JPH0883876A - 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置およびその製造方法Info
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Abstract
く、かつリードの共用化を図ることにより配線設計の自
由度が高いワイヤボンディングが可能な樹脂封止型半導
体装置およびその製造方法を提供すること。 【構成】樹脂封止型半導体装置100は、素子設置面1
2を有する素子載置部10と、前記素子設置面12に接
合された半導体素子20と、この半導体素子20に対し
て離間して配設された複数のリード30と、これらのリ
ード30および半導体素子20との間に位置しかつ両者
と非接触の状態で配設されたフレームリード36と、種
々のワイヤ40と、素子載置部10、半導体素子20、
リード30の一部および前記フレームリード36を、封
止する樹脂封止部と、を含む。
Description
する半導体装置及びその製造方法に関する。
LSI等の集積度の高い半導体装置においては、半導体
チップにおける入出力用の電極(パッド)および電源用
電極の数が多くなる。したがって、それぞれの電極に接
続するため、この電極と同じ数のたくさんのリードが必
要となる。
源をとろうとするときに、それぞれの接続用のワイヤの
長さが異なると、その抵抗値が異なることとなる。そう
すると、それぞれの電圧降下が異なることから各電極に
同一の電圧を印加することが難しくなる。なお、各電極
と電源とを接続するワイヤの長さを、全て等しくするた
めには、最も長くなるものに他のものを合わせる必要が
あり、ワイヤが長くなってその電圧降下が大きくなって
しまう。
特開平4−174551号公報に開示された半導体装置
がある。この半導体装置は、半導体チップの回路形成面
の上に共用インナーリードが絶縁性接着材を介して積層
され、かつ、半導体チップの外側に該半導体チップと電
気的に接続された複数の信号用インナーリードが設けら
れ、半導体チップが共用インナーリードで保持された形
でモールド樹脂で封止されていることに特徴を有する。
搭載されるタブを設けていないので、ボンディングワイ
ヤとタブとの短絡を防止できること、共用インナーリー
ドを例えば電源用リードとして用いることにより、リー
ドピンの共用化を容易に実現することができること、等
の利点を有する。
は、リードの数を減らすとともに、ワイヤの長さを短く
して電圧降下を低減させることになる。
は、半導体チップ表面に共用インナーリードが積層され
るため、半導体チップ表面の電極パッドの配列設計に制
約があること、共用インナーリードと半導体チップとを
接続する絶縁性接着材によるチップの汚染や接着材の軟
化によるボンディング不良等が発生する可能性があるこ
と、等の問題があった。
半導体チップの周囲に共用インナーリードを設けた半導
体装置が開示されている。この構成によれば、半導体チ
ップ表面に共用インナーリードを設けるのではないた
め、電極パッドの配列設計の制約をなくして、ボンディ
ング不良も避けることができる。
するタブがリードの一つに一体的に設けられており、こ
のタブの外周に共用リードが設けられるので、タブと共
用インナーリードとの間の絶縁を十分に図ることが難し
い。また、共用インナーリードを設けるとはいうもの
の、その形状は、タブが設けられるリードを避けて一部
が切断された形状としなければならず、形状に制約があ
る。そして、形状に制約があると、ボンディングを行う
位置も制約を受けるという問題があった。
に伴い、低コストで放熱性の良好なプラスチックパッケ
ージの要求が高まっている。これに対処するために、材
料の面からは、リードフレームや封止用樹脂の熱伝導性
を高めることが検討され、構造の面からは、リードフレ
ーム・デザインの変更やヒートシンクすなわち放熱体の
付加による放熱性の向上が検討されている。特に、放熱
体の付加によるパッケージの放熱性の改善は、消費電力
が1チップあたり2W程度までのLSIにおいては、も
っともオーソドックスな対策と考えられている。
願発明の発明者は、既に特開平6−53390号に係る
発明を創作した。この発明では、熱伝導性の高い放熱体
を用いて、その放熱体にダイパッドの代わりとなる素子
載置の機能をもたせた構造を採っていた。その際、イン
ナリードの支持といった観点から放熱体上に絶縁部材を
配置しその絶縁部材によりリードを支持させる構造を採
っていた。
熱性においても優れた半導体装置を得ることができる。
とにより、リードの数を減らし、ワイヤの長さを短くし
て電圧降下を低減して、配線設計の自由度が高い樹脂封
止型半導体装置及びその製造方法を提供することにあ
る。
る樹脂封止型半導体装置及びその製造方法を提供するこ
とにある。
封止型半導体装置は、半導体素子を設置するための素子
設置面を有する素子載置部材と、この素子載置部材の前
記素子設置面に接合された半導体素子と、この半導体素
子から離間した位置で前記素子載置部に対して絶縁され
て配設される複数のリードと、前記半導体素子の周囲を
非接触状態で切れ間なく囲み、前記素子設置面から浮い
た状態で配設されるフレームリードと、少なくとも、前
記リードと前記半導体素子の電極部とを電気的に接続す
るワイヤ、前記リードと前記フレームリードとを電気的
に接続するワイヤおよび前記フレームリードと前記半導
体素子の電極部とを電気的に接続するワイヤを含むワイ
ヤ群と、前記素子載置部材、前記半導体素子、前記リー
ドの一部および前記フレームリードを封止する樹脂封止
部と、を含む。
リードとの間にフレームリードを設け、このフレームリ
ードを例えば電源用リードとして用いることにより、少
ない本数のリードによって半導体素子の電極部に所定の
電圧を安定して供給することができ、電源ノイズを低下
させながら動作速度の高速化を達成することができる。
れたリードに相当する本数のリードは例えば信号用リー
ドとして用いることができるため、配線設計の自由度が
向上する。
部材の素子設置面は、前記リードを構成するインナーリ
ードの先端が平面的にみて重なる位置まで延設されてい
ることが好ましい。このような構成によれば、インナー
リードのワイヤボンディングに際して前記素子設置面を
インナーリードの先端部を支持する台として兼用するこ
とができる。
リードは、前記素子載置部材の素子設置面に対して弾性
変形の範囲で接触可能な自由端を確保した状態で絶縁性
のリード支持部によって支持され、このリード支持部を
介して前記素子載置部材と前記インナーリードとが接合
されていることが好ましい。この構成によれば、ワイヤ
ボンディングの工程において、インナーリードがリード
支持部を支点としてその自由端が下方に変形して前記素
子設置面に当接することにより、ワイヤの接続を確実か
つ安定に行うことができるとともに、インナーリードは
リード支持部によって確実に固定される。
い材質で構成して放熱性を高めることが好ましい。
優れるだけでなく、導電性を有する材料、例えば銅,ア
ルミニウム,金または銀等の金属、あるいはこれらの各
金属を主成分とする合金によって形成されることによ
り、この素子載置部材を接地領域として用いることがで
きる。
とし、リードフレームをプラスの電位とする場合に、リ
ードフレームが素子載置部材から浮いた状態で配置され
るので、樹脂封止されると両者の間にコンデンサが接続
されたのと同様の状態となってノイズの低減を図ること
ができる。
導体素子の電極部の接地が可能な第1導電層および前記
リードの接地が可能な第2導電層の少なくとも一方が、
前記素子設置面に形成されていることが望ましい。この
構成によれば、半導体素子の電極部の接地ならびにリー
ドの接地を任意の領域において行うことができ、その結
果接地用のリードを減らすことができ、この点からもリ
ードの配線設計の自由度が向上する。
えば銀,金,パラジウム,アルミニウム等の金属を例え
ばメッキすることによって形成される。
に離間して形成されていてもよく、あるいは連続的に形
成されていてもよい。
第1導電層および第2導電層が形成された領域以外の素
子載置部材の表面に、絶縁層が形成されていることが望
ましい。このような絶縁層は、例えば素子載置部材を構
成する金属を酸化処理して得られた金属酸化膜から構成
されることが好ましい。この絶縁層を形成することによ
り、リードおよびフレームリードと導電性を有する素子
載置部材との短絡を防止することができる。さらに、前
記絶縁層が金属酸化膜から形成されている場合には、通
常この酸化膜は黒色等の暗色を呈しているため、ワイヤ
ボンディングにおける画像認識でのリードの認識が容易
となるだけでなく、この金属酸化膜は金属に比べて樹脂
封止部を構成する樹脂との密着性がよく、パッケージの
機械的強度が向上する利点がある。
部材は、樹脂封止部内に埋設されたタイプ、あるいは一
部が露出するタイプのいずれでもよいが、放熱効率の点
からすれば、露出するタイプが好ましい。
置面を含む大径部とこの大径部より突出する小径部とか
らなる、断面形状がほぼ凸状をなすことが好ましい。さ
らに、前記小径部の端面は樹脂封止部から露出している
ことが好ましい。この構成によれば、素子載置部材の表
面積を大きくすることができるため、半導体素子で発生
した熱は、素子載置部材を介して効率よく分散され、さ
らに、樹脂封止部より露出した面を介して外部に放出さ
れることにより、効率のよい放熱が行われる。さらに、
この素子載置部材によれば、半導体素子が搭載される素
子設置面と樹脂封止部から露出する面との距離を大きく
することができるため、半導体素子や配線に悪影響を与
えるガスあるいは水分等の侵入を抑制することができ
る。また、素子載置部材と樹脂封止部との接合力を高め
るために、例えば、前記素子載置部材の小径部にアンダ
ーカットを形成したり、小径部の領域を除く大径部にお
いて厚さ方向に連通する樹脂連通孔を形成することが好
ましい。
リードは、ワイヤボンディングの画像認識においてマー
キングとして機能する認識用突起を有することが好まし
い。このような認識用突起を形成することにより、ワイ
ヤボンディング時の画像認識によるボンディング位置の
認識が正確かつ容易となる利点がある。
って確実に支持され、かつ短絡を防止するために前記素
子載置部材と離間した状態で設けられることが好まし
い。また、このフレームリードは、連続したフレーム部
材から構成されていてもよく、あるいは不連続部分を有
するフレーム部材から構成されていてもよい。
は、以下の工程(a)ないし(d)を含むことが好まし
い。
位置に導電性の接着剤によって半導体素子を接合する工
程、(b) 前記素子載置部材の素子設置面上に絶縁性
のリード支持部を配設し、このリード支持部の上に、イ
ンナーリード,アウターリードおよびフレームリードが
一体的に形成されたリードフレームを配置し、前記リー
ド支持部を介して前記素子載置部材と前記リードフレー
ムとを接着固定する工程、(c) 少なくとも、前記リ
ードと前記半導体素子の電極部とを電気的に接続するワ
イヤ、前記リードと前記フレームリードとを電気的に接
続するワイヤ、および前記フレームリードと前記半導体
素子の電極部とを電気的に接続するワイヤを含むワイヤ
群を、ワイヤボンディング手段によって形成する工程、
および、(d) 前記工程(a)〜(c)で形成された
部材を金型にセットし、モールディングによって樹脂封
止部を形成する工程。
ドと前記半導体素子の電極部とを接続するワイヤは、リ
ード押えにより前記リードを押下してその先端部を前記
素子載置部材の素子設置面に当接させた状態で形成され
ることが好ましい。
体装置を効率よく製造することができる。
導体装置を、樹脂封止部を除いた状態で模式的に示す平
面図であり、図2は、図1のII−II線に沿って切断した
状態を模式的に示す断面図である。
部10と、この素子載置部10の素子設置面12に接合
された半導体素子20と、前記素子載置部10に対して
リード支持部50を介して固定された複数のリード(リ
ード群)30と、前記半導体素子20の外側に配設され
たフレームリード36と、を有している。
すように、大径部10aと、この大径部10aより突出
する小径部10bとからなり、断面形状がほぼ凸状を成
している。そして、大径部10aの下面が素子設置面1
2を構成し、小径部10bの上面が露出面14を構成し
ている。
に、半導体素子20が設置される領域を含みこの領域よ
り大きい表面積を有する第1導電層18aと、この第1
導電層18aと離間した位置に複数のスポット状の第2
導電層18bとが形成されている。そして、これらの導
電層18a,18bを除く素子載置部10の表面には絶
縁層16が形成されている。
ラミックからなるものでもよいが、熱伝導率が高く導電
性を有する材料、例えば銅,アルミニウム,銀または金
等の金属あるいはこれらの各金属を主成分とする合金か
ら構成されることが望ましい。特に、経済性を考慮すれ
ば銅が好ましい。
特に制限されないが、例えば、銀,金,パラジウム,ア
ルミニウム等を例示することができ、導電性および半導
体素子20との接着性を考慮すると、特に銀が好まし
い。これらの導電層18a,18bは、例えばメッキ,
接着等の方法によって形成することができる。これらの
導電層18a,18bは、後に詳述するが、接地面とし
て用いられる。
有する限りにおいてその材質は特に制限されないが、例
えば素子載置部10を構成する金属を酸化処理して得ら
れた金属酸化膜であることが好ましい。例えば、素子載
置部10が銅で構成されている場合、強アルカリ性の処
理液を用いて表面を酸化処理することによって絶縁層を
得ることができる。この絶縁層16を設けることによ
り、リード30およびフレームリード36と素子載置部
10との短絡を防止することができる。さらに、例えば
酸化銅によって構成された絶縁層16は、通常黒色ない
し茶色などの暗色を呈し、そのためワイヤボンディング
における画像認識においてリード30の認識が容易とな
るだけでなく、樹脂封止部60を構成する樹脂との密着
性がよいため、パッケージの機械的強度が向上する。
0の素子設置面12に形成された第1導電層18a上
に、例えば銀ペーストによって接着固定されている。そ
して、半導体素子20の表面には、所定の配列で複数の
電極パッド22が形成されている。
に沿って連続的にリード支持部50が接着によって固定
されている。このリード支持部50は、絶縁性を有する
樹脂、例えばポリイミド樹脂,エポキシ樹脂等の熱硬化
性樹脂等のテープ状部材から構成されている。
32は、図3に拡大して示すように、その先端から所定
距離L離れた位置においてリード支持部50に接着によ
って固定され、したがって、インナーリード32はリー
ド支持部50を介して先端がフリーの状態で素子載置部
10に固定されていることになる。
ナーリード32の一部だけを支持するように、素子載置
部10の外周部に小さな幅で設けられている。リード支
持部50は、樹脂にて構成されており、その性質上水分
を吸収するものであるが、上記のように小さく構成する
ことで、吸収する水分をできるだけ減少させることがで
きる。
ンナーリード32におけるワイヤボンディングされる領
域を避けて設けられている。
20の電極パッド22とは、金,銀等のワイヤ40(例
えば信号用ワイヤ42)によって電気的に接続されてい
る。
ワイヤボンディングの様子を、図4および図5に示す。
なお、ワイヤボンディングは、ワイヤの短いものから順
に行うこととすれば、ワイヤを挟持する治具がボンディ
ング済みのワイヤを引っかけて切断してしまうことを避
けられる。
A,1Bにより各インナーリード32の自由端32aを
上方から押下すると、各インナーリード32は先端がフ
リーの状態にあるためリード支持部50を支点として自
由端32aが下方に変形し、端部が素子設置面12に当
接する。この状態で、ワイヤボンディングを行うことに
より、ワイヤ40の接続を確実かつ安定に行うことがで
きる。
成されていることからワイヤボンディングの際の熱で柔
らかくなりやすいが、上述したようにリード支持部50
が、ワイヤボンディングする領域を避けて設けられてい
るので、熱の影響を受けにくくなっている。そして、リ
ード支持部50がクッションになってワイヤボンディン
グを行いにくいという不都合を解消できる。
ド押さえ1A,1Bを離すことにより、図5に示すよう
に、各インナーリード32はその弾性により元の水平な
状態に戻って支持される。そして、各インナーリード3
2と素子載置部10とは絶縁性のリード支持部50によ
って電気的に絶縁されている。
ンナーリードの機械的安定性を考慮すると、インナーリ
ード32は、その自由端32aは、弾性変形の範囲でそ
の端部が素子設置面12に当接するのに充分の長さを有
すること、ならびにボンディング終了後に元の水平状態
に完全に復帰できる機械的強度を有すること、等が要求
される。これらの条件を満足させるように、インナーリ
ード32の自由端32aはその長さや機械的強度が設定
されればよく、これらの条件はデバイスのサイズ、半導
体素子の設計事項およびリードの強度などによって各種
の態様を取り得るものである。また、リード支持部50
は、インナーリード32を安定に支持できること、イン
ナーリード32の自由端32aと素子載置部10との距
離を電気的に絶縁できる十分な厚みを有すること、なら
びに熱加工時に変形,変質が少ないこと、等が要求され
る。
に、リード支持部50の幅をW、リード支持部50の厚
さをT、インナーリード32の自由端32aの長さを
L、インナーリード32の厚さをtとすると、設計ルー
ルの一例として以下の数値を挙げることができる。
参照しながら述べる。前記素子載置部10の導電層18
aおよび18bは、接地面として機能する。すなわち、
第1導電層18aの露出面と複数の接地用電源パッド2
2とを接地用ワイヤ44aによって接続することによ
り、第1導電層18aの露出面を接地用として共用化で
きる。また、第2導電層18bとインナーリード32と
を接地用ワイヤ44bによって接続することにより、第
2導電層18bをリードの接地面として用いることがで
きる。このように導電層18aおよび18bは、接地用
電極パッド22およびインナーリード32の個別または
共用化された接地面としてそれぞれ機能する。その結
果、接地用として共用化されたリードに相当する本数の
リードを例えば信号用リードとして使用することがで
き、配線設計の自由度が増す。
様としては種々あるが、例えば以下の場合を例示するこ
とができる。
く、1あるいは複数のインナーリード32が接地された
場合には、半導体素子20の裏面電位を接地電位とする
ことができる。
22が接地され、1ないし少数のインナーリード32が
接地された場合には、1ないし少数のリードで多くの半
導体素子の接地点が得られ、かつ安定した接地電位が得
られる。
1つのインナーリード32とが接地された場合には、半
導体素子の裏面、半導体素子の接地用電極パッドおよび
リードの接地が共通となってこれらを同電位に設定でき
るため、半導体素子の電位が安定して動作が安定化す
る。
ディングと同様に、ワイヤの短いものから順に行うこと
が好ましい。
0とインナーリード32との間に両者と非接触の状態で
設置され、好ましくは短絡を防止するために導電層18
a,18bに対して平面的に見てずれた位置に設けられ
ている。このフレームリード36は、4本の支持リード
38によって安定的に支持されている。そして、支持リ
ード38はそれぞれ前記リード支持部50によってその
一部が固定されている。
置に複数の認識用突起36aが形成されている。この認
