JPH083896B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH083896B2 JPH083896B2 JP8602587A JP8602587A JPH083896B2 JP H083896 B2 JPH083896 B2 JP H083896B2 JP 8602587 A JP8602587 A JP 8602587A JP 8602587 A JP8602587 A JP 8602587A JP H083896 B2 JPH083896 B2 JP H083896B2
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- Japan
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- magnetic recording
- film
- layer
- comparative example
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録の高密度化のために用いる磁気テー
プ，磁気ディスクのうち、強磁性金属薄膜を磁気記録層
とする磁気記録媒体に関するものである。
プ，磁気ディスクのうち、強磁性金属薄膜を磁気記録層
とする磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術 最近の記録技術の進歩により、単位面積当りの記録情
報量は飛躍的に増大し、Co−Ni,Co−Cr,Co−Ni−Ｏ等の
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実用
化が強く望まれてきている。かかる磁気記録媒体の実用
化にはトライボロジーに関する理解を深め、信頼性のあ
る潤滑系を実現することが重要である〔テレビジョン学
会誌 vol.40,NO−6,472（1986）〕。
報量は飛躍的に増大し、Co−Ni,Co−Cr,Co−Ni−Ｏ等の
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実用
化が強く望まれてきている。かかる磁気記録媒体の実用
化にはトライボロジーに関する理解を深め、信頼性のあ
る潤滑系を実現することが重要である〔テレビジョン学
会誌 vol.40,NO−6,472（1986）〕。
第２図は、従来の磁気記録媒体の拡大断面図で、第２
図で１はポリエステルフィルムやAl合金等の非磁性基板
で、必要に応じて形状付与のための下塗り層を配したも
のが用いられ、２はCo−Ni,Co−Ni−O,Co−Ni−Pr−O,C
o−Cr,Co−Ｏ等の電子ビーム蒸着法やスパッタリング法
で形成される強磁性金属薄膜型の磁気記録層、３は保護
膜である。第２図に示した媒体では、保護膜の検討がト
ライボロジーの中心となり、スペーシング損失を極力小
さくして、保護効果の持続する材料，製法が数多く提案
されている。
図で１はポリエステルフィルムやAl合金等の非磁性基板
で、必要に応じて形状付与のための下塗り層を配したも
のが用いられ、２はCo−Ni,Co−Ni−O,Co−Ni−Pr−O,C
o−Cr,Co−Ｏ等の電子ビーム蒸着法やスパッタリング法
で形成される強磁性金属薄膜型の磁気記録層、３は保護
膜である。第２図に示した媒体では、保護膜の検討がト
ライボロジーの中心となり、スペーシング損失を極力小
さくして、保護効果の持続する材料，製法が数多く提案
されている。
脂肪酸金属塩の蒸着膜（特開昭54−113303号）イミド
基を有する高分子のスパッタ膜（特開昭57−116771
号）、脂肪酸アミド等の塗膜（特公昭56−30609号）、
脂肪酸金属塩の吸着層上にフロロカーボン系の潤滑層を
組み合わせたもの（特開昭61−120331号）、ダイアモン
ド状硬質炭素膜〔日本応用磁気学会，第46回研究会資料
（1986）〕、カーボン膜〔アイイーイーイー トランザ
クションズ オン マグネティクス（IEEE TRANSACTION
SON MAGNETICS）vol.MAG−22,NO−5,P.P.999〜1001（19
86）〕、硬質カーボン層の上に含フッ素潤滑油層を配し
たもの（特開昭61−126627号）等が一例として挙げられ
る。
基を有する高分子のスパッタ膜（特開昭57−116771
号）、脂肪酸アミド等の塗膜（特公昭56−30609号）、
脂肪酸金属塩の吸着層上にフロロカーボン系の潤滑層を
組み合わせたもの（特開昭61−120331号）、ダイアモン
