JPH09120157A - 湿し水不要感光性平版印刷版 - Google Patents
湿し水不要感光性平版印刷版Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レー
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いてコンピュータ等
のデジタルデータを直接記録することが可能である直接
製版用湿し水不要感光性平版印刷版を提供することであ
る。 【解決手段】 支持体上に、感光層、シリコーンゴム層
をこの順に積層してなり、該感光層が少なくとも(a)レ
ゾール樹脂、(b) ノボラック樹脂、(c) 赤外線吸収剤、
(d) 熱で酸を発生させる化合物を含有する。
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いてコンピュータ等
のデジタルデータを直接記録することが可能である直接
製版用湿し水不要感光性平版印刷版を提供することであ
る。 【解決手段】 支持体上に、感光層、シリコーンゴム層
をこの順に積層してなり、該感光層が少なくとも(a)レ
ゾール樹脂、(b) ノボラック樹脂、(c) 赤外線吸収剤、
(d) 熱で酸を発生させる化合物を含有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いない
で印刷が可能な湿し水不要感光性平版印刷版に関し、特
にコンピュータ等のデジタル信号から直接描画できるダ
イレクト製版用の湿し水不要感光性平版印刷版に関す
る。
で印刷が可能な湿し水不要感光性平版印刷版に関し、特
にコンピュータ等のデジタル信号から直接描画できるダ
イレクト製版用の湿し水不要感光性平版印刷版に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年におけるレーザの発展はめざましく
特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるよう
になってきている。これらのレーザはコンピュータ等の
デジタルデータから直接製版する際の露光光源として非
常に有用である。
特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるよう
になってきている。これらのレーザはコンピュータ等の
デジタルデータから直接製版する際の露光光源として非
常に有用である。
【0003】従来コンピュータのデジタルデータから直
接描画できる高感度な湿し水不要平版印刷版として、特
公昭57−3516号公報、特開昭53−55211号
公報には、シリコーン樹脂からなるインキ反撥層上に、
電子写真を利用してトナー画像形成し画像部とする印刷
版が開示されている。特開昭54−44905号公報に
は銀塩乳剤層を積層し、高感度かつ広範囲な波長光での
露光が可能な印刷版が開示されている。また米国特許第
4,958,562号には基体上にシリコーンゴム層を
積層し、放電破壊によって画像部を形成するタイプの印
刷版等が知られている。
接描画できる高感度な湿し水不要平版印刷版として、特
公昭57−3516号公報、特開昭53−55211号
公報には、シリコーン樹脂からなるインキ反撥層上に、
電子写真を利用してトナー画像形成し画像部とする印刷
版が開示されている。特開昭54−44905号公報に
は銀塩乳剤層を積層し、高感度かつ広範囲な波長光での
露光が可能な印刷版が開示されている。また米国特許第
4,958,562号には基体上にシリコーンゴム層を
積層し、放電破壊によって画像部を形成するタイプの印
刷版等が知られている。
【0004】更にコンピュータのデジタルデータをレー
ザ光により直接製版する際にはポジ型の材料はかなりの
書き込み時間を必要とするため、ネガ型が有利である。
ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版として、特公昭6
1−54222号、特公昭61−616号には支持体に
裏打ちされたO−ナフトキノンジアジドからなる光分解
型感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し水不要感
光性平版印刷版が提案されている。また特開昭59−1
7552号、特公平3−56223号には同様の印刷版
を処理方法を調節することによりポジ型及びネガ型両用
とすることが提案されている。
ザ光により直接製版する際にはポジ型の材料はかなりの
書き込み時間を必要とするため、ネガ型が有利である。
ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版として、特公昭6
1−54222号、特公昭61−616号には支持体に
裏打ちされたO−ナフトキノンジアジドからなる光分解
型感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し水不要感
光性平版印刷版が提案されている。また特開昭59−1
7552号、特公平3−56223号には同様の印刷版
を処理方法を調節することによりポジ型及びネガ型両用
とすることが提案されている。
【0005】最近それらに代わるネガ型湿し水不要感光
性平版印刷版として、感光層に光により酸を発生する化
合物(光酸発生剤)及び酸により加水分解等を生じ溶解
度が変化する化合物、必要に応じてバインダー樹脂等を
含有する組成物が報告されている。例えば特開昭63−
88556号には支持体上に、光酸発生剤、酸により分
解可能なC−O−C結合を有する化合物および水不溶性
バインダーを含有する感光層、さらに無定型ケイ酸から
なる中間層を介しシリコーンゴム層を有する湿し水不要
感光性平版印刷版を露光した後、現像液を用いて可溶化
した感光層を溶解除去すると同時に、その上のシリコー
ンゴム層も除去し、アルミニウム基板を露出せしめ画像
部とすることが提案されている。しかしながらこの場
合、感度は低く、この技術において用いられる実用上有
効な光酸発生剤の多くが450nm以下にしか吸収がないた
め、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザによる書き込みには適さなかった。
性平版印刷版として、感光層に光により酸を発生する化
合物(光酸発生剤)及び酸により加水分解等を生じ溶解
度が変化する化合物、必要に応じてバインダー樹脂等を
含有する組成物が報告されている。例えば特開昭63−
88556号には支持体上に、光酸発生剤、酸により分
解可能なC−O−C結合を有する化合物および水不溶性
バインダーを含有する感光層、さらに無定型ケイ酸から
なる中間層を介しシリコーンゴム層を有する湿し水不要
感光性平版印刷版を露光した後、現像液を用いて可溶化
した感光層を溶解除去すると同時に、その上のシリコー
ンゴム層も除去し、アルミニウム基板を露出せしめ画像
部とすることが提案されている。しかしながらこの場
合、感度は低く、この技術において用いられる実用上有
効な光酸発生剤の多くが450nm以下にしか吸収がないた
め、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザによる書き込みには適さなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、近赤
外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ
(熱モード)を用いてコンピュータ等のデジタルデータ
を直接記録することが可能である直接製版用湿し水不要
感光性平版印刷版を提供することである。
外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ
(熱モード)を用いてコンピュータ等のデジタルデータ
を直接記録することが可能である直接製版用湿し水不要
感光性平版印刷版を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は支持体上に感光
層、シリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要感
光性平版印刷版において該感光層が(a) レゾール樹脂
と、(b) ノボラック樹脂と、(c) 赤外線吸収剤と、(d)
熱で酸を発生させる化合物(以下、酸前駆体という)を
含むことを特徴とする。
層、シリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要感
光性平版印刷版において該感光層が(a) レゾール樹脂
と、(b) ノボラック樹脂と、(c) 赤外線吸収剤と、(d)
熱で酸を発生させる化合物(以下、酸前駆体という)を
含むことを特徴とする。
【0008】本発明は、感光性皮膜の作成条件によりポ
ジ型またはネガ型の湿し水不要平版印刷版となる。ポジ
型の湿し水不要平版印刷版を作成する場合は、画像露光
により露光部の酸前駆体から酸を発生させた後、加熱を
施してレゾール成分とノボラック成分を反応させて露光
部を不溶化すると同時にシリコーン層の接着性を高め非
画像部とする。一方ネガ型の湿し水不要平版印刷版を作
成する場合には画像露光を施し露光部の溶解性を向上す
ると同時にシリコーンゴム層の接着性を低下させ画像部
とすることができる。
ジ型またはネガ型の湿し水不要平版印刷版となる。ポジ
型の湿し水不要平版印刷版を作成する場合は、画像露光
により露光部の酸前駆体から酸を発生させた後、加熱を
施してレゾール成分とノボラック成分を反応させて露光
部を不溶化すると同時にシリコーン層の接着性を高め非
画像部とする。一方ネガ型の湿し水不要平版印刷版を作
成する場合には画像露光を施し露光部の溶解性を向上す
ると同時にシリコーンゴム層の接着性を低下させ画像部
とすることができる。
【0009】このような本発明の構成、特に成分(c)
の特定の赤外線吸収剤を用いることにより、固体レー
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いてデジタルデータ
を直接記録しても良好な感度がえられ、更に成分(a)
と成分(b)を併用することでポジ型及びネガ型の両方
で書き込み時間がかからず露光後の簡易な処理によりポ
ジまたはネガの画像を良好に得ることができる。
の特定の赤外線吸収剤を用いることにより、固体レー
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いてデジタルデータ
を直接記録しても良好な感度がえられ、更に成分(a)
と成分(b)を併用することでポジ型及びネガ型の両方
で書き込み時間がかからず露光後の簡易な処理によりポ
ジまたはネガの画像を良好に得ることができる。
【0010】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明に用いる感光層は、上記(a)、(b)、(c)及
び(d)の成分を含有する感光性組成物である。まず、
本発明の成分(a)のレゾール樹脂について説明する。
レゾール樹脂の調整法は公知であり、一般にフェノール
化合物とアルデヒド類をアルカリ触媒下で反応させるこ
とにより得られる。有用なフェノール化合物としては、
フェノール、アルキル、アリール等で置換された置換フ
ェノール類、クレゾール類、キシレノール類、ビスフェ
ノールA、レゾルシノール等が挙げられる。アルデヒド
類としてはパラホルムアルデヒド、フルフラール、ヘキ
サメチレンテトラミン等も使用されるが主にホルムアル
デヒドが用いられる。具体的にはフェノールレゾール樹
脂、m−クレゾールレゾール樹脂、p−クレゾールレゾ
ール樹脂、o−クレゾールレゾール樹脂、m−/p−混
合クレゾールレゾール樹脂、フェノール/クレゾールレ
ゾール樹脂、エチルフェノールレゾール樹脂、フェニル
フェノールレゾール樹脂、p−ターシャリーブチルフェ
ノールレゾール樹脂、p−ターシャリーアミルフェノー
ルレゾール樹脂、ビスフェノールAレゾール樹脂等のレ
ゾール樹脂等を挙げることができるがこれらに限定され
