incorporée au revêtement, les benzotriazoles solubles apportent au système de revêtement acrylique thermodurcissable à haut extrait sec une rétention du brillant bien supérieure à celle obtenue lorsqu'une quantité seulement limitée de benzotriazole est possible à cause des limitations de solubilité.
De fait, les panneaux stabilisés avec un absorbant d'UV du type benzotriazole soluble de formule I présentent une rétention du brillant d'au moins 50 % après 3000 heures dans l'appareil d'exposition QUV.
<Desc/Clms Page number 31>
Exemple 14 Rétention du brillant de couches transparentes d'uréthanne acrylique contenant des absorbants d'UV, appliquées directement sur une couche de base métallisée argentée et une couche primaire d'électrodéposition
Des panneaux revêtus sont préparés en appliquant par pulvérisation de fraîche à fraîche un film ayant une épaisseur de 0,036 à 0,051 mm d'une composition modèle pour couche transparente d'uréthanne acrylique à haut extrait sec, admettant des PAD, contenant un stabilisant examiné, sur une composition pour couche de base métallisée argentée disponible dans le commerce, directement sur des panneaux UNIPRIME4 de 10,16 cm x 30,48 cm fournis par Advanced Coating Technology, Inc., portant une couche primaire d'électro-
EMI31.1
déposition. Les panneaux revêtus sont ensuite cuits à 121 C pendant trente minutes.
Les panneaux revêtus sont ensuite exposés dans un appareil Weather-0-meter Ci-65 (Atlas Electric Devices) selon la norme ASTM G 26-90. Le brillant des panneaux exposés est mesuré à intervalles de 300 heures.
Un brillant supérieur dénote une plus grande protection offerte au revêtement par l'absorbant d'UV du type benzotriazole soluble.
Les présents composés solubles de formule I confèrent aux revêtements une bonne rétention du brillant.
En effet, étant donné qu'une bien plus forte concentration de benzotriazole soluble peut être facilement incorporée au revêtement, les benzotriazoles solubles apportent au système de revêtement acrylique thermodurcissable à haut extrait sec une rétention du brillant bien supérieure à celle obtenue lorsqu'une quantité seulement limitée de benzotriazole est possible à cause des limitations de solubilité.
Exemple 15 Rétention du brillant de couches transparentes d'uréthanne acrylique contenant des absorbants d'UV, appliquées directement sur une couche de base métallisée argentée et une couche primaire d'électrodéposition
<Desc/Clms Page number 32>
Des panneaux revêtus préparés comme dans l'Exemple 14 sont également exposés dans un dispositif d'exposition QUV (Q Panel Co. ) selon la norme ASTM G 53. Le brillant à 20 est également mesuré à intervalles de 300 heures, des valeurs de brillant plus élevées dénotant plus grande protection du revêtement.
Les présents composés solubles de formule I confèrent aux revêtements une bonne rétention du brillant.
En effet, étant donné qu'une bien plus forte concentration de benzotriazole soluble peut être facilement incorporée au revêtement, les benzotriazoles solubles apportent au système de revêtement acrylique thermodurcissable à haut extrait sec une rétention du brillant bien supérieure à celle obtenue lorsqu'une quantité seulement limitée de benzotriazole est possible à cause des limitations de solubilité.
Exemple 16 Rétention d'opacité aux UV-A de couches transparentes acryliques thermodurcissable à haut extrait sec, appliquées directement sur une lame de microscope en quartz
Des lames de microscope en quartz revêtues sont préparées en appliquant par pulvérisation un film d'une épaisseur de 0,018 à 0,026 mm d'une composition modèle pour couche transparente de mélamine acrylique thermodurcissable à haut extrait sec, admettant des PAD, contenant un absorbant d'UV examiné. Les lames en quartz revêtues sont ensuite
EMI32.1
cuites à. cuites à-J21OC pendant 30 minutes. La densité optique des films est ensuite mesurée à 345 nm.
Les lames en quartz revêtues sont ensuite exposées dans un dispositif d'exposition QUV (Q Panel Co. ) selon la norme ASTM G 53. La densité optique est ensuite mesurée de nouveau à intervalles de 1000 heures, des valeurs plus élevées de densité optique dénotant une plus grande protection du revêtement.
Les présents composés solubles de formule I confèrent aux revêtements des valeurs de densité optique plus élevées au bout de tous les intervalles de temps.
