JPH0895239A - フォトレジストフィルム - Google Patents
フォトレジストフィルムInfo
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- JPH0895239A JPH0895239A JP25294594A JP25294594A JPH0895239A JP H0895239 A JPH0895239 A JP H0895239A JP 25294594 A JP25294594 A JP 25294594A JP 25294594 A JP25294594 A JP 25294594A JP H0895239 A JPH0895239 A JP H0895239A
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- Japan
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- meth
- acrylate
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- powder
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- Pending
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- Luminescent Compositions (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分
散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に１
０μｍ以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精
度にも優れ、更にはガラス等の基板への密着性にも優れ
たフォトレジストフィルムを提供すること。 【構成】 蛍光体及び無機質粉末を含有せしめた感光性
樹脂組成物をベースフイルムに積層してなるフォトレジ
ストフィルム。
散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に１
０μｍ以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精
度にも優れ、更にはガラス等の基板への密着性にも優れ
たフォトレジストフィルムを提供すること。 【構成】 蛍光体及び無機質粉末を含有せしめた感光性
樹脂組成物をベースフイルムに積層してなるフォトレジ
ストフィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、蛍光体及び無機質粉末
を含有した感光性樹脂組成物を用いたフォトレジストフ
ィルムに関し、更に詳しくは、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）、蛍光表示装置、混成集積回路等の蛍光
表示体の製造時に有用なフォトレジストフィルムに関す
る。
を含有した感光性樹脂組成物を用いたフォトレジストフ
ィルムに関し、更に詳しくは、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）、蛍光表示装置、混成集積回路等の蛍光
表示体の製造時に有用なフォトレジストフィルムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、各種平板ディスプレイの開発が盛
んに行われており、中でもＰＤＰが注目を浴びており、
今後ラップトップ型パソコンの表示画面から、各種電光
掲示板、更には、いわゆる「壁掛けテレビ」へとその用
途は拡大しつつある。そして、このＰＤＰの表示パネル
のセル内には、色表示のための蛍光体が塗布されてお
り、加電圧によりセル内の封入ガスで発生した紫外線で
該蛍光体が発色するのである。この蛍光体の塗布方法と
しては、各色蛍光体を分散させたフォトレジストのスラ
リー液をスクリーン印刷により塗工する方法（特開平１
−１１５０２７号公報、特開平１−１２４９２８号公
報）やセルの内部に該スラリー液を流し込む方法（特開
平２−１５５１４２号公報）等が試みられている。
んに行われており、中でもＰＤＰが注目を浴びており、
今後ラップトップ型パソコンの表示画面から、各種電光
掲示板、更には、いわゆる「壁掛けテレビ」へとその用
途は拡大しつつある。そして、このＰＤＰの表示パネル
のセル内には、色表示のための蛍光体が塗布されてお
り、加電圧によりセル内の封入ガスで発生した紫外線で
該蛍光体が発色するのである。この蛍光体の塗布方法と
しては、各色蛍光体を分散させたフォトレジストのスラ
リー液をスクリーン印刷により塗工する方法（特開平１
−１１５０２７号公報、特開平１−１２４９２８号公
報）やセルの内部に該スラリー液を流し込む方法（特開
平２−１５５１４２号公報）等が試みられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法は、いずれも液状のフォトレジストを使用しているた
め、塗工前には必ず蛍光体の分散状態を確認する必要が
あり、蛍光体の沈殿等の分散不良が生じた場合には再分
散処理をしなければならない。また、該液状フォトレジ
ストを長期保存した場合にも暗反応の促進等が原因で保
存安定性に欠けるのが実情で、いずれにしても最終パタ
ーンに輝度のバラツキを生じ易くその商品価値を損なう
難点がある。さらに、液状のフォトレジストでは、塗工
厚みも通常は２０μｍ以下で、それ以上蛍光体を多量に
塗布して発色効果を向上させることは困難であり、スク
リーン印刷の場合にも、該フォトレジストの印刷を繰り
返さなければならず、形成精度にも劣るという欠点も有
するのである。
法は、いずれも液状のフォトレジストを使用しているた
め、塗工前には必ず蛍光体の分散状態を確認する必要が
あり、蛍光体の沈殿等の分散不良が生じた場合には再分
散処理をしなければならない。また、該液状フォトレジ
ストを長期保存した場合にも暗反応の促進等が原因で保
存安定性に欠けるのが実情で、いずれにしても最終パタ
ーンに輝度のバラツキを生じ易くその商品価値を損なう
難点がある。さらに、液状のフォトレジストでは、塗工
厚みも通常は２０μｍ以下で、それ以上蛍光体を多量に
塗布して発色効果を向上させることは困難であり、スク
リーン印刷の場合にも、該フォトレジストの印刷を繰り
返さなければならず、形成精度にも劣るという欠点も有
するのである。
【０００４】
【問題を解決するための手段】本発明者等は、かかる問
題点を解決すべく鋭意研究をした結果、蛍光体及び無機
