JPH0859571A - ニトロ置換アリールアミンの製造方法 - Google Patents
ニトロ置換アリールアミンの製造方法Info
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- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 title description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims abstract description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims abstract 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 3
- 125000004769 (C1-C4) alkylsulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 15
- 239000002585 base Substances 0.000 abstract description 13
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- -1 urea compound Chemical class 0.000 abstract description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 4
- MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N N,N'-dimethylurea Chemical compound CNC(=O)NC MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 abstract description 3
- ZWAVGZYKJNOTPX-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylurea Chemical compound CCNC(=O)NCC ZWAVGZYKJNOTPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 abstract 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- GWEHVDNNLFDJLR-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylurea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)NC1=CC=CC=C1 GWEHVDNNLFDJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WHNAMGUAXHGCHH-UHFFFAOYSA-N 1-nitro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 WHNAMGUAXHGCHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical class [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 1-Phenylurea Chemical compound NC(=O)NC1=CC=CC=C1 LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N N,N'-dibutylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)NCCCC KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N N-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 2
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 2
- IPVGIICIFPBLLU-UHFFFAOYSA-N n-methyl-4-nitro-2-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound CNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1C(F)(F)F IPVGIICIFPBLLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 2
- ULNVBRUIKLYGDF-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(4-methylphenyl)thiourea Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1NC(=S)NC1=CC=C(C)C=C1 ULNVBRUIKLYGDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KREOCUNMMFZOOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-di(propan-2-yl)thiourea Chemical compound CC(C)NC(S)=NC(C)C KREOCUNMMFZOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNABGKOKSBUFHW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1 RNABGKOKSBUFHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMAQZIILEGKYQZ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 KMAQZIILEGKYQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMASLRCNNKMRFP-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-3-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(F)=C1 WMASLRCNNKMRFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBWJNDOQIAARBT-UHFFFAOYSA-N 1-nitro-3-(trifluoromethoxy)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(OC(F)(F)F)=C1 QBWJNDOQIAARBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJKGJBPXVHTNJL-UHFFFAOYSA-N 1-nitronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC=CC2=C1 RJKGJBPXVHTNJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWBDKCMOLSUXRH-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzonitrile Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C#N SWBDKCMOLSUXRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUBFWTUFPGFHOJ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrofuran Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CO1 FUBFWTUFPGFHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJYJZEAJZXVAMF-UHFFFAOYSA-N 2-nitronaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC([N+](=O)[O-])=CC=C21 ZJYJZEAJZXVAMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005243 2-nitropyrroles Chemical class 0.000 description 1
- JIZRGGUCOQKGQD-UHFFFAOYSA-N 2-nitrothiophene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CS1 JIZRGGUCOQKGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- RUSAWEHOGCWOPG-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzonitrile Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(C#N)=C1 RUSAWEHOGCWOPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005244 3-nitropyrroles Chemical class 0.000 description 1
- SIPCFXFCVTUAID-UHFFFAOYSA-N 3-nitrothiophene Chemical compound [O-][N+](=O)C=1C=CSC=1 SIPCFXFCVTUAID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYHIOPPLUPUJF-UHFFFAOYSA-N 3-nitrotoluene Chemical compound CC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 QZYHIOPPLUPUJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQCSLYENQIUMJ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorocarbanilide Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1NC(=O)NC1=CC=C(Cl)C=C1 ZNQCSLYENQIUMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABOSMHRLVUWEMT-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-3-nitropyridine Chemical compound CCOC1=CC=NC=C1[N+]([O-])=O ABOSMHRLVUWEMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXYMSQQCBUKFHE-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-n-phenylaniline Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1NC1=CC=CC=C1 XXYMSQQCBUKFHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEXIEMAAKBNTFK-UHFFFAOYSA-N 