ド状硬質炭素膜〔日本応用磁気学会，第46回研究会資料
（1986）〕、カーボン膜〔アイイーイーイー トランザ
クションズ オン マグネティクス（IEEE TRANSACTION
SON MAGNETICS）vol.MAG−22,NO−5,P.P.999〜1001（19
86）〕、硬質カーボン層の上に含フッ素潤滑油層を配し
たもの（特開昭61−126627号）等が一例として挙げられ
る。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記した構成では、湿度の低い環境下で
の耐久性が不十分であるため改善が望まれていた。
の耐久性が不十分であるため改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、保護層
の厚みを薄くしても湿度の低い環境下での実用性を確保
することの出来る磁気記録媒体を提供するものである。
の厚みを薄くしても湿度の低い環境下での実用性を確保
することの出来る磁気記録媒体を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記した問題点を解決するため、本発明の磁気記録媒
体は、強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭素膜
（D.L.C.膜）を配し、該D.L.C.膜に金属イオン注入層を
配した上、カルボン酸、又は脂肪酸又はスルフォン酸の
いずれかを含む潤滑剤層を配したものである。
体は、強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭素膜
（D.L.C.膜）を配し、該D.L.C.膜に金属イオン注入層を
配した上、カルボン酸、又は脂肪酸又はスルフォン酸の
いずれかを含む潤滑剤層を配したものである。
作用 本発明の磁気記録媒体は上記した構成により、潤滑剤
がD.L.C.膜と強固に反応して保護性が著しく向上するの
で、D.L.C.膜の一部が欠落してもテープにダメージを与
えないため、D.L.C.膜を薄くしてスペーシング損失を改
良しても、耐久性が確保されることになる。
がD.L.C.膜と強固に反応して保護性が著しく向上するの
で、D.L.C.膜の一部が欠落してもテープにダメージを与
えないため、D.L.C.膜を薄くしてスペーシング損失を改
良しても、耐久性が確保されることになる。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の一実施例に係る磁
気記録媒体について詳しく説明する。第１図は本発明の
一実施例の磁気記録媒体の拡大断面図で、第１図で４は
ポリエチレンテレフタレート，ポリエチレンナフタレー
ト，ポリフェニレンサルファイド，ポリサルファイン，
ポリアミドイミド，ポリイミド等の高分子フィルムで必
要に応じて、無機微粒子，有機微粒子等を分散塗布した
下塗り層を配したものも用いることができる。５はCo,C
o−Ag,Co−Cr,Co−Ge,Co−Hf,Co−Mo,Co−Nb,Co−Os,Co
−O,Co−P,Co−Ru,Co−Si,Co−Sm,Co−Ta,Co−Ti,Co−
V,Co−W,Co−Zr,Co−Ni,Co−Ni−O,Co−Cr−Nb,Co−Ni
−Pr,Co−Ni−Pr−Ｏ等の強磁性金属薄膜で、６はダイ
アモンド状硬質炭素膜で、スペーシング損失を考慮する
と150Å以下50Åぐらいまでが好ましい。７は金属イオ
ン注入層で、アルカリ金属、アルカリ土類金属等から適
宜選べばよい。注入量は２μA/cm2から100μA/cm2の範
囲で最適化することができ、用いるイオンは10KeVから5
0KeVの範囲が好ましい。８は潤滑剤で、少なくとも脂肪
酸かカルボン酸かスルフォン酸のいずれかを含むもの
で、潤滑剤量は総量で0.1μg/cm2から２μg/cm2の範囲
で、25％〜69％の範囲は前記したいずれかの潤滑剤で占
めるようにするのが好ましい。
気記録媒体について詳しく説明する。第１図は本発明の
一実施例の磁気記録媒体の拡大断面図で、第１図で４は
ポリエチレンテレフタレート，ポリエチレンナフタレー
ト，ポリフェニレンサルファイド，ポリサルファイン，
ポリアミドイミド，ポリイミド等の高分子フィルムで必
要に応じて、無機微粒子，有機微粒子等を分散塗布した
下塗り層を配したものも用いることができる。５はCo,C
o−Ag,Co−Cr,Co−Ge,Co−Hf,Co−Mo,Co−Nb,Co−Os,Co
−O,Co−P,Co−Ru,Co−Si,Co−Sm,Co−Ta,Co−Ti,Co−
V,Co−W,Co−Zr,Co−Ni,Co−Ni−O,Co−Cr−Nb,Co−Ni
−Pr,Co−Ni−Pr−Ｏ等の強磁性金属薄膜で、６はダイ
アモンド状硬質炭素膜で、スペーシング損失を考慮する
と150Å以下50Åぐらいまでが好ましい。７は金属イオ
ン注入層で、アルカリ金属、アルカリ土類金属等から適
宜選べばよい。注入量は２μA/cm2から100μA/cm2の範
囲で最適化することができ、用いるイオンは10KeVから5
0KeVの範囲が好ましい。８は潤滑剤で、少なくとも脂肪
酸かカルボン酸かスルフォン酸のいずれかを含むもの
で、潤滑剤量は総量で0.1μg/cm2から２μg/cm2の範囲
で、25％〜69％の範囲は前記したいずれかの潤滑剤で占
めるようにするのが好ましい。
本発明の実施態様としては磁気テープ，磁気ディス
ク，磁気カードいずれでもよい。以下、更に具体的に実
施例の一例を比較例との対比で説明する。
ク，磁気カードいずれでもよい。以下、更に具体的に実
施例の一例を比較例との対比で説明する。
厚み11μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
にブタジエンゴムの高さ70Åのミミズ状突起を配し、そ
の上に高周波スパッタリング法によりCo−Cr−Nb（Co−
≒80.5 Cr＝13 Nb＝6.5wt％）膜を垂直磁化可能な条件
で0.12μｍスパッタ蒸着し、その上にグラファイトをタ
ーゲットとして、Ar＋H2＝0.07Torr Ar/H2＝1/2の条件
のガスを用いて、13.56MHz1.2KWの高周波グロー放電で
スパッタリング法によりD.L.C.膜を70Å形成し、その上
にNa+イオンを22μA/cm2,17KeVで注入し、その上にステ
アリン酸を55％、ステアリン酸アミドを45％含む潤滑剤
を0.5μg/cm2真空蒸着したものを実施例Ａ、潤滑剤とし
てパーフルオロカプリン酸（カルボン酸）を0.35μg/cm
2溶液塗布したものを実施例Ｂ、潤滑剤としてパラトル
エンスルホン酸25％，アジピン酸45％，ステアリン酸ブ
チル30％の混合したものを0.4μg/cm2真空蒸着したもの
を実施例Ｃとし、夫々８ミリ幅に裁断し磁気テープを得
た。一方比較例としてNa+イオンを注入せずに、他の条
件は同じにして、８ミリ幅の磁気テープ，比較例A,B,C
を夫々製造した。
にブタジエンゴムの高さ70Åのミミズ状突起を配し、そ
の上に高周波スパッタリング法によりCo−Cr−Nb（Co−
≒80.5 Cr＝13 Nb＝6.5wt％）膜を垂直磁化可能な条件
で0.12μｍスパッタ蒸着し、その上にグラファイトをタ
ーゲットとして、Ar＋H2＝0.07Torr Ar/H2＝1/2の条件
のガスを用いて、13.56MHz1.2KWの高周波グロー放電で
スパッタリング法によりD.L.C.膜を70Å形成し、その上
にNa+イオンを22μA/cm2,17KeVで注入し、その上にステ
アリン酸を55％、ステアリン酸アミドを45％含む潤滑剤
を0.5μg/cm2真空蒸着したものを実施例Ａ、潤滑剤とし
てパーフルオロカプリン酸（カルボン酸）を0.35μg/cm
2溶液塗布したものを実施例Ｂ、潤滑剤としてパラトル
エンスルホン酸25％，アジピン酸45％，ステアリン酸ブ
チル30％の混合したものを0.4μg/cm2真空蒸着したもの
を実施例Ｃとし、夫々８ミリ幅に裁断し磁気テープを得
た。一方比較例としてNa+イオンを注入せずに、他の条
件は同じにして、８ミリ幅の磁気テープ，比較例A,B,C
を夫々製造した。
この両者のテープを市販の８ミリビデオ〔VX−801,松
下電器製〕を改造し、ギャップ長0.14μｍのセンダスト
ヘッドにより波長0.35μｍの記録再生を行った。
下電器製〕を改造し、ギャップ長0.14μｍのセンダスト
ヘッドにより波長0.35μｍの記録再生を行った。
20℃60％RHでのスチル再生時、再生出力が2.4dB低下
するまでの時間は実施例Ａは92〜95分、実施例Ｂは87〜
90分、実施例Ｃは97〜101分、比較例Ａは21〜49分、比
較例Ｂは15〜31分、比較例Ｃは16〜29分とバラツキも大
きかった。
するまでの時間は実施例Ａは92〜95分、実施例Ｂは87〜
90分、実施例Ｃは97〜101分、比較例Ａは21〜49分、比
較例Ｂは15〜31分、比較例Ｃは16〜29分とバラツキも大
きかった。
５℃５％RHでのスチル再生は再生出力が3dB低下する
までの時間が実施例Ａでは90〜93分、実施例Ｂでは116
〜118分、実施例Ｃでは87〜90分であったのに比し、、