<Desc/Clms Page number 33>
En effet, étant donné qu'une bien plus forte concentration de benzotriazole soluble peut être facilement incorporée au revêtement, les benzotriazoles solubles apportent au système de revêtement acrylique thermodurcissable à haut extrait sec une rétention d'opacité aux UV-A bien supérieure à celle obtenue lorsqu'une quantité seulement limitée de benzotriazole est possible à cause des limitations de solubilité.
Exemple 17 Rétention aux UV-A de couches transparentes acryliques thermodurcissables à haut extrait sec, appliquées directement sur une lame de microscope en quartz
Des lames de microscope en quartz revêtues sont préparées selon les directives de l'Exemple 16. Ces lames revêtues sont également exposées dans un appareil Weather- 0-meter Ci-65 (Atlas Electric Devices) selon la norme ASTM G-26-90. La densité optique est mesurée à intervalles de 1000 heures, des valeurs plus élevées de densité optique dénotant une plus grande protection du revêtement.
Les présents composés solubles de formule I confèrent aux revêtements des valeurs de densité optique plus élevées au bout de tous les intervalles de temps.
En effet, étant donné qu'une bien plus forte concentration de benzotriazole soluble peut être facilement incorporée au revêtement, les benzotriazoles solubles apportent au système de revêtement acrylique thermodurcis-
EMI33.1
sable à nLut extrait sec une rétention d'opacité aux UV-A bien supérieure à. celle obtenue lorsqu'une quantité seule- ment limitée de benzotriazole est possible à cause des limitations de solubilité.
Exemple 18
La quantité d'absorbant d'UV indiquée dans le tableau ci-dessous est dissoute dans 2 ml d'acétate d'éthyle, 1 ml de cette solution est mélangé avec 9 ml d'une solution aqueuse de gélatine comprenant 27,6 g/l de gélatine et 6,8 g/l d'une solution aqueuse à 8 % d'acide 4,8-diisobutylnaphtalène-2-sulfonique (sel de sodium) comme
<Desc/Clms Page number 34>
agent mouillant]. Ce mélange est émulsionné par ultrasons pendant 3 minutes. Une portion de 7,5 ml de cette émulsion d'absorbant d'UV est mélangée avec 4,5 ml d'une solution aqueuse d'agent durcisseur (comprenant 0,24 % de 2-hydroxy- 4, 6-dichloro-s-triazine, sel de potassium). On verse 8 ml de cette émulsion dans un moule en polyester (13 x 18 cm).
Le produit coulé est durci pendant 7 jours à la température ambiante. Un spectromètre UV est ensuite utilisé pour déterminer les valeurs de densité maximale dans l'intervalle de 330 à 380 nm. L'échantillon est ensuite exposé dans une unité d'exposition Atlas en recevant au total 30,60, 90 ou 120 kJ/cm2, la densité maximale est mesurée de nouveau et la différence (-AD en %) entre les valeurs correspondantes est calculée. L'absorbant d'UV est d'autant plus stable que la valeur AD est plus petite.
EMI34.1
<tb>
<tb>
AD <SEP> en <SEP> %
<tb> Composé* <SEP> D <SEP> mg/m2
<tb> 30 <SEP> kJ <SEP> 60 <SEP> kJ <SEP> 90 <SEP> kJ <SEP> 120 <SEP> kJ
<tb> A <SEP> 2,0 <SEP> 492 <SEP> 4 <SEP> 8 <SEP> 16 <SEP> 25
<tb> B <SEP> 2,1 <SEP> 640 <SEP> 5 <SEP> 10 <SEP> 17 <SEP> 25
<tb> C <SEP> 2,1 <SEP> 560 <SEP> 4 <SEP> 7 <SEP> 12 <SEP> 24
<tb> D <SEP> 2,0 <SEP> 660 <SEP> 3 <SEP> 4 <SEP> 5 <SEP> 7
<tb> E <SEP> - <SEP> 1, <SEP> 9'726 <SEP> 2 <SEP> 4 <SEP> 5 <SEP> 8
<tb>
* A estle2- (2-hydroxy-3-sec-butyl-5-tert-butylphényl)-2H- benzotriazole (comparaison)
EMI34.2
B estle2- (2-hydroxy-3-dodécyl-5-méthylphényl)-2H-benzotriazole (comparaison) C est le 2- (2-hydroxy-3, S-di-tert-amylphényl) -2H-benzotriazole (comparaison) D est le 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-S-tert-octylphényl) -2H- benzotriazole (selon l'Exemple 1) E est le 2-(2-hydroxy-3-α
-cumyl-5-dodécylphényl)-2H-benzo- triazole (selon l'Exemple 7)
<Desc/Clms Page number 35>
Il est clair que les absorbants d'UV A, B et C ne sont pas aussi stables à la lumière que les absorbants d'UV D et E.
