JPH0834753A - 新規なジエーテル - Google Patents
新規なジエーテルInfo
- Publication number
- JPH0834753A JPH0834753A JP19230294A JP19230294A JPH0834753A JP H0834753 A JPH0834753 A JP H0834753A JP 19230294 A JP19230294 A JP 19230294A JP 19230294 A JP19230294 A JP 19230294A JP H0834753 A JPH0834753 A JP H0834753A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diether
- reaction
- tert
- isobutene
- solvent
- Prior art date
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- Pending
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高沸点溶剤として使用できるほか、ポリエス
テル、ポリウレタンなどの原料モノマーであるジオール
の前駆体として有用なジエーテルの提供。 【構成】次の式 【化1】 で表わされるジエーテル。
テル、ポリウレタンなどの原料モノマーであるジオール
の前駆体として有用なジエーテルの提供。 【構成】次の式 【化1】 で表わされるジエーテル。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規有用なジエーテル
に関する。
に関する。
【0002】
【従来の技術】式1で表わされるtert−ブチル基を
含有するジエーテルは従来知られていない。
含有するジエーテルは従来知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、適度な溶解
能力を有し、ヒドロキシル基を脱離容易なtert−ブ
チル基で保護したジオールモノマーとして使用可能なジ
エーテルを提供する。
能力を有し、ヒドロキシル基を脱離容易なtert−ブ
チル基で保護したジオールモノマーとして使用可能なジ
エーテルを提供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式で表わさ
れるジエーテルにある。
れるジエーテルにある。
【化2】
【0005】上記式1で表わされるジエーテルは、te
rt−ブチル基を2個含有したエーテル類で、高沸点溶
剤として使用されるほか、ポリエステル、ポリウレタン
などの原料モノマーであるジオールの前駆体としても使
用できる。
rt−ブチル基を2個含有したエーテル類で、高沸点溶
剤として使用されるほか、ポリエステル、ポリウレタン
などの原料モノマーであるジオールの前駆体としても使
用できる。
【0006】本発明の式で表わされるジエーテルは、次
の反応によって合成することができる。 (1)1,6−ヘキサンジオールとイソブテンの反応 この場合の触媒は、一般にプロトン酸を使用することが
できる。触媒の具体例としては、硫酸、p−トルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、強酸性イオン交換樹脂な
どである。反応は常圧でも行うことができるが、オート
クレーブ中で行う方が反応速度が高くなるので好まし
い。
の反応によって合成することができる。 (1)1,6−ヘキサンジオールとイソブテンの反応 この場合の触媒は、一般にプロトン酸を使用することが
できる。触媒の具体例としては、硫酸、p−トルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、強酸性イオン交換樹脂な
どである。反応は常圧でも行うことができるが、オート
クレーブ中で行う方が反応速度が高くなるので好まし
い。
【0007】イソブテンは1,6−ヘキサンジオールの
2〜100倍当量の範囲で使用することができるが、反
応効率を考えると2〜5倍当量の範囲である。5倍当量
を超えると生産性が悪くなり、また、イソブテン回収に