比較例Ａは９〜27分、比較例Ｂは15〜29分、比較例Ｃは
６〜20分と短くバラツキも大きかった。
までの時間が実施例Ａでは90〜93分、実施例Ｂでは116
〜118分、実施例Ｃでは87〜90分であったのに比し、、
比較例Ａは９〜27分、比較例Ｂは15〜29分、比較例Ｃは
６〜20分と短くバラツキも大きかった。
上記した２種の環境下で繰り返し再生を行った時、実
施例はA,B,Cいずれも1dB以内で殆ど変化がなかったが、
比較例は20℃60％RHでは比較例Ａが2.2〜3dB、比較例Ｂ
が2.4〜3.3dB、比較例Ｃが2.5〜3.6dBS/Nが低下し、５
℃５％RHではS/Nが比較例Ａでは3.5〜5.2dB、比較例Ｂ
では3.3〜4.9dB、比較例Ｃでは3.7〜6.4dB低下した。
施例はA,B,Cいずれも1dB以内で殆ど変化がなかったが、
比較例は20℃60％RHでは比較例Ａが2.2〜3dB、比較例Ｂ
が2.4〜3.3dB、比較例Ｃが2.5〜3.6dBS/Nが低下し、５
℃５％RHではS/Nが比較例Ａでは3.5〜5.2dB、比較例Ｂ
では3.3〜4.9dB、比較例Ｃでは3.7〜6.4dB低下した。
発明の効果 以上のように本発明によれば、使用環境によらず、特
に湿度の低い環境でも十分な耐久性をもった高出力磁気
記録媒体が得られるといったすぐれた効果がある。
に湿度の低い環境でも十分な耐久性をもった高出力磁気
記録媒体が得られるといったすぐれた効果がある。
第１図は本発明に係る一実施例の磁気記録媒体の拡大断
面図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。 ４……高分子フィルム、５……強磁性金属薄膜、６……
D.L.C.膜、７……イオン注入層、８……潤滑剤層。
面図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。 ４……高分子フィルム、５……強磁性金属薄膜、６……
D.L.C.膜、７……イオン注入層、８……潤滑剤層。
Claims (1)
- 【請求項１】強磁性金属薄膜層上にダイアモンド状硬質
炭素膜を配し、該炭素膜に金属イオン注入層を配した
上、カルボン酸、又は脂肪酸又はスルフォン酸のいずれ
かを含む潤滑剤層を配したことを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8602587A JPH083896B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8602587A JPH083896B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63251920A JPS63251920A (ja) | 1988-10-19 |
| JPH083896B2 true JPH083896B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=13875117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8602587A Expired - Fee Related JPH083896B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083896B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2712373B2 (ja) * | 1988-09-22 | 1998-02-10 | 日本板硝子株式会社 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| DE69322907T2 (de) * | 1992-07-24 | 1999-05-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Magnetischer Aufzeichnungsträger und sein Herstellungsverfahren |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP8602587A patent/JPH083896B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63251920A (ja) | 1988-10-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |