JPH09131976A

JPH09131976A - 直描型水なし平版印刷版原版

Info

Publication number: JPH09131976A
Application number: JP7289764A
Authority: JP
Inventors: Shunichi Yanagida; 俊一柳田; Norimasa Ikeda; 憲正池田
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1995-11-08
Filing date: 1995-11-08
Publication date: 1997-05-20
Also published as: DE69620867T2; DE69620867D1

Abstract

(57)【要約】【課題】地汚れ性および感度の向上した直描型水なし平
版印刷版原版を得る。【解決手段】基板、該基板上に設けたシリコーンゴム
層、および該シリコーンゴム層上に設けた、インキ受容
性感熱層からなる直描型水なし平版印刷版原版におい
て、インキ受容性感熱層が金属の薄膜であることを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水を用いずに印
刷が可能な、水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザ光で直接製版できる直描型水なし平版印
刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザプリンタなどの出力システムの急
激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が開
発されている。

【０００４】これらの平版印刷版を、製版方法から分類
すると、レーザ光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。

【０００５】なかでも、レーザ光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。

【０００６】このレーザ光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプ
に分けられる。

【０００７】フォトンモードタイプとしては（１）フォトポリマーを用いた高感度ＰＳ版（２）有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版（３）銀塩方式平版（４）銀塩複合方式平版（５）直描マスター等があり、ヒートモードタイプとしては（６）熱破壊方式平版が挙げられる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、（１）
の方式はレーザ光源に主としてアルゴンイオンレーザを
使用しているため装置が大型となり、また印刷版も高感
度のフォトポリマーを使用しているため、印刷版の取扱
いに注意が必要で、なおかつ保存安定性も低下しやすい
といった欠点がある。

【０００９】（２）の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後２〜５分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処理をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。

【００１０】（３）の銀塩方式は、さまざま波長のレー
ザに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液が出る
ことが問題となっており、また感度が高いために、取扱
いに注意を要するといった問題もある。

【００１１】（４）の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度ハロゲン化銀乳剤層を設けて上層のハロゲン化銀
乳剤層をアルゴンイオンレーザで露光、現像後それをマ
スクとしてさらに紫外線で露光、現像を行うものであ
る。しかし、この印刷版は露光、現像工程が２回あるた
め、印刷版の処理が複雑になるという問題がある。

【００１２】（５）の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザで書き込むわけではないが、レーザプリンタで形成
されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版上に転
写するものである。しかし、印刷版の解像度という面で
は、他の方式と比較して劣っている。

【００１３】以上のフォトンモードタイプに対して、
（６）の熱破壊方式は、明室で取り扱えるといった利点
があり、また光源となる半導体レーザの急激な進歩によ
って、最近その有用性が見直されてきている。

【００１４】例えば、特開平６―１９９０６４号、特開
平７―１６４７７３号、ＵＳＰ５３３９７３７号、ＵＳ
Ｐ５３５３７０５号、ＥＰ０５８０３９３号、特開平６
―５５７２３号、ＥＰ０５７３０９１号、ＵＳＰ５３７
８５８０号公報にはレーザ光を光源として用いる、直描
型水なし平版印刷版原版が記載されている。

【００１５】この熱破壊方式の印刷版原版のインキ受容
性感熱層は、レーザ光吸収化合物としてカーボンブラッ
クを用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用
している。そしてこのカーボンブラックがレーザ光を
吸収することによって熱エネルギーに変換され、さらに
その熱でインキ受容性感熱層が破壊される。

【００１６】そして最終的に、現像によってこの部分を
除去することによって、表面のシリコーンゴム層が同時
に剥離され、インキ着肉部となる。

【００１７】しかしながらこの印刷版は、レーザ光の吸
収率が十分ではないために、印刷版の感度が低いといっ
た問題があった。

【００１８】この原因として、使用しているカーボンブ
ラックの１次粒子径が適当でないことが挙げられる。す
なわち、上述の特許で使用されているカーボンブラック
の１次粒子径は、全て３０μｍ以上で、使用している半
導体レーザ（波長８００ｎｍ付近）の光を必ずしも効率
良く吸収しているとは言えない。これは、レーザ光の吸
収効率の１つの目安である、印刷版としての光学濃度が
上記の粒子径では、最大にならないということによるも
のである。すなわち、光学濃度は粒子径が２０μｍ前後
の時が最大となり、３０μｍよりも大きくなると黒色度
が低下してしまう。これは表面での光の反射が多くなっ
てしまうためである。

【００１９】また、粒子径が１５μｍよりも小さくなっ
ても、光学濃度は低下する。これは、粒子が小さくなる
とカーボンブラック自体が透明性を帯びやすくなること
と、粒子の分散性が低下することによるものである。

【００２０】また、上記特許のカーボンブラックは吸油
量が高い、すなわちハイストラクチャー構造を有してい
るために、粒子どうしが相互に凝集してしまい、インキ
受容性感熱層溶液の粘度が高くなって取扱が不便になっ
たり、塗膜が均一にならないといった問題点を有してい
た。