識用突起36aは、ワイヤボンディングの際におけるボ
ンディング位置の認識を容易とする。すなわち、ワイヤ
ボンディングは、半導体素子20上の電極パッド22の
基準座標と、リードフレームのボンディング位置の基準
座標とをあらかじめ記憶しておき、さらに、画像認識に
よって実際にボンディングする電極パッドおよびリード
フレームの各位置座標との差を検出して、これをもとに
補正座標を計算した後、自動的かつ連続的に行われる
が、前記認識用突起36aは画像認識によるボンディン
グ位置の検出時のマーキングとして機能する。
圧(Vcc)リードまたは基準電圧(Vss)リードと
して使用される。このフレームリード36を例えばVc
cリードとして用いる場合には、複数の電源用電極パッ
ド22および少数のリード30とフレームリード36と
を電源用ワイヤ46によってそれぞれ接続することによ
り、電源用に使用されるリードの数を大幅に減少させる
ことができる。したがって、信号用リードとして使用で
きるリードを相対的に増加させることができ、半導体素
子の電極パッドとリードとのワイヤ配線の自由度を高め
ることができ、設計上有利となる。
より、半導体素子20表面のどの位置においても所定の
電源電圧または基準電圧を供給することができ、電源ノ
イズを低減した状態で動作速度の高速化を図ることがで
きる。
20の外側に位置し、空間的な制約が少ないため、フレ
ームリード36の幅を充分大きくすることができる。し
たがって、フレームリード36を電源用リードとして用
いたときにはその電気的抵抗を小さくすることができ、
どの位置でも安定した電圧を供給することができる。さ
らに、フレームリード36を電源用リードとして用いた
ときには、フレムリード36に対して導電層18aおよ
び導電層18bが向かい合っているため、コンデンサと
同様の状態となり、電源ノイズの減少とともに高速対応
が可能となる。
方法について説明する。
ム1000について説明する。リードフレーム1000
は、例えば、基板フレーム70に、インナーリード32
およびアウターリード34からなるリード30、フレー
ムリード36および支持リード38が所定のパターンで
一体的に支持されて形成されている。そして、アウター
リード34は相互にダムバー部72によって連結され、
リードフレームの補強がなされている。インナーリード
32は中央の所定領域(デバイスホール)を残すように
アウターリード34から延設されている。そして、この
領域内にフレームリード36が配置され、このフレーム
リード36の四隅は支持リード38によって支持され、
各支持リード38はダムバー部72に接続されている。
ド36は4本の支持リード38によって支持されている
が、支持リード38はフレームリード36を安定に支持
できればよく、例えば対向する位置に2本のみ配置する
等、その本数や配置についてはこの例に限定されない。
に示すように、大径部10aと小径部12bとからなる
素子載置部本体の所定領域に、例えば銀メッキによって
導電層18a,18bが形成される。そして、これらの
導電層18a,18bをマスキングした状態で素子載置
部本体を例えばメルテックス株式会社製の「エボノール
(商品名)」に数秒間浸漬して表面を酸化処理すること
により絶縁層16を形成する。このようにして形成され
た絶縁層は、例えば2〜3μmの膜厚を有し、その電気
抵抗率が1013Ωcm以上と、良好な絶縁性を有するこ
とが確認された。
形成した後に導電層18a,18bを形成してもよいこ
とはもちろんである。
素子設置面12の所定位置に銀ペースト等の導電性接着
剤を用いて半導体素子20を接合する。その後、素子載
置部10、リード支持部50およびリードフレーム10
00を位置合わせして重ね合わせ、3者を例えばエポキ
シ樹脂等の接着剤を用いて熱圧着し、相互を固定する。
次いで、通常の手法により、ワイヤボンディング装置を
用いて信号用ワイヤ42、接地用ワイヤ44a,44b
および電源用ワイヤ46を所定のパターンでボンディン
グする。
ば、接地用ワイヤのボンディング、電源用ワイヤのボン
ディング、続いて信号ワイヤのボンディングというよう
に、ボンディング距離の短い箇所からボンディングを行
うことにより、例えば隣接するワイヤとの接触をボンデ
ィングプロセスにおいて防ぐことができ、その結果確実
なワイヤボンディングを行うことができる。
グプロセスによってエポキシ系樹脂等を用いて樹脂封止
部60を形成する。このとき、素子載置部10の露出面
14が樹脂封止部60より露出する状態でモールドが行
われる。
金型80と素子載置部10およびリード支持部50との
関係の一例を示す模式図である。同図に示すように、素
子載置部10の高さh1とリード支持部50の高さ(厚
さ)h2との和h1+h2は、下金型82のキャビティ
84の深さHとほぼ等しいことが好ましい。具体的に
は、例えばリード支持部50の厚さh2が0.05〜
0.5mmである場合には、キャビティ84の深さHと
素子載置部10の高さh1との差H−h1は0〜0.5
mmであることが好ましい。このように素子載置部10
の高さh1、リード支持部50の厚さh2およびキャビ
ティ84の深さHを設定することにより、半導体素子2
0およびリードフレーム1000を正確に位置決めした
状態で樹脂のモールディングが可能となり、かつ素子載
置部10の露出面14が樹脂封止部60より確実に露出
した状態で形成されることになる。
部72が切断され、さらに必要に応じてアウターリード
34の成形が行われる。
あるいは作用をまとめると、以下のようになる。
導体素子20で発生した熱は熱伝導性の高い素子載置部
10を介して効率よく分散され、しかも樹脂封止部60
より露出する露出面14を介して外部に放出される。そ
して、素子載置部10の形状を断面ほぼ凸状の形状とす
ることにより、素子載置部10の表面積を増大させるこ
とができ、放熱効果を高めることができる。
置面12と反対側の面を段差構造とすることにより、露
出面14から素子設置面12に至る距離を大きくするこ
とができ、外部からのガスあるいは水分等の侵入による
素子特性の劣化を抑制することができる。
6を有することにより、リード30およびフレームリー
ド36と素子載置部10との短絡を防止することができ
る。また、絶縁層16は暗色を呈することからワイヤボ
ンディングにおけるリード認識が容易になるばかりでな
く、絶縁層16は樹脂封止部60との密着を高める効果
も有している。
フレームリード36を設け、このフレームリード36を
例えば電源用リード(VccあるいはVssリード)と
して用いることにより、少ないリード30によって半導
体素子20の任意の位置に形成された電源用電極パッド
22に所定の電圧を安定に供給することができ、電源ノ
イズを低下させ、動作速度の高速化を達成することがで
きる。
リードを共有化することができ、その共有化された分の
リードを例えば信号用リードとして用いることができる
ため、配線設計の自由度が向上する。
突起36aが形成されているため、ワイヤボンディング
時の画像認識によるボンディング位置の認識が確実かつ
容易となる。
導電性を有する素子載置部本体と電気的に接続された導
電層18aまたは18bを設けることにより、接地用ワ
イヤ44a,44bを介して半導体素子20の接地用電
極パッド22あるいはリード30と前記導電層18aあ
るいは18bとをそれぞれ接続することにより、接地を
任意の領域において行うことができる。その結果、接地
用のリードを減らすことができるため、その分のリード
を例えば信号用リードとして利用することができ、この
点からもリードの配線設計の自由度が向上する。
0について、図8および図9を参照しながら説明する。
なお、これらの図において、前記第1実施例の半導体装
置100と実質的に同一の機能を有する部材には同一の
符号を付し、その詳細な説明を省略する。
実施例の半導体装置100と異なる第1の点は、素子載
置部10の平面形状が長辺と短辺とからなる長方形状で
あって、リード支持部が短辺側、つまり長辺に対して対
向する一対のリード支持部52,54から構成されてい
る点である。
54を設けた理由は、半導体素子20およびフレームリ
ード36を設けるための領域を確保するためには、短辺
方向のインナーリード32の長さを長辺方向のインナー
リード32より短く形成せざるをえないからである。す
なわち、短辺方向のインナーリード32に対してリード
支持部を設けると、ワイヤボンディングにおいて必要と
される自由端32aの長さL(図3参照)を確保でき
ず、したがって確実なワイヤボンディングを行うことが
できないおそれがある。ただし、図9に明らかに示すよ
うに、短辺方向のインナーリード32は長辺方向のイン
ナーリード32に比べてその長さが短いため、リードフ
レームおよびリード自身の有する機械的強度によってリ
ード支持部に相当する構成がなくとも、ワイヤボンディ
ング時の安定性を充分確保することができる。
施例と異なる第2の点は、インナーリード32の接地面
を構成する第2の導電層18bがスポット状ではなく、
フレームリード36の辺に沿って連続的にのびるベルト
形状を有していることである。このような細長い形状を
有する第2導電層18bによれば、接地用ワイヤ44b
の形成領域が拡大し、配線設計がより容易となる利点が
ある。
施例と異なる第3の点は、小径部10bの領域を除く大
径部10aにおいて、厚さ方向に連通する樹脂連通孔6
2を形成したことである。この樹脂連通孔62を形成す
ることにより、樹脂封止部60を構成する樹脂がこの樹
脂連通孔62に流入することにより、素子載置部10と
樹脂封止部60との接合強度が強固となり、パッケージ
の機械的強度がより大きくなる。
本的に同様の機能を達成できる。すなわち、第1に、素
子載置部10を設けることにより、良好な放熱効果を有
