JPH08370Y2 - 酸洗前処理装置 - Google Patents
酸洗前処理装置Info
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- JPH08370Y2 JPH08370Y2 JP1989148741U JP14874189U JPH08370Y2 JP H08370 Y2 JPH08370 Y2 JP H08370Y2 JP 1989148741 U JP1989148741 U JP 1989148741U JP 14874189 U JP14874189 U JP 14874189U JP H08370 Y2 JPH08370 Y2 JP H08370Y2
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- Japan
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- strip
- pickling
- water
- quench
- cooling water
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案はステンレス帯鋼等の酸洗設備における酸洗前
処理装置に関する。
処理装置に関する。
〈従来の技術〉 圧延及び熱処理されたステンレス帯鋼（以下、ストリ
ップと称する）は酸洗によってスケールが除去され、そ
の表面の仕上げが行なわれる。この酸洗の前処理とし
て、例えばNaOH,NaNO3,NaClを混合して400〜500℃で溶
融させた溶融塩浴にストリップを浸漬してそのスケール
を化学反応させ、酸洗時間の短縮や表面の光沢度の向上
を図っている。この前処理はオーステナイト系、フェラ
イト系、マルテンサイト系等のすべての鋼種の冷間圧延
後のストリップに適用されている。
ップと称する）は酸洗によってスケールが除去され、そ
の表面の仕上げが行なわれる。この酸洗の前処理とし
て、例えばNaOH,NaNO3,NaClを混合して400〜500℃で溶
融させた溶融塩浴にストリップを浸漬してそのスケール
を化学反応させ、酸洗時間の短縮や表面の光沢度の向上
を図っている。この前処理はオーステナイト系、フェラ
イト系、マルテンサイト系等のすべての鋼種の冷間圧延
後のストリップに適用されている。
このような酸洗前処理は第４図に示す装置により行な
われる。即ち、例えば、0.2mm程度の極薄板に圧延さ
れ、図示しない加熱炉で熱処理されたストリップＳはフ
ォグクエンチ60によって450〜500℃に冷却され、アスベ
ストロール16を介してソルトバス10へ送給される。この
ソルトバス10においてストリップＳは溶融塩浴Ｌに浸漬
され、溶融塩を噴射する双方のソルトフロータ11によっ
て非接触でガイドされて走行し、ソルトバス10の出口側
でエアワイパ20の双方のジェットノズル21から噴射され
る熱風によって、その表面に付着している溶融塩が除去
され、その膜厚を薄くされる。次いで、エアフロータ31
によって非接触で案内され、ウォータクエンチ70の冷却
水Ｗによってほぼ常温まで冷却されたストリップＳは、
シンクロール71に案内されて表面が濡れた状態でサクシ
ョンブライドル40のサクションロール41に吸着されなが
ら張力が付与され、センタリングロール81を介して電界
酸洗タンク90に送給され、その表面のスケールが除去さ
れる。
われる。即ち、例えば、0.2mm程度の極薄板に圧延さ
れ、図示しない加熱炉で熱処理されたストリップＳはフ
ォグクエンチ60によって450〜500℃に冷却され、アスベ
ストロール16を介してソルトバス10へ送給される。この
ソルトバス10においてストリップＳは溶融塩浴Ｌに浸漬
され、溶融塩を噴射する双方のソルトフロータ11によっ
て非接触でガイドされて走行し、ソルトバス10の出口側
でエアワイパ20の双方のジェットノズル21から噴射され
る熱風によって、その表面に付着している溶融塩が除去
され、その膜厚を薄くされる。次いで、エアフロータ31
によって非接触で案内され、ウォータクエンチ70の冷却
水Ｗによってほぼ常温まで冷却されたストリップＳは、
シンクロール71に案内されて表面が濡れた状態でサクシ
ョンブライドル40のサクションロール41に吸着されなが
ら張力が付与され、センタリングロール81を介して電界
酸洗タンク90に送給され、その表面のスケールが除去さ
れる。
〈考案が解決しようとする課題〉 ところが従来の装置では、表面に溶融塩が付着して摩
擦係数が低下したストリップＳがウォータクエンチ70の
シンクロール71と接触しているので、ストリップＳに、
シンクロール71との滑りによるすり傷や、シンクロール
71との間への溶融塩結晶等の異物かみ込みによる押し傷
