JPH08304831A - カラー液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
カラー液晶表示素子及びその製造方法Info
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- JPH08304831A JPH08304831A JP7105961A JP10596195A JPH08304831A JP H08304831 A JPH08304831 A JP H08304831A JP 7105961 A JP7105961 A JP 7105961A JP 10596195 A JP10596195 A JP 10596195A JP H08304831 A JPH08304831 A JP H08304831A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】透明電極４と絶縁層５を備えた一対のガラス基
板１の片側基板カラーフィルタ２、カラーフィルタ保護
層３が設けられ、高分子からなる緩衝層７を核６の周り
に備えたスペーサを用い、１００〜１７０℃で、緩衝層
の硬度をカラーフィルタ基板の硬度の０．６〜１．０倍
とした液晶表示素子。 【効果】高精度が要求されるカラーＳＴＮ−ＬＣＤにお
いて、均一なギャップ制御が得られる。また、生産性が
改善される。
板１の片側基板カラーフィルタ２、カラーフィルタ保護
層３が設けられ、高分子からなる緩衝層７を核６の周り
に備えたスペーサを用い、１００〜１７０℃で、緩衝層
の硬度をカラーフィルタ基板の硬度の０．６〜１．０倍
とした液晶表示素子。 【効果】高精度が要求されるカラーＳＴＮ−ＬＣＤにお
いて、均一なギャップ制御が得られる。また、生産性が
改善される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示素子（以
下、カラーＬＣＤと呼ぶ）の材料構成に関する。
下、カラーＬＣＤと呼ぶ）の材料構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来例のカラーＬＣＤにおいては、目標
セルギャップ径にあわせた無機系又は有機系の粒子を湿
式又は乾式により所定の個数を基板上に散布し、面内の
所望のギャップを実質的に決定するスペーサとして用い
ていた。
セルギャップ径にあわせた無機系又は有機系の粒子を湿
式又は乾式により所定の個数を基板上に散布し、面内の
所望のギャップを実質的に決定するスペーサとして用い
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、カラーフィル
タを備えたカラーＬＣＤの熱圧着工程時において、カラ
ーフィルタ基板が１３０℃以上の高温にさらされる。そ
して、これに起因する硬度低下のため、カラーフィルタ
基板に塑性変形が生じる。この現象は、カラーフィルタ
基板の組立温度に対する硬度、組立圧力とスペーサとカ
ラーフィルタ基板との接地面積などと関係がある。さら
に、それら複数のパラメータの間にも相関関係が存在す
る。
タを備えたカラーＬＣＤの熱圧着工程時において、カラ
ーフィルタ基板が１３０℃以上の高温にさらされる。そ
して、これに起因する硬度低下のため、カラーフィルタ
基板に塑性変形が生じる。この現象は、カラーフィルタ
基板の組立温度に対する硬度、組立圧力とスペーサとカ
ラーフィルタ基板との接地面積などと関係がある。さら
に、それら複数のパラメータの間にも相関関係が存在す
る。
【０００４】また、スペーサとカラーフィルタ基板が所
定の面積で接するまでスペーサがカラーフィルタ基板中
に沈み込みカラーフィルタ基板を変形させる。ギャップ
保持が本来の目的であるスペーサの沈み込みは均一なセ
ルギャップの確保に障害となる。
定の面積で接するまでスペーサがカラーフィルタ基板中
に沈み込みカラーフィルタ基板を変形させる。ギャップ
保持が本来の目的であるスペーサの沈み込みは均一なセ
ルギャップの確保に障害となる。
【０００５】スペーサの径が小さくなると、面内に散布
したスペーサとカラーフィルタ基板との個々の接地面積
は減少する。そして接地面積の総和が所定の値となるた