すること、素子載置部10の表面に絶縁層16を設ける
ことにより、リード30およびリードフレーム36と素
子載置部10との短絡を防止することができること等、
第2に、フレームリード36を設けることにより、例え
ば電源リードを共有化できること、半導体素子20の電
源用電極パッド22に所定の電圧を安定的に供給するこ
とができること等、第3に、素子載置部10に導電層1
8a、18bを設けることにより、共有化された接地面
を形成することができ、少数のリードで多くの接地点を
確保することができること、等の作用効果を有する。
載置部10の導電層のパターンは前記実施例に限定され
ず、種々の態様を取り得る。例えば、図10(a),
(b)に示すように、半導体素子20の接地領域とイン
ナーリード32の接地領域とを連続的に形成してなる導
電層18cによって接地面を構成してもよい。この実施
例の場合には、フレームリード36が導電層18c上に
形成されることになるので、両者の短絡が防止されるよ
うに、例えばフレーム36の支持を強固とする等の配慮
が行われることが望ましい。
施例にかかる半導体装置300の要部を模式的に示す平
面図である。この半導体装置300は、フレームリード
の形状において、図1に示す第1実施例の半導体装置1
00と異なる。そして、フレームリード以外の構成は、
図1に示す半導体装置100と同様であるので、同一の
符号を付して説明する。
は、図1におけるフレームリード36の認識用突起36
aを省略したものである。上述したように、この認識用
突起36aは、ボンディング位置の認識を容易にするた
めのものであるが、これを省略してもフレームリード自
体の機能としては何ら劣るものではない。
くなるので、他の手段でこれを補うことが好ましい。例
えば、まず、ボンディング位置を認識しやすい箇所とし
て、半導体素子10の電極パッド22とインナーリード
32とを先に接続しておいて、このワイヤを基準にして
フレームリード336におけるボンディング位置を認識
するなどの手段がある。
施例にかかる半導体装置400の要部を模式的に示す平
面図である。この半導体装置400は、第2導電層の形
状において、図11に示す第3実施例の半導体装置30
0と異なる。そして、第2導電層以外の構成は、図11
に示す半導体装置300と同様であるので、同一の符号
を付して説明する。
がスポット状に形成されていたのに対して、図12にお
いて第2導電層418bは、インナーリード32とフレ
ームリード336との間の領域で、角リング状に形成さ
れている。
形成するよりも簡単に、フレームリード336の周囲を
囲む形状の導電層を形成することができる。
施例にかかる半導体装置500の要部を模式的に示す断
面図である。この半導体装置500は、第1導電層の形
状において、図2に示す半導体装置100と異なる。そ
して、第1導電層以外の構成は、図2に示す半導体装置
100と同様であるので、同一の符号を付して説明す
る。
体素子20が設置される領域より大きい表面積となって
いるのに対して、図13において、第1導電層518a
は、半導体素子20が設置される領域より小さい表面積
となっている。
つまり、上述したように第1導電層18aは銀メッキ等
により形成されるが、この銀メッキ等は、樹脂封止部6
0を構成する樹脂との接着性が悪いものである。なお、
逆に、絶縁層16は、酸化処理によって形成されたもの
で、樹脂との接着性が良いものである。
層18aが半導体素子20の外側にはみだすように形成
されると、この部分において樹脂封止部60との接着性
が悪くなる。そして、樹脂封止部60が第1導電層18
aから剥がれてしまい、これに伴って半導体素子20裏
面が第1導電層18aから離れて両者の導通が図れなく
なることも想定される。このことは、第1導電層18a
を介して半導体素子20裏面を、例えばGNDに接続し
ようとするときに、電気的接続を保証できないというこ
とである。
518aを、半導体素子20が設置される領域より小さ
い表面積として、第1導電層518aが半導体素子20
からはみ出さないようにした。こうすることで、樹脂封
止部60が第1導電層518aに接触しないため、樹脂
封止を完全に行うことができ、半導体素子20裏面と第
1導電層18aとの導通も確実となる。
成すると、接地用ワイヤ44aを接続できないので、こ
の第1導電層518aとは別の導電層518b(図13
参照)を形成することが好ましい。この導電層518b
は、半導体素子20の裏面から隔たった領域にして、樹
脂封止部60との接着不良の影響を半導体素子20に与
えないように形成されるものである。
本発明の第6実施例にかかる半導体装置600を模式的
に示す断面図である。この半導体装置600において、
前記第1実施例の半導体装置100と実質的に同一の機
能を有する部材には同一の符号を付してその詳細な説明
を省略する。
なる特徴的な部分は、素子載置部10の形状が異なって
いる点である。具体的には、小径部10bは、露出面1
4の幅Xがそれより下方に位置する前記露出面14と平
行な面の幅Yより大きく形成され、いわゆるアンダーカ
ット状に構成されている点にある。このようなアンダー
カット形状に構成することにより、この小径部10bが
樹脂封止部60の抜け止めとして機能し、パッケージの
機械的強度がさらに向上する。
とから、露出面14から大径部10aに至る距離が長く
なって、水分の侵入を多少なりとも防止できる。
0の表面に導電層ならびに絶縁層は形成されていない。
法の一例を図15を参照しながら説明する。
うとする素子載置部10と同じ厚さを有する銅等の金属
板80の一面に、素子載置部10の露出面14に相当す
る部分に第1レジスト膜82を所定の間隔で配設し、さ
らに金属板80の下面に第2レジスト膜84を形成す
る。
レジスト膜82,84をマスクとして、例えば塩化第二
鉄を主成分とするエッチング液を用いた湿式エッチング
により、金属板80を素子載置部10の小径部10bの
厚さに相当する深さまでエッチングを行う。
レジスト膜82および84を除去した後、図15(d)
に示すように、素子載置部10の大径部10aに相当す
る所定の間隔で金属板80をプレス加工あるいは切削加
工等の機械加工により分割して、素子載置部10を形成
する。
ングにおいて等方的なエッチングが行われるので、エッ
チング側面は曲面状に抉られたアンダーカット形状を構
成する。
ことで、エッチングされた表面には酸化膜が形成され
て、絶縁膜となるとともに樹脂封止部60を構成する樹
脂との密着性の高い膜となる。
る半導体装置700を、図16を参照しながら説明す
る。図16において、前記第6実施例と実質的に同一な
部分には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略す
る。
置部10の表面に例えばハンダからなる導電層64が形
成されていることである。この導電層64は、例えばア
ウターリード34の表面に形成されるハンダメッキ層3
4aの形成時に同一の工程で形成される。このような導
電層64を形成することにより、素子載置部10の露出
面14の防蝕作用を高めることができる。また、導電層
64を有することにより素子載置部10に接地電位を含
む所定の電位を付与する場合の配線接続や、図示しない
放熱フィンの取り付けが容易となる利点がある。
と、接着剤にて放熱フィンを取り付けると熱で剥がれや
すく、クリップで放熱フィンを取り付けると素子載置部
10と放熱フィンとの接触面積が小さくなるので、ハン
ダからなる導電層64を形成して放熱フィンを取り付け
ることは有効な取付手段となる。
付けておき、導電層64側を180℃程度に加熱し、放
熱フィン側を300℃程度に加熱して、両者を接触させ
れば180℃程度でハンダが溶けて両者の取り付けが完
了する。そして、放熱フィン側のみを高温とし半導体装
置700側を比較的低温とするので、半導体素子20を
熱から守ることができる。
る半導体装置800を図17を参照しながら説明する。
に同一な部分には同一の符号を付し、その詳細な説明を
省略する。なお、図17においては、接地用ワイヤの記
載を省略してある。
置部10が樹脂封止部60より露出しておらず、樹脂封
止部60内に封入された状態で設置されていることであ
る。このように素子載置部10を内蔵しているタイプの
半導体装置においては、放熱効率は露出タイプのものよ
りも劣るが、樹脂封止部60によって半導体素子および
その周辺の配線部分がほぼ完全に封入され、これら半導
体素子や配線等に悪影響を与える物質の侵入をより効果
的に防止できる利点を有する。
に一体的に形成された支持アーム30aを有するため、
リード30が確実に支持がされ、その変形が防止され
る。なお、前記支持アーム30aは、導電性を有するた
め、その先端が接触する素子載置部10の領域には少な
くとも絶縁層16が形成されている必要がある。
導体装置においては、前記支持アーム30aを有するこ
とが望ましいが、リードフレームの強度を高めることな
どによって支持アームを必ずしも必要としない。
にワイヤボンディングを行う順序を説明する図である。
の表面の周端部には複数の電極パッド22が設けられて
おり、この電極パッド22に接続されるワイヤ40は、
半導体素子20の中心から放射状に配設される。
辺において、中央付近の電極パッド22に接続されるワ
イヤ40は、辺に対してほぼ直角方向に配設されるのに
対して、コーナー付近の電極パッド22に接続されるワ
イヤ40は、辺に対して斜めに配設される。しかも、一
辺の中央からコーナーに近づくほど、その斜めの傾斜が
大きくなる。
において大きく傾斜して配設され、電極パッドの配列に
沿って中央方向に向かうに従って傾斜が起きあがってき
て、中央付近では前記配列に対してほぼ直角にワイヤが
配設される。
8である。