るものではない。本発明で使用されるレゾール樹脂は単
独で、または数種類の混合物として任意に選択し用いる
ことができる。
発明に用いる感光層は、上記(a)、(b)、(c)及
び(d)の成分を含有する感光性組成物である。まず、
本発明の成分(a)のレゾール樹脂について説明する。
レゾール樹脂の調整法は公知であり、一般にフェノール
化合物とアルデヒド類をアルカリ触媒下で反応させるこ
とにより得られる。有用なフェノール化合物としては、
フェノール、アルキル、アリール等で置換された置換フ
ェノール類、クレゾール類、キシレノール類、ビスフェ
ノールA、レゾルシノール等が挙げられる。アルデヒド
類としてはパラホルムアルデヒド、フルフラール、ヘキ
サメチレンテトラミン等も使用されるが主にホルムアル
デヒドが用いられる。具体的にはフェノールレゾール樹
脂、m−クレゾールレゾール樹脂、p−クレゾールレゾ
ール樹脂、o−クレゾールレゾール樹脂、m−/p−混
合クレゾールレゾール樹脂、フェノール/クレゾールレ
ゾール樹脂、エチルフェノールレゾール樹脂、フェニル
フェノールレゾール樹脂、p−ターシャリーブチルフェ
ノールレゾール樹脂、p−ターシャリーアミルフェノー
ルレゾール樹脂、ビスフェノールAレゾール樹脂等のレ
ゾール樹脂等を挙げることができるがこれらに限定され
るものではない。本発明で使用されるレゾール樹脂は単
独で、または数種類の混合物として任意に選択し用いる
ことができる。
【0011】本発明で使用されるノボラック樹脂(b)
は、一般にフェノール化合物とアルデヒド類を、酸触媒
下等のレゾール樹脂とは異なる反応条件下で反応させる
ことにより得られる。有用なフェノール化合物及びアル
デヒド類は前記レゾール樹脂の原料と同様な物が使用さ
れる。具体的には、フェノールノボラック樹脂、m−ク
レゾールノボラック樹脂、p−クレゾールノボラック樹
脂、o−クレゾールノボラック樹脂、m−/p−混合ク
レゾールノボラック樹脂、フェノール/クレゾールノボ
ラック樹脂、エチルフェノールノボラック樹脂、フェニ
ルフェノールノボラック樹脂、p−ターシャリーブチル
フェノールノボラック樹脂、p−ターシャリーアミルフ
ェノールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック
樹脂等のノボラック樹脂等を挙げることができるがこれ
らに限定されるものではない。本発明で使用されるノボ
ラック樹脂は単独で、または数種類の混合物として任意
に選択し用いることができる。
は、一般にフェノール化合物とアルデヒド類を、酸触媒
下等のレゾール樹脂とは異なる反応条件下で反応させる
ことにより得られる。有用なフェノール化合物及びアル
デヒド類は前記レゾール樹脂の原料と同様な物が使用さ
れる。具体的には、フェノールノボラック樹脂、m−ク
レゾールノボラック樹脂、p−クレゾールノボラック樹
脂、o−クレゾールノボラック樹脂、m−/p−混合ク
レゾールノボラック樹脂、フェノール/クレゾールノボ
ラック樹脂、エチルフェノールノボラック樹脂、フェニ
ルフェノールノボラック樹脂、p−ターシャリーブチル
フェノールノボラック樹脂、p−ターシャリーアミルフ
ェノールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック
樹脂等のノボラック樹脂等を挙げることができるがこれ
らに限定されるものではない。本発明で使用されるノボ
ラック樹脂は単独で、または数種類の混合物として任意
に選択し用いることができる。
【0012】成分(a)と(b)との使用割合〔(a)
/(b)〕は、10/90〜95/5である。
/(b)〕は、10/90〜95/5である。
【0013】本発明において赤外線吸収剤(c)として
は、公知である種々の顔料もしくは染料が用いられる。
赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適
に用いられる。赤外光を吸収する染料としてはシアニン
系、メロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウ
ム系、金属ジチオレン類、ナフトキノン系、ピリリウム
系等が挙げられ、例えば「赤外増感色素」(松岡著 Ple
num Press,New York,NY(1990))に記載の増感色素、特
開昭58−125246号、同59−84356号、同
59−202829号、同60−78787号等に記載
されているシアニン染料、特開昭58−173696
号、同58−181690号、同58−194595号
等に記載されているメチン染料、特開昭58−1127
93号、同58−224793号、同59−48187
号、同59−73996号、同60−52940号、同
60−63744号等に記載されているナフトキノン染
料、特開昭58−112792号等に記載されているス
クアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシ
アニン染料等が好適に用いられる。また米国特許第5,
156,938号記載の近赤外吸収剤、米国特許第3,
881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チ
オ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号記載の
トリメチンチオピリリウム塩、特開昭58−18105
1号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号記載の
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号記載
のペンタメチンチオピリリウム塩や特公平5−1351
4号、同5−19702号公報に開示されているピリリ
ウム化合物は特に好ましく用いられる。
は、公知である種々の顔料もしくは染料が用いられる。
赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適
に用いられる。赤外光を吸収する染料としてはシアニン
系、メロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウ
ム系、金属ジチオレン類、ナフトキノン系、ピリリウム
系等が挙げられ、例えば「赤外増感色素」(松岡著 Ple
num Press,New York,NY(1990))に記載の増感色素、特
開昭58−125246号、同59−84356号、同
59−202829号、同60−78787号等に記載
されているシアニン染料、特開昭58−173696
号、同58−181690号、同58−194595号
等に記載されているメチン染料、特開昭58−1127
93号、同58−224793号、同59−48187
号、同59−73996号、同60−52940号、同
60−63744号等に記載されているナフトキノン染
料、特開昭58−112792号等に記載されているス
クアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシ
アニン染料等が好適に用いられる。また米国特許第5,
156,938号記載の近赤外吸収剤、米国特許第3,
881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チ
オ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号記載の
トリメチンチオピリリウム塩、特開昭58−18105
1号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号記載の
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号記載
のペンタメチンチオピリリウム塩や特公平5−1351
4号、同5−19702号公報に開示されているピリリ
ウム化合物は特に好ましく用いられる。
【0014】また特に好ましい別の例として米国特許
4,756,993号明細書中に式(I)(II)とし
て記載されている近赤外吸収染料をあげることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光層組成物全固形
分に対し、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜
20重量%の割合で添加することができる。
4,756,993号明細書中に式(I)(II)とし
て記載されている近赤外吸収染料をあげることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光層組成物全固形
分に対し、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜
20重量%の割合で添加することができる。
【0015】本発明で使用される(d)熱で酸を発生さ
せる化合物(酸前駆体)としては、公知の酸を発生する
化合物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用する
ことができる。例えば S. I. Schlesinger, Photogr. S
ci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et al, Polyme
r, 21, 423(1980) に記載のジアゾニウム塩、米国特許
第4,069,055号、同4,069,056号、特開平4-365049号の明
細書に記載のアンモニウム塩、D.C. Necker et al, Mac
romolecules, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh,
Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (198
8)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホ
スホニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromorecule
s, 10(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28,
p31 (1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第339,04
9号、同第410,201号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello et al,
Polymer J.17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org. Chem., 43, 3055 (1978)、W.R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、
J.V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5)、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,
1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693号, 同3,902,114号、同233,567号、同297,443号、
同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、
同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,4
44号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,60
4,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.