めにはスペーサのカラーフィルタ基板に対する沈み込み
量がより多く必要となる。言い換えれば、沈み込み量の
多いスペーサが多く存在するようになる。そのため、低
ギャップ仕様の液晶表示素子（例えば６μｍ以下）ほど
基板変形が顕著な問題となる。
したスペーサとカラーフィルタ基板との個々の接地面積
は減少する。そして接地面積の総和が所定の値となるた
めにはスペーサのカラーフィルタ基板に対する沈み込み
量がより多く必要となる。言い換えれば、沈み込み量の
多いスペーサが多く存在するようになる。そのため、低
ギャップ仕様の液晶表示素子（例えば６μｍ以下）ほど
基板変形が顕著な問題となる。
【０００６】図２にガラス基板１、カラーフィルタ２、
カラーフィルタ保護層３、透明電極４、配向膜５、及び
スペーサ９などを備えた従来例のカラー液晶表示素子の
断面を模式的に示す。
カラーフィルタ保護層３、透明電極４、配向膜５、及び
スペーサ９などを備えた従来例のカラー液晶表示素子の
断面を模式的に示す。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明では、一対の基板
間に液晶層が設けられ、いずれか一方、又は両方の基板
がカラーフィルタ基板とされたカラー液晶表示素子であ
って、非緩衝層と緩衝層とを備えたスペーサがセル内に
配置され、緩衝層はセル内面に対して接触面を有してな
ることを特徴とするカラー液晶表示素子を提供する。こ
れを第１の発明と呼ぶ。
間に液晶層が設けられ、いずれか一方、又は両方の基板
がカラーフィルタ基板とされたカラー液晶表示素子であ
って、非緩衝層と緩衝層とを備えたスペーサがセル内に
配置され、緩衝層はセル内面に対して接触面を有してな
ることを特徴とするカラー液晶表示素子を提供する。こ
れを第１の発明と呼ぶ。
【０００８】また、第１の発明において、表示面の単位
面積あたり、接触面の総面積が０．５％以上とされたこ
とを特徴とするカラー液晶表示素子を提供する。これを
第２の発明と呼ぶ。
面積あたり、接触面の総面積が０．５％以上とされたこ
とを特徴とするカラー液晶表示素子を提供する。これを
第２の発明と呼ぶ。
【０００９】また、第１又は第２の発明において、緩衝
層に高分子を用いたことを特徴とするカラー液晶表示素
子を提供する。これを第３の発明と呼ぶ。
層に高分子を用いたことを特徴とするカラー液晶表示素
子を提供する。これを第３の発明と呼ぶ。
【００１０】また、第１〜第３のいずれかの発明におい
て、１００〜１７０℃の温度範囲で、緩衝層の硬度をカ
ラーフィルタ基板の表面保護層の硬度に対して０．６〜
１．０倍としたことを特徴とするカラー液晶表示素子を
提供する。これを第４の発明と呼ぶ。
て、１００〜１７０℃の温度範囲で、緩衝層の硬度をカ
ラーフィルタ基板の表面保護層の硬度に対して０．６〜
１．０倍としたことを特徴とするカラー液晶表示素子を
提供する。これを第４の発明と呼ぶ。
【００１１】また、第１〜第４のいずれかの発明におい
て、セルギャップが１〜６μｍとされ、セル内に配置す
る前のスペーサの緩衝層の厚みを０．３〜１．０μｍと
したことを特徴とするカラー液晶表示素子を提供する。
これを第５の発明と呼ぶ。
て、セルギャップが１〜６μｍとされ、セル内に配置す
る前のスペーサの緩衝層の厚みを０．３〜１．０μｍと
したことを特徴とするカラー液晶表示素子を提供する。
これを第５の発明と呼ぶ。
【００１２】また、第１〜第５のいずれかの発明におい
て、セルギャップが２〜６μｍとされ、動作モードがＳ
ＴＮとされたことを特徴とするカラー液晶表示素子を提
供する。これを第６の発明と呼ぶ。
て、セルギャップが２〜６μｍとされ、動作モードがＳ
ＴＮとされたことを特徴とするカラー液晶表示素子を提
供する。これを第６の発明と呼ぶ。
【００１３】また、第６の発明において、セルギャップ
が６μｍの場合、接触面の平均的な面積が非緩衝層の断
面積の６〜８％であることを特徴とするカラー液晶表示
素子を提供する。これを第７の発明と呼ぶ。
が６μｍの場合、接触面の平均的な面積が非緩衝層の断
面積の６〜８％であることを特徴とするカラー液晶表示
素子を提供する。これを第７の発明と呼ぶ。
【００１４】また、第６の発明において、セルギャップ
