JPH0892401A - ウエブ又はシート材料に透明磁気層を適用するための方法 - Google Patents
ウエブ又はシート材料に透明磁気層を適用するための方法Info
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- JPH0892401A JPH0892401A JP6335702A JP33570294A JPH0892401A JP H0892401 A JPH0892401 A JP H0892401A JP 6335702 A JP6335702 A JP 6335702A JP 33570294 A JP33570294 A JP 33570294A JP H0892401 A JPH0892401 A JP H0892401A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエブ又はシート材料に透明磁気層を適用す
るための方法において、結合剤溶液における磁気粒子の
安定分散液から支持体上に薄い磁気層を被覆するための
方法を提供する。 【構成】 下記(i)(ii)の工程を含む重合体シー
ト又はウエブ材料上に磁気層を適用するための方法: (i)前記重合体シート又はウエブ材料上に被覆溶液か
らの磁気層と非磁気ダミー層を同時に、前記非磁気ダミ
ー層を支持体に最も接近させて共押出しし、(ii)その
共押出しされた層を乾燥する において、前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )
と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計が2
5μm≦Thdum +Thmag ≦100μmの式を満た
し、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.01≦
Thmag /Thdum≦1の式を満たすことを特徴とする
方法。
るための方法において、結合剤溶液における磁気粒子の
安定分散液から支持体上に薄い磁気層を被覆するための
方法を提供する。 【構成】 下記(i)(ii)の工程を含む重合体シー
ト又はウエブ材料上に磁気層を適用するための方法: (i)前記重合体シート又はウエブ材料上に被覆溶液か
らの磁気層と非磁気ダミー層を同時に、前記非磁気ダミ
ー層を支持体に最も接近させて共押出しし、(ii)その
共押出しされた層を乾燥する において、前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )
と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計が2
5μm≦Thdum +Thmag ≦100μmの式を満た
し、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.01≦
Thmag /Thdum≦1の式を満たすことを特徴とする
方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は重合体支持体上へ薄い磁
気層を被覆する方法に関する。さらに詳しくは、特に限
定されないが、本発明は写真材料に使用するための重合
体支持体上へ薄い透明磁気層を被覆する方法に関する。
気層を被覆する方法に関する。さらに詳しくは、特に限
定されないが、本発明は写真材料に使用するための重合
体支持体上へ薄い透明磁気層を被覆する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】写真材料において透明磁気層を使用する
ことは良く知られており、例えばUS−P378294
7、US−P4279945、US−P499027
6、EP−A476535、WO91/011750に
記載されている。写真材料の感光性層に画像を、そして
前記写真材料に混入される磁気層に他の情報を同時に記
録することができれば写真家及び写真仕上業者にとって
有利である。写真家は写真の状況に関する情報(例えば
日付、天気など)、写真仕上業者のための情報(例えば
引伸し比率、プリント数など)及び写真技術に関する情
報(例えば絞り、露光時間、フラッシュの使用など)を
記録することができる。写真仕上業者は写真材料の処理
後磁気特性を保持する磁気層に印刷技術に関する情報
(例えば色バランス、色補正など)を記録することがで
きる。
ことは良く知られており、例えばUS−P378294
7、US−P4279945、US−P499027
6、EP−A476535、WO91/011750に
記載されている。写真材料の感光性層に画像を、そして
前記写真材料に混入される磁気層に他の情報を同時に記
録することができれば写真家及び写真仕上業者にとって
有利である。写真家は写真の状況に関する情報(例えば
日付、天気など)、写真仕上業者のための情報(例えば
引伸し比率、プリント数など)及び写真技術に関する情
報(例えば絞り、露光時間、フラッシュの使用など)を
記録することができる。写真仕上業者は写真材料の処理
後磁気特性を保持する磁気層に印刷技術に関する情報
(例えば色バランス、色補正など)を記録することがで
きる。
【0003】写真材料に混入される(透明)磁気層に信
号を入力するシステムは例えばWO90/00420
5、WO90/004212に記載されている。
号を入力するシステムは例えばWO90/00420
5、WO90/004212に記載されている。
【0004】例えばUS−P4963433、WO91
/011750及びEP−A552611では多くても
2μm、好ましくは多くても1μmである薄い磁気層を
使用することが開示されている。
/011750及びEP−A552611では多くても
2μm、好ましくは多くても1μmである薄い磁気層を
使用することが開示されている。
【0005】かかる磁気層の適用は例えばWO91/0
11750、US−P5250404及びEP−A53
5652に開示されるように磁気粒子のないセルロース
トリアセテートドープと磁気粒子を含むセルローストリ
アセテートドープを共に流延することで実行することが
できる。
11750、US−P5250404及びEP−A53
5652に開示されるように磁気粒子のないセルロース
トリアセテートドープと磁気粒子を含むセルローストリ
アセテートドープを共に流延することで実行することが
できる。
【0006】また磁気層を含むポリエステル支持体を形
成するために二つのポリエステルメルトを、即ち磁気粒
子を含有しないもの及び磁気粒子を含有するものを共押
出しすることが例えばUS−P5215874に開示さ
れている。
成するために二つのポリエステルメルトを、即ち磁気粒
子を含有しないもの及び磁気粒子を含有するものを共押
出しすることが例えばUS−P5215874に開示さ
れている。
【0007】前記磁気層を適用するための別の方法は支
持体上に溶液から前記層を被覆することであり、その結
果磁気層のための重合体結合剤は支持体に含まれる重合
体と同じ種類の重合体である必要はない。
持体上に溶液から前記層を被覆することであり、その結
果磁気層のための重合体結合剤は支持体に含まれる重合
体と同じ種類の重合体である必要はない。
【0008】例えばUS−P4863793、US−P
4963433及びEP−A552611では支持体を
薄い非磁気層で最初に被覆して、支持体の表面の粗さを
平滑にし、次いで前記薄い非磁気層がまだ湿っている間
に薄い磁気層をその上部に被覆する。これらの文献では
二つの被覆方法が開示されている。第1は下塗りをロー
ル被覆によって最初に被覆し、平滑ローラ上で平滑に
し、次いで磁気層を押出被覆によって被覆する方法であ
る。第2は二つの被覆スリットを有するヘッドによって
二つの層を同時に被覆する方法から成る。しかしなが
ら、好ましい被覆方法は一つも開示されていない。RD
34390、11月1992及びEP−A476535
においても1.5μm未満の乾燥厚さを有する前記磁気
層がいずれかの公知の被覆方法で被覆できることが開示
されている。RD34390、11月1992、872
頁最終パラグラフ及びEP−A476535、9頁は異
なる被覆方法を一つ一つ列挙しているが、最も良い方法
については言及していない。
4963433及びEP−A552611では支持体を
薄い非磁気層で最初に被覆して、支持体の表面の粗さを
平滑にし、次いで前記薄い非磁気層がまだ湿っている間
に薄い磁気層をその上部に被覆する。これらの文献では
二つの被覆方法が開示されている。第1は下塗りをロー
ル被覆によって最初に被覆し、平滑ローラ上で平滑に
し、次いで磁気層を押出被覆によって被覆する方法であ
る。第2は二つの被覆スリットを有するヘッドによって
二つの層を同時に被覆する方法から成る。しかしなが
ら、好ましい被覆方法は一つも開示されていない。RD
34390、11月1992及びEP−A476535
においても1.5μm未満の乾燥厚さを有する前記磁気
層がいずれかの公知の被覆方法で被覆できることが開示
されている。RD34390、11月1992、872
頁最終パラグラフ及びEP−A476535、9頁は異
なる被覆方法を一つ一つ列挙しているが、最も良い方法
については言及していない。
【0009】写真材料の製造では例えばBE82886
2、US−P2681294、US−P2761418
及びEP−A545084に開示されているように例え
ば押出被覆によって結合剤溶液における固体粒子の分散
液から薄い層を被覆することが知られている。押出被覆
の利点は被覆フィルム厚さが液体流量によって決定され
ること、過剰の被覆液を支持体から除去する必要のない
こと及び良好な平滑性が得られることである。しかしな
がら数十m/分の速度で高粘度磁気液を被覆するために
前記押出被覆技術を使用すると、安定した方法で薄いフ
ィルムを被覆することは困難である:被覆された層の未
乾燥被覆厚さは最小であることが要求される。
2、US−P2681294、US−P2761418
及びEP−A545084に開示されているように例え
ば押出被覆によって結合剤溶液における固体粒子の分散
液から薄い層を被覆することが知られている。押出被覆
の利点は被覆フィルム厚さが液体流量によって決定され
ること、過剰の被覆液を支持体から除去する必要のない
こと及び良好な平滑性が得られることである。しかしな
がら数十m/分の速度で高粘度磁気液を被覆するために
前記押出被覆技術を使用すると、安定した方法で薄いフ
ィルムを被覆することは困難である:被覆された層の未
乾燥被覆厚さは最小であることが要求される。
【0010】被覆された層のこの最小未乾燥被覆厚さは
同じ乾燥厚さのためにより厚い未乾燥被覆厚さを生じる
被覆溶液を強く稀釈することによって達成することがで
きる。しかしながら、技術的な理由のためと同様に生態
学的な理由のために薄い乾燥被覆厚さとともに厚い未乾
燥被覆厚さを得るに充分な磁気層のための被覆溶液を稀
釈することはできない。高度な稀釈液は多くの量の溶剤
を蒸発する必要性をもたらすが、それは生態学的な見地
から許容されるべきものではなく、高度な稀釈液は結合
剤溶液における磁気粒子の分散液を容易に不安定にす
る。
同じ乾燥厚さのためにより厚い未乾燥被覆厚さを生じる
被覆溶液を強く稀釈することによって達成することがで
きる。しかしながら、技術的な理由のためと同様に生態
学的な理由のために薄い乾燥被覆厚さとともに厚い未乾
燥被覆厚さを得るに充分な磁気層のための被覆溶液を稀
釈することはできない。高度な稀釈液は多くの量の溶剤
を蒸発する必要性をもたらすが、それは生態学的な見地
から許容されるべきものではなく、高度な稀釈液は結合
剤溶液における磁気粒子の分散液を容易に不安定にす
る。
【0011】従って、乾燥状態で1μm付近の厚さを有