ングの順序は、コーナーに近いものから中央方向へ順に
行うというものである。言い換えると、電極パッドの配
列に対して大きく傾斜して配設されるワイヤ(コーナー
に近いもの)から、前記配列に対して直角に近い角度で
配設されるワイヤ(中央に近いもの)へ、という順で、
かつ、傾斜から直角方向に起き上がっていく方向に、ワ
イヤボンディングを行うというものである。
22a、22b、22c、…の順で、ワイヤ40a、4
0b、40c、…を接続していくのである。
ボンディングを行うと、ワイヤ40を挟持する治具が、
既に接続されたワイヤ40に当たってしまい切断してし
まうことがあり得るからである。
ナー方向に22c、22b、22aの順でワイヤ40
c、40b、40aを接続する場合を考える。そうする
と、まず、ワイヤ40cを接続した後にワイヤ40bを
接続するときに、ワイヤを挟持する治具(同図において
破線の円で示す)が、ワイヤ40cに接触してしまう。
同様に、ワイヤ40bを接続した後にワイヤ40aを接
続するときに、ワイヤを挟持する治具が、ワイヤ40b
に接触することとなる。
て、中央からコーナー方向にワイヤボンディングを行う
と、既設のワイヤに治具が当たってしまうようになる。
いて、コーナーから中央方向にワイヤボンディングを行
う場合には、かかる問題は生じない。つまり、まず、ワ
イヤ40aを接続した後にワイヤ40bするときに、こ
のワイヤ40bを挟持する治具(同図において破線の円
で示す)は既設のワイヤ40aに接触することはない。
同様に、ワイヤ40bを接続した後にワイヤ40cする
ときに、このワイヤ40cを挟持する治具は既設のワイ
ヤ40bに接触することはない。こうして、良好なワイ
ヤボンディングを行うことができる。
実施例を示す図である。
素子載置部10、半導体素子20、リード支持部50お
よびリード30を所定の配置で接合し、さらに半導体素
子20とリード30とをワイヤ40によって接続してお
く。
半導体素子20、リード30、及びワイヤ40を覆う領
域のみに、溶融あるいは溶液状態の樹脂をポッティング
して樹脂封止部90を形成する。このようなポッティン
グによれば、樹脂を注入するときの圧力でワイヤ40を
切断してしまうことがない。
リード30を挟んだ状態で金型92、94内に、上記部
材を備えた素子載置部10を配置し、樹脂を注入する。
ここで、ワイヤ40は既にポッティングによる樹脂封止
部90内に封止されているので、通常の樹脂注入を行っ
ても注入時の圧力からワイヤ40が守られ、切断を防止
できるようこととなる。
脂封止部96を形成して、半導体装置100が製造され
る。
を有することにより、リードの共用化を図ることができ
配線設計の自由度が高く、かつ信頼性が高いワイヤボン
ディングが可能な樹脂封止型半導体装置、およびこの半
導体装置を効率よく製造することができる製造方法を提
供することができる。
図である。
模式的に示す断面図である。
す説明図である。
態を示す説明である。
れたリードフレームを模式的に示す平面図である。
るモールディングを説明するための図である。
を模式的に示す平面図である。
模式的に示す断面図である。
断面図、同図(b)はその平面図である。
部を模式的に示す平面図である。
部を模式的に示す平面図である。
部を模式的に示す断面図である。
の縦断面図、同図(b)は素子載置部を拡大して示す図
である。
の製造プロセスを示す説明図である。
である。
である。
グを行う順序を説明する図である。
る。
Claims (26)
- 【請求項1】 半導体素子を設置するための素子設置面
を有する素子載置部材と、 この素子載置部材の前記素子設置面に接合された半導体
素子と、 この半導体素子から離間した位置で前記素子載置部に対
して絶縁されて配設される複数のリードと、 前記半導体素子の周囲を非接触状態で切れ間なく囲み、
前記素子設置面から浮いた状態で配設されるフレームリ
ードと、 少なくとも、前記リードと前記半導体素子の電極部とを
電気的に接続するワイヤ、前記リードと前記フレームリ
ードとを電気的に接続するワイヤおよび前記フレームリ
ードと前記半導体素子の電極部とを電気的に接続するワ
イヤを含むワイヤ群と、 前記素子載置部材、前記半導体素子、前記リードの一部
および前記フレームリードを封止する樹脂封止部と、 を含む樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項2】 請求項1において、 前記素子載置部材の素子設置面には、前記リードの一部
を構成するインナーリードの先端が平面的にみて重なる
位置まで延設されている樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項3】 請求項2において、 前記インナーリードは、前記素子載置部材の素子設置面
に対して弾性変形の範囲で接触可能な自由端を確保した
状態で絶縁性のリード支持部によって支持され、このリ
ード支持部を介して前記素子載置部材と前記インナーリ
ードとが接合されている樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項4】 請求項3において、 前記リード支持部は、前記素子設置面の縁周全体に沿っ
て連続的に形成されている樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項5】 請求項3において、 前記リード支持部は、前記素子設置面の縁周に部分的に
形成されている樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項6】 請求項1ないし請求項5のいずれかにお
いて、 前記素子載置部材は、熱伝導性の高い材質からなる樹脂
封止型半導体装置。 - 【請求項7】 請求項6において、 前記素子載置部材は、銅,アルミニウム,銀または金の
単体、あるいはこれらの各金属を主成分とする合金から
なる樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項8】 請求項1ないし請求項7のいずれかにお
いて、 前記半導体素子の電極部の接地が可能な第1導電層、ま
たは前記リードの接地が可能な第2導電層の少なくとも
一方が、前記素子設置面に形成されている樹脂封止型半
導体装置。 - 【請求項9】 請求項8において、 前記第1導電層および第2導電層は、銀,金,パラジウ
ムおよびアルミニウムから選択される少なくとも1種の
金属から構成された樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項10】 請求項8において、 前記第1導電層と前記第2導電層とは離間して形成され
ている樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項11】 請求項8において、 前記第1導電層と前記第2導電層とは連続的に形成され
ている樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項12】 請求項8ないし請求項11のいずれか
において、 前記第1導電層および前記第2導電層が形成された領域
以外の素子載置部材の表面には絶縁層が形成されている
樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項13】 請求項12において、 前記絶縁層は前記素子載置部材を構成する金属を酸化処
理して得られた金属酸化膜からなる樹脂封止型半導体装
置。 - 【請求項14】 請求項1ないし請求項13のいずれか
において、 前記素子載置部材は、前記素子設置面を含む大径部とこ
の大径部より突出する小径部とからなる、断面形状がほ
ぼ凸状をなす樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項15】 請求項14において、 前記素子載置部材は、その小径部が樹脂封止部より露出
する状態で設置される樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項16】 請求項14または請求項15におい
て、 前記素子載置部材の小径部は、その厚さ方向にアンダー
カット形状を有する樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項17】 請求項14ないし請求項16のいずれ
かにおいて、 前記素子載置部材は、前記小径部の領域を除く大径部に
おいて、厚さ方向に連通する樹脂連通孔を有する樹脂封
止型半導体装置。 - 【請求項18】 請求項15ないし請求項17のいずれ
かにおいて、 前記素子載置部材は、その露出する面上にハンダ層を有
する樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項19】 請求項1ないし請求項13のいずれか
において、前記素子載置部材は樹脂封止部内に埋設され
ている樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項20】 請求項1ないし請求項19のいずれか
において、 前記フレームリードは、ワイヤボンディングの画像認識
においてマーキングとして機能する認識用突起を有する
樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項21】 請求項1ないし請求項20のいずれか
において、 前記フレームリードは、連続したフレーム部材からなる
樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項22】 請求項1ないし請求項20のいずれか
において、 前記フレームリードは、不連続部分を有するフレーム部
