JPH0897557A - 多層薄膜配線基板 - Google Patents
多層薄膜配線基板Info
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Abstract
ル)に適用可能な多層薄膜配線基板に関し、多品種少量
生産に際して配線層を共通化するのが容易な上記基板の
提供を目的とする。 【構成】 規則正しい形状の電源層14とグランド層1
2とを半ピッチずらして設定し、基板表面のビアパッド
32,34と電源層14及びグランド層12とをそれぞ
れビア26及び24により接続して構成する。
Description
子部品を搭載する多層薄膜配線基板に関し、更に詳しく
は高密度な配線を可能にするMCM(マルチチップモジ
ュール)に適用可能な多層薄膜配線基板に関する。
基板、いわゆるMCM(マルチチップモジュール)基板
が実用化されつつある。MCM基板では、通常、誘電体
としてポリイミドが使用され、スピンコートにより非常
に薄い誘電体層が形成可能である。
感度レジストを使用したエッチングによって形成するこ
とから、通常のプリント配線板とは比較にならないほど
高密度なパターン形成が可能である。例えば、2層のみ
で全ての信号線についての配線要求を満足することがで
き、高密度な配線が可能になる。
膜配線基板を製造する場合には、多品種少量生産に際し
てのコストダウンを図るために、電源層、グランド層等
の構成部分の共通化が要望されている。
層してなる多層薄膜配線基板が公知である。配線層は、
例えば、電源層、グランド層及び信号層を含む。
面に形成されたビアパッドに接続され、このビアパッド
からフットプリントを介してLSI等の搭載部品に電力
が供給される。信号層は、例えば、X及びYの2つの直
交成分を収容する2層からなる。
膜配線基板を多品種少量生産に適合させる場合、種々の
製品に対して電源層やグランド層のパターン形状が固有
のものとなり、限られた場合にしか配線層を共通化する
ことができないという問題がある。
に際して配線層を共通化するのが容易な多層薄膜配線基
板を提供することにある。
とも3層の配線層を誘電体層と共に積層してなる多層薄
膜配線基板であって、上記配線層は、縦横に等ピッチで
複数の第1の窓部を有する第1のパターンと、上記各第
1の窓部のほぼ中央に位置する複数の第1の島状パター
ンと、縦横に等ピッチで複数の第2の窓部を有し、該第
2の窓部は上記第1の窓部に対して半ピッチずれて位置
する第2のパターンと、上記各第2の窓部のほぼ中央に
位置する複数の第2の島状パターンと、上記配線基板の
表面に形成される第1及び第2のビアパッドとを含み、
上記第1のビアパッドと上記第1のパターンと上記第2
の島状パターンとを接続する第1のビアと、上記第2の
ビアパッドと上記第2のパターンと上記第1の島状パタ
ーンとを接続する第2のビアとを備えた多層薄膜配線基
板(第1の構成)が提供される。
の配線層を含む少なくとも3層の配線層を誘電体層と共
に積層してなる多層薄膜配線基板であって、上記第1の
配線層は、複数の窓部を有するパターンと、上記各窓部
のほぼ中央に位置する複数の島状パターンとを含み、上
記第2の配線層は、一様に広がるプレーンパターンを含
み、上記第3の配線層は、上記配線基板の表面に形成さ
れる第1及び第2のビアパッドを含み、上記第1のビア
パッドと上記パターンとを接続する第1のビアと、上記
第2のビアパッドと上記島状パターンとを接続する第2
のビアと、上記島状パターンと上記プレーンパターンと
を接続する複数の第3のビアとを備えた多層薄膜配線基
板(第2の構成)が提供される。
をしている第1及び第2のパターンを半ピッチずらして
配置している。第1及び第2のパターンはビアを介して
それぞれ基板表面に設けられた第1及び第2のビアパッ
ドに接続される。したがって、第1及び第2のパターン
はそれぞれ電源層及びグランド層として使用することが
できる。このように、本発明では規則的な形状を有する
第1及び第2のパターンを特定の関係で配置しているの
で、配線層を共通化するのが容易になる。
通化するのが容易になることに加えて、第1の配線層
と、第2の配線層と、第1及び第2の配線層によって挟
まれる誘電体層の一部とからなる部分について汎用性の
あるものとすることが可能になる。
に説明する。図1は本発明の第1の構成を適用可能なM
CM基板の断面図である。
基板4を積層して構成される。厚膜基板2は、セラミク
スを焼成してなる厚膜層6と、厚膜層6内に埋め込まれ
た厚膜ビア8(8A、8B)とを有している。
等からなる誘電体層22と共に積層して構成される。配
線層は、この例では、厚膜基板2の側から順に接続層1
0、グランド層12、X信号層16、電源層14、Y信
号層18及び表面層20である。各配線層は例えば銅か
らなる。
を介して電源層14及び厚膜ビア8Aに接続され、右側
の部分はビア26を介してグランド層12厚膜ビア8B
に接続されている。
れ従来技術が適用される場合における表面層20、電源
層14及びグランド層12の平面図である。各図に付さ
れた縦横の方眼によって特定される位置は一致してい
る。
0とビアパッド32及び34と接続ライン36及び38
とを含む。接続ライン36はフットプリント28とビア
パッド32とを接続し、ビアパッド32はビア26に接
続される。接続ライン38はフットプリント30とビア
パッド34とを接続し、ビアパッド34はビア24に接
続される。
32及び接続ライン36が図1の表面層20における右
側部分に相当し、フットプリント30、ビアパッド34
及び接続ライン38が左側部分に相当している。
SIのリードが半田付け接続される。図2の(B)、
(C)に示されるように、この例では、電源層14及び
グランド層12は概略格子状を成しており、ビアに接続
すべき部分を除き規則正しく複数の窓部が形成されてい
る。
28はビア26を介して電源層14に接続され、フット
プリント30はビア24を介してグランド層12に接続
される。
に、電源層14及びグランド層12の形状は、ビアパッ
ド32又は34の位置を変更するのに従って設計し直す
必要がある。従って、多品種少量生産に際して電源層や
グランド層を共通化するのが困難である。
示す。図1、図2におけるものと同一の名称の部分には
同一の符号が付されている。図3の(B)に示されるよ
うに、電源層14は、縦横に等ピッチで複数の窓部40
Aを有する電源パターン40と、各窓部40Aのほぼ中
央に位置する複数の島状パターン42とを含む。
ランド層12は、電源層14と同様に複数の窓部44A
を有するグランドパターン44と島状パターン46とを
含む。
ドパターン44の窓部44Aに対して縦横共に半ピッチ
ずれて位置している。電源パターン40及びグランドパ
ターン44における窓部のピッチは縦横共にAである。
はそれぞれ正方形であり、これらの一辺の長さはBであ
る。また、ビア24及び26の直径はCである。そし
て、A+C<Bで表される不等式を満足するように各パ
ターンの形状が設定される。
32及び34が基板表面のどの位置にある場合にも、ビ
アパッド32をビア26により電源パターン40に接続
することができ、また、ビアパッド34をビア24によ
りグランドパターン44に接続することができる。
ア26はグランドパターン44の窓部44Aを貫通する
形で島状パターン46に接続され、電源層14において
は、ビア24は電源パターン40の窓部40Aを貫通す
る形で島状パターン42に接続されている。
ら明らかなように、電源層14及びグランド層12の形
状は一致し、しかも規則的な形状である。このため、異
なる製品に対してフットプリントやビアパッドの位置を
変更する場合にも、電源層14及びグランド層12を変
更する必要がなく、多層薄膜配線基板の設計工数を削減
することができる。
るビアの設定可能位置を示す図である。この図は図3の
(A)に対応しており、縦横の方眼は同図におけるもの
と一致している。電源パターン40に接続されるべきビ
ア26は、符号Pで示されるように方眼の交点に設定す
ることができ、一方、グランドパターン44に接続され
るべきビア24は、符号Gで示されるように方眼で囲ま
れるスペースの概略中央に設定することができる。
ッチに対してビアの直径分だけ大きいビアパッドを採用
しているので、ビアパッドの位置に係わらずこれを電源
層及びグランド層の双方に独立に接続することができ
る。
ンドパターンが正方形の窓部をくり抜いた格子状のもの
であるとしたが、本発明はこれに限定されない。図5は
本発明第1の構成の他の実施例を示す配線層の説明図で
ある。同図は図3の(C)に対応してグランド層12′
を示している。このグランド層12′は、縦横に等ピッ
チで複数の円形の窓部44A′を有するグランドパター
ン44′と、窓部44A′のほぼ中央に位置する円形の
島状パターン46′とを含む。
して図示はしないが同様の形状を有する電源層を用いる
ことで、以上説明した実施例と同様に電源層及びグラン
ド層を基板表面の各ビアパッドに接続することができ
る。
形状の配線層が採用されているので、配線層の共通化が
容易である。図6は本発明の第2の構成を適用可能なM
CM基板の断面図である。このMCM基板は、セラミッ
クスからなる厚膜基板52の上に薄膜基板54を積層し
て構成される。
ド等からなる誘電体層56と共に積層して構成される。
各配線層は例えば銅から成り、具体的には、厚膜基板5
2の側から順にグランド層(プレーンパターン)58、
電源層60、X信号層62、Y信号層64及び表面層6
6である。
に接続される電源ビアパッド70と、ビア72によりグ
ランド層58に接続されるグランドビアパッド74とを
含む。
る各配線層の説明図である。図7の(A)に示されるよ
うに、表面層66は、更に、フットプリント76と、フ
ットプリント76をグランドビアパッド72と接続する
接続ライン78と、フットプリント80と、フットプリ
ント80を電源ビアパッド70と接続する接続ライン8
2とを含む。フットプリント76及び80は、それぞれ
グランド層58及び電源層60を図示しない電源供給線
あるいは電子部品と接続するためのものである。
0は、複数の窓部84Aを有する電源パターン84と、
各窓部84Aのほぼ中央に位置する複数の島状パターン
86とを含む。
あり、窓部84Aは縦横に等ピッチで規則正しく設けら
れている。また、窓部84Aの形状に対応して島状パタ
ーン86も正方形である。
がそれぞれグランドビア88によって図7の(C)に示
されるグランド層58に接続されているところにある。
この特徴によるメリットは次の通りである。
により説明した不等式の条件に準ずる条件が満足されて
いるものとする。即ち、ビアパッド70及び74がそれ
ぞれ正方形であり、これらの一辺の長さをBとし、ビア
68及び72の直径をCとし、電源パターン84の窓部
84AのピッチをAとするときに、A+C<Bで表され
る不等式を満足するように各パターンの形状が設定され
ているとする。
ッド70及びグランドビアパッド74が基板表面のどの
位置にある場合であっても、電源ビアパッド70をビア
68により電源パターン84に接続することができ、ま
た、グランドビアパッド74をビア72により島状パタ
ーン86に接続することができるのである。各島状パタ
ーン86は本実施例において特徴的なグランドビア88
によってグランド層58に接続されているので、結果的
に、グランドビアパッド74は、ビア72、島状パター
ン86及びグランドビア88を介してグランド層58に
接続されることとなる。
1の構成の実施例による効果に加えて、基板の少なくと
も一部について汎用的なものとすることができるのであ
る。具体的には、図6の積層構造において、厚膜基板5
2と、グランド層58と、グランドビア88と、電源層
60(電源パターン84及び島状パターン86)と、グ
ランド層58及び電源層60間に介在する誘電体層56
の一部とからなる部分を信号層62及び64並びに表面
層66のパターン形状に関わらず共通化することができ
るのである。
ば、厚膜基板52、グランド層58及び電源層60を含
む共通部分について大量に製造してストックしておき、
製品種毎に異なる信号層パターン等の形態に応じて適宜
共通部分を適用することができる。
通部分の製造プロセスの一例を説明するための図であ
る。まず、図8の(A)に示されるように、厚膜基板5
2上にプレーンパターンであるグランド層58を通常の
方法により形成した後、グランド層58上に誘電体層の
一部となるポリイミドPEを均一の厚みで塗布してお
く。
マスク90を用いてポリイミドPEについて露光を行っ
た後、現像を行う。露光及び現像によってポリイミドP
Eはその一部が固化してグランド層58上に残り、これ
が誘電体層の所定の形状の一部分56Aとなる(図8の
(C))。
れた基板についてあらかじめ定められた形状のマスキン
グを施し、例えばスパッタリングにより導体層を形成し
た後マスキングを除去することによって、図8の(D)
に示されるように、グランドビア88並びに電源層60
(図6参照)の電源パターン84及び島状パターン86
が形成される。
も、各配線層の作製にこの製造プロセスを適用可能であ
る。図9は本発明の第2の構成の実施例における電源層
の他の例を示す図である。同図は図7の(B)に対応し
て電源層60′を示している。電源層60′は、縦横に
等ピッチで複数の円形の窓部84A′を有する電源パタ
ーン84′と、窓部84′のほぼ中央に位置する円形の
島状パターン86′とを含む。また、島状パターン8
6′の中央に位置するグランドビアを符号88′で示し
ておく。このような電源層60′を用いることによって
も、図7の(B)に示されるような電源層60を用いる
場合と同様に、電源層60′及びグランド層58をそれ
ぞれ電源ビアパッド70及びグランドビアパッド74に
接続することができる。
多品種少量生産に際して配線層を共通化するのが容易な
多層薄膜配線基板の提供が可能になるという効果が生じ
る。
チチップモジュール)基板の断面図である。
の説明図である。
の説明図である。
断面図である。
の説明図である。
部分の製造プロセスの説明図である。
他の例を示す図である。
Claims (15)
- 【請求項1】 第1乃至第3の配線層を含む少なくとも
3層の配線層を誘電体層と共に積層してなる多層薄膜配
線基板であって、 上記第1の配線層は、縦横に等ピッチで複数の第1の窓
部を有する第1のパターンと、上記各第1の窓部のほぼ
中央に位置する複数の第1の島状パターンとを含み、上
記第2の配線層は、縦横に等ピッチで複数の第2の窓部
を有し、該第2の窓部は上記第1の窓部に対して半ピッ
チずれて位置する第2のパターンと、上記各第2の窓部
のほぼ中央に位置する複数の第2の島状パターンとを含
み、上記第3の配線層は、上記配線基板の表面に形成さ
れる第1及び第2のビアパッドを含み、 上記第1のビアパッドと上記第1のパターンと上記第2
の島状パターンとを接続する第1のビアと、 上記第2のビアパッドと上記第2のパターンと上記第1
の島状パターンとを接続する第2のビアとを備えた多層
薄膜配線基板。 - 【請求項2】 上記第1の窓部のピッチと上記第2の窓
部のピッチは等しく、上記第1の窓部は上記第2の窓部
に対して半ピッチずれて位置する請求項1に記載の多層
薄膜配線基板。 - 【請求項3】 上記第1及び第2の窓部は正方形である
請求項1に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項4】 上記第1及び第2のビアパッドは正方形
であり、 上記第1及び第2のビアパッドの一辺の長さは上記第1
の窓部のピッチと上記第1のビアの直径の和よりも大き
い請求項3に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項5】 上記第1及び第2の窓部は円形である請
求項1に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項6】 上記第1のパターンは電源層を形成し、 上記第2のパターンはグランド層を形成する請求項1に
記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項7】 上記誘電体層はポリイミドからなる請求
項1に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項8】 セラミックからなる厚膜層をさらに積層
してなる請求項7に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項9】 第1乃至第3の配線層を含む少なくとも
3層の配線層を誘電体層と共に積層してなる多層薄膜配
線基板であって、 上記第1の配線層は、複数の窓部を有するパターンと、
上記各窓部のほぼ中央に位置する複数の島状パターンと
を含み、上記第2の配線層は、一様に広がるプレーンパ
ターンを含み、上記第3の配線層は、上記配線基板の表
面に形成される第1及び第2のビアパッドを含み、 上記第1のビアパッドと上記パターンとを接続する第1
のビアと、 上記第2のビアパッドと上記島状パターンとを接続する
第2のビアと、 上記島状パターンと上記プレーンパターンとを接続する
複数の第3のビアとを備えた多層薄膜配線基板。 - 【請求項10】 上記窓部は正方形である請求項9に記
載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項11】 上記各窓部は縦横に等ピッチで設けら
れ、 上記第1及び第2のビアパッドは正方形であり、 上記第1及び第2のビアパッドの一辺の長さは上記窓部
のピッチと上記第1のビアの直径の和よりも大きい請求
項10に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項12】 上記窓部は円形である請求項9に記載
の多層薄膜配線基板。 - 【請求項13】 上記パターンは電源層を形成し、 上記プレーンパターンはグランド層を形成する請求項9
に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項14】 上記誘電体層はポリイミドからなる請
求項9に記載の多層薄膜配線基板。 - 【請求項15】 セラミックからなる厚膜層をさらに積
層してなる請求項9に記載の多層薄膜配線基板。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17645395A JP3230953B2 (ja) | 1994-07-28 | 1995-07-12 | 多層薄膜配線基板 |
| US08/506,918 US5608192A (en) | 1994-07-28 | 1995-07-26 | Multilayer thin-film wiring board |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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