JPH0840994A - ニトロ置換アリールアミド及びアリールアミンの製造方法 - Google Patents
ニトロ置換アリールアミド及びアリールアミンの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/62—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by cleaving carbon-to-nitrogen, sulfur-to-nitrogen, or phosphorus-to-nitrogen bonds, e.g. hydrolysis of amides, N-dealkylation of amines or quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/64—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C233/66—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/08—Preparation of carboxylic acid amides from amides by reaction at nitrogen atoms of carboxamide groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 効率のよいニトロ置換アリールアミド及びア
リールアミンの製造方法の提供。 【解決手段】 塩基及び酸素の存在下でアミドを用いて
ニトロ芳香族化合物をアミド化する方法。対応するアミ
ンは、生成されたアミドの加水分解により得ることがで
きる。
リールアミンの製造方法の提供。 【解決手段】 塩基及び酸素の存在下でアミドを用いて
ニトロ芳香族化合物をアミド化する方法。対応するアミ
ンは、生成されたアミドの加水分解により得ることがで
きる。
Description
【0001】本発明は塩基の存在下での、ニトロ芳香族
化合物、酸アミド及び酸素からの、ニトロ置換のアリー
ルアミド及びニトロ置換のアリールアミンの製造方法に
関する。
化合物、酸アミド及び酸素からの、ニトロ置換のアリー
ルアミド及びニトロ置換のアリールアミンの製造方法に
関する。
【0002】芳香族アミンは染料、作物保護剤、医薬品
の製造及び写真工業のための重要な中間体である。
の製造及び写真工業のための重要な中間体である。
【0003】芳香族アミンの製造のための工業的に重要
な方法は、入手の容易なニトロ芳香族化合物のニトロ基
の還元及びハロゲン化芳香族化合物の、アンモニアもし
くはアミンとの反応である。これらの方法は工業的に大
規模に利用されているが、反応段階が多いためにしばし
ば不満足な収率をもたらす。DMSO中で塩基の存在下
で、アセトアニリドでニトロベンゼンを直接的にアミノ
化し、主生成物としてp−ニトロソジフェニルアミンを
生成することは既知である。(Tetrah.Lett.1990,22,32
17-3220)。更に、塩基及びプロトン含有物質の存在下
で、ニトロベンゼンを脂肪族アミンと反応させることに
よりN脂肪族基で置換されたp−フェニレンジアミンの
製造方法が記載されている(米国特許第5,252,737号明
細書)。更に、特定の塩基(例えば、水酸化テトラアル
キルアンモニウム)の存在下で、プロトン含有物質の存
在下で、ニトロベンゼンをアミドと反応させることによ
るp−ニトロ置換の芳香族アミドの製造方法が記載され
ている(国際公開第93/24447号パンフレット)。これら
の方法は特別な条件を必要とし、そして/又はかならず
しも常に満足な収率をもたらさない。
な方法は、入手の容易なニトロ芳香族化合物のニトロ基
の還元及びハロゲン化芳香族化合物の、アンモニアもし
くはアミンとの反応である。これらの方法は工業的に大
規模に利用されているが、反応段階が多いためにしばし
ば不満足な収率をもたらす。DMSO中で塩基の存在下
で、アセトアニリドでニトロベンゼンを直接的にアミノ
化し、主生成物としてp−ニトロソジフェニルアミンを
生成することは既知である。(Tetrah.Lett.1990,22,32
17-3220)。更に、塩基及びプロトン含有物質の存在下
で、ニトロベンゼンを脂肪族アミンと反応させることに
よりN脂肪族基で置換されたp−フェニレンジアミンの
製造方法が記載されている(米国特許第5,252,737号明
細書)。更に、特定の塩基(例えば、水酸化テトラアル
キルアンモニウム)の存在下で、プロトン含有物質の存
在下で、ニトロベンゼンをアミドと反応させることによ
るp−ニトロ置換の芳香族アミドの製造方法が記載され
ている(国際公開第93/24447号パンフレット)。これら
の方法は特別な条件を必要とし、そして/又はかならず
しも常に満足な収率をもたらさない。
【0004】驚嘆すべきことに、簡単な塩基及び酸素の
存在下で、アミドを使用する、ニトロ置換の芳香族化合
物の直接的アミド化のための、一般的に使用することが
できる方法が見いだされた。
存在下で、アミドを使用する、ニトロ置換の芳香族化合
物の直接的アミド化のための、一般的に使用することが
できる方法が見いだされた。
【0005】該反応は対応するアミドを良好な収率でも
たらし、そして、適当なら加水分解によりアミンをもた
らす。
たらし、そして、適当なら加水分解によりアミンをもた
らす。
【0006】本発明は式
【0007】
【化4】
【0008】式中、ArはN、O及びSからなる群から
選ばれる1個から2個のヘテロ原子を包含することもで
きる単環状もしくは多環状の、好適には単環状もしくは
二環状の芳香族C4−C16の基を表し、R1は水素、脂肪
族C1−C6アシル基又は芳香族C7−C11アシル基を表
し、R2は水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニ
ル、C3−C7シクロアルキルを表し、この場合これらの
置換基はおのおのハロゲン、C1−C4アルキル、アミノ
及び/又はC1−C4アルコキシにより1個から3個まで
置換されることができ、Rは単結合、C1−C8アルキレ
ン(好適にはテトラメチレン)、C5−C10シクロアル
キレン、C6−C12アリーレン(好適にはフェニレン)
を表し、Xはハロゲン、シアノ、C1−C4アルキル、ハ
ロゲン化C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、ハロ
ゲン化C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルメルカプ
ト、ハロゲン化C1−C4アルキルメルカプト、C1−C4
アルキルスルホニル又はニトロを表し、nはゼロ、1、
2、又は3を、好適にはゼロ、1又は2を表し、但し、
nが1より大きい場合、置換基Xは異なったものでも良
いの化合物の製造方法であって、極性の溶媒中で酸素と
ともに塩基の存在下で、式(II)
選ばれる1個から2個のヘテロ原子を包含することもで
きる単環状もしくは多環状の、好適には単環状もしくは
二環状の芳香族C4−C16の基を表し、R1は水素、脂肪
族C1−C6アシル基又は芳香族C7−C11アシル基を表
し、R2は水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニ
ル、C3−C7シクロアルキルを表し、この場合これらの
置換基はおのおのハロゲン、C1−C4アルキル、アミノ
及び/又はC1−C4アルコキシにより1個から3個まで
置換されることができ、Rは単結合、C1−C8アルキレ
ン(好適にはテトラメチレン)、C5−C10シクロアル
キレン、C6−C12アリーレン(好適にはフェニレン)
を表し、Xはハロゲン、シアノ、C1−C4アルキル、ハ
ロゲン化C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、ハロ
ゲン化C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルメルカプ
ト、ハロゲン化C1−C4アルキルメルカプト、C1−C4
アルキルスルホニル又はニトロを表し、nはゼロ、1、
2、又は3を、好適にはゼロ、1又は2を表し、但し、
nが1より大きい場合、置換基Xは異なったものでも良
いの化合物の製造方法であって、極性の溶媒中で酸素と
ともに塩基の存在下で、式(II)
【0009】
【化5】
【0010】式中、X,Ar及びnは前記で与えられた
とおりの意味をもつのニトロ芳香族化合物を、式(II
I)
とおりの意味をもつのニトロ芳香族化合物を、式(II
I)
【0011】
【化6】
【0012】式中、R、R1(R1≠H)及びR2は前記
で与えられたとおりの意味をもつのアミドと反応させ、
そしてもし適当なら、生成するアミドを加水分解する製
造方法に関する。
で与えられたとおりの意味をもつのアミドと反応させ、
そしてもし適当なら、生成するアミドを加水分解する製
造方法に関する。
【0013】好適な芳香族のC4−C16の基は、例えば
ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリン及びチオフ
ェン基、好適にはベンゼン及びナフタレン基を包含す
る。
ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリン及びチオフ
ェン基、好適にはベンゼン及びナフタレン基を包含す
る。
【0014】好適な脂肪族C1−C6及び芳香族C7−C
11アシル基は例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ベンゾイル及び置換基をもつベンゾイル(例えばハ
ロゲン、フェニルで置換された)を包含する。
11アシル基は例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ベンゾイル及び置換基をもつベンゾイル(例えばハ
ロゲン、フェニルで置換された)を包含する。
【0015】「C1−C8アルキル」及び「C1−C4アル
キル」はメチル、エチル、イソプロピルならびにn−ブ
チル、第二級ブチル及び第三級ブチルのような直鎖状の
及び分枝されている基を包含する。
