JPH08310833A - 低融点ガラスペースト - Google Patents
低融点ガラスペーストInfo
- Publication number
- JPH08310833A JPH08310833A JP11717795A JP11717795A JPH08310833A JP H08310833 A JPH08310833 A JP H08310833A JP 11717795 A JP11717795 A JP 11717795A JP 11717795 A JP11717795 A JP 11717795A JP H08310833 A JPH08310833 A JP H08310833A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- low melting
- melting point
- acid
- point glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
- C03C8/16—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions with vehicle or suspending agents, e.g. slip
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】低融点ガラスと親油性スメクタイトを有機溶剤
中、あるいはカルボン酸の有機溶剤溶液に分散してなる
低融点ガラスペースト。 【効果】残炭のないパターンを容易に描くことができ
る。
中、あるいはカルボン酸の有機溶剤溶液に分散してなる
低融点ガラスペースト。 【効果】残炭のないパターンを容易に描くことができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は低融点ガラスのペースト
に関する。詳しくは、特定のスメクタイトを含有する低
融点ガラスのペーストに関する。
に関する。詳しくは、特定のスメクタイトを含有する低
融点ガラスのペーストに関する。
【０００２】
【従来の技術】セラミックまたはガラス粉とバインダー
からなる組成物をシート状に成形しついで焼結してセラ
ミックまたはガラスの成形物を作ることは広く行われて
おり、特に易熱分解性のポリマーをバインダーとするこ
とで多層の成形物も製造可能となっている。また複雑な
形状のセラミックまたはガラス成形物を製造したり、あ
るいは成形物を真空にしたり、あるいは不活性ガスを充
填するためにセラミックまたはガラス成形物を接着する
ことが必要となってきている。
からなる組成物をシート状に成形しついで焼結してセラ
ミックまたはガラスの成形物を作ることは広く行われて
おり、特に易熱分解性のポリマーをバインダーとするこ
とで多層の成形物も製造可能となっている。また複雑な
形状のセラミックまたはガラス成形物を製造したり、あ
るいは成形物を真空にしたり、あるいは不活性ガスを充
填するためにセラミックまたはガラス成形物を接着する
ことが必要となってきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】接着に用いるセラミッ
クまたはガラス粉のペーストとしては、充分な流動性が
必要であるばかりではなく、用いたバインダーが接着後
に残らないかあるいは特性を損なわないことが必要であ
り、低温で分解するポリマーをバインダーとして用いる
ことが通常行われているが、より低温で融解するガラス
が開発されており従来の延長線上では解決が困難になっ
ている。
クまたはガラス粉のペーストとしては、充分な流動性が
必要であるばかりではなく、用いたバインダーが接着後
に残らないかあるいは特性を損なわないことが必要であ
り、低温で分解するポリマーをバインダーとして用いる
ことが通常行われているが、より低温で融解するガラス
が開発されており従来の延長線上では解決が困難になっ
ている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決して、取扱いが容易でしかも焼成することで所望の
ガラスとなる様な低融点ガラスペーストについて鋭意探
索し本発明を完成した。
解決して、取扱いが容易でしかも焼成することで所望の
ガラスとなる様な低融点ガラスペーストについて鋭意探
索し本発明を完成した。
【０００５】即ち本発明は、低融点ガラスと親油性スメ
クタイトを有機溶剤中に分散してなる低融点ガラスペー
ストである。
クタイトを有機溶剤中に分散してなる低融点ガラスペー
ストである。
【０００６】本発明においてペーストに用いる低融点ガ
ラスとしては低温（通常 500℃以下）で溶融するような
組成のガラス粉が利用され、特に種々の低融点ガラスと
して市販されたものが利用できる。ガラスとしては、特
に、酸化鉛、酸化ビスマスなどを主成分とするものが低
融点であり好ましく利用できる。
ラスとしては低温（通常 500℃以下）で溶融するような
組成のガラス粉が利用され、特に種々の低融点ガラスと
して市販されたものが利用できる。ガラスとしては、特
に、酸化鉛、酸化ビスマスなどを主成分とするものが低
融点であり好ましく利用できる。
【０００７】本発明において、親油性スメクタイトとし
ては、そのベースとしては珪酸のアルカリ金属塩、ある