Exemples 19 à 21
Composés utilisés :
A. 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-tert-octylphényl) - 2H-benzotriazole, composé de l'Exemple 4 ;
EMI35.1
B. 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-nonylphényl) -2H-benzotriazole, composé de l'Exemple 3 ; C. 2- (2-hydroxy-3-a-cumyl-5-dodécylphényl)-2H-benzotriazole, composé de l'Exemple 7 ; D. 2- (2-hydroxy-3, 5-di-a-cumylphényl)-2H-benzo- triazole, disponible dans le commerce sous la désignation Tinuvin 900 chez Ciba-Geigy Corporation (pour comparaison) ; et
E. Sébacate de bis (1-octyloxy-2, 2,6, 6-tétraméthylpipéridine-4-yle), disponible dans le commerce sous la désignation Tinuvin 123 chez Ciba-Geigy Corporation.
Méthode d'essai 1-La composition pour couche transparente est préparée en mélangeant 60 parties de polyol acrylique avec 40 parties de Resimene 747 (hexaméthoxyméthylmélamine, Monsanto), ainsi qu'un catalyseur acide et des adjuvants d'écoulement. La composition pour couche de base est une mélamine acrylique. La composition pour couche de base noire est pulvérisée en une épaisseur d'environ 15,24 e. La composition pour couche transparente est pulvérisée sur la couch91. de base. noire pendant que celle-ci est encore fraîche, pour donner une couche transparente de 50,8 pm d'épaisseur.
La couche de base ne contient pas d'absorbant d'UV ni d'amine à empêchement stérique. La quantité dissoute du Composé D et du Composé A est portée au maximum en ajoutant l'absorbant d'UV examiné à la composition pour couche transparente qui contient suffisamment d'acétate de butyle utilisé comme solvant pour que la composition pour couche transparente ait une viscosité permettant son application par pulvérisation.
<Desc/Clms Page number 36>
A des fins de comparaison, on met également à l'essai une composition non stabilisée et une composition contenant le Composé A au taux normal de 3 % ou 4 % avec ou sans amine à empêchement stérique.
Méthode d'essai 2-Dans cet essai, on utilise une couche de base métallisée argentée à la mélamine acrylique ne contenant pas de stabilisant à la lumière.
Les Composés examinés A à D sont ajoutés à la composition modèle de résine mélamine acrylique ou de résine uréthanne acrylique thermodurcissable à haut extrait sec utilisée pour la couche transparente en utilisant de l'acétate de butyle (un solvant non-PAD).
19. En utilisant la méthode d'essai 1 dans un système modèle à couche de base noire/couche transparente acrylique thermodurcissable à haut extrait sec, les valeurs suivantes pour la rétention du brillant à 20 sont obtenues après exposition des échantillons dans un appareil QUV (ampoules FS40) pendant le nombre d'heures indiqué dans le tableau ci-dessous.
EMI36.1
<tb>
<tb>
Rétention <SEP> du <SEP> brillant <SEP> à <SEP> 200
<tb> Heures <SEP> d'exposition
<tb> Échantillon* <SEP> 0 <SEP> 1300 <SEP> 1908 <SEP> 2989 <SEP> 3162 <SEP> 3471 <SEP> 4041 <SEP> 4602
<tb> 1 <SEP> 93 <SEP> 88 <SEP> 73**
<tb> II <SEP> 90 <SEP> 91 <SEP> 89 <SEP> 85 <SEP> 84 <SEP> 77a <SEP> 61**
<tb> ) <SEP> *
<tb> III <SEP> 92 <SEP> 91 <SEP> 89 <SEP> 86 <SEP> 87 <SEP> 92 <SEP> 82 <SEP> 84
<tb> IV <SEP> 92 <SEP> 91 <SEP> 89 <SEP> 87 <SEP> 87 <SEP> 85 <SEP> 83 <SEP> 85
<tb> V <SEP> 93 <SEP> 91 <SEP> 88 <SEP> 82 <SEP> 65 <SEP> 42**
<tb> VI <SEP> 92 <SEP> 90 <SEP> 87 <SEP> 81 <SEP> 81 <SEP> 79 <SEP> 72 <SEP> 70
<tb>
I est un témoin à blanc non stabilisé ;
II contient 4 % en poids de Composé A ;
III contient 3 % en poids de Composé A plus 1 % en poids de Composé E ;
<Desc/Clms Page number 37>
IV contient 4 % en poids de Composé A plus 1 % en poids de Composé E ;
V contient 2,27 % en poids de Composé D ; et
VI contient 2,27 % en poids de Composé D plus 1 % en poids de Composé E.