する磁気層を被覆しなければならない場合に、所望の被
覆品質と所望の被覆スピードを達成するために必要とさ
れる磁気層の相対的に厚い未乾燥被覆厚さと磁気粒子の
安定分散液のための必要性を一致させることは困難であ
る。
する磁気層を被覆しなければならない場合に、所望の被
覆品質と所望の被覆スピードを達成するために必要とさ
れる磁気層の相対的に厚い未乾燥被覆厚さと磁気粒子の
安定分散液のための必要性を一致させることは困難であ
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は結合剤
溶液における磁気粒子の安定分散液から支持体上に薄い
磁気層を被覆するための方法を提供することであり、前
記方法は前記磁気層の均一な被覆を可能にし、従って特
別な平滑工程において磁気層を平滑にする必要なしで優
れた磁気特性を達成することを可能にするものである。
溶液における磁気粒子の安定分散液から支持体上に薄い
磁気層を被覆するための方法を提供することであり、前
記方法は前記磁気層の均一な被覆を可能にし、従って特
別な平滑工程において磁気層を平滑にする必要なしで優
れた磁気特性を達成することを可能にするものである。
【0013】さらに本発明の目的は結合剤溶液における
磁気粒子の安定分散液から支持体上に薄い磁気層を被覆
するための方法を提供することであり、前記方法は優れ
た磁気特性のための必要性と優れた被覆品質のための必
要性との間で前記磁気粒子の前記分散液を設計する場合
において妥協する必要なしで前記磁気層の均一な被覆を
可能にするものである。
磁気粒子の安定分散液から支持体上に薄い磁気層を被覆
するための方法を提供することであり、前記方法は優れ
た磁気特性のための必要性と優れた被覆品質のための必
要性との間で前記磁気粒子の前記分散液を設計する場合
において妥協する必要なしで前記磁気層の均一な被覆を
可能にするものである。
【0014】さらに本発明の目的と利点は以下の詳細な
記述により明らかにされるだろう。
記述により明らかにされるだろう。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の方
法を提供することによって達成される。即ち、本発明は
下記(i)(ii)の工程を含む重合体シート又はウエ
ブ材料上に磁気層を適用するための方法: (i)前記重合体シート又はウエブ材料上に磁気層と非
磁気ダミー層を同時に、前記非磁気ダミー層を支持体に
最も接近させて共押出しし、(ii)その共押出しされた
層を乾燥する において、前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )
と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計が2
5μm≦Thdum +Thmag ≦100μmの式を満た
し、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.01≦
Thmag /Thdum≦1の式を満たすことを特徴とする
方法である。
法を提供することによって達成される。即ち、本発明は
下記(i)(ii)の工程を含む重合体シート又はウエ
ブ材料上に磁気層を適用するための方法: (i)前記重合体シート又はウエブ材料上に磁気層と非
磁気ダミー層を同時に、前記非磁気ダミー層を支持体に
最も接近させて共押出しし、(ii)その共押出しされた
層を乾燥する において、前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )
と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計が2
5μm≦Thdum +Thmag ≦100μmの式を満た
し、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.01≦
Thmag /Thdum≦1の式を満たすことを特徴とする
方法である。
【0016】好ましくは前記(Thmag )と(Th
dum )の合計が30μm≦Thdum +Thmag ≦60μ
mの式を満たし、かつ(Thmag )対(Thdum )の比
が0.05≦Thmag /Thdum ≦0.5の式を満た
す。
dum )の合計が30μm≦Thdum +Thmag ≦60μ
mの式を満たし、かつ(Thmag )対(Thdum )の比
が0.05≦Thmag /Thdum ≦0.5の式を満た
す。
【0017】層の一つが薄過ぎるために単独で被覆でき
ない時、混和性液体の二つの薄い層を同時に被覆するこ
とが有利であることが知られている(例えばIS&T第
46回会議の要約第312頁(1993)におけるD. C
ohen及びL. E. Scriven 参照)。
ない時、混和性液体の二つの薄い層を同時に被覆するこ
とが有利であることが知られている(例えばIS&T第
46回会議の要約第312頁(1993)におけるD. C
ohen及びL. E. Scriven 参照)。
【0018】本発明による磁気層を被覆するためにこの
提案を実行するために、前記磁気層の被覆を助けるため
だけに存在し、かつその存在によって仕上げられた材料
では前記磁気層の磁気特性に影響を及ぼさないダミー層
を材料に導入する必要がある。ダミー層は特殊な被覆装
置と組合せてEP−A554855に開示されている。
提案を実行するために、前記磁気層の被覆を助けるため
だけに存在し、かつその存在によって仕上げられた材料
では前記磁気層の磁気特性に影響を及ぼさないダミー層
を材料に導入する必要がある。ダミー層は特殊な被覆装
置と組合せてEP−A554855に開示されている。
【0019】ダミー層 このようなダミー層が設計できること及び優れた被覆品
質と優れた磁気特性を組合せた薄い磁気層を、例えばB
E828862、US−P2681294、US−P2
761418などに開示されているような公知の共押出
装置で20〜200m/分で押出被覆できることがわか
った。
質と優れた磁気特性を組合せた薄い磁気層を、例えばB
E828862、US−P2681294、US−P2
761418などに開示されているような公知の共押出
装置で20〜200m/分で押出被覆できることがわか
った。
【0020】そのようにするためには前記薄い磁気層は
前記ダミー層とともに支持体上に共押出ししなければな
らず、かつ前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )
と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計及び
前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )と前記磁気
層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の比がある境界内でな
ければならない。
前記ダミー層とともに支持体上に共押出ししなければな
らず、かつ前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )
と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計及び
前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )と前記磁気
層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の比がある境界内でな
ければならない。
【0021】良好な被覆品質を達成するためには前記ダ
ミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum)と前記磁気層の未
乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計は25μm≦Thdum
+Thmag ≦100μmの式を満たさなければならず、
本発明による磁気層の望ましい磁気特性を達成するため
には(Thmag )対(Thdum )の比が0.01≦Th
mag /Thdum ≦1の式を満たさなければならない。さ
らに好ましくは前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Th
dum )と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag)の合
計が30μm≦Thdum +Thmag ≦60μmの式を満
たし、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.05
≦Thmag /Thdum ≦0.5の式を満たす。
ミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum)と前記磁気層の未
乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計は25μm≦Thdum
+Thmag ≦100μmの式を満たさなければならず、
本発明による磁気層の望ましい磁気特性を達成するため
には(Thmag )対(Thdum )の比が0.01≦Th
mag /Thdum ≦1の式を満たさなければならない。さ
らに好ましくは前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Th
dum )と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag)の合
計が30μm≦Thdum +Thmag ≦60μmの式を満
たし、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.05
≦Thmag /Thdum ≦0.5の式を満たす。
【0022】本発明によるダミー層は少なくとも1種の
重合体結合剤を含むことが好ましい。
重合体結合剤を含むことが好ましい。
【0023】本発明のダミー層に使用される好ましい重
合体結合剤は試験Aに従って選択される。
合体結合剤は試験Aに従って選択される。
【0024】試験A 本発明による方法に使用しようとする重合体結合剤は3
%、6%、9%、12%及び15%の濃度で4/1テト
ラヒドロフラン/シクロヘキサノン(THF/ANO
N)混合物に溶解される。
%、6%、9%、12%及び15%の濃度で4/1テト
ラヒドロフラン/シクロヘキサノン(THF/ANO
N)混合物に溶解される。
【0025】本発明によるダミー層のための重合体結合
剤の前記溶液の粘弾性はRheometrics Inc. 2438米
国、HY.No.22、Union NJ07083を通して
入手しうるRHEOMETRICS RVE流動計で測定される。この
流動計は二重平行板振動粘度計である。平行板の直径は
50mmであり、試料を入れた場合の二つの平行板間の
空間は1.60mmである。
剤の前記溶液の粘弾性はRheometrics Inc. 2438米
国、HY.No.22、Union NJ07083を通して
入手しうるRHEOMETRICS RVE流動計で測定される。この
流動計は二重平行板振動粘度計である。平行板の直径は
50mmであり、試料を入れた場合の二つの平行板間の
空間は1.60mmである。
【0026】測定中、実際の測定室の雰囲気は溶剤の蒸
気で飽和されている。測定は振動振幅が100%である
間に100rad/秒の回転速度で室温において行なわ
れる。
気で飽和されている。測定は振動振幅が100%である
間に100rad/秒の回転速度で室温において行なわ
れる。
【0027】その装置はG″、剪断弾性の可塑性成分
(Pa),G′,剪断弾性の弾性成分(Pa),η* ,
