JPH082994B2 - 改質された連続気泡型ポリオレフイン発泡体の製造方法 - Google Patents
改質された連続気泡型ポリオレフイン発泡体の製造方法Info
- Publication number
- JPH082994B2 JPH082994B2 JP62057742A JP5774287A JPH082994B2 JP H082994 B2 JPH082994 B2 JP H082994B2 JP 62057742 A JP62057742 A JP 62057742A JP 5774287 A JP5774287 A JP 5774287A JP H082994 B2 JPH082994 B2 JP H082994B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethylene
- polyolefin foam
- foam
- monomer
- ethylene glycol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000006260 foam Substances 0.000 title claims description 20
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 9
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 6
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 claims description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IMBKASBLAKCLEM-UHFFFAOYSA-L ferrous ammonium sulfate (anhydrous) Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O IMBKASBLAKCLEM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 5
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は親水性連続気泡型ポリオレフイン発泡体の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
(従来の技術および発明が解決しようとする問題点) 連続気泡型ポリオレフイン発泡体は耐薬品性に優れて
いるが樹脂の持つ性質として種々の液体に対し大きい接
触角を示し濡れ性に欠ける。従来、連続気泡型ポリオレ
フイン発泡体をクロム酸混液等で表面処理し若干の濡れ
性向上を計つた技術(例えば、特開昭61−281,139号)
があるが、連続気泡型ポリオレフイン発泡体が変色する
事や廃液処理の困難さを伴うものであつた。
いるが樹脂の持つ性質として種々の液体に対し大きい接
触角を示し濡れ性に欠ける。従来、連続気泡型ポリオレ
フイン発泡体をクロム酸混液等で表面処理し若干の濡れ
性向上を計つた技術(例えば、特開昭61−281,139号)
があるが、連続気泡型ポリオレフイン発泡体が変色する
事や廃液処理の困難さを伴うものであつた。
(問題点を解決するための手段) 本発明の目的はかかる欠点を解消し連続気泡型ポリオ
レフイン発泡体に親水性を与えるために親水性モノマー
の少なくとも1種、例えばアクリル酸,メタクリル酸,
アクリル酸エステル,メタクリル酸エステル,アクリル
アミド,ビニルピロリドンを放射線によりグラフト重合
させる方法を提供することにある。
レフイン発泡体に親水性を与えるために親水性モノマー
の少なくとも1種、例えばアクリル酸,メタクリル酸,
アクリル酸エステル,メタクリル酸エステル,アクリル
アミド,ビニルピロリドンを放射線によりグラフト重合
させる方法を提供することにある。
本発明方法において連続気泡型ポリオレフイン発泡体
にアクリル酸等モノマーをグラフト重合する方法は電離
性放射線を用いる前照射法と同時照射法がある。すなわ
ち、前者の前照射法は次の通りである。
にアクリル酸等モノマーをグラフト重合する方法は電離
性放射線を用いる前照射法と同時照射法がある。すなわ
ち、前者の前照射法は次の通りである。
発泡体を電離性放射線で照射した後、モノマー水溶液
あるいはさらにこれに二塩化エチレン等ポリエチレンに
対して膨潤性を持つ有機溶剤を加えた混合液に接触させ
て発泡体にモノマーをグラフト重合させる。この場合、
二塩化エチレンはモノマーの発泡体中へ拡散するのを促
進する作用があり、グラフト重合速度を増大させる。こ
の方法において、電離性放射線としては、加速器よりの
電子線、コバルト60線源よりのγ線、X線発生装置より
のX線等が便利に用いられるが、特に加速器よりの電子
線が好ましい。線量率は特に制限がないが、電子線の場
合は1×104〜5×107rad/秒、線量は1〜20Mradが好ま
しく用いられる。照射後、それに接触させてグラフト重
合を行うモノマー水溶液、又はそれに二塩化エチレンを
加えたものには、グラフト重合に伴っておこるホモポリ
マーの生成を抑制するため少量のモール塩などの水溶性
第一鉄塩、硫酸銅等の水溶性第二銅塩、塩化第一銅等の
水溶性第一銅塩を溶液基準101mol/1までの濃度になるよ
うに添加する方が、アクリル酸のように重合速度の大き
いモノマーを用いる場合には好ましい。重合温度は特に
制限はないが、例えば室温から80℃が好ましく用いられ
る。
あるいはさらにこれに二塩化エチレン等ポリエチレンに
対して膨潤性を持つ有機溶剤を加えた混合液に接触させ
て発泡体にモノマーをグラフト重合させる。この場合、
二塩化エチレンはモノマーの発泡体中へ拡散するのを促
進する作用があり、グラフト重合速度を増大させる。こ
の方法において、電離性放射線としては、加速器よりの
電子線、コバルト60線源よりのγ線、X線発生装置より
のX線等が便利に用いられるが、特に加速器よりの電子
線が好ましい。線量率は特に制限がないが、電子線の場
合は1×104〜5×107rad/秒、線量は1〜20Mradが好ま
しく用いられる。照射後、それに接触させてグラフト重
合を行うモノマー水溶液、又はそれに二塩化エチレンを
加えたものには、グラフト重合に伴っておこるホモポリ
マーの生成を抑制するため少量のモール塩などの水溶性
第一鉄塩、硫酸銅等の水溶性第二銅塩、塩化第一銅等の
水溶性第一銅塩を溶液基準101mol/1までの濃度になるよ
うに添加する方が、アクリル酸のように重合速度の大き
いモノマーを用いる場合には好ましい。重合温度は特に
制限はないが、例えば室温から80℃が好ましく用いられ
る。
前記の後者の同時照射法は、連続気泡型ポリオレフイ
ン発泡体をモノマー水溶液あるいはそれに二塩化エチレ
ン等のポリオレフインの膨潤剤を加えた混合液に浸漬
し、あるいは含浸させて、電離性放射線を照射し、モノ
マーをグラフト重合させる方法である。モノマー溶液に
はグラフト重合に伴っておこるホモポリマーの生成を抑
制するため前述のホモ重合を抑制する作用を持つモール
塩等を104〜101mol/1添加するのが好ましい。電離性放
射線としては、電子線、γ線、X線等が便利に用いられ
る。線量率は電子線の場合104〜107rad/秒、γ線、X線
の場合103〜106rad/時が線量は1×103〜107rad、特に
1×104〜5×106radが好ましく用いられる。照射温度
については特に制限はないが室温より80℃までの温度が
便利に用いられる。
ン発泡体をモノマー水溶液あるいはそれに二塩化エチレ
ン等のポリオレフインの膨潤剤を加えた混合液に浸漬
し、あるいは含浸させて、電離性放射線を照射し、モノ
マーをグラフト重合させる方法である。モノマー溶液に
はグラフト重合に伴っておこるホモポリマーの生成を抑
制するため前述のホモ重合を抑制する作用を持つモール
塩等を104〜101mol/1添加するのが好ましい。電離性放
射線としては、電子線、γ線、X線等が便利に用いられ
る。線量率は電子線の場合104〜107rad/秒、γ線、X線
の場合103〜106rad/時が線量は1×103〜107rad、特に
1×104〜5×106radが好ましく用いられる。照射温度
については特に制限はないが室温より80℃までの温度が
便利に用いられる。
本発明に用いる連続気泡型ポリオレフイン発泡体とは
ポリオチレン、ポリ1,2−ブタジェン、エチレン−プロ
ピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、エチレン含有量45%までのメチ
ル−、エチル−、プロピル−、ブチル−の各アクリレー
トもしくはメタアクリレートとの共重合体,またはこれ
らをそれぞれ塩素化したもの(塩素含有量60重量%ま
で)、あるいはこれらの2種以上の混合物またはこれら
とアタクチツクもしくはアイソタクチツク構造を有する
ポリプロピレンとの混合物等であるポリオレフインから
なるみかけ密度が0.02〜0.2g/cm3の発泡体である。
ポリオチレン、ポリ1,2−ブタジェン、エチレン−プロ
ピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、エチレン含有量45%までのメチ
ル−、エチル−、プロピル−、ブチル−の各アクリレー
トもしくはメタアクリレートとの共重合体,またはこれ
らをそれぞれ塩素化したもの(塩素含有量60重量%ま
で)、あるいはこれらの2種以上の混合物またはこれら
とアタクチツクもしくはアイソタクチツク構造を有する
ポリプロピレンとの混合物等であるポリオレフインから
なるみかけ密度が0.02〜0.2g/cm3の発泡体である。
一方、本発明に用いるグラフト重合させる親水性モノ
マーとしては、アクリル酸,メタクリル酸,エチレング
リコールアクリレート,エチレングリコールメタアクリ
レート,トリメチロールプロパントリアクリレート,ト
リメチロールプロパントリメタアクリレート,アクリル
アミド,ビニルピロリドン,2−ヒドロキシエチルメタク
リレート,(ポリ)エチレングリコールジアクリレー
ト,(ポリ)エチレングリコールジメタアクリレート等
がある。
マーとしては、アクリル酸,メタクリル酸,エチレング
リコールアクリレート,エチレングリコールメタアクリ
レート,トリメチロールプロパントリアクリレート,ト
リメチロールプロパントリメタアクリレート,アクリル