** A ce moment, le revêtement s'était détérioré par fendillement. a La valeur pour l'Échantillon II était encore de 65 au bout de 3770 heures.
La quantité maximale de Composé A qui peut être dissoute dans la résine est de 4 % en poids et la quantité maximale de Composé D qui peut être dissoute dans la résine est de 2,27 % en poids.
D'après ces résultats, il est clair que le Composé A est plus soluble dans le système de résine et qu'il est très supérieur au Composé D de l'art antérieur, dont la solubilité est limitée dans le système de résine, par le fait qu'il maintient le brillant à 20 du système de résine lorsqu'il est utilisé seul ou, en particulier, lorsqu'il est utilisé conjointement à un stabilisant du type amine à empêchement stérique.
En effet, le Composé A peut protéger le revêtement pendant au moins 3770 heures, tandis que le maximum que le Composé D puisse offrir est de 3162 heures. Cela signifie que le Composé A offre 20 % d'amélioration de la rétention du brillant.
Lorsqu'il est utilisé conjointement au Composé E, le Composé A offre également 21 % d'amélioration de la rétention du brillant à 200 après 4602 heures d'exposition, par rapport au Composé D avec le Composé E.
20. En utilisant la méthode d'essai 2, dans un système modèle à couche de base noire/couche transparente acrylique thermodurcissable à haut extrait sec, les valeurs suivantes pour la rétention du brillant à 60 et 20 et la netteté d'image sont obtenues après exposition des échantillons dans un arc au xénon (CAM 180) pendant le nombre d'heures indiqué dans les tableaux ci-dessous.
<Desc/Clms Page number 38>
EMI38.1
<tb>
<tb>
Rétention <SEP> du <SEP> brillant <SEP> à <SEP> 60
<tb> Heures <SEP> d'exposition
<tb> Échantillon* <SEP> 0 <SEP> 961 <SEP> 1512 <SEP> 1811 <SEP> 2089 <SEP> 2375 <SEP> 2704
<tb> 1 <SEP> 96 <SEP> 96 <SEP> 92 <SEP> 88 <SEP> 81 <SEP> 66**
<tb> II <SEP> 95 <SEP> 95 <SEP> 86 <SEP> 79 <SEP> 71 <SEP> 57**
<tb> III <SEP> 96 <SEP> 96 <SEP> 95 <SEP> 92 <SEP> 88 <SEP> 90 <SEP> 81**
<tb> IV <SEP> 96 <SEP> 96 <SEP> 95 <SEP> 92 <SEP> 90 <SEP> 88 <SEP> 83**
<tb> V <SEP> 96 <SEP> 96 <SEP> 95 <SEP> 94 <SEP> 90 <SEP> 89 <SEP> 86**
<tb> Rétention <SEP> du <SEP> brillant <SEP> à <SEP> 20
<tb> Heures <SEP> d'exposition
<tb> tillon* <SEP> 0 <SEP> 961 <SEP> 1512 <SEP> 1811 <SEP> 2089 <SEP> 2375 <SEP> 2704
<tb> 1 <SEP> 93 <SEP> 85 <SEP> 60 <SEP> 56 <SEP> 46 <SEP> 24**
<tb> II <SEP> 93 <SEP> 86 <SEP> 50 <SEP> 41 <SEP> 35 <SEP> 22**
<tb> III <SEP> 93 <SEP> 92 <SEP> 85 <SEP> 79 <SEP> 66 <SEP> 68 <SEP>
55**
<tb> IV <SEP> 92 <SEP> 91 <SEP> 85 <SEP> 79 <SEP> 73 <SEP> 69 <SEP> 62**
<tb> V <SEP> 92 <SEP> 88 <SEP> 85 <SEP> 83 <SEP> 73 <SEP> 70 <SEP> 66**
<tb> Netteté <SEP> d'image
<tb> Échan-Heures <SEP> d'exposition
<tb> tillon* <SEP> 0 <SEP> 961 <SEP> 1512 <SEP> 1811 <SEP> 2089 <SEP> 2375 <SEP> 2704
<tb> 1 <SEP> 60 <SEP> 42 <SEP> 15 <SEP> 15 <SEP> 12 <SEP> 5**
<tb> II <SEP> 71 <SEP> 60 <SEP> 16 <SEP> 13 <SEP> 10 <SEP> 4**