複合粘度(Pa・秒)を読みとることができる。G″及
びG′から粘弾性挙動は下記式によって特徴づけること
ができる:
(Pa),G′,剪断弾性の弾性成分(Pa),η* ,
複合粘度(Pa・秒)を読みとることができる。G″及
びG′から粘弾性挙動は下記式によって特徴づけること
ができる:
【0028】本発明によるダミー層に使用するために好
適な重合体結合剤は少なくとも一つの濃度が3〜15%
w/wの濃度範囲にあり、その場合にその溶液が1≦
tg(d)≦10の式を満たすtg(d)を有する。本
発明によるダミー層に使用するために最も好適な重合体
結合剤は1≦tg(d)≦5の式を満たすtg(d)を
示し3〜15% w/wの濃度範囲で4/1 THF/
ANON混合物において溶液を作ることができるもので
ある。
適な重合体結合剤は少なくとも一つの濃度が3〜15%
w/wの濃度範囲にあり、その場合にその溶液が1≦
tg(d)≦10の式を満たすtg(d)を有する。本
発明によるダミー層に使用するために最も好適な重合体
結合剤は1≦tg(d)≦5の式を満たすtg(d)を
示し3〜15% w/wの濃度範囲で4/1 THF/
ANON混合物において溶液を作ることができるもので
ある。
【0029】本発明によるダミー層に有用な重合体結合
剤は例えばセルロースアセテートプロピオネート、セル
ロースアセテートブチレートなどのようなセルロースエ
ステル類である。またDupont、Wilmington、米国から入
手しうるELVACITE2041又はRoehm &Haas、ドイツか
ら入手しうるPLEXIGUM920のような高分子量ポリメチ
ルメタクリレートを本発明によるダミー層のための重合
体結合剤として使用することができる。本発明によるダ
ミー層のために他に有用な重合体結合剤はポリエステル
ポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、又はポリエ
ステルポリウレタンとビニルクロライド/ビニルアセテ
ート/ビニルアルコールの共重合体の混合物等に見つけ
られる。有用なポリエステルポリウレタンは商標名ESTA
NEの下、BF Goodrich Chemical (ベルギー)、Brusse
ls、ベルギーから又は商標名MORTHANEの下、Morton In
ternational 、Woodstock Il 、米国から入手される。
剤は例えばセルロースアセテートプロピオネート、セル
ロースアセテートブチレートなどのようなセルロースエ
ステル類である。またDupont、Wilmington、米国から入
手しうるELVACITE2041又はRoehm &Haas、ドイツか
ら入手しうるPLEXIGUM920のような高分子量ポリメチ
ルメタクリレートを本発明によるダミー層のための重合
体結合剤として使用することができる。本発明によるダ
ミー層のために他に有用な重合体結合剤はポリエステル
ポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、又はポリエ
ステルポリウレタンとビニルクロライド/ビニルアセテ
ート/ビニルアルコールの共重合体の混合物等に見つけ
られる。有用なポリエステルポリウレタンは商標名ESTA
NEの下、BF Goodrich Chemical (ベルギー)、Brusse
ls、ベルギーから又は商標名MORTHANEの下、Morton In
ternational 、Woodstock Il 、米国から入手される。
【0030】ポリビニルアルコールと2〜6の炭素原子
を有する少なくとも1種の脂肪族アルデヒドの反応によ
って生成される重合体は本発明によるダミー層のために
結合剤重合体として好ましく使用される。好適な具体例
では前記アルデヒドはアセトアルデヒドであり、前記重
合体結合剤はS−LEC KS5Zの商標の下、日本の
積水プラスチックから入手されるポリビニルアセタール
樹脂である。最も好ましい具体例では前記脂肪族アルデ
ヒドはブチルアルデヒドであり、前記重合体結合剤は6
0〜80mol%のブチラール含有量、15〜40mo
l%のヒドロキシル含有量及び多くても5mol%のア
セチル含有量を有するポリビニルブチラール樹脂であ
る。このようなポリビニルブチラール樹脂はS−LEC
Bの商標の下、日本の積水プラスチックを通して、MO
WITAL Bの商標の下、ドイツ フランクフルトのHoechs
t を通して又はBUTVARの商標の下、米国のMonsanto Co
mpany を通して入手される。
を有する少なくとも1種の脂肪族アルデヒドの反応によ
って生成される重合体は本発明によるダミー層のために
結合剤重合体として好ましく使用される。好適な具体例
では前記アルデヒドはアセトアルデヒドであり、前記重
合体結合剤はS−LEC KS5Zの商標の下、日本の
積水プラスチックから入手されるポリビニルアセタール
樹脂である。最も好ましい具体例では前記脂肪族アルデ
ヒドはブチルアルデヒドであり、前記重合体結合剤は6
0〜80mol%のブチラール含有量、15〜40mo
l%のヒドロキシル含有量及び多くても5mol%のア
セチル含有量を有するポリビニルブチラール樹脂であ
る。このようなポリビニルブチラール樹脂はS−LEC
Bの商標の下、日本の積水プラスチックを通して、MO
WITAL Bの商標の下、ドイツ フランクフルトのHoechs
t を通して又はBUTVARの商標の下、米国のMonsanto Co
mpany を通して入手される。
【0031】本発明によるダミー層において試験Aを満
たす相溶性重合体の2成分また3成分混合物を使用する
ことができる。
たす相溶性重合体の2成分また3成分混合物を使用する
ことができる。
【0032】好ましくは本発明によるダミー層のための
被覆組成物は前記重合体結合剤の3〜15% w/wを
含む。さらに好ましくは前記ダミー層のための被覆組成
物は前記重合体結合剤の5〜10% w/wを含む。
被覆組成物は前記重合体結合剤の3〜15% w/wを
含む。さらに好ましくは前記ダミー層のための被覆組成
物は前記重合体結合剤の5〜10% w/wを含む。
【0033】本発明による乾燥ダミー層は重合体結合剤
又は上記の重合体結合剤の混合物を1〜4g/m2 含む
ことが好ましい。さらに好ましくは本発明による乾燥ダ
ミー層は前記重合体結合剤又は前記重合体結合剤の混合
物を1.5〜3g/m2 含む。
又は上記の重合体結合剤の混合物を1〜4g/m2 含む
ことが好ましい。さらに好ましくは本発明による乾燥ダ
ミー層は前記重合体結合剤又は前記重合体結合剤の混合
物を1.5〜3g/m2 含む。
【0034】前記重合体結合剤が可溶性である溶剤なら
いずれも本発明によるダミー層のための被覆溶液を製造
するために使用することができる。前記重合体結合剤の
ための溶剤としてはアルコール(例、エタノール、メタ
ノール、イソプロパノールなど)、セロソルブ(例、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブなど)、ケトン
(例、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノ
ンなど)、エーテル(例、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジオキサンなど)がある。
いずれも本発明によるダミー層のための被覆溶液を製造
するために使用することができる。前記重合体結合剤の
ための溶剤としてはアルコール(例、エタノール、メタ
ノール、イソプロパノールなど)、セロソルブ(例、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブなど)、ケトン
(例、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノ
ンなど)、エーテル(例、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジオキサンなど)がある。
【0035】上記のものから選択された相溶性のある溶
剤の2成分又は3成分の混合物を使用することもでき
る。
剤の2成分又は3成分の混合物を使用することもでき
る。
【0036】好ましくはテトラヒドロフランとシクロヘ
キサノンの混合物(1/4〜5/1w/w比)は本発明
によるダミー層のための被覆溶液を製造するために使用
される。
キサノンの混合物(1/4〜5/1w/w比)は本発明
によるダミー層のための被覆溶液を製造するために使用
される。
【0037】本発明によるダミー層は好ましくは硬化さ
れる。前記被覆組成物のために前記重合体結合剤を架橋
しうる化合物ならいずれも本発明によるダミー層のため
の硬化剤として使用することができる。しかしながら、
脂肪族又は芳香族ジ又はポリイソシアネートで前記ダミ
ー層を硬化することが好ましく、そのうち最も好ましい
のは下記のものである。
れる。前記被覆組成物のために前記重合体結合剤を架橋
しうる化合物ならいずれも本発明によるダミー層のため
の硬化剤として使用することができる。しかしながら、
脂肪族又は芳香族ジ又はポリイソシアネートで前記ダミ
ー層を硬化することが好ましく、そのうち最も好ましい
のは下記のものである。
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【0038】上記イソシアネート化合物はBayer AG 、
Leverkusen、ドイツからすべて入手できる。
Leverkusen、ドイツからすべて入手できる。
【0039】磁気層 本発明に従って使用するための磁気層は当業者に公知の
強磁性粉末ならいずれも含むことができる。かかる強磁
性粉末の例としては、強磁性ガンマー酸化鉄、コバルト
表面処理強磁性酸化鉄、コバルトドープ強磁性酸化鉄、
コバルト含有Fe2O3 、強磁性磁鉄鉱、コバルト含有強磁
性磁鉄鉱、強磁性二酸化クロム、強磁性金属粉末、強磁
性鉄粉末、強磁性合金及び強磁性フェライトなどがあ
る。
強磁性粉末ならいずれも含むことができる。かかる強磁
性粉末の例としては、強磁性ガンマー酸化鉄、コバルト
表面処理強磁性酸化鉄、コバルトドープ強磁性酸化鉄、
コバルト含有Fe2O3 、強磁性磁鉄鉱、コバルト含有強磁
性磁鉄鉱、強磁性二酸化クロム、強磁性金属粉末、強磁
性鉄粉末、強磁性合金及び強磁性フェライトなどがあ
る。
【0040】前記強磁性粉末は低い吸光係数を与えるた
めに、粉末と結合剤の間の指数を合わせるために改良す
ることができる。前記改良は低屈折率のシェルで前記強
磁性粉末のコアの被覆であることができる。
めに、粉末と結合剤の間の指数を合わせるために改良す
ることができる。前記改良は低屈折率のシェルで前記強
磁性粉末のコアの被覆であることができる。
【0041】本発明によればコバルトドープ強磁性ガン
マーFe2O3 は磁気層に含まれるのに好ましい強磁性粉末
である。
マーFe2O3 は磁気層に含まれるのに好ましい強磁性粉末
である。
【0042】本発明に従って使用するための強磁性物質
は様々な大きさや形状を有することができ、特に大きさ
又は形状に制限がないものである。しかしながら粒子が
少なくとも10m2 /g、多くても100m2 /gのB
ET−表面を有する強磁性粉末を使用することが好まし
い。本発明による磁気層はいずれの形状の強磁性粉末を
含んでもよいが、多くても0.4μmの長さであり、か
つ長さ対幅の比が4/1〜8/1である針状粒子を有す
る強磁性粉末を使用することが好ましい。
は様々な大きさや形状を有することができ、特に大きさ
又は形状に制限がないものである。しかしながら粒子が
少なくとも10m2 /g、多くても100m2 /gのB
ET−表面を有する強磁性粉末を使用することが好まし
い。本発明による磁気層はいずれの形状の強磁性粉末を