アミド,ビニルピロリドン,2−ヒドロキシエチルメタク
リレート,(ポリ)エチレングリコールジアクリレー
ト,(ポリ)エチレングリコールジメタアクリレート等
がある。
(実施例) 次に、本発明を実施例により更に詳しく説明する。
実施例 1 三和化工株式会社により開発された連続気泡型ポリオ
レフイン発泡体(エチレン−酢酸ビニル共重合体より成
る、商品名オプセルLC−300#2、みかけ密度0.028g/cm
3)の試験片(5×60×160mm)を、シール付きポリエチ
レン製袋(50μm×120mm×200mm)に入れ、5分間窒素
置換し、バンデグラーフ型電子線加速器(米国ハイボル
テージ社製)を用い加速電圧1.5MeV、線量率1.75×105r
ad/secで、コンベヤーを用い(コンベヤースピード0.48
m/min)0.5Mrad/passで5Mrad照射後、試験片を25℃のア
クリル酸20%水溶液中に浸漬、脱器後30分間反応させ
る。更に水洗後、脱水、乾燥させ製品を得る。得られた
製品はアクリル酸のグラフト率が98.1%で、良好な親水
性を有していた。
レフイン発泡体(エチレン−酢酸ビニル共重合体より成
る、商品名オプセルLC−300#2、みかけ密度0.028g/cm
3)の試験片(5×60×160mm)を、シール付きポリエチ
レン製袋(50μm×120mm×200mm)に入れ、5分間窒素
置換し、バンデグラーフ型電子線加速器(米国ハイボル
テージ社製)を用い加速電圧1.5MeV、線量率1.75×105r
ad/secで、コンベヤーを用い(コンベヤースピード0.48
m/min)0.5Mrad/passで5Mrad照射後、試験片を25℃のア
クリル酸20%水溶液中に浸漬、脱器後30分間反応させ
る。更に水洗後、脱水、乾燥させ製品を得る。得られた
製品はアクリル酸のグラフト率が98.1%で、良好な親水
性を有していた。
実施例 2〜5 実施例1と同様にオプセルLC−30#2の試験片をバン
デグラーフ型電子線加速器を用いて5Mrad照射後、試験
片を禁止剤としてモール塩(8×10-5mol/1)を含む25
℃アクリル酸20%水溶液に浸漬、脱気後6分,15分,20
分,30分間反応させる。更に水洗後、脱水、乾燥させ製
品2,3,4,5を得る。得られた製品のアクリル酸のグラフ
ト率は2が8.6%、3が19.5%、4が30.0%、5が40.9
%でそれぞれ良好な親水性を有していた。
デグラーフ型電子線加速器を用いて5Mrad照射後、試験
片を禁止剤としてモール塩(8×10-5mol/1)を含む25
℃アクリル酸20%水溶液に浸漬、脱気後6分,15分,20
分,30分間反応させる。更に水洗後、脱水、乾燥させ製
品2,3,4,5を得る。得られた製品のアクリル酸のグラフ
ト率は2が8.6%、3が19.5%、4が30.0%、5が40.9
%でそれぞれ良好な親水性を有していた。
次に、実施例1〜5の様にして得られた試験片の66%
及び93%RHでの吸湿率および保水率を表1に示す。何れ
も良好な親水性が得られた。
及び93%RHでの吸湿率および保水率を表1に示す。何れ
も良好な親水性が得られた。
吸湿率の測定は試験片を66%RH及び93%RHのデシケー
ター中に3日間放置した後、試験片の重量増加を測定
し、次式により吸湿率を求めた。
ター中に3日間放置した後、試験片の重量増加を測定
し、次式により吸湿率を求めた。
吸湿率=((放置後の試験片重量/試験片の乾燥重量) −1)×100(%) 保水率の測定は試験片を12時間水中に浸漬後、取り出
して水が出なくなるまで手で絞り重量を測定し、次式に
より保水率を求めた。
して水が出なくなるまで手で絞り重量を測定し、次式に
より保水率を求めた。
保水率=((浸漬後の試験片重量/試験片の乾燥重量) −1)×100(%) 実施例 6〜9 実施例1と同様にオプセルLC−300#2の試験片をバ
ンデグラーフ型電子線加速器を用いて5Mrad照射後、メ
タクリル酸,アクリルアミド,ビニルピロリドン,又は
2−ヒドロキシエチルメタクリレートをそれぞれグラフ
ト重合させ、得られた試験片の66%RH,93%RHにおける
吸湿率を表2に示す。
ンデグラーフ型電子線加速器を用いて5Mrad照射後、メ
タクリル酸,アクリルアミド,ビニルピロリドン,又は
2−ヒドロキシエチルメタクリレートをそれぞれグラフ
ト重合させ、得られた試験片の66%RH,93%RHにおける
吸湿率を表2に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小原 長二 京都府京都市南区吉祥院西ノ庄東屋敷町93 (56)参考文献 特開 昭56−38333(JP,A) 特開 昭61−106640(JP,A) 特開 昭62−83006(JP,A) 特開 昭62−258711(JP,A) 特開 昭63−190602(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】連続気泡型ポリオレフィン発泡体を放射線
で照射処理し、それと同時に又はその後に、照射された
発泡体を親水性モノマーの少なくとも1種を含有する水
溶液に接触させ、モノマーを発泡体にグラフト重合させ
ることにより表面改質された連続気泡型ポリオレフィン
