JPH08301675A - 施釉セメント製品の製造方法 - Google Patents
施釉セメント製品の製造方法Info
- Publication number
- JPH08301675A JPH08301675A JP10665895A JP10665895A JPH08301675A JP H08301675 A JPH08301675 A JP H08301675A JP 10665895 A JP10665895 A JP 10665895A JP 10665895 A JP10665895 A JP 10665895A JP H08301675 A JPH08301675 A JP H08301675A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- cement
- layer
- glazed
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004568 cement Substances 0.000 title claims abstract description 123
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 33
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 16
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 201000004384 Alopecia Diseases 0.000 description 8
- 230000003676 hair loss Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000012615 aggregate Substances 0.000 description 7
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 6
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000011398 Portland cement Substances 0.000 description 3
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009415 formwork Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 施釉セメント製品の製造方法において、釉ハ
ゲ等の釉不具合現象の発生を抑制して品質性能に優れた
施釉セメントが得られるようにする。 【構成】 施釉セメント製品の製造方法は、セメント成
形品の表面を釉薬層の形成に用いる釉薬より溶融温度が
低い釉薬を用いて下地処理し、下地処理した表面に釉薬
として泥しょう状の釉薬に有機エマルジョンを混入した
ものを用いて釉薬層を形成し、この釉薬層を有するセメ
ント成形品を焼成して釉仕上げ層を形成した後、この釉
仕上げ層を有するセメント成形品を養生硬化させて表面
に釉面を備えた施釉セメント製品を製造する。
ゲ等の釉不具合現象の発生を抑制して品質性能に優れた
施釉セメントが得られるようにする。 【構成】 施釉セメント製品の製造方法は、セメント成
形品の表面を釉薬層の形成に用いる釉薬より溶融温度が
低い釉薬を用いて下地処理し、下地処理した表面に釉薬
として泥しょう状の釉薬に有機エマルジョンを混入した
ものを用いて釉薬層を形成し、この釉薬層を有するセメ
ント成形品を焼成して釉仕上げ層を形成した後、この釉
仕上げ層を有するセメント成形品を養生硬化させて表面
に釉面を備えた施釉セメント製品を製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、施釉セメント製品の
製造方法に関し、詳しくは、建築物の内装面や外装面な
どに利用されるコンクリートパネルなどのセメント製品
であって、その表面にガラス質の釉面を備えた施釉セメ
ント製品を製造する方法に関するものである。
製造方法に関し、詳しくは、建築物の内装面や外装面な
どに利用されるコンクリートパネルなどのセメント製品
であって、その表面にガラス質の釉面を備えた施釉セメ
ント製品を製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】施釉セメント製品は、コンクリートパネ
ルなどのセメント製品の表面に、陶磁器の表面のような
ガラス質の釉面を形成したものであり、従来のセメント
製品に比べて、非常に美しく滑らかな外観を備えてい
る。また、汚れ難く、傷も付き難いという利点も備えて
おり、各種建築物の内装仕上げ面あるいは外装仕上げ面
に利用されるようになってきている。
ルなどのセメント製品の表面に、陶磁器の表面のような
ガラス質の釉面を形成したものであり、従来のセメント
製品に比べて、非常に美しく滑らかな外観を備えてい
る。また、汚れ難く、傷も付き難いという利点も備えて
おり、各種建築物の内装仕上げ面あるいは外装仕上げ面
に利用されるようになってきている。
【０００３】施釉セメント製品を製造するには、まず、
普通ポルトランドセメントに砂等の骨材や水その他の材