質粉末を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイル
ムに積層してなるフォトレジストフィルムが、蛍光体の
分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフ
ォトレジスト層を供給することができるので輝度のバラ
ツキのない安定したパターンの形成が可能で、かつ２０
μｍ以上の硬化レジスト層の形成も可能で、パターン形
成精度も従来法より優れ、又ガラス等の基板への密着性
にも優れており、更には蛍光体の含有量が感光性樹脂組
成物中のベースポリマーとエチレン性不飽和化合物の総
量１００重量部に対して１〜５０重量部で、無機質粉末
の含有量が蛍光体１００重量部に対して１〜１００重量
部である時、本発明の効果を最大限発揮できることを見
いだし、本発明を完成するに至った。以下に、本発明を
詳細に述べる。
題点を解決すべく鋭意研究をした結果、蛍光体及び無機
質粉末を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイル
ムに積層してなるフォトレジストフィルムが、蛍光体の
分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフ
ォトレジスト層を供給することができるので輝度のバラ
ツキのない安定したパターンの形成が可能で、かつ２０
μｍ以上の硬化レジスト層の形成も可能で、パターン形
成精度も従来法より優れ、又ガラス等の基板への密着性
にも優れており、更には蛍光体の含有量が感光性樹脂組
成物中のベースポリマーとエチレン性不飽和化合物の総
量１００重量部に対して１〜５０重量部で、無機質粉末
の含有量が蛍光体１００重量部に対して１〜１００重量
部である時、本発明の効果を最大限発揮できることを見
いだし、本発明を完成するに至った。以下に、本発明を
詳細に述べる。
【０００５】本発明に用いられる感光性樹脂組成物は、
ベースポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物
（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）からなり、ベースポリマー
（Ａ）としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリウレタン系樹脂などが用いられる。これらの中
では、（メタ）アクリレートを主成分とし、必要に応じ
てエチレン性不飽和カルボン酸や他の共重合可能なモノ
マーを共重合したアクリル系共重合体が重要である。ア
セトアセチル基含有アクリル系共重合体を用いることも
できる。
ベースポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物
（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）からなり、ベースポリマー
（Ａ）としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリウレタン系樹脂などが用いられる。これらの中
では、（メタ）アクリレートを主成分とし、必要に応じ
てエチレン性不飽和カルボン酸や他の共重合可能なモノ
マーを共重合したアクリル系共重合体が重要である。ア
セトアセチル基含有アクリル系共重合体を用いることも
できる。
【０００６】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ートなどが例示される。
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ートなどが例示される。
【０００７】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。稀アルカリ現像型とするときは、エチレン性不飽和
カルボン酸を１５〜３０重量％程度（酸価で１００〜２
００ｍｇKOH／ｇ程度）共重合することが必要である。
他の共重合可能モノマーとしては、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アル
キルビニルエーテルなどが例示できる。
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。稀アルカリ現像型とするときは、エチレン性不飽和
カルボン酸を１５〜３０重量％程度（酸価で１００〜２
００ｍｇKOH／ｇ程度）共重合することが必要である。
他の共重合可能モノマーとしては、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アル
キルビニルエーテルなどが例示できる。
【０００８】エチレン性不飽和化合物（Ｂ）としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−
（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグ
リシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートなどの多官
能モノマーがあげられる。これらの多官能モノマーと共
に、単官能モノマーを適当量併用することもできる。
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−
（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグ
リシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートなどの多官
能モノマーがあげられる。これらの多官能モノマーと共
に、単官能モノマーを適当量併用することもできる。
【０００９】単官能モノマーの例としては、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロー
ル（メタ）アクリルアミドなどがあげられる。
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロー
ル（メタ）アクリルアミドなどがあげられる。
【００１０】ベースポリマー（Ａ）１００重量部に対す
るエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の割合は、１０〜２０
０重量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶこと
が望ましい。エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の過少は硬
化不良、可撓性の低下、現像速度の遅延を招き、エチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）の過多は粘着性の増大、コール
ドフロー、硬化レジストの剥離速度低下を招く。
るエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の割合は、１０〜２０
０重量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶこと
が望ましい。エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の過少は硬
化不良、可撓性の低下、現像速度の遅延を招き、エチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）の過多は粘着性の増大、コール
ドフロー、硬化レジストの剥離速度低下を招く。
【００１１】更に、光重合開始剤（Ｃ）としては、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケ
タール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナ
フトキノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、１，１−ジク
ロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テ
トラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２−クロロ
チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−
ジエチルチオキサントン、２，２’−ジエトキシアセト
フェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２’−ジクロロ−４−フェノキシアセト
フェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ジベゾスパロン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−プロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロ
モフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホ
ン、などが例示される。このときの、光重合開始剤
（Ｃ）の総配合割合は、ベースポリマー（Ａ）とエチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）との合計量１００重量部に対し
１〜２０重量部程度とするのが適当である。
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケ
タール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナ
フトキノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、１，１−ジク
ロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テ
トラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２−クロロ
チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−
ジエチルチオキサントン、２，２’−ジエトキシアセト
フェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２’−ジクロロ−４−フェノキシアセト
フェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ジベゾスパロン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−プロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロ
モフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホ
ン、などが例示される。このときの、光重合開始剤
（Ｃ）の総配合割合は、ベースポリマー（Ａ）とエチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）との合計量１００重量部に対し
１〜２０重量部程度とするのが適当である。
【００１２】また、本発明で上記感光性樹脂組成物に含
有される蛍光体（Ｄ）としては、特に限定されないが、
希土類オキシハライド等を母体とし、この母体を付活剤
で付活したものが好ましく、例えば紫外線励起型蛍光体
としては、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇ
ｄ）ＢＯ3：Ｅｕ（以上赤色）、Ｚｎ2ＧｅＯ2：Ｍｎ、
ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＬａＰＯ
4：Ｔｂ（以上緑色）、Ｓｒ5（ＰＯ4）3ＣＩ：Ｅｕ、Ｂ
ａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ
（以上青色）等が挙げられ、その他の蛍光体としては、
Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎ、（Ｚｎ
Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ2Ｏ3（以上赤色）、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ、（ＺｎＣｄ）
Ｓ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ，Ａｓ，Ｙ3Ａｌ5
Ｏ12：Ｃｅ、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｔｂ、
ＺｎＯ：Ｚｎ（以上緑色）、ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、
Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅ（以上青色）等を使用することもで
き、勿論２種類以上ブレンドすることも可能である。
有される蛍光体（Ｄ）としては、特に限定されないが、