材からなる樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項23】 請求項1ないし請求項22のいずれか
において、 前記フレームリードは、複数の支持リードによって支持
され、かつ前記素子載置部材と離間した状態で設けられ
た樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項24】 請求項1ないし請求項23のいずれか
において、 前記フレームリードは、電源用リードとして用いられる
樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項25】 以下の工程(a)ないし(d)を含む
樹脂封止型半導体装置の製造方法。 (a) 素子載置部材の素子設置面の所定位置に導電性
の接着剤によって半導体素子を接合する工程、 (b) 前記素子載置部材の素子設置面上に絶縁性のリ
ード支持部を配設し、このリード支持部の上に、インナ
ーリード,アウターリードおよびフレームリードが一体
的に形成されたリードフレームを配置し、前記リード支
持部を介して前記素子載置部材と前記リードフレームと
を接着固定する工程、 (c) 少なくとも、前記リードと前記半導体素子の電
極部とを電気的に接続するワイヤ、前記リードと前記フ
レームリードとを電気的に接続するワイヤ、および前記
フレームリードと前記半導体素子の電極部とを電気的に
接続するワイヤを含むワイヤ群を、ワイヤボンディング
手段によって形成する工程、および、 (d) 前記工程(a)〜(c)で形成された部材を金
型にセットし、モールディングによって樹脂封止部を形
成する工程。 - 【請求項26】 請求項25において、 前記工程(c)において、前記リードと前記半導体素子
の電極部とを接続するワイヤは、リード押えにより前記
リードを押下してその先端部を前記素子載置部材の素子
設置面に当接させた状態で形成される樹脂封止型半導体
装置の製造方法。
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08321521A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-12-03 | Seiko Epson Corp | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
| WO1998001907A1 (fr) * | 1996-07-03 | 1998-01-15 | Seiko Epson Corporation | Dispositif a semi-conducteur encapsule dans la resine et procede de fabrication associe |
| US6538303B1 (en) | 1999-06-02 | 2003-03-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Lead frame and semiconductor device using the same |
| KR100743335B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2007-07-26 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 반도체 장치 |
| JP2007273698A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置およびその製造方法 |
| JP2008300492A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| US8336588B2 (en) | 2000-03-31 | 2012-12-25 | Bridgestone Americas Tire Operations, Llc | Patch and electronic monitoring device for tire |
| JP2015079789A (ja) * | 2013-10-15 | 2015-04-23 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1139116C (zh) * | 1995-01-24 | 2004-02-18 | 英特尔公司 | 集成电路封装及具有该封装的计算机系统 |
| JP3542677B2 (ja) * | 1995-02-27 | 2004-07-14 | セイコーエプソン株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
| JPH0964244A (ja) * | 1995-08-17 | 1997-03-07 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| US5757070A (en) * | 1995-10-24 | 1998-05-26 | Altera Corporation | Integrated circuit package |
| JPH11274196A (ja) * | 1998-03-26 | 1999-10-08 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法およびモールドシステム並びに半導体装置 |
| US6977214B2 (en) * | 1998-12-11 | 2005-12-20 | Micron Technology, Inc. | Die paddle clamping method for wire bond enhancement |
| US6455354B1 (en) | 1998-12-30 | 2002-09-24 | Micron Technology, Inc. | Method of fabricating tape attachment chip-on-board assemblies |
| US6212077B1 (en) | 1999-01-25 | 2001-04-03 | International Business Machines Corporation | Built-in inspection template for a printed circuit |
| WO2000074131A1 (en) * | 1999-05-31 | 2000-12-07 | Infineon Technologies A.G. | A method of assembling a semiconductor device package |
| JP2001230360A (ja) * | 2000-02-18 | 2001-08-24 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
| CN1265451C (zh) * | 2000-09-06 | 2006-07-19 | 三洋电机株式会社 | 半导体装置及其制造方法 |
| US6838751B2 (en) * | 2002-03-06 | 2005-01-04 | Freescale Semiconductor Inc. | Multi-row leadframe |
| US7309447B2 (en) * | 2003-02-03 | 2007-12-18 | Tessera, Inc. | Method for making a microelectronic package using pre-patterned, reusable mold and method for making the mold |
| US20050285281A1 (en) * | 2004-06-29 | 2005-12-29 | Simmons Asher L | Pad-limited integrated circuit |
| US20070200225A1 (en) * | 2006-02-28 | 2007-08-30 | Ruzaini Ibrahim | Heat sink for semiconductor package |
| US8643172B2 (en) | 2007-06-08 | 2014-02-04 | Freescale Semiconductor, Inc. | Heat spreader for center gate molding |
| US20110012257A1 (en) * | 2009-07-14 | 2011-01-20 | Freescale Semiconductor, Inc | Heat spreader for semiconductor package |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63200554A (ja) * | 1987-02-16 | 1988-08-18 | Nec Corp | 半導体装置 |
| JPH0193156A (ja) * | 1987-10-05 | 1989-04-12 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置用リードフレーム |
| JPH0653390A (ja) * | 1992-06-03 | 1994-02-25 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
Family Cites Families (51)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL121811C (ja) * | 1961-06-26 | |||
