JPH085008Y2 - 研磨廃液処理装置 - Google Patents
研磨廃液処理装置Info
- Publication number
- JPH085008Y2 JPH085008Y2 JP7859192U JP7859192U JPH085008Y2 JP H085008 Y2 JPH085008 Y2 JP H085008Y2 JP 7859192 U JP7859192 U JP 7859192U JP 7859192 U JP7859192 U JP 7859192U JP H085008 Y2 JPH085008 Y2 JP H085008Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- coolant
- polishing waste
- waste liquid
- storage tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Electrostatic Separation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、研磨廃液処理装置に関
するものである。
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、研磨廃液の再生利用は広く実施さ
れており、例えば、特公昭５８−３０１１２号公報等に
おいて開示されているように、一般に、研磨廃液を固液
分離処理した後、その処理液に必要量のクーラントを補
給混合して再生している。
れており、例えば、特公昭５８−３０１１２号公報等に
おいて開示されているように、一般に、研磨廃液を固液
分離処理した後、その処理液に必要量のクーラントを補
給混合して再生している。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】しかし、かかる再生処
理は、スクリーンや遠心分離機等により固液分離した処
理液に直接、必要量のクーラントを補給して再生してい
る関係上、固液分離能に影響されて再生液の組成が一定
しないと共に固液分離した処理液にクーラントを補給混
合しながら、その混合液のＰＨを測定してクーラントの
補給量を所定に制御している関係上、迅速な調整が困難
であるといった諸々の欠点を有していた。
理は、スクリーンや遠心分離機等により固液分離した処
理液に直接、必要量のクーラントを補給して再生してい
る関係上、固液分離能に影響されて再生液の組成が一定
しないと共に固液分離した処理液にクーラントを補給混
合しながら、その混合液のＰＨを測定してクーラントの
補給量を所定に制御している関係上、迅速な調整が困難
であるといった諸々の欠点を有していた。
【０００４】本考案は、このようなことに着目し、これ
を解決すべく各方面から鋭意検討の結果、研磨廃液を遠
心分離機で固液分離して得られる一次処理液を更に静電
フイルタで濾過して二次処理液を得ると共に、かかる二
次処理液の流量及び濃度に基いてクーラントの補給量を
制御するようにすれば、上述した欠点を一挙に解消し得
ることを見出したのである。
を解決すべく各方面から鋭意検討の結果、研磨廃液を遠
心分離機で固液分離して得られる一次処理液を更に静電
フイルタで濾過して二次処理液を得ると共に、かかる二
次処理液の流量及び濃度に基いてクーラントの補給量を
制御するようにすれば、上述した欠点を一挙に解消し得
ることを見出したのである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本考案に係る
研磨廃液処理装置は、研磨廃液を固液分離処理する遠心
分離機と、前記遠心分離機から直接若しくは中間貯留タ
ンクを経て供給される一次処理液を濾過する静電フイル
タと、前記静電フイルタから供給される二次処理液とク
ーラント補給装置から供給されるクーラントとを混合し
た再生液を貯留する再生液貯留タンクと、前記二次処理
液の流量及び濃度に基いて前記クーラントの補給量を制
御するクーラント補給量制御装置とを備えていることを
特徴とするものである。
研磨廃液処理装置は、研磨廃液を固液分離処理する遠心
分離機と、前記遠心分離機から直接若しくは中間貯留タ
ンクを経て供給される一次処理液を濾過する静電フイル
タと、前記静電フイルタから供給される二次処理液とク
ーラント補給装置から供給されるクーラントとを混合し
た再生液を貯留する再生液貯留タンクと、前記二次処理
液の流量及び濃度に基いて前記クーラントの補給量を制
御するクーラント補給量制御装置とを備えていることを
特徴とするものである。
【０００６】
【実施例】以下、本考案に係る一実施例について図面に
基いて述べると、図１において、この研磨廃液処理装置
は、遠心分離機１と、静電フイルタ２と、クーラント補
給装置３と、クーラント補給量制御装置４と、原液貯留
タンク５と、中間貯留タンク６と、再生液貯留タンク７
等を備えている。
基いて述べると、図１において、この研磨廃液処理装置
は、遠心分離機１と、静電フイルタ２と、クーラント補
給装置３と、クーラント補給量制御装置４と、原液貯留
タンク５と、中間貯留タンク６と、再生液貯留タンク７
等を備えている。
【０００７】かかる分離機１は、原液貯留タンク５から
管路８を経て供給される研磨廃液を固液分離する。これ
により、研磨廃液中の固体粒子の大部分が除去され、そ
の一次処理液が管路９を経て中間貯留タンク６に送られ
る。続いて、ここから管路１０を経て静電フイルタ２に
供給されて濾過されるが、この濾過により一次処理液中
の残留固体粒子（遠心分離機１による固液分離に際して
リークした固体粒子）が除去される。その際、遠心分離
機１で前処理の固液分離をしているので、静電フイルタ
２の目詰りを長期間にわたって防止することができる。
管路８を経て供給される研磨廃液を固液分離する。これ
により、研磨廃液中の固体粒子の大部分が除去され、そ
の一次処理液が管路９を経て中間貯留タンク６に送られ
る。続いて、ここから管路１０を経て静電フイルタ２に
供給されて濾過されるが、この濾過により一次処理液中
の残留固体粒子（遠心分離機１による固液分離に際して
リークした固体粒子）が除去される。その際、遠心分離
機１で前処理の固液分離をしているので、静電フイルタ
２の目詰りを長期間にわたって防止することができる。
【０００８】なお、遠心分離機１を用いているのは、エ
マルジョン状態に懸濁している、有価物たるクーラント
成分の除去阻止の為であって、他の固液分離手段では、
溶解しているクーラント成分の除去を阻止し得ても、エ
マルジョン状態に懸濁しているクーラント成分について
はそれが困難であるからである。
マルジョン状態に懸濁している、有価物たるクーラント
成分の除去阻止の為であって、他の固液分離手段では、
溶解しているクーラント成分の除去を阻止し得ても、エ
マルジョン状態に懸濁しているクーラント成分について
はそれが困難であるからである。
【０００９】すなわち、比重が約１のクーラントと、例
えば、比重が約２の固体微粒子との比重差を利用して遠
心力により固体粒子の大部分を除去し、そして、これに
おいてリークした固体粒子を、クーラントよりも目開き
の大きい静電フイルタ２で除去している。
えば、比重が約２の固体微粒子との比重差を利用して遠
心力により固体粒子の大部分を除去し、そして、これに
おいてリークした固体粒子を、クーラントよりも目開き
の大きい静電フイルタ２で除去している。
【００１０】以下、静電フイルタ２から排出される二次
処理液は、管路１１を経て再生液貯留タンク７に送られ
ると共に、これと並行してクーラント補給装置３により
クーラントが前記二次処理液に補給される。この補給装
置３は、弁１３を閉じ、かつ弁１４を開いた状態で、タ
ンク１５に貯留されているクーラントをポンプ１６で循
環、すなわち、クーラントを管路１７，１８を経て循環
させることができ、また、弁１３，１４を所定に開き、
タンク１５から抜き出したクーラントの一部を循環させ
ると共に残部を、前記二次処理液に補給することができ
る。
処理液は、管路１１を経て再生液貯留タンク７に送られ
ると共に、これと並行してクーラント補給装置３により
クーラントが前記二次処理液に補給される。この補給装
置３は、弁１３を閉じ、かつ弁１４を開いた状態で、タ
ンク１５に貯留されているクーラントをポンプ１６で循
環、すなわち、クーラントを管路１７，１８を経て循環
させることができ、また、弁１３，１４を所定に開き、
タンク１５から抜き出したクーラントの一部を循環させ
ると共に残部を、前記二次処理液に補給することができ
る。
【００１１】なお、前記二次処理液に補給されたクーラ
ントは、管路１１に装着されている静止型混合器１９に
より、前記二次処理液と混合され、その混合液（以下、
これを再生液という。）が再生液貯留タンク７に送られ
る。かかるクーラントの補給において、クーラント補給
量制御装置４でその補給量が所定に制御される。
ントは、管路１１に装着されている静止型混合器１９に
より、前記二次処理液と混合され、その混合液（以下、
これを再生液という。）が再生液貯留タンク７に送られ
る。かかるクーラントの補給において、クーラント補給
量制御装置４でその補給量が所定に制御される。
【００１２】この補給量制御装置４は、管路１１に装着
されている測定装置２０により、静電フイルタ２から排
出される前記二次処理液の流量及び濃度を測定し、それ
らの測定信号に基いてポンプ１６を駆動するモータ２１
を所定に回転制御してクーラントの補給量を制御する。
されている測定装置２０により、静電フイルタ２から排
出される前記二次処理液の流量及び濃度を測定し、それ
らの測定信号に基いてポンプ１６を駆動するモータ２１
を所定に回転制御してクーラントの補給量を制御する。
【００１３】測定装置２０は、濃度測定手段として紫外
線吸光度計を用いているので、流下中の前記二次処理液
であっても迅速かつ正確に測定することができ、従っ
て、モータ２１を高精度に制御することができて、常に
一定組成の再生液に保つことができ、再使用に好適な研
磨液を得ることができる。
線吸光度計を用いているので、流下中の前記二次処理液
であっても迅速かつ正確に測定することができ、従っ
て、モータ２１を高精度に制御することができて、常に
一定組成の再生液に保つことができ、再使用に好適な研
磨液を得ることができる。
【００１４】なお、再生液貯留タンク７に、再生液を循
環させる循環管路２２が装着されていると共に、かかる
再生液（研磨液）は、管路２３を経て研磨作業箇所へポ
ンプ送りされる。図中、２４〜２６は各管路に装着され
ているポンプを、また、２７〜２９は循環管路を夫々示
している。
環させる循環管路２２が装着されていると共に、かかる
再生液（研磨液）は、管路２３を経て研磨作業箇所へポ
ンプ送りされる。図中、２４〜２６は各管路に装着され
ているポンプを、また、２７〜２９は循環管路を夫々示
している。
【００１５】以上、本考案に係る一実施例について述べ
たが、本考案においては、中間貯留タンク６を設置しな
いで、遠心分離機１から一次処理液を直接、静電フイル
タ２に供給してもよい。また、クーラントは、界面活性
剤等の研磨粉分散剤や凝集防止剤あるいは防錆剤、その
他の研磨液用液体添加剤等が含有されたものなど、いか
なる組成のものであってもよい。
たが、本考案においては、中間貯留タンク６を設置しな
いで、遠心分離機１から一次処理液を直接、静電フイル
タ２に供給してもよい。また、クーラントは、界面活性
剤等の研磨粉分散剤や凝集防止剤あるいは防錆剤、その
他の研磨液用液体添加剤等が含有されたものなど、いか
なる組成のものであってもよい。
【００１６】
【考案の効果】上述したように、本考案によると、遠心
分離機及び静電フイルタを用いているので、研磨廃液中
の有価物たるクーラント成分の除去を阻止しながら固体
粒子を良好に除去することができ、かつ、静電フイルタ
からの二次処理液の流量及び濃度に基いて所定量のクー
ラントを補給するクーラント補給量制御装置を装着して
いるので、常に一定組成の再使用に好適な研磨液を得る
ことができる。
分離機及び静電フイルタを用いているので、研磨廃液中
の有価物たるクーラント成分の除去を阻止しながら固体
粒子を良好に除去することができ、かつ、静電フイルタ
からの二次処理液の流量及び濃度に基いて所定量のクー
ラントを補給するクーラント補給量制御装置を装着して
いるので、常に一定組成の再使用に好適な研磨液を得る
ことができる。
【図１】研磨廃液処理装置のフローシート図である。
１ 遠心分離機 ２ 静電フイルタ ３ クーラント補給装置 ４ クーラント補給量制御装置 ５ 原液貯留タンク ６ 中間貯留タンク ７ 再生液貯留タンク
Claims (1)
- 【請求項１】 研磨廃液を固液分離処理する遠心分離機
と、前記遠心分離機から直接若しくは中間貯留タンクを
経て供給される一次処理液を濾過する静電フイルタと、
前記静電フイルタから供給される二次処理液とクーラン
ト補給装置から供給されるクーラントとを混合した再生
液を貯留する再生液貯留タンクと、前記二次処理液の流
量及び濃度に基いて前記クーラントの補給量を制御する
クーラント補給量制御装置とを備えていることを特徴と
する研磨廃液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7859192U JPH085008Y2 (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 研磨廃液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7859192U JPH085008Y2 (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 研磨廃液処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636762U JPH0636762U (ja) | 1994-05-17 |
| JPH085008Y2 true JPH085008Y2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=13666156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7859192U Expired - Lifetime JPH085008Y2 (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 研磨廃液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH085008Y2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5830112B2 (ja) | 2008-11-25 | 2015-12-09 | ローデ ウント シュワルツ ゲーエムベーハー ウント コー カーゲー | コードドメインパワーとコードドメインエラーパワーの分析方法と装置 |
-
1992
- 1992-10-16 JP JP7859192U patent/JPH085008Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5830112B2 (ja) | 2008-11-25 | 2015-12-09 | ローデ ウント シュワルツ ゲーエムベーハー ウント コー カーゲー | コードドメインパワーとコードドメインエラーパワーの分析方法と装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0636762U (ja) | 1994-05-17 |
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