JPH10142787A - フォトレジストフィルム - Google Patents

フォトレジストフィルム

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Publication number
JPH10142787A
JPH10142787A JP31269896A JP31269896A JPH10142787A JP H10142787 A JPH10142787 A JP H10142787A JP 31269896 A JP31269896 A JP 31269896A JP 31269896 A JP31269896 A JP 31269896A JP H10142787 A JPH10142787 A JP H10142787A
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JP
Japan
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meth
acrylate
phosphor
film
photoresist film
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Pending
Application number
JP31269896A
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English (en)
Inventor
Tsukasa Izumi
司 出水
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd filed Critical Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP31269896A priority Critical patent/JPH10142787A/ja
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  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 蛍光体の分散安定性に優れたフォトレジスト
層を提供すること。 【解決手段】 平均分子量10万以上のベースポリマ
ー、エチレン性不飽和化合物、蛍光体を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体を含有した
感光性樹脂組成物を用いたフォトレジストフィルムに関
し、更に詳しくは、プラズマディスプレイ等の蛍光表示
体の製造時に有用なフォトレジストフィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】最近、各種平板ディスプレイの開発が盛
んに行われており、中でもプラズマディスプレイパネル
(PDP)が注目を浴びており、今後ラップトップ型パ
ソコンの表示画面から、各種電光掲示板、更には、いわ
ゆる「壁掛けテレビ」へとその用途は拡大しつつある。
そして、このPDPの表示パネルのセル内には、表示の
ための蛍光体が塗布されており、加電圧によりセル内の
封入ガスで発生した紫外線で該蛍光体が発色するのであ
る。かかる蛍光体としては、従来より各色蛍光体を分散
させた液状のフォトレジストが用いられているが、本出
願人はかかる液状のフォトレジストに代えて、蛍光体入
りのドライフィルムレジスト(フォトレジストフィル
ム)を提案した。(特開平6−273925号公報)
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
フォトレジストフィルムについて、更に検討を重ねた結
果、該フォトレジストフィルム中の蛍光体の分散性に関
して、まだまだ改善の余地があることが判明した。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は、フ
ォトレジストフィルム中の蛍光体の分散性に関して鋭意
研究をした結果、平均分子量が10万以上のベースポリ
マー、エチレン性不飽和化合物、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物をベースフィルムに積層してなるフォトレ
ジストフィルムが、蛍光体の分散性にも優れていること
を見いだし、更にはエチレン性不飽和化合物としてグル
セリンアクリレートを用いるとき、硬化レジストの焼成
時の焼失性にも優れる(焼失性に優れるということは、
蛍光体の固着性に優れ、良好な蛍光体のパターン形成を
得ることができる)ことを見いだし本発明を完成するに
至った。
【0005】以下に、本発明を詳細に述べる。
【0006】本発明の感光性樹脂組成物は、平均分子量
10万以上のベースポリマー(A)、エチレン性不飽和
化合物(B)、光重合開始剤(C)及び蛍光体(D)か
らなり、平均分子量10万以上のベースポリマー(A)
としては、平均分子量が10万以上であれば、特に限定
されず、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂などが用いられる。これらの中では、(メ
タ)アクリレートを主成分とし、必要に応じてエチレン
性不飽和カルボン酸や他の共重合可能なモノマーを共重
合したアクリル系共重合体が重要である。アセトアセチ
ル基含有アクリル系共重合体を用いることもできる。こ
こで(メタ)アクリル酸エステルとしては、メチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロ
ピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレー
ト、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシ
ル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アク
リレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、グリシジル(メタ)アクリレートなどが例
示される。
【0007】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。
【0008】稀アルカリ現像型とするときは、エチレン
性不飽和カルボン酸を15〜30重量%程度(酸価で1
00〜200mgKOH/g程度)共重合することが必要
である。他の共重合可能モノマーとしては、アクリルア
ミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニ
ル、アルキルビニルエーテルなどが例示できる。かかる