発泡体を製造する方法において、 (a) 前記ポリオレフィン発泡体が、ポリエチレン、
ポリ1,2−ブタジエン、エチレン−プロピレン共重合
体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−酢酸ビニル
共重合体、エチレンと含有量45重量%までのメチル、エ
チル、ブチル若しくはプロピルの各アクリレート若しく
はメタクアリレートとの共重合体、これらをそれぞれ塩
素化したもの(塩素含有量60重量%まで)、これらの2
種以上の混合物、これらとアクタクチック若しくはアイ
ソタクチック構造を有するポリプロピレンとの混合物か
らなり、 (b) 前記モノマーが、アクリル酸、メタクリル酸、
エチレングリコールアクリレート、エチレングリコール
メタアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ア
クリルアミド、ビニルピロリドン、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、又は(ポリ)エチレングリコールジ
メタアクリレートからなり、 (c) ポリオレフィン発泡体に対して膨潤性を持つ二
塩化エチレンが、モノマー水溶液に加えられ、且つ (d) グラフト重合に伴って生ずるホモポリマーの生
成を抑制するためのモール塩からなる水溶性第一鉄塩、
硫酸銅からなる水溶性第二銅塩又は塩化第一銅からなる
第一銅塩が加えられることを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62057742A JPH082994B2 (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 改質された連続気泡型ポリオレフイン発泡体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62057742A JPH082994B2 (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 改質された連続気泡型ポリオレフイン発泡体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63223046A JPS63223046A (ja) | 1988-09-16 |
| JPH082994B2 true JPH082994B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=13064363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62057742A Expired - Fee Related JPH082994B2 (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 改質された連続気泡型ポリオレフイン発泡体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH082994B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20090098359A1 (en) * | 2007-10-11 | 2009-04-16 | Waller Jr Clinton P | Hydrophilic porous substrates |
| EP2559806A1 (en) | 2011-08-17 | 2013-02-20 | Center of Excellence Polymer Materials and Technologies (Polimat) | Method for increasing the hydrophilicity of polymeric materials |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3032380A1 (de) * | 1979-09-04 | 1981-03-19 | Celanese Corp., 10036 New York, N.Y. | Verfahren zur herstellung hydrophiler mikroporoeser folien |
| JPS61106640A (ja) * | 1984-10-30 | 1986-05-24 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 親水性ポリエチレン微多孔膜 |
| JPS63190602A (ja) * | 1986-01-07 | 1988-08-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 親水化多孔質膜及びその製造方法 |