含んでもよいが、多くても0.4μmの長さであり、か
つ長さ対幅の比が4/1〜8/1である針状粒子を有す
る強磁性粉末を使用することが好ましい。
【0043】本発明による磁気層における強磁性粉末の
量は0.001g/m2 〜2g/m2 の範囲である。好
ましくは前記強磁性粉末の量は0.005g/m2 〜1
g/m2 の範囲であり、最も好ましくは0.01g/m
2 〜0.1g/m2 である。
量は0.001g/m2 〜2g/m2 の範囲である。好
ましくは前記強磁性粉末の量は0.005g/m2 〜1
g/m2 の範囲であり、最も好ましくは0.01g/m
2 〜0.1g/m2 である。
【0044】本発明による磁気層は当業者に公知のいず
れの結合剤も含むことができる。それは例えば熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化樹脂、反応性樹脂及び
それらの混合物である。好適な熱可塑性樹脂の例として
は下記のものがある: −ビニル重合体例えばビニルクロライドとビニルアセテ
ートの共重合体、ビニルクロライド、ビニルアセテート
及びビニルアルコールの共重合体、マレイン酸及び/又
はアクリル酸、ビニルクロライド/ビニリデンクロライ
ドの共重合体、ビニルクロライド−アクリロニトリル共
重合体など −セルロース誘導体例えばニトロセルロース、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルローストリアセテー
トなど −ゴム状樹脂例えばスチレン−ブタジエン樹脂、ブタジ
エンアクリロニトリル樹脂など
れの結合剤も含むことができる。それは例えば熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化樹脂、反応性樹脂及び
それらの混合物である。好適な熱可塑性樹脂の例として
は下記のものがある: −ビニル重合体例えばビニルクロライドとビニルアセテ
ートの共重合体、ビニルクロライド、ビニルアセテート
及びビニルアルコールの共重合体、マレイン酸及び/又
はアクリル酸、ビニルクロライド/ビニリデンクロライ
ドの共重合体、ビニルクロライド−アクリロニトリル共
重合体など −セルロース誘導体例えばニトロセルロース、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルローストリアセテー
トなど −ゴム状樹脂例えばスチレン−ブタジエン樹脂、ブタジ
エンアクリロニトリル樹脂など
【0045】本発明に従って使用するための他の好適な
樹脂の例としては、アルリル樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリビニルアセタール又はポリビニルブチラール樹脂、
ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレ
タン樹脂、ポリアミド樹脂及びアミノ樹脂がある。
樹脂の例としては、アルリル樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリビニルアセタール又はポリビニルブチラール樹脂、
ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレ
タン樹脂、ポリアミド樹脂及びアミノ樹脂がある。
【0046】本発明による有用な放射線硬化樹脂の例と
しては、放射線硬化官能基として炭素−炭素不飽和結合
を有する基を含む上記の熱可塑性樹脂が含まれる。前記
熱可塑性樹脂内に放射線硬化基としてアクリロイル又は
メタクリロイル基を使用することが好ましい。
しては、放射線硬化官能基として炭素−炭素不飽和結合
を有する基を含む上記の熱可塑性樹脂が含まれる。前記
熱可塑性樹脂内に放射線硬化基としてアクリロイル又は
メタクリロイル基を使用することが好ましい。
【0047】本発明による磁気層に使用するための結合
剤は極性基、例えばヒドロキシ基、エポキシ基、カルボ
キシ基、スルホネート又はスルフェート基などを含むこ
とができる。
剤は極性基、例えばヒドロキシ基、エポキシ基、カルボ
キシ基、スルホネート又はスルフェート基などを含むこ
とができる。
【0048】本発明による磁気層は従来のイソシアネー
ト硬化剤で硬化することができ又は放射線硬化すること
ができる。
ト硬化剤で硬化することができ又は放射線硬化すること
ができる。
【0049】本発明による磁気層のために、結合剤とし
てポリエステルポリウレタン樹脂と上述のようなイソシ
アネート硬化剤を使用することが好ましい。最も好まし
いポリエステルポリウレタン樹脂はMORTHANE CA−23
9の商標の下、Morton International ,Woodstock I
l 、米国から入手される、30〜50℃のTg、0.6
及び0.8mg KOH/gの酸価を有するポリウレタン樹
脂である。
てポリエステルポリウレタン樹脂と上述のようなイソシ
アネート硬化剤を使用することが好ましい。最も好まし
いポリエステルポリウレタン樹脂はMORTHANE CA−23
9の商標の下、Morton International ,Woodstock I
l 、米国から入手される、30〜50℃のTg、0.6
及び0.8mg KOH/gの酸価を有するポリウレタン樹
脂である。
【0050】本発明による磁気層はいずれの分散剤又は
界面活性剤を含むことができる。本発明による好ましい
分散剤又は界面活性剤はフッ素含有分子、レシチン又は
有機リン酸エステル例えばGAF Corp.米国から入手され
るGAFAC RE 610である。
界面活性剤を含むことができる。本発明による好ましい
分散剤又は界面活性剤はフッ素含有分子、レシチン又は
有機リン酸エステル例えばGAF Corp.米国から入手され
るGAFAC RE 610である。
【0051】本発明による分散剤又は界面活性剤として
の使用にはフッ素含有分散剤を使用することが最も好ま
しい。本発明に従って使用するために最も好ましいフッ
素化分散剤又は界面活性剤はFLUORAD FC 430の商標
の下、3M,St. Paul , MN, 米国から入手しうるフッ
素化アルキルエステルである。
の使用にはフッ素含有分散剤を使用することが最も好ま
しい。本発明に従って使用するために最も好ましいフッ
素化分散剤又は界面活性剤はFLUORAD FC 430の商標
の下、3M,St. Paul , MN, 米国から入手しうるフッ
素化アルキルエステルである。
【0052】本発明による磁気層は滑剤、例えば −脂肪酸、例えばミリスチン酸、ステアリン酸、オレイ
ン酸、 −金属石けん −脂肪酸エステル、例えばブチルミリステート、イソセ
チルステアレート、エチルヘキシルパルミテートなど −多価アルコールの脂肪酸エステル又は多塩基酸のエス
テル が含まれる。
ン酸、 −金属石けん −脂肪酸エステル、例えばブチルミリステート、イソセ
チルステアレート、エチルヘキシルパルミテートなど −多価アルコールの脂肪酸エステル又は多塩基酸のエス
テル が含まれる。
【0053】他の滑剤、例えばパラフィン、高級脂肪族
アルコール、アルキルホスフェート、シリコーンオイ
ル、鉱物、動物又は植物油、高級脂肪族アミン又は微細
無機物質(例えばシリカ、グラファイトなど)を本発明
による磁気層に使用することができる。
アルコール、アルキルホスフェート、シリコーンオイ
ル、鉱物、動物又は植物油、高級脂肪族アミン又は微細
無機物質(例えばシリカ、グラファイトなど)を本発明
による磁気層に使用することができる。
【0054】本発明による磁気層に滑剤と脂肪酸を使用
することが好ましく、特に10〜20の炭素原子を含有
する脂肪酸が好ましい滑剤である。
することが好ましく、特に10〜20の炭素原子を含有
する脂肪酸が好ましい滑剤である。
【0055】本発明によると、磁気層の上部に保護層を
被覆することが好ましい。この保護層は磁気層の被覆溶
液と同じ重合体結合剤を含む被覆溶液から被覆されるこ
とが好ましい。前記保護層はダミー層を硬化するために
使用されるものと同じ又は等価のイソシアネート硬化剤
で硬化することが好ましい。前記保護層は滑剤、例えば
脂肪酸の金属塩、ワックス分散液又はポリシロキサン、
艶消剤、例えばポリメチルメタクリレートビーズ、ホモ
分散シリカビーズ、被覆剤、帯電防止剤(例えばEP−
A440957に開示されるようなポリエチレンジオキ
シチオフェン)などを含むことができる。
被覆することが好ましい。この保護層は磁気層の被覆溶
液と同じ重合体結合剤を含む被覆溶液から被覆されるこ
とが好ましい。前記保護層はダミー層を硬化するために
使用されるものと同じ又は等価のイソシアネート硬化剤
で硬化することが好ましい。前記保護層は滑剤、例えば
脂肪酸の金属塩、ワックス分散液又はポリシロキサン、
艶消剤、例えばポリメチルメタクリレートビーズ、ホモ
分散シリカビーズ、被覆剤、帯電防止剤(例えばEP−
A440957に開示されるようなポリエチレンジオキ
シチオフェン)などを含むことができる。
【0056】支持体 本発明によるダミー層及び磁気層を被覆するために幅広
い種類の重合体の透明又は不透明の支持体を使用するこ
とができる。それらは例えば、セルロースアセテート、
セルロースアセテートプロピオネート、又はセルロース
アセテートブチレート、ポリ(エチレンテレフタレー
ト)、ポリエチレンナフタレートのようなポリエステ
ル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
オレフィン、ポリ(ビニルアセタール)、ポリエーテル
及びポリスルホンアミドを含む写真フィルムの製造に使
用されるような透明支持体を含む。本発明のために有用
な高品質重合体支持体の他の例は例えばUS−P478
0402、EP−A182253などに開示されるよう
な不透明白色ポリエステル及び例えばUS−P4187
113に開示されるようなポリ(エチレンテレフタレー
ト)とポリプロピレンの押出混合物又はポリエステル/
ポリオレフィン混合物の共押出し層の多層支持体及び例
えばヨーロッパ出願92202460.9(1992年
8月9日出願)に開示されるような白色顔料を含むポリ
エステルがある。
い種類の重合体の透明又は不透明の支持体を使用するこ
とができる。それらは例えば、セルロースアセテート、
セルロースアセテートプロピオネート、又はセルロース
アセテートブチレート、ポリ(エチレンテレフタレー
ト)、ポリエチレンナフタレートのようなポリエステ
ル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
オレフィン、ポリ(ビニルアセタール)、ポリエーテル
及びポリスルホンアミドを含む写真フィルムの製造に使
用されるような透明支持体を含む。本発明のために有用
な高品質重合体支持体の他の例は例えばUS−P478
0402、EP−A182253などに開示されるよう
な不透明白色ポリエステル及び例えばUS−P4187
113に開示されるようなポリ(エチレンテレフタレー
ト)とポリプロピレンの押出混合物又はポリエステル/
ポリオレフィン混合物の共押出し層の多層支持体及び例
えばヨーロッパ出願92202460.9(1992年
8月9日出願)に開示されるような白色顔料を含むポリ
エステルがある。
【0057】本発明による磁気層及びダミー層を被覆す
るための支持体としてセルローストリアセテート、ポリ
エチレンテレフタレート又は変性ポリエステルのいずれ
かを使用することが好ましい。変性ポリエステルの例と
しては下記のものがある: −例えばUS−P4271441、WO92/0130
21、EP−A493008に開示されるようなポリエ
チレンオキサイド含有ポリエステル −例えばUS−P3052543、WO92/0130