希土類オキシハライド等を母体とし、この母体を付活剤
で付活したものが好ましく、例えば紫外線励起型蛍光体
としては、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇ
ｄ）ＢＯ3：Ｅｕ（以上赤色）、Ｚｎ2ＧｅＯ2：Ｍｎ、
ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＬａＰＯ
4：Ｔｂ（以上緑色）、Ｓｒ5（ＰＯ4）3ＣＩ：Ｅｕ、Ｂ
ａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ
（以上青色）等が挙げられ、その他の蛍光体としては、
Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎ、（Ｚｎ
Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ2Ｏ3（以上赤色）、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ、（ＺｎＣｄ）
Ｓ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ，Ａｓ，Ｙ3Ａｌ5
Ｏ12：Ｃｅ、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｔｂ、
ＺｎＯ：Ｚｎ（以上緑色）、ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、
Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅ（以上青色）等を使用することもで
き、勿論２種類以上ブレンドすることも可能である。
【００１３】更に、本発明で上記感光性樹脂組成物に含
有される無機質粉末（Ｅ）としては、ガラス粉末、アル
ミナ粉末、シリカ粉末、酸化マグネシウム粉末、酸化ス
ズ粉末及び酸化インジウムスズ粉末等が挙げられ、中で
もガラス粉末が好ましく、特にケイ酸塩ガラス粉末が重
要である。該粉末（Ｅ）の粒子径は、２〜１０μｍが好
ましく、更には２〜５μｍがより好ましく、該粒子径が
１０μｍよりも大きくなると輝度が低下し、逆に２μｍ
よりも小さくなると該粉末の添加効果が低減し好ましく
ない。
有される無機質粉末（Ｅ）としては、ガラス粉末、アル
ミナ粉末、シリカ粉末、酸化マグネシウム粉末、酸化ス
ズ粉末及び酸化インジウムスズ粉末等が挙げられ、中で
もガラス粉末が好ましく、特にケイ酸塩ガラス粉末が重
要である。該粉末（Ｅ）の粒子径は、２〜１０μｍが好
ましく、更には２〜５μｍがより好ましく、該粒子径が
１０μｍよりも大きくなると輝度が低下し、逆に２μｍ
よりも小さくなると該粉末の添加効果が低減し好ましく
ない。
【００１４】発明の感光性樹脂組成物に蛍光体（Ｄ）及
び無機質粉末（Ｅ）を含有させる方法としては、特に限
定されず公知の方法、例えば上記の感光性樹脂組成物に
所定量の蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末（Ｅ）を添加し
て、十分混合撹拌して蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末
（Ｅ）を均一に分散させる方法等がある。この場合の蛍
光体（Ｄ）の含有量は、感光性樹脂組成物中のベースポ
リマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の総量１
００重量部に対して１〜５０重量部が好ましく、より好
ましくは１０〜３０重量部である。該蛍光体（Ｄ）の含
有量が、５０重量部を越えると、ドライフィルム化が困
難となり、逆に１重量部未満では、蛍光発光強度（輝
度）が低下する傾向にあり好ましくない。また、無機質
粉末（Ｅ）の含有量は、蛍光体（Ｄ）１００重量部に対
して１〜１００重量部が好ましく、より好ましくは、１
〜５０重量部で、殊に１〜２０重量部が好ましい。該粉
末（Ｅ）の含有量が、１００重量部を越えると、蛍光発
光強度（輝度）が低下し、逆に１重量部未満では、添加
効果が乏しくなる傾向にあり好ましくない。
び無機質粉末（Ｅ）を含有させる方法としては、特に限
定されず公知の方法、例えば上記の感光性樹脂組成物に
所定量の蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末（Ｅ）を添加し
て、十分混合撹拌して蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末
（Ｅ）を均一に分散させる方法等がある。この場合の蛍
光体（Ｄ）の含有量は、感光性樹脂組成物中のベースポ
リマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の総量１
００重量部に対して１〜５０重量部が好ましく、より好
ましくは１０〜３０重量部である。該蛍光体（Ｄ）の含
有量が、５０重量部を越えると、ドライフィルム化が困
難となり、逆に１重量部未満では、蛍光発光強度（輝
度）が低下する傾向にあり好ましくない。また、無機質
粉末（Ｅ）の含有量は、蛍光体（Ｄ）１００重量部に対
して１〜１００重量部が好ましく、より好ましくは、１
〜５０重量部で、殊に１〜２０重量部が好ましい。該粉
末（Ｅ）の含有量が、１００重量部を越えると、蛍光発
光強度（輝度）が低下し、逆に１重量部未満では、添加
効果が乏しくなる傾向にあり好ましくない。
【００１５】本発明の蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末
（Ｅ）を含有した感光性樹脂組成物には、そのほか、染
料（着色、発色）、密着性付与剤、可塑剤、酸化防止
剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定剤、連
鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、などの添加剤を適宜添加す
ることができる。本発明の蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末
（Ｅ）を含有した感光性樹脂組成物を用いたドライフィ
ルムレジスト用積層体（フォトレジストフィルム）の製
造及びそれを用いた蛍光体のパターン形成方法について
説明する。
（Ｅ）を含有した感光性樹脂組成物には、そのほか、染
料（着色、発色）、密着性付与剤、可塑剤、酸化防止
剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定剤、連
鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、などの添加剤を適宜添加す
ることができる。本発明の蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末
（Ｅ）を含有した感光性樹脂組成物を用いたドライフィ
ルムレジスト用積層体（フォトレジストフィルム）の製
造及びそれを用いた蛍光体のパターン形成方法について
説明する。
【００１６】（成層方法）上記の蛍光体（Ｄ）及び無機
質粉末（Ｅ）を含有した感光性樹脂組成物をポリエステ
ルフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリスチレンフ
イルムなどのベースフイルム面に塗工した後、その塗工
面の上からポリエチレンフイルム、ポリビニルアルコー
ル系フイルムなどの保護フイルムを被覆してドライフイ
ルムレジスト用積層体とする。この時の該感光性樹脂組
成物の膜厚は、蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末（Ｅ）の含
有量やＰＤＰ等の構造によっても異なり一概に言えない
が、通常は１０〜２００μｍの中から好適に選択され
る。
質粉末（Ｅ）を含有した感光性樹脂組成物をポリエステ
ルフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリスチレンフ
イルムなどのベースフイルム面に塗工した後、その塗工
面の上からポリエチレンフイルム、ポリビニルアルコー
ル系フイルムなどの保護フイルムを被覆してドライフイ
ルムレジスト用積層体とする。この時の該感光性樹脂組
成物の膜厚は、蛍光体（Ｄ）及び無機質粉末（Ｅ）の含
有量やＰＤＰ等の構造によっても異なり一概に言えない
が、通常は１０〜２００μｍの中から好適に選択され
る。
【００１７】（露光）ドライフイルムレジストによって
画像を形成させるにはベースフイルムと該感光性樹脂組
成物層との接着力及び保護フイルムと該感光性樹脂組成
物層との接着力を比較し、接着力の低い方のフイルムを
剥離してから該感光性樹脂組成物層の側を、例えば透過
型パネルを用いたＰＤＰの場合であれば、前面ガラスの
陽極固定面に貼り付けた後、他方のフイルム上にパター
ンマスクを密着させて露光する。この時必要に応じて、
該ドライフィルムレジストを２枚以上積層することも可
能である。また、該感光性樹脂組成物が粘着性を有しな
いときは、前記他方のフイルムを剥離してからパターン
マスクを該感光性樹脂組成物層に直接接触させて露光す
ることもできる。露光は、通常紫外線照射により行い、
その際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、
ケミカルランプなどが用いられる。紫外線照射後は、必
要に応じ加熱を行って、硬化の完全を図ることもでき
る。
画像を形成させるにはベースフイルムと該感光性樹脂組
成物層との接着力及び保護フイルムと該感光性樹脂組成
物層との接着力を比較し、接着力の低い方のフイルムを
剥離してから該感光性樹脂組成物層の側を、例えば透過
型パネルを用いたＰＤＰの場合であれば、前面ガラスの
陽極固定面に貼り付けた後、他方のフイルム上にパター
ンマスクを密着させて露光する。この時必要に応じて、
該ドライフィルムレジストを２枚以上積層することも可
能である。また、該感光性樹脂組成物が粘着性を有しな
いときは、前記他方のフイルムを剥離してからパターン
マスクを該感光性樹脂組成物層に直接接触させて露光す
ることもできる。露光は、通常紫外線照射により行い、
その際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、
ケミカルランプなどが用いられる。紫外線照射後は、必
要に応じ加熱を行って、硬化の完全を図ることもでき
る。
【００１８】（現像）露光後は、レジスト上のフイルム
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ１〜２重量％
程度の稀薄水溶液を用いて行う。 （焼成）上記処理後のセル形成基板を５００〜５５０℃
で焼成を行い、セル内部に蛍光体（Ｄ）を固定する。こ
のようにして、ガラス基板上に蛍光体（Ｄ）を固定する
ことができるのである。フルカラーのＰＤＰを形成する
ためには、赤色、青色、緑色のそれぞれの蛍光体（Ｄ）
を含有するフォトレジストフィルムを用いて上記の（露
光）〜（焼成）を繰り返し行うことで作製することがで
きる。
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ１〜２重量％
程度の稀薄水溶液を用いて行う。 （焼成）上記処理後のセル形成基板を５００〜５５０℃
で焼成を行い、セル内部に蛍光体（Ｄ）を固定する。こ
のようにして、ガラス基板上に蛍光体（Ｄ）を固定する
ことができるのである。フルカラーのＰＤＰを形成する
ためには、赤色、青色、緑色のそれぞれの蛍光体（Ｄ）
を含有するフォトレジストフィルムを用いて上記の（露
光）〜（焼成）を繰り返し行うことで作製することがで
きる。
【００１９】また、予めガラス隔壁によってセルが形成
されたＰＮＰ用平面基板に、本発明のフォトレジストフ
ィルムを用いて蛍光体（Ｄ）を固定すること（反射型パ
ネル）も可能である。例えば、該ＰＤＰ用平面基板上に
本発明のフォトレジストフィルムを積層し、上部よりセ
ルの凹形状に合致する凸形状をもつ金型等で押圧してセ
ル形状に該フォトレジストフィルムを追従させた後に上
記の（露光）〜（焼成）工程により、セル内部に蛍光体
（Ｄ）を固定することができる。この時は、該フォトレ
ジストフィルムに柔軟性が要求されるためベースフィル
ムあるいは保護フィルムも柔軟性に富んだポリビニルア
ルコール、ナイロン、セルロース等のフィルムを用いる
ことが好ましい。
されたＰＮＰ用平面基板に、本発明のフォトレジストフ
ィルムを用いて蛍光体（Ｄ）を固定すること（反射型パ
ネル）も可能である。例えば、該ＰＤＰ用平面基板上に
本発明のフォトレジストフィルムを積層し、上部よりセ
ルの凹形状に合致する凸形状をもつ金型等で押圧してセ
ル形状に該フォトレジストフィルムを追従させた後に上
記の（露光）〜（焼成）工程により、セル内部に蛍光体
（Ｄ）を固定することができる。この時は、該フォトレ
ジストフィルムに柔軟性が要求されるためベースフィル
ムあるいは保護フィルムも柔軟性に富んだポリビニルア
ルコール、ナイロン、セルロース等のフィルムを用いる
ことが好ましい。
【００２０】
【作用】本発明のフォトレジストフィルムは、蛍光体及
び無機質粉末を含有した感光性樹脂組成物用いているた
め、蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定