料を混ぜ、これを所定の形状の型枠で養生成形した後脱
型し、乾燥させて半乾きのセメント成形体を作る。この
セメント成形体の表面（型枠底面側）に、陶磁器の製造
などで用いられているようなホウ酸フリット等の泥しょ
う状の釉薬を塗布する。この作業を、施釉と呼ぶ。施釉
の具体的作業としては、液体状の釉薬を、塗装などで用
いられるスプレーガンやロールを用いて、セメント成形
体の表面に塗布して、所定の厚みの釉薬層を形成する。
この釉薬層が形成されたセメント成形体を焼成した後、
セメント成形品を養生硬化させれば、前記したようなガ
ラス質の釉面を備えた施釉セメント製品が得られる。
普通ポルトランドセメントに砂等の骨材や水その他の材
料を混ぜ、これを所定の形状の型枠で養生成形した後脱
型し、乾燥させて半乾きのセメント成形体を作る。この
セメント成形体の表面（型枠底面側）に、陶磁器の製造
などで用いられているようなホウ酸フリット等の泥しょ
う状の釉薬を塗布する。この作業を、施釉と呼ぶ。施釉
の具体的作業としては、液体状の釉薬を、塗装などで用
いられるスプレーガンやロールを用いて、セメント成形
体の表面に塗布して、所定の厚みの釉薬層を形成する。
この釉薬層が形成されたセメント成形体を焼成した後、
セメント成形品を養生硬化させれば、前記したようなガ
ラス質の釉面を備えた施釉セメント製品が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような方法で製造
された施釉セメント製品は、型枠の底面に種々の模様を
形成することで、釉面に任意の模様を転写でき意匠性を
さらに高めることができる。しかし、前記従来の製造方
法では、釉薬が溶けて形成された釉面とセメント成形体
との熱膨張率の違いにより、７００℃付近で釉面にクラ
ックが発生することがある。このようなクラックが釉面
に発生すると、セメント中の水分による水蒸気や炭酸カ
ルシウム（ＣａＣＯ3 ）成分の分解により８００℃付近
で発生する炭酸ガス（ＣＯ2 ）によって釉面がめくりあ
がる釉ハゲ現象等の釉不具合現象が発生することがあ
る。
された施釉セメント製品は、型枠の底面に種々の模様を
形成することで、釉面に任意の模様を転写でき意匠性を
さらに高めることができる。しかし、前記従来の製造方
法では、釉薬が溶けて形成された釉面とセメント成形体
との熱膨張率の違いにより、７００℃付近で釉面にクラ
ックが発生することがある。このようなクラックが釉面
に発生すると、セメント中の水分による水蒸気や炭酸カ
ルシウム（ＣａＣＯ3 ）成分の分解により８００℃付近
で発生する炭酸ガス（ＣＯ2 ）によって釉面がめくりあ
がる釉ハゲ現象等の釉不具合現象が発生することがあ
る。
【０００５】また、釉薬層を形成したのちに焼成する際
に、３００℃近辺の温度で釉薬が溶ける前に釉薬層中の
水分が蒸発してしまい、釉薬層の乾燥収縮によるクラッ
クが発生することがある。このようなクラックが釉薬層
に発生すると、釉薬が溶けて釉面が形成されてもクラッ
ク発生部分に釉薬がまわらずそこに釉面が形成されない
という問題が生じる。
に、３００℃近辺の温度で釉薬が溶ける前に釉薬層中の
水分が蒸発してしまい、釉薬層の乾燥収縮によるクラッ
クが発生することがある。このようなクラックが釉薬層
に発生すると、釉薬が溶けて釉面が形成されてもクラッ
ク発生部分に釉薬がまわらずそこに釉面が形成されない
という問題が生じる。
【０００６】さらに、セメント成形体を型枠で養生し脱
型後、ある程度の時間（３〜５時間程度）乾燥させてセ
メント成形体を半乾きの状態にしないと、焼成時にセメ
ント成形体から水蒸気が多量に発生して釉面とセメント
成形体表面との付着を悪化させ、前述したような釉不具
合現象が発生することがある。このため、脱型後の乾燥
に長時間を要するという問題がある。
型後、ある程度の時間（３〜５時間程度）乾燥させてセ
メント成形体を半乾きの状態にしないと、焼成時にセメ
ント成形体から水蒸気が多量に発生して釉面とセメント
成形体表面との付着を悪化させ、前述したような釉不具
合現象が発生することがある。このため、脱型後の乾燥
に長時間を要するという問題がある。
【０００７】そこで、この発明の課題は、前記した施釉
セメント製品の製造方法において、釉ハゲ等の釉不具合
現象の発生を抑制して品質性能に優れた施釉セメントが
得られる方法を提供することにある。この発明の別の課
題は、釉薬層中の水分の蒸発による釉薬層でのクラック
の発生を抑制できる施釉セメント製品の製造方法を提供
することにある。
セメント製品の製造方法において、釉ハゲ等の釉不具合
現象の発生を抑制して品質性能に優れた施釉セメントが
得られる方法を提供することにある。この発明の別の課
題は、釉薬層中の水分の蒸発による釉薬層でのクラック
の発生を抑制できる施釉セメント製品の製造方法を提供
することにある。
【０００８】この発明のさらに別の課題は、セメント成
形体の脱型後、施釉するまでの時間を短縮できる施釉セ
メント製品の製造方法を提供することにある。
形体の脱型後、施釉するまでの時間を短縮できる施釉セ
メント製品の製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る施釉セメ
ント製品の製造方法は、セメント成形品の表面に釉薬層
を形成し、この釉薬層を有するセメント成形品を焼成し