ベースポリマー(A)の平均分子量が10万未満の時
は、蛍光体の分散性が低下して本発明の効果を得ること
ができない。好ましくは10〜15万である。
【0009】エチレン性不飽和化合物(B)としては、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、2,2−ビス
(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス−(4−(メタ)アクリロキシポリ
エトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−
(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ(メタ)アクリレート、グルセリントリア
クリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ
(メタ)アクリレートなどの多官能モノマーが挙げら
れ、2官能モノマーと3官能モノマーの併用が好まし
く、特に3官能モノマーとしてグルセリン変性トリアク
リレートを用いることにより硬化レジストの焼失性を向
上することができて好ましい。
【0010】これらの多官能モノマーと共に、単官能モ
ノマーを適当量併用することもでき、かかる単官能モノ
マーの例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−
フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキ
シプロピルフタレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)
アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル
アシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ(メ
タ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルア
ミドなどが挙げられる。
【0011】更に、光重合開始剤(C)としては、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンn−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケ
タール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナ
フトキノン、3,3'−ジメチル−4−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、4,4'−ビス(ジメチル
アミノ)ベンゾフェノン、4,4'−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾフェノン、4,4'−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、1,1−ジク
ロロアセトフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、2,2'
−ビス(o−クロロフェニル)4,5,4',5'−テト
ラフェニル−1,2'−ビイミダゾール、2−クロロチ
オキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジ
エチルチオキサントン、2,2’−ジエトキシアセトフ
ェノン、2,2'−ジメトキシ−2−フェニルアセトフ
ェノン、2,2'−ジクロロ−4−フェノキシアセトフ
ェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシイ
ソブチルフェノン、ジベゾスパロン、1−(4−イソプ
ロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
プロパノン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、トリブロモ
フェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン
などが挙げられ、これらの1種または2種以上が用いら
れる。光重合開始剤(C)の含有量は、平均分子量10
万以上のベースポリマー(A)とエチレン性不飽和化合
物(B)との合計量100重量部に対し1〜20重量部
程度とするのが適当である。
【0012】また、蛍光体(D)としては、特に限定さ
れないが、希土類オキシハライド等を母体とし、この母
体を付活剤で付活したものが好ましく、例えば紫外線励
起型蛍光体としては、Y23:Eu、YVO4:Eu、
(Y,Gd)BO3:Eu(以上赤色)、BaAl12
19:Mn、Zn2SiO4:Mn、LaPO4:Tb(以
上緑色)、BaMgAl1423:Eu、BaMgAl16
27:Eu(以上青色)等が挙げられ、その他の蛍光体
としては、Y23S:Eu、γ−Zn3(PO42:M
n、(ZnCd)S:Ag+In23(以上赤色)、Z
nS:Cu,Al、ZnS:Au,Cu,Al、(Zn
Cd)S:Cu,Al、Zn2SiO4:Mn,As,Y
3Al512:Ce、Gd22S:Tb、Y3Al512
Tb、ZnO:Zn(以上緑色)、ZnS:Ag+赤色
顔料、Y2SiO3:Ce(以上青色)等を使用すること
ができ、好適には比重が4.0以上(更には4.0〜
8.0)のものが用いられる。
【0013】本発明において、蛍光体(D)を含有させ
る方法としては、特に限定されず公知の方法、例えば上
記の(A)〜(C)の樹脂組成物に所定量の蛍光体
(D)を添加して、十分混合撹拌して蛍光体を均一に分
散させる方法等がある。この場合の蛍光体(D)の含有
量は、感光性樹脂組成物中のベースポリマー(A)とエ
チレン性不飽和化合物(B)の総量100重量部に対し
て1〜50重量部が好ましく、より好ましくは10〜3
0重量部である。かかる蛍光体(D)の含有量が、1重
量部未満では、十分な発光輝度が得られず、逆に50重
量部を越えるとフィルム化した時に熱転写性が低下して
好ましくない。本発明の感光性樹脂組成物には、そのほ
か、染料(着色、発色)、密着性付与剤、可塑剤、酸化
防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定
剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、などの添加剤を適宜
添加することができる。本発明の(A)〜(D)を含有
した感光性樹脂組成物を用いたフォトレジストフィルム