21、ヨーロッパ出願93201476.4(1993
年5月24日提出)に開示されるようなスルホン酸基又
はその塩を含むポリエステル −例えばEP−A496346、EP−A334367
に開示されるような脂肪酸と組合せたスルホン酸基を含
むポリエステル。
るための支持体としてセルローストリアセテート、ポリ
エチレンテレフタレート又は変性ポリエステルのいずれ
かを使用することが好ましい。変性ポリエステルの例と
しては下記のものがある: −例えばUS−P4271441、WO92/0130
21、EP−A493008に開示されるようなポリエ
チレンオキサイド含有ポリエステル −例えばUS−P3052543、WO92/0130
21、ヨーロッパ出願93201476.4(1993
年5月24日提出)に開示されるようなスルホン酸基又
はその塩を含むポリエステル −例えばEP−A496346、EP−A334367
に開示されるような脂肪酸と組合せたスルホン酸基を含
むポリエステル。
【0058】本発明によるダミー層及び磁気層のための
支持体として変性ポリエステル支持体を使用する場合、
コポリエステル支持体を使用することが好ましく、前記
コポリエステルは側鎖にポリエーテル基を含む。かかる
支持体は酸又はエステルの形の少なくとも1種のジカル
ボン酸と少なくとも1種のジオールの縮合反応によって
製造されるコポリエステルを使用することが好ましく、
その場合、側鎖にポリエーテル基を含有する酸又はエス
テルの形のモノヒドロキシカルボン酸、酸又はエステル
の形のジカルボン酸又は少なくとも1種のジオールのい
ずれかが反応混合物に添加される。
支持体として変性ポリエステル支持体を使用する場合、
コポリエステル支持体を使用することが好ましく、前記
コポリエステルは側鎖にポリエーテル基を含む。かかる
支持体は酸又はエステルの形の少なくとも1種のジカル
ボン酸と少なくとも1種のジオールの縮合反応によって
製造されるコポリエステルを使用することが好ましく、
その場合、側鎖にポリエーテル基を含有する酸又はエス
テルの形のモノヒドロキシカルボン酸、酸又はエステル
の形のジカルボン酸又は少なくとも1種のジオールのい
ずれかが反応混合物に添加される。
【0059】最も好ましいコポリエステル支持体はコポ
リエステルの側鎖にポリエーテル基を導入するように共
重縮合された化合物が下記式(I)に相当するものであ
る:
リエステルの側鎖にポリエーテル基を導入するように共
重縮合された化合物が下記式(I)に相当するものであ
る:
【化5】 式中、R1 はアルキレン、アリーレン、アラルキレン又
はシクロアルキレン基を表わし、X1 及びX2 はR=H
又は低級アルキル基であるOH又はCOORをそれぞれ独立
して表わし、YはO,NH,COO又はSO2 から成る
群から選択される結合基を表わし、R2 及びR3 は1〜
4のC原子を有するアルキレン基を表わし、R4 は塩の
形のスルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸及びカルボ
ン酸から成る群から選択された親水性基で置換しうるア
リール又は低級アルキル基を表わす。nは0〜200の
整数であり、mは0〜100の整数である。n+m>1
であり、pは0又は1に等しい。
はシクロアルキレン基を表わし、X1 及びX2 はR=H
又は低級アルキル基であるOH又はCOORをそれぞれ独立
して表わし、YはO,NH,COO又はSO2 から成る
群から選択される結合基を表わし、R2 及びR3 は1〜
4のC原子を有するアルキレン基を表わし、R4 は塩の
形のスルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸及びカルボ
ン酸から成る群から選択された親水性基で置換しうるア
リール又は低級アルキル基を表わす。nは0〜200の
整数であり、mは0〜100の整数である。n+m>1
であり、pは0又は1に等しい。
【0060】最も好ましくはスルホイソフタル酸単位と
ともに上記のように側鎖にポリエーテル基を含むポリエ
ステル支持体は(通常の及び変性されたポリエステル
の)ポリエステル配合物の共押出し層及び変性ポリエス
テルの1又は2層の単層フィルムとして又は多層支持体
としてのいずれかに本発明によるダミー層及び磁気層の
ための支持体として使用される。
ともに上記のように側鎖にポリエーテル基を含むポリエ
ステル支持体は(通常の及び変性されたポリエステル
の)ポリエステル配合物の共押出し層及び変性ポリエス
テルの1又は2層の単層フィルムとして又は多層支持体
としてのいずれかに本発明によるダミー層及び磁気層の
ための支持体として使用される。
【0061】本発明によるダミー層及び磁気層のための
支持体は前記ダミー層と磁気層と支持体の間の結合を改
良するためにプライマー又は下塗り層を含むことができ
る。前記ダミー層及び前記磁気層のための下塗り層とし
て例えばEP0078559、US−P375128
0、ヨーロッパ出願92200593.9などに記載さ
れるような下塗り層が好ましい。前記下塗り層は例えば
ヨーロッパ出願92203978.9(1992年12
月17日出願)、US−P5006451、EP−A4
29179に記載されるような帯電防止生成物を含むこ
とができる。本発明によれば透明帯電防止プライマー層
で片側又は両側を被覆した支持体を使用することが好ま
しく、前記層はヨーロッパ出願92203978.9
(1992年12月17日出願)に開示されるように
(1)重合体ポリアニオン化合物の存在下で共役重合体
主鎖を有するポリチオフェン及び(2)親水性官能価を
有するラテックス重合体を含むものである。
支持体は前記ダミー層と磁気層と支持体の間の結合を改
良するためにプライマー又は下塗り層を含むことができ
る。前記ダミー層及び前記磁気層のための下塗り層とし
て例えばEP0078559、US−P375128
0、ヨーロッパ出願92200593.9などに記載さ
れるような下塗り層が好ましい。前記下塗り層は例えば
ヨーロッパ出願92203978.9(1992年12
月17日出願)、US−P5006451、EP−A4
29179に記載されるような帯電防止生成物を含むこ
とができる。本発明によれば透明帯電防止プライマー層
で片側又は両側を被覆した支持体を使用することが好ま
しく、前記層はヨーロッパ出願92203978.9
(1992年12月17日出願)に開示されるように
(1)重合体ポリアニオン化合物の存在下で共役重合体
主鎖を有するポリチオフェン及び(2)親水性官能価を
有するラテックス重合体を含むものである。
【0062】被 覆 本発明によるダミー層及び磁気層の共押出し被覆はハロ
ゲン化銀を含有する写真材料又は磁気層を被覆すること
で知られる公知の押出被覆システムのいずれによっても
実施することができる。有利にはFr1370920に
記載されるような押出し法を使用することができる。B
E829569又はUS−P2761418に記載のよ
うな被覆ダイを使用することができる。上流及び下流の
メニスカスの間の小さな圧力差を被覆中適用することが
好ましい。
ゲン化銀を含有する写真材料又は磁気層を被覆すること
で知られる公知の押出被覆システムのいずれによっても
実施することができる。有利にはFr1370920に
記載されるような押出し法を使用することができる。B
E829569又はUS−P2761418に記載のよ
うな被覆ダイを使用することができる。上流及び下流の
メニスカスの間の小さな圧力差を被覆中適用することが
好ましい。
【0063】前記ダミー層及び前記磁気層の両方の良好
な被覆品質と前記磁気層の優れた磁気特性を組合せるた
めには、前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )対前
記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )の比は0.0
1≦Thmag /Thdum ≦1の式を満たし、かつ前記磁
気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )と前記ダミー層の未
乾燥被覆厚さ(Thdum )の合計が25μm≦Thmag
+Thdum ≦100μmの式を満たすことが好ましい。
好ましくは前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )と
前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )の合計は3
0μm≦Thma g +Thdum ≦60μmの式を満たし、
かつ前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )対前記ダ
ミー層の未乾燥被覆厚さの比は0.05≦Thmag /T
hdum ≦0.5の式を満たす。
な被覆品質と前記磁気層の優れた磁気特性を組合せるた
めには、前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )対前
記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )の比は0.0
1≦Thmag /Thdum ≦1の式を満たし、かつ前記磁
気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )と前記ダミー層の未
乾燥被覆厚さ(Thdum )の合計が25μm≦Thmag
+Thdum ≦100μmの式を満たすことが好ましい。
好ましくは前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )と
前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )の合計は3
0μm≦Thma g +Thdum ≦60μmの式を満たし、
かつ前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )対前記ダ
ミー層の未乾燥被覆厚さの比は0.05≦Thmag /T
hdum ≦0.5の式を満たす。
【0064】本発明に従った方法によって片側に磁気層
を設けた重合体シート又はウエブ材料は感光性材料のた
めの支持体として使用することができ、前記感光性材料
は前記磁気層の反対の前記重合体シート又はウエブ材料
の側に被覆される。
を設けた重合体シート又はウエブ材料は感光性材料のた
めの支持体として使用することができ、前記感光性材料
は前記磁気層の反対の前記重合体シート又はウエブ材料
の側に被覆される。
【0065】前記感光性材料は好ましくは写真ハロゲン
化銀乳剤材料であり、当業者に知られているいずれのタ
イプのハロゲン化銀乳剤層を含むことができる。例え
ば、これらの材料は連続階調または中間調写真、マイク
ロ写真、放射線写真及び撮像用放射線写真に使用される
タイプのハロゲン化銀乳剤層を含むことができる。規定
されている重合体シート又はウエブ材料は白黒又はカラ
ー写真材料において有利に使用することができ、ハロゲ
ン化銀乳剤層で作用する染料拡散転写法と同様に銀錯体
拡散転写反転(DTR)法で使用することを意図するハ
ロゲン化銀乳剤層でも有利に使用することができる。
化銀乳剤材料であり、当業者に知られているいずれのタ
イプのハロゲン化銀乳剤層を含むことができる。例え
ば、これらの材料は連続階調または中間調写真、マイク
ロ写真、放射線写真及び撮像用放射線写真に使用される
タイプのハロゲン化銀乳剤層を含むことができる。規定
されている重合体シート又はウエブ材料は白黒又はカラ
ー写真材料において有利に使用することができ、ハロゲ
ン化銀乳剤層で作用する染料拡散転写法と同様に銀錯体
拡散転写反転(DTR)法で使用することを意図するハ