て釉仕上げ層を形成した後、この釉仕上げ層を有するセ
メント成形品を養生硬化させて表面に釉面を備えた施釉
セメント製品を製造する方法において、釉薬層を形成す
るための釉薬として泥しょう状の釉薬に有機エマルジョ
ンを混入したものを用いることを特徴とする。
ント製品の製造方法は、セメント成形品の表面に釉薬層
を形成し、この釉薬層を有するセメント成形品を焼成し
て釉仕上げ層を形成した後、この釉仕上げ層を有するセ
メント成形品を養生硬化させて表面に釉面を備えた施釉
セメント製品を製造する方法において、釉薬層を形成す
るための釉薬として泥しょう状の釉薬に有機エマルジョ
ンを混入したものを用いることを特徴とする。
【００１０】請求項２に係る施釉セメント製品の製造方
法は、セメント成形品の表面に釉薬層を形成し、この釉
薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形
成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養
生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製
造する方法において、釉薬層形成前に、この釉薬層の形
成に用いる釉薬より溶融温度が低い釉薬を用いて下地処
理することを特徴とする。
法は、セメント成形品の表面に釉薬層を形成し、この釉
薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形
成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養
生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製
造する方法において、釉薬層形成前に、この釉薬層の形
成に用いる釉薬より溶融温度が低い釉薬を用いて下地処
理することを特徴とする。
【００１１】請求項３に係る施釉セメント製品の製造方
法は、セメント成形品の表面に釉薬層を形成し、この釉
薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形
成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養
生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製
造する方法において、釉薬層形成前に、この釉薬層の形
成に用いる釉薬より溶融温度が低い釉薬を用いて下地処
理し、その後釉薬として泥しょう状の釉薬に有機エマル
ジョンを混入したものを用いて釉薬層を形成することを
特徴とする。
法は、セメント成形品の表面に釉薬層を形成し、この釉
薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形
成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養
生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製
造する方法において、釉薬層形成前に、この釉薬層の形
成に用いる釉薬より溶融温度が低い釉薬を用いて下地処
理し、その後釉薬として泥しょう状の釉薬に有機エマル
ジョンを混入したものを用いて釉薬層を形成することを
特徴とする。
【００１２】請求項４に係る施釉セメント製品の製造方
法は、請求項１または３記載の製造方法において、有機
エマルジョンはアクリル樹脂のエマルジョンを含む。請
求項５に係る施釉セメント製品の製造方法は、請求項
１，３，４のいずれかに記載の製造方法において、有機
エマルジョンの混入割合は泥しょう状の釉薬に対して
２．５〜１５重量％の範囲である。
法は、請求項１または３記載の製造方法において、有機
エマルジョンはアクリル樹脂のエマルジョンを含む。請
求項５に係る施釉セメント製品の製造方法は、請求項
１，３，４のいずれかに記載の製造方法において、有機
エマルジョンの混入割合は泥しょう状の釉薬に対して
２．５〜１５重量％の範囲である。
【００１３】
【作用】請求項１に係る施釉セメント製品の製造方法で
は、泥しょう状の釉薬に有機エマルジョンを混入したも
のを用いてセメント成形品の表面に釉薬層を形成し、こ
の釉薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層
を形成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品
を養生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品
を製造する。
は、泥しょう状の釉薬に有機エマルジョンを混入したも
のを用いてセメント成形品の表面に釉薬層を形成し、こ
の釉薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層
を形成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品
を養生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品
を製造する。
【００１４】ここでは、有機エマルジョンが泥しょう状
の釉薬に混入されているので、３００℃付近で釉薬層中