<tb> III <SEP> 78 <SEP> 77 <SEP> 77 <SEP> 66 <SEP> 47 <SEP> 45 <SEP> 20**
<tb> IV <SEP> 78 <SEP> 62 <SEP> 65 <SEP> 65 <SEP> 64 <SEP> 65 <SEP> 58**
<tb> V <SEP> 68 <SEP> 55 <SEP> 59 <SEP> 59 <SEP> 58 <SEP> 60 <SEP> 60**
<tb>
<Desc/Clms Page number 39>
I est un témoin à blanc non stabilisé ;
II contient 0,24 % en poids de Composé D :
III contient 1, 2 % en poids de Composé A ;
IV contient 3 % en poids de Composé C ; et
V contient 3 % en poids de Composé B.
** A ce moment, le revêtement s'est détérioré par fendillement.
Dans cette méthode d'essai, l'absorbant d'UV est dissous dans un solvant non-PAD, l'acétate de butyle, puis ajouté au système de résine, comme cela se fait normalement dans l'industrie. La solubilité limitée du Composé D dans l'acétate de butyle ne permet d'incorporer au revêtement que 0,24 % en poids de Composé D par rapport à la matière sèche de résine. La plus grande solubilité du Composé A dans l'acétate de butyle permet d'incorporer au revêtement 1,2 % en poids de Composé A par rapport à la matière sèche de résine. La solubilité encore plus grande des Composés B et C dans l'acétate de butyle permet d'incorporer au revêtement 3 % en poids de Composé B ou de Composé C par rapport à la matière sèche de résine.
Dans chaque cas, le Composé A, B ou C plus soluble a donné une rétention de brillant à 60 ou 20 et une netteté d'image bien supérieures à celles obtenues avec le Composé D moins soluble.
21. En utilisant la méthode d'essai 2 dans une finition modèle d'"uréthanne"acrylique 2K, les valeurs suivantes sont obtenues pour la'rétention du brillant à 200 et la netteté d'image après exposition des échantillons à un arc au xénon (CAM 180) pendant le nombre d'heures indiqué dans les tableaux ci-dessous.
<Desc/Clms Page number 40>
EMI40.1
<tb>
<tb>
Rétention <SEP> du <SEP> brillant <SEP> à <SEP> 20
<tb> Heures <SEP> d'exposition
<tb> Échantillon* <SEP> 0 <SEP> 603 <SEP> 1235 <SEP> 2115 <SEP> 2692 <SEP> 2958 <SEP> 3287 <SEP> 3589
<tb> l <SEP> 90 <SEP> 37 <SEP> 19 <SEP> 34 <SEP> 33 <SEP> 38 <SEP> 35**
<tb> II <SEP> 89 <SEP> 85 <SEP> 48 <SEP> 47 <SEP> 53 <SEP> 78 <SEP> 76 <SEP> 62**
<tb> III <SEP> 89 <SEP> 89 <SEP> 83 <SEP> 73 <SEP> 65 <SEP> 84 <SEP> 87 <SEP> 73
<tb> IV <SEP> 90 <SEP> 89 <SEP> 84 <SEP> 72 <SEP> 69 <SEP> 83 <SEP> 89 <SEP> 73
<tb> V <SEP> 99 <SEP> 90 <SEP> 88 <SEP> 82 <SEP> 68 <SEP> 82 <SEP> 84 <SEP> 75
<tb> Netteté <SEP> d'image
<tb> Heures <SEP> d'exposition
<tb> tillon* <SEP> 0 <SEP> 603 <SEP> 1235 <SEP> 2115 <SEP> 2692 <SEP> 2958 <SEP> 3287 <SEP> 3589
<tb> 1 <SEP> 93 <SEP> 4 <SEP> 1 <SEP> 4 <SEP> 4 <SEP> 2 <SEP> 2**
<tb> II <SEP> 93 <SEP> 70 <SEP> 9 <SEP> 6 <SEP> 14 <SEP> 36 <SEP> 24 <SEP> 27**
<tb> III
<SEP> 94 <SEP> 94 <SEP> 82 <SEP> 36 <SEP> 25 <SEP> 38 <SEP> 37 <SEP> 20
<tb> IV <SEP> 91 <SEP> 94 <SEP> 84 <SEP> 43 <SEP> 32 <SEP> 45 <SEP> 45 <SEP> 24
<tb> V <SEP> 94 <SEP> 95 <SEP> 93 <SEP> 82 <SEP> 59 <SEP> 66 <SEP> 63 <SEP> 44
<tb>
EMI40.2
"'9.