時間を要する。反応は無溶媒で行うことができるが、適
当な溶媒を用いても良い。溶媒は1,6−ヘキサンジオ
ールやイソブテンを僅かでも溶解するもので、1,6−
ヘキサンジオールやイソブテンの反応に対して不活性で
あれば使用できる。特に望ましいものとしては、n−ヘ
キサン、n−ペンタン、i−オクタン、トルエン、塩化
メチレン、1,2−ジクロロエタン、ベンゼンなどを例
示できる。
2〜100倍当量の範囲で使用することができるが、反
応効率を考えると2〜5倍当量の範囲である。5倍当量
を超えると生産性が悪くなり、また、イソブテン回収に
時間を要する。反応は無溶媒で行うことができるが、適
当な溶媒を用いても良い。溶媒は1,6−ヘキサンジオ
ールやイソブテンを僅かでも溶解するもので、1,6−
ヘキサンジオールやイソブテンの反応に対して不活性で
あれば使用できる。特に望ましいものとしては、n−ヘ
キサン、n−ペンタン、i−オクタン、トルエン、塩化
メチレン、1,2−ジクロロエタン、ベンゼンなどを例
示できる。
【0008】(2)1,6−ジブロモヘキサンとナトリ
ウム−tert−ブトキシドやカリウム−tert−ブ
トキシドとの反応 この反応の場合の溶媒には一般にtert−ブチルアル
コールを用いる。
ウム−tert−ブトキシドやカリウム−tert−ブ
トキシドとの反応 この反応の場合の溶媒には一般にtert−ブチルアル
コールを用いる。
【0009】(3)アジピン酸ジ−tert−ブチルエ
ステルの還元 還元剤には、水素化ホウ素ナトリウム−三フッ化ホウ素
エーテラートを用いる。溶媒はエーテル類を用いる。 (4)ジ−p−トルエンスルホン酸1,6−ヘキサンジ
オールとナトリウム−tert−ブトキシドやカリウム
−t−ブトキシドとの反応 この反応の場合の溶媒には、一般にtert−ブチルア
ルコールを用いる。
ステルの還元 還元剤には、水素化ホウ素ナトリウム−三フッ化ホウ素
エーテラートを用いる。溶媒はエーテル類を用いる。 (4)ジ−p−トルエンスルホン酸1,6−ヘキサンジ
オールとナトリウム−tert−ブトキシドやカリウム
−t−ブトキシドとの反応 この反応の場合の溶媒には、一般にtert−ブチルア
ルコールを用いる。
【0010】
[実施例1] (1,6−tert−ブトキシヘキサンの合成)オート
クレーブ中に1,6−ヘキサンジオール59.1g
(0.5モル)と70%メタンスルホン酸水溶液6.9
g(メタンスルホン酸として0.05モル)を入れる。
溶媒にn−ヘキサン100gを用いた。イソブテンの沸
点以下にオートクレーブを冷却し、イソブテンガス10
0g(1.78モル)を吹き込んだ。冷却バスを外し、
徐々に内温を70℃まで昇温した。70℃で7.5時間
反応させた後冷却し、内容物を取り出した。
クレーブ中に1,6−ヘキサンジオール59.1g
(0.5モル)と70%メタンスルホン酸水溶液6.9
g(メタンスルホン酸として0.05モル)を入れる。
溶媒にn−ヘキサン100gを用いた。イソブテンの沸
点以下にオートクレーブを冷却し、イソブテンガス10
0g(1.78モル)を吹き込んだ。冷却バスを外し、
徐々に内温を70℃まで昇温した。70℃で7.5時間
反応させた後冷却し、内容物を取り出した。
【0011】これにn−ヘキサン200gを加え、5%
水酸化ナトリウム水溶液100gで2回洗浄し、さらに
水200gで2回洗浄した。上層のn−ヘキサン層をメ
タノール/水(5/1)100gで4回洗浄し、副生し
ているモノエーテルを取り除いた。n−ヘキサンを留去
し、粗製物75.2g(収率75.2%)を得た。さら
にこの粗製物減圧蒸留して精製物を得(液状体)て、以
下の分析同定を行った。
水酸化ナトリウム水溶液100gで2回洗浄し、さらに
水200gで2回洗浄した。上層のn−ヘキサン層をメ
タノール/水(5/1)100gで4回洗浄し、副生し
ているモノエーテルを取り除いた。n−ヘキサンを留去
し、粗製物75.2g(収率75.2%)を得た。さら
にこの粗製物減圧蒸留して精製物を得(液状体)て、以
下の分析同定を行った。
【0012】[沸点] bp;103.0〜104.5℃(6torr)
【0013】[元素分析値] C14H30O2 =230.