性に優れたフォトレジスト層を供給することができ、か
つ１０μｍ以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形
成精度も従来法よりも優れ、更にはガラス等の基板への
密着性にも優れており、ＰＤＰ製造時の蛍光体パターン
形成用途に大変有用である。
び無機質粉末を含有した感光性樹脂組成物用いているた
め、蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定
性に優れたフォトレジスト層を供給することができ、か
つ１０μｍ以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形
成精度も従来法よりも優れ、更にはガラス等の基板への
密着性にも優れており、ＰＤＰ製造時の蛍光体パターン
形成用途に大変有用である。
【００２１】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、実施例中「％」、「部」とあるのは、断り
のない限り重量基準を意味する。 実施例１ （ドープの調製）下記のベースポリマー（Ａ）４６部、
下記のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）５４部、下記処方
の光重量開始剤（Ｃ）８部、下記の蛍光体（Ｄ）２６部
及び無機質粉末（Ｅ）１．３部（蛍光体（Ｄ）１００部
に対して５部）を混合して樹脂組成物を調製した。ベースポリマー（Ａ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で５５／８／１５／２２である共重合体
（酸価１４３．３、ガラス転移点６６．３℃、重量平均
分子量８万）
する。なお、実施例中「％」、「部」とあるのは、断り
のない限り重量基準を意味する。 実施例１ （ドープの調製）下記のベースポリマー（Ａ）４６部、
下記のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）５４部、下記処方
の光重量開始剤（Ｃ）８部、下記の蛍光体（Ｄ）２６部
及び無機質粉末（Ｅ）１．３部（蛍光体（Ｄ）１００部
に対して５部）を混合して樹脂組成物を調製した。ベースポリマー（Ａ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で５５／８／１５／２２である共重合体
（酸価１４３．３、ガラス転移点６６．３℃、重量平均
分子量８万）
【００２２】エチレン性不飽和化合物（Ｂ） トリメチロールプロパントリアクリレート／ポリエチレ
ングリコール（６００）ジメタクリレート／エチレンオ
キサイド変性フタル酸アクリレート（共栄社油脂工業株
式会社製）の重量比２０／１０／６の混合物光重合開始剤（Ｃ） ベンゾフェノン／ｐ，ｐ’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン／２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ルの重量比８／０．１５／１の混合物蛍光体（Ｄ） （Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ／Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ／Ｂａ
ＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+＝３３／５０／１７（重量比）
のブレンド物 （平均粒径；４±２μｍ）
ングリコール（６００）ジメタクリレート／エチレンオ
キサイド変性フタル酸アクリレート（共栄社油脂工業株
式会社製）の重量比２０／１０／６の混合物光重合開始剤（Ｃ） ベンゾフェノン／ｐ，ｐ’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン／２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ルの重量比８／０．１５／１の混合物蛍光体（Ｄ） （Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ／Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ／Ｂａ
ＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+＝３３／５０／１７（重量比）
のブレンド物 （平均粒径；４±２μｍ）
【００２３】無機質粉末（Ｅ） ガラス粉末（ケイ酸塩ガラス、粒径；３±０．５μｍ，
比重；６．５） （ドライフィルムの作製）上記のドープを、ギャップ４
ミルのアプリケーターを用いて厚さ２０μｍのポリエス
テルフイルム上に塗工し、室温で１分３０秒放置した
後、６０℃、９０℃、１１０℃のオーブンでそれぞれ３
分間ずつ乾燥して、レジスト厚２０μｍのドライフイル
ムとなした（ただし保護フイルムは設けていない）。 （ガラス基板へのラミネート）このドライフイルムを、
オーブンで６０℃に予熱したガラス基板（厚みが０．１
〜０．２μｍ程度の導電性回路が表面に形成されたＩＴ
Ｏ膜基板，２００ｍｍ×２００ｍｍ×２ｍｍ）上に、ラ
ミネートロール温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ
2、ラミネート速度１．５ｍ／ｓｅｃにてラミネートし
た。
比重；６．５） （ドライフィルムの作製）上記のドープを、ギャップ４
ミルのアプリケーターを用いて厚さ２０μｍのポリエス
テルフイルム上に塗工し、室温で１分３０秒放置した
後、６０℃、９０℃、１１０℃のオーブンでそれぞれ３
分間ずつ乾燥して、レジスト厚２０μｍのドライフイル
ムとなした（ただし保護フイルムは設けていない）。 （ガラス基板へのラミネート）このドライフイルムを、
オーブンで６０℃に予熱したガラス基板（厚みが０．１
〜０．２μｍ程度の導電性回路が表面に形成されたＩＴ
Ｏ膜基板，２００ｍｍ×２００ｍｍ×２ｍｍ）上に、ラ
ミネートロール温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ
2、ラミネート速度１．５ｍ／ｓｅｃにてラミネートし
た。
【００２４】（露光，現像）ラミネート後、全面に２０
０μｍ角上下左右２６０μｍピッチの露光部分が形成さ
れるようにパターンをレジスト表面において、オーク製
作所製の露光機ＨＭＷ−５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀
灯で４０ｍｊの露光を行った。露光後１５分間のホール