用積層体の製造及びそれを用いた蛍光体のパターン形成
方法について説明する。
【0014】(成層方法) 上記の感光性樹脂組成物
は、これをポリエステルフイルム、ポリプロピレンフイ
ルム、ポリスチレンフイルムなどのベースフイルム面に
塗工した後、その塗工面の上からポリエチレンフイル
ム、ポリビニルアルコール系フイルムなどの保護フイル
ムを被覆してフォトレジストフィルム用積層体とする。
この時の感光性樹脂組成物の膜厚は、蛍光体の含有量や
PDPの構造によっても異なり一概に言えないが、通常
は10〜200μmの中から好適に選択される。
【0015】(露光) フォトレジストフィルムによっ
て画像を形成させるにはベースフイルム(ポリエステル
フィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ナイロンフ
ィルム、セルロースフィルム等)と感光性樹脂組成物層
との接着力及び保護フイルムと感光性樹脂組成物層との
接着力を比較し、接着力の低い方のフイルムを剥離して
から感光性樹脂組成物層の側を、PDP用基板に貼着す
る訳であるが、かかる基板は例えば透過型パネルでもよ
いが、本発明の効果を最大限に利用する為には、予めガ
ラス隔壁によってセルが形成されたPDP用平面基板
(反射型パネル)を用いることが好ましく、例えば、該
PDP用平面基板上に本発明のフォトレジストフィルム
を積層し、上部よりセルの凹形状に合致する凸形状をも
つ金型等で押圧してセル形状に該フォトレジストフィル
ムを追従させた後、他方のフイルム上にパターンマスク
を密着させて露光する。この時必要に応じて、該フォト
レジストフィルムを2枚以上積層することも可能であ
る。また、感光性樹脂組成物が粘着性を有しないとき
は、前記他方のフイルムを剥離してからパターンマスク
を感光性樹脂組成物層に直接接触させて露光することも
できる。露光は、通常紫外線照射により行い、その際の
光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンア
ーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、ケミカル
ランプなどが用いられる。紫外線照射後は、必要に応じ
加熱を行って、硬化の完全を図ることもできる。
【0016】(現像) 露光後は、硬化レジスト上のフ
イルムを剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性
樹脂組成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現
像は、炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ1〜2
重量%程度の稀薄水溶液を用いて行う。 (焼成) 上記処理後のセル形成基板を500〜550
℃で焼成を行い、セル内部の硬化レジストを焼失させる
と共にセル内部に蛍光体を固定する。このとき硬化レジ
ストがすべて焼失されること(セル内部には蛍光体の
み)が、理想的である。このようにして、ガラス基板上
に蛍光体を固定することができるのである。フルカラー
のPDPを形成するためには、赤色、青色、緑色のそれ
ぞれの蛍光体を含有するフォトレジストフィルムを用い
て上記の(露光)〜(焼成)を繰り返し行うことで作製
することができる。
【0017】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、例中「部」とあるのは、断りのない限り重
量基準を意味する。 実施例1 (ドープの調整) 下記のベースポリマー(A)46
部、下記のエチレン性不飽和化合物(B)54部、下記
処方の光重量開始剤(C)8部及び下記の蛍光体(D)
26部をを混合して樹脂組成物を調製した。ベースポリマー(A) メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/2
−エチルヘキシルアクリレート/スチレン/メタクリル
酸の共重合割合が重量基準で32/30/15/2/2
1である共重合体(酸価143.3、ガラス転移点6
6.3℃、重量平均分子量15万)
【0018】エチレン性不飽和化合物(B) テトラエチレングリコールジアクリレート/グルセリン
トリアクリレート(ダイセルユービーシー社製、「OT
A−480」)の重量比25/10の混合物光重合開始剤(C) ベンゾフェノン/4,4’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン/2,2−ビス(o−クロロフェニル)4,5,
4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ルの重量比8/0.15/1の混合物蛍光体(D) (Y,Gd,Eu)BO3 (発光波長;642nm,粒径;2.2±0.5μm,
比重;5.1)
【0019】(ドライフィルムの作製) 上記のドープ
を、ギャップ10ミルのアプリケーターを用いて厚さ2
0μmのポリエステルフイルム上に塗工し、室温で1分
30秒放置した後、60℃、90℃、110℃のオーブ
ンでそれぞれ3分間ずつ乾燥して、レジスト厚70μm
のドライフイルム(フォトレジストフィルム)となした
(ただし保護フイルムは設けていない)。 (PDP基板へのラミネート) オーブンで60℃に予
熱した隔壁(高さ100μm、幅80μm、スリット1
50μmのストライプパターン)形成ガラス基板(20
0mm×200mm×2mm)に、上記のフォトレジス
トフィルムをラミネートロール温度100℃、ロール圧
3kg/cm2、ラミネート速度1.0m/secの条
件でラミネートした。
【0020】(露光,現像) ラミネート後、ポリエス
テルフイルムの上に、隔壁の内側(隔壁上は除く)が露
光されるように、全面にパターンを乗せて、オーク製作
所製の露光機で80mjにて露光した。露光後15分間
のホールドタイムを取った後、1%Na2CO3水溶液、
30℃で、最少現像時間の1.5倍の時間で現像した。 (焼成) 現像後に焼成炉に入れて、約550℃に昇温
させて樹脂分を焼失させ、蛍光体単体のパターンを形成
させた。得られた焼成後の基板について、以下の如く蛍
光体の分散性及び焼失性を評価した。
【0021】[蛍光体の分散性]上記の焼成後の隔壁形
成ガラス基板を試料として、ストライプパターンと垂直
方向に該基板を切断して、断面の蛍光体の充填高さのバ
ラツキ(最小高さ〜最大高さ)をSEM(走査型電子顕
微鏡)で観察して、以下の如く評価した。 ○ −−− 45〜55μm △ −−− 40〜60μm × −−− 30〜70μm [焼失性]上記と同様にして、断面の蛍光体のパターン
形成具合(蛍光体の両隔壁や底面への固着具合)をSE