ロゲン化銀乳剤層でも有利に使用することができる。
【0066】ハロゲン化銀乳剤層の組成物のためには例
えば1978年12月のResearchDisclosure 1764
3及び1989年11月のResearch Disclosure 30
7105を参照されたい。
えば1978年12月のResearchDisclosure 1764
3及び1989年11月のResearch Disclosure 30
7105を参照されたい。
【0067】感光性親水性ゼラチン−ハロゲン化銀乳剤
層を別として感光性でないいずれの他のゼラチン含有層
を適用することができる。例えば、前記ゼラチン含有層
は拡散転写反転写真(DTR−写真)に使用するための
物理的現像核を含有するゼラチン受像層であることがで
き又は画像に従った転写層のための媒染剤を含有するゼ
ラチン受像層である。DTR写真によるハロゲン化銀形
成の原理及び具体例は例えばAndre Rott 及びEdith W
eyde著の“ Photographic Silver Halide Diffusion
Processes ”−The Focal Press London and Ne
w York (1972)に記載されており、染料拡散転写
によるカラー画像の製造の原理及び具体例は例えばC. V
an de Sande 著のAngew. Chem. Int. Ed. Engl. 22
(1983)191−209頁に記載されている。
層を別として感光性でないいずれの他のゼラチン含有層
を適用することができる。例えば、前記ゼラチン含有層
は拡散転写反転写真(DTR−写真)に使用するための
物理的現像核を含有するゼラチン受像層であることがで
き又は画像に従った転写層のための媒染剤を含有するゼ
ラチン受像層である。DTR写真によるハロゲン化銀形
成の原理及び具体例は例えばAndre Rott 及びEdith W
eyde著の“ Photographic Silver Halide Diffusion
Processes ”−The Focal Press London and Ne
w York (1972)に記載されており、染料拡散転写
によるカラー画像の製造の原理及び具体例は例えばC. V
an de Sande 著のAngew. Chem. Int. Ed. Engl. 22
(1983)191−209頁に記載されている。
【0068】本発明に従って処理される重合体シート又
はウエブ材料は好ましくはロールフィルムとして存在す
るハロゲン化銀含有感光性材料の製造のために使用され
る。
はウエブ材料は好ましくはロールフィルムとして存在す
るハロゲン化銀含有感光性材料の製造のために使用され
る。
【0069】本発明は下記実施例によって説明される
が、これらに限定されるものではない。
が、これらに限定されるものではない。
【0070】試験法 被覆品質は視覚により評価し、下記の点数を与えた。 0(極めて優秀) 1(非常に良い) 2(良い) 3(普通) 4(劣る) 5(許容できない)
【0071】獲得できる磁気信号対ノイズ比として評価
される磁気特性:磁気信号を磁気ヘッドDR130(筆
記=3mm、読み取り1mm)で20cm/秒の記録速
度及び40mAの電流で、100bpiの記録密度で試
料上に記録した。信号は信号を測定するためのヘッド集
成体の手動によって読み取られ、前記信号の振幅とノイ
ズの2倍として規定した。信号対ノイズ比はdBで表わ
される。
される磁気特性:磁気信号を磁気ヘッドDR130(筆
記=3mm、読み取り1mm)で20cm/秒の記録速
度及び40mAの電流で、100bpiの記録密度で試
料上に記録した。信号は信号を測定するためのヘッド集
成体の手動によって読み取られ、前記信号の振幅とノイ
ズの2倍として規定した。信号対ノイズ比はdBで表わ
される。
【0072】実施例 1 いくつかの重合体結合剤をテトラヒドロフラン/シクロ
ヘキサノン4/1の混合物に溶解し、これらの溶液のそ
れぞれを磁気層とともにダミー層を被覆するために使用
した。ダミー層の硬化は実施例2の記載と同じように
し、磁気層は実施例2の記載と同じ組成物を有してい
た。磁気層上に保護層は全く存在させなかった。
ヘキサノン4/1の混合物に溶解し、これらの溶液のそ
れぞれを磁気層とともにダミー層を被覆するために使用
した。ダミー層の硬化は実施例2の記載と同じように
し、磁気層は実施例2の記載と同じ組成物を有してい
た。磁気層上に保護層は全く存在させなかった。
【0073】ダミー層のための被覆溶液及び磁気層のた
めの被覆溶液は塩化ビニリデンベースの下塗り層を有す
るポリエチレンテレフタレート支持体上に押出しダイを
通して共押出しされた。磁気層の上部に保護層のための
被覆溶液を適用した。
めの被覆溶液は塩化ビニリデンベースの下塗り層を有す
るポリエチレンテレフタレート支持体上に押出しダイを
通して共押出しされた。磁気層の上部に保護層のための
被覆溶液を適用した。
【0074】被覆前にダミー層のための被覆溶液のtg
(d)とη* を試験Aに従って測定した。
(d)とη* を試験Aに従って測定した。
【0075】その結果を表1に示した。
【表1】
【0076】BUTVAR B 72はポリビニルブチラールの
ためのMonsanto Company 米国の商標名(Mw1700
00〜250000、Tg:72−78℃)である。EL
VACITE 2041は高分子量ポリメチルメタクリレート
のためのDu Pont、Wilmington 米国の商標である。MO
RTHANE CA239はポリエステルポリウレタンのための
Morton International 、Woodstock 、Il 米国の商標
である。MOWITAL B70H はポリビニルブチラールのた
めのHoechst AG 、Frankfurtドイツの商標である。S
−LEC BX5及びS−LEC KS5Zはポリビニ
ルブチラール樹脂(Mw130000、Tg:89℃)
とポリビニルアセタール樹脂(Mw130000、T
g:113℃)のそれぞれの積水プラスチック、日本の
商標である。VINYLITE VAGH はコポリ(ビニルクロラ
イド、ビニルアルコール、ビニルアセテート)樹脂のた
めのUnion Carbideの商標である。
ためのMonsanto Company 米国の商標名(Mw1700
00〜250000、Tg:72−78℃)である。EL
VACITE 2041は高分子量ポリメチルメタクリレート
のためのDu Pont、Wilmington 米国の商標である。MO
RTHANE CA239はポリエステルポリウレタンのための
Morton International 、Woodstock 、Il 米国の商標
である。MOWITAL B70H はポリビニルブチラールのた
めのHoechst AG 、Frankfurtドイツの商標である。S
−LEC BX5及びS−LEC KS5Zはポリビニ
ルブチラール樹脂(Mw130000、Tg:89℃)
とポリビニルアセタール樹脂(Mw130000、T
g:113℃)のそれぞれの積水プラスチック、日本の
商標である。VINYLITE VAGH はコポリ(ビニルクロラ
イド、ビニルアルコール、ビニルアセテート)樹脂のた
めのUnion Carbideの商標である。
【0077】表1の結果から、tg(d)が1〜10で
あるときにのみ良好な被覆品質が可能であり、かつ磁気
層の未乾燥厚さとダミー層の合計の許容できる未乾燥厚
さと良好な被覆品質を組合せることが望まれるときに
は、tg(d)は1〜5が最もよいことがわかる。25
%濃度のVINYLITE VAGHは1〜10のtg(d)の条件
を満たすけれども、被覆品質は重合体の高濃度のため劣
っている。
あるときにのみ良好な被覆品質が可能であり、かつ磁気
層の未乾燥厚さとダミー層の合計の許容できる未乾燥厚
さと良好な被覆品質を組合せることが望まれるときに
は、tg(d)は1〜5が最もよいことがわかる。25
%濃度のVINYLITE VAGHは1〜10のtg(d)の条件
を満たすけれども、被覆品質は重合体の高濃度のため劣
っている。
【0078】実施例 2 (i)ダミー層のための被覆溶液 積水プラスチック日本からのS−LEC BX5の商標
で入手しうるポリビニルブチラール樹脂(Mw=130
000、Tg=89℃)の70重量部をテトラヒドロフ
ラン及びシクロヘキサノン(THF/ANON)の4/
1 w/w混合物の950mlに溶解した。10mgの
DESMORAPID Z (ジブチル−Sn−ジラウレート、Baye
r AG Leverkusen ドイツから入手可能)を添加し、そ
の溶液の体積を4/1 w/w THF/ANON混
合物によって1000mlに調整した。これは20℃で
剪断速度≦100秒-1で800mPasの粘度を有する
被覆溶液を生じた。ダミー層のための被覆溶液を試験A
に従って測定するとtg(d)=2.07を有してい
た。
で入手しうるポリビニルブチラール樹脂(Mw=130
000、Tg=89℃)の70重量部をテトラヒドロフ
ラン及びシクロヘキサノン(THF/ANON)の4/
1 w/w混合物の950mlに溶解した。10mgの
DESMORAPID Z (ジブチル−Sn−ジラウレート、Baye
r AG Leverkusen ドイツから入手可能)を添加し、そ
の溶液の体積を4/1 w/w THF/ANON混
合物によって1000mlに調整した。これは20℃で
剪断速度≦100秒-1で800mPasの粘度を有する
被覆溶液を生じた。ダミー層のための被覆溶液を試験A
に従って測定するとtg(d)=2.07を有してい
た。
【0079】(ii)ダミー層のための硬化剤溶液
【化6】 の500重量部をテトラヒドロフラン500mlに溶解
し、溶液の体積をテトラヒドロフランによって1000
mlに調整した。この硬化剤溶液の30mlをダミー層
の被覆溶液の1lに対して添加した。
し、溶液の体積をテトラヒドロフランによって1000
mlに調整した。この硬化剤溶液の30mlをダミー層
の被覆溶液の1lに対して添加した。
【0080】(iii) 磁気顔料分散液(DPl) 20gの共にドープされた強磁性ガンマ酸化鉄(VS−
9927Sの商標の下でISK Magnetics 、Bethlehem 、
PA米国から入手可能)を25.09gのテトラヒドロ
フラン、50.18gのシクロヘキサノン、4gのポリ
エステルポリウレタン樹脂(MORTHANE CA239の商標
の下、Morton International 、Woodstock Il 、米国
から入手可能)、0.21gのレシチン、0.52gの
ビニル重合体(平均分子量約35000、ヒドロキシル
含有量1.8% w/w、Tg73℃、UCARMAG 527
の商標の下でUnion Carbide、Danbury Ct 、米国から
入手可能)で混合した。この混合物をZrSiO3球体を含有
させて30分の全練り時間でサンドミルを8回通した。
9927Sの商標の下でISK Magnetics 、Bethlehem 、
PA米国から入手可能)を25.09gのテトラヒドロ
フラン、50.18gのシクロヘキサノン、4gのポリ
エステルポリウレタン樹脂(MORTHANE CA239の商標
の下、Morton International 、Woodstock Il 、米国
から入手可能)、0.21gのレシチン、0.52gの
ビニル重合体(平均分子量約35000、ヒドロキシル
含有量1.8% w/w、Tg73℃、UCARMAG 527
の商標の下でUnion Carbide、Danbury Ct 、米国から
入手可能)で混合した。この混合物をZrSiO3球体を含有
させて30分の全練り時間でサンドミルを8回通した。
【0081】(iv)磁気層のための被覆溶液 4.76gの磁気顔料分散液DP1を52.51gのシ