ドタイムを取った後、２０℃において１％Ｎａ2ＣＯ3水
溶液を用いて、最少現像時間の１．５倍の時間で現像し
た。 （焼成）現像後に焼成炉内で、室温から５５０℃まで１
時間で上昇させ樹脂分を焼失させた。評価内容とその評
価基準を以下に示す。
０μｍ角上下左右２６０μｍピッチの露光部分が形成さ
れるようにパターンをレジスト表面において、オーク製
作所製の露光機ＨＭＷ−５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀
灯で４０ｍｊの露光を行った。露光後１５分間のホール
ドタイムを取った後、２０℃において１％Ｎａ2ＣＯ3水
溶液を用いて、最少現像時間の１．５倍の時間で現像し
た。 （焼成）現像後に焼成炉内で、室温から５５０℃まで１
時間で上昇させ樹脂分を焼失させた。評価内容とその評
価基準を以下に示す。
【００２５】ａ．輝度 上記のガラス基板を用いてＰＤＰパネルを作製し、この
パネルで四隅と中央の計５カ所の蛍光体部分の輝度をス
ポット輝度計にて測定して、そのバラツキ及び平均輝度
を調べた。ｂ．保存安定性 上記のドライフィルムを４０℃，６０％ＲＨの遮光下で
１カ月放置し、その後上記と同様の（ガラス基板へのラ
ミネート）〜（焼成）を行い、同様に輝度のバラツキ及
び平均輝度を調べた。ｃ．密着性 焼成後の蛍光体パターンにエアスプレーにて約１ｋｇ／
ｃｍ2の圧力で空気を吹き付けて蛍光体の密着性を調べ
た。評価基準は以下のとうり。 ○ −−− 蛍光体の飛散は殆ど認められない。 × −−− 蛍光体が飛散して、基板上に蛍光体が殆ど
残らない。
パネルで四隅と中央の計５カ所の蛍光体部分の輝度をス
ポット輝度計にて測定して、そのバラツキ及び平均輝度
を調べた。ｂ．保存安定性 上記のドライフィルムを４０℃，６０％ＲＨの遮光下で
１カ月放置し、その後上記と同様の（ガラス基板へのラ
ミネート）〜（焼成）を行い、同様に輝度のバラツキ及
び平均輝度を調べた。ｃ．密着性 焼成後の蛍光体パターンにエアスプレーにて約１ｋｇ／
ｃｍ2の圧力で空気を吹き付けて蛍光体の密着性を調べ
た。評価基準は以下のとうり。 ○ −−− 蛍光体の飛散は殆ど認められない。 × −−− 蛍光体が飛散して、基板上に蛍光体が殆ど
残らない。
【００２６】実施例２、３ 表１に示すごとく、無機質粉末（Ｅ）の含有量を変化さ
せて、実施例１と同様の評価を行った。 比較例１ 実施例１において、無機質粉末（Ｅ）を添加しなかった
以外は、実施例１と同様に評価を行った。 比較例２ 実施例１において、ドライフィルムを作製せずに、ドー
プを直接ガラス基板に塗工（レジスト厚み２０μｍ）し
て、実施例１と同様に蛍光体のパターンを形成させ、同
様に評価を行った。実施例及び比較例の評価結果を表２
に示す。
せて、実施例１と同様の評価を行った。 比較例１ 実施例１において、無機質粉末（Ｅ）を添加しなかった
以外は、実施例１と同様に評価を行った。 比較例２ 実施例１において、ドライフィルムを作製せずに、ドー
プを直接ガラス基板に塗工（レジスト厚み２０μｍ）し
て、実施例１と同様に蛍光体のパターンを形成させ、同
様に評価を行った。実施例及び比較例の評価結果を表２
に示す。
【００２７】
【表１】 ＊蛍光体（Ｄ）１００重量部に対する重量部。
【００２８】
【表２】 ａ項目 ｂ項目 ｃ項目 バラツキ 平均 バラツキ 平均 実施例１ ３ ３０ ３ ３０ ○ 実施例２ ４ ２９ ４ ２９ ○実施例３ ３ ３０ ３ ３０ ○ 比較例１ ５ ２５ ５ ２３ × 比較例２ １５ ２２ ２０ １８ ○ 註）上記ａ、ｂ項目のバラツキとは、それぞれ５カ所の測定値の最大値と最小値 の差を、平均とは５カ所の測定値の平均値をそれぞれ表し、これらの単位は ｃｄ／ｍ2である。
【００２９】
【発明の効果】本発明のフォトレジストフィルムは、蛍
光体及び無機質粉末を含有した感光性樹脂組成物を用い
ているため、蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の
分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給することが
でき、かつ１０μｍ以上の硬化レジスト層を形成し、パ
ターン形成精度も従来法よりも優れ、更にはガラス等の
基板への密着性にも優れており、ＰＤＰ製造時の蛍光体
パターン形成用途に大変有用である。
光体及び無機質粉末を含有した感光性樹脂組成物を用い
ているため、蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の
分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給することが
でき、かつ１０μｍ以上の硬化レジスト層を形成し、パ
ターン形成精度も従来法よりも優れ、更にはガラス等の
基板への密着性にも優れており、ＰＤＰ製造時の蛍光体
パターン形成用途に大変有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 11/78 ＣＰＬ 9280−4Ｈ Ｇ０３Ｆ 7/028 7/033 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｃ
Claims (4)
- 【請求項１】 蛍光体及び無機質粉末を含有せしめた感
光性樹脂組成物をベースフイルムに積層してなることを
特徴とするフォトレジストフィルム。 - 【請求項２】 蛍光体の含有量が感光性樹脂組成物中の
ベースポリマーとエチレン性不飽和化合物の総量１００
重量部に対して１〜５０重量部でかつ、無機質粉末の含
有量が蛍光体１００重量部に対して１〜１００重量部で
あることを特徴とする請求項１記載のフォトレジストフ
イルム。 - 【請求項３】 無機質粉末がガラス粉末、アルミナ粉
末、シリカ粉末、酸化マグネシウム粉末、酸化スズ粉末
及び酸化インジウムスズ粉末から選ばれる少なくとも１
種であることを特徴とする請求項１又は２に記載のフォ
トレジストフィルム。 - 【請求項４】 蛍光表示体製造時における蛍光体のパタ
ーン形成材料に用いることを特徴とする請求項１〜３い
ずれかに記載のフォトレジストフイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25294594A JPH0895239A (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | フォトレジストフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25294594A JPH0895239A (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | フォトレジストフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0895239A true JPH0895239A (ja) | 1996-04-12 |