の水分が蒸発しても、有機エマルジョンが釉薬層内に残
留して釉薬層の強度が高くなり釉薬層にクラックが発生
しにくくなる。請求項２に係る施釉セメント製品の製造
方法では、セメント成形品の表面に釉薬層の形成に用い
る釉薬より溶融点が低い釉薬を用いて下地処理した後、
下地処理された表面に釉薬層を形成し、この釉薬層を有
するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形成した
後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養生硬化
させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製造す
る。
の釉薬に混入されているので、３００℃付近で釉薬層中
の水分が蒸発しても、有機エマルジョンが釉薬層内に残
留して釉薬層の強度が高くなり釉薬層にクラックが発生
しにくくなる。請求項２に係る施釉セメント製品の製造
方法では、セメント成形品の表面に釉薬層の形成に用い
る釉薬より溶融点が低い釉薬を用いて下地処理した後、
下地処理された表面に釉薬層を形成し、この釉薬層を有
するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形成した
後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養生硬化
させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製造す
る。
【００１５】ここでは、釉薬層形成前にそれに用いる釉
薬より溶融温度が低い釉薬で下地処理するので、釉面と
セメント成形体との密着性が高くなり、熱膨張率が異な
ってもクラックが発生しにくくなり、炭酸ガスや水蒸気
の発生による釉ハゲ等の釉不具合現象の発生が抑制され
る。また、水蒸気が発生しても釉不具合が生じにくいの
で、セメント成形品を製造する際の乾燥工程を不要にで
き、脱型から施釉までの時間を短縮できる。
薬より溶融温度が低い釉薬で下地処理するので、釉面と
セメント成形体との密着性が高くなり、熱膨張率が異な
ってもクラックが発生しにくくなり、炭酸ガスや水蒸気
の発生による釉ハゲ等の釉不具合現象の発生が抑制され
る。また、水蒸気が発生しても釉不具合が生じにくいの
で、セメント成形品を製造する際の乾燥工程を不要にで
き、脱型から施釉までの時間を短縮できる。
【００１６】請求項３に係る施釉セメント製品の製造方
法では、セメント成形品の表面に釉薬層の形成に用いる
釉薬より溶融温度が低い釉薬を用いて下地処理した後、
下地処理された表面に泥しょう状の釉薬に有機エマルジ
ョンを混入したものを用いて釉薬層を形成し、この釉薬
層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形成
した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養生
硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製造
する。
法では、セメント成形品の表面に釉薬層の形成に用いる
釉薬より溶融温度が低い釉薬を用いて下地処理した後、
下地処理された表面に泥しょう状の釉薬に有機エマルジ
ョンを混入したものを用いて釉薬層を形成し、この釉薬
層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ層を形成
した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形品を養生
硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製品を製造
する。
【００１７】ここでは、釉薬層形成前にそれに用いる釉
薬より溶融温度が低い釉薬で下地処理するので、釉面と
セメント成形体との密着性が高くなり、熱膨張率が異な
ってもクラックが発生しにくくなり、８００℃付近で炭
酸ガスや水蒸気が発生しても、それによる釉ハゲ等の釉
不具合現象の発生が抑制される。また、水蒸気が発生し
ても釉不具合が生じにくいので、セメント成形品を製造
する際の乾燥工程を不要にでき、脱型から施釉までの時
間を短縮できる。さらに、有機エマルジョンが泥しょう
状の釉薬に混入されているので、３００℃付近で釉薬層
中の水分が蒸発しても、有機エマルジョンが釉薬層内に
残留して釉薬層の強度が高くなり釉薬層にクラックが発
生しにくくなる。
薬より溶融温度が低い釉薬で下地処理するので、釉面と
セメント成形体との密着性が高くなり、熱膨張率が異な
ってもクラックが発生しにくくなり、８００℃付近で炭
酸ガスや水蒸気が発生しても、それによる釉ハゲ等の釉
不具合現象の発生が抑制される。また、水蒸気が発生し
ても釉不具合が生じにくいので、セメント成形品を製造
する際の乾燥工程を不要にでき、脱型から施釉までの時
間を短縮できる。さらに、有機エマルジョンが泥しょう
状の釉薬に混入されているので、３００℃付近で釉薬層
中の水分が蒸発しても、有機エマルジョンが釉薬層内に
残留して釉薬層の強度が高くなり釉薬層にクラックが発
生しにくくなる。
【００１８】請求項４に係る施釉セメント製品の製造方
法では、アクリル樹脂のエマルジョンを含む有機エマル
