JPH0788592B2 - 溶融塩浴中ストリップフロータ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明はステンレス帯鋼等の酸洗処理設備において、酸
洗の前処理を行う溶融塩処理装置に適用するストリップ
フロータに関する。

＜従来の技術＞ 圧延されたステンレス帯鋼等（以下、ストリップと称す
る）は、熱処理後、この熱処理により発生したスケール
の除去を行ってその表面仕上げを行うため、酸洗処理さ
れる。

また、この酸洗の前処理として、例えばNaOH＝60％、Na
CO₃＝30％、NaCl＝10％で400〜500℃のような溶融塩浴
にストリップを所定の時間だけ浸漬してそのスケールと
化学反応させ、酸洗時間の短縮（酸洗タンクの小型化）
や、ストリップの光沢の増加等の効果を得ている。これ
はオーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系
等の全ての網種のストリップに適用されている。

第６図は酸洗処理設備の一例の概念を示す縦断面図であ
り、図示省略の入側の冷却装置で450〜500℃まで冷却さ
れたストリップＳを、アスベストロール61を介して溶融
塩処理装置60に送給し、入側浸漬ロール62によって浴槽
51内の溶融塩浴Ｌに浸漬して走行させ、出側浸漬ロール
63によって引揚げ、次いでリンガロール64とデフレクタ
ロール65を経て水冷装置70へ送給する。

水冷装置70では、流水床71に流水W1を連続して流してお
き、流水W1の上方をストリップＳを非接触で通過させて
徐冷し、最後に冷却水Ｗに浸漬してほぼ常温まで冷却す
る。

次いでストリップＳを水冷装置70からセンタリングロー
ル81を介して電解酸洗装置80に送給し、ここで表面のス
ケールを除去し、デフレクタロール82を介して図示省略
の水洗、乾燥の次工程へ送給する。

なお、従来の酸洗処理設備におけるストリップＳの走行
速度は30〜70m/min程度である。

＜発明が解決しようとする課題＞ ところが、溶融塩処理でのストリップＳの張力が熱処理
炉内での張力とほぼ同一で小さいので、従来の溶融塩処
理装置60では入側浸漬ロール62及び出側浸漬ロール63と
ストリップＳとの間に摩擦係数の低い溶融塩浴Ｌが介在
して両者がスリップするため、ストリップＳの表面に擦
り傷が発生し、美しい仕上りを要求されるストリップＳ
の製品価値が著しく低下することがある。

また、入側浸漬ロール62と出側浸漬ロール63をヘルパド
ライブし、ストリップＳの走行速度と同期させることに
より両者のスリップを防止しようとしても、溶融塩浴Ｌ
中のストリップＳと各浸漬ロール62,63との摩擦係数が
低いため両者は完全に同期せず、しかも、ストリップＳ
から剥離したスケールが各浸漬ロール62,63の表面とス
トリップＳとの間に入って押込み傷を発生することがあ
る。

これらのことは、酸洗処理設備の高速化の大きな障害に
なっていた。

本発明は上述した従来技術に鑑み、ストリップを溶融塩
処理装置の浴槽の部材と非接触で、溶融塩浴中を走行さ
せることができるストリップフロータを提供することを
目的とする。

＜課題を解決するための手段＞ 本発明による溶融塩浴中ストリップフロータは、ストリ
ップを浴槽内の溶融塩浴に浸漬して走行させて酸洗の前
処理を行う溶融塩処理装置において、前記浴槽に内設さ
れたものであり、溶融塩の圧入口と、溶融塩の複数の噴
出口を有する曲面状の非接触のストリップ走行面と、ス
トリップ走行面の両端部に立設した弧状の板からなるセ
ンタリングガイドとを具備することを特徴とする。

＜作用＞ ストリップの溶融塩処理に際し、浴槽内の溶融塩浴中の
ストリップフロータに圧入口から溶融塩を圧入して、ス
トリップ走行面の各々の噴出口から噴出させ、ストリッ
プを双方の弧状の板間でストリップ走行面に沿わせて走
行させる。ストリップは溶融塩の噴出圧により、ストリ
ップ走行面から所定の間隙を保持し、ストリップ走行面
に対して非接触で走行する。

また、ストリップの両端部と双方の弧状の板との各間隙
から浴槽内の溶融塩浴中へ向かって溶融塩が流出し、こ
の流圧によってこれらの隙間をほぼ同等に維持し、走行
するストリップのセンタリングを行う。更に言えば、ス
トリップが蛇行して双方の弧状の板とストリップ端部と
の隙間が不均一となると、流出圧力が不均一となって、
ストリップが弧状の板に接触する前にライン中央部にス
トリップを引き戻す。つまり、非接触式にストリップを
センタリングする。