V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6), 1307 (19
77)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム
塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩
等のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46-46
05号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60
-239736号、特開昭61-169835号、特開昭61-169837号、
特開昭62-58241号、特開昭62-212401号、特開昭63-7024
3号、特開昭63-298339号に記載の有機ハロゲン化合物、
K. Meier et al, J. Rad. Curing, 13(4), 26 (1986)、
T. P. Gill et al, Inorg. Chem., 19, 3007 (1980) 、
D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19(12), 377 (1896)、特
開平2-161445号に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、
S. Hayase et al,J. Polymer Sci., 25, 753 (1987)、
E. Reichmanis et al, J. Polymer Sci., Polymer Che
m. Ed., 23, 1 (1985) 、Q. Q. Zhu et al, J. Photoch
em., 36, 85,39, 317 (1987)、B. Amit et al, Tetrahe
dron Lett., (24) 2205 (1973),D. H. R. Barton et a
l, J. Chem Soc., 3571 (1965)、P. M. Collins et al,
J. Chem. Soc., Perkin I, 1695 (1975) 、M. Rudinst
ein et al, Tetrahedron Lett., (17), 1445 (1975) 、
J. W. Walker et al, J. Am. Chem. Soc., 110, 7170
(1988) 、S. C. Busman et al, J. Imaging Technol.,
11(4), 191 (1985)、H. M. Houlihan et al, Macoromol
ecules, 21, 2001 (1988)、P. M. Collinset al, J. Ch
em. Soc., Chem. Commun., 532 (1972) 、S. Hayase et
al, Macromolecules, 18, 1799 (1985)、E. Reichmani
s et al, J. Electrochem. Soc., Solid State Sci. Te
chnol., 130(6)、F. M. Houlihan et al, Macromolecul
es,21, 2001 (1988) 、欧州特許第0290,750号、同046,0
83号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343号、米
国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60-19853
8号、特開昭53-133022号に記載のo−ニトロベンジル型
保護基を有する光酸発生剤、M. Tunooka et al, Polyme
r Preprints Japan, 38(8)、G. Berner et al,J. Rad.
Curing, 13(4)、W. J. Mijs et al, Coating Technol.,
55(697), 45(1983)、Akzo, H. Adachi et al, Polymer
Preprints, Japan, 37(3)、欧州特許第0199,672号、同
84515号、同199,672号、同044,115号、同0101,122号、
米国特許第4,618,564号、同4,371,605号、同4,431,774
号、特開昭64-18143号、特開平2-245756号、特開平4-36
5048号に記載のイミノスルフォネート等に代表される、
光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166
544号に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。
せる化合物(酸前駆体)としては、公知の酸を発生する
化合物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用する
ことができる。例えば S. I. Schlesinger, Photogr. S
ci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et al, Polyme
r, 21, 423(1980) に記載のジアゾニウム塩、米国特許
第4,069,055号、同4,069,056号、特開平4-365049号の明
細書に記載のアンモニウム塩、D.C. Necker et al, Mac
romolecules, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh,
Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (198
8)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホ
スホニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromorecule
s, 10(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28,
p31 (1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第339,04
9号、同第410,201号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello et al,
Polymer J.17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org. Chem., 43, 3055 (1978)、W.R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、
J.V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5)、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,
1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693号, 同3,902,114号、同233,567号、同297,443号、
同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、
同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,4
44号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,60
4,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.
V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6), 1307 (19
77)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polyme
r Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム
塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩
等のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46-46
05号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60
-239736号、特開昭61-169835号、特開昭61-169837号、
特開昭62-58241号、特開昭62-212401号、特開昭63-7024
3号、特開昭63-298339号に記載の有機ハロゲン化合物、
K. Meier et al, J. Rad. Curing, 13(4), 26 (1986)、
T. P. Gill et al, Inorg. Chem., 19, 3007 (1980) 、
D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19(12), 377 (1896)、特
開平2-161445号に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、
S. Hayase et al,J. Polymer Sci., 25, 753 (1987)、
E. Reichmanis et al, J. Polymer Sci., Polymer Che
m. Ed., 23, 1 (1985) 、Q. Q. Zhu et al, J. Photoch
em., 36, 85,39, 317 (1987)、B. Amit et al, Tetrahe
dron Lett., (24) 2205 (1973),D. H. R. Barton et a
l, J. Chem Soc., 3571 (1965)、P. M. Collins et al,
J. Chem. Soc., Perkin I, 1695 (1975) 、M. Rudinst
ein et al, Tetrahedron Lett., (17), 1445 (1975) 、
J. W. Walker et al, J. Am. Chem. Soc., 110, 7170
(1988) 、S. C. Busman et al, J. Imaging Technol.,
11(4), 191 (1985)、H. M. Houlihan et al, Macoromol
ecules, 21, 2001 (1988)、P. M. Collinset al, J. Ch
em. Soc., Chem. Commun., 532 (1972) 、S. Hayase et
al, Macromolecules, 18, 1799 (1985)、E. Reichmani
s et al, J. Electrochem. Soc., Solid State Sci. Te
chnol., 130(6)、F. M. Houlihan et al, Macromolecul
es,21, 2001 (1988) 、欧州特許第0290,750号、同046,0
83号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343号、米
国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60-19853
8号、特開昭53-133022号に記載のo−ニトロベンジル型
保護基を有する光酸発生剤、M. Tunooka et al, Polyme
r Preprints Japan, 38(8)、G. Berner et al,J. Rad.
Curing, 13(4)、W. J. Mijs et al, Coating Technol.,
55(697), 45(1983)、Akzo, H. Adachi et al, Polymer
Preprints, Japan, 37(3)、欧州特許第0199,672号、同
84515号、同199,672号、同044,115号、同0101,122号、
米国特許第4,618,564号、同4,371,605号、同4,431,774
号、特開昭64-18143号、特開平2-245756号、特開平4-36
5048号に記載のイミノスルフォネート等に代表される、
光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166
544号に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。
【0016】またこれらの酸を発生する基、あるいは化
合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、M. E. Woodhouse et al, J. Am. Chem. Soc., 104,
5586 (1982)、S. P. Pappas et al, J. Imaging Sci.,
30(5),218 (1986)、S. Kondo et al. Makromol. Che
m., Rapid Commun., 9,625 (1988)、Y. Yamada et al,M
akromol. Chem., 152, 153, 163 (1972)、J. V. Crivel
lo et al. J. PolymerSci., Polymer Chem. Ed., 17, 3
845 (1979) 、米国特許第3,849,137 号、独国特許第3,9
14,407号、特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特
開昭62-69263号、特開昭63-1460387号、特開昭63-16345
2号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号に記載の
化合物を用いることができる。
合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、M. E. Woodhouse et al, J. Am. Chem. Soc., 104,
5586 (1982)、S. P. Pappas et al, J. Imaging Sci.,
30(5),218 (1986)、S. Kondo et al. Makromol. Che
m., Rapid Commun., 9,625 (1988)、Y. Yamada et al,M