ジョンを泥しょう状の釉薬に混入した釉薬を用いる。請
求項５に係る施釉セメント製品の製造方法では、有機エ
マルジョンの混入割合は泥しょう状の釉薬に対して２．
５〜１５重量％の範囲であるので、混入型による発泡現
象の発生を抑え、かつ混入過少によるクラックの発生を
抑えることができる。
法では、アクリル樹脂のエマルジョンを含む有機エマル
ジョンを泥しょう状の釉薬に混入した釉薬を用いる。請
求項５に係る施釉セメント製品の製造方法では、有機エ
マルジョンの混入割合は泥しょう状の釉薬に対して２．
５〜１５重量％の範囲であるので、混入型による発泡現
象の発生を抑え、かつ混入過少によるクラックの発生を
抑えることができる。
【００１９】
【実施例】以下、この発明の実施例について、図面を参
照しながら説明する。図１は、本発明に係る施釉セメン
ト製品の製造方法の一実施例の製造工程を示すフローチ
ャートである。図１において、施釉セメント製品である
施釉セメントパネルは、セメントと骨材と水とを混練し
てセメント材料を得る工程、セメント材料を型枠内に打
設する工程、型枠内にて半養生する工程、脱型後にセメ
ント成形体の表面を下地処理する工程、下地処理された
セメント成形体表面に施釉する工程、施釉したセメント
成形体を焼成する工程及び冷却後のセメント成形体を再
水和し養生する工程からなっている。この下地処理工程
において、釉薬として施釉工程で用いる釉薬より溶融温
度が低い釉薬を用いる点と、施釉工程において、ほう系
フリットや有鉛系フリット等の泥しょう状の釉薬にアク
リル樹脂のエマルジョン等の有機エマルジョンを混入す
る点とが本発明の実施例の特徴である。
照しながら説明する。図１は、本発明に係る施釉セメン
ト製品の製造方法の一実施例の製造工程を示すフローチ
ャートである。図１において、施釉セメント製品である
施釉セメントパネルは、セメントと骨材と水とを混練し
てセメント材料を得る工程、セメント材料を型枠内に打
設する工程、型枠内にて半養生する工程、脱型後にセメ
ント成形体の表面を下地処理する工程、下地処理された
セメント成形体表面に施釉する工程、施釉したセメント
成形体を焼成する工程及び冷却後のセメント成形体を再
水和し養生する工程からなっている。この下地処理工程
において、釉薬として施釉工程で用いる釉薬より溶融温
度が低い釉薬を用いる点と、施釉工程において、ほう系
フリットや有鉛系フリット等の泥しょう状の釉薬にアク
リル樹脂のエマルジョン等の有機エマルジョンを混入す
る点とが本発明の実施例の特徴である。
【００２０】以下、工程順に実施例の施釉セメントパネ
ルの製造方法を説明する。まず、ミキサーにポルトラン
ドセメントと骨材と水と高性能減水剤とを入れてよく練
り混ぜてモルタルやコンクリート等のセメント材料を作
る。骨材としては、頁岩系の骨材、磁気質シャモット、
坑火石等それぞれ通常に用いられるものを使用すればよ
い。なお施釉セメントパネルに要求される強度や耐水性
等の特性に応じて適度な混和剤や混和材を使用してもよ
い。また、施釉セメントパネルを補強する場合には、型
枠内に鉄筋やネット等の補強材を予め埋設しておいても
よい。
ルの製造方法を説明する。まず、ミキサーにポルトラン
ドセメントと骨材と水と高性能減水剤とを入れてよく練
り混ぜてモルタルやコンクリート等のセメント材料を作
る。骨材としては、頁岩系の骨材、磁気質シャモット、
坑火石等それぞれ通常に用いられるものを使用すればよ
い。なお施釉セメントパネルに要求される強度や耐水性
等の特性に応じて適度な混和剤や混和材を使用してもよ
い。また、施釉セメントパネルを補強する場合には、型
枠内に鉄筋やネット等の補強材を予め埋設しておいても
よい。
【００２１】続いて、得られたセメント材料を型枠に打
設する。型枠に打設した後、養生条件をコントロールし
て所定時間半養生する。なおこの養生時間は水の移動時
間や生産性等考慮して４〜１２時間が好ましい。この養
生は、温風養生や自然養生や赤外線加熱養生や高周波加
熱養生等で行うことができる。養生後に脱型を行い、十
分に乾燥していないセメント成形品の表面に生釉，ほう
酸系フリット釉、有鉛系釉等の釉薬より溶融温度が低い
釉薬、具体的には１０℃〜１００℃低い泥しょう状の釉
薬を用いて表面に下地処理を施す。このときの塗布量は
５０ｇ／ｍ2 〜１５０ｇ／ｍ2 程度が好ましい。続いて
下地処理されたセメント成形体の表面に生釉，ほう酸系
フリット釉、有鉛系釉等の泥しょう状の釉薬にアクリル
樹脂のエマルジョンを混入した液体を釉薬として用い、
これを塗布する。このときのアクリル樹脂エマルジョン
は、固形分が６０重量％程度のエマルジョンである。ま
た、泥しょう状の釉薬とアクリル樹脂エマルジョンとの
混合割合は、特には限定されないが、概ね釉薬エマルジ
ョン１００重量部に対してアクリル樹脂エマルジョン
２．５〜１５重量部が好ましい。アクリル樹脂エマルジ
ョンが２．５重量部未満であると、釉薬中の水分蒸発時
の樹脂分の作用が十分発揮できない。また、１５重量部
を超えると発泡現象が発生して、釉面にピンホールが多
数発生する。さらに、釉薬の塗布量は特に限定されない
が、概ね０．３〜２ｋｇ／ｍ2 であり、刷毛塗り、スプ
レー塗り、流し塗り等により塗布される。
設する。型枠に打設した後、養生条件をコントロールし
て所定時間半養生する。なおこの養生時間は水の移動時