M(走査型電子顕微鏡)で観察して、以下の如く評価し
た。 ○ −−− 両隔壁及び底面に均一に固着 △ −−− 両隔壁及び底面に固着しているが一部に浮
きが見られる × −−− 底面に全く固着していない
【0022】実施例2 実施例1において、ベースポリマー(A)として、平均
分子量12万のものを用いた以外は同様に行ってドライ
フィルムを得て、同様に評価を行った。 実施例3 実施例1において、エチレン性不飽和化合物(B)をテ
トラエチレングリコールジアクリレート/グルセリント
リアクリレート(ダイセルユービーシー社製、「OTA
−480」)の重量比25/25の混合物とした以外は
同様に行ってドライフィルムを得て、同様に評価を行っ
た。 実施例4 実施例1において、蛍光体の配合量を13部とした以外
は同様に行ってドライフィルムを得て、同様に評価を行
った。 実施例5 実施例1において、グルセリントリアクリレートに替え
てメチルメタクリレートを用いた以外は同様に行ってド
ライフィルムを得て、同様に評価を行った。
【0023】比較例1 実施例1において、ベースポリマー(A)として、平均
分子量4万のものを用いた以外は同様に行ってドライフ
ィルムを得て、同様に評価を行った。実施例及び比較例
の評価結果を表1に示す。
【0024】
【表1】
【0025】
【発明の効果】本発明のフォトレジストフィルムは、平
均分子量10万以上のベースポリマー、エチレン性不飽
和化合物、蛍光体を含有しているため、蛍光体の分散安
定性に優れたフォトレジスト層を供給することができ、
PDPの蛍光体形成用途に大変有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年2月12日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲の欄の請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正内容】
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は、フ
ォトレジストフィルム中の蛍光体の分散性に関して鋭意
研究をした結果、平均分子量が10万以上のベースポリ
マー、エチレン性不飽和化合物、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物をベースフィルムに積層してなるフォトレ
ジストフィルムが、蛍光体の分散性にも優れていること
を見いだし、更にはエチレン性不飽和化合物としてグリ
セリンアクリレートを用いるとき、硬化レジストの焼成
時の焼失性にも優れる(焼失性に優れるということは、
蛍光体の固着性に優れ、良好な蛍光体のパターン形成を
得ることができる)ことを見いだし本発明を完成するに
至った。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】エチレン性不飽和化合物(B)としては、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、2,2−ビス
(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス−(4−(メタ)アクリロキシポリ
エトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−
(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリア
クリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ
(メタ)アクリレートなどの多官能モノマーが挙げら
れ、2官能モノマーと3官能モノマーの併用が好まし
く、特に3官能モノマーとしてグリセリン変性トリアク
リレートを用いることにより硬化レジストの焼失性を向
上することができて好ましい。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】エチレン性不飽和化合物(B) テトラエチレングリコールジアクリレート/グリセリン
トリアクリレート(ダイセルユービーシー社製、「OT
A−480」)の重量比25/10の混合物光重合開始剤(C) ベンゾフェノン/4,4’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン/2,2−ビス(o−クロロフェニル)4,5,
4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ルの重量比8/0.15/1の混合物蛍光体(D) (Y,Gd,Eu)BO3 (発光波長;642nm,粒径;2.2±0.5μm,
比重;5.1)
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】実施例2 実施例1において、ベースポリマー(A)として、平均
分子量12万のものを用いた以外は同様に行ってドライ
フィルムを得て、同様に評価を行った。 実施例3 実施例1において、エチレン性不飽和化合物(B)をテ
トラエチレングリコールジアクリレート/グリセリン
リアクリレート(ダイセルユービーシー社製、「OTA
−480」)の重量比25/25の混合物とした以外は
同様に行ってドライフィルムを得て、同様に評価を行っ
た。 実施例4 実施例1において、蛍光体の配合量を13部とした以外
は同様に行ってドライフィルムを得て、同様に評価を行
った。 実施例5 実施例1において、グリセリントリアクリレートに替え
てメチルメタクリレートを用いた以外は同様に行ってド
ライフィルムを得て、同様に評価を行った。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平均分子量10万以上のベースポリマ
    ー、エチレン性不飽和化合物、蛍光体を含有する感光性
    樹脂組成物をベースフィルムに積層してなることを特徴
    とするフォトレジストフィルム。
  2. 【請求項2】 エチレン性不飽和化合物としてグルセリ
    ントリアクリレートを用いることを特徴とする請求項1
    記載のフォトレジストフィルム。
  3. 【請求項3】 蛍光体の含有量がベースポリマーとエチ
    レン性不飽和化合物の総量100重量部に対して1〜5
    0重量部であることを特徴とする請求項1又は2記載の
    フォトレジストフィルム。
  4. 【請求項4】 蛍光表示体製造時における蛍光体のパタ
    ーン形成材料に用いることを特徴とする請求項1〜3い
    ずれか記載のフォトレジストフィルム。
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