| US3290564A (en) * | 1963-02-26 | 1966-12-06 | Texas Instruments Inc | Semiconductor device |
| US3965277A (en) * | 1972-05-09 | 1976-06-22 | Massachusetts Institute Of Technology | Photoformed plated interconnection of embedded integrated circuit chips |
| JPS52124865A (en) * | 1976-04-13 | 1977-10-20 | Sharp Corp | Semiconductor device |
| JPS54124678A (en) * | 1978-03-20 | 1979-09-27 | Nec Corp | Lead frame |
| JPS56122134A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-25 | Toshiba Corp | Resin-sealed type semiconductor device |
| JPS5812341A (ja) * | 1981-07-16 | 1983-01-24 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS59207645A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | Toshiba Corp | 半導体装置およびリ−ドフレ−ム |
| DE3578830D1 (de) * | 1984-06-14 | 1990-08-30 | Advanced Micro Devices Inc | Mehrschicht-waermesenkpackung fuer integrierte schaltung. |
| JPS61166051A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-07-26 | Matsushita Electronics Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
| JPS6297358A (ja) * | 1985-10-23 | 1987-05-06 | Mitsubishi Electric Corp | 樹脂封止形半導体集積回路装置 |
| US4684975A (en) * | 1985-12-16 | 1987-08-04 | National Semiconductor Corporation | Molded semiconductor package having improved heat dissipation |
| JPS63179557A (ja) * | 1987-01-20 | 1988-07-23 | Nec Corp | 半導体装置用リ−ドフレ−ム |
| JPS63240053A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| US4942497A (en) * | 1987-07-24 | 1990-07-17 | Nec Corporation | Cooling structure for heat generating electronic components mounted on a substrate |
| US5050040A (en) * | 1988-10-21 | 1991-09-17 | Texas Instruments Incorporated | Composite material, a heat-dissipating member using the material in a circuit system, the circuit system |
| US5157478A (en) * | 1989-04-19 | 1992-10-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Tape automated bonding packaged semiconductor device incorporating a heat sink |
| JPH02307251A (ja) * | 1989-05-22 | 1990-12-20 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
| US5278101A (en) * | 1989-06-28 | 1994-01-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US5208188A (en) * | 1989-10-02 | 1993-05-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Process for making a multilayer lead frame assembly for an integrated circuit structure and multilayer integrated circuit die package formed by such process |
| JPH0719876B2 (ja) * | 1989-12-04 | 1995-03-06 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
| JP2517691B2 (ja) * | 1990-01-29 | 1996-07-24 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| JPH0410558A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Hitachi Ltd | 放熱体付き半導体装置 |
| JPH0411758A (ja) * | 1990-04-28 | 1992-01-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| JPH0427145A (ja) * | 1990-05-22 | 1992-01-30 | Seiko Epson Corp | 半導体装置 |
| US5227662A (en) * | 1990-05-24 | 1993-07-13 | Nippon Steel Corporation | Composite lead frame and semiconductor device using the same |
| DE4017697C2 (de) * | 1990-06-01 | 2003-12-11 | Bosch Gmbh Robert | Elektronisches Bauelement, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung |
| US5202288A (en) * | 1990-06-01 | 1993-04-13 | Robert Bosch Gmbh | Method of manufacturing an electronic circuit component incorporating a heat sink |
| JP2983620B2 (ja) * | 1990-07-20 | 1999-11-29 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP3047986B2 (ja) * | 1990-07-25 | 2000-06-05 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
| JP2725448B2 (ja) * | 1990-08-01 | 1998-03-11 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
| US5105259A (en) * | 1990-09-28 | 1992-04-14 | Motorola, Inc. | Thermally enhanced semiconductor device utilizing a vacuum to ultimately enhance thermal dissipation |
| JPH04158556A (ja) * | 1990-10-22 | 1992-06-01 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
| JPH04162556A (ja) * | 1990-10-25 | 1992-06-08 | Mitsubishi Electric Corp | リードフレーム及びその製造方法 |
| JP2841854B2 (ja) * | 1990-11-29 | 1998-12-24 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置 |
| JPH04316357A (ja) * | 1991-04-15 | 1992-11-06 | Sony Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
| US5172213A (en) * | 1991-05-23 | 1992-12-15 | At&T Bell Laboratories | Molded circuit package having heat dissipating post |