いはアルカリ土類金属塩であり、層状の珪酸層の間にア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属のイオンが挿入され
た構造のものであり、種々のものが知られているが、特
に珪酸のマグネシウム塩をベースとしたものが良く知ら
れており好ましく利用できる。親油性とするにはこれら
のスメクタイトを四級アンモニウム塩で処理することで
可能であり、種々のものが既に数多く市販されている。
ては、そのベースとしては珪酸のアルカリ金属塩、ある
いはアルカリ土類金属塩であり、層状の珪酸層の間にア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属のイオンが挿入され
た構造のものであり、種々のものが知られているが、特
に珪酸のマグネシウム塩をベースとしたものが良く知ら
れており好ましく利用できる。親油性とするにはこれら
のスメクタイトを四級アンモニウム塩で処理することで
可能であり、種々のものが既に数多く市販されている。
【０００８】本発明において有機溶剤としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物、パークロ
ルエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
化合物が好ましく例示される。
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物、パークロ
ルエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
化合物が好ましく例示される。
【０００９】本発明において必要に応じて用いるカルボ
ン酸としては、炭素数１〜２５のカルボキシル基を有す
る化合物が好ましく例示でき、脂肪族系、脂環族系、芳
香族系などどのようなものでも利用できるが、水への溶
解性、環境への影響を考慮すると脂肪族系の炭素数１〜
１０程度のカルボン酸が好ましく用いられる。カルボキ
シル基は分子中に１個である必要はなく、１〜４個のカ
ルボキシル基を有するものが利用される。例えば、蟻
酸、酢酸、ブチリル酸、ペンチル酸、ヘキシル酸、ヘプ
チル酸、オクチル酸、ラウリル酸、ステアリン酸などの
カルボキシル基が１つのもの、シュウ酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸などのカルボキシル基が２つのも
のなどが挙げられる。
ン酸としては、炭素数１〜２５のカルボキシル基を有す
る化合物が好ましく例示でき、脂肪族系、脂環族系、芳
香族系などどのようなものでも利用できるが、水への溶
解性、環境への影響を考慮すると脂肪族系の炭素数１〜
１０程度のカルボン酸が好ましく用いられる。カルボキ
シル基は分子中に１個である必要はなく、１〜４個のカ
ルボキシル基を有するものが利用される。例えば、蟻
酸、酢酸、ブチリル酸、ペンチル酸、ヘキシル酸、ヘプ
チル酸、オクチル酸、ラウリル酸、ステアリン酸などの
カルボキシル基が１つのもの、シュウ酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸などのカルボキシル基が２つのも
のなどが挙げられる。
【００１０】本発明における低融点ガラスペーストは、
低融点ガラスと親油性スメクタイトを有機溶剤中、ある
いはカルボン酸の有機溶剤溶液に分散してなるが、この
時、低融点ガラス１００に対して、有機溶剤は５〜１０
０（重量比）、親油性スメクタイトの割合として0.001
〜５（重量比）、カルボン酸の割合としては０〜５（重
量比）とするのが一般的である。親油性スメクタイトお
よびカルボン酸の割合がこの範囲より少ないと粘度が低
く、また多いと流動性が全くなくなる。
低融点ガラスと親油性スメクタイトを有機溶剤中、ある
いはカルボン酸の有機溶剤溶液に分散してなるが、この
時、低融点ガラス１００に対して、有機溶剤は５〜１０
０（重量比）、親油性スメクタイトの割合として0.001
〜５（重量比）、カルボン酸の割合としては０〜５（重
量比）とするのが一般的である。親油性スメクタイトお
よびカルボン酸の割合がこの範囲より少ないと粘度が低
く、また多いと流動性が全くなくなる。
【００１１】本発明において、分散方法については特に
制限はなく、通常の分散方法で十分に分散可能である
が、通常、親油性スメクタイトを有機溶剤に分散し次い
でガラス粉を加え更に分散する。ここでカルボン酸を用
いる場合には、親油性スメクタイトを有機溶剤に分散し
た後、あるいは分散する前に添加すれば良い。ガラス粉
を分散する際にはボールミルなど強く分散することが可
能な方法を採用すると好ましいペーストとすることが可
能である。
制限はなく、通常の分散方法で十分に分散可能である
が、通常、親油性スメクタイトを有機溶剤に分散し次い
でガラス粉を加え更に分散する。ここでカルボン酸を用
いる場合には、親油性スメクタイトを有機溶剤に分散し
た後、あるいは分散する前に添加すれば良い。ガラス粉
を分散する際にはボールミルなど強く分散することが可
能な方法を採用すると好ましいペーストとすることが可
能である。
【００１２】低融点ガラスペーストの使用方法としては
特に制限はないが、通常上記ペーストを基盤上に塗布し
乾燥した後、ガラス粉の溶融温度まで加熱することでガ
ラスのパターンを描くことができる。
特に制限はないが、通常上記ペーストを基盤上に塗布し