等が発生し、その製品価値を著しく低下させる。
擦係数が低下したストリップＳがウォータクエンチ70の
シンクロール71と接触しているので、ストリップＳに、
シンクロール71との滑りによるすり傷や、シンクロール
71との間への溶融塩結晶等の異物かみ込みによる押し傷
等が発生し、その製品価値を著しく低下させる。
〈課題を解決するための手段〉 前記課題を解決するための本考案の酸洗前処理装置の
構成は、酸洗タンクの入側にウォータクエンチを配置
し、更にウォータクエンチの入側にソルトバスを配置し
たストリップの酸洗前処理装置において、前記ウォータ
クエンチの冷却水中に、冷却水を噴出して前記ストリッ
プを非接触で案内する液中フロータを内設すると共に、
前記液中フロータの両端にセンタリングガイドを備えた
ことを特徴とする。
構成は、酸洗タンクの入側にウォータクエンチを配置
し、更にウォータクエンチの入側にソルトバスを配置し
たストリップの酸洗前処理装置において、前記ウォータ
クエンチの冷却水中に、冷却水を噴出して前記ストリッ
プを非接触で案内する液中フロータを内設すると共に、
前記液中フロータの両端にセンタリングガイドを備えた
ことを特徴とする。
〈作用〉 酸洗前処理装置を走行するストリップは、ウォータク
エンチの冷却水に浸漬して冷却される際に、液中フロー
タから噴出する冷却水によってその案内面から浮上し、
液中フロータと非接触で走行する。
エンチの冷却水に浸漬して冷却される際に、液中フロー
タから噴出する冷却水によってその案内面から浮上し、
液中フロータと非接触で走行する。
〈実施例〉 以下本考案の実施例を図面によって具体的に説明す
る。なお、従来技術の装置と同一の部材には同一の符号
を付し、重複する説明を省略する。
る。なお、従来技術の装置と同一の部材には同一の符号
を付し、重複する説明を省略する。
第１図及び第２図に本考案の第１実施例を示す。第１
図に示すように、フォグクエンチ60で冷却されたストリ
ップＳはソルトバス10、ウォータクエンチ５等を経て、
電界酸洗タンク90にて酸洗される。ここで、ウォータク
エンチ50には、冷却水Ｗに浸漬する半円筒形の液中フロ
ータ51が内設されている。この液中フロータ51は第２図
に示すように、ストリップＳを案内する曲面上に冷却水
Ｗを噴出する多数の噴出口51aを形成してなるものであ
り、その幅はストリップＳの板幅よりも広幅になってい
て、その両端にはセンタリングガイド52が立設されてい
る。そして、送入管53を介して図示省略したポンプと接
続され、このポンプはウォータタンク54の排出管55と接
続されている。
図に示すように、フォグクエンチ60で冷却されたストリ
ップＳはソルトバス10、ウォータクエンチ５等を経て、
電界酸洗タンク90にて酸洗される。ここで、ウォータク
エンチ50には、冷却水Ｗに浸漬する半円筒形の液中フロ
ータ51が内設されている。この液中フロータ51は第２図
に示すように、ストリップＳを案内する曲面上に冷却水
Ｗを噴出する多数の噴出口51aを形成してなるものであ
り、その幅はストリップＳの板幅よりも広幅になってい
て、その両端にはセンタリングガイド52が立設されてい
る。そして、送入管53を介して図示省略したポンプと接
続され、このポンプはウォータタンク54の排出管55と接
続されている。
従って、ウォータタンク54から排出管55を経て、ポン
プによって送入管53を経て液中フロータ51に送給された
冷却水Ｗを噴出口51aから噴出してストリップＳを非接
触で案内すると共に、この冷却水Ｗは双方のセンタリン
グガイド52とストリップＳの両端部との間からほぼ均等
に流出し、その隙間を均等に保持してストリップＳの走
行中のセンタリングを行う。
プによって送入管53を経て液中フロータ51に送給された
冷却水Ｗを噴出口51aから噴出してストリップＳを非接
触で案内すると共に、この冷却水Ｗは双方のセンタリン
グガイド52とストリップＳの両端部との間からほぼ均等
に流出し、その隙間を均等に保持してストリップＳの走
行中のセンタリングを行う。
次に、本考案の第２実施例を第３図によって説明す
る。この実施例は、竪形の加熱炉（図示せず）及び冷却
装置100と電解酸洗タンク90との間に、半円筒形のソル
トフロータ111を内設したソルトバス110と、液中フロー
タ51を内設したウォータクエンチ50とを配設したもので
あり、第１実施例と同様の作用を奏する。
る。この実施例は、竪形の加熱炉（図示せず）及び冷却
装置100と電解酸洗タンク90との間に、半円筒形のソル
トフロータ111を内設したソルトバス110と、液中フロー
タ51を内設したウォータクエンチ50とを配設したもので
あり、第１実施例と同様の作用を奏する。
〈考案の効果〉 以上詳細に説明したように本考案では、酸洗前処理装
置のウォータクエンチの冷却水中に、冷却水を噴出して