キル」はメチル、エチル、イソプロピルならびにn−ブ
チル、第二級ブチル及び第三級ブチルのような直鎖状の
及び分枝されている基を包含する。
【0016】「C2−C8アルケニル」はビニル及びアリ
ルを包含する。
ルを包含する。
【0017】「C3−C7シクロアルキル」はシクロプロ
ピル、シクロペンチル及びシクロヘキシルを包含する。
ピル、シクロペンチル及びシクロヘキシルを包含する。
【0018】「ハロゲン」は臭素、ヨウ素、好適にはフ
ッ素、塩素を表す。
ッ素、塩素を表す。
【0019】「ハロゲン化C1−C4アルキル」は例えば
トリフルオロメチル及びジクロロフルオロメチルを包含
する。
トリフルオロメチル及びジクロロフルオロメチルを包含
する。
【0020】「C1−C4アルコキシ」は好適にはメトキ
シを表し;「ハロゲン化C1−C4アルコキシ」は好適に
はトリフルオロメトキシを表す。
シを表し;「ハロゲン化C1−C4アルコキシ」は好適に
はトリフルオロメトキシを表す。
【0021】「C1−C4アルキルメルカプト」は好適に
はメチルメルカプトを表し;「ハロゲン化C1−C4アル
キルメルカプト」は好適にはトリフルオロメチルメルカ
プトを表す。
はメチルメルカプトを表し;「ハロゲン化C1−C4アル
キルメルカプト」は好適にはトリフルオロメチルメルカ
プトを表す。
【0022】「C1−C4アルキルスルホニル」は好適に
はメチルスルホニルを表す。
はメチルスルホニルを表す。
【0023】好適なニトロ芳香族化合物IIは例えば、ニ
トロベンゼン、m−クロロニトロベンゼン、m−ニトロ
ベンゾニトリル、m−トリフルオロメチルニトロベンゼ
ン、3−フルオロニトロベンゼン、3−ニトロトルエ
ン、3−トリフルオロメトキシニトロベンゼン、3−ト
リフルオロメチルチオニトロベンゼン、3,5−ジクロ
ロニトロベンゼン、2−ニトロベンゾニトリル、2−ニ
トロ安息香酸、1−ニトロナフタレン、2−ニトロナフ
タレン、2−ニトロチオフェン、3−ニトロチオフェ
ン、2−ニトロフラン、N−アルキル化及びN−アリー
ル化2−及び3−ニトロピロール、2−、3−及び4−
ニトロピリジン、4−エトキシ−3−ニトロピリジン、
5−、6−及び8−ニトロキノリンを包含する。
トロベンゼン、m−クロロニトロベンゼン、m−ニトロ
ベンゾニトリル、m−トリフルオロメチルニトロベンゼ
ン、3−フルオロニトロベンゼン、3−ニトロトルエ
ン、3−トリフルオロメトキシニトロベンゼン、3−ト
リフルオロメチルチオニトロベンゼン、3,5−ジクロ
ロニトロベンゼン、2−ニトロベンゾニトリル、2−ニ
トロ安息香酸、1−ニトロナフタレン、2−ニトロナフ
タレン、2−ニトロチオフェン、3−ニトロチオフェ
ン、2−ニトロフラン、N−アルキル化及びN−アリー
ル化2−及び3−ニトロピロール、2−、3−及び4−
ニトロピリジン、4−エトキシ−3−ニトロピリジン、
5−、6−及び8−ニトロキノリンを包含する。
【0024】好適なアミドIIIは例えば、ホルムアミ
ド、アセトアミド、プロピオンアミド、イソブチルアミ
ド、N−メチルアセトアミド、N−メチルホルムアミ
ド、N−エチルホルムアミド、N−ブチルホルムアミ
ド、ベンズアミド、4−メチルベンズアミド、4−メト
キシベンズアミド、4−クロロベンズアミド、2−メチ
ルベンズアミド、4−ニトロベンズアミド、4−アミノ
ベンズアミド及び、更にはアジポアミド、オキサルアミ
ド及びテレフタルアミドのようなジアミドを包含する。
ド、アセトアミド、プロピオンアミド、イソブチルアミ
ド、N−メチルアセトアミド、N−メチルホルムアミ
ド、N−エチルホルムアミド、N−ブチルホルムアミ
ド、ベンズアミド、4−メチルベンズアミド、4−メト
キシベンズアミド、4−クロロベンズアミド、2−メチ
ルベンズアミド、4−ニトロベンズアミド、4−アミノ
ベンズアミド及び、更にはアジポアミド、オキサルアミ
ド及びテレフタルアミドのようなジアミドを包含する。
【0025】適切な塩基は有機塩基もしくは無機塩基の
どちらでもよい;好適なものは、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属アミド、アルカリ金属アルコキシド又
はアルカリ金属水素化物のような無機塩基である。特に
好適なものは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化セシウム、カリウム第三級ブトキ
シド、のようなアルカリ金属水酸化物である。その塩基
は好適には粉末もしくは微小顆粒(微小粒子)の形で使
用される。
どちらでもよい;好適なものは、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属アミド、アルカリ金属アルコキシド又
はアルカリ金属水素化物のような無機塩基である。特に
好適なものは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化セシウム、カリウム第三級ブトキ
シド、のようなアルカリ金属水酸化物である。その塩基
は好適には粉末もしくは微小顆粒(微小粒子)の形で使
用される。
【0026】酸素は純粋な気体として、又は特に好適に
は他の気体と混合して、例えば空気の形で使用すること
ができる。
は他の気体と混合して、例えば空気の形で使用すること
ができる。
【0027】本発明の式(I)及び(Ia)の化合物の
製造のための適切な溶媒は有機及び無機の溶媒を包含す
る。好適な有機溶媒は、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミド、n−メチルピロリドン、ピリジン、ジ
オキサン、THF、アセトニトリル、スルホラン、ジメ
チルスルホン及びそれらの混合物のような、極性の非プ
ロトン性溶媒である。好適な無機溶媒は例えば液体アン
モニアである。少量の、すなわち総溶媒の10重量%ま
での、例えば水のような、プロトン含有溶媒は許容性が
ある。好適な溶媒はジメチルスルホキシドである。
製造のための適切な溶媒は有機及び無機の溶媒を包含す
る。好適な有機溶媒は、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミド、n−メチルピロリドン、ピリジン、ジ
オキサン、THF、アセトニトリル、スルホラン、ジメ
チルスルホン及びそれらの混合物のような、極性の非プ
ロトン性溶媒である。好適な無機溶媒は例えば液体アン
モニアである。少量の、すなわち総溶媒の10重量%ま
での、例えば水のような、プロトン含有溶媒は許容性が
ある。好適な溶媒はジメチルスルホキシドである。
【0028】該反応は広い温度範囲内で実施することが
できる。概括的には−35℃から120℃の間の温度が
使用され、好適には20℃から80℃の間の温度が使用
される。
できる。概括的には−35℃から120℃の間の温度が
使用され、好適には20℃から80℃の間の温度が使用
される。
【0029】本発明の方法が実施される場合、一般的に
大気圧が使用される;しかし、高圧もしくは減圧も又使
用可能である。
大気圧が使用される;しかし、高圧もしくは減圧も又使
用可能である。
【0030】本発明の方法が実施される場合、ニトロ芳
香族化合物(II)1モル当たり、概括的には0.5から
10モルの、好適には0.7から2モルのアミド(II
I)もしくは(IIIa)及び1等量から10等量の、好適
には2等量から6等量の塩基が使用される。好適には酸
素が非希釈もしくは希釈の状態で過剰に導入される。
香族化合物(II)1モル当たり、概括的には0.5から
10モルの、好適には0.7から2モルのアミド(II
I)もしくは(IIIa)及び1等量から10等量の、好適
には2等量から6等量の塩基が使用される。好適には酸
素が非希釈もしくは希釈の状態で過剰に導入される。
【0031】該反応は、アミドが、又はその後の加水分
解により得られる対応するアミンが、得られるような方
法で実施することができる。水の添加はアルカリ性の条
件下での加水分解を促進する。
解により得られる対応するアミンが、得られるような方
法で実施することができる。水の添加はアルカリ性の条
件下での加水分解を促進する。
【0032】もし3−ニトロベンゾトリフルオリド、ア
セトアミド及び空気を出発物質として使用し、そして水
酸化ナトリウムを塩基として使用する場合には、ニトロ
置換アミドの製造方法の経過は以下の反応式図により表
すことができる。
セトアミド及び空気を出発物質として使用し、そして水
酸化ナトリウムを塩基として使用する場合には、ニトロ
置換アミドの製造方法の経過は以下の反応式図により表
すことができる。
【0033】
【化7】
【0034】式(II)及び、(III)もしくは(IIIa)
の出発物質は既知であるか又は既知の方法により製造す
ることができる。
の出発物質は既知であるか又は既知の方法により製造す
ることができる。
【0035】後処理は常法により実施することができ
る。概括的には、反応混合物を水で十分に希釈し、そし
て沈澱してくる反応生成物を分離しそして単離するか、
あるいは該混合物を水で希釈し、そして水と殆ど混合で
きない有機溶媒で抽出する方法が採られる。これが乾燥
され濃縮された後に、生成物は有機相から単離される。
る。概括的には、反応混合物を水で十分に希釈し、そし
て沈澱してくる反応生成物を分離しそして単離するか、
あるいは該混合物を水で希釈し、そして水と殆ど混合で
きない有機溶媒で抽出する方法が採られる。これが乾燥
され濃縮された後に、生成物は有機相から単離される。
【0036】
【実施例】実施例1 4−ニトロ−2−トリフルオロメチルアセトアニリド 3−ニトロベンゾトリフルオリド1.91g(10ミリ
モル)及びアセトアミド0.65g(11ミリモル)を
微粒子の形態の水酸化ナトリウム0.8g(20ミリモ
ル)とともに無水DMSO50ml中に添加し、乾燥し
た空気を通過させながら混合物を50℃に6時間加熱す
る。次いで該混合物を酢酸エチルで希釈し、水とともに
震盪しながら繰り返し洗浄する。有機相を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、そして溶媒の除去後、m.p.135か
ら137℃の4−ニトロ−2−トリフルオロメチルアセ
トアニリド2.2g(8.5ミリモル、85%)が得ら
れる。
モル)及びアセトアミド0.65g(11ミリモル)を
微粒子の形態の水酸化ナトリウム0.8g(20ミリモ
ル)とともに無水DMSO50ml中に添加し、乾燥し
た空気を通過させながら混合物を50℃に6時間加熱す
る。次いで該混合物を酢酸エチルで希釈し、水とともに
震盪しながら繰り返し洗浄する。有機相を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、そして溶媒の除去後、m.p.135か
ら137℃の4−ニトロ−2−トリフルオロメチルアセ
トアニリド2.2g(8.5ミリモル、85%)が得ら
れる。
【0037】実施例2 4−ニトロ−2−トリフルオロメチルアニリン 3−ニトロベンゾトリフルオリド5g(26ミリモ
ル)、ホルムアミド6g(130ミリモル)及びNaO
H粉末5.2g(130ミリモル)をDMSO100m
l中で撹拌し、そして同時に酸素を通過させながら、2
時間、50℃に加熱した。冷却後、反応混合物を水60
0ml及び氷200g中に注入した。2時間撹拌後、沈
澱物を吸引濾過し、水で洗浄しそして乾燥した。m.
p.90−94℃の4−ニトロ−2−トリフルオロメチ
ルアニリン3.8g(18.5ミリモル、71%)が得
られた。
ル)、ホルムアミド6g(130ミリモル)及びNaO
H粉末5.2g(130ミリモル)をDMSO100m
l中で撹拌し、そして同時に酸素を通過させながら、2
時間、50℃に加熱した。冷却後、反応混合物を水60
0ml及び氷200g中に注入した。2時間撹拌後、沈
澱物を吸引濾過し、水で洗浄しそして乾燥した。m.
p.90−94℃の4−ニトロ−2−トリフルオロメチ
ルアニリン3.8g(18.5ミリモル、71%)が得
られた。
【0038】以下の化合物が実施例1及び実施例2に従
って製造された。
って製造された。
【0039】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 233/15 9547−4H 233/66 255/58 315/04 317/36 7419−4H 317/38 7419−4H 319/20 323/36 7419−4H 323/41 7419−4H (72)発明者 ミーチスタウ・マコシヤ ポーランド・01−496ワルシヤワ・ユーエ ル ソスノウイーカ11
Claims (1)
- 【請求項1】 式 【化1】 式中、 ArはN、O及びSからなる群から選ばれる1個から2
個のヘテロ原子を包含することもできる単環状もしくは
多環状芳香族C4−C16の基を表し、 R1は水素、脂肪族C1−C6アシル基又は芳香族C7−C
11アシル基を表し、 R2は水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、
C3−C7シクロアルキルを表し、この場合これらの置換
基はおのおのハロゲン、C1−C4アルキル、アミノ及び
/又はC1−C4アルコキシにより1個から3個まで置換
されることができ、 Rは単結合、C1−C8アルキレン、C5−C10シクロア
ルキレン、C6−C12アリーレンを表し、 Xはハロゲン、シアノ、C1−C4アルキル、ハロゲン化
C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、ハロゲン化C
1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルメルカプト、ハロ
ゲン化C1−C4アルキルメルカプト、C1−C4アルキル
スルホニル又はニトロを表し、 nはゼロ、1、2、又は3を表し、 但し、nが1より大きい場合には置換基Xは異なったも
のでも良いの化合物の製造方法であって、極性の溶媒中
で酸素とともに塩基の存在下で、式(II) 【化2】 式中、 X,Ar及びnは前記で与えられたとおりの意味をもつ
のニトロ芳香族化合物を、式(III) 【化3】 式中、 R、R1(R1≠H)及びR2は前記で与えられたとおり
の意味をもつのアミドと反応し、そしてもし適当なら、
生成するアミドを加水分解する製造方法。
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|---|---|---|---|---|
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-
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- 1995-07-28 JP JP7211401A patent/JPH0840994A/ja active Pending
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
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| DE4427248A1 (de) | 1996-02-08 |
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