akromol. Chem., 152, 153, 163 (1972)、J. V. Crivel
lo et al. J. PolymerSci., Polymer Chem. Ed., 17, 3
845 (1979) 、米国特許第3,849,137 号、独国特許第3,9
14,407号、特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特
開昭62-69263号、特開昭63-1460387号、特開昭63-16345
2号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号に記載の
化合物を用いることができる。
【0017】更に、V. N. R. Pillai, Synthesis, (1),
1(1980)、A. Abad et al, Tetrahedron Lett., (47)45
55 (1971)、D. H. R. Barton et al, J. Chem. Soc.,
(C),329 (1970)、米国特許第3,779,778号、欧州特許第1
26,712号に記載の光により酸を発生する化合物も使用す
ることができる。
1(1980)、A. Abad et al, Tetrahedron Lett., (47)45
55 (1971)、D. H. R. Barton et al, J. Chem. Soc.,
(C),329 (1970)、米国特許第3,779,778号、欧州特許第1
26,712号に記載の光により酸を発生する化合物も使用す
ることができる。
【0018】上記酸前駆体の中で、特に有効に用いられ
るものについて以下に説明する。 (1) トリハロメチル基が置換した下記一般式(I) で
表されるオキサゾール誘導体又は下記一般式(II) で
表されるS−トリアジン誘導体。
るものについて以下に説明する。 (1) トリハロメチル基が置換した下記一般式(I) で
表されるオキサゾール誘導体又は下記一般式(II) で
表されるS−トリアジン誘導体。
【0019】
【化1】
【0020】式中、R1 は置換もしくは未置換のアリー
ル基又はアルケニル基であり、R2は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は−CY
3 を表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキ
サゾール誘導体(I) 及びS−トリアジン誘導体(I
I) の具体例としては、以下のI−1〜8及びII−1
〜10の化合物を挙げることができるが、これらに限定
されるものではない。
ル基又はアルケニル基であり、R2は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は−CY
3 を表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキ
サゾール誘導体(I) 及びS−トリアジン誘導体(I
I) の具体例としては、以下のI−1〜8及びII−1
〜10の化合物を挙げることができるが、これらに限定
されるものではない。
【0021】
【化2】
【0022】
【化3】
【0023】
【化4】
【0024】
【化5】
【0025】
【化6】
【0026】(2) 下記一般式(III)で表されるヨー
ドニウム塩又は下記一般式(IV)で表されるスルホニ
ウム塩。
ドニウム塩又は下記一般式(IV)で表されるスルホニ
ウム塩。
【0027】
【化7】
【0028】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及びR
5 は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又は
アリール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリー
ル基、炭素数1〜8のアルキル基又はそれらの置換誘導
体である。好ましい置換基は、アリール基に対しては炭
素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキル
基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基又はハロ
ゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素1〜8のア
ルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
である。
くは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及びR
5 は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又は
アリール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリー
ル基、炭素数1〜8のアルキル基又はそれらの置換誘導
体である。好ましい置換基は、アリール基に対しては炭
素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキル
基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基又はハロ
ゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素1〜8のア
ルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
である。
【0029】Z- は対アニオンを示し、例えば BF4−、
AsF6−、 PF6 − 、 SbF6 − 、 SiF6− 、 ClO4 − 、 CF3S
O−、 BPh4−(Ph=フェニル)、ナフタレン−1−スル
ホン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸アニオン等
の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、スルホン酸基含
有染料等を挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
AsF6−、 PF6 − 、 SbF6 − 、 SiF6− 、 ClO4 − 、 CF3S
O−、 BPh4−(Ph=フェニル)、ナフタレン−1−スル
ホン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸アニオン等
の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、スルホン酸基含
有染料等を挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
【0030】また、R3 、R4 及びR5 のうちの2つ並
びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結合又は置換基を介
して結合してもよい。一般式(III)及び(IV)で
示される上記オニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Kn
apczyk et al, J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969) 、
A. L. Maycoket al, J. Org. Chem., 35, 2532 (197
0)、E. Goethas et al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73,
546, (1964)、H. M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 5
1, 3587(1929)、J. B. Crivello et al, J. Polym. Che
m. Ed., 18, 2677 (1980) 、米国特許第2,807,648号及
び同4,247,473号、特開昭53-101331号に記載の方法によ
り合成することができる。
びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結合又は置換基を介
して結合してもよい。一般式(III)及び(IV)で
示される上記オニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Kn
apczyk et al, J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969) 、
A. L. Maycoket al, J. Org. Chem., 35, 2532 (197
0)、E. Goethas et al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73,
546, (1964)、H. M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 5
1, 3587(1929)、J. B. Crivello et al, J. Polym. Che
m. Ed., 18, 2677 (1980) 、米国特許第2,807,648号及
び同4,247,473号、特開昭53-101331号に記載の方法によ
り合成することができる。
【0031】一般式(III)及び(IV) のオニウ
ム化合物の具体例としては、以下に示す化合物III−
1〜20及びIV−1〜34が挙げられるが、これに限
定されるものではない。
ム化合物の具体例としては、以下に示す化合物III−
1〜20及びIV−1〜34が挙げられるが、これに限
定されるものではない。
【0032】
【化8】
【0033】
【化9】
【0034】
【化10】
【0035】
【化11】
【0036】
【化12】
【0037】
【化13】
【0038】
【化14】
【0039】
【化15】
【0040】
【化16】
【0041】
【化17】
【0042】
【化18】
【0043】
【化19】
【0044】
【化20】
【0045】
【化21】
【0046】
【化22】
【0047】(3) 下記一般式(V)で表されるジスル
ホン誘導体又は下記一般式(VI)で表されるイミノス
ルホネート誘導体。 Ar3 −SO2 −SO2 −Ar4 (V)
ホン誘導体又は下記一般式(VI)で表されるイミノス
ルホネート誘導体。 Ar3 −SO2 −SO2 −Ar4 (V)
【0048】
【化23】
【0049】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換
もしくは未置換のアリール基を示す。R6 は置換もしく
は未置換のアルキル基又はアリール基を表す。A1 は置
換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基又は
アリーレン基を示す。一般式(V)及び(VI) で示さ
れる化合物の具体例としては、以下に示す化合物V−1
〜12及びVI−1〜12が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。
もしくは未置換のアリール基を示す。R6 は置換もしく
は未置換のアルキル基又はアリール基を表す。A1 は置
換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基又は
アリーレン基を示す。一般式(V)及び(VI) で示さ
れる化合物の具体例としては、以下に示す化合物V−1
〜12及びVI−1〜12が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。
【0050】
【化24】
【0051】
【化25】
【0052】
【化26】
【0053】
【化27】
【0054】
【化28】
【0055】
【化29】
【0056】
【化30】
【0057】
【化31】
【0058】これらの酸前駆体の添加量は感光層組成物
の全固形分を基準として0.001〜40重量%の範囲であ
り、好ましくは0.1〜20重量%の範囲である。酸前駆体
の添加量が少なすぎると感度が低下し、また多すぎても
感度は一定以上あがらずコストの面で不利である。
の全固形分を基準として0.001〜40重量%の範囲であ
り、好ましくは0.1〜20重量%の範囲である。酸前駆体
の添加量が少なすぎると感度が低下し、また多すぎても
感度は一定以上あがらずコストの面で不利である。
【0059】露光後直ちに可視画像を得るための焼出し
剤として、露光による熱によって酸を放出する化合物と
塩を形成しうる有機染料との組合せを挙げることができ
る。具体的には特開昭50−36209号公報、特開昭
53−8128号公報記載のo−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報記載のトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。画像の着色剤と
して前記の塩形成性有機染料以外の染料も用いることが
できる。塩形成性有機染料も含めて好適な染料としては
油溶性染料又は塩基性染料がある。具体的には、例えば
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS、
オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工業
(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。
剤として、露光による熱によって酸を放出する化合物と
塩を形成しうる有機染料との組合せを挙げることができ
る。具体的には特開昭50−36209号公報、特開昭
53−8128号公報記載のo−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報記載のトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。画像の着色剤と
して前記の塩形成性有機染料以外の染料も用いることが
できる。塩形成性有機染料も含めて好適な染料としては
油溶性染料又は塩基性染料がある。具体的には、例えば
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS、
オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工業
(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。
【0060】これらの染料は、感光層組成物の全固形分
に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量
%の割合で感光層組成物中に添加することができる。
なお本発明の赤外線吸収剤により十分な濃度の可視画像
が得られる場合、このような染料を添加する必要はな
い。
に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量
%の割合で感光層組成物中に添加することができる。
なお本発明の赤外線吸収剤により十分な濃度の可視画像
が得られる場合、このような染料を添加する必要はな
い。
【0061】また本発明の感光層組成物には必要に応じ
て塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例えば
エチルセルロース、メチルセルロース)、シリコーン系
界面活性剤、フッ素系界面活性剤やフッ素系表面配向
剤、膜の柔軟性や耐摩耗性を付与するための可塑剤(例
えばトリクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、
リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル、クエン酸トリ
ブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等)及び追加の増感剤などを添加することができ
る。更にシリコーンゴム層との接着性を強化するためシ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤等を添加し
ても良い。添加量はその使用目的によって異なるが、一
般には感光層組成物の全固形分に対して0.3〜30重量%
である。
て塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例えば
エチルセルロース、メチルセルロース)、シリコーン系
界面活性剤、フッ素系界面活性剤やフッ素系表面配向
剤、膜の柔軟性や耐摩耗性を付与するための可塑剤(例
えばトリクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、
リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル、クエン酸トリ
ブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等)及び追加の増感剤などを添加することができ
る。更にシリコーンゴム層との接着性を強化するためシ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤等を添加し
ても良い。添加量はその使用目的によって異なるが、一
般には感光層組成物の全固形分に対して0.3〜30重量%
である。
【0062】本発明の感光層組成物は上記各成分を溶解
する溶剤に溶解し塗布に用いられる。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール
モノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、
1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエ
タン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチ
ルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、酢酸
エチル、ジオキサンなどがあり、これらの溶媒を単独あ
るいは混合して使用する。
する溶剤に溶解し塗布に用いられる。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール
モノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、
1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエ
タン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチ
ルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、酢酸
エチル、ジオキサンなどがあり、これらの溶媒を単独あ
るいは混合して使用する。
【0063】溶媒中の上記成分(添加物を含む全固形
分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%である。また
塗布量は一般的に固形分として好ましくは0.2〜5.0g/
m2でありが、より好ましくは0.3〜3.0g/m2である。
分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%である。また
塗布量は一般的に固形分として好ましくは0.2〜5.0g/
m2でありが、より好ましくは0.3〜3.0g/m2である。
【0064】上記の塗布用溶液は公知の塗布技術を用い
て支持体上に塗布される。塗布技術の例としては、回転
塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エアー
ナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法、カーテ
ン塗布法及びスプレー塗布法等を挙げることができる。
て支持体上に塗布される。塗布技術の例としては、回転
塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エアー
ナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法、カーテ
ン塗布法及びスプレー塗布法等を挙げることができる。
【0065】本発明で用いられる支持体は、通常の印刷
機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかかる荷重
とに耐えるものでなければならない。従って代表的な支
持体としては、コート紙、アルミニウムのような金属
板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチック
フィルム、ゴム、あるいはそれらを複合させたものを挙
げることができ、より好ましくはアルミニウムおよびア
ルミニウム含有(例えばケイ素、銅、マンガン、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの
金属とアルミニウムとの合金)合金である。
機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかかる荷重
とに耐えるものでなければならない。従って代表的な支
持体としては、コート紙、アルミニウムのような金属
板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチック
フィルム、ゴム、あるいはそれらを複合させたものを挙
げることができ、より好ましくはアルミニウムおよびア
ルミニウム含有(例えばケイ素、銅、マンガン、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの
金属とアルミニウムとの合金)合金である。
【0066】本発明においては、支持体と感光層との間
にプライマー層を設けても良い。本発明に用いられるプ
ライマー層としては、基板と感光層間の接着性向上、ハ
レーション防止、画像の染色や印刷特性向上のために種
々のものを使用することができる。例えば特開昭60−
22903号公報に開示されているような種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開昭62−50760号公報に開示されている
エポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−13
3151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せしめ
たもの、さらに特開平3−200965号公報に開示さ
れているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いた
ものや特開平3−273248号公報に開示されている
ウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。
この他ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有効
である。更にプライマー層を柔軟化させる目的で、前記
のプライマー層中にガラス転移温度が室温以下であるポ
リウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、
カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ブタジエンゴム、カルボン酸変性アクリロニト
リル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレート
ゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン等のポリマーを添加しても良い。その添加割
合は任意でありフィルム層を形成できる範囲であれば添
加剤だけでプライマー層を形成しても良い。またこれら
のプライマー層には前記の目的に沿って染料、pH指示
薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着助剤(例えば重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング
剤)、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉末等の添加剤を
含有させることもできる。また塗布後、露光によって硬
化させることもできる。一般にプライマー層の塗布量は
0.1〜20g/m2 の範囲が適当であり、好ましくは
1〜10g/m2 であり、より好ましくは1〜5g/m
2 である。
にプライマー層を設けても良い。本発明に用いられるプ
ライマー層としては、基板と感光層間の接着性向上、ハ
レーション防止、画像の染色や印刷特性向上のために種
々のものを使用することができる。例えば特開昭60−
22903号公報に開示されているような種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開昭62−50760号公報に開示されている
エポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−13
3151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せしめ
たもの、さらに特開平3−200965号公報に開示さ
れているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いた
ものや特開平3−273248号公報に開示されている
ウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。
この他ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有効
である。更にプライマー層を柔軟化させる目的で、前記
のプライマー層中にガラス転移温度が室温以下であるポ
リウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、
カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ブタジエンゴム、カルボン酸変性アクリロニト
リル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレート
ゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン等のポリマーを添加しても良い。その添加割
合は任意でありフィルム層を形成できる範囲であれば添
加剤だけでプライマー層を形成しても良い。またこれら
のプライマー層には前記の目的に沿って染料、pH指示
薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着助剤(例えば重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング
剤)、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉末等の添加剤を
含有させることもできる。また塗布後、露光によって硬
化させることもできる。一般にプライマー層の塗布量は
0.1〜20g/m2 の範囲が適当であり、好ましくは
1〜10g/m2 であり、より好ましくは1〜5g/m
2 である。
【0067】本発明において用いられる架橋を行ったシ
リコーンゴム層は、下記組成物A、またはBを硬化して
形成した皮膜である。
リコーンゴム層は、下記組成物A、またはBを硬化して
形成した皮膜である。
【0068】 組成物A ジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000〜40,000) 100重量部 縮合型架橋剤 3〜70重量部 触媒 0.01〜40重量部 前記成分のジオルガノポリシロキサンは、下記一般式
で示されるような繰り返し単位を有するポリマーで、R
7 およびR8 は炭素数1〜10のアルキル基、ビニル
基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を有
していても良い。一般的には、R7 およびR8 の60%
以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロゲ
ン化フェニル基などであるものが好ましい。
で示されるような繰り返し単位を有するポリマーで、R
7 およびR8 は炭素数1〜10のアルキル基、ビニル
基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を有
していても良い。一般的には、R7 およびR8 の60%
以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロゲ
ン化フェニル基などであるものが好ましい。