4-nitropyridine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=NC=C1 FEXIEMAAKBNTFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDDZXHOCOKCNBM-UHFFFAOYSA-N 5-nitroquinoline Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC=CC2=N1 NDDZXHOCOKCNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMHPLBXIVNQFBA-UHFFFAOYSA-N 6-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC([N+](=O)[O-])=CC=C21 SMHPLBXIVNQFBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQHHSGRZCKGLCY-UHFFFAOYSA-N 8-nitroquinoline Chemical compound C1=CN=C2C([N+](=O)[O-])=CC=CC2=C1 OQHHSGRZCKGLCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical group OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGEGHDBEHXKFPX-UHFFFAOYSA-N N-methylthiourea Natural products CNC(N)=O XGEGHDBEHXKFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001413 acetanilide Drugs 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000004774 dichlorofluoromethyl group Chemical group FC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XGEGHDBEHXKFPX-NJFSPNSNSA-N methylurea Chemical compound [14CH3]NC(N)=O XGEGHDBEHXKFPX-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- KYXWBRCNCMNMLA-UHFFFAOYSA-N n-butyl-4-nitro-2-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound CCCCNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1C(F)(F)F KYXWBRCNCMNMLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- DDQLYHOTCOJKRQ-UHFFFAOYSA-N oxido-sulfanylidene-[3-(trifluoromethyl)phenyl]azanium Chemical compound [O-][N+](=S)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 DDQLYHOTCOJKRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- OIJHFHYPXWSVPF-UHFFFAOYSA-N para-Nitrosodiphenylamine Chemical compound C1=CC(N=O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 OIJHFHYPXWSVPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- SNOOUWRIMMFWNE-UHFFFAOYSA-M sodium;6-[(3,4,5-trimethoxybenzoyl)amino]hexanoate Chemical compound [Na+].COC1=CC(C(=O)NCCCCCC([O-])=O)=CC(OC)=C1OC SNOOUWRIMMFWNE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/02—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by substitution of hydrogen atoms by amino groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/62—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by cleaving carbon-to-nitrogen, sulfur-to-nitrogen, or phosphorus-to-nitrogen bonds, e.g. hydrolysis of amides, N-dealkylation of amines or quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/43—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
- C07C211/44—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton having amino groups bound to only one six-membered aromatic ring
- C07C211/52—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton having amino groups bound to only one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Pyrrole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 効率のよいニトロ置換アリールアミンの製造
方法の提供。 【解決手段】 塩基と酸素の存在下で尿素を用いニトロ
置換芳香族化合物の直接的アミノ化による対応するアミ
ンの製造方法。
方法の提供。 【解決手段】 塩基と酸素の存在下で尿素を用いニトロ
置換芳香族化合物の直接的アミノ化による対応するアミ
ンの製造方法。
Description
【0001】本発明は塩基の存在下での、ニトロ芳香族
化合物、尿素及び酸素からのニトロ置換アリールアミン
の製造方法に関する。
化合物、尿素及び酸素からのニトロ置換アリールアミン
の製造方法に関する。
【0002】芳香族アミンは染料、作物保護剤、医薬品
及び写真工業の生産のための重要な中間体である。
及び写真工業の生産のための重要な中間体である。
【0003】芳香族アミン製造のための工業的に重要な
方法は、容易に入手できるニトロ芳香族化合物のニトロ
基の還元、又はハロゲン化芳香族化合物のアンモニアも
しくはアミンとの反応である。これらの方法は工業的に
大規模に使用されているが、反応段階が多いために、し
ばしば不満足な収率をもたらす。DMSO中で塩基の存
在下で、アセトアニリドを用いてニトロベンゼンを直接
的にアミノ化するとp−ニトロソジフェニルアミンが主
生成物として生成されることも又既知である(Tetrah.L
ett.1990,22,3217-3220)。更に、塩基及びプロトン含
有物質の存在下で、ニトロベンゼンを脂肪族アミンと反
応させることによる、N−脂肪族置換のp−フェニレン
ジアミンの製造方法が記載されている(米国特許第5,25
2,737号明細書)。更に、p−ニトロ芳香族アミドの製造
方法が知られており、そこでは、水酸化テトラアルキル
アンモニウムのような、特定の塩基の存在下での、プロ
トン含有物質の存在下におけるニトロベンゼンのアミド
との反応について記載されている(国際公開第93/24447
号パンフレット)。これらの方法は特別の条件又は塩基
を必要としそして/又は必ずしも満足とは言えない収率
をもたらす。
方法は、容易に入手できるニトロ芳香族化合物のニトロ
基の還元、又はハロゲン化芳香族化合物のアンモニアも
しくはアミンとの反応である。これらの方法は工業的に
大規模に使用されているが、反応段階が多いために、し
ばしば不満足な収率をもたらす。DMSO中で塩基の存
在下で、アセトアニリドを用いてニトロベンゼンを直接
的にアミノ化するとp−ニトロソジフェニルアミンが主
生成物として生成されることも又既知である(Tetrah.L
ett.1990,22,3217-3220)。更に、塩基及びプロトン含
有物質の存在下で、ニトロベンゼンを脂肪族アミンと反
応させることによる、N−脂肪族置換のp−フェニレン
ジアミンの製造方法が記載されている(米国特許第5,25
2,737号明細書)。更に、p−ニトロ芳香族アミドの製造
方法が知られており、そこでは、水酸化テトラアルキル
アンモニウムのような、特定の塩基の存在下での、プロ
トン含有物質の存在下におけるニトロベンゼンのアミド
との反応について記載されている(国際公開第93/24447
号パンフレット)。これらの方法は特別の条件又は塩基
を必要としそして/又は必ずしも満足とは言えない収率
をもたらす。
【0004】驚嘆すべきことには、今日、簡単な塩基と
酸素の存在下で尿素を用いる、ニトロ置換芳香族化合物
の直接的アミノ化のための一般的に使用可能な方法が見
いだされた。この反応は対応するアミンを良好な収率で
もたらす。
酸素の存在下で尿素を用いる、ニトロ置換芳香族化合物
の直接的アミノ化のための一般的に使用可能な方法が見
いだされた。この反応は対応するアミンを良好な収率で
もたらす。
【0005】本発明は式
【0006】
【化4】
【0007】式中、ArはN、O及びSからなる群から
選ばれる1個から2個のヘテロ原子を包含することもで
きる、4個から16個のC原子をもつ単環状もしくは多
環状の、好適には単環状もしくは二環状の芳香族基を表
し、Rは水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニ
ル、C3−C7シクロアルキル及びC6−C14アリールを
表し、この場合これらの置換基はハロゲン、C1−C4ア
ルキル、アミノ及び/又はC1−C4アルコキシにより1
個から3個まで置換されてもよく、Xはハロゲン、シア
ノ、C1−C4アルキル、ハロゲン化C1−C4アルキル、
C1−C4アルコキシ、ハロゲン化C1−C4アルコキシ、
C1−C4アルキルメルカプト、ハロゲン化C1−C4アル
キルメルカプト、C1−C4アルキルスルホニル又はニト
ロを表し、nはゼロ、1、2又は3を、好適にはゼロ、
1又は2を表し、但し、nが1より大きい場合には置換
基Xは異なるものでもよいの芳香族アミンの製造方法で
あって、極性の溶媒中で酸素とともに塩基の存在下で、
式
選ばれる1個から2個のヘテロ原子を包含することもで
きる、4個から16個のC原子をもつ単環状もしくは多
環状の、好適には単環状もしくは二環状の芳香族基を表
し、Rは水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニ
ル、C3−C7シクロアルキル及びC6−C14アリールを
表し、この場合これらの置換基はハロゲン、C1−C4ア
ルキル、アミノ及び/又はC1−C4アルコキシにより1
個から3個まで置換されてもよく、Xはハロゲン、シア
ノ、C1−C4アルキル、ハロゲン化C1−C4アルキル、
C1−C4アルコキシ、ハロゲン化C1−C4アルコキシ、
C1−C4アルキルメルカプト、ハロゲン化C1−C4アル
キルメルカプト、C1−C4アルキルスルホニル又はニト
ロを表し、nはゼロ、1、2又は3を、好適にはゼロ、