が４μｍの場合、接触面の平均的な面積が非緩衝層の断
面積の２５〜３５％であることを特徴とするカラー液晶
表示素子を提供する。これを第８の発明と呼ぶ。
が４μｍの場合、接触面の平均的な面積が非緩衝層の断
面積の２５〜３５％であることを特徴とするカラー液晶
表示素子を提供する。これを第８の発明と呼ぶ。
【００１５】また、第６〜第８のいずれかの発明におい
て、複数行同時選択高速駆動方式によって行電極と列電
極が駆動されることを特徴とするカラー液晶表示素子を
提供する。これを第９の発明と呼ぶ。
て、複数行同時選択高速駆動方式によって行電極と列電
極が駆動されることを特徴とするカラー液晶表示素子を
提供する。これを第９の発明と呼ぶ。
【００１６】また、第９の発明において、行電極数が４
８０以上、列電極数が６４０以上設けてなることを特徴
とするカラー液晶表示素子を提供する。これを第１０の
発明と呼ぶ。
８０以上、列電極数が６４０以上設けてなることを特徴
とするカラー液晶表示素子を提供する。これを第１０の
発明と呼ぶ。
【００１７】また、一対の基板間に液晶層が設けられ、
いずれか一方、又は両方の基板がカラーフィルタ基板と
されたカラー液晶表示素子であって、非緩衝層と緩衝層
とを備えたスペーサをセル内に配置し、両基板を熱圧着
し、緩衝層とセル内面との間に接触面を形成することを
特徴とするカラー液晶表示素子の製造方法を提供する。
これを第１１の発明と呼ぶ。
いずれか一方、又は両方の基板がカラーフィルタ基板と
されたカラー液晶表示素子であって、非緩衝層と緩衝層
とを備えたスペーサをセル内に配置し、両基板を熱圧着
し、緩衝層とセル内面との間に接触面を形成することを
特徴とするカラー液晶表示素子の製造方法を提供する。
これを第１１の発明と呼ぶ。
【００１８】また、第１１の発明において、セル内に配
置する前における緩衝層の厚みを非緩衝層の厚みの５〜
２０％とすることを特徴とするカラー液晶表示素子の製
造方法を提供する。これを第１２の発明と呼ぶ。
置する前における緩衝層の厚みを非緩衝層の厚みの５〜
２０％とすることを特徴とするカラー液晶表示素子の製
造方法を提供する。これを第１２の発明と呼ぶ。
【００１９】以下に、本発明をより具体的に説明する。
本発明では、スペーサとして粒子形状又は円柱体形状の
ものを用いる。スペーサの核Ｒ2 として、目標のセルギ
ャップに近い１．０〜６．０μｍ直径を持つ無機又は有
機系のスペーサを用いる。この核Ｒ2 が非緩衝層であ
る。
本発明では、スペーサとして粒子形状又は円柱体形状の
ものを用いる。スペーサの核Ｒ2 として、目標のセルギ
ャップに近い１．０〜６．０μｍ直径を持つ無機又は有
機系のスペーサを用いる。この核Ｒ2 が非緩衝層であ
る。
【００２０】さらに、その粒子表面に圧着組立工程の温
度でカラーフィルタ基板の構成材料と硬度がほぼ同程度
か又は柔らかい高分子材料（０．６〜１．０倍の硬度）
を用いて、厚みＲ1 が０．１〜０．５μｍの緩衝層を形
成せしめる。したがって、スペーサの直径Ｒは、Ｒ≒Ｒ
1 ＋Ｒ2 となる。図３にその模式図を示す。硬い材料が
用いられた非緩衝層６が核となり、そのまわりに緩衝層
７が設けられたスペーサ８が示されている。
度でカラーフィルタ基板の構成材料と硬度がほぼ同程度
か又は柔らかい高分子材料（０．６〜１．０倍の硬度）
を用いて、厚みＲ1 が０．１〜０．５μｍの緩衝層を形
成せしめる。したがって、スペーサの直径Ｒは、Ｒ≒Ｒ
1 ＋Ｒ2 となる。図３にその模式図を示す。硬い材料が
用いられた非緩衝層６が核となり、そのまわりに緩衝層
７が設けられたスペーサ８が示されている。
【００２１】製造するＬＣＤのセルギャップの寸法にも
よるが、セルギャップをｄとするとおよそ、Ｒ＝１．１
・ｄ程度に設ける。非緩衝層は緩衝層よりも相対的に軟
らかい材料を選択し、カラーフィルター基板と対向基板
とを合わせてセルを形成する際に、基板の内面に接触し
変形するように設ける。
よるが、セルギャップをｄとするとおよそ、Ｒ＝１．１
・ｄ程度に設ける。非緩衝層は緩衝層よりも相対的に軟
らかい材料を選択し、カラーフィルター基板と対向基板
とを合わせてセルを形成する際に、基板の内面に接触し
変形するように設ける。
【００２２】ここで、円柱体形状のスペーサの場合、そ