I est un témoin à blanc non stabilisé ; II contient 0, 24 % en poids de Composé D : III contient 1, 2 % en poids de Composé A ;
IV contient 3 % en poids de Composé C ; et
V contient 3 % en poids de Composé B.
** A ce moment, le revêtement s'est détérioré par fendillement.
Dans cette méthode d'essai, l'absorbant d'UV est dissous dans un solvant non-PAD, l'acétate de butyle, puis ajouté au système de résine comme cela se fait normalement
<Desc/Clms Page number 41>
dans l'industrie. La solubilité limitée du Composé D dans l'acétate de butyle ne permet d'incorporer au revêtement que 0,24 % en poids de Composé D par rapport à la matière sèche de résine. La plus grande solubilité du Composé A dans l'acétate de butyle permet d'incorporer au revêtement 1,2 % en poids de Composé A par rapport à la matière sèche de résine. La solubilité encore plus grande des Composés B et C dans l'acétate de butyle permet d'incorporer au revêtement 3 % en poids de Composé B ou de Composé C par rapport à la matière sèche de résine.
Dans chaque cas, le Composé A, B ou C plus soluble a donné une rétention de brillant à 20 et une netteté d'image bien supérieures à celles obtenues avec le Composé D moins soluble.
Claims (15)
- REVENDICATIONS 1. Composition de film polymère, caractérisée en ce qu'elle comprend : (a) une couche primaire d'électrodéposition qui adhère à un substrat métallique ; (b) une couche de base ou couche colorée qui adhère à la couche d'électrodéposition et qui comprend un liant filmogène et un pigment organique ou un pigment minéral ou un mélange d'entre eux ;(c) une couche transparente qui adhère à la couche de base et qui comprend un liant filmogène ; et (d) 1 à 20 % en poids, par rapport au poids du liant filmogène de la couche contenant le benzotriazole, d'au EMI42.1 moins un absorbant d'UV du type benzotriazole de formule I EMI42.2 EMI42.3 où R. est l'hydrogène ou le chlore, R2 est un groupe alkyle de 4 à 28 atomes de carbone ou"CHCOOR où m est de 1 à 4 et R4 est l'hydrogène ou un groupe alkyle de 1 à 18 atomes de carbone, et R3 est le groupe a-cumyle EMI42.4 contenu dans la couche de base ou dans la couche transpa- -. rente, ou à la fois dans la couche de base et la couche transparente.
- 2. Composition selon la revendication 1, qui contient une couche supplémentaire entre la couche primaire d'électrodéposition et la couche de base ou colorée, caractérisée en ce que la couche supplémentaire comprend (i) un liant filmogène et un pigment organique ou un pigment minéral ou un mélange d'entre eux ; et (ii) au moins un absorbant d'UV du type benzotriazole soluble et thermiquement stable de formule I selon la revendication 1. <Desc/Clms Page number 43>
- 3. Composition selon la revendication 2, caracté- risée en ce que la couche supplémentaire contient également un stabilisant à la lumière du type à amine à empêchement stérique.
- 4. Composition selon la revendication 1, caractérisée en ce que la quantité de composant (d) est comprise entre 1 et 5 % en poids par rapport au poids du liant filmogène.
- 5. Composition selon la revendication 1, caractérisée en ce que, dans le composant (d), R1 est l'hydrogène, R2 est un groupe alkyle de 8 à 12 atomes de carbone ou -CH COOR. où m est 2 et R4 est un groupe alkyle de 1 à 12 atomes de carbone, et R3 est le groupe a-cumyle.