【００２１】また、特に特開平６―５５７２３号、ＥＰ
０５７３０９１号、ＵＳＰ５３７８５８０号では光源と
してＮｄ―ＹＡＧレーザを用いているために、露光装置
がかなり大がかりなものとなってしまうといった、別の
問題点を持っていた。

【００２２】さらに、ＵＳＰ５３７９６９８には、金属
薄膜をインキ受容性感熱層として用いる直描型水なし平
版印刷版が記載されている。

【００２３】これは、金属薄膜上にインキ反撥層である
シリコーンゴム層を形成したものであるが、使用してい
る金属が、チタン、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロ
ムといった、比較的融点の高い金属を使用しているため
に、印刷版の感度が低いといった問題があった。

【００２４】また、この印刷版材は、インキ受容性感熱
層がかなり薄いために、非常にシャープな画像が得ら
れ、印刷版の解像度という面では有利であるが、印刷時
に版表面の温度が上昇した場合、非画像部であるシリコ
ーンゴム層上にインキが付着し、結果的に印刷物が汚れ
る（地汚れする）といった問題を有していた。

【００２５】この原因として、シリコーンゴム層の膜厚
が薄いことが挙げられる。

【００２６】従って、この地汚れ性を向上させるために
は、シリコーンゴム層の膜厚を厚くする必要があるが、
膜厚を厚くすると、現像性が低下するといった問題が生
じる。

【００２７】また、画像部のセルの深さが深いため、イ
ンキを多く盛りすぎ、インキの消費量が多くなりやすい
といった問題もあった。

【００２８】この問題はシリコーンゴム上層型の水なし
平版印刷版に共通する問題であり、これを解決する方法
として、従来の水なし平版印刷版ではシリコーンゴム層
を感光層の下に設ける、いわゆるシリコーンゴム下層型
水なし平版印刷版が特公昭５６―１４９７６号に記載さ
れている。

【００２９】これは、直描型ではなく、通常の水なし平
版印刷版であるが、シリコーンゴム層上に感光層を積層
することは、シリコーンゴム層が多くの液体を反撥しや
すいために良好に塗布することは極めて難しい。

【００３０】また、良好に塗布できても、シリコーンゴ
ム層との接着性が悪いために、印刷時に表面層が剥がれ
やすく、耐刷性が悪くなるといった問題があった。

【００３１】これは、シリコーンゴム層と感光層との間
に化学結合が形成されにくいことによるものであった。

【００３２】本発明はかかる従来技術の欠点を改良する
ため、シリコーンゴム層をインキ受容性感熱層の下層に
設け、インキ受容性感熱層として融点の低い金属の薄膜
を使用し、さらに２層の間にシランカップリング剤の層
を設けることによって、シリコーンゴム層への接着性を
向上させ、結果的に地汚れ性、及び感度の向上した直描
型水なし平版印刷版原版を提供することを目的とする。

【００３３】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は下記の構成からなる。

【００３４】１．基板、該基板上に設けたシリコーンゴ
ム層、および該シリコーンゴム層上に設けた、インキ受
容性感熱層からなる直描型水なし平版印刷版原版におい
て、インキ受容性感熱層が金属の薄膜であることを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。

【００３５】２．前記１において、インキ受容性感熱層
が融点９３０（Ｋ）以下の金属の薄膜であることを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。

【００３６】３．前記１において金属がテルル、スズ、
アンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セ
レン、タリウム、亜鉛、ビスマスのいずれかであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。

【００３７】４．前記１において金属が、テルル、ス
ズ、アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのい
ずれか２種類の組み合わせからなる、アロイであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。

【００３８】５．前記１において金属が、テルル、ス
ズ、アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのい
ずれか３種類の組み合わせからなる、アロイであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。

【００３９】６．前記１においてインキ受容性感熱層の
膜厚が、５０〜１００００オングストロームであること
を特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。

【００４０】７．前記１においてインキ受容性感熱層の
光学濃度が０．６〜２．５であることを特徴とする直描
型水なし平版印刷版原版。

【００４１】８．前記１においてシリコーンゴム層とイ
ンキ受容性感熱層の間に、シランカップリング剤層を設
けたことを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版。

【００４２】９．前記１において基板とシリコーンゴム
層の間に、シランカップリング剤層を設けたことを特徴
とする、直描型水なし平版印刷版原版。

【００４３】１０．前記１においてシリコーンゴム層
が、シランカップリング剤を含有することを特徴とす
る、直描型水なし平版印刷版原版。

【００４４】１１．片側にシリコーンゴム層表面を有す
る基板と、片側にインキ受容性感熱層を有するフィルム
を、シリコーンゴム層面側とインキ受容性感熱層面側が
接するようにラミネートすることを特徴とする、直