Family
ID=17244351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25294594A Pending JPH0895239A (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | フォトレジストフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0895239A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000003408A1 (en) * | 1998-07-08 | 2000-01-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Plasma display panel production method suitable for producing high-image-quality plasma display panel, production device and fluorescent ink |
| WO2001029863A1 (fr) * | 1999-10-19 | 2001-04-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Panneau a plasma et son procede de fabrication |
| JP2001154345A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性導電ペーストおよびそれを用いた感光性導電層転写シート |
| US7235928B2 (en) | 2001-06-01 | 2007-06-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Gas discharge panel and manufacturing method for the same |
| CN110041931A (zh) * | 2019-04-19 | 2019-07-23 | 中国计量大学 | 一种近红外荧光薄膜及其制备方法、近红外led |
| US10416555B2 (en) * | 2014-12-23 | 2019-09-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic patterning process and resists to use therein |
-
1994
- 1994-09-20 JP JP25294594A patent/JPH0895239A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6857925B2 (en) | 1998-07-08 | 2005-02-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel with superior picture quality, a manufacturing apparatus, and a phosphor ink |
| US7140940B2 (en) | 1998-07-08 | 2006-11-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel with superior picture quality, a manufacturing apparatus, and a phosphor ink |
| WO2000003408A1 (en) * | 1998-07-08 | 2000-01-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Plasma display panel production method suitable for producing high-image-quality plasma display panel, production device and fluorescent ink |
| US6547617B1 (en) | 1998-07-08 | 2003-04-15 | Hiroyuki Kawamura | Plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel with superior picture quality, a manufacturing apparatus and a phosphor ink |
| US7023136B2 (en) | 1999-10-19 | 2006-04-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Gas discharge panel and method of production of a gas discharge panel |
| US6692325B1 (en) | 1999-10-19 | 2004-02-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Gas discharge panel and method for manufacturing gas discharge panel |
| WO2001029863A1 (fr) * | 1999-10-19 | 2001-04-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Panneau a plasma et son procede de fabrication |
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| CN110041931A (zh) * | 2019-04-19 | 2019-07-23 | 中国计量大学 | 一种近红外荧光薄膜及其制备方法、近红外led |
| CN110041931B (zh) * | 2019-04-19 | 2022-04-15 | 中国计量大学 | 一种近红外荧光薄膜及其制备方法、近红外led |
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