JPH0841659A

JPH0841659A - エッチング装置

Info

Publication number: JPH0841659A
Application number: JP17552094A
Authority: JP
Inventors: Kengo Hiruta; 健吾昼田; Eisei Kin; 永生金
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1994-07-27
Filing date: 1994-07-27
Publication date: 1996-02-13

Abstract

(57)【要約】【目的】エッチング処理の均一化を大幅に向上せしめ
て高品質な製品を得ることのできるエッチング装置を提
供する。【構成】エッチング液Ｅが貯留されたエッチング槽１
１の上において、複数の被処理物Ｗが装着される振動フ
レーム２１をシリンダ３２で昇降自在に支持し、被処理
物Ｗを振動フレーム２１ごとエッチング液Ｅに埋没さ
せ、振動フレーム２１に取り付けた振動モータ２４で被
処理物Ｗに振動を与えることによりエッチング処理がな
されるよう構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、印刷原版やプリント
基板等を製造する際に、所望の印刷パターンや回路パタ
ーンを形成させるためにエッチング処理を施すエッチン
グ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上記エッチング装置としては、従来よ
り、被処理物に対してエッチング液をシャワー状にして
吹き付けて塗布し、所望のエッチング処理を行うものが
一般的であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のようなシャワー
によるエッチング液の塗布によると、見掛け上は確かに
被処理物のエッチング面に均一にエッチング液が噴射さ
れて塗布されるように見受けられるが、厳密にはその塗
布される状態において次のような相違がある。すなわ
ち、エッチング液が直接当たって塗布される箇所と、エ
ッチング液が直接当たらずにエッチング液が流動してく
ることにより塗布される箇所とがある。このような塗布
のされ方の違いにより、エッチングの進行にばらつきが
生じ、ひいてはエッチング処理に微妙な不均一が生じて
品質に影響を与える場合があるといった不都合な面があ
った。

【０００４】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あって、エッチング処理の均一化を大幅に向上せしめて
高品質な製品を得ることのできるエッチング装置を提供
することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明は上記目的を達
成するために次の構成を特徴としている。すなわち、エ
ッチング液が貯留されたエッチング槽の上に備えられる
エッチング装置であって、印刷原版等の被処理物が装着
されるフレームと、該フレームを振動させる振動機構
と、フレームにばね等の振動体を介して連結され被処理
物をエッチング槽に対し入れたり出したりする昇降機構
とを具備している。

【０００６】

【作用】昇降機構によりフレームを上げた状態でフレー
ムに被処理物を装着してから、昇降機構により被処理物
をフレームごとエッチング槽内のエッチング液に埋没さ
せ、振動機構を作動させることによりフレームとともに
被処理物に振動を与え、この状態で被処理物をエッチン
グ処理する。被処理物のエッチング面へのエッチング液
の接触状態が均一となり高品質なエッチング製品が得ら
れる。

【０００７】

【実施例】図１および図２の符号１０は処理槽を、また
符号２０はこの発明の一実施例であるエッチング装置を
それぞれ指している。処理槽１０は、エッチング槽１１
および洗滌槽１２が仕切壁１３を隔てて形成されたもの
で、各槽１１、１２にはそれぞれエッチング液Ｅおよび
洗滌液Ｃが貯留されている。

【０００８】エッチング装置２０は、処理槽１０を囲ん
で組まれた架台４０に備え付けられている。架台４０は
４本の脚部４１の間に上梁４２および横梁４３が接続さ
れたもので、上梁４２は処理槽１０の上方においてその
長手方向、つまりエッチング槽１１から洗滌槽１２にわ
たる方向に延びている。この場合の上梁４２は、エッチ
ング装置２０がエッチング槽１１と洗滌槽１２との間を
行き来するガイドの機能をも果たす。

【０００９】エッチング装置２０を説明する前にこの場
合の被処理物Ｗを説明すると、被処理物Ｗは、図３ない
し図５に示すように、印刷原版あるいはプリント基板の
原板等の長方形状の板状体であり、片面あるいは両面が
エッチング処理を必要とされるエッチング面である。被
処理物Ｗをエッチング処理する際には、取り扱う際に便
利なように片面の縁に枠５０が取り付けられる。

【００１０】さて、エッチング装置２０は、被処理物Ｗ
が複数装着される振動フレーム２１と、この振動フレー
ム２１にコイルばね（振動体）３０を介して連結され被
処理物Ｗをエッチング槽１１および洗滌槽１２に対して
入れたり出したりする昇降機構２３と、振動フレーム２
１を振動させる振動モータ（振動機構）２４とを主とし
て構成されている。

【００１１】振動フレーム２１は、第１の四角フレーム
２６に左右一対を１組とする吊下げフレーム２７が複数
組（この場合５組）固定されてなるものである。吊下げ
フレーム２７は、図４に示すように断面コ字状で、１組
の吊下げフレーム２７・２７においては、溝部２７ａが
互いに向き合うように配置されており、また、吊下げフ
レーム２７には、上下に離れて２つの止めねじ２８が一
側方からねじ込まれている。振動フレーム２１に被処理
物Ｗを装着するには、図４および図５に示すように、被
処理物Ｗの長手方向端部を、向かい合う各組の吊下げフ
レーム２７・２７の溝部２７ａに入れ、その状態を止め
ねじ２８で押し付けることにより固定する。

【００１２】第１の四角フレーム２６の中央には補強メ
ンバ２９が接続され、この上に振動モータ２４が固定さ
れている。

【００１３】上記振動フレーム２１は、昇降機構２３に
コイルばね３０で吊り下げられて連結されている。昇降
機構２３は、一対の上梁４２間にわたされこれら上梁４
２に沿って移動可能なバー３１と、このバー３１に取り
付けられた２つのシリンダ３２と、このシリンダ３２に
よって昇降させられる第２の四角フレーム３３とから構
成されている。

【００１４】シリンダ３２はシリンダ本体３２ａからピ
ストン３２ｂが出没する油圧式あるいは空気圧式等の一
般周知のもので、バー３１の長手方向に所定間隔離れて
配置されている。各シリンダ３２においては、ピストン
３２ｂが下方に向けて延び上下方向に出没するようシリ
ンダ本体３２ａがバー３１に立てて固定されている。ピ
ストン３２ｂの先端に、第２の四角フレーム３３の中央
に接続されている補強メンバ３４が固定されている。第
２の四角フレーム３３は、振動フレーム２１を構成する
第１の四角フレーム２６とほぼ同一寸法であり、両者は
各辺部が平行に揃うようにして上下に所定間隔をあけて
配置され、間にコイルばね３０が介装されている。

【００１５】シリンダ３２のピストン３２ｂを同期させ
て出没させることにより、吊下げフレーム２７に装着さ
れた被処理物Ｗは昇降させられる。ピストン３２ｂをス
トロークエンドまで伸ばして振動フレーム２７を下げる
と、被処理物Ｗは全体がエッチング槽１１のエッチング
液Ｅあるいは洗滌槽１２の洗滌液Ｃに埋没するようにな
っている。また、ピストン３２ｂをもっとも縮めて振動
フレーム２１を上げると被処理物Ｗは処理槽１０よりも
上に上昇し、この状態でバー３１を上梁４２に沿って移
動させれば、エッチング装置２０自体がエッチング槽１
１と洗滌槽１２との間を行き来できるようになってい
る。なお、振動フレーム２１は、コイルばね３０ごと第
２の四角フレーム３３に着脱自在に取り付けられるよう
になっていると、被処理物Ｗの装着がしやすくなるので
好ましい。

【００１６】次に、上記構成のエッチング装置２０の作
用ならびにそれに伴う効果を説明する。まず、振動フレ
ーム２１の各吊下げフレーム２７に装着する。それに
は、振動フレーム２１を第２の四角フレーム３３から外
した状態で装着を行い、装着後、振動フレーム２１を上
昇状態の第２の四角フレーム３３に取り付ける。これで
準備完了であり、この後、シリンダ３３０により振動フ
レーム２１を下降させ被処理物Ｗをエッチング槽１１の
エッチング液Ｅに埋没させ、さらに振動モータ２４を作
動させることにより、被処理物Ｗを振動フレーム２１ご
と振動させる。振動モータ２４を作動させると、第２の
四角フレーム３３は固定状態であるものの、コイルばね
３０が揺動することにより振動フレーム２１が振動可能
である。エッチング液Ｅに被処理物Ｗを浸けて振動させ
ることによるエッチング処理が所定時間経過したら、振
動フレーム２１をエッチング槽１１から引き上げ、バー
３１を上梁４２に沿って移動させ、被処理物Ｗを洗滌槽
１２の上に位置させる。

【００１７】昇降機構２３により被処理物Ｗを振動フレ
ーム２１ごと洗滌液Ｅに埋没させ、必要に応じて振動モ
ータ２４を作動させ被処理物Ｗに振動を与えてエッチン
グ面を洗滌する。洗滌が完了したら被処理物Ｗを上げ、
吊下げフレーム２７からエッチング処理が施された被処
理物Ｗを外す。エッチング装置２０を上梁４２に沿って
エッチング槽１１の上方に移動させ、続けて、吊下げフ
レーム２７に被処理物Ｗを装着して上記エッチング処理
を繰り返し行う。

【００１８】本実施例のエッチング装置２０によれば、
被処理物Ｗをエッチング槽１１のエッチング液Ｅに埋没
させ、かつ振動を与えることによりエッチング処理を施
す手法となるので、エッチング面へのエッチング液Ｅの
接触状態が全面にわたって均一になり、エッチングの進
行にばらつきが生じるといった不都合が解消される。し
たがってエッチング処理の均一化が大幅に向上し、高品
質な製品を得ることができる。

【００１９】また、エッチング液をシャワーで吹き付け
る従来手段の場合だと、エッチング面に対してシャワー
を吹き付けるための比較的広いスペースを必要とする
が、本実施例のように被処理物Ｗをエッチング槽１１に
埋没して振動を与える手段であると、そのような広いス
ペースを必要としない。したがって、被処理物Ｗを数多
く、かつ相互の間隔をある程度狭くしてエッチング槽１
１に埋没させることにより、大量の被処理物Ｗを短時間
でエッチング処理でき、非常に効率的である。

【００２０】また、上梁４２に沿って移動させることに
よりエッチング槽１１から洗滌槽１２にわたって行き来
できる構成なので、エッチング処理が終わった後、続け
て次の洗滌処理を間断なく行うことができる。

【００２１】

【発明の効果】以上説明したように本発明のエッチング
装置によれば、被処理物をエッチング槽に埋没させ、か
つ振動を与えることによりエッチング処理を施すので、
被処理物へのエッチング液の接触状態が均一になり、エ
ッチングの進行にばらつきが生じるといった不都合が解
消され、その結果エッチング処理の均一化が大幅に向上
し、高品質な製品を得ることができるといった効果を奏
する。また、被処理物を数多くエッチング槽に埋没させ
ることが可能であり、大量の被処理物を短時間で効率的
にエッチング処理できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のエッチング装置を示す側
面図である。

【図２】図１のＰ方向矢視図である。

【図３】主に振動フレームを示す正面図である。

【図４】図３のＱーＱ線矢視断面図である。

【図５】被処理物に枠を装着した状態の斜視図であ
る。

【符号の説明】１１……エッチング槽、１２……洗滌槽、２０……エッ
チング装置、２１……振動フレーム、２２……コイルば
ね（振動体）、２３……昇降機構、２４……振動モータ
（振動機構）、Ｃ……洗滌液、Ｅ……エッチング液、Ｗ
……被処理物。

フロントページの続き (72)発明者金永生大韓民国ソウル特別市東大門区典農洞206 −138

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エッチング液が貯留されたエッチング槽
の上に備えられるエッチング装置であって、印刷原版等の被処理物が装着されるフレームと、該フレ
ームを振動させる振動機構と、フレームにばね等の振動
体を介して連結され被処理物をエッチング槽に対し入れ
たり出したりする昇降機構とを具備することを特徴とす
るエッチング装置。