JPH0858264A

JPH0858264A - 親水性を付与した基材およびそれを使用して製造した記録材料

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Publication number: JPH0858264A
Application number: JP7167485A
Authority: JP
Inventors: Michael Brenk; ミヒヤエル．ブレンク; Mathias Dr Eichhorn; マティアス、アイヒホルン; Andreas Dr Elsaesser; アンドレアス、エルゼッサー
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1994-07-01
Filing date: 1995-07-03
Publication date: 1996-03-05
Also published as: EP0689941B1; DE59501625D1; BR9503065A; EP0689941A1; DE4423140A1; US5637441A; ES2113696T3

Abstract

(57)【要約】【課題】親水性付与特性、長期間保存性、印刷部分に
対する密着性に優れたオフセット印刷板用の基材の提
供。【解決手段】アルミニウムまたはその合金からなり、
機械的および／または電気化学的に粗面化され、必要に
応じて陽極酸化された基材に対して、塩基性および酸性
基を含む少なくとも１種の重合体からなる親水性層が施
された基材。この層には、少なくとも１個のホスホノ基
を含む少なくとも１種の化合物を含む別の親水性層が続
いている。該支持体材料の製造法およびそれを使用して
製造したオフセット印刷板用の感光性記録材料にも関す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウムまた
はその合金からなり、機械的および／または電気化学的
に粗面化し、必要に応じて陽極酸化（anodize ）した基
材に対して、塩基性および酸性基を含む少なくとも１種
の重合体からなる親水性層を持たせたもの、および基材
および放射線感応性層を有し、オフセット印刷板を製造
できる放射線感応性記録材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】オフセット印刷板用の基材には感光層
（複写層）を施し、その層を使用して印刷画像を光化学
的に形成する。印刷画像を製造した後、層基材は、印刷
画像区域を支持し、同時に画像の無い区域（非画像区
域）に平版印刷工程のための親水性画像背景を形成す
る。

【０００３】その様な層基材用に適当な基材としてはア
ルミニウム、鋼、銅、黄銅または亜鉛があるが、プラス
チックシートや紙も適当である。印刷板の分野では、ア
ルミニウムおよびその合金が使用されている。原材料の
表面は、公知の方法により機械的、化学的および／また
は電気化学的に粗面化し、必要に応じて陽極酸化する。
しかし、その様な前処理は、層基材にとって下記の要件
を満たすには不十分である。（ｉ）露光後、親水性の非画像区域を形成させるため
に、感光層の比較的可溶性の部分は現像の際に残留物を
残さずに基材から容易に除去されなければならない。感
光層は一般的に強く着色されているので、基材に付着し
ている残留物はカラーヘイズ（color haze）として認識
できる。その結果、印刷板がこれらの点で「汚れる」こ
とになる。（ii）露光および現像の後、好ましくない画像成分を除
去して印刷板をなお修正する必要のあることが多い。こ
の工程で裸にする非画像区域は、現像剤により裸にされ
た非画像区域と、色および明度が同等であるべきであ
る。画像区域と非画像区域の間の明度の差により画像区
域の面積比率を求める測定機器を使用できる様にするた
めには、均一様な明度が必要である。修正により形成さ
れた非画像区域と、通常の現像工程の際に形成された非
画像区域との間の好ましくない明度の差は修正コントラ
スト（correction contrast）と呼ばれる。 (iii) 非画像区域で裸にされた基材は、平版印刷工程の
際に、油性の印刷インクをはじく水を迅速に、且つ永久
的に吸着するために、十分に親水性でなければならな
い。（iv）感光層は、露光の前に基材から剥離してはなら
ず、層の印刷部分は露光後に剥離してはならない。

【０００４】通常、基材は十分に水を吸収しないので、
さらに親水性を付与する。親水性付与剤は、好ましくな
い反応を避け、密着性を損なわない様にするために、特
定の感光層と適合しなければならない。

【０００５】公知の親水性付与方法には（感光層、現像
剤溶液または修正液に関係なく）多かれ少なかれ欠点が
ある。すなわち、良好な現像性および親水性を与えるア
ルカリ金属ケイ酸塩で処理した後、長い貯蔵時間の後で
は感光層が損なわれるのを覚悟しなければならない。基
材を水溶性の重合体で処理する場合、それらの良好な溶
解性（特に水性アルカリ現像剤、例えばポジ型層の現像
に主として使用されている現像剤、における）が親水化
作用を著しく低下させる。スルホン酸基を含む重合体の
場合、遊離の陰イオン系酸官能基がネガ型感光層のジア
ゾ陽イオンと反応し得るために、現像後に、保持された
ジアゾ化合物による著しいカラーヘイズが非画像区域に
現われる。重合体状アクリル酸誘導体は、カラーヘイズ
を防止できる使用形態、すなわち０．１〜１０ g/lの溶
液では、非常に粘性が高く、基材表面から過剰分を除去
するのに著しい手間がかかるので不利である。カラーヘ
イズ形成に特に敏感なのは、レーザーによるインプリン
ト（ＥＰ−Ａ０３６４７３５）に使用され、重合体状
バインダー、少なくとも１種の重合性基および光還元性
染料を含むフリーラジカル重合性化合物、放射線−開裂
性トリハロメチル化合物および光反応開始剤としてメタ
ロセン化合物を含む、高感光性層である。したがって、
層のいかなる成分も非画像区域に残留しない様に、親水
性基材には特に厳しい必要条件が課せられている。

【０００６】ＤＥ−Ｃ１１３４０９３（ＵＳ−Ａ３
２７６８６８に対応）およびＵＳ−Ａ４１５３４６１
からは、基材をホスホン酸、特にポリビニルホスホン酸
またはビニルホスホン酸とアクリル酸および酢酸ビニル
の共重合体で親水性を付与する方法が公知である。ま
た、ホスホン酸の塩が適当であることも記載されてい
る。しかし、これはより詳細には規定されていない。

【０００７】ＥＰ−Ａ００６９３２０（ＵＳ−Ａ４
４２７７６５に対応）には、ポリビニルホスホン酸、ポ
リビニルスルホン酸、ポリビニルメチルホスフィン酸お
よび少なくとも１種の２価金属陽イオンを含有する他の
ポリビニル化合物の塩を使用する、平版印刷板用アルミ
ニウム基材の親水性付与方法が記載さている。

【０００８】ＥＰ−Ａ０１９０６４３では、アクリル
アミドイソブチレンホスホン酸の単独重合体またはアク
リルアミドイソブチレンホスホン酸とアクリルアミドの
共重合体または少なくとも２価の金属陽イオンを含有す
る該単独重合体または共重合体の塩で基材を被覆してい
る。この被覆には、完成した印刷板が非画像点で良好な
親水性を示し、カラーヘイズが少ないという利点があ
る。

【０００９】ＥＰ−Ａ０４９０２３１には、−（ＣＨ
₂−ＣＨ₂−Ｎ（Ｘ）−）_n−型の構造要素を含むポリ
エチレンイミンで、または−（ＣＨ₂−ＣＨ（ＮＹ¹Ｙ
²）−）_n−型の構造要素を含むポリビニルアミンで印
刷板基材を処理する方法が記載されているが、ここで
Ｘ、Ｙ¹およびＹ²は、必要に応じてＣ−置換されたス
ルホメチル基またはホスホノメチル基である。しかし、
この方法でも最適な結果は達成されていない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、（イ）非常に良い親水性付与特性を有し、（ロ）す
べての感光層に対して等しい程度に適しており、長期間
保存した場合に親水性化剤との反応により感光層が損な
われず、（ハ）層の印刷部分に対する密着性が非常に良
い、オフセット印刷板用の基材を製造することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この目的は、アルミニウ
ムまたはその合金からなり、機械的および／または電気
化学的に粗面化され、必要に応じて陽極酸化された基材
に対して、塩基性または酸性の基を含む少なくとも１種
の重合体からなる親水性層が施してあり、この層に、少
なくとも１個のホスホノ基を含む少なくとも１種の化合
物を含む別の親水性層が続いている基材により達成され
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】第一の親水性層の重合体中の塩基
性基は、好ましくは第１級、第２級または第３級アミノ
基であり、酸基は好ましくはカルボキシ、ホスホノまた
はスルホ基である。第２級および第３級アミノ基は同時
に重合体主鎖の構成要素であってもよい。該第一親水性
層に特に好ましいのは、ＥＰ−Ａ０４９０２３１に記
載されている様な、スルホメチル化またはホスホノメチ
ル化されたポリエチレンイミンおよびポリビニルアミン
である。これらの重合体は、さらに他のモノマーの単
位、例えば置換されたアミノアクリル酸エステル、ビニ
ルピロリドンまたはビニルイミダゾールの単位、を含む
ことができる。（メタ）アクリル酸ジアルキルアミノア
ルキルおよび（メタ）アクリル酸の単位を含む重合体も
特に好ましい。これらの重合体の中で、メタクリル酸ジ
メチルアミノメチル、アクリル酸エチルおよびメタクリ
ル酸の単位を含むターポリマーが特に好ましいことが分
かっている。第一層の重合体は、強酸性でも強塩基性で
もない。それらのpHは４〜９、好ましくは４．５〜７．
５、である。

【００１３】他方、別の親水性層に使用され、少なくと
も１個のホスホノ基を含む化合物は、著しく酸性であ
る。水溶液中、これらの化合物はpHが４未満、好ましく
は１〜３、である。好ましくは、これらの化合物も重合
体であり、ＵＳ−Ａ４１５３４６１に記載されている
ポリビニルホスホン酸が特に適している。

【００１４】親水性付与層の順序は、驚くべきことに、
製品の品質に非常に重要である。立証された説明はない
が、仮説を立てることはできる。酸性および塩基性の基
を含む少なくとも１種の重合体からなる層が吸着位置を
形成し、次いでそこに少なくとも１個のホスホノ基を含
む化合物が、この活性化がない場合よりも、大規模に堆
積すると考えられる。この仮説は、様々な表面的に敏感
な方法、例えばエネルギー分散性Ｘ線技術（ＥＤＸ）、
オージェ電子分光法、化学分析用電子分光法（ＥＳＣ
Ａ）および二次イオン質量分光法（ＳＩＭＳ）、によ
り、この層の順序によってのみ、特に大量の活性物質が
基材上に蓄積することが分かるので、信用できそうであ
る。同時に、親水性層は連続性でも非連続性でもよい。

【００１５】最後に、基材の製造法も本発明の一部であ
る。２つの親水性付与層は、適当な溶液を吹き付ける
か、あるいはその様な溶液中に浸漬することにより、塗
布することができる。同時に、該溶液中の親水性付与化
合物の濃度は広範囲に変えることができる。しかし、い
ずれの場合も、濃度０．１〜５０ g/l、好ましくは０．
３〜５ g/l、の溶液が特に有利である。

【００１６】第一親水性層を塗布した後、材料をすす
ぎ、過剰の親水性付与剤を除去する。２つの工程の間に
おける乾燥は、必要ではないが、有害でもない。被覆は
２０〜９５℃の温度で行なうことができるが、３０〜６
５℃の温度が好ましい。被覆すべき材料は、一般的にそ
れぞれ１秒間〜５分間吹き付けるか、あるいは浸漬す
る。処理時間は１秒間未満では不利であるが、５分間を
超えても不利ではない。

【００１７】第二の親水性層は一般的に第一の層と同様
に塗布する。この目的に使用する吹付けおよび浸漬溶液
は、ほぼ同じ濃度を有する。

【００１８】２つの処理工程の後、被覆した基材を１０
０〜１３０℃の温度で乾燥させるのが有利である。

【００１９】塗布した親水性被覆の重量決定は問題を提
起する。少量の物質でも著しい親水性付与効果を示すか
らである。その上、親水性付与剤は基材表面に比較的強
く密着する。しかし、塗布量はいずれの場合も０．５ m
g/dm²未満、特に０．２５ mg/dm²未満、である。最少
量は約０．０２ mg/dm²である。この量の規格は、２つ
の工程のそれぞれに個別に適用される。

【００２０】変性されたポリエチレンイミンおよび変性
されたポリビニルアミン、およびそれらの製造法はＥＰ
−Ａ０４９０２３１に記載されている。これらの物質
は一般的にポリエチレンイミンおよびポリビニルアミン
から、ホスホノメチル化および／またはスルホメチル化
により製造される。

【００２１】次いで、本発明の基材は様々な感光性混合
物で被覆することができる。基本的に、像様露光、それ
に続く現像および／または固定の後、ポジ型またはネガ
型画像を形成するすべての混合物が適当である。印刷板
として適当な材料は、非画像区域でその優れた親水性を
維持し、最早カラーヘイズを事実上示さない。

【００２２】したがって、本発明は、アルミニウムまた
はその合金からなる基材および放射線感応性層を有し、
基材が上記の様に親水性付与されている記録材料にも関
連する。

【００２３】

【実施例】下記の諸例は、本発明を説明するためであっ
て、制限するものではない。これらの例で、下記の様な
粗面化され、陽極酸化された印刷板を使用する。

【００２４】種類１０．３mm厚の光輝圧延アルミニウム（ＤＩＮ材料番号
３．０２５５）を２％濃度のＮａＯＨ洗浄水溶液で温度
５０〜７０℃で脱脂した。次いで表面をＨＮＯ₃含有電
解液中、交流で電気化学的に粗面化した。表面粗さのＲ
_z値は６μｍであった。続いて、硫酸を含む電解液中で
陽極酸化を行なった。酸化物層の重量は約３．０ g/m²
であった。

【００２５】種類２０．３mm厚の光輝圧延アルミニウム（ＤＩＮ材料番号
３．０５１５）を２％濃度のＮａＯＨ洗浄水溶液で温度
５０〜７０℃で脱脂した。表面を塩酸含有電解液中、交
流で電気化学的に粗面化した。表面粗さのＲ_z値は６μ
ｍであった。続いて、硫酸を含む電解液中で陽極酸化を
行なった。酸化物層の重量は約２．０ g/m²であった。

【００２６】種類３０．２mm厚の光輝圧延アルミニウム（ＤＩＮ材料番号
３．０２５５）を２％濃度のＮａＯＨ洗浄水溶液で温度
５０〜７０℃で脱脂し、次いで粒状の切削剤（例えば石
英粉末または酸化アルミニウム）で機械的に粗面化し
た。表面粗さのＲ_z値は４μｍであった。続いて、リン
酸を含む電解液中で陽極酸化を行なった。酸化物層の重
量は約０．９ g/m²であった。

【００２７】種類４この基材は種類２の基材に対応するが、唯一の違いは酸
化物層の重量１．５ g/m²まで陽極酸化したことであ
る。

【００２８】下記の諸例は、本発明の基材の優位性を示
す。表１に示す親水性付与作業Ａ^*〜Ｄ^*は比較実験で
あり、本発明の基材はＥにより親水性を付与した。表１親水性付与作業Ａ^* なしＢ^* ポリビニルホスホン酸で（７５℃で２ g/l、pH２）Ｃ^* Ｎ−ホスホノメチルポリエチレンイミンで（７５℃で２ g/l、pH２）Ｄ^* 最初にＢ）、次いでＣ）Ｅ最初にＣ）、次いでＢ）

【００２９】例１種類２の基材を表１により親水性付与し、下記の組成を
有するポジ型ジアゾ層を施した。５．００重量％の、ＤＩＮ５３７８３／５３２４０に
よるヒドロキシル価４２０およびＧＰＣによる重量平均
分子量６，０００（ポリスチレン標準）を有する、クレ
ゾール−キシレノール−ホルムアルデヒド系ノボラック
樹脂、１．２０重量％の、塩化（１，２−ナフトキノン
２−ジアジド）−５−スルホニル１．５モルおよび
２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルから
得られたエステル、０．１５重量％の、塩化（１，２−
ナフトキノン２−ジアジド）−４−スルホニル、０．
０５重量％のビクトリアピュアブルー（Ｃ．Ｉ．４４
０４５）、および合計で１００％になる量の、メチルエ
チルケトンおよびプロピレングリコールモノメチルエー
テル（４０／６０）からなる溶剤混合物。

【００３０】被覆した基材を１２５℃で１分間乾燥させ
た。被膜重量は２．４ g/m²であった。次いでつや消し
溶液（ビニルスルホン酸、アクリル酸エチルおよびスチ
レンのターポリマーの２０％濃度水溶液）を放射線感応
性層上に、隆起の平均高さが４μｍになる様に、静電気
的に吹き付けた。

【００３１】この板を真空接触複写フレーム中で排気に
より試験原画と接触させ、５kWのハロゲン化金属ドーピ
ングされた水銀蒸気ランプを使用し、１１０cmの距離
で、現像後にUGRAオフセットテストウェッジでオープン
ステップ４が得られる様に露光した（これは被膜の縁部
除去目的の高度露光に相当する）。

【００３２】現像は、現像装置(Hoechst AG VA86) 中、
２０℃で、ケイ酸カリウム現像剤（総アルカリ金属含有
量０．５ mol/l、Ｋ₂Ｏ：ＳｉＯ₂比＝１：１．２、以
後、「現像剤種類１」と呼ぶ）を使用し、処理速度１．
４ｍ／分で行なった。

【００３３】この現像剤で、現像剤１リットルあたり４
ｍ₂の記録材料（画像成分２５％）を処理した後、残留
層ヘイズの発生を検査した。結果を表２に示す。

【００３４】例２種類１の基材を表１により親水性付与し、下記の組成を
有する反転ポジ型層を施した。４．８０重量％の、ＤＩＮ５３７８３／５３２４０に
よるヒドロキシル価４２０およびＧＰＣによる重量平均
分子量６，０００（ポリスチレン標準）を有する、クレ
ゾール−キシレノール−ホルムアルデヒド系ノボラック
樹脂、１．０５重量％の、塩化（１，２−ナフトキノン
２−ジアジド）−４−スルホニル３．４モルおよび
２，３，４，２´，３´，４´−ヘキサヒドロキシ−
５，５−ジベンゾイルジフェニルメタン１モルから得ら
れたエステル、０．０５重量％の、２−（４−スチリル
フェニル−４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリア
ジン、０．１０重量％の、クリスタルバイオレット
（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、１．００重量％の、平均粒
子径３．９μｍのシリカ充填材、０．１０重量％の、ジ
メチルシロキサン単位およびエチレンオキシド単位から
なる界面活性剤、および合計で１００％になる量の、テ
トラヒドロフランおよびプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル（５５／４５）からなる溶剤混合物。

【００３５】被覆した基材を１２５℃で１分間乾燥させ
た。被膜重量は１．８ g/m²であった。次いで、さらに
次の様に処理した。１．例１と同様に複写フレーム中、試験原画を通して６
０秒間露光、２．連続炉中、１３５℃で６０秒間アニーリング、３．循環空気で１０秒間冷却、４．連続装置中、放射線出力２４０ワットのＵＶ−Ａ蛍
光ランプを使用し、原画なしに３０秒間焼付け、５．例１と同じ装置中、処理速度１．２ｍ／分で現像。

【００３６】現像は、ＤＥ−Ａ４０２７２９９によ
る、総アルカリ金属含有量が０．８ mol/l（Ｎａ₂Ｏ：
ＳｉＯ₂比＝１：１）で、Ｏ，Ｏ´−ビスカルボキシメ
チルポリエチレングリコール−１０００含有量が０．６
重量％であるケイ酸ナトリウム現像剤（以後、「現像剤
種類２」と呼ぶ）で行なった。

【００３７】この現像剤で、現像剤１リットルあたり４
ｍ²の記録材料（画像成分２５％）を処理した後、残留
層ヘイズの発生を検査した。結果は表２に示す通りであ
る。

【００３８】例３種類４の基材に表１に記載された４種類の異なった後処
理を行ない、下記の組成を有するネガ型層を施した。２．５重量％の、平均分子量Ｍ_wが２４，０００（Ｇ
ＰＣ）であるメタクリル酸／メタクリル酸メチル／モノ
メタクリル酸グリセリン（２０／３０／５０）の共重合
体、０．５重量％の、スルホン酸メシチレンとして沈
殿する、硫酸４−アニリノ−２−メトキシベンゼン−ジ
アゾニウム１モルおよび４，４´−ビスメトキシメチル
ジフェニルエーテル１モルの重縮合生成物、０．０９重
量％の、ビクトリアピュアブルーＦＧＡ（ベーシックブ
ルー８１）、０．０７重量％の、ベンゼンホスホン酸、
０．１重量％の、平均粒子径３μｍのシリカ充填材、お
よび合計で１００％になる量の、テトラヒドロフランお
よびエチレングリコールモノメチルエーテル（４０／６
０）からなる溶剤混合物。

【００３９】被覆した基材を乾燥通路中、１２０℃で乾
燥させた。乾燥層の重量は１．４ g/m²であった。再現
層を、ネガ型原画の下、５kWのハロゲン化金属ランプを
使用して３５秒間露光し、摩擦素子を有する現像機械
中、２３℃で、下記の溶液を使用し、１．４ｍ／分で現
像した。５重量％のラウリル硫酸ナトリウム、２重量％
のフェノキシエタノール、１重量％のメタケイ酸ナトリ
ウム五水和物および９２重量％の水。

【００４０】この現像剤で、１リットルあたり４ｍ²処
理した後、残留層ヘイズの発生を検査した。

【００４１】ここでも、本発明の基材の親水性付与Ｅが
より有利であることが立証された。

【００４２】例４種類３の基材を表１に従って親水性付与処理し、下記の
溶液３．１重量％の２，５−ビス（４−ジエチルアミノフ
ェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、３．１重
量％の、スチレンと無水マレイン酸の共重合体（軟化点
２１０℃）、０．０２重量％の^(R)Rhodamin FB （Ｃ．
Ｉ．４５１７０）、および合計で１００％になる量の
エチレングリコールモノメチルエーテルを塗布し、連続
乾燥加熱炉中、１２０℃で乾燥させた。この層を暗所で
コロナを使用して、マイナスに４５０Ｖに帯電させた。
帯電させた板を再現カメラ（reproduction camera ）中
で像様露光し、次いで硫酸マグネシウム０．６重量％、
および９８重量％の、沸騰範囲１８５〜２１０℃のイソ
パラフィン混合物中１．４重量％のペンタエリスリトー
ル樹脂溶液からなる電子写真分散現像剤を使用して現像
した。過剰の現像液を除去した後、トナーを固定し、１
０重量％のエタノールアミン、１０重量％のプロピレン
グリコールモノフェニルエーテル、２重量％のＫ₂ＨＰ
Ｏ₄、および合計１００％になる量の水からなる溶液
中、２４℃、処理速度１．４ｍ／分で板を剥離した。次
いで板を強力な水噴射ですすぎ、剥離剤の残留物を除去
した。この剥離剤で、剥離剤１リットルあたり１０ｍ²
の、画像成分２５％の記録材料を処理した後、残留層ヘ
イズの発生を検査した。

【００４３】例５種類１の基材を表１により親水性付与処理し、下記の溶
液１０．７重量％の、例３に記載のターポリマー溶液、
５．３重量％の、ジメタクリル酸トリエチレングリコー
ル、０．１５重量％の、Orasol blue （Ｃ．Ｉ．５０
３１５）、０．１５重量％の、エオシン、アルコール可
溶（Ｃ．Ｉ．４６３８６）、０．１１重量％の、２，
４−ビストリクロロメチル−６−（４−スチリルフェニ
ル）−ｓ−トリアジン、４２重量％の、ブタノンお
よび合計で１００％になる量の酢酸ブチルを、それぞれ
の場合に２．５ g/m²の被覆重量が得られる様にスピン
コーティングにより塗布した。

【００４４】乾燥後、これらの板をポリビニルアルコー
ル層で被覆し、露光し、現像した。

【００４５】例１〜５の記録材料を濃度計（瞬間光濃度
計、マゼンタまたはシアンフィルター）により下記の様
に評価した。＋残留層ヘイズなし、濃度計測定値＜０．０１０僅かな残留層ヘイズ、濃度計測定値０．０１〜０．
０２ − 残留層ヘイズあり、濃度計測定値＞０．０２

【００４６】表２親水性付与例の評価１２３４５Ａ^* − − − − − Ｂ^* ０００００Ｃ^* ０００００Ｄ^* ０００００Ｅ^* ＋＋＋＋＋

【００４７】例および比較例例６〜３４（表６／７）は、表１、Ａ〜Ｄにより親水性
を付与した比較例Ｖ１〜Ｖ５２の基材に対する、本発明
の基材の優位性を示す。表に示す条件により製造された
記録材料は、次の様にして検査した。

【００４８】１．カラーヘイズの測定被覆していない基材、および被覆、露光および現像した
後の非画像区域の両方で、非画像区域の反射を可視光領
域で測定した。この目的には、Datacolor から入手した
２チャネル同時分光計MCS512を使用した。測定結果を使
用し、基材表面の明度Ｌ^*をＣＩＥ(Commission Intern
ational de l'Eclairage、出版物番号１５）により計算
した。これらの計算の詳細はＤＩＮ標準６１７４（１９
７９）および５０３３（１９７０）に記載されている。
この場合、光源Ｄ６５を使用し、計算では、ＣＩＥの推
奨とは異なり、２°観測器を採用した。被覆していない
基材のこの明度を、下記の表の第６欄に規定する。実際
には、これらの計算から自動的に色調パラメータａ^*お
よびｂ^*も得られるが、これらのパラメータは、ここで
関連する印刷板基材に対する試験における明度パラメー
タＬ^*の値と平行に推移するので、考慮に入れない。こ
れらの計算の後、被覆前の明度および被覆、露光および
現像後の非画像区域の明度の差を計算した。感光性層は
実際には（明るい灰色の基材表面と比較して）黒く着色
されているので、好ましくない層残留物は、非画像区域
における暗色のヘイズとして知覚できる。被覆、露光お
よび現像後の非画像区域の明度は、被覆前の明度より低
いであろう。この差により正のｄＬ^*が生じるが、この
値が大きい程、好ましくないカラーヘイズがより顕著に
なる。この値を表３の第７欄に示す。

【００４９】カラーヘイズは、観測者の実際的な経験お
よび目の応答に応じて、測定値が約０．８より上で目に
見える様になる。いずれの場合も、カラーヘイズは印刷
板の外見的な欠陥であり、その理由だけから顧客の苦情
につながることがある。カラーヘイズが非常に強くなる
と、それは非画像区域に非常に大量の層残留物がある徴
候であり、場合によっては、特に湿潤剤がほとんど配量
されない場合、印刷不良（汚れ）を同時に引き起こすこ
とがある。この場合、カラーヘイズの正確な値は規定で
きない。

【００５０】２．修正コントラストの測定印刷板の非画像区域を市販の修正液で処理した。次いで
修正した区域で１回、および未修正区域で１回、明度を
測定した。ここでも、差ｄＬ^*が生じた。この差が０か
ら大幅に異なっている場合、修正液は表面から層残留物
を剥離できるか、あるいは非画像区域自体の表面を攻撃
し、損傷させている。

【００５１】３．親水性の測定印刷板の非画像区域を、ゴム製のハンドローラーを使用
して印刷インクで被覆し、水中に入れて、水が非画像区
域区域からインクを剥離するのに必要な時間を測定し
た。十分な親水性を有する基材の場合、この時間は３０
秒間を超えてはならない。

【００５２】比較例Ｖ１〜Ｖ５２種類１および２の基材を陽極酸化し、ポリビニルホスホ
ン酸の水溶液を含む浸漬浴中で５秒間処理した。その条
件は表３に示す通りである。ポリビニルホスホン酸で処
理した後、板を例１に記載の溶液で被覆し、露光し、上
記の現像装置VA86中、種類１または２の現像剤で現像し
た。

【００５３】表３番号基材現像剤温度濃度明度カラー修正コン親水性ヘイズトラスト種類種類 ℃ g/l Ｌ^* dL^*1 dL^*2 ｓ V1 1 1 40 2.0 77.83 1.13 1.49 V2 1 1 50 2.0 77.87 0.70 1.43 V3 1 1 60 2.0 77.28 0.16 1.08 V4 1 1 40 5.0 77.95 2.15 2.01 V5 1 1 50 5.0 77.87 1.36 1.49 V6 1 1 60 5.0 77.87 1.04 1.54 V7 1 2 40 5.0 77.84 2.14 1.94 15 V8 1 2 50 5.0 78.00 1.96 2.01 15 V9 1 2 60 5.0 77.49 0.81 1.51 5 V10 2 1 40 5.0 79.10 3.46 2.81 15 V11 2 1 50 5.0 79.02 2.21 1.91 15V12 2 1 60 5.0 78.94 2.30 2.22 5

【００５４】表３は、本発明にしたがって製造しなかっ
た印刷板は非画像区域で十分に良好な親水性を有してい
る（測定した限りでは）が、これらの板は、著しいカラ
ーヘイズを有するか、あるいは修正液による攻撃を受
け、非画像区域で変色を起こすか、あるいは両方の現象
が起きている。２種類の異なった基材を使用し、２種類
の異なった現像剤を使用したが、表に示す組合せのどれ
も、すべての特性において良好な結果を示すことはでき
ない。

【００５５】表４の記録材料は、種類２の基材で製造
し、ＥＰ−Ａ０４９０２３１によりホスホノメチル化
ポリイミンで処理した。該重合体は分子量が約８０，０
００である。

【００５６】表４番号温度濃度明度カラー修正コン親水性ヘイズトラスト ℃ g/l Ｌ^* dL^*1 dL^*2 ｓ V13 22 2.0 78.93 2.08 1.75 5 V14 30 2.0 78.94 0.96 1.28 15 V15 40 2.0 78.95 0.86 1.13 5 V16 50 2.0 79.02 0.53 0.80 5 V17 60 2.0 79.00 0.41 0.76 5 V18 22 1.0 78.97 2.31 1.88 5 V19 30 1.0 79.01 0.67 0.96 5 V20 40 1.0 78.44 0.57 1.08 5 V21 50 1.0 79.00 0.51 0.62 15 V22 60 1.0 78.96 0.25 0.57 15 V23 22 0.5 79.05 2.06 0.98 5 V24 30 0.5 79.02 1.20 0.95 5 V25 40 0.5 79.00 1.09 0.36 5 V26 50 0.5 78.96 0.12 0.46 5 V27 60 0.5 78.93 0.12 1.40 5 V28 22 0.2 78.98 2.67 1.89 5 V29 30 0.2 79.05 2.53 1.74 5 V30 40 0.2 78.97 2.88 1.83 15 V31 50 0.2 79.01 2.53 1.66 5V32 60 0.2 78.92 2.58 1.35 5

【００５７】これらの、いずれも非画像区域で良好な親
水性を示す印刷板の場合、カラーヘイズおよび／または
修正コントラストに関して測定した値は不十分である。
Ｖ２６は良好な値を示しているが、他の試料のパターン
に適合せず、したがって例外と評価しなければならな
い。この種の基材処理は、統計的に管理された様式で実
行することはできず、信頼性を必要とする製造工程には
適していない。

【００５８】同じことが表５の比較例にも当てはまる。
ここでは、種類２の基材は、最初にポリビニルホスホン
酸の水溶液で処理し、すすぎ工程の後、上記のホスホノ
メチル化ポリアミンの溶液で順次処理している。両浴に
おける浸漬時間は５秒間であった。表に示す濃度１はポ
リビニルホスホン酸の濃度であり、濃度２はホスホノメ
チル化ポリイミンの濃度である。

【００５９】ここでも、カラーヘイズの値および修正コ
ントラストの値は一般的に高過ぎる。ここで良好な結果
も幾つかあり（Ｖ３４、Ｖ３６およびＶ３８）、高温に
おける幾つかの組み合わせで改良の傾向も見られるが、
これは常に信頼できる訳ではない。したがって、この種
の基材処理は信頼性のある製造工程を実施するには不適
当である。

【００６０】表５番号温度濃度１濃度２明度カラー修正コン親水性ヘイズトラスト ℃ g/l g/l Ｌ^* dL^*1 dL^*2 ｓ V33 40 2.2 2.0 78.94 0.62 0.98 15 V34 60 2.2 2.0 78.98 -0.08 1.46 5 V35 40 2.2 1.0 79.20 0.83 1.00 5 V36 60 2.2 1.0 79.07 -0.03 1.45 5 V37 40 2.2 0.5 79.10 1.28 1.44 5 V38 60 2.2 0.5 79.09 0.01 0.52 5 V39 40 2.2 0.2 79.19 2.15 2.15 5 V40 60 2.2 0.2 78.97 0.66 1.17 5 V41 40 2.2 0.1 79.17 2.19 2.19 5 V42 60 2.2 0.1 78.63 1.56 1.84 5 V43 40 1.0 10.0 78.83 0.25 1.14 15 V44 60 1.0 10.0 78.93 0.23 0.93 15 V45 40 0.5 5.0 78.98 3.07 2.59 5 V46 60 0.5 5.0 78.97 2.41 2.67 5 V47 40 0.2 0.5 79.08 2.00 1.28 5 V48 60 0.2 0.5 79.02 1.36 0.53 5 V49 40 0.1 0.2 78.99 1.94 1.19 5 V50 60 0.1 0.2 79.07 2.65 1.53 15 V51 40 0.1 0.1 79.16 3.17 2.91 5V52 60 0.1 0.1 79.11 3.03 2.47 5

【００６１】例６〜３４表６における種類２の基材および表７における種類４の
基材を最初にホスホノメチル化ポリイミンの水溶液に浸
漬し、次いですすぎ工程の後、ポリビニルホスホン酸の
水溶液に５秒間浸漬した。数分間までの浸漬時間の影響
は同じである。しかし、浴毎に１秒間の最短浸漬時間は
維持しなければならない。

【００６２】表６番号温度濃度１濃度２明度カラー修正コン親水性ヘイズトラスト ℃ g/l g/l Ｌ^* dL^*1 dL^*2 ｓ 6 40 3.94 4.00 77.85 -0.35 0.05 15 7 50 3.94 4.00 77.51 -0.74 0.00 5 8 60 3.94 4.00 77.53 -0.61 0.07 5 9 40 2.63 2.00 77.54 -0.13 0.33 5 10 50 2.63 2.00 77.62 -0.44 0.23 5 11 60 2.63 2.00 77.56 -0.66 0.00 5 12 40 1.32 1.00 77.65 -0.02 0.47 5 13 50 1.32 1.00 77.72 0.09 0.41 5 14 60 1.32 1.00 77.62 -0.48 0.11 5 15 40 0.53 0.25 77.87 0.26 0.56 5 16 50 0.53 0.25 77.88 -0.04 0.27 5 17 60 0.53 0.25 77.85 -0.12 0.21 5 18 40 0.20 4.00 77.62 0.10 0.69 15 19 50 0.20 4.00 77.83 0.33 0.82 1520 60 0.20 4.00 77.85 -0.09 0.60 15

【００６３】表７番号温度濃度１濃度２明度カラー修正コン親水性ヘイズトラスト ℃ g/l g/l Ｌ^* dL^*1 dL^*2 ｓ 21 40 0.50 4.00 79.05 0.99 0.71 5 22 50 0.50 4.00 79.10 0.60 0.31 5 23 60 0.50 4.00 79.04 0.40 0.30 5 24 40 0.50 2.00 79.11 0.55 0.34 5 25 50 0.50 2.00 79.09 0.38 0.14 5 26 60 0.50 2.00 79.15 0.31 0.08 5 27 40 1.00 2.20 79.28 0.22 0.55 5 28 50 1.00 2.20 79.31 0.29 0.53 5 29 60 1.00 2.20 79.29 0.25 0.50 5 30 40 0.50 2.20 79.40 0.45 0.44 5 31 50 0.50 2.20 79.41 0.33 0.34 5 32 60 0.50 2.20 79.39 0.18 0.40 5 33 50 0.20 2.20 79.32 0.72 0.74 534 60 0.20 2.20 79.36 0.81 0.72 5

【００６４】カラーヘイズおよび修正コントラストに対
して良好な値がすべての場合に達成されていることが分
かる。負の値は、現像工程の際に、感光層が除去された
だけではなく、基材の表面も洗浄されたことを意味して
いるが、これは好ましいことであると考えられる。親水
性も他の場合と同じ位良好である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミニウムまたはその合金からなり、機
械的および／または電気化学的に粗面化され、必要に応
じて陽極酸化された基材に対して、塩基性および酸性の
基を含む少なくとも１種の重合体からなる親水性層が施
してあり、前記層に、少なくとも１個のホスホノ基を含
む少なくとも１種の化合物を含有する別の親水性層が続
いていることを特徴とする、親水性を付与した基材。
【請求項２】塩基性および酸性の基を含む重合体中の塩
基性基が、第１級、第２級または第３級アミノ基であ
り、酸性基がカルボキシ、ホスホノまたはスルホ基であ
る、請求項１に記載の基材。
【請求項３】塩基性および酸性の基を含む重合体のpHが
４〜９、好ましくは４．５〜７．５、である、請求項１
または２に記載の基材。
【請求項４】少なくとも１個のホスホノ基を含み、別の
親水性層に含まれる化合物が重合体、好ましくはポリビ
ニルホスホン酸、である、請求項１〜３のいずれか１項
に記載の基材。
【請求項５】請求項１〜４のいずれか１項に記載の基材
の製造法であって、アルミニウムまたはその合金からな
り、粗面化され、必要に応じて陽極酸化された基材に、
最初に、塩基性および酸性の基を含む少なくとも１種の
重合体からなる親水性の層を施し、次いで、少なくとも
１個のホスホノ基を含む化合物を含む別の親水性層を施
すことを特徴とする方法。
【請求項６】親水性層が、それぞれ水溶液の吹き付けま
たは水溶液中への浸漬により塗布される、請求項５に記
載の方法。
【請求項７】親水性付与化合物の水溶液の濃度がそれぞ
れ０．１〜５０ g/l、好ましくは０．３〜５ g/l、であ
る、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】親水性層が温度２０〜９５℃、好ましくは
３０〜６５℃、で施される、請求項５〜７のいずれか１
項に記載の方法。
【請求項９】親水性層を塗布した後、基材が温度１００
〜１３０℃で乾燥される、請求項５〜８のいずれか１項
に記載の方法。
【請求項１０】アルミニウムまたはその合金からなる基
材および放射線感応性層を有する記録材料であって、基
材が請求項１〜６のいずれか１項に記載される様に親水
性付与されていることを特徴とする記録材料。