クロヘキサノン、26.26gのテトラヒドロフラン及
び12.68gのポリエステルポリウレタン樹脂(MORT
HANE CA239の商標の下でMorton International 、
Woodstock Il、米国から入手可能)、及び0.03g
のフッ素化アルキルエステル(FLUORADFC 430の商標
の下で3M、St. Paul、 MN 、米国から入手可能)で混
合し、20℃で剪断速度≦100秒-1で511mPas
の粘度を有する被覆溶液を与えた。
クロヘキサノン、26.26gのテトラヒドロフラン及
び12.68gのポリエステルポリウレタン樹脂(MORT
HANE CA239の商標の下でMorton International 、
Woodstock Il、米国から入手可能)、及び0.03g
のフッ素化アルキルエステル(FLUORADFC 430の商標
の下で3M、St. Paul、 MN 、米国から入手可能)で混
合し、20℃で剪断速度≦100秒-1で511mPas
の粘度を有する被覆溶液を与えた。
【0082】(v)保護層のための被覆溶液 20重量部のポリエステルポリウレタン樹脂(MORTHANE
CA239の商標の下でMorton International 、Wood
stock Il 、米国から入手可能)を、3.00gの下記
式を有する硬化剤、250gの平均粒径1.3〜1.4
を有するポリメチルメタクリレートビーズ、及び100
mgのTEGOGLIDE 410(Tego ChemieGMBH、ドイツか
ら入手可能なポリシロキサン)とともにメチルエチルケ
トン/シクロヘキサノン混合物(7/1 w/w)に溶
解し、1000mlの被覆溶液を生成した。
CA239の商標の下でMorton International 、Wood
stock Il 、米国から入手可能)を、3.00gの下記
式を有する硬化剤、250gの平均粒径1.3〜1.4
を有するポリメチルメタクリレートビーズ、及び100
mgのTEGOGLIDE 410(Tego ChemieGMBH、ドイツか
ら入手可能なポリシロキサン)とともにメチルエチルケ
トン/シクロヘキサノン混合物(7/1 w/w)に溶
解し、1000mlの被覆溶液を生成した。
【化7】
【0083】ダミー層のための被覆溶液と磁気層のため
の被覆溶液を塩化ビニリデンベースの下塗り層を有する
ポリエチレンテレフタレート支持体上に押出しダイを通
して共押出しした。保護層のための被覆溶液を磁気層の
上部に被覆した。
の被覆溶液を塩化ビニリデンベースの下塗り層を有する
ポリエチレンテレフタレート支持体上に押出しダイを通
して共押出しした。保護層のための被覆溶液を磁気層の
上部に被覆した。
【0084】Thdum +Thmag の合計は40μmであ
り、Thmag /Thdum は0.18であった。乾燥後ダ
ミー層は2.8μm厚さであり、磁気層は0.8μmで
あり、磁気層はm2 当たり60mgの共にドープされた
ガンマ酸化鉄を含んでいた。
り、Thmag /Thdum は0.18であった。乾燥後ダ
ミー層は2.8μm厚さであり、磁気層は0.8μmで
あり、磁気層はm2 当たり60mgの共にドープされた
ガンマ酸化鉄を含んでいた。
【0085】本実施例に従って被覆された層の被覆品質
は1の評価であり、磁気信号対ノイズ比は31dBであ
った。
は1の評価であり、磁気信号対ノイズ比は31dBであ
った。
【0086】実施例 3 下記の如くダミー層と磁気層の被覆溶液の組成物にした
以外は実施例2を繰り返した。
以外は実施例2を繰り返した。
【0087】(i)ダミー層のための被覆溶液 S−LEC KS5Zの商標の下で積層プラスチック、
日本から入手可能なポリビニルアセタール樹脂(Mw=
130000、Tg=113℃)の50重量部を、テト
ラヒドロフラン及びシクサヘキサノン(THF/ANO
N)の4/1w/w混合物の960mlに溶解した。6
mgのDESMORAPID Z (Bayer AG 、Leverkusen ドイ
ツを通して入手可能なジブチル−Sn−ジラウレート)
を添加し、その溶液の体積を4/1 w/w THF
/ANON混合物によって1000mlに調整した。こ
れは20℃で剪断速度≦100秒-1で250mPasの
粘度を有する被覆溶液を生じた。ダミー層のための被覆
溶液を試験Aに従って測定するとtg(d)=3.69
を有していた。
日本から入手可能なポリビニルアセタール樹脂(Mw=
130000、Tg=113℃)の50重量部を、テト
ラヒドロフラン及びシクサヘキサノン(THF/ANO
N)の4/1w/w混合物の960mlに溶解した。6
mgのDESMORAPID Z (Bayer AG 、Leverkusen ドイ
ツを通して入手可能なジブチル−Sn−ジラウレート)
を添加し、その溶液の体積を4/1 w/w THF
/ANON混合物によって1000mlに調整した。こ
れは20℃で剪断速度≦100秒-1で250mPasの
粘度を有する被覆溶液を生じた。ダミー層のための被覆
溶液を試験Aに従って測定するとtg(d)=3.69
を有していた。
【0088】(ii)ダミー層のための硬化剤溶液 実施例2と同じ硬化剤溶液を使用したが、この硬化剤溶
液の10mlだけをダミー層の被覆溶液の1リットルに
対して添加した。
液の10mlだけをダミー層の被覆溶液の1リットルに
対して添加した。
【0089】(iii) 磁気顔料分散液(DP2) 20gの共にドープされた強磁性ガンマ酸化鉄(VS−
9927Sの商標の下でISK Magnetics 、Bethlehem 、
PA米国から入手可能)を、23.7gのテトラヒドロ
フラン、50.8gのシクロヘキサノン、4gのMORTHA
NE CA239の商標の下でMorton International 、Wo
odstock Il 、米国から入手可能なポリエステルポリウ
レタン樹脂、0.21gのレシチン、0.52gのUCAR
MAG 527の商標下でUnion Carbide、Danbury Ct 、
米国から入手可能な、73℃のTg及び1.8% w/
wのヒドロキシル含有量、及び約35000の平均分子
量を有するビニル重合体及び0.68gのFLUORAD FC
430の商標の下で3M、St. Paul、 MN 、米国から入
手可能なフッ素化アルキルエステルと混合した。この混
合物をZrSiO3球体を含有させて30分の全練り時間でサ
ンドミルを8回通した。
9927Sの商標の下でISK Magnetics 、Bethlehem 、
PA米国から入手可能)を、23.7gのテトラヒドロ
フラン、50.8gのシクロヘキサノン、4gのMORTHA
NE CA239の商標の下でMorton International 、Wo
odstock Il 、米国から入手可能なポリエステルポリウ
レタン樹脂、0.21gのレシチン、0.52gのUCAR
MAG 527の商標下でUnion Carbide、Danbury Ct 、
米国から入手可能な、73℃のTg及び1.8% w/
wのヒドロキシル含有量、及び約35000の平均分子
量を有するビニル重合体及び0.68gのFLUORAD FC
430の商標の下で3M、St. Paul、 MN 、米国から入
手可能なフッ素化アルキルエステルと混合した。この混
合物をZrSiO3球体を含有させて30分の全練り時間でサ
ンドミルを8回通した。
【0090】(iv)磁気層のための被覆溶液 5.71gの磁気顔料分散液DP2を13.57gのシ
クロヘキサノン、64.53gのテトラヒドロフラン及
び12.87gのMORTHANE CA239の商標の下でMort
on International 、Woodstock Il 、米国から入手可
能なポリエステルポリウレタン樹脂と混合して、20℃
で剪断速度≦100秒-1で511mPasの粘度を有す
る被覆溶液を与えた。
クロヘキサノン、64.53gのテトラヒドロフラン及
び12.87gのMORTHANE CA239の商標の下でMort
on International 、Woodstock Il 、米国から入手可
能なポリエステルポリウレタン樹脂と混合して、20℃
で剪断速度≦100秒-1で511mPasの粘度を有す
る被覆溶液を与えた。
【0091】ダミー層のための被覆溶液と磁気層のため
の被覆溶液を、塩化ビニリデンベースの下塗り層を有す
るポリエチレンテレフタレート支持体上の押出しダイを
通して共押出しした。磁気層の上部に保護層のための被
覆溶液を適用した。
の被覆溶液を、塩化ビニリデンベースの下塗り層を有す
るポリエチレンテレフタレート支持体上の押出しダイを
通して共押出しした。磁気層の上部に保護層のための被
覆溶液を適用した。
【0092】Thdum とThmag の合計は40μmであ
り、Thmag /Thdum は0.14であった。乾燥後ダ
ミー層は1.9μm厚さであり、磁気層は0.7μmで
あり、磁気層はm2 当たり60mgの共にドープされた
ガンマ酸化鉄を含んでいた。
り、Thmag /Thdum は0.14であった。乾燥後ダ
ミー層は1.9μm厚さであり、磁気層は0.7μmで
あり、磁気層はm2 当たり60mgの共にドープされた
ガンマ酸化鉄を含んでいた。
【0093】本実施例に従って被覆された層の被覆品質
は1の評価であり、磁気信号対ノイズ比は31dBであ
った。
は1の評価であり、磁気信号対ノイズ比は31dBであ
った。
【0094】実施例 4 下記の如くダミー層と磁気層の被覆溶液の組成物にした
以外は実施例2を繰り返した。
以外は実施例2を繰り返した。
【0095】(i)ダミー層のための被覆溶液 MonsantoからBUTVAR B 72の商標の下で入手可能なポ
リビニルブチラール樹脂(Mw=170000〜250
000、Tg=72〜78℃)の60重量部を、テトラ
ヒドロフランとシクロヘキサノン(THF/ANON)
の4/1 w/w混合物の950mlに溶解した。7
mgのDESMORAPID Z (ジブチル−Sn−ジラウレー
ト、Bayer AG 、 Leverkusen ドイツを通して入手可
能)を添加し、その溶液の体積を4/1 w/w T
HF/ANON混合物によって1000mlに調整し
た。これは4.56Pasの複合粘度を有する被覆溶液
を生じた。ダミー層のための被覆溶液を試験Aに従って
測定すると、tg(d)=1.85を有していた。
リビニルブチラール樹脂(Mw=170000〜250
000、Tg=72〜78℃)の60重量部を、テトラ
ヒドロフランとシクロヘキサノン(THF/ANON)
の4/1 w/w混合物の950mlに溶解した。7
mgのDESMORAPID Z (ジブチル−Sn−ジラウレー
ト、Bayer AG 、 Leverkusen ドイツを通して入手可
能)を添加し、その溶液の体積を4/1 w/w T
HF/ANON混合物によって1000mlに調整し
た。これは4.56Pasの複合粘度を有する被覆溶液
を生じた。ダミー層のための被覆溶液を試験Aに従って
測定すると、tg(d)=1.85を有していた。
【0096】(ii)ダミー層のための硬化剤溶液 実施例2と同じ硬化剤溶液を使用したが、この硬化剤溶
液の10mlだけをダミー層の被覆溶液の1リットルに
対して添加した。
液の10mlだけをダミー層の被覆溶液の1リットルに
対して添加した。
【0097】(iii) 磁気顔料分散液(DP3) 20gの共にドープされた強磁性ガンマ酸化鉄(VS−
9927Sの商標の下でISK Magnetics 、Bethlehem 、
PA米国から入手可能)を、25.09gのテトラヒド
ロフラン、50.18gのシクロヘキサノン、4gのMO
RTHANE CA239の商標の下でMorton International
、Woodstock Il 、米国から入手可能なポリエステル
ポリウレタン樹脂、0.52gの73℃のTg及び1.