【0069】
【化32】
【0070】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。また
前記成分f、数平均分子量が3,000〜40,000であり、
より好ましくは5,000〜36,000である。また成分は縮
合型のものであればいずれであっても良いが、次の一般
式で示されるようなものが好ましい。
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。また
前記成分f、数平均分子量が3,000〜40,000であり、
より好ましくは5,000〜36,000である。また成分は縮
合型のものであればいずれであっても良いが、次の一般
式で示されるようなものが好ましい。
【0071】R7 m ・Si・Xn (m+n=4,
nは2以上) ここでR7 は先に説明したR7 と同じ意味であり、Xは
次に示すような置換基である。 ・Cl,Br,Iなどのハロゲン ・HまたはOH,OCOR9 ,OR9 ,−O−N=CR
10R11,−NR10R11などの有機置換基。
nは2以上) ここでR7 は先に説明したR7 と同じ意味であり、Xは
次に示すような置換基である。 ・Cl,Br,Iなどのハロゲン ・HまたはOH,OCOR9 ,OR9 ,−O−N=CR
10R11,−NR10R11などの有機置換基。
【0072】ここでR9 は炭素数1〜10のアルキル基
および炭素数6〜20のアリール基、R10、R11は炭素
数1〜10のアルキル基を示す。成分は錫、亜鉛、
鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例
えばラウリン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛
など、あるいは塩化白金酸のような公知の触媒があげら
れる。
および炭素数6〜20のアリール基、R10、R11は炭素
数1〜10のアルキル基を示す。成分は錫、亜鉛、
鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例
えばラウリン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛
など、あるいは塩化白金酸のような公知の触媒があげら
れる。
【0073】 組成物B 付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000 〜100,000) 100重量部 オルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜10重量部 付加触媒 0.00001〜1重量部
【0074】上記の付加反応性官能基を有するジオル
ガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原子に直接
結合したアルケニル基(より好ましくはビニル基)を少
なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(数平均分
子量が3,000〜40,000)で、アルケニル基は分子鎖末
端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外の有
機基としては、置換もしくは非置換の炭素数1〜10の
アルキル基、アリール基である。また成分には水酸基
を微量有することも任意である。成分は数平均分子量
が3,000〜40,000であり、より好ましくは5,000〜36,000
である。
ガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原子に直接
結合したアルケニル基(より好ましくはビニル基)を少
なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(数平均分
子量が3,000〜40,000)で、アルケニル基は分子鎖末
端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外の有
機基としては、置換もしくは非置換の炭素数1〜10の
アルキル基、アリール基である。また成分には水酸基
を微量有することも任意である。成分は数平均分子量
が3,000〜40,000であり、より好ましくは5,000〜36,000
である。
【0075】成分としては、両末端水酸基のポリジメ
チルシロキサン、α,ω−ジメチルポリシロキサン、両
末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチルシロキ
サン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチルシロキ
サン)共重合体などが例示される。
チルシロキサン、α,ω−ジメチルポリシロキサン、両
末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチルシロキ
サン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチルシロキ
サン)共重合体などが例示される。
【0076】成分としては、公知のものの中から任意
に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白金単
体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金などが
例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目的
で、テトラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビ
ニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重
結合含有のアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルなどの架橋抑制剤を添加することも可
能である。
に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白金単
体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金などが
例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目的
で、テトラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビ
ニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重
結合含有のアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルなどの架橋抑制剤を添加することも可
能である。
【0077】なおシリコーンゴム層には必要に応じてシ
リカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の粉末、
前記のシランカップリング剤、チタネートカップリング
剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や光重
合開始剤を添加しても良い。本発明におけるシリコーン
ゴム層は印刷インキ反撥層となるものであり、厚さが小
さいとインキ反撥性の低下、傷が入りやすい等の問題が
あり、厚さが大きい場合現像性が悪くなるという点か
ら、厚みとしては0.5〜5g/m2 が好適であり、好
ましくは1〜3g/m2 である。
リカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の粉末、
前記のシランカップリング剤、チタネートカップリング
剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や光重
合開始剤を添加しても良い。本発明におけるシリコーン
ゴム層は印刷インキ反撥層となるものであり、厚さが小
さいとインキ反撥性の低下、傷が入りやすい等の問題が
あり、厚さが大きい場合現像性が悪くなるという点か
ら、厚みとしては0.5〜5g/m2 が好適であり、好
ましくは1〜3g/m2 である。
【0078】ここに説明した湿し水不要感光性平版印刷
版において、シリコーンゴム層の上に更に種々のシリコ
ーンゴム層を塗工しても良い。また、感光層とシリコー
ンゴム層との間の接着力を上げる目的で、感光層もしく
はシリコーンゴム層にシラン系もしくはチタネート系の
カップリング剤を添加するか、または感光層とシリコー
ンゴム層との間に上記カップリング剤を含有する中間層
を設けて感光層とシリコーンゴム層との接着を促進させ
ることが好ましい。
版において、シリコーンゴム層の上に更に種々のシリコ
ーンゴム層を塗工しても良い。また、感光層とシリコー
ンゴム層との間の接着力を上げる目的で、感光層もしく
はシリコーンゴム層にシラン系もしくはチタネート系の
カップリング剤を添加するか、または感光層とシリコー
ンゴム層との間に上記カップリング剤を含有する中間層
を設けて感光層とシリコーンゴム層との接着を促進させ
ることが好ましい。
【0079】本発明に用いられるシランカップリング剤
としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシランなどのビニルシラ
ン類、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどのエ
ポキシシラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β
(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランなどのアミノシラン類、γ−メタ
クリロキシプロピルメトキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルメチルジエトキシシランなどの(メタ)アク
リロイルシラン類などがあげられる。
としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシランなどのビニルシラ
ン類、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどのエ
ポキシシラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β
(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランなどのアミノシラン類、γ−メタ
クリロキシプロピルメトキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルメチルジエトキシシランなどの(メタ)アク
リロイルシラン類などがあげられる。
【0080】本発明に用いられるチタネートカップリン
グ剤としては、テトラ−i−プロピルチタネート、テト
ラ−n−ブチルチタネート、テトラステアリルチタネー
トなどのアルキルチタネート、ジ−i−プロポキシ・ビ
ス(アセチルアセトナト)チタン、ジ−n−ブトキシ・
ビス(アセトナト)チタン、ジ−n−ブトキシ・ビス
(トリエタノールアミナト)チタン、ジヒドロキシ・ビ
ス(ラクタト)チタン、テトラキス(2−エチルヘキサ
ンジオライト)チタンなどのチタニウムキレート、トリ
−n−ブトキシチタンモノステアレート、チタニウムテ
トラベンゾエートなどのチタニウムアシレート、もしく
はこれらの会合体及び重合体も含まれる。更にi−プロ
ピルトリ(ジオクチルフォスフェート)チタネート、ビ
ス(ジオクチルフォスフエート)エチレンチタネート、
i−プロピルトリス(ジオクチルパイロフォスフェー
ト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェー
ト)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパ
イロフォスフェート)エチレンチタネートなどのリンを
含むチタネートも使用することができる。
グ剤としては、テトラ−i−プロピルチタネート、テト
ラ−n−ブチルチタネート、テトラステアリルチタネー
トなどのアルキルチタネート、ジ−i−プロポキシ・ビ
ス(アセチルアセトナト)チタン、ジ−n−ブトキシ・
ビス(アセトナト)チタン、ジ−n−ブトキシ・ビス
(トリエタノールアミナト)チタン、ジヒドロキシ・ビ
ス(ラクタト)チタン、テトラキス(2−エチルヘキサ
ンジオライト)チタンなどのチタニウムキレート、トリ
−n−ブトキシチタンモノステアレート、チタニウムテ
トラベンゾエートなどのチタニウムアシレート、もしく
はこれらの会合体及び重合体も含まれる。更にi−プロ
ピルトリ(ジオクチルフォスフェート)チタネート、ビ
ス(ジオクチルフォスフエート)エチレンチタネート、
i−プロピルトリス(ジオクチルパイロフォスフェー
ト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェー
ト)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパ
イロフォスフェート)エチレンチタネートなどのリンを
含むチタネートも使用することができる。
【0081】更にシリコーンゴム層の表面保護のため
に、シリコーンゴム層上に透明なフィルム、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレ
フタレート、セロファン等をラミネートしたりポリマー
のコーティングを施しても良い。これらのフィルムは延
伸して用いても良い。またこれらのフィルムにはマット
を施しても良い。
に、シリコーンゴム層上に透明なフィルム、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレ
フタレート、セロファン等をラミネートしたりポリマー
のコーティングを施しても良い。これらのフィルムは延
伸して用いても良い。またこれらのフィルムにはマット
を施しても良い。
【0082】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版は通
常、像露光、現像工程を施される。本発明の印刷版に用
いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域
に発光波長を持つ光源が好ましく、例えば固体レーザ、
半導体レーザが特に好ましい。ただし、使用される酸前
駆体の種類によっては、水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯の紫外線の他、電子線、X線、イオンビーム、遠紫外