- 6. Composition selon la revendication 1, caracté- risée en ce que, dans le composant (d), R1 est l'hydrogène, R2 est le groupe tert-octyle, nonyle ou dodécyle, et R3 est le groupe a-cumyle.
- 7. Composition selon la revendication 1, caractérisée en ce que le composant (d) est incorporé à la couche transparente.
- 8. Composition selon la revendication 1, caractérisée en ce que le liant filmogène est une résine acrylique/ mélamine ou acrylique/uréthanne thermodurcissable à haut extrait sec.
- 9. Composition selon la revendication 1, caractérisée en we qu'elle contient, de plus, un stabilisant à la lumière du type amine à empêchement stérique dans la couche de base ou dans la couche transparente, ou à la fois dans la couche de base et la couche transparente.
- 10. Composition stabilisée, caractérisée en ce qu'elle comprend (a) un matériau d'enregistrement, et (b) au moins un absorbant d'UV du type benzotriazole de formule I <Desc/Clms Page number 44> EMI44.1 EMI44.2 où R1 est l'hydrogène ou le chlore, R2 est un groupe alkyle de 4 à 28 atomes de carbone ou -CmH2mCOOR4 où m est de 1 à 4 et R4 est l'hydrogène ou un groupe alkyle de 1 à 18 atomes de carbone, et R3 est le groupe a-cumyle.
- 11. Composition selon la revendication 10, caractérisée en ce que, dans le composant (b), R1 est l'hydrogène, R2 est un groupe alkyle de 8 à 12 atomes de carbone ou -CHCOOR. où m est 2 et R4 est un groupe alkyle de 1 à 12 atomes de carbone, et R3 est le groupe a-cumyle.
- 12. Composition selon la revendication 10, caractérisée en ce que, dans le composant (b), R1 est l'hydrogène, R2 est un groupe tert-octyle, nonyle ou dodécyle, et R3 est le groupe a-cumyle.
- 13. Composition selon la revendication 10, caractérisée en ce que le matériau d'enregistrement convient à l'impression à jet d'encre.
- 14. Composition selon la revendication 10, caractérisée en ce que le matériau d'enregistrement est un matériau photographique.
- 15. Composition selon la revendication 10, caractérisée en ce que le matériau d'enregistrement convient pour l'impression par transfert à diffusion de colorant.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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ID=23684097
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| JP (2) | JPH08291151A (fr) |
| KR (2) | KR100426626B1 (fr) |
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- 1995-04-19 US US08/424,843 patent/US5574166A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-06 US US08/466,850 patent/US5563242A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-06 US US08/466,851 patent/US5554760A/en not_active Expired - Lifetime
-
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- 1996-04-05 US US08/628,433 patent/US5607987A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-10 SE SE9601345A patent/SE509606C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1996-04-10 EP EP96810220A patent/EP0738718A1/fr not_active Withdrawn
- 1996-04-10 GB GB9607427A patent/GB2299957B/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 DE DE19615000A patent/DE19615000A1/de not_active Ceased
- 1996-04-17 KR KR1019960012131A patent/KR100426626B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-17 CA CA002174411A patent/CA2174411C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1996-04-17 CA CA002174412A patent/CA2174412A1/fr not_active Abandoned
- 1996-04-17 BE BE9600333A patent/BE1010550A3/fr not_active IP Right Cessation
- 1996-04-17 AU AU50731/96A patent/AU707202B2/en not_active Ceased
- 1996-04-18 FR FR9604847A patent/FR2733239B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 AU AU50784/96A patent/AU706957B2/en not_active Ceased
- 1996-04-18 IT IT96MI000751A patent/IT1283615B1/it active IP Right Grant
- 1996-04-18 AT AT0070596A patent/AT405936B/de not_active IP Right Cessation
- 1996-04-18 KR KR1019960012170A patent/KR100378233B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 CN CN96105137A patent/CN1066181C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 ES ES009600874A patent/ES2130930B1/es not_active Expired - Fee Related
- 1996-04-18 CN CN96105141A patent/CN1059899C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-19 JP JP8122465A patent/JPH08291151A/ja active Pending
- 1996-04-19 BR BR9601991A patent/BR9601991A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-04-19 JP JP12246696A patent/JP3309153B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-19 BR BR9601992A patent/BR9601992A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-04-19 NL NL1002904A patent/NL1002904C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1996-05-14 TW TW085105661A patent/TW419497B/zh not_active IP Right Cessation
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RE | Patent lapsed |
Effective date: 20110430 |