乾燥した後、ガラス粉の溶融温度まで加熱することでガ
ラスのパターンを描くことができる。
【００１３】
【実施例】以下に実施例を示しさらに本発明を説明す
る。
る。
【００１４】実施例１ 融点が約 300℃の酸化鉛を主成分とするガラス粉 100重
量部に対し、親油性スメクタイト（コープケミカル
（株）製、合成スメクタイトＳＡＮ）0.20部、酢酸0.02
部を溶解したトルエン20部を良く混合してペーストとし
た。ここでガラス粉はスメクタイトを十分に分散した後
添加した。アルミナの基盤上にスクリーン印刷でガラス
ペーストのパターンを描き、50℃でトルエンを除去した
後、400 ℃に１時間加熱してガラスのパターンを描いた
ところ、融解して１mm間隔のパターンが得られた。融解
したパターンは、ガラス粉末をそのまま加熱融解したも
のと同様であり残炭による着色はなかった。
量部に対し、親油性スメクタイト（コープケミカル
（株）製、合成スメクタイトＳＡＮ）0.20部、酢酸0.02
部を溶解したトルエン20部を良く混合してペーストとし
た。ここでガラス粉はスメクタイトを十分に分散した後
添加した。アルミナの基盤上にスクリーン印刷でガラス
ペーストのパターンを描き、50℃でトルエンを除去した
後、400 ℃に１時間加熱してガラスのパターンを描いた
ところ、融解して１mm間隔のパターンが得られた。融解
したパターンは、ガラス粉末をそのまま加熱融解したも
のと同様であり残炭による着色はなかった。
【００１５】比較例１ 溶媒としてトルエンを使用し、バインダーとしてポリα
−メチルスチレン（分子量100000、ガラス粉100 重量部
に対し、ポリα−メチルスチレン10重量部、トルエン30
部）を用いて得たペーストを用いた他は実施例１と同様
にしたところ１mm間隔のパターンが得られたが、ガラス
は黒褐色であり残炭していることが観察された。
−メチルスチレン（分子量100000、ガラス粉100 重量部
に対し、ポリα−メチルスチレン10重量部、トルエン30
部）を用いて得たペーストを用いた他は実施例１と同様
にしたところ１mm間隔のパターンが得られたが、ガラス
は黒褐色であり残炭していることが観察された。
【００１６】比較例２ 親油性スメクタイトを用いなかった他は実施例１と同様
にしたところ、ガラス粉がすぐに沈降しペースト状とな
らず、印刷もできなかった。
にしたところ、ガラス粉がすぐに沈降しペースト状とな
らず、印刷もできなかった。
【００１７】実施例２ カルボン酸としてプロピオン酸を用いた他は実施例１と
同様にしたところ問題のないガラスのパターンが得られ
た。
同様にしたところ問題のないガラスのパターンが得られ
た。
【００１８】実施例３ カルボン酸として安息香酸を用いた他は実施例１と同様
にしたところ問題のないガラスのパターンが得られた。
にしたところ問題のないガラスのパターンが得られた。
【００１９】実施例４ 親油性スメクタイトを 0.8部用い酢酸を用いなかった他
は実施例１と同様にしたところ、ガラスのパターンが得
られたが、ガラスの表面に凹凸があった。
は実施例１と同様にしたところ、ガラスのパターンが得
られたが、ガラスの表面に凹凸があった。
【００２０】
【発明の効果】本発明のペーストを用いることにより残
炭のないパターンを容易に描くことが可能であり工業的
に価値がある。
炭のないパターンを容易に描くことが可能であり工業的
に価値がある。
Claims (2)
- 【請求項１】低融点ガラスと親油性スメクタイトを有機
溶剤中に分散してなる低融点ガラスペースト。 - 【請求項２】低融点ガラスと親油性スメクタイトをカル
ボン酸の有機溶剤溶液に分散してなる低融点ガラスペー
スト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11717795A JPH08310833A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 低融点ガラスペースト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11717795A JPH08310833A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 低融点ガラスペースト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08310833A true JPH08310833A (ja) | 1996-11-26 |
Family
ID=14705337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11717795A Pending JPH08310833A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 低融点ガラスペースト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08310833A (ja) |
-
1995
- 1995-05-16 JP JP11717795A patent/JPH08310833A/ja active Pending
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