の断面積とは表示面に投影した場合におけるほぼ矩形の
投影面積のことであり接触面はほぼ線状もしくは矩形と
なる。粒子形状のスペーサの場合はほぼ円状の投影面積
を意味する。また、その接触面はほぼ円状になる。
の断面積とは表示面に投影した場合におけるほぼ矩形の
投影面積のことであり接触面はほぼ線状もしくは矩形と
なる。粒子形状のスペーサの場合はほぼ円状の投影面積
を意味する。また、その接触面はほぼ円状になる。
【００２３】このようなスペーサを湿式又は乾式により
所定個数セル内に散布し、面内に散布するスペーサとし
て用いる。例えば、１ｃｍ2 あたり１５０００個散布す
る。この場合、散布数量が多くて散布密度が高くなれ
ば、単位面積あたりの接触面の総面積がほぼ一定になる
よう設けるので、個々のスペーサの接触面の面積は小さ
くなる。逆に、散布数量が減ると個々のスペーサの接触
面の面積は大きくなる。
所定個数セル内に散布し、面内に散布するスペーサとし
て用いる。例えば、１ｃｍ2 あたり１５０００個散布す
る。この場合、散布数量が多くて散布密度が高くなれ
ば、単位面積あたりの接触面の総面積がほぼ一定になる
よう設けるので、個々のスペーサの接触面の面積は小さ
くなる。逆に、散布数量が減ると個々のスペーサの接触
面の面積は大きくなる。
【００２４】本発明において、セルギャップ４μｍのカ
ラーＳＴＮ−ＬＣＤの場合、およそ１個あたりの接触面
積（粒子形状の場合で、その上下面のいずれかの接触
面）を２．５〜３．５μｍ2 となるように設ける。そし
て、本発明においては単位面積におけるスペーサの接触
面がほぼ均等に形成されるようにする。このような構成
は表示面の一部の凹凸を補償するというよりは、超高精
度のセルギャップ制御を達成するためのものである。
ラーＳＴＮ−ＬＣＤの場合、およそ１個あたりの接触面
積（粒子形状の場合で、その上下面のいずれかの接触
面）を２．５〜３．５μｍ2 となるように設ける。そし
て、本発明においては単位面積におけるスペーサの接触
面がほぼ均等に形成されるようにする。このような構成
は表示面の一部の凹凸を補償するというよりは、超高精
度のセルギャップ制御を達成するためのものである。
【００２５】
【作用】本発明においては、セルの組立工程の圧力によ
りスペーサの緩衝層がカラーフィルタ基板より先に変形
する。このことにより、カラーフィルタ基板とスペーサ
との間に必要な所定の接触面積を得ることができる。
りスペーサの緩衝層がカラーフィルタ基板より先に変形
する。このことにより、カラーフィルタ基板とスペーサ
との間に必要な所定の接触面積を得ることができる。
【００２６】そのため、カラーフィルタ基板の塑性変形
量が減少し、スペーサのカラーフィルタ基板への沈み込
み量が低減できる。このことから、カラーフィルタ基板
上の透明電極に対するダメージを回避するとともに均一
なセルギャップの確保が容易となった。以下に本発明の
実施例及び比較例を説明する。
量が減少し、スペーサのカラーフィルタ基板への沈み込
み量が低減できる。このことから、カラーフィルタ基板
上の透明電極に対するダメージを回避するとともに均一
なセルギャップの確保が容易となった。以下に本発明の
実施例及び比較例を説明する。
【００２７】
（実施例１）固形分１５ｗｔ％、粘度２１ＣＰのＯＰコ
ート材（日本合成ゴム株式会社製、ＪＳＳ−５２００）
３ｇをγ−ブチロラクトンとブチロセロソルブの１：１
の混合物１００ｍｌに溶解する。粒径４．０μｍのスペ
ーサ（触媒化成工業株式会社製、ＳＷ−４．２μｍ）２
０ｇを加え混合後、減圧加温条件（０．１ｍｍＨｇ、７
０℃）で撹拌乾燥させた。
ート材（日本合成ゴム株式会社製、ＪＳＳ−５２００）
３ｇをγ−ブチロラクトンとブチロセロソルブの１：１
の混合物１００ｍｌに溶解する。粒径４．０μｍのスペ
ーサ（触媒化成工業株式会社製、ＳＷ−４．２μｍ）２
０ｇを加え混合後、減圧加温条件（０．１ｍｍＨｇ、７
０℃）で撹拌乾燥させた。
【００２８】得られた乾燥物を乳鉢にて十分に粉砕後に
２００℃にて焼成を行い、さらに分球選別を行った。こ
の方法により得られた粒子の径をコールターカウンタに
より測定したところ平均粒径が４．３μｍであった。
２００℃にて焼成を行い、さらに分球選別を行った。こ