| US5200809A (en) * | 1991-09-27 | 1993-04-06 | Vlsi Technology, Inc. | Exposed die-attach heatsink package |
| JP2602380B2 (ja) * | 1991-10-23 | 1997-04-23 | 富士通株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| JPH05190721A (ja) * | 1992-01-08 | 1993-07-30 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| JPH05211262A (ja) * | 1992-01-08 | 1993-08-20 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
| US5328870A (en) * | 1992-01-17 | 1994-07-12 | Amkor Electronics, Inc. | Method for forming plastic molded package with heat sink for integrated circuit devices |
| US5262927A (en) * | 1992-02-07 | 1993-11-16 | Lsi Logic Corporation | Partially-molded, PCB chip carrier package |
| JPH06120374A (ja) * | 1992-03-31 | 1994-04-28 | Amkor Electron Inc | 半導体パッケージ構造、半導体パッケージ方法及び半導体パッケージ用放熱板 |
| JPH0653346A (ja) * | 1992-06-02 | 1994-02-25 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JP3322429B2 (ja) * | 1992-06-04 | 2002-09-09 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置 |
| US5367196A (en) * | 1992-09-17 | 1994-11-22 | Olin Corporation | Molded plastic semiconductor package including an aluminum alloy heat spreader |
| JP2848151B2 (ja) | 1992-08-20 | 1999-01-20 | トヨタ自動車株式会社 | ディファレンシャル装置のバックラッシシム選択方法 |
| JPH0697326A (ja) * | 1992-09-14 | 1994-04-08 | Apic Yamada Kk | 半導体装置およびその放熱部材 |
| JPH06295962A (ja) * | 1992-10-20 | 1994-10-21 | Ibiden Co Ltd | 電子部品搭載用基板およびその製造方法並びに電子部品搭載装置 |
| JPH06151485A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体装置用パッケージ |
-
1995
- 1995-03-30 JP JP09812795A patent/JP3509274B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-05 US US08/461,442 patent/US5633529A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-09 TW TW084105885A patent/TW293940B/zh not_active IP Right Cessation
- 1995-06-21 EP EP95109655A patent/EP0693779B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-21 DE DE69526543T patent/DE69526543T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-06 SG SG1995000813A patent/SG65533A1/en unknown
- 1995-07-12 KR KR1019950020417A patent/KR100386052B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63200554A (ja) * | 1987-02-16 | 1988-08-18 | Nec Corp | 半導体装置 |
| JPH0193156A (ja) * | 1987-10-05 | 1989-04-12 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置用リードフレーム |
| JPH0653390A (ja) * | 1992-06-03 | 1994-02-25 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08321521A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-12-03 | Seiko Epson Corp | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
| WO1998001907A1 (fr) * | 1996-07-03 | 1998-01-15 | Seiko Epson Corporation | Dispositif a semi-conducteur encapsule dans la resine et procede de fabrication associe |
| US6133623A (en) * | 1996-07-03 | 2000-10-17 | Seiko Epson Corporation | Resin sealing type semiconductor device that includes a plurality of leads and method of making the same |
| CN1132244C (zh) * | 1996-07-03 | 2003-12-24 | 精工爱普生株式会社 | 树脂封装型半导体装置及其制造方法 |
| US6538303B1 (en) | 1999-06-02 | 2003-03-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Lead frame and semiconductor device using the same |
| KR100878939B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2009-01-19 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 반도체 장치 |
| KR100864781B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2008-10-22 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 반도체 장치 |
| KR100743335B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2007-07-26 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 반도체 장치 |
| KR100885606B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2009-02-24 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 반도체 장치 |
| US8336588B2 (en) | 2000-03-31 | 2012-12-25 | Bridgestone Americas Tire Operations, Llc | Patch and electronic monitoring device for tire |
| JP2007273698A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置およびその製造方法 |
| JP2008300492A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| JP2015079789A (ja) * | 2013-10-15 | 2015-04-23 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| DE69526543D1 (de) | 2002-06-06 |
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| Publication | Publication Date | Title |
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