間や生産性等考慮して４〜１２時間が好ましい。この養
生は、温風養生や自然養生や赤外線加熱養生や高周波加
熱養生等で行うことができる。養生後に脱型を行い、十
分に乾燥していないセメント成形品の表面に生釉，ほう
酸系フリット釉、有鉛系釉等の釉薬より溶融温度が低い
釉薬、具体的には１０℃〜１００℃低い泥しょう状の釉
薬を用いて表面に下地処理を施す。このときの塗布量は
５０ｇ／ｍ2 〜１５０ｇ／ｍ2 程度が好ましい。続いて
下地処理されたセメント成形体の表面に生釉，ほう酸系
フリット釉、有鉛系釉等の泥しょう状の釉薬にアクリル
樹脂のエマルジョンを混入した液体を釉薬として用い、
これを塗布する。このときのアクリル樹脂エマルジョン
は、固形分が６０重量％程度のエマルジョンである。ま
た、泥しょう状の釉薬とアクリル樹脂エマルジョンとの
混合割合は、特には限定されないが、概ね釉薬エマルジ
ョン１００重量部に対してアクリル樹脂エマルジョン
２．５〜１５重量部が好ましい。アクリル樹脂エマルジ
ョンが２．５重量部未満であると、釉薬中の水分蒸発時
の樹脂分の作用が十分発揮できない。また、１５重量部
を超えると発泡現象が発生して、釉面にピンホールが多
数発生する。さらに、釉薬の塗布量は特に限定されない
が、概ね０．３〜２ｋｇ／ｍ2 であり、刷毛塗り、スプ
レー塗り、流し塗り等により塗布される。
【００２２】施釉後のセメント成形体はローラハースキ
ルン等の焼成炉によって焼成される。焼成条件は釉薬の
種類等によって異なるが、８００〜９００℃の範囲で１
時間程度焼成が行われる。この焼成中に、３００℃付近
で釉薬層中の水分が蒸発して釉薬層にクラックが生じや
すい。しかし、釉薬中にアクリル樹脂が混入されている
ので、アクリル樹脂が硬化して水分が除去した後の溶融
前の釉薬層の強度が高くなり、低温でのクラックが発生
しにくくなる。なお、混入されたアクリル樹脂は、それ
より高温になると分解されて気化するので、釉面に残留
することはない。
ルン等の焼成炉によって焼成される。焼成条件は釉薬の
種類等によって異なるが、８００〜９００℃の範囲で１
時間程度焼成が行われる。この焼成中に、３００℃付近
で釉薬層中の水分が蒸発して釉薬層にクラックが生じや
すい。しかし、釉薬中にアクリル樹脂が混入されている
ので、アクリル樹脂が硬化して水分が除去した後の溶融
前の釉薬層の強度が高くなり、低温でのクラックが発生
しにくくなる。なお、混入されたアクリル樹脂は、それ
より高温になると分解されて気化するので、釉面に残留
することはない。
【００２３】また、焼成中に８００℃付近でセメント成
形体内の水分が蒸発したり、炭酸カルシウムが分解して
炭酸ガスが発生する。しかし、下地処理した後に釉薬層
を形成することで、図２に示すように、セメント成形体
１２の表面と釉薬層１１との間に下地層１３が形成され
るため、釉面となる釉薬が溶融する前の釉薬層とセメン
ト成形体表面との密着性が溶融した下地層の作用により
高まり、８００℃付近でのクラックの発生が抑制され
る。このため、セメント中の水分による水蒸気や炭酸カ
ルシウムの熱分解による炭酸ガスが発生しても釉ハゲ等
が生じにくくなる。したがって、セメント成形品を得る
際に脱型後の乾燥工程が不要になり、それに要する時間
を短縮できる。
形体内の水分が蒸発したり、炭酸カルシウムが分解して
炭酸ガスが発生する。しかし、下地処理した後に釉薬層
を形成することで、図２に示すように、セメント成形体
１２の表面と釉薬層１１との間に下地層１３が形成され
るため、釉面となる釉薬が溶融する前の釉薬層とセメン
ト成形体表面との密着性が溶融した下地層の作用により
高まり、８００℃付近でのクラックの発生が抑制され
る。このため、セメント中の水分による水蒸気や炭酸カ
ルシウムの熱分解による炭酸ガスが発生しても釉ハゲ等
が生じにくくなる。したがって、セメント成形品を得る
際に脱型後の乾燥工程が不要になり、それに要する時間
を短縮できる。
【００２４】焼成されたセメント成形体は、再水和させ
るべく、水中に３０〜６０分程度浸漬された後、５０〜
６０℃、９０〜９８％RH下で３日間程度養生される。次
に、本発明の実施例の具体的な実施例について説明す
る。まず、セメントを３０．５重量％、粒径が小さい発
泡頁岩系骨材を３６．７％，粒径が大きい発泡頁岩系骨
材を３２．８％の配合比で配合した。セメントとして
は、普通ポルトランドセメントを用いた。このセメント
材料にさらに高性能減水剤をセメントに対して２重量％
添加し、さらにセメントに対して水を５０重量％（Ｗ／
Ｃ比５０）混入しミキサーでよく混練した。
るべく、水中に３０〜６０分程度浸漬された後、５０〜
６０℃、９０〜９８％RH下で３日間程度養生される。次
に、本発明の実施例の具体的な実施例について説明す
る。まず、セメントを３０．５重量％、粒径が小さい発
泡頁岩系骨材を３６．７％，粒径が大きい発泡頁岩系骨
材を３２．８％の配合比で配合した。セメントとして
は、普通ポルトランドセメントを用いた。このセメント
材料にさらに高性能減水剤をセメントに対して２重量％
添加し、さらにセメントに対して水を５０重量％（Ｗ／
Ｃ比５０）混入しミキサーでよく混練した。
【００２５】このようにして得られたセメント材料を３
００幅×３００長×３０深の型枠に流し込み、養生温度
２０℃、養生時間１２時間で半養生し脱型して６０個の
セメント成形体を作成した。得られたセメント成形体の
表面に溶融温度が５１０〜６１０℃程度のほう酸フリッ
ト系釉薬を塗布して下地層を形成し、その後、溶融温度
が６２０℃程度のほう酸フリット系釉薬とアクリル樹脂
との混入割合を変えた６種の釉薬によって１０個ずつ施
釉し、８５０℃で１時間程度焼成を行った。焼成後冷却
して、３０分水中に浸漬して再水和処理を行い、６０℃
９８％RH下で３日間養生を行い、アクリル樹脂の混入割
合が異なる６種の釉薬による施釉セメントパネルを１０
個ずつ製造した。
００幅×３００長×３０深の型枠に流し込み、養生温度
２０℃、養生時間１２時間で半養生し脱型して６０個の
セメント成形体を作成した。得られたセメント成形体の
表面に溶融温度が５１０〜６１０℃程度のほう酸フリッ
ト系釉薬を塗布して下地層を形成し、その後、溶融温度
が６２０℃程度のほう酸フリット系釉薬とアクリル樹脂
との混入割合を変えた６種の釉薬によって１０個ずつ施
釉し、８５０℃で１時間程度焼成を行った。焼成後冷却
して、３０分水中に浸漬して再水和処理を行い、６０℃
９８％RH下で３日間養生を行い、アクリル樹脂の混入割
合が異なる６種の釉薬による施釉セメントパネルを１０
個ずつ製造した。
【００２６】施釉時の泥しょう状のほう酸フリット系釉
薬とアクリル樹脂エマルジョンとの混入割合を表１に示
す。表１では、泥しょう状の釉薬１００重量部に対する
アクリル樹脂エマルジョンの混入割合を変化させたとき
の釉ハゲ発生の有無を示している。ここでは〇が釉ハゲ
なしを、×が釉ハゲありを示している。
薬とアクリル樹脂エマルジョンとの混入割合を表１に示
す。表１では、泥しょう状の釉薬１００重量部に対する
アクリル樹脂エマルジョンの混入割合を変化させたとき
の釉ハゲ発生の有無を示している。ここでは〇が釉ハゲ
なしを、×が釉ハゲありを示している。
【００２７】
【表１】
【００２８】この結果、表１に示すように、混入割合が
２．５％未満では釉ハゲが発生し、また、混入割合が１
５％を超えて２０％になっても発泡してピンホールが発
生して釉ハゲが生じることが分かった。
２．５％未満では釉ハゲが発生し、また、混入割合が１
５％を超えて２０％になっても発泡してピンホールが発
生して釉ハゲが生じることが分かった。
【００２９】
【発明の効果】本発明に係る施釉セメント製品の製造方
法では、有機エマルジョンが泥しょう状の釉薬に混入さ
れているので、３００℃付近で釉薬層中の水分が蒸発し
ても、有機エマルジョンが釉薬層内に残留して釉薬層の
強度が高くなり釉薬層にクラックが発生しにくくなる。
法では、有機エマルジョンが泥しょう状の釉薬に混入さ
れているので、３００℃付近で釉薬層中の水分が蒸発し
ても、有機エマルジョンが釉薬層内に残留して釉薬層の
強度が高くなり釉薬層にクラックが発生しにくくなる。
【００３０】また、釉薬層形成前にそれに用いる釉薬よ
り溶融温度が低い釉薬で下地処理するので、釉面とセメ
ント成形体との密着性が高くなり、熱膨張率が異なって
もクラックが発生しにくくなり、炭酸ガスや水蒸気の発
生による釉ハゲ等の釉不具合現象の発生が抑制される。
また、水蒸気が発生しても釉不具合が生じにくいので、
セメント成形品を製造する際の乾燥工程を不要にでき、
脱型から施釉までの時間を短縮できる。
り溶融温度が低い釉薬で下地処理するので、釉面とセメ
ント成形体との密着性が高くなり、熱膨張率が異なって
もクラックが発生しにくくなり、炭酸ガスや水蒸気の発
生による釉ハゲ等の釉不具合現象の発生が抑制される。
また、水蒸気が発生しても釉不具合が生じにくいので、
セメント成形品を製造する際の乾燥工程を不要にでき、
脱型から施釉までの時間を短縮できる。
【図１】本発明の施釉セメント製品の一実施例の製造工
程を示すフローチャート。
程を示すフローチャート。
【図２】焼成前の施釉コンクリートパネルの断面模式
図。
図。
１１ 釉薬層 １２ セメント成形体 １３ 下地層
Claims (5)
- 【請求項１】セメント成形品の表面に釉薬層を形成し、
この釉薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ
層を形成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形
品を養生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製
品を製造する方法において、 前記釉薬層を形成するための釉薬として泥しょう状の釉
薬に有機エマルジョンを混入したものを用いることを特
徴とする施釉セメント製品の製造方法。 - 【請求項２】セメント成形品の表面に釉薬層を形成し、
この釉薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ
層を形成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形
品を養生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製
品を製造する方法において、 前記釉薬層形成前に、この釉薬層の形成に用いる釉薬よ
り溶融温度が低い釉薬を用いて下地処理することを特徴
とする施釉セメント製品の製造方法。 - 【請求項３】セメント成形品の表面に釉薬層を形成し、