| JPH0822374B2 (ja) * | 1986-05-01 | 1996-03-06 | 旭化成工業株式会社 | グラフト膜の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-12 JP JP62057742A patent/JPH082994B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63223046A (ja) | 1988-09-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4311573A (en) | Process for graft copolymerization of a pre-formed substrate | |
| US4589964A (en) | Process for graft copolymerization of a pre-formed substrate | |
| JP6697842B2 (ja) | モノマーグラフト化繊維及びその使用 | |
| US4196065A (en) | Hydrophobic substrate with grafted hydrophilic inclusions | |
| Kofinas et al. | Hydrogels prepared by electron irradiation of poly (ethylene oxide) in water solution: unexpected dependence of cross-link density and protein diffusion coefficients on initial PEO molecular weight | |
| SU1060119A3 (ru) | Способ получени полимерного субстрата-поглотител | |
| JPH0724314A (ja) | キレート型イオン吸着膜および製造方法 | |
| JPS6399211A (ja) | 改質吸水性樹脂の製造方法 | |
| JPH082994B2 (ja) | 改質された連続気泡型ポリオレフイン発泡体の製造方法 | |
| JP3101085B2 (ja) | 電池用セパレータの製造法 | |
| Aydinli et al. | Radiation grafting of various water-soluble monomers on ultra-high molecular weight polyethylene powder:: Part I. Grafting conditions and grafting yield | |
| Li et al. | Radiation grafting of thermo-sensitive poly (NIPAAm) onto silicone rubber | |
| Kiatkamjornwong et al. | Enhancement of the grafting performance and of the water absorption of cassava starch graft copolymer by gamma radiation | |
| JP3823283B2 (ja) | ハロゲン化アルキルの除去剤及びその製造方法 | |
| Sato et al. | Protein adsorption on PTFE surface modified by ArF excimer laser treatment | |
| Kubota | Photografting of acrylonitrile and methacrylic acid on polyethylene film under air atmosphere | |
| Taher et al. | Preparation and properties of cationic membranes obtained by radiation grafting of vinyl monomers onto poly (tetrafluoroethylene‐perfluoropropylvinyl ether)(PFA) films | |
| Przybytniak et al. | Functionalization of polymer surfaces by radiation-induced grafting | |
| JP2005206960A (ja) | 重金属捕集イオン交換繊維の製造方法 | |
| JPS58205545A (ja) | アミドキシム基および中性親水基を共有させたウラン吸着材およびその製造法 | |
| JP2002371471A (ja) | 親水化されたポリオレフィン系樹脂からなる多孔質性基材とその製造方法 | |
| JPH04370123A (ja) | 改質されたフッ素樹脂の製造法 | |
| JPH0142297B2 (ja) | ||
| JPH04159337A (ja) | 表面が改質された高分子材料およびその製造方法 | |
| Kubota et al. | Effect of water in vapor‐phase photografting of vinyl monomers on polymer films |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |