JPH0845274A - ビットラインセンス増幅器 - Google Patents
ビットラインセンス増幅器Info
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Abstract
ータ感知・増幅動作をすることができ、回路構成及び半
導体記憶装置のレイアウトを簡素化することができるセ
ンス増幅器を提供することにある。 【構成】 本発明は、第1制御信号により真偽及び補数
のビットライン(BL,/BL)に電荷を供給し、前記
真偽及び補数のビットライン上のデータを増幅するため
のデータ再生増幅器と、第2制御信号に応じ前記真偽の
ビットライン上のデータの電流を増幅し、真偽の入出力
ラインに現われるよう設けられた第1トランジスタと、
前記第2制御信号に応じ補数のビットライン上のデータ
の電流を増幅して補数の入出力ラインに現われるよう設
けられた第2トランジスタと、前記真偽入出力ライン及
び前記真偽のビットライン間の電流通路を選択的に形成
するよう設けたられた第1切換手段と、前記補数入出力
ライン及び前記補数のビットライン間の電流通路を選択
的に形成するよう設けられた第2切換手段とを備える。
Description
センス(Sense)増幅器に関し、特に占有面積及び電力消
耗の最少化とさらにデータの増幅を高速化することがで
るき高速センス増幅器に関する。
(以下、DRAMという)のような半導体記憶装置は、
1つのトランジスタ及び1つのキャパシターで構成され
たメモリセル等を備え、このようなDRAMは現行の2
56メガビットから1ギガビット以上に高集積化される
傾向にある。
セルの占有面積及びメモリセル等を駆動するための周辺
回路の占有面積を制限し、併せてビットライン及びバス
ラインの容量値及び抵抗値を増加させる要因になってい
る。
周辺回路を駆動するための電源電圧も大部分の情報通信
装備に用いられる電源電圧が減少することにより漸次に
減少の傾向にある。前記DRAMの電源電圧の減少はメ
モリセルのキャパシターの電荷蓄積量を減少させ、さら
にビットライン及びバスラインで伝送される電荷量を減
少させる。このため、前記DRAMでアクセスされるデ
ータは雑音の影響に敏感になる。尚、前記DRAMは高
集積化されることによりデータを高速にアクセスするこ
とができるよう要求されている。
ビットライン又はバスラインに接続され、前記ビットラ
イン及びバスライン上のデータを感知及び増幅する機能
を果たす。前記センス増幅器は、半導体記憶装置が高集
積化、低電圧化、動作の高速化に伴い、幾つかの事柄を
満たすことができるよう設計しなければならない。
マージンが大きくならなければならない。2番目に、半
導体記憶装置の高速動作に合うようデータを高速に感知
及び増幅しなければならない。3番目に、ビットライン
の幅(pitch)に合わせ配置されるよう占有面積が最少化
されなければならない。終りに、動作に関連した制御信
号が単純化されなければならない。
増幅器には、ビットライン上の電流を感知及び増幅する
電流差感知型センス増幅器と、また、ビットライン上の
電圧を感知および増幅する電圧差感知型センス増幅器が
ある。
y Memory(以下、ROMという)に主に用いられ、ま
た、前記電圧差感知型センス増幅器はDRAMのような
RandomAccess Memory (以下、RAMという)に主に
用いられる。しかし、前記DRAMは電源電圧の低電圧
化及びトランジスタの電流駆動能力の増加のため64メ
ガビット以上からは前記電流差感知型センス増幅器を採
用し始めた。
は構成が簡単である反面、データの感知及び増幅する速
度が非常に遅い欠点を有している。また、前記電流差感
知型センス増幅器は前記電圧感知型センス増幅器に比べ
速やかな感知及び増幅速度を有するが、記録されるデー
タ用バスライン及び読み取られるデータ用バスラインを
別途に要し、半導体記憶装置のレイアウトを複雑にする
欠点を有している。前記電圧差感知型センス増幅器及
び、前記電流差感知型センス増幅器の欠点を添付した図
1乃至図3を参照し具体的に考察してみる。
が適用されたDRAAMを示す。前記図1において、ビ
ットラインセンス増幅器(11)は真偽及び補数のビッ
トライン(BL,/BL)間に行違うように接続された
クロスカップルした2つのP−MOSトランジスタ(P
1,P2)と、前記2つP−MOSトランジスタ(P
1,P2)と同様な形態に接続した2つのN−MOSト
ランジスタ(N1,N2)とで構成されている。
ング図であり、図2を参照して前記図1の動作を説明す
る。先ず、ハイ論理を有するプリチャージ制御信号(Pr
echarge Control Signal)PC によりビットライン(B
L,/BL)とデータバスライン(DB,/DB)は半
導体電源電圧(HVcc:Half Vcc)にプリチャージさ
れる。前記ビットライン(BL,/BL)のプリチャー
ジ動作は3つのN−MOSトランジスタ(N5乃至N
7)により行われる。
状態にディスエネーブルされた後、ローデコーダ(row
decoder 、図示せず) により選択したワードライン(WL
i) 側にブートストラップされた高電圧(Vpp)が伝
達されると、第1セルキャパシター(C1)に貯蔵され
ていた電荷がN−MOSトランジスタ(N3)を経て真
偽のビットライン(BL)に供給される。このため、前
記真偽及び補数のビットライン(BL,/BL)の間に
僅かな電圧差が発生する。
1)は第1及び第2増幅制御信号(SAP,SAN)が
各々電源電圧(Vcc)と接地電圧(GND)を維持す
る場合に動作する。増幅動作の際、前記ビットラインセ
ンス増幅器(11)は前記真偽及び補数のビットライン
(BL,/BL)上の電圧を、夫々電源電圧(Vcc)
及び接地電圧(GND)となるようにする。
1)により増幅された前記真偽及び補数のビットライン
(BL,/BL)上の真偽及び補数のデータは、夫々N
−MOSトランジスタ(N8,N9)を経て真偽及び補
数のバスライン(DB,/DB)側に伝送される。前記
N−MOSトランジスタ(N8,N9)はカラムデコー
ダ(図示せず)により、カラム伝達制御信号(Yj)が
ハイ論理を有する場合にターンオンされ前記真偽及び補
数のデータの伝送通知を夫々形成する。
及び補数のデータは、図示しないバスラインセンス増幅
器により増幅された後、データ出力端側に伝送される。
図3は、電流差感知型センス増幅器が適用されたDRA
Mを示す図面である。図3において、前記DRAMは図
1に示したDRAMと同様な構成のメモリセル、ビット
ラインプリチャージ回路及び図1のビットラインセンス
増幅器(11)と同様な構成のビットラインセンス増幅
器(12)とを備える。また、前記DRAMは記録用デ
ータを入力するための記録用の真偽及び補数のバスライ
ン(WDB,/WDB)及び読み取られるデータを出力
するための読み取り用の真偽及び補数のバスライン(R
DB,/RDB)とを備える。
(RYj)がハイ論理を有する場合に駆動され、前記真
偽及び補数の読み取りバスライン(RDB,/RDB)
を夫々N−MOSトランジスタ(N12,N13)に夫
々接続させるための2つのN−MOSトランジスタ(N
10,N11)とを備える。前記N−MOSトランジス
タ(N12)は前記真偽ビットライン(BL)上の信号
により、前記N−MOSトランジスタ(N10)及び接
地電源(GND)間の電流通路を開閉する。さらに、前
記N−MOSトランジスタ(N13)は、前記補数のビ
ットライン(/BL)上のデータにより前記N−MOS
トランジスタ(N11)及び接地電源(GND)間の電
流通路を開閉する。前記2つのN−MOSトランジスタ
(N12,N13)は前記真偽及び補数のビットライン
(BL,/BL)上の前記真偽及び補数のデータの電流
を増加する機能を果たす。
(WDB,/WDB)は、夫々N−MOSトランジスタ
(N14,N15)により前記真偽及び補数のビットラ
イン(BL,/BL)に選択的に接続される。前記N−
MOSトランジスタ(N14)は記録選択信号(YW
j)がハイ論理を有する場合、ターンオンされ、前記記
録用の真偽のバスライン(WDB)上のデータを前記真
偽のビットライン(BL)側に伝送する。また、前記N
−MOSトランジスタ(N15)も、前記記録選択信号
(YWj)がハイ論理を有する場合、ターンオンされ、
前記記録用の補数のバスライン(/WDB)上のデータ
を前記補数のビットライン(/BL)側に伝送する。
センス増幅器(12)及び前記電流増幅用の2つのN−
MOSトランジスタ(N12,N13)はワードライン
が選択される際、同時に駆動することができるようにビ
ットライン及びバスラインの間に接続される。
図1に示した電圧増幅用センス増幅器に比べ高速に感知
及び増幅動作を行うことができる。
増幅器は、データの入出力通路に伴う2つのバスライン
及びその駆動回路を要求することにより、その構成が複
雑であるだけでなく半導体記憶装置のレイアウトを困難
にする問題点がある。
により速やかな速度でデータ感知・増幅動作をすること
ができ、回路構成及び半導体記憶装置のレイアウトを容
易にすることができるセンス増幅器を提供することにあ
る。
め、本発明のセンス増幅器は、第1制御信号により真偽
及び補数のビットライン(BL,/BL)に電荷を供給
し、前記真偽及び補数のビットライン上のデータを増幅
するためのデータ再生増幅手段と、第2制御信号に応じ
前記真偽のビットライン上のデータの電流を増幅して真
偽の入出力ラインに現われるよう設けた第1電流増幅手
段と、前記第2制御信号に応じ補数のビットライン上の
データの電流を増幅し補数の入出力ラインに現われるよ
う設けた第2電流増幅手段と、前記真偽入出力ライン及
び前記真偽のビットライン間の電流通路を選択的に形成
するよう設けた第1切換手段と、前記補数の入出力ライ
ン及び前記補数のビットライン間の電流通路を選択的に
形成するよう設けた第2切換手段とを備える。
イネーブルされることにより、データを高速に感知及び
増幅することができる。また、本発明は少数のトランジ
スタを用いて簡単な構成及び小さい占有面積を有し、デ
ータの入出力のため一つのバスラインを必要とする。こ
のため、本発明は半導体記憶装置のレイアウトを簡素化
することができる利点がある。
幅器が適用されたDRAMを示す図である。前記DRA
Mは真偽及び補数のビットライン(BL,/BL)と第
1及び第2ノード(M1,M2)の間に接続されたビッ
トラインセンス増幅器(14)と、真偽のバスライン
(DB)及び前記第1ノード(M1)間の伝送通路を開
閉するためのN−MOSトランジスタ(N8)と、補数
のバスライン(/DB)及び前記第2ノード(M2)間
の伝送通路を開閉するためのN−MOSトランジスタ
(N9)とを備える。
前記真偽及び補数のビットライン(BL,/BL)の間
に接続され、第1制御信号(SAP)により前記真偽及
び補数のビットライン(BL,/BL)上の真偽及び補
数データを増幅するデータ再生増幅器(13)と、第2
制御信号(SAN)及び前記真偽のビットライン(B
L)上のデータにより前記第2ノード(M2)上の電流
をバイパスするためのN−MOSトランジスタ(N1)
と、第2制御信号(SAN)及び前記補数のビットライ
ン(/BL)上のデータにより前記第1ノード(M1)
上の電流をバイパスするためのN−MOSトランジスタ
(N2)とを備える。また、前記ビットラインセンス増
幅器(14)は第3制御信号(DR)により、前記真偽
のビットライン(BL)及び前記第1ノード(M1)間
のデータ伝送通路を開閉するためのN−MOSトランジ
スタ(N10)と、また、第3制御信号(DR)により
前記補数のビットライン(/BL)及び前記第2ノード
(M2)間のデータ伝送通路を開閉するためのN−MO
Sトランジスタ(N11)とを備える。
0,N11)はデータ記録及び読み取りモードの両モー
ドで駆動される。これとは別に、前記2つのN−MOS
トランジスタ(N1,N2)はデータ読み取りモードの
際にのみ駆動され、前記2つのN−MOSトランジスタ
(N10,N11)と共にラッチ回路を形成することに
なる。
コーダによりワードライン(WL1及びWL2)の一つ
が選択されると、セルキャパシター(C1又はC2)に
貯蔵された電荷はN−MOSトランジスタ(N3又はN
4)を経て真偽又は補数のビットライン(BL,/B
L)に供給される。すると、前記ビットラインセンス増
幅器(14)はハイ論理を有する前記第1及び第3制御
信号(SAP,DR)及び、ロー論理を有する前記第2
制御信号(SAN)により前記真偽及び補数のビットラ
イン(BL,/BL)上の真偽及び補数のデータを電圧
及び電流増幅し、前記第1及び第2ノード(M1,M
2)側に夫々伝送する。前記第1及び第2ノード(M
1,M2)上の真偽及び補数のデータは、夫々ハイ論理
のカラム制御信号(Yj)によりイネーブルされるN−
MOSトランジスタ(N8,N9)を経て前記真偽及び
補数のバスライン(DB,/DB)に供給される。
動作をさらに詳細に説明すると、前記データ再生増幅器
(13)は前記ハイ論理の第1制御信号(SAP)によ
り駆動され、前記真偽及び補数のビットライン(BL,
/BL)上のデータ中のある1つを電源電圧(Vcc)
のレベルになるよう増幅する。
維持する場合、また、前記N−MOSトランジスタ(N
1)は前記真偽のビットライン(BL)上の電圧の大き
さに相当する程の前記第2ノード(M2)上の電流を前
記第2制御信号(SAN)のソース側にバイパスさせ
る。同様に、前記N−MOSトランジスタ(N2)も、
前記第2制御信号(SAN)がロー論理を維持する間、
前記補数のビットライン(/BL)上の電圧の大きさに
相当する大きさ程の前記第1ノード(M1)上の電流を
前記第2制御信号(SAN)のソース側にミュートさせ
る。前記2つのN−MOSトランジスタ(N1,N2)
により前記真偽及び補数のビットライン(BL,/B
L)間の電流差は増幅され、前記第1及び第2ノード
(M1,M2)に伝送される。
第1ノード(M1)間の伝送通路をN−MOSトランジ
スタ(N10)を導通させることにより開通させる。一
方、前記N−MOSトランジスタ(N11)は前記ハイ
論理の第2制御信号(DR)により駆動され、前記補数
のビットライン(/BL)及び前記第2ノード(M2)
間の伝送通路を開通させる。この結果、前記2つのN−
MOSトランジスタ(N10,N11)により前記第1
及び第2ノード(M1,M2)上の増幅された真偽及び
補数のデータは、前記真偽及び補数のビットライン(B
L,/BL)を夫々経て前記選択されたセルキャパシタ
ー(C1又はC2)をリフレッシュすることになる。
ン(BL,/BL)上の前記真偽及び補数のデータは前
記データ再生増幅器(13)により電圧増幅され、また
前記2つのN−MOSトランジスタ(N1,N2)によ
り電流増加される。さらに、前記電圧及び電流増幅され
た真偽及び補数のデータは夫々第1及び第2ノード(M
1,M2)に伝送される。また、前記第3制御信号(D
R)は前記第1及び第2制御信号(SAP,SAN)よ
り一定時間経過の後、イネーブルされるようにしなけれ
ばならないが、前記第1及び第2制御信号(SAP,S
AN)と共にイネーブルされても係りない。また、前記
第1及び第2制御信号(SAP,SAN)は前記ワード
ライン(WL)がイネーブルされると共にイネーブルさ
れる。このため、前記ビットラインセンス増幅器は前記
真偽及び補数のビットライン(BL,/BL)上の前記
真偽及び補数のデータを高速に感知・増幅することがで
きる。
3の電流差感知型センス増幅器に比べ少ないトランジス
タを用い簡単な構成及び小さい占有面積を有し、さら
に、データの入出力のため1つのバスラインを要求する
長所を有する。このため、前記ビットラインセンス増幅
器は半導体記憶装置のレイアウトを簡素化することがで
きる利点がある。
(13)の第1実施例の詳細な回路図である。図5にお
いて、前記データ再生増幅器(13)は補数のビットラ
イン(/BL)上のデータの電圧値により選択的に駆動
される第1P−MOSトランジスタ(P1)を備える。
前記第1P−MOSトランジスタ(P1)は、前記補数
のビットライン(/BL)上のデータがロー論理を有す
る場合、高電位を有する第1制御信号(SAP)を真偽
のビットライン(BL)側に伝送する。
記真偽のビットライン(BL)上のデータの電圧値によ
り選択的に駆動される第2P−MOSトランジスタ(P
2)を備える。前記第2P−MOSトランジスタ(P
2)は、前記真偽のビットライン(BL)上のデータが
ロー論理を有する場合、前記第1制御信号(SAP)を
前記補数のビットライン(/BL)側に伝送する。
ランジスタ(P1,P2)は前記真偽及び補数のビット
ライン(BL,/BL)に行違う(Cross coupled)よう
接続され、前記真偽及び補数のビットライン(BL,/
BL)上の前記真偽及び補数のデータ中の一つを電圧増
幅することになる。
(13)の第2実施例の詳細な回路図である。図6に示
したデータ再生増幅器は図5に示した第1及び第2P−
MOSトランジスタ(P1,P2)を夫々N−MOSト
ランジスタ(N1,N2)に置き換えたものである。こ
れは、P−MOSトランジスタの場合に形成されるNウ
ェールがレイアウト面積が大きく増加させるが、逆にN
−MOSトランジスタはレイアウト面積を著しく減少す
ることができるためである。前記レイアウト面積が減少
できるのはセンス増幅器に用いられる全てのトランジス
タがN−MOSトランジスタになることに基づく。
とができるよう構成した本発明の第2実施例によるセン
ス増幅器を示す回路図である。前記バスラインセンス増
幅器は、第1及び第2制御信号(CK1,CK2)によ
り真偽のバスライン(DB)の信号を増幅し第1ノード
(a1)に出力する第1電流増幅部と、前記第1電流増
幅部と同様な形態に構成され補数のバスライン(/D
B)の信号を増幅し前記増幅された信号を第2ノード
(a2)に供給する第2電流増幅部と、また、前記第1
及び第2ノード(a1,a2)上の信号間の電流差を感
知及び増幅し前記増幅された信号を第1及び第2出力端
子(VO1,VO2)に出力する第3電流増幅部とより
成る。
(Vcc)が印加され、ゲートが前記第1制御信号(C
K1)により制御されるトランジスタ(MP3)と、ソ
ースが前記トランジスタ(MP3)のドレインに連結さ
れゲートとドレインが真偽のバスライン(DB)に接続
されたトランジスタ(MP1)と、電源電圧(Vcc)
とノード(a1)間に接続しゲートが真偽のバスライン
(DB)に連結されたトランジスタ(MP2)と、ダイ
オード構造に接続されたトランジスタ(MN3)と、前
記トランジスタ(MN3)のソースと接地電圧(GN
D)間に接続されゲートが前記第2制御信号(CK2)
により制御されるトランジスタ(MN5)とより成る。
前記第2電流増幅部は、前記補数のバスライン(/D
B)及び前記第2ノード(a2)の間に前記第1電流増
幅部と同様な形態で接続したトランジスタ(MP6,M
P4,MP5,MN4,MN6)を備える。
子(VO1,VO2)に電荷を供給するため、クロスカ
ップルド構造を成しているトランジスタ(MP7,MP
8,MP9,MP10)と、出力端(VO1,VO2)
に夫々のドレインが接続され夫々のゲートがノード(a
1,a2)に連結されて夫々のソースが共通のノードに
接続されたトランジスタ(MN1,MN2)と、前記ト
ランジスタ(MN1,MN2)の共通ソースと接地電圧
(GND)間に接続し、ゲートがデータバスラインセン
ス増幅器の第3制御信号(CK3)により制御されるト
ランジスタ(MN7)で構成される。
補数のビットライン(図示せず)から前記真偽及び補数
のバスライン(DB,/DB)にデータが伝達され、前
記真偽及び補数のバスライン(DB,/DB)に電流差
が発生したと仮定する。さらに、前記第1制御信号(C
K1)がロー状態でイネーブルされ僅かな時間が経過し
た後に、第2制御信号(CK2)がハイ状態でイネーブ
ルされる場合、第1及び第2ノード(a1,a2)には
前記真偽及び補数のバスライン(DB,/DB)上の電
流信号が増幅され夫々伝達される。
充分な電流差が発生すると、第3制御信号(CK3)が
ハイ状態でイネーブルされる際、前記第3電流増幅部は
前記第1及び第2ノード(a1,a2)間の電流差を増
幅する。これを詳しく説明すると、トランジスタ(MN
1,MN2)は夫々自己のゲート側に印加された前記第
1及び第2ノード(a1,a2)上の電流量に伴い、前
記第1及び第2出力端子(VO1,VO2)に流れる電
流量を増加させる。この結果、前記第1及び第2ノード
(a1,a2)間の電流差は増幅され、前記第1及び第
2出力端子(VO1,VO2)に表われるようになる。
また、前記4つのトランジスタ(MP7,MP8,MP
9,MP10)は全てP−MOSトランジスタで、前記
第1及び第2出力端子(VO1,VO2)のプルアップ
動作のための負荷抵抗の役割を果たす。
分に対する動作タイミングを説明するための図面であ
る。図8に示したように、ワードライン(WLi)とカ
ラム伝達信号(Yj)がハイ状態になると共に、第2制
御信号(SAN)がロー状態になりビットラインセンス
増幅器でのデータセンス動作が始まる。ビットラインに
誘起された信号を図4のトランジスタ(N1,N2)が
前記真偽及び補数のバスライン(DB,/DB)に電流
増幅した後で伝え、これをデータバスラインセンス増幅
器が感知することになる。
第1制御信号(CK1)が第2制御信号(SAN)と同
時、又はやや遅れた後にロー状態に遷移した後、真偽及
び補数のバスライン(DB,/DB)に電流差が誘導さ
れると第2及び第3制御信号(CK2,CK3)がイネ
ーブルされデータバスラインセンス増幅器が動作する。
前記データ感知動作が終わると、カラム伝達信号(Y
j)がロー状態にディスエーブルされ信号(DR,SA
P)により再生されたデータがセルに貯蔵されることに
なり、この際データセンス増幅器は再びプリチャージ状
態に転換することになる。
はワードラインと共にイネーブルされることによりデー
タを高速に感知及び増幅することができる利点がある。
さらに、本発明のセンス増幅器はデータを電流及び電圧
増幅することによりデータの雑音に対する影響を最少化
することができる利点がある。
差感知型センス増幅器に比べ少数のトランジスタを用い
て簡単な構成及び小さい占有面積を有する。併せて、本
発明のセンス増幅器は、従来の電流差感知型センス増幅
器とは異なり、データの入出力のため1つのバスライン
を必要とする。このため、本発明のセンス増幅器は半導
体記憶装置のレイアウトを簡素化するたことができる利
点がある。