線などでも画像形成は可能である。フォトレジスト用の
光源に使われるg線、i線、Deep−UV光も使用する事
ができ、また高密度エネルギービーム(レーザービーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・
ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオン
レーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキ
シマレーザーなどが挙げられる。
常、像露光、現像工程を施される。本発明の印刷版に用
いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域
に発光波長を持つ光源が好ましく、例えば固体レーザ、
半導体レーザが特に好ましい。ただし、使用される酸前
駆体の種類によっては、水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯の紫外線の他、電子線、X線、イオンビーム、遠紫外
線などでも画像形成は可能である。フォトレジスト用の
光源に使われるg線、i線、Deep−UV光も使用する事
ができ、また高密度エネルギービーム(レーザービーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・
ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオン
レーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキ
シマレーザーなどが挙げられる。
【0083】本発明においてポジ型の湿し水不要平版印
刷版を作成する場合には露光した後、酸前駆体から発生
した酸による不溶化反応を促進するため加熱が施され
る。この加熱工程は80〜150℃の温度範囲で、5秒
〜20分の範囲で行われることが好ましい。
刷版を作成する場合には露光した後、酸前駆体から発生
した酸による不溶化反応を促進するため加熱が施され
る。この加熱工程は80〜150℃の温度範囲で、5秒
〜20分の範囲で行われることが好ましい。
【0084】露光及び必要に応じて加熱工程を経た湿し
水不要感光性平版印刷版は、画像部の感光層の一部ある
いは全部を溶解あるいは膨潤しうる現像液、あるいはシ
リコーンゴム層を膨潤しうる現像液で現像される。この
場合画像部の感光層およびその上のシリコーンゴム層が
除去される場合と画像部のシリコーンゴム層のみが除去
される場合があり、これは現像液の強さによって制御す
ることができる。
水不要感光性平版印刷版は、画像部の感光層の一部ある
いは全部を溶解あるいは膨潤しうる現像液、あるいはシ
リコーンゴム層を膨潤しうる現像液で現像される。この
場合画像部の感光層およびその上のシリコーンゴム層が
除去される場合と画像部のシリコーンゴム層のみが除去
される場合があり、これは現像液の強さによって制御す
ることができる。
【0085】本発明の感光層組成物の現像に用いる現像
液としては、湿し水不要感光性平版印刷板の現像液とし
て公知のものが使用できる。例えば、脂肪族炭化水素類
(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、H、G”(エ
ッソ化学┷製脂肪族炭化水素類の商標名)あるいはガソ
リン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシ
レンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素(トリクレン
など)に下記の極性溶媒を添加したものや極性溶媒その
ものが好適である。 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、カルビトールモノメチルエーテル、カルビ
トールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、カルビトールアセテート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレシジル
フォスフェート) また上記有機溶剤系現像液に水を添加したり、上記溶剤
を界面活性剤を用いて水に可溶化したものや、更にその
上にアルカリ剤、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ
珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水など
のような無機アルカリ剤や、テトラアルキルアンモニウ
ムハイドライド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミンなどのような有機アルカ
リ剤を添加することができる。
液としては、湿し水不要感光性平版印刷板の現像液とし
て公知のものが使用できる。例えば、脂肪族炭化水素類
(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、H、G”(エ
ッソ化学┷製脂肪族炭化水素類の商標名)あるいはガソ
リン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシ
レンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素(トリクレン
など)に下記の極性溶媒を添加したものや極性溶媒その
ものが好適である。 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、カルビトールモノメチルエーテル、カルビ
トールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、カルビトールアセテート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレシジル
フォスフェート) また上記有機溶剤系現像液に水を添加したり、上記溶剤
を界面活性剤を用いて水に可溶化したものや、更にその
上にアルカリ剤、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ
珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水など
のような無機アルカリ剤や、テトラアルキルアンモニウ
ムハイドライド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミンなどのような有機アルカ
リ剤を添加することができる。
【0086】また場合によっては単に水道水やアルカリ
水を現像液として使用することができ、必要に応じて界
面活性剤や上記のような有機溶媒を加えることもでき
る。またクリスタルバイオレット、アストラゾンレッド
などの染料を現像液に加えて現像と、画像部の染色を同
時に行うことも可能である。現像は、例えば上記のよう
な現像液を含む現像用パッドで版面をこすったり、現像
液を版面に注いだ後に水中で現像ブラシでこするなど、
公知の方法で行うことができる。現像液温は任意の温度
で現像できるが好ましくは10℃〜50℃である。
水を現像液として使用することができ、必要に応じて界
面活性剤や上記のような有機溶媒を加えることもでき
る。またクリスタルバイオレット、アストラゾンレッド
などの染料を現像液に加えて現像と、画像部の染色を同
時に行うことも可能である。現像は、例えば上記のよう
な現像液を含む現像用パッドで版面をこすったり、現像
液を版面に注いだ後に水中で現像ブラシでこするなど、
公知の方法で行うことができる。現像液温は任意の温度
で現像できるが好ましくは10℃〜50℃である。
【0087】このようにして得られた刷版は、その画像
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には現像後に染色液で染色さ
れる。染色液を軟らかいパッドにしみこませ、画像部を
軽くこすることにより、画像部のみが染色され、これに
よりハイライト部まで現像が十分に行われていることを
確認できる。染色液としては水溶性の分散染料、酸性染
料および塩基性染料のうちから選ばれる1種または2種
以上を水、アルコール類、ケトン類、エーテル類などの
単独または2種以上の混合液に溶解または分散せしめた
ものが用いられる。染色性を向上させるためにカルボン
酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤、消泡剤などを
加えることも効果的である。
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には現像後に染色液で染色さ
れる。染色液を軟らかいパッドにしみこませ、画像部を
軽くこすることにより、画像部のみが染色され、これに
よりハイライト部まで現像が十分に行われていることを
確認できる。染色液としては水溶性の分散染料、酸性染
料および塩基性染料のうちから選ばれる1種または2種
以上を水、アルコール類、ケトン類、エーテル類などの
単独または2種以上の混合液に溶解または分散せしめた
ものが用いられる。染色性を向上させるためにカルボン
酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤、消泡剤などを
加えることも効果的である。
【0088】染色液により染色された刷版は、ついで水
洗し、その後乾燥する事が望ましく、これにより版面の
べとつきを抑えることができ、刷版の取り扱い性を向上
させることができる。またこのように処理された刷版を
積み重ねて保管する場合には版面を保護するために合紙
を挿入し挟んでおくことが好ましい。
洗し、その後乾燥する事が望ましく、これにより版面の
べとつきを抑えることができ、刷版の取り扱い性を向上
させることができる。またこのように処理された刷版を
積み重ねて保管する場合には版面を保護するために合紙
を挿入し挟んでおくことが好ましい。
【0089】以上のような現像処理と染色処理、またそ
れに続く水洗乾燥処理は自動処理機で行うことが好まし
い。このような自動処理機の好ましいものは特開平2−
220061号公報に記載されている。
れに続く水洗乾燥処理は自動処理機で行うことが好まし
い。このような自動処理機の好ましいものは特開平2−
220061号公報に記載されている。
【0090】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【0091】実施例1〜5 〔ポジ型湿し水不要感光性平版印刷版の作成〕 (基板の作成)厚さ0.24mmの2Sアルミニウム板を8
0℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分
間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、
アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングして、硫
酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行っ
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A
/dm2 において2分間陽極酸化を行った。
0℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分
間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、
アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングして、硫
酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行っ
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A
/dm2 において2分間陽極酸化を行った。
【0092】上記支持体上に、下記組成の塗布液を乾燥
膜厚1μmとなるように塗布し、加熱(100℃、1
分)、乾燥してプライマー層を形成した。 ・サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製ポリウレタン) 10重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの 縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 0.1重量部 ・ディフェンサーMCF323 (大日本インキ化学工業(株)製、界面活性剤) 0.03重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50重量部 ・乳酸メチル 20重量部 ・純水 1重量部
膜厚1μmとなるように塗布し、加熱(100℃、1
分)、乾燥してプライマー層を形成した。 ・サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製ポリウレタン) 10重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの 縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 0.1重量部 ・ディフェンサーMCF323 (大日本インキ化学工業(株)製、界面活性剤) 0.03重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50重量部 ・乳酸メチル 20重量部 ・純水 1重量部
【0093】その後、ネアーク社製 FT261V UDNS ULTRA
-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER 真空露光機を用いて、20
カウント露光した。
-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER 真空露光機を用いて、20
カウント露光した。
【0094】(カーボンブラック分散液の作成)下記重
量比による組成物をガラスビーズにより30分間分散
し、濾過によりガラスビーズを除き、カーボンブラック
分散液を得た。 ・カーボンブラック 1重量部 ・m−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.6重量部 ・シクロヘキサノン 1.6重量部 ・メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