＜実 施 例＞ 以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。第１図は本発明の一実施例のストリップフロータを
備えた溶融塩処理装置の縦断面図、第２図は酸洗処理設
備全体を示す概念的縦断面図、第３図は第１図のIII−I
II断面図、第４図は溶融塩処理装置の作用説明図、第５
図は第２の実施例を示す酸洗処理設備の概念的縦断面図
である。なお、これらの図面中、従来技術の装置と同一
の部材には同一符号を付し、重複する説明を省略する。

まず、第１の実施例を説明する。

第１図ないし第４図において、浴槽１には溶融塩浴Ｌを
充満してあり、その側面と底面とはそれぞれ保温材２及
び外板３で覆い、これら保温材２及び外板３を貫通して
排出管12を設けてある。そして、浴槽１の上部に側板７
を固設し、この側板７にアスベストロール21、リンガロ
ール24及びデフレクタロール25を軸着してある。

ストリップフロータ４は半円筒中空状のものであり、そ
の円弧面をストリップ走行面4bとして複数の噴出口4aを
穿設し、その両端部にセンタリングガイド５として弧状
の板を装設してある。また、各々の噴出口4aの間には、
センタリングガイド５と平行に仕切板６を装設してあ
る。更に、ストリップフロータ４の上面に溶融塩圧入用
の管13を装着し、この圧入管13と浴槽１の排出口12とを
ポンプ14を介して連結してある。このようなストリップ
フロータ４が、側板７に架設したビーム８とブラケット
９によって、浴槽１内に懸吊されている。

なお、一対のラジアントチューブ15をストリップフロー
タ４の両端部と浴槽１の側壁との間に介装し、各ラジア
ントチューブ15の両端部をそれぞれ浴槽１、保温材２及
び外板３に貫通させ、下方の端部はガス燃焼装置16に連
結し、上方の端部は加熱ガスを大気に放出するようにし
てある。また、溶融塩浴Ｌに浸漬するように温度検出器
17をビーム８の下面に装着し、温度検出器17をガス燃焼
装置16に接続してある。

次に、上記構成の溶融塩処理装置20の動作を説明する。

まず、浴槽１及びストリップフロータ４に例えば400〜5
00℃の溶融塩浴Ｌを充満し、第４図に示すようにポンプ
14によって溶融塩L1を循環させて圧入管13からストリッ
プフロータ４に圧入し、ストリップ走行面4bの各噴出口
4aから噴出させる。

次いで、図示省略の冷却装置で450〜500℃に冷却された
ストリップＳを、ストリップフロータ４のストリップ走
行面4bに巻回して通板する。すると、各噴出口4aからの
溶融塩L1の噴出圧が仕切板６によって平準化されてスト
リップＳに作用し、ストリップＳはストリップフロータ
４のストリップ走行面4bとの間隔を一定に保持して非接
触で走行する。また、第３図に示すようにストリップＳ
の両端部と各センタリングガイド５との隙間から流出す
る溶融塩L1の量が左右双方でほぼ均等となり、従って、
双方の隙間寸法もほぼ等しくなってストリップＳのセン
タリングが非接触に行われる。

即ち、仮にセンタリングガイド5,5が無いとすると、第
７図（ａ）（ｂ）に示すように、ストリップＳは蛇行を
始めて振子運動を行い、ストリップフロータ４のストリ
ップ走行面（受圧面）4bに設けた仕切板６と接触してス
トリップＳに擦り傷を作ることになる。

これに対し、前述の如く弧状の板をストリップ走行面4b
の両側端部に立設してセンタリングガイド5,5としたこ
とにより、第８図に示すように、ストリップＳが蛇行を
始めて例えば左側のセンタリングガイド５に近づこうと
すると当該センタリングガイド５とストリップＳの端部
との隙間が小さくなり、ストリップ幅方向に対しての左
右の流体の流出圧力P₁,P₂が均一でなくなり、高い部分P
₁と低い部分P₂が生じ（P₁＞P₂）、また、流体の流出速
度も左右で異なる。ここで、P₁はストリップＳが近づい
た方の流出圧力、P₂はストリップＳが離れた方の流出圧
力である。これらの作用によって、ストリップＳがセン
タリングガイド５に接触する前に、ストリップＳを反対
側に押し戻す蛇行矯正力F₁が働き、ライン中央部にスト
リップＳを引き戻す。つまり、センタリングガイド5,5
は非接触式にストリップＳのセンタリングを行う。な
お、F₂は浮上力を示す。

次いで、リンガロール24とデフレクタロール25によっ
て、ストリップＳに付着している溶融塩浴Ｌを除去した
のち、デフレクタロール27を経て次の水冷装置70にスト
リップＳを送給する。

なお、浴槽１内の溶融塩浴Ｌはそこを通板するストリッ
プＳの温度が高いのであまり冷却されないが、温度検出
器17によって常時溶融塩浴Ｌの温度を検出し、所定の下
限に降温するとガス燃焼装置16を作動させて燃焼ガスを
ラジアントチューブ15へ送給し、溶融塩浴Ｌを所定の上
限に昇温させる。

次に、第５図に示す第２の実施例を説明する。第５図に
示す溶融塩処理装置40では、浴槽１内に入側のストリッ
プフロータ34と出側のストリップフロータ35とを備えて
いる。第５図には概念的に示しているが、浴槽31及びス
トリップフロータ34,35は第１図〜第４図により説明し
た第１の実施例の浴槽１及びストリップフロータ４とほ
ぼ同様に構成され、同様の作用をなすものであり、スト
リップ走行面の曲面半径を大きくして、比較的板厚の厚
いストリップＳを処理するのに適するようにしてある。
簡単に構造を説明すると、浴槽31には溶融塩浴Ｌを充満
してあり、その側面と底面とはそれぞれ保温材及び外板
で覆い、これらを貫通して排出管を設けてある。そし
て、浴槽31上部の側板にリンガロール64及びデフレクタ
ロール65を軸着してある。

各ストリップフロータ34,35はだ円を４半分にしたよう
な断面形状あるいは四角形の一隅を丸めたような断面形
状を持つ中空状の筒であり、その曲面をストリップ走行
面として複数の噴出口を穿設し、その両端部にセンタリ
ングガイドとして弧状の板を装設してある。また、各々
の噴出口の間には、センタリングガイドと平行に仕切板
を装設してある。更に、各ストリップフロータ34,35の
上面に溶融塩圧入用の管を装着し、この圧入管と浴槽31
の排出口とをポンプを介して連結してある。このような
２つのストリップフロータ34,35が浴槽１内に懸吊され
ている。

また、一対のラジアントチューブを各ストリップフロー
タ34,35の両端部と浴槽31の側壁との間に介装し、各ラ
ジアントチューブの両端部をそれぞれ浴槽31、保温材及
び外板に貫通させ、下方の端部はガス燃焼装置に連結
し、上方の端部は加熱ガスを大気に放出するようにして
ある。また、溶融塩浴Ｌに浸漬させて温度検出器を設
け、ガス燃焼装置に連続してある。

なお、第１の実施例と第２の実施例とで、各溶融塩処理
装置20,40におけるストリップＳの溶融塩浴Ｌに浸漬す
る長さをほぼ同一にしている。

上記第１、第２各実施例で述べたストリップフロータ4,
34,35を用いることにより、ストリップＳの走行速度を1
00〜200m/minに高速化することができる。

＜発明の効果＞ 以上説明したように溶融塩処理装置の浴槽内に、従来の
浸漬ロールの代りに本発明の溶融塩浴中ストリップフロ
ータを採用することにより、次のような効果がある。

（１） ストリップの張力が小さくても、ストリップフ
ロータは非接触でストリップを溶融塩浴中に浸漬でき、
従来のように浸漬ロールと接触することがないので、接
触によるストリップの擦り傷の発生が皆無となり、従っ
て通板性が向上し、ラインを高速化することができる。

（２） 従来は浸漬ロールがストリップに接触するの
で、ストリップのロール側の面が溶融塩浴と接触する時
間がそれだけ短かくなっていたが、ストリップフロータ
はストリップと非接触なのでストリップの両面が溶融塩
浴と十分接触し、その浸漬時間が長くなる。

（３） ストリップフロータに弧状の板からなるセンタ
リングガイドがあるので、走行するストリップの張力が
小さくても、ストリップに対して非接触にセンタリング
を正確に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のストリップフロータを備え
た溶融塩処理装置の縦断面図、第２図は酸洗処理設備全
体を示す概念的縦断面図、第３図は第１図のIII−III断
面図、第４図は溶融塩処理装置の作用説明図、第５図は
第２の実施例を示す酸洗処理設備の概念的縦断面図、第
６図は従来の酸洗処理設備の概念的縦断面図である。第
７図はセンタリングガイドが無い場合のストリップの蛇
行の様子を示す図、第８図はセンタリングガイドによる
非接触なセンタリングを示す図である。 図面中、 1,31は浴槽、 ４はストリップフロータ、 4aは噴出口、 4bはストリップ走行面、 ５はセンタリングガイド、 ６は仕切板、 13は圧入管、 20,40は溶融塩処理装置、 34は入側のストリップフロータ、 35は出側のストリップフロータ、 Ｌは溶融塩浴、 L1は溶融塩、 Ｓはストリップである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ストリップを浴槽内の溶融塩浴に浸漬して
   走行させて酸洗の前処理を行う溶融塩処理装置におい
   て、 溶融塩の圧入口と、溶融塩の複数の噴出口を有する曲面
   状の非接触のストリップ走行面と、ストリップ走行面の
   両端部に立設した弧状の板からなるセンタリングガイド
   とを具備し、前記浴槽に内設した溶融塩浴中ストリップ
   フロータ。