1又は2を表し、但し、nが1より大きい場合には置換
基Xは異なるものでもよいの芳香族アミンの製造方法で
あって、極性の溶媒中で酸素とともに塩基の存在下で、
式
【0008】
【化5】
【0009】式中、X、Ar及びnは前記で与えられた
とおりの意味をもつのニトロ芳香族化合物を、式
とおりの意味をもつのニトロ芳香族化合物を、式
【0010】
【化6】
【0011】式中、2個の置換基Rは同一でもあるいは
異なるものでもよく、そして前記で与えられたとおりの
意味をもち、そしてYはO又はSを表すの尿素と反応さ
せる方法に関する。
異なるものでもよく、そして前記で与えられたとおりの
意味をもち、そしてYはO又はSを表すの尿素と反応さ
せる方法に関する。
【0012】好適な芳香族のC4−C16の基は例えばベ
ンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリン及びチオフェ
ン基、好適にはベンゼン及びナフタレン基を包含する。
ンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリン及びチオフェ
ン基、好適にはベンゼン及びナフタレン基を包含する。
【0013】「C1−C8アルキル」及び「C1−C4アル
キル」はメチル、エチル、イソプロピル及び、n−、第
二級及び第三級ブチルのような直鎖状の及び分枝してい
る基を包含する。
キル」はメチル、エチル、イソプロピル及び、n−、第
二級及び第三級ブチルのような直鎖状の及び分枝してい
る基を包含する。
【0014】「C2−C8アルケニル」はビニル及びアリ
ルを包含する。
ルを包含する。
【0015】「C3−C7シクロアルキル」はシクロプロ
ピル、シクロペンチル及びシクロヘキシルを包含する。
ピル、シクロペンチル及びシクロヘキシルを包含する。
【0016】「C6−C14アリール」は、おのおのがハ
ロゲン、アルキル、ニトロ、アミノ、アルコキシ、アル
キルチオ、スルホン酸、ヒドロキシル、ホルミル、ベン
ゾイル、カルボキシル、シアノ、フェニル及びフェニル
アルキルにより1個もしくは複数置換されていてもよい
フェニルもしくはナフチルのような、置換されていな
い、又は置換されているアリール基を表す。
ロゲン、アルキル、ニトロ、アミノ、アルコキシ、アル
キルチオ、スルホン酸、ヒドロキシル、ホルミル、ベン
ゾイル、カルボキシル、シアノ、フェニル及びフェニル
アルキルにより1個もしくは複数置換されていてもよい
フェニルもしくはナフチルのような、置換されていな
い、又は置換されているアリール基を表す。
【0017】「ハロゲン」は臭素、ヨウ素、好適にはフ
ッ素及び塩素を表す。
ッ素及び塩素を表す。
【0018】「ハロゲン化C1−C4アルキル」は例えば
トリフルオロメチル及びジクロロフルオロメチルを包含
する。
トリフルオロメチル及びジクロロフルオロメチルを包含
する。
【0019】「C1−C4アルコキシ」は好適にはメトキ
シを意味し、「ハロゲン化C1−C4アルコキシ」は好適
にはトリフルオロメトキシを表す。
シを意味し、「ハロゲン化C1−C4アルコキシ」は好適
にはトリフルオロメトキシを表す。
【0020】「C1−C4アルキルメルカプト」は好適に
はメチルメルカプトを意味し;「ハロゲン化C1−C4ア
ルキルメルカプト」は好適にはトリフルオロメチルメル
カプトを表す。
はメチルメルカプトを意味し;「ハロゲン化C1−C4ア
ルキルメルカプト」は好適にはトリフルオロメチルメル
カプトを表す。
【0021】「C1−C4アルキルスルホニル」は好適に
はメチルスルホニルを表す。
はメチルスルホニルを表す。
【0022】好適なニトロ芳香族化合物(II)は例え
ば、ニトロベンゼン、m−クロロニトロベンゼン、m−
ニトロベンゾニトリル、m−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼン、3−フルオロニトロベンゼン、3−ニトロト
ルエン、3−トリフルオロメトキシニトロベンゼン、3
−トリフルオロメチルチオニトロベンゼン、3,5−ジ
クロロニトロベンゼン、2−ニトロベンゾニトリル、2
ーニトロ安息香酸、1−ニトロナフタレン、2−ニトロ
ナフタレン、2−ニトロチオフェン、3−ニトロチオフ
ェン、2−ニトロフラン、N−アルキル化及びN−アリ
ール化2−及び3−ニトロピロール、2−、3−及び4
−ニトロピリジン、4−エトキシ−3−ニトロピリジ
ン、5−、6−及び8−ニトロキノリンを包含する。
ば、ニトロベンゼン、m−クロロニトロベンゼン、m−
ニトロベンゾニトリル、m−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼン、3−フルオロニトロベンゼン、3−ニトロト
ルエン、3−トリフルオロメトキシニトロベンゼン、3
−トリフルオロメチルチオニトロベンゼン、3,5−ジ
クロロニトロベンゼン、2−ニトロベンゾニトリル、2
ーニトロ安息香酸、1−ニトロナフタレン、2−ニトロ
ナフタレン、2−ニトロチオフェン、3−ニトロチオフ
ェン、2−ニトロフラン、N−アルキル化及びN−アリ
ール化2−及び3−ニトロピロール、2−、3−及び4
−ニトロピリジン、4−エトキシ−3−ニトロピリジ
ン、5−、6−及び8−ニトロキノリンを包含する。
【0023】式(III)の好適な尿素は例えば、尿素、
チオ尿素、メチル尿素、N,N’−ジメチル尿素、N,
N’−ジエチル尿素、N,N’−ジブチルチオ尿素、フ
ェニル尿素、N,N’−ジフェニル尿素、N,N’−ジ
イソプロピルチオ尿素、アリルチオ尿素、N,N’−ジ
−p−トリルチオ尿素、N,N’−ジ−(4−クロロフ
ェニル)尿素を包含する。特に好適なものは式(III)
の、対称的に置換されている尿素である。
チオ尿素、メチル尿素、N,N’−ジメチル尿素、N,
N’−ジエチル尿素、N,N’−ジブチルチオ尿素、フ
ェニル尿素、N,N’−ジフェニル尿素、N,N’−ジ
イソプロピルチオ尿素、アリルチオ尿素、N,N’−ジ
−p−トリルチオ尿素、N,N’−ジ−(4−クロロフ
ェニル)尿素を包含する。特に好適なものは式(III)
の、対称的に置換されている尿素である。
【0024】適切な塩基は有機もしくは無機塩基のどち
らでもよい。好適なものは,アルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ金属アミド、アルカリ金属アルコキシド又はアル
カリ金属水素化物のような無機塩基である。特に好適な
ものは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化セシウム、カリウムt−ブトキシドのよう
なアルカリ金属水酸化物である。該塩基は好適には粉末
もしくは微小顆粒(微小粒子)の形態で使用される。
らでもよい。好適なものは,アルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ金属アミド、アルカリ金属アルコキシド又はアル
カリ金属水素化物のような無機塩基である。特に好適な
ものは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化セシウム、カリウムt−ブトキシドのよう
なアルカリ金属水酸化物である。該塩基は好適には粉末
もしくは微小顆粒(微小粒子)の形態で使用される。
【0025】酸素は純粋な気体として、もしくは特に好
適には他の気体と混合して、例えば空気の形態で使用す
ることができる。
適には他の気体と混合して、例えば空気の形態で使用す
ることができる。
【0026】本発明の化合物(I)の製造に適した溶媒
は有機もしくは無機溶媒を包含する。好適な有機溶媒
は,ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N
−メチルピロリドン、ピリジン、ジオキサン、THF、
アセトニトリル、スルホラン及びそれらの混合物のよう
な極性の非プロトン性溶媒である。好適な無機溶媒は例
えば液体アンモニアである。少量の、すなわち総溶媒の
10重量%までの、例えば水のようなプロトン含有溶媒
は許容性がある。好適な溶媒はジメチルスルホキシドで
ある。
は有機もしくは無機溶媒を包含する。好適な有機溶媒
は,ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N
−メチルピロリドン、ピリジン、ジオキサン、THF、
アセトニトリル、スルホラン及びそれらの混合物のよう
な極性の非プロトン性溶媒である。好適な無機溶媒は例
えば液体アンモニアである。少量の、すなわち総溶媒の
10重量%までの、例えば水のようなプロトン含有溶媒
は許容性がある。好適な溶媒はジメチルスルホキシドで
ある。
【0027】該反応は広い温度範囲内で実施することが
できる。概括的には−35℃と120℃の間の温度が、
好適には20℃と80℃の間の温度が使用される。
できる。概括的には−35℃と120℃の間の温度が、
好適には20℃と80℃の間の温度が使用される。
【0028】本発明による方法が実施される場合、一般
的には大気圧が使用される;しかし高圧もしくは減圧も
使用することもできる。
的には大気圧が使用される;しかし高圧もしくは減圧も
使用することもできる。
【0029】本発明による方法が実施される場合、式
(II)のニトロ芳香族化合物の1モル当たり、概括的に
は0.5から10モル、好適には0.7から2モルの式
(III)の尿素、及び1から10等量の、好適には2か
ら6等量の塩基が使用される。好適には酸素が非希釈も
しくは希釈の状態で過剰に導入される。
(II)のニトロ芳香族化合物の1モル当たり、概括的に
は0.5から10モル、好適には0.7から2モルの式
(III)の尿素、及び1から10等量の、好適には2か
ら6等量の塩基が使用される。好適には酸素が非希釈も
しくは希釈の状態で過剰に導入される。
【0030】出発物質として3−ニトロベンゾトリフル
オリド、N,N’−ジフェニル尿素及び空気が使用さ
れ、水酸化ナトリウムが塩基として使用される場合、ニ
トロ置換アミンの製造方法の経過は下記の反応式図に表
すことができる:
オリド、N,N’−ジフェニル尿素及び空気が使用さ
れ、水酸化ナトリウムが塩基として使用される場合、ニ
トロ置換アミンの製造方法の経過は下記の反応式図に表
すことができる:
【0031】
【化7】
【0032】式(II)及び(III)の出発物質は既知で
あるかあるいは既知の方法で製造することができる。
あるかあるいは既知の方法で製造することができる。
【0033】後処理は常法により実施することができ
る。概括的には該方法は、反応混合物を水で十分に希釈
し、沈澱する反応生成物を分離しそして単離するか、あ
るいはその混合物を水で希釈し、そして水に混合しにく
い有機溶媒で抽出する方法で実施される。これを乾燥、
濃縮後、生成物は有機相から単離される。
る。概括的には該方法は、反応混合物を水で十分に希釈
し、沈澱する反応生成物を分離しそして単離するか、あ
るいはその混合物を水で希釈し、そして水に混合しにく
い有機溶媒で抽出する方法で実施される。これを乾燥、
濃縮後、生成物は有機相から単離される。
【0034】
【実施例】実施例1 N−メチル−4−ニトロ−2−トリフルオロメチルアニ
リン 3−ニトロベンゾトリフルオリド1.91g(10ミリ
モル)及びN,N’−ジメチル尿素1.76g(20ミ
リモル)を50℃で4時間、空気の流れを通過させなが
らDMSO30ml中で微粒子形態の水酸化ナトリウム
1.2g(30ミリモル)とともに加熱した。次いで該
混合物を酢酸エチルで希釈し、飽和ソーダ溶液と共に振
盪することにより繰り返し洗浄した。硫酸ナトリウム上
で有機相を乾燥し溶媒を除去後、m.p.99−101
℃のN−メチル−4−ニトロ−2−トリフルオロメチル
アニリン2.2g(10ミリモル、100%)が、純度
95%の生成物として得られた。エタノールから再結晶
後、生成物はm.p.111−112℃をもつ。
リン 3−ニトロベンゾトリフルオリド1.91g(10ミリ
モル)及びN,N’−ジメチル尿素1.76g(20ミ
リモル)を50℃で4時間、空気の流れを通過させなが
らDMSO30ml中で微粒子形態の水酸化ナトリウム
1.2g(30ミリモル)とともに加熱した。次いで該
混合物を酢酸エチルで希釈し、飽和ソーダ溶液と共に振
盪することにより繰り返し洗浄した。硫酸ナトリウム上
で有機相を乾燥し溶媒を除去後、m.p.99−101
℃のN−メチル−4−ニトロ−2−トリフルオロメチル
アニリン2.2g(10ミリモル、100%)が、純度
95%の生成物として得られた。エタノールから再結晶
後、生成物はm.p.111−112℃をもつ。
【0035】実施例2 N−ブチル−4−ニトロ−2−トリフルオロメチルアニ
リン 3−ニトロベンゾトリフルオリド1.91g(10ミリ
モル)及び,N,N’−ジブチルチオ尿素3.76g
(20ミリモル)を、乾燥した空気を通過させながら、
無水DMSO30ml中でNaOHの微粒子1.2g
(30ミリモル)と共に50℃で6時間、加熱した。酢
酸エチル及びソーダ溶液を用いた後処理により、粗生成
物5.6gが得られ、それをシリカゲル上での石油エー
テル/酢酸エチル(1:1容量部)を用いたクロマトグ
ラフィーにより精製するとN−ブチル−4−ニトロ−2
−トリフルオロメチルアニリンを、油状物として2.1
g(8ミリモル、80%)が得られた。
リン 3−ニトロベンゾトリフルオリド1.91g(10ミリ
モル)及び,N,N’−ジブチルチオ尿素3.76g
(20ミリモル)を、乾燥した空気を通過させながら、
無水DMSO30ml中でNaOHの微粒子1.2g
(30ミリモル)と共に50℃で6時間、加熱した。酢
酸エチル及びソーダ溶液を用いた後処理により、粗生成
物5.6gが得られ、それをシリカゲル上での石油エー
テル/酢酸エチル(1:1容量部)を用いたクロマトグ
ラフィーにより精製するとN−ブチル−4−ニトロ−2
−トリフルオロメチルアニリンを、油状物として2.1
g(8ミリモル、80%)が得られた。
【0036】1H−NMR(CDCl3,200MH
z):δ1.0(t,3H)、1.5(m,2H)、1.
7(m,2H)、3.3(m,2H)、5.05(s,N
H)、6.75(d,1H)、8.25(dd,1H)、
8.4(d,1H)。
z):δ1.0(t,3H)、1.5(m,2H)、1.
7(m,2H)、3.3(m,2H)、5.05(s,N
H)、6.75(d,1H)、8.25(dd,1H)、
8.4(d,1H)。
【0037】実施例3 4−ニトロジフェニルアミン ニトロベンゼン1.23g(10ミリモル)、N,N’
−ジフェニル尿素2.12g(10ミリモル)及びNa
OH微粒子1.2g(30ミリモル)を空気を通過させ
ながら、無水DMSO30ml中で50℃で23時間、
加熱した。酢酸エチル及びソーダ溶液を用いた後処理
後、生成物2.0g(9.3ミリモル、93%)が得ら
れた。それはシクロヘキサンからの再結晶後、128℃
の融点を示す。
−ジフェニル尿素2.12g(10ミリモル)及びNa
OH微粒子1.2g(30ミリモル)を空気を通過させ
ながら、無水DMSO30ml中で50℃で23時間、
加熱した。酢酸エチル及びソーダ溶液を用いた後処理
後、生成物2.0g(9.3ミリモル、93%)が得ら
れた。それはシクロヘキサンからの再結晶後、128℃
の融点を示す。
【0038】下記の化合物が実施例1から3に従って製
造された。
造された。
【0039】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 319/20 323/36 7419−4H C07D 207/42 213/61 215/18 307/70 333/42
Claims (1)
- 【請求項1】 式 【化1】 式中、 ArはN、O及びSからなる群から選ばれる1個から2
個のヘテロ原子を包含することもできる単環状もしくは
多環状の芳香族のC4−C16の基を表し、 Rは水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C
3−C7シクロアルキル及びC6−C14アリールを表し、
この場合これらの置換基はハロゲン、C1−C4アルキ
ル、アミノ及び/又はC1−C4アルコキシにより1個か
ら3個まで置換されることができ、 Xはハロゲン、シアノ、C1−C4アルキル、ハロゲン化
C1−C4アルキル、 C1−C4アルコキシ、ハロゲン化C1−C4アルコキシ、
C1−C4アルキルメルカプト、ハロゲン化C1−C4アル
キルメルカプト、C1−C4アルキルスルホニル又はニト
ロを表し、 nはゼロ、1、2又は3を表し、但しnが1より大きい
場合には置換基Xは異なるものであってもよいの化合物
の製造方法であって、極性の溶媒中で酸素と塩基の存在
下で、式 【化2】 式中、X、Ar及びnは前記で与えられたとおりの意味
をもつのニトロ芳香族化合物を、式 【化3】 式中、 2個の置換基Rは同一でも異なるものでもよく、そして
前記で与えられたとおりの意味をもち、そしてYはOあ
るいはSを表すの尿素と反応させる方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4427249A DE4427249A1 (de) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | Verfahren zur Herstellung nitrosubstituierter Arylamine |
| DE4427249.9 | 1994-08-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0859571A true JPH0859571A (ja) | 1996-03-05 |
Family
ID=6524676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7211399A Pending JPH0859571A (ja) | 1994-08-02 | 1995-07-28 | ニトロ置換アリールアミンの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5684203A (ja) |
| EP (1) | EP0695737B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0859571A (ja) |
| KR (1) | KR100355985B1 (ja) |
| CA (1) | CA2154965A1 (ja) |
| DE (2) | DE4427249A1 (ja) |
| TW (1) | TW318823B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030035343A (ko) * | 2001-10-31 | 2003-05-09 | 금호석유화학 주식회사 | 4-니트로소 치환 방향족아민 화합물의 제조방법 |
| JP2005515163A (ja) * | 2001-07-23 | 2005-05-26 | フレクシス アメリカ エル. ピー. | 4−アミノジフェニルアミンの製造法 |
| JP2008545649A (ja) * | 2005-05-16 | 2008-12-18 | コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド | 4−アミノジフェニルアミンの製造方法 |
| JP2010143931A (ja) * | 2001-07-23 | 2010-07-01 | Flexsys America Lp | 4−アミノジフェニルアミンの製造法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100298572B1 (ko) * | 1999-08-19 | 2001-09-22 | 박찬구 | 카바아닐라이드로부터 4-니트로디페닐아민과 4-니트로소디페닐아민의 제조방법 |
| KR100294125B1 (ko) * | 1999-11-16 | 2001-06-15 | 박찬구 | 요소와 니트로벤젠으로부터 4-니트로소아닐린을 제조하는방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5117063A (en) * | 1991-06-21 | 1992-05-26 | Monsanto Company | Method of preparing 4-aminodiphenylamine |
| US5331099A (en) | 1992-05-22 | 1994-07-19 | Monsanto Company | Process for preparing p-nitroaromatic amides and products thereof |
| US5252737A (en) | 1992-05-22 | 1993-10-12 | Monsanto Company | Process for preparing N-aliphatic substituted p-phenylenediamines |
-
1994
- 1994-08-02 DE DE4427249A patent/DE4427249A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-07-07 TW TW084107006A patent/TW318823B/zh active
- 1995-07-20 EP EP95111426A patent/EP0695737B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-20 DE DE59500325T patent/DE59500325D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-26 US US08/504,034 patent/US5684203A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-28 JP JP7211399A patent/JPH0859571A/ja active Pending
- 1995-07-28 CA CA002154965A patent/CA2154965A1/en not_active Abandoned
- 1995-08-01 KR KR1019950023640A patent/KR100355985B1/ko not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005515163A (ja) * | 2001-07-23 | 2005-05-26 | フレクシス アメリカ エル. ピー. | 4−アミノジフェニルアミンの製造法 |
| JP2010143931A (ja) * | 2001-07-23 | 2010-07-01 | Flexsys America Lp | 4−アミノジフェニルアミンの製造法 |
| KR20030035343A (ko) * | 2001-10-31 | 2003-05-09 | 금호석유화학 주식회사 | 4-니트로소 치환 방향족아민 화합물의 제조방법 |
| JP2008545649A (ja) * | 2005-05-16 | 2008-12-18 | コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド | 4−アミノジフェニルアミンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960007536A (ko) | 1996-03-22 |
| US5684203A (en) | 1997-11-04 |
| DE59500325D1 (de) | 1997-07-24 |
| EP0695737B1 (de) | 1997-06-18 |
| KR100355985B1 (ko) | 2002-12-16 |
| DE4427249A1 (de) | 1996-02-08 |
| TW318823B (ja) | 1997-11-01 |
| EP0695737A1 (de) | 1996-02-07 |
| CA2154965A1 (en) | 1996-02-03 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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