量比による組成物をガラスビーズにより30分間分散
し、濾過によりガラスビーズを除き、カーボンブラック
分散液を得た。 ・カーボンブラック 1重量部 ・m−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.6重量部 ・シクロヘキサノン 1.6重量部 ・メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
【0095】(感光層)上記アルミ板上に、下記組成の
感光液を塗布し、90℃で1分間乾燥した。乾燥後の重
量は2g/m2 であった。 ・前記のカーボンブラック分散液 10重量部 ・ビスフェノールAホルムアルデヒドレゾール樹脂 5重量部 ・m−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 5重量部 ・表−1の酸前駆体 10重量部 ・ディフェンサーMCF323 (大日本インキ化学工業(株)製、界面活性剤) 0.1重量部 ・メチルエチルケトン 50重量部
感光液を塗布し、90℃で1分間乾燥した。乾燥後の重
量は2g/m2 であった。 ・前記のカーボンブラック分散液 10重量部 ・ビスフェノールAホルムアルデヒドレゾール樹脂 5重量部 ・m−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 5重量部 ・表−1の酸前駆体 10重量部 ・ディフェンサーMCF323 (大日本インキ化学工業(株)製、界面活性剤) 0.1重量部 ・メチルエチルケトン 50重量部
【0096】(シリコーンゴム層)上記感光層上に、下
記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になる
よう塗布し、100℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度 約700)9重量部 ・(CH 3 ) 3 -Si-O-(SiH(CH 3 )-O)8 -Si(CH3 ) 3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度 約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.08重量部 ・抑制剤(CH≡C-Si(CH3 ) 2 OSi(CH3 ) 3 ) 0.3重量部 ・γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 140重量部
記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になる
よう塗布し、100℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度 約700)9重量部 ・(CH 3 ) 3 -Si-O-(SiH(CH 3 )-O)8 -Si(CH3 ) 3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度 約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.08重量部 ・抑制剤(CH≡C-Si(CH3 ) 2 OSi(CH3 ) 3 ) 0.3重量部 ・γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 140重量部
【0097】上記のようにして得られたシリコーンゴム
層の表面に、厚さ8μmの二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムをラミネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得
た。得られた印刷版を、版面出力2Wに調節したYAG
レーザで露光した後、ラミネートされたフィルムを剥離
し、オーブン中、100℃、3分の条件で加熱した。加
熱済みの印刷版をトリプロピレングリコールの40℃の
液に印刷版を1分間浸漬した後に、水中で現像パッドに
より版面をこすったところ、いずれの実施例の印刷版に
おいても露光部ではシリコーンゴムが残存し、未露光部
では感光層が露出したポジ型の湿し水不要平版印刷版を
得た。
層の表面に、厚さ8μmの二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムをラミネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得
た。得られた印刷版を、版面出力2Wに調節したYAG
レーザで露光した後、ラミネートされたフィルムを剥離
し、オーブン中、100℃、3分の条件で加熱した。加
熱済みの印刷版をトリプロピレングリコールの40℃の
液に印刷版を1分間浸漬した後に、水中で現像パッドに
より版面をこすったところ、いずれの実施例の印刷版に
おいても露光部ではシリコーンゴムが残存し、未露光部
では感光層が露出したポジ型の湿し水不要平版印刷版を
得た。
【0098】
【表1】
【0099】実施例6 実施例1で用いたカーボンブラック分散液の代わりに下
記染料を用い、実施例1と同様の操作により感光性平版
印刷版を得た。
記染料を用い、実施例1と同様の操作により感光性平版
印刷版を得た。
【0100】 染料:2,6-ジ-t−ブチル-4−{5-(2,6−ジ-t−ブチル-4H-チオピラン-4−イリデ ン)−ペンタ-1,3−ジエニル}チオピリリウムテトラフルオロボレート (米国特許第4,283,475号記載の化合物) 0.02重量部
【0101】得られた感光性平版印刷版を半導体レーザ
(波長825nm、スポット径:1/e2 =11.9μm)を用い線速
度8m/sec,版面出力110mWで露光した。実施例1と同様の
現像処理を行ったところポジ型の湿し水不要平版印刷版
を得た。
(波長825nm、スポット径:1/e2 =11.9μm)を用い線速
度8m/sec,版面出力110mWで露光した。実施例1と同様の
現像処理を行ったところポジ型の湿し水不要平版印刷版
を得た。
【0102】比較例1 実施例6の感光液組成中の染料の代わりに油溶性染料
(ビクトリアピュアブル−BOH)0.02重量部を用
いた以外は実施例6と同様にして、印刷版を作成した。
この印刷版を実施例6と同様に露光、現像処理したとこ
ろシリコーンゴム層が全面で剥離し、画像が得られなか
った。
(ビクトリアピュアブル−BOH)0.02重量部を用
いた以外は実施例6と同様にして、印刷版を作成した。
この印刷版を実施例6と同様に露光、現像処理したとこ
ろシリコーンゴム層が全面で剥離し、画像が得られなか
った。
【0103】実施例7 実施例1で用いたシリコーンゴム層の代わりに、下記組
成よりなるシリコーンゴム液を乾燥重量2g/m2 とな
るように実施例1の感光層上に塗布し、90℃、2分間
乾燥させ、カバーフィルムを設けて水無し平版印刷版を
得た。
成よりなるシリコーンゴム液を乾燥重量2g/m2 とな
るように実施例1の感光層上に塗布し、90℃、2分間
乾燥させ、カバーフィルムを設けて水無し平版印刷版を
得た。
【0104】 ・両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700)9重量部 ・メチルトリアセトキシシラン 0.3重量部 ・トリメトキシシリルプロピル−3,5−ジアリルイソシアヌレート 0.3重量部 ・ジブチル錫ジオクタノエート 0.1重量部 ・γ−アミノプロピルトリメトキシシラン 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 160重量部
【0105】この印刷版を実施例1と同様に露光、現像
処理を行ったところポジ型の湿し水不要平版印刷版を得
た。
処理を行ったところポジ型の湿し水不要平版印刷版を得
た。
【0106】実施例8 〔ネガ型湿し水不要感光性平版印刷版の作成〕実施例1
で用いたプライマー層上に、実施例6で用いた感光層の
塗布液の色素を下記構造式の化合物に替えて、120
℃、2分の乾燥条件で塗布乾燥し、塗布重量2g/m2
の感光層を得た。
で用いたプライマー層上に、実施例6で用いた感光層の
塗布液の色素を下記構造式の化合物に替えて、120
℃、2分の乾燥条件で塗布乾燥し、塗布重量2g/m2
の感光層を得た。
【0107】
【化33】
【0108】その上に、実施例1で用いたシリコーンゴ
ム層を塗布液を140℃、2分の乾燥条件で塗布乾燥
し、塗布重量2g/m2 のシリコーンゴム層を得た。上
記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に、厚
さ6μmのポリエチレンテレフタレートフィルムをラミ
ネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得た。
ム層を塗布液を140℃、2分の乾燥条件で塗布乾燥
し、塗布重量2g/m2 のシリコーンゴム層を得た。上
記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に、厚
さ6μmのポリエチレンテレフタレートフィルムをラミ
ネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得た。
【0109】得られた印刷版を、版面出力2Wに調節し
たYAGレーザで露光した後、ラミネートされたフィル
ムを剥離し、トリプロピレングリコールの40℃の液に
印刷版を1分間浸漬した後、水中で現像パッドにより版
面をこすったところ、未露光部ではシリコーンゴムが残
存し、露光部では感光層が露出したネガ型湿し水不要平
版印刷版を得た。
たYAGレーザで露光した後、ラミネートされたフィル
ムを剥離し、トリプロピレングリコールの40℃の液に
印刷版を1分間浸漬した後、水中で現像パッドにより版
面をこすったところ、未露光部ではシリコーンゴムが残
存し、露光部では感光層が露出したネガ型湿し水不要平
版印刷版を得た。
【0110】比較例2 実施例8の感光液組成中染料の代わりに油溶性染料(ビ
クトリアピュアブル−BOH)0.02重量部を用いた
以外は実施例8と同様にして、印刷版を作成した。この
印刷版を実施例8と同様に露光、現像処理したところシ
リコーンゴム層が全面で剥離せず画像が得られなかっ
た。
クトリアピュアブル−BOH)0.02重量部を用いた
以外は実施例8と同様にして、印刷版を作成した。この
印刷版を実施例8と同様に露光、現像処理したところシ
リコーンゴム層が全面で剥離せず画像が得られなかっ
た。
【0111】
【発明の効果】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版に
より、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半
導体レーザを用いてコンピュータ等のデジタル信号から
直接製版可能であり、更にポジ型またはネガ型の両方に
使用可能な直接製版用湿し水不要平版印刷版を得ること
ができる。
より、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半
導体レーザを用いてコンピュータ等のデジタル信号から
直接製版可能であり、更にポジ型またはネガ型の両方に
使用可能な直接製版用湿し水不要平版印刷版を得ること
ができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体上に、感光層、シリコーンゴム層
をこの順に積層してなり、該感光層が少なくとも (a)レゾール樹脂 (b) ノボラック樹脂 (c) 赤外線吸収剤 (d) 熱で酸を発生させる化合物 を含有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷
版。 【0001】
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7277889A JPH09120157A (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| US08/736,499 US5786125A (en) | 1995-10-25 | 1996-10-24 | Light-sensitive lithographic printing plate requiring no fountain solution |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7277889A JPH09120157A (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09120157A true JPH09120157A (ja) | 1997-05-06 |
Family
ID=17589705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7277889A Pending JPH09120157A (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5786125A (ja) |
| JP (1) | JPH09120157A (ja) |
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| JPH11160860A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型画像形成材料 |
| EP0914942A3 (en) * | 1997-11-07 | 1999-12-29 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates |
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| CZ292739B6 (cs) | 1996-04-23 | 2003-12-17 | Horsell Graphic Industries Limited | Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky |
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- 1996-10-24 US US08/736,499 patent/US5786125A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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