用されたDRAMを示す図である。
作タイミングを示す図である。
用されたDRAMを示す図である。
器が適用されたDRAMを示す図である。
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
器を示す図である。
対する動作タイミングを説明するための図である。
ンジスタ MP1乃至MP9及びP1及びP2:P−MOSトラン
ジスタ
Claims (6)
- 【請求項1】 第1制御信号により真偽及び補数のビッ
トラインに電荷を供給し、前記真偽及び補数のビットラ
イン上のデータを増幅するためのデータ再生増幅手段
と、 第2制御信号に応答し、前記真偽のビットライン上のデ
ータの電流を増幅して真偽の入出力ラインに現われるよ
う設置された第1電流増幅手段と、 前記第2制御信号に応答し、補数のビットライン上のデ
ータの電流を増幅して補数の入出力ラインに現われるよ
う設置された第2電流増幅手段と、 前記真偽入出力ライン及び、前記真偽のビットライン間
の電流通路を選択的に形成するよう設置した第1切換手
段と、 前記補数の入出力ライン及び、前記補数のビットライン
間の電流通路を選択的に形成するよう設置した、第2切
換手段とを備えたことを特徴とするビットラインセンス
増幅器。 - 【請求項2】 前記データ再生増幅器は、前記補数のビ
ットラインからの補数データにより選択的に駆動され、
前記第1制御信号を前記真偽のビットライン側に伝送す
る第1P−MOSトランジスタと、 前記真偽のビットラインからの真偽データにより選択的
に駆動され、前記第1制御信号を前記補数のビットライ
ン側に伝送する第2P−MOSトランジスタとを備えた
ことを特徴とする請求項1記載のビットラインセンス増
幅器。 - 【請求項3】 前記データ再生増幅器が、前記補数のビ
ットラインからの補数データにより選択的に駆動され前
記第1制御信号を前記真偽のビットライン側に伝送する
第1N−MOSトランジスタと、 前記真偽のビットラインからの真偽データにより選択的
に駆動され、前記第1制御信号を前記補数のビットライ
ン側に伝送する第2N−MOSトランジスタとを備えた
ことを特徴とする請求項1記載のビットラインセンス増
幅器。 - 【請求項4】 第1及び第2制御信号により、真偽のバ
スラインからの信号を増幅して第1ノードに出力する第
1電流増幅部と、 前記第1及び第2制御信号により、補数のバスラインか
らの信号を増幅して第2ノードに出力する第2電流増幅
部と、 第3制御信号により、前記第1ノード及び第2ノード間
の電流差を感知及び増幅する差動増幅器構造の第3電流
増幅部とより成ることを特徴とするバスラインセンス増
幅器。 - 【請求項5】 前記第1電流増幅部は、ソースに電源電
圧が印加されゲートが前記第1制御信号により制御され
る第1P−MOSトランジスタと、 ソースが前記第1P−MOSトランジスタのドレインに
連結し、ゲートとドレインが前記真偽のバスラインに接
続された第2P−MOSトランジスタと、 前記電源電圧と前記第1ノードの間に接続され、ゲート
が前記真偽のバスラインに連結された第3P−MOSト
ランジスタと、 ドレインとゲートが前記第1ノードに接続されたダイオ
ード構造の第1N−MOSトランジスタと、 前記第1N−MOSトランジスタのソースと接地電圧の
間に接続され、ゲートが前記第2制御信号により制御さ
れる第2N−MOSトランジスタとより成ることを特徴
とする請求項4記載のバスラインセンス増幅器。 - 【請求項6】 前記第1、第2及び第3制御信号はデー
タ感知動作の進行に伴い、一定の時間差をおいてイネー
ブルされることを特徴とする請求項4記載のバスライン
センス増幅器。
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