の方法により得られた粒子の径をコールターカウンタに
より測定したところ平均粒径が４．３μｍであった。
【００２９】上記方法で表面に緩衝層を形成したスペー
サを面内スペーサとして用い、ＯＰコート材（日本合成
ゴム株式会社製、ＪＳＳ−５２００）を顔料分散型カラ
ーフィルタ上に３μｍ厚みの平滑層（カラーフィルタ保
護層）として形成した。なお、このＯＰコート材はアク
リル系ポリマーなどからなる。また、カラーフィルタを
有しない対向基板（ガラス基板）を準備した。
サを面内スペーサとして用い、ＯＰコート材（日本合成
ゴム株式会社製、ＪＳＳ−５２００）を顔料分散型カラ
ーフィルタ上に３μｍ厚みの平滑層（カラーフィルタ保
護層）として形成した。なお、このＯＰコート材はアク
リル系ポリマーなどからなる。また、カラーフィルタを
有しない対向基板（ガラス基板）を準備した。
【００３０】相対向する二つの基板表面にそれぞれ行電
極数を４８０、列電極数を６４０としたストライプ状の
透明電極を形成後、ポリイミドワニス（日産化学株式会
社製、Ｓ−３３１０）を用い、スピンコートにより薄膜
を塗布し、２５０℃の加熱を行い４００Åのポリイミド
層を形成した。ポリイミド層をナイロン製静電植毛布に
よりラビングし、配向膜を形成した。基板間の液晶層の
ねじれ角度は２７０度とした。
極数を４８０、列電極数を６４０としたストライプ状の
透明電極を形成後、ポリイミドワニス（日産化学株式会
社製、Ｓ−３３１０）を用い、スピンコートにより薄膜
を塗布し、２５０℃の加熱を行い４００Åのポリイミド
層を形成した。ポリイミド層をナイロン製静電植毛布に
よりラビングし、配向膜を形成した。基板間の液晶層の
ねじれ角度は２７０度とした。
【００３１】スペーサ散布には乾式散布方式を用い、ガ
ラス基板に対し散布個数条件が１００００個／ｃｍ2 の
散布を行った。セル周辺のシール層に熱硬化型エポキシ
樹脂を用い、１６０℃・０．６ｋｇの熱プレスにて、対
向する基板の張り合わせを行った。
ラス基板に対し散布個数条件が１００００個／ｃｍ2 の
散布を行った。セル周辺のシール層に熱硬化型エポキシ
樹脂を用い、１６０℃・０．６ｋｇの熱プレスにて、対
向する基板の張り合わせを行った。
【００３２】図１にガラス基板１、カラーフィルタ２、
カラーフィルタ保護層３、透明電極４、配向膜５、及び
非緩衝層６と緩衝層７とを有するスペーサ８などを備え
た本発明のカラー液晶表示素子の断面を模式的に示す。
配向膜５と透明電極４との間にさらに絶縁膜を設けても
よい。この層構造において、カラーフィルタ２は１．２
μｍ、カラーフィルタ保護層３は２μｍ程度の厚みを有
し、カラーフィルタ基板の厚みの主要部をしめる。配向
膜と透明電極の厚みはÅのレンジにあり、液晶セルの構
造体としてカラーフィルタ２とカラーフィルタ保護層３
とが極めて重要となる。
カラーフィルタ保護層３、透明電極４、配向膜５、及び
非緩衝層６と緩衝層７とを有するスペーサ８などを備え
た本発明のカラー液晶表示素子の断面を模式的に示す。
配向膜５と透明電極４との間にさらに絶縁膜を設けても
よい。この層構造において、カラーフィルタ２は１．２
μｍ、カラーフィルタ保護層３は２μｍ程度の厚みを有
し、カラーフィルタ基板の厚みの主要部をしめる。配向
膜と透明電極の厚みはÅのレンジにあり、液晶セルの構
造体としてカラーフィルタ２とカラーフィルタ保護層３
とが極めて重要となる。
【００３３】液晶注入後の面内のセルギャップは４±
０．０５μｍの範囲にあった。また、セルを分解し、カ
ラーフィルタ基板表面を観察したところ、スペーサによ
る基板表面の損傷は認められなかった。さらに、位相差
板など必要な光学部材や、駆動回路を設けてカラーＳＴ
Ｎ−ＬＣＤのセルを組み立てた。
０．０５μｍの範囲にあった。また、セルを分解し、カ
ラーフィルタ基板表面を観察したところ、スペーサによ
る基板表面の損傷は認められなかった。さらに、位相差
板など必要な光学部材や、駆動回路を設けてカラーＳＴ
Ｎ−ＬＣＤのセルを組み立てた。
【００３４】この液晶表示素子を、複数行同時選択高速
駆動方式によって行電極と列電極を駆動し、動画像の高
速表示を行ったところ、コントラストを落とさずに鮮明
な画像が得られた。
駆動方式によって行電極と列電極を駆動し、動画像の高
速表示を行ったところ、コントラストを落とさずに鮮明
な画像が得られた。
【００３５】（比較例１）緩衝層が形成されていない粒
径４．０μｍのスペーサ（触媒化成工業株式会社製、Ｓ
Ｗ−４．２μｍ）をセル内のスペーサとして用いる以外
は実施例１と同様な構成のセルを組み立てた。
径４．０μｍのスペーサ（触媒化成工業株式会社製、Ｓ
Ｗ−４．２μｍ）をセル内のスペーサとして用いる以外
は実施例１と同様な構成のセルを組み立てた。
【００３６】液晶注入後の面内のセルギャップが３．８
±０．２０μｍであることが測定された。このセルを分
解し、カラーフィルタ基板表面を観察したところ、基板
表面へのスペーサによる約０．３μｍ深さの陥没と透明
電極の損傷が多数認められた。
±０．２０μｍであることが測定された。このセルを分
解し、カラーフィルタ基板表面を観察したところ、基板
表面へのスペーサによる約０．３μｍ深さの陥没と透明
電極の損傷が多数認められた。
【００３７】
【発明の効果】基板変形の発生を回避することにより、
透明電極のダメージを減らし、駆動回路の一部をなす透
明電極自身の抵抗値のばらつきを低減できた。
透明電極のダメージを減らし、駆動回路の一部をなす透
明電極自身の抵抗値のばらつきを低減できた。
【００３８】本発明によって、量産が可能な実用的な製
造技術であっても、液晶セル面内に散布されるスペーサ
本来のギャップ保持機能が保たれるため均一なセルギャ
ップの確保が可能となった。本発明は従来のＴＮ−ＬＣ
Ｄにも適用でき、さらに、高精度の許容誤差が望まれる
ＳＴＮ−ＬＣＤにおいてセルギャップ制御が容易に達成
できるようになった。
造技術であっても、液晶セル面内に散布されるスペーサ
本来のギャップ保持機能が保たれるため均一なセルギャ
ップの確保が可能となった。本発明は従来のＴＮ−ＬＣ
Ｄにも適用でき、さらに、高精度の許容誤差が望まれる
ＳＴＮ−ＬＣＤにおいてセルギャップ制御が容易に達成
できるようになった。
【００３９】さらに、カラーＳＴＮ−ＬＣＤのセルギャ
ップ形成が高精度で制御可能となり、その結果カラービ
デオ動画像が安定して表示できるようになった。また、
歩留も向上し高い生産性が得られるようになった。
ップ形成が高精度で制御可能となり、その結果カラービ
デオ動画像が安定して表示できるようになった。また、
歩留も向上し高い生産性が得られるようになった。
【図１】本発明における液晶表示素子の断面構造を示す
模式図。
模式図。
【図２】従来例の液晶表示素子の断面構造を示す模式
図。
図。
【図３】本発明のスペーサの断面構造を示す模式図。
１：ガラス基板 ２：カラーフィルタ ３：カラーフィルタ保護層 ４：透明電極 ５：配向膜 ６：非緩衝層 ７：緩衝層 ８：スペーサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高 英昌 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 中山 雅仁 東京都文京区湯島３丁目14番９号 オプト レックス株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】一対の基板間に液晶層が設けられ、いずれ
か一方、又は両方の基板がカラーフィルタ基板とされた
カラー液晶表示素子であって、非緩衝層と緩衝層とを備
えたスペーサがセル内に配置され、緩衝層はセル内面に
対して接触面を有してなることを特徴とするカラー液晶
表示素子。 - 【請求項２】表示面の単位面積あたり、接触面の総面積
が０．５％以上とされたことを特徴とする請求項１のカ
ラー液晶表示素子。 - 【請求項３】緩衝層に高分子を用いたことを特徴とする
請求項１又は２のカラー液晶表示素子。 - 【請求項４】１００〜１７０℃の温度範囲で、緩衝層の
硬度をカラーフィルタ基板の表面保護層の硬度に対して
０．６〜１．０倍としたことを特徴とする請求項１〜３
のいずれか１項のカラー液晶表示素子。 - 【請求項５】セルギャップが１〜６μｍとされ、セル内
に配置する前のスペーサの緩衝層の厚みを０．３〜１．
０μｍとしたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか
１項のカラー液晶表示素子。 - 【請求項６】セルギャップが２〜６μｍとされ、動作モ
ードがＳＴＮとされたことを特徴とする請求項１〜５の
いずれか１項のカラー液晶表示素子。 - 【請求項７】複数行同時選択高速駆動方式によって行電
極と列電極が駆動されることを特徴とする請求項６のカ
ラー液晶表示素子。 - 【請求項８】一対の基板間に液晶層が設けられ、いずれ
か一方、又は両方の基板がカラーフィルタ基板とされた
カラー液晶表示素子であって、非緩衝層と緩衝層とを備
えたスペーサをセル内に配置し、両基板を熱圧着し、緩
衝層とセル内面との間に接触面を形成することを特徴と
するカラー液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項９】熱圧着を１３０℃以上で行うことを特徴と
する請求項８のカラー液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7105961A JPH08304831A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | カラー液晶表示素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7105961A JPH08304831A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | カラー液晶表示素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08304831A true JPH08304831A (ja) | 1996-11-22 |
Family
ID=14421405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7105961A Pending JPH08304831A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | カラー液晶表示素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08304831A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000005180A1 (en) * | 1998-07-20 | 2000-02-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Flexible substrate |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154028A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 液晶表示素子用スペーサーおよびその製造方法 |
| JPH0222626A (ja) * | 1988-07-11 | 1990-01-25 | Alps Electric Co Ltd | 液晶表示素子 |
| JPH0237325A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-07 | Toshiba Corp | 液晶表示素子 |
| JPH04318816A (ja) * | 1991-04-18 | 1992-11-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示装置およびカラーフィルター |
| JPH06160866A (ja) * | 1992-11-17 | 1994-06-07 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP7105961A patent/JPH08304831A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Date | Code | Title | Description |
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