8% w/wのヒドロキシル含有量、及び約35000
の平均分子量を有するビニル重合体(UCARMAG 527の
商標の下でUnion Carbide、Danbury Ct 、米国から入
手可能)と混合した。この混合物をZrSiO3球体を含有さ
せて30分の全練り時間でサンドミルを8回通した。
9927Sの商標の下でISK Magnetics 、Bethlehem 、
PA米国から入手可能)を、25.09gのテトラヒド
ロフラン、50.18gのシクロヘキサノン、4gのMO
RTHANE CA239の商標の下でMorton International
、Woodstock Il 、米国から入手可能なポリエステル
ポリウレタン樹脂、0.52gの73℃のTg及び1.
8% w/wのヒドロキシル含有量、及び約35000
の平均分子量を有するビニル重合体(UCARMAG 527の
商標の下でUnion Carbide、Danbury Ct 、米国から入
手可能)と混合した。この混合物をZrSiO3球体を含有さ
せて30分の全練り時間でサンドミルを8回通した。
【0098】(iv)磁気層のための被覆溶液 4.76の磁気顔料分散液DP3を、52.5gのシク
ロヘキサノン、26.26gのテトラヒドロフラン及び
12.68gのMORTHANE CA239の商標の下でMorton
International 、Woodstock Il 、米国から入手可能
なポリエステルポリウレタン樹脂と混合して、20℃で
剪断速度≦100秒-1で粘度511mPasを有する被
覆溶液を与えた。
ロヘキサノン、26.26gのテトラヒドロフラン及び
12.68gのMORTHANE CA239の商標の下でMorton
International 、Woodstock Il 、米国から入手可能
なポリエステルポリウレタン樹脂と混合して、20℃で
剪断速度≦100秒-1で粘度511mPasを有する被
覆溶液を与えた。
【0099】ダミー層のための被覆溶液及び磁気層のた
めの被覆溶液を塩化ビニリデンベースの下塗り層を有す
るポリエチレンテレフタレート支持体上に押出しダイを
通して共押出しした。保護層のための被覆溶液を磁気層
の上部に適用した。
めの被覆溶液を塩化ビニリデンベースの下塗り層を有す
るポリエチレンテレフタレート支持体上に押出しダイを
通して共押出しした。保護層のための被覆溶液を磁気層
の上部に適用した。
【0100】Thdum とThmag の合計は40μmであ
り、Thmag /Thdum は0.18であった。乾燥後ダ
ミー層は2.2μm厚さであり、磁気層は0.8μmで
あり、磁気層はm2 当たり60mgの共にドープされた
ガンマ酸化鉄を含んでいた。
り、Thmag /Thdum は0.18であった。乾燥後ダ
ミー層は2.2μm厚さであり、磁気層は0.8μmで
あり、磁気層はm2 当たり60mgの共にドープされた
ガンマ酸化鉄を含んでいた。
【0101】本実施例に従って被覆された層の被覆品質
は2の評価であり、磁気信号対ノイズ比は31dBであ
った。
は2の評価であり、磁気信号対ノイズ比は31dBであ
った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クラフ・ヴェルネル ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ミュー・ヴィレム ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ギレール・ジャン ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内
Claims (18)
- 【請求項1】 下記(i)(ii)の工程を含む重合体
シート又はウエブ材料上に磁気層を適用するための方
法: (i)前記重合体シート又はウエブ材料上に被覆溶液か
らの磁気層と非磁気ダミー層を同時に、前記非磁気ダミ
ー層を支持体に最も接近させて共押出しし、(ii)その
共押出しされた層を乾燥する において、前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Thdum )
と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合計が2
5μm≦Thdum +Thmag ≦100μmの式を満た
し、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.01≦
Thmag /Thdum≦1の式を満たすことを特徴とする
方法。 - 【請求項2】 前記ダミー層の未乾燥被覆厚さ(Th
dum )と前記磁気層の未乾燥被覆厚さ(Thmag )の合
計が30μm≦Thdum +Thmag ≦60μmの式を満
たし、かつ(Thmag )対(Thdum )の比が0.05
≦Thmag /Thdum ≦0.5の式を満たす請求項1記
載の方法。 - 【請求項3】 前記ダミー層のための前記被覆溶液が重
合体結合剤を3〜15%含み、かつ1〜10のtg
(d)(明細書中に規定される試験Aによる)を有する
請求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】 前記被覆溶液が1〜5のtg(d)を有
する請求項3記載の方法。 - 【請求項5】 前記ダミー層のための前記被覆溶液がポ
リビニルアルコールの反応生成物である重合体と2〜6
個の炭素原子を有する少なくとも1種の脂肪族アルデヒ
ドを含む請求項1〜4のいずれか記載の方法。 - 【請求項6】 前記脂肪族アルデヒドがアセトアルデヒ
ド又はブチルアルデヒドである請求項5記載の方法。 - 【請求項7】 前記重合体が60〜80mol%のブチ
ラール含有量、15〜35mol%のヒドロキシル含有
量及び多くても5mol%のアセチル含有量のポリビニ
ルブチラール樹脂である請求項5記載の方法。 - 【請求項8】 前記ダミー層が芳香族又は脂肪族ジ又は
ポリイソシアネートで硬化される請求項1〜7のいずれ
か記載の方法。 - 【請求項9】 保護層が前記磁気層の上部に適用される
請求項1〜8のいずれか記載の方法。 - 【請求項10】 前記保護層がイソシアネート硬化剤を
含む請求項9記載の方法。 - 【請求項11】 重合体支持体、ダミー層及び磁気層を
含む写真材料において、前記ダミー層がポリビニルアル
コールの反応生成物である重合体と2〜6個の炭素原子
を有する少なくとも1種の脂肪族アルデヒドを含むこと
を特徴とする写真材料。 - 【請求項12】 前記ダミー層が前記重合体を1〜4g
/m2 含む請求項11記載の写真材料。 - 【請求項13】 前記ダミー層が前記重合体を1.5〜
3g/m2 含む請求項11記載の写真材料。 - 【請求項14】 前記アルデヒドがアセトアルデヒド又
はブチルアルデヒドである請求項11記載の写真材料。 - 【請求項15】 前記重合体が60〜80mol%のブ
チラール含有量、15〜35mol%のヒドロキシル含
有量及び多くても5mol%のアセチル含有量のポリビ
ニルブチラール樹脂である請求項11記載の写真材料。 - 【請求項16】 前記写真材料が少なくとも一つのハロ
ゲン化銀乳剤層を含む請求項11〜15のいずれか記載
の写真材料。 - 【請求項17】 前記写真材料がロールフィルムで与え
られている請求項16記載の写真材料。 - 【請求項18】 前記支持体が酸又はエステルの形の少
なくとも1種のジカルボン酸と少なくとも1種のジオー
ルの縮合反応によって製造されるコポリエステルを含
み、かつ少なくとも1種のジオール、酸又はエステルの
形のジカルボン酸又は側鎖にポリエステル基を含有する
酸又はエステルの形のモノヒドロキシカルボン酸のいず
れかを反応混合物に添加する請求項16又は17記載の
写真材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE93203673.4 | 1993-12-24 | ||
| EP93203673A EP0660311A1 (en) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | Method for applying a transparent magnetic layer to a web or sheet material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0892401A true JPH0892401A (ja) | 1996-04-09 |
Family
ID=8214242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6335702A Pending JPH0892401A (ja) | 1993-12-24 | 1994-12-20 | ウエブ又はシート材料に透明磁気層を適用するための方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5573897A (ja) |
| EP (1) | EP0660311A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0892401A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014014767A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Tazmo Co Ltd | 塗膜形成方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5753426A (en) * | 1995-06-30 | 1998-05-19 | Eastman Kodak Company | Photographic elements containing a transparent magnetic recording layer |
| US9724894B2 (en) * | 2008-11-06 | 2017-08-08 | Deetz Family, Llc | Magnetic receptive extruded films |
| WO2014110485A2 (en) * | 2013-01-14 | 2014-07-17 | Deetz Family, Llc | Magnetic receptive extruded films |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6079525A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0649171B2 (ja) * | 1988-07-04 | 1994-06-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| US4994306A (en) * | 1989-03-13 | 1991-02-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for applying plural liquids to continuously moving nonmagnetic carrier |
| JP2714850B2 (ja) * | 1989-04-07 | 1998-02-16 | コニカ株式会社 | 塗布装置および重層塗布方法 |
| EP0513169B1 (en) * | 1990-02-01 | 1994-08-17 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing thin transparent magnetic recording layer and method for the preparation thereof |
| JP2699014B2 (ja) * | 1990-07-10 | 1998-01-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録要素を有するハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH0540321A (ja) * | 1990-09-14 | 1993-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録要素を有するハロゲン化銀写真感光材料 |
| US5215874A (en) * | 1991-01-21 | 1993-06-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material having magnetic recording member |
| JP2719057B2 (ja) * | 1991-08-23 | 1998-02-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2935148B2 (ja) * | 1992-02-05 | 1999-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法及び装置 |
| JP2715359B2 (ja) * | 1992-08-21 | 1998-02-18 | 富士写真フイルム株式会社 | フレキシブル磁気記録ディスク及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-12-24 EP EP93203673A patent/EP0660311A1/en not_active Ceased
-
1994
- 1994-11-28 US US08/348,962 patent/US5573897A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-20 JP JP6335702A patent/JPH0892401A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014014767A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Tazmo Co Ltd | 塗膜形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5573897A (en) | 1996-11-12 |
| EP0660311A1 (en) | 1995-06-28 |
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