ストリップ案内面から浮上させて案内する液中フロータ
を内設したことにより、ストリップはウォータクエンチ
内を非接触で走行するので、ストリップにすり傷や押し
傷が発生することが無くなりその品質が向上する。また
本考案では、液中フロータの両端にセンタリングガイド
を備えたため、冷却水は双方のセンタリングガイドとス
トリップの両端部との間からほぼ均一に流出し、その隙
間を均等に保持して、ストリップのセンタリングを行
う。このようにストリップのセンタリングを非接触でで
き、ストリップの走行を安定に保つことができる。
置のウォータクエンチの冷却水中に、冷却水を噴出して
ストリップ案内面から浮上させて案内する液中フロータ
を内設したことにより、ストリップはウォータクエンチ
内を非接触で走行するので、ストリップにすり傷や押し
傷が発生することが無くなりその品質が向上する。また
本考案では、液中フロータの両端にセンタリングガイド
を備えたため、冷却水は双方のセンタリングガイドとス
トリップの両端部との間からほぼ均一に流出し、その隙
間を均等に保持して、ストリップのセンタリングを行
う。このようにストリップのセンタリングを非接触でで
き、ストリップの走行を安定に保つことができる。
第１図は本考案の第１の実施例に係る酸洗前処理装置を
示す構成図、第２図はウォータクエンチを示す縦断面
図、第３図は本考案の第２の実施例に係る酸洗前処理装
置を示す構成図、第４図は従来の酸洗前処理装置を示す
構成図である。 図面中、 50はウォータクエンチ、51は液中フロータ、52はセンタ
リングガイド、90は電解酸洗タンク、Ｗは冷却水、Ｓは
ストリップである。
示す構成図、第２図はウォータクエンチを示す縦断面
図、第３図は本考案の第２の実施例に係る酸洗前処理装
置を示す構成図、第４図は従来の酸洗前処理装置を示す
構成図である。 図面中、 50はウォータクエンチ、51は液中フロータ、52はセンタ
リングガイド、90は電解酸洗タンク、Ｗは冷却水、Ｓは
ストリップである。
Claims (1)
- 【請求項１】酸洗タンクの入側にウォータクエンチを配
置し、更にこのウォータクエンチの入側にソルトバスを
配置したストリップの酸洗前処理装置において、 前記ウォータクエンチの冷却水中に、冷却水を噴出して
前記ストリップを非接触で案内する液中フロータを内設
すると共に、前記液中フロータの両端にセンタリングガ
イドを備えたことを特徴とする酸洗前処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989148741U JPH08370Y2 (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 酸洗前処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989148741U JPH08370Y2 (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 酸洗前処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0389165U JPH0389165U (ja) | 1991-09-11 |
| JPH08370Y2 true JPH08370Y2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=31695178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989148741U Expired - Lifetime JPH08370Y2 (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 酸洗前処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08370Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62218590A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-09-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式酸洗装置 |
-
1989
- 1989-12-26 JP JP1989148741U patent/JPH08370Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0389165U (ja) | 1991-09-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |