JPH08701B2 - ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 - Google Patents
ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法Info
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- JPH08701B2 JPH08701B2 JP1294184A JP29418489A JPH08701B2 JP H08701 B2 JPH08701 B2 JP H08701B2 JP 1294184 A JP1294184 A JP 1294184A JP 29418489 A JP29418489 A JP 29418489A JP H08701 B2 JPH08701 B2 JP H08701B2
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 25
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002822 niobium compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- WPCMRGJTLPITMF-UHFFFAOYSA-I niobium(5+);pentahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Nb+5] WPCMRGJTLPITMF-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims description 10
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 9
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 7
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 6
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims description 6
- RPAJSBKBKSSMLJ-DFWYDOINSA-N (2s)-2-aminopentanedioic acid;hydrochloride Chemical class Cl.OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O RPAJSBKBKSSMLJ-DFWYDOINSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 claims 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 19
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 19
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 18
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 13
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 10
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 3
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 3
- 238000003921 particle size analysis Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 chlorine ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G33/00—Compounds of niobium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B15/00—Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法
に係わり、例えば、圧電体、半導体、センサー、オプト
エレクトロニクス材、誘電体、超伝導体を作製する際の
ニオブ原料として用いて好適なペルオキシニオブ酸ゾル
およびその製造方法に関する。
に係わり、例えば、圧電体、半導体、センサー、オプト
エレクトロニクス材、誘電体、超伝導体を作製する際の
ニオブ原料として用いて好適なペルオキシニオブ酸ゾル
およびその製造方法に関する。
近年、種々の機能性セラミックスが圧電体、半導体、
センサー、オプトエレクトロニクス材、誘電体等として
脚光を浴びている。ニオブ原料はその原材料の一つとし
て用いられているものである。
センサー、オプトエレクトロニクス材、誘電体等として
脚光を浴びている。ニオブ原料はその原材料の一つとし
て用いられているものである。
ところで、例えばニオブ含有誘電体セラミックスを製
造する場合、低温で焼結し得て、しかも誘電率の高いペ
ロブスカイト相のみからなる等、物性の優れた原料粉末
を用いることが好ましく、そのためには、粒子径が小さ
く、且つ、粒度分布幅の狭い、均一微細なニオブ原料を
用いて原料粉末を作製する必要がある。
造する場合、低温で焼結し得て、しかも誘電率の高いペ
ロブスカイト相のみからなる等、物性の優れた原料粉末
を用いることが好ましく、そのためには、粒子径が小さ
く、且つ、粒度分布幅の狭い、均一微細なニオブ原料を
用いて原料粉末を作製する必要がある。
然るに、従来においては、ニオブ以外の構成元素の水
酸化物、炭酸塩等の沈澱物に、粒子径が大きく、しかも
不均一である市販の酸化ニオブまたは水酸化ニオブをス
ラリーとして混合するなどの方法により原料粉末を製造
していた。このため、均一微細な原料粉末を得ることが
困難であった。
酸化物、炭酸塩等の沈澱物に、粒子径が大きく、しかも
不均一である市販の酸化ニオブまたは水酸化ニオブをス
ラリーとして混合するなどの方法により原料粉末を製造
していた。このため、均一微細な原料粉末を得ることが
困難であった。
本発明は以上の事情に鑑みなされたものであって、そ
の目的とするところは、セラミックスのニオブ原料とし
て用いて好適であるばかりでなく、ニオブ成分を分散性
良く用いることが好ましい他のあらゆる用途に用いて好
適なペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法を提供
するにある。
の目的とするところは、セラミックスのニオブ原料とし
て用いて好適であるばかりでなく、ニオブ成分を分散性
良く用いることが好ましい他のあらゆる用途に用いて好
適なペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法を提供
するにある。
上記目的を達成するための本発明に係るペルオキシニ
オブ酸ゾル（H+〔NbO2（Ｏ）２］−）の製造方法（以
下、「本発明方法」という）は、水酸化ニオブ、酸化ニ
オブおよび五塩化ニオブの中から選ばれた少なくとも一
種のニオブ化合物に強酸と過酸化水素水とを加えてペル
オキシニオブ酸水溶液とし、次いで該水溶液を５〜50℃
の温度に保持することを骨子とする。
オブ酸ゾル（H+〔NbO2（Ｏ）２］−）の製造方法（以
下、「本発明方法」という）は、水酸化ニオブ、酸化ニ
オブおよび五塩化ニオブの中から選ばれた少なくとも一
種のニオブ化合物に強酸と過酸化水素水とを加えてペル
オキシニオブ酸水溶液とし、次いで該水溶液を５〜50℃
の温度に保持することを骨子とする。
強酸としては、濃塩酸または濃硝酸が例示され、一塩
基酸の場合は、ニオブ化合物のニオブ１モル部に対して
５モル部の強酸が必要である。
基酸の場合は、ニオブ化合物のニオブ１モル部に対して
５モル部の強酸が必要である。
過酸化水素は、ニオブ化合物をペルオキシ化して錯体
水溶液化するためのものであり、ニオブ化合物のニオブ
１モル部に対して４モル部必要である。
水溶液化するためのものであり、ニオブ化合物のニオブ
１モル部に対して４モル部必要である。
次に、本発明方法について詳しく説明する。
本発明方法は、水に不溶性のニオブ酸または五塩化ニ
オブと強酸との混合系に過酸化水素水を加えて酸化し、
ペルオキシニオブ錯体の水溶液とする工程、および、ペ
ルオキシニオブ錯体の水溶液を適宜の時間５〜50℃の温
度に保持することにより該水溶液をゾル化する工程とを
主たる有効工程とする。
オブと強酸との混合系に過酸化水素水を加えて酸化し、
ペルオキシニオブ錯体の水溶液とする工程、および、ペ
ルオキシニオブ錯体の水溶液を適宜の時間５〜50℃の温
度に保持することにより該水溶液をゾル化する工程とを
主たる有効工程とする。
上記混合系に過酸化水素水を加えてニオブ化合物を溶
解する際の液温は、室温以下の温度であればよく、５℃
以下であることが好ましく、０℃以下であることがより
好ましい。
解する際の液温は、室温以下の温度であればよく、５℃
以下であることが好ましく、０℃以下であることがより
好ましい。
なお、得られたペルオキシニオブ酸ゾルに含まれるCl
-、No3 -等の不純陰イオンおよび不純陽イオンを除去す
るために、限外濾過膜に通して精製することが好まし
い。限外濾過する場合には、アンモニア水を添加して予
めペルオキシニオブ酸ゾルを限該濾過可能なPH（１〜12
程度）に調整（通常1.5程度）しておく必要がある。因
みに、限外濾過後のゾルのPHは４程度になる。
-、No3 -等の不純陰イオンおよび不純陽イオンを除去す
るために、限外濾過膜に通して精製することが好まし
い。限外濾過する場合には、アンモニア水を添加して予
めペルオキシニオブ酸ゾルを限該濾過可能なPH（１〜12
程度）に調整（通常1.5程度）しておく必要がある。因
みに、限外濾過後のゾルのPHは４程度になる。
本発明方法においては、ゾル化を５〜50℃の温度で行
う。ゾル化温度が５℃未満の場合は、粒子径の小さいゾ
ルが得られるものの、ゾル化に多大の時間を要し効率的
でない。また、50℃を越えた場合は、得られるゾルの粒
子径が大きくなり、仮焼温度を高くする必要が生じる
等、セラミックス等の原料粉末の製造用原材料として好
ましくない。
う。ゾル化温度が５℃未満の場合は、粒子径の小さいゾ
ルが得られるものの、ゾル化に多大の時間を要し効率的
でない。また、50℃を越えた場合は、得られるゾルの粒
子径が大きくなり、仮焼温度を高くする必要が生じる
等、セラミックス等の原料粉末の製造用原材料として好
ましくない。
上記温度保持時間はゾル化温度によって異なるが、通
常、３時間程度行えばよい。
常、３時間程度行えばよい。
ところで、時を経てペルオキシニオブ酸ゾルを使用す
る場合には、ペルオキシニオブ酸水溶液に、安定剤とし
て、しゅう酸、マロン酸、コハク酸等の水溶性の有機二
塩基酸をニオブ１モル部に対して１モル部添加してゾル
化の進行を抑制しておき、使用の際に、前記安定剤と等
当量のアンモニア水を加えて該安定剤を分解した上で、
上述のゾル化を行うことが好ましい。ゾル化後時を経る
と、ニオブ原料が均一微細なものではなくなるからであ
る。
る場合には、ペルオキシニオブ酸水溶液に、安定剤とし
て、しゅう酸、マロン酸、コハク酸等の水溶性の有機二
塩基酸をニオブ１モル部に対して１モル部添加してゾル
化の進行を抑制しておき、使用の際に、前記安定剤と等
当量のアンモニア水を加えて該安定剤を分解した上で、
上述のゾル化を行うことが好ましい。ゾル化後時を経る
と、ニオブ原料が均一微細なものではなくなるからであ
る。
以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明す
るが、本発明は下記実施例により何ら限定されるもので
はなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更実
施可能なものである。
るが、本発明は下記実施例により何ら限定されるもので
はなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更実
施可能なものである。
（実施例１） 水酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）0.2モルを純水300
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１を調製した。この水溶液
を45℃の温度に、48時間保持してペルオキシニオブ酸ゾ
ルを生成させた。
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１を調製した。この水溶液
を45℃の温度に、48時間保持してペルオキシニオブ酸ゾ
ルを生成させた。
次いで、生成したペルオキシニオブ酸ゾルに6Nアンモ
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
PH調整により限外濾過可能になった上記ペルオキシニ
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
（実施例２） 水酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）0.2モルを純水300
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１に調製した。この水溶液
に、安定剤として、しゅう酸0.2モルを添加した。その
後、10日間放置して沈澱形成の有無を観察したところ、
沈澱は全く見られなかった。因みに、安定剤を添加しな
かったこと以外は上記と同様の方法により別途調製した
ペルオキシニオブ酸水溶液は、１日経過した時点で黄色
沈澱を生成した。
mlに分散させ、これに濃塩酸１モルを加えた後、撹拌し
ながら過酸化水素0.8モルを徐々に加え、純水を追加し
て水酸化ニオブをペルオキシニオブ錯体に変化させペル
オキシニオブの錯体水溶液１に調製した。この水溶液
に、安定剤として、しゅう酸0.2モルを添加した。その
後、10日間放置して沈澱形成の有無を観察したところ、
沈澱は全く見られなかった。因みに、安定剤を添加しな
かったこと以外は上記と同様の方法により別途調製した
ペルオキシニオブ酸水溶液は、１日経過した時点で黄色
沈澱を生成した。
上記、安定剤を添加したペルオキシニオブ酸水溶液
に、安定剤分解剤として、アンモニア0.4モルを加えて
中和した後、該水溶液を45℃の温度に48時間保持してペ
ルオキシニオブ酸ゾルを生成させた。
に、安定剤分解剤として、アンモニア0.4モルを加えて
中和した後、該水溶液を45℃の温度に48時間保持してペ
ルオキシニオブ酸ゾルを生成させた。
次いで、生成したペルオキシニオブ酸ゾルに6Nアンモ
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
ニア水を滴下してそのPHを1.5に調整した。なお、この
ゾルのコロイド粒子の粒径は0.02μｍ（レーザー粒径解
析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて測定）で
あった。
PH調整により限外濾過可能になった上記ペルオキシニ
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
オブ酸ゾルを限外濾過膜（ポリスルホン、分画分子量10
000）に通して塩素イオン等の不純イオンを除去して精
製した。
（実施例３） 濃塩酸１モルに代えて、濃硝酸１モルを用いたこと以
外は実施例１と同様にして、ペルオキシニオブ酸ゾルお
よび精製ペルオキシニオブ酸ゾルを作製した。
外は実施例１と同様にして、ペルオキシニオブ酸ゾルお
よび精製ペルオキシニオブ酸ゾルを作製した。
（参考例１） 0.2モルの硝酸マグネシウム水溶液500mlに強塩基性ア
ニオン交換樹脂（イオン交換容量1.04eq/R−ｌ、住友化
学工業社製、商品名「Duolite A−101D」）500mlを加
え、30分間緩速撹拌した後、アニオン交換樹脂と水酸化
マグネシウムゾルとに分離した。
ニオン交換樹脂（イオン交換容量1.04eq/R−ｌ、住友化
学工業社製、商品名「Duolite A−101D」）500mlを加
え、30分間緩速撹拌した後、アニオン交換樹脂と水酸化
マグネシウムゾルとに分離した。
この水酸化マグネシウムゾルと上記実施例１で得た精
製ペルオキシニオブ酸ゾルとを撹拌しつつ混合し、この
混合物をスプレードライ法で乾燥した後、アルミナルツ
ボ中650℃の温度で、２時間加熱して仮焼（以下「Ｂ仮
焼」という）した。
製ペルオキシニオブ酸ゾルとを撹拌しつつ混合し、この
混合物をスプレードライ法で乾燥した後、アルミナルツ
ボ中650℃の温度で、２時間加熱して仮焼（以下「Ｂ仮
焼」という）した。
得られたＢ仮焼粉末の平均粒子径は0.08μｍ（レーザ
ー粒径解析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて
測定）であった。また、Ｘ線回析によりMgNb2O6結晶で
あることが確認された。
ー粒径解析システムLPA−3000/3100、大塚電子社製にて
測定）であった。また、Ｘ線回析によりMgNb2O6結晶で
あることが確認された。
このＢ仮焼粉末にPb（Mg1/3Nb2/3）O3となるように酸
化鉛を配合し、この配合物と純水とをジルコニアボール
（5mmφ）とともにポリアミド製の容器に入れた後、該
ポットをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次い
で、ジルコニアボールを分離して内容物を乾燥した。得
られた乾燥粉末をアルミナルツボ中700℃の温度で、２
時間仮焼（以下、「Ｐ仮焼」という）して、Pb（Mg0.33
Nb0.66）O3の組成のセラミックス製造用原料粉末を得
た。
化鉛を配合し、この配合物と純水とをジルコニアボール
（5mmφ）とともにポリアミド製の容器に入れた後、該
ポットをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次い
で、ジルコニアボールを分離して内容物を乾燥した。得
られた乾燥粉末をアルミナルツボ中700℃の温度で、２
時間仮焼（以下、「Ｐ仮焼」という）して、Pb（Mg0.33
Nb0.66）O3の組成のセラミックス製造用原料粉末を得
た。
得られたＰ仮化焼粉末について、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
上記Ｐ仮焼粉末を、ボールミルにて15時間湿式粉砕
し、その粉砕物を乾燥した後、８重量％のポリビニルア
ルコール水溶液を粉末に対して８重量％添加して顆粒化
した。この顆粒物を1000kg/cm2の圧力で加圧成形してペ
レット状のグリーン成形体とした。
し、その粉砕物を乾燥した後、８重量％のポリビニルア
ルコール水溶液を粉末に対して８重量％添加して顆粒化
した。この顆粒物を1000kg/cm2の圧力で加圧成形してペ
レット状のグリーン成形体とした。
次いで、上記グリーン成形体を電気炉に収容して500
℃の温度で４時間加熱し、ポリビニルアルコールを熱分
解させた後昇温し、温度950℃で２時間焼成して焼結ペ
レットを得た。
℃の温度で４時間加熱し、ポリビニルアルコールを熱分
解させた後昇温し、温度950℃で２時間焼成して焼結ペ
レットを得た。
得られた焼結ペレットについて、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
（参考例２） 実施例１で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルに代えて
実施例２で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
実施例２で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
得られた焼結ペレットについて、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
（参考例３） 実施例１で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルに代えて
実施例３で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
実施例３で得た精製ペルオキシニオブ酸ゾルを用いたこ
と以外は参考例１と同様にして、鉛系ペロブスカイト型
セラミックスの焼結ペレットを作製した。
得られた焼結ペレットについて、Ｘ線回析によりペロ
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
ブスカイト率を算出した結果を表に示す。
（比較参考例１） 酸化マグネシウム（宇部化学社製）および酸化ニオブ
（三井金属鉱業社製）の各粉末をMgNb2O6の組成になる
ように配合し、この配合物と純水とジルコニアボール
（5mmφ）とをポリアミド製ポットに入れた後、該ポッ
トをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次いで、
ジルコニアボールを分離して乾燥し、Ｂ仮焼した。この
Ｂ仮焼粉末にPb（Mg1/3Nb2/3）O3となるように酸化鉛
（大日本塗料社製）を配合し、以下、参考例１と同様に
して、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼粉末およ
び焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析によるペ
ロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。なお、Ｂ
仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の温度で２時
間行った。
（三井金属鉱業社製）の各粉末をMgNb2O6の組成になる
ように配合し、この配合物と純水とジルコニアボール
（5mmφ）とをポリアミド製ポットに入れた後、該ポッ
トをボールミルに設置して15時間湿式混合し、次いで、
ジルコニアボールを分離して乾燥し、Ｂ仮焼した。この
Ｂ仮焼粉末にPb（Mg1/3Nb2/3）O3となるように酸化鉛
（大日本塗料社製）を配合し、以下、参考例１と同様に
して、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼粉末およ
び焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析によるペ
ロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。なお、Ｂ
仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の温度で２時
間行った。
（比較参考例２〜４） 酸化マグネシウムに代えて、各々酸化第２鉄（レアメ
タル社製）（比較参考例２）、酸化コバルト（和光純薬
社製）（比較参考例３）、酸化ニッケル（キシダ化学社
製）（比較参考例４）を用いたこと以外は比較参考例１
と同様にして、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼
粉末および焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析
によりペロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。
なお、Ｂ仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の各
温度で２時間行った。
タル社製）（比較参考例２）、酸化コバルト（和光純薬
社製）（比較参考例３）、酸化ニッケル（キシダ化学社
製）（比較参考例４）を用いたこと以外は比較参考例１
と同様にして、二段仮焼および焼結を行い、順次Ｐ仮焼
粉末および焼結ペレットを得、これらについてＸ線回析
によりペロブスカイト率を算出した。結果を表に示す。
なお、Ｂ仮焼、Ｐ仮焼および焼結は、表に示す所定の各
温度で２時間行った。
表に示すように、参考例１〜３で得た各焼結ペレット
のペロブスカイト率はすべて100％であるのに対して、
比較のために作製した各焼結ペレット（比較参考例１〜
４）のペロブスカイト率はいずれも100％未満（96.5〜9
7.5％）と低い。
のペロブスカイト率はすべて100％であるのに対して、
比較のために作製した各焼結ペレット（比較参考例１〜
４）のペロブスカイト率はいずれも100％未満（96.5〜9
7.5％）と低い。
このことから、本発明に係るペルオキシニオブ酸ゾル
をニオブ原料として用いて作製されたセラミックスはい
ずれも、ペロブスカイト相のみからなるのに対して、酸
化ニオブをニオブ原料として用いて作製されたものは全
て、ペロブスカイト相とパイロクロア相との混相からな
るものであることが確認された。
をニオブ原料として用いて作製されたセラミックスはい
ずれも、ペロブスカイト相のみからなるのに対して、酸
化ニオブをニオブ原料として用いて作製されたものは全
て、ペロブスカイト相とパイロクロア相との混相からな
るものであることが確認された。
なお、上記参考例ではいずれもニオブ含有鉛系ペロブ
スカイト型セラミックスについてのみ説明したが、本発
明に係るペルオキシニオブ酸ゾルは鉛系に限らずチタン
酸バリウム系等、種々のセラミックスの製造原料として
用い得ることはもとより、セラミックスに限らず、ニオ
ブ成分を分散性良く用いることが好ましい種々の用途に
好適に用い得るものである。
スカイト型セラミックスについてのみ説明したが、本発
明に係るペルオキシニオブ酸ゾルは鉛系に限らずチタン
酸バリウム系等、種々のセラミックスの製造原料として
用い得ることはもとより、セラミックスに限らず、ニオ
ブ成分を分散性良く用いることが好ましい種々の用途に
好適に用い得るものである。
以上、詳細に説明したように、本発明方法によによれ
ば、均一微細な組成を有するセラミックスを製造し得る
ペルオキシニオブ酸ゾルを得ることができ、その結果、
圧電体、半導体、センサー、オプトエレクトロニクス
材、誘電体、超伝導体等の原材料にニオブ原料を適用す
ることが可能になる他、ニオブ成分を分散性良く用いる
ことが好ましい他のあらゆる用途に好適に用い得るニオ
ブ原料を実現する等、本発明は優れた特有の効果を奏す
るものである。
ば、均一微細な組成を有するセラミックスを製造し得る
ペルオキシニオブ酸ゾルを得ることができ、その結果、
圧電体、半導体、センサー、オプトエレクトロニクス
材、誘電体、超伝導体等の原材料にニオブ原料を適用す
ることが可能になる他、ニオブ成分を分散性良く用いる
ことが好ましい他のあらゆる用途に好適に用い得るニオ
ブ原料を実現する等、本発明は優れた特有の効果を奏す
るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安倍 一允 大阪府堺市戎島町５丁１番地 堺化学工業 株式会社内 (72)発明者 宇野 肇 大阪府堺市戎島町５丁１番地 堺化学工業 株式会社内 (72)発明者 白崎 信一 茨城県新治郡桜村竹園３―610―201
Claims (7)
- 【請求項１】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えてペルオキシニオブ酸水溶
液とし、次いで該水溶液を５〜50℃の温度に保持するこ
とを特徴とするペルオキシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項２】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えてペルオキシニオブ酸水溶
液とし、次いで該水溶液を５〜50℃の温度に保持してペ
ルオキシニオブ酸ゾルを生成させた後、限外濾過膜を用
いて精製することを特徴とするペルオキシニオブ酸ゾル
の製造方法。 - 【請求項３】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えて得たペルオキシニオブ酸
水溶液にさらに水溶性の有機二塩基酸を安定剤として添
加したものに、アンモニア水を添加し、次いでこの水溶
液を５〜50℃の温度に保持することを特徴とするペルオ
キシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項４】水酸化ニオブ、酸化ニオブおよび五塩化ニ
オブの中から選ばれた少なくとも一種のニオブ化合物に
強酸と過酸化水素水とを加えて得たペルオキシニオブ酸
水溶液にさらに水溶性の有機二塩基酸を安定剤として添
加したものに、アンモニア水を添加し、次いでこの水溶
液を５〜50℃の温度に保持してペルオキシニオブ酸ゾル
を生成させた後、限外濾過膜を用いて精製することを特
徴とするペルオキシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項５】前記少なくとも一種のニオブ化合物に強酸
と過酸化水素水とを加えてペルオキシニオブ酸水溶液と
する反応を５℃を越えない温度で行う請求項１〜４のい
ずれかに記載のペルオキシニオブ酸ゾルの製造方法。 - 【請求項６】前記強酸が濃塩酸または濃硝酸である請求
項１〜５のいずれかに記載のペルオキシニオブ酸ゾルの
製造方法。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法
により製造されたペルオキシニオブ酸ゾル。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1294184A JPH08701B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 |
| DE69018934T DE69018934T2 (de) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | Verfahren zur Erzeugung einer Peroxoniobsäuresol. |
| EP90312386A EP0428388B1 (en) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | Process for producing peroxoniobic acid sol |
| US07/611,265 US5102649A (en) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | Process for producing peroxoniobic acid sol |
| KR1019900018570A KR0160778B1 (ko) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | 과산화니오브산졸 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1294184A JPH08701B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03153527A JPH03153527A (ja) | 1991-07-01 |
| JPH08701B2 true JPH08701B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=17804401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1294184A Expired - Lifetime JPH08701B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ペルオキシニオブ酸ゾルおよびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5102649A (ja) |
| EP (1) | EP0428388B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08701B2 (ja) |
| KR (1) | KR0160778B1 (ja) |
| DE (1) | DE69018934T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008081378A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | ニオブ系酸化物微粒子の製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4651000B2 (ja) * | 2004-01-13 | 2011-03-16 | 多木化学株式会社 | 酸化ニオブゾルの製造方法 |
| JP4582789B2 (ja) * | 2005-07-25 | 2010-11-17 | 多木化学株式会社 | セリア−ジルコニア固溶体ゾル及びその製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2259396A (en) * | 1938-12-29 | 1941-10-14 | Walter H Duisberg | Process of recovering niobium oxide fromits ores |
| SU242158A1 (ja) * | 1967-05-11 | 1974-09-25 | Г. И. Горштейн, В. С. Нечаева, Л. В. Васильева, О. Д. Звонцова, Р. Е. Гуревич, И. А. Кифарова , В. К. Малашенкова | |
| US3873584A (en) * | 1972-12-27 | 1975-03-25 | Said Burke By Said Kizer And D | Hydroxyl containing unsaturated drying oil polymers and processes for preparing polymers |
| JPS553717A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-11 | Masachika Sakao | Production of special confection |
| JPH05110197A (ja) * | 1991-10-16 | 1993-04-30 | Hikari Gijutsu Kenkyu Kaihatsu Kk | 半導体レーザ |
-
1989
- 1989-11-13 JP JP1294184A patent/JPH08701B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-11-13 US US07/611,265 patent/US5102649A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-13 DE DE69018934T patent/DE69018934T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-13 KR KR1019900018570A patent/KR0160778B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-13 EP EP90312386A patent/EP0428388B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008081378A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | ニオブ系酸化物微粒子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR910021341A (ko) | 1991-12-20 |
| US5102649A (en) | 1992-04-07 |
| DE69018934T2 (de) | 1995-12-14 |
| EP0428388A1 (en) | 1991-05-22 |
| EP0428388B1 (en) | 1995-04-26 |
| KR0160778B1 (ko) | 1998-11-16 |
| JPH03153527A (ja) | 1991-07-01 |
| DE69018934D1 (de) | 1995-06-01 |
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