この釉薬層を有するセメント成形品を焼成して釉仕上げ
層を形成した後、この釉仕上げ層を有するセメント成形
品を養生硬化させて表面に釉面を備えた施釉セメント製
品を製造する方法において、 前記釉薬層形成前に、この釉薬層の形成に用いる釉薬よ
り溶融温度が低い釉薬を用いて下地処理し、その後釉薬
として泥しょう状の釉薬に有機エマルジョンを混入した
ものを用いて前記釉薬層を形成することを特徴とする施
釉セメント製品の製造方法。 - 【請求項４】前記有機エマルジョンはアクリル樹脂のエ
マルジョンを含む、請求項１または３記載の施釉セメン
ト製品の製造方法。 - 【請求項５】前記有機エマルジョンの混入割合は前記泥
しょう状の釉薬に対して２．５〜１５重量％の範囲であ
る、請求項１，３，４のいずれかに記載の施釉セメント
製品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10665895A JPH08301675A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 施釉セメント製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10665895A JPH08301675A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 施釉セメント製品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08301675A true JPH08301675A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14439203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10665895A Pending JPH08301675A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 施釉セメント製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08301675A (ja) |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP10665895A patent/JPH08301675A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5420869B2 (ja) | 無機質系化粧建築板およびその製造方法 | |
| US4956200A (en) | Texturing a mold surface | |
| JPH08301675A (ja) | 施釉セメント製品の製造方法 | |
| JPH04175281A (ja) | 転写装飾した施釉セメント成形品及びその製造法 | |
| JP7278229B2 (ja) | セメント系材料による造形物の製造方法 | |
| WO2021090161A1 (en) | Article made of conglomerate material and method for manufacturing such article | |
| JP3322314B2 (ja) | Ａｌｃ建材の製造方法 | |
| JPH08259354A (ja) | 施釉セメント製品の製造方法 | |
| JP3100937B2 (ja) | 軽量コンクリート建材の製造方法および塗装材 | |
| JPS6129788B2 (ja) | ||
| CN101245660A (zh) | 一种墙面砖制造方法 | |
| JP2814067B2 (ja) | 施釉セメント製品の製造方法 | |
| JP2622018B2 (ja) | 施釉セメント製品の製造方法 | |
| US1638109A (en) | Imitation marble, tiles, slabs, and similar material especially for use for decorative purposes in buildings and other places | |
| JPH04954B2 (ja) | ||
| JPH0825193B2 (ja) | 気泡コンクリート製品の製造方法 | |
| JPH02204379A (ja) | 施釉用コンクリート体の養生方法 | |
| JPS6262706A (ja) | 模様付軽量発泡コンクリ−ト板の製法およびその型枠 | |
| JPH01234380A (ja) | 施釉コンクリートパネルの補修方法 | |
| JPH11157961A (ja) | 化粧ブロック及びその製造方法 | |
| JPH01234382A (ja) | 施釉コンクリートパネル | |
| KR19980065151A (ko) | 건축용 장식판 제조방법. | |
| JPH0717465B2 (ja) | 人造石の製造方法 | |
| JPH06173423A (ja) | 建築用材 | |
| JPS605086A (ja) | 化粧コンクリ−ト材の成形方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010703 |