44として 計算値;C:72.96% H13.15% O:1
3.89% 実測値;C:72.0% H13.0% O:1
4.1%
44として 計算値;C:72.96% H13.15% O:1
3.89% 実測値;C:72.0% H13.0% O:1
4.1%
【0014】[ 1H−NMRスペクトル]CDCl3
(内部標準TMS)1 H−NMRスペクトルを図1に示す。 δH 1.18(18H,s,−CH3 ) δH 1.33〜1.37(4H,m,−CH2 −) δH 1.51〜1.52(4H,m,−CH2 −) δH 3.32(4H,t,O−CH2 −)
(内部標準TMS)1 H−NMRスペクトルを図1に示す。 δH 1.18(18H,s,−CH3 ) δH 1.33〜1.37(4H,m,−CH2 −) δH 1.51〜1.52(4H,m,−CH2 −) δH 3.32(4H,t,O−CH2 −)
【0015】[13C−NMRスペクトル]CDCl3
(内部標準TMS)13C−NMRスペクトルを図2に示
す。 δC 26.5(−CH2 −) δC 27.8(−CH3 ) δC 30.9(−CH2 −) δC 61.8(O−CH2 −) δC 72.6(O−C(CH3 )3 )
(内部標準TMS)13C−NMRスペクトルを図2に示
す。 δC 26.5(−CH2 −) δC 27.8(−CH3 ) δC 30.9(−CH2 −) δC 61.8(O−CH2 −) δC 72.6(O−C(CH3 )3 )
【0016】[赤外スペクトル](KBr錠剤法) 赤外スペクトルを図3に示す。 [マススペクトル] C14H30O2 =230.4として (M+H)+ (m/z):231.00
【0017】[実施例2] (1,6−ジ−tert−ブトキシヘキサンの合成)オ
ートクレーブ中に1,6−ヘキサンジオール118.2
g(1.0モル)と70%メタンスルホン酸水溶液1
3.7g(メタンスルホン酸として0.1モル)を入れ
る。イソブテンの沸点以下にオートクレーブを冷却し、
イソブテンガス150g(2.7モル)を吹き込んだ。
冷却バスを外し、徐々に内温を70℃まで昇温し、70
℃で7.5時間反応させた。冷却した後、内容物を取り
出した。n−ヘキサン400gを加え、5%水酸化ナト
リウム水溶液100gで2回洗浄し、さらに水200g
で3回洗浄した。上層のn−ヘキサン層をメタノール/
水(5/1)600gで4回に分けて洗浄し、副生して
いるモノエーテルを取り除いた。n−ヘキサンを留去
し、粗製物175.4g(収率76.1%)を得た。さ
らに、この粗製物を減圧蒸留精製し、分析同定を行った
ところ実施例1と同様なものを得た。
ートクレーブ中に1,6−ヘキサンジオール118.2
g(1.0モル)と70%メタンスルホン酸水溶液1
3.7g(メタンスルホン酸として0.1モル)を入れ
る。イソブテンの沸点以下にオートクレーブを冷却し、
イソブテンガス150g(2.7モル)を吹き込んだ。
冷却バスを外し、徐々に内温を70℃まで昇温し、70
℃で7.5時間反応させた。冷却した後、内容物を取り
出した。n−ヘキサン400gを加え、5%水酸化ナト
リウム水溶液100gで2回洗浄し、さらに水200g
で3回洗浄した。上層のn−ヘキサン層をメタノール/
水(5/1)600gで4回に分けて洗浄し、副生して
いるモノエーテルを取り除いた。n−ヘキサンを留去
し、粗製物175.4g(収率76.1%)を得た。さ
らに、この粗製物を減圧蒸留精製し、分析同定を行った
ところ実施例1と同様なものを得た。
【0018】
【発明の効果】本発明の新規なジエーテルは、tert
−ブチル基を2個有した高沸点溶剤として、またポリエ
ステル、ポリウレタンの原料モノマーであるジオールの
前駆体として有用である。
−ブチル基を2個有した高沸点溶剤として、またポリエ
ステル、ポリウレタンの原料モノマーであるジオールの
前駆体として有用である。
【図1】実施例1で得られた化合物の 1H−NMRスペ
クトル図である。
クトル図である。
【図2】実施例1で得られた化合物の13C−NMRスペ
クトル図である。
クトル図である。
【図3】実施例1で得られた化合物の赤外スペクトル図
である。
である。
Claims (1)
- 【請求項1】 次式 【化1】 で表わされる新規なジエーテル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19230294A JPH0834753A (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 新規なジエーテル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19230294A JPH0834753A (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 新規なジエーテル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0834753A true JPH0834753A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=16289020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19230294A Pending JPH0834753A (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 新規なジエーテル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0834753A (ja) |
-
1994
- 1994-07-25 JP JP19230294A patent/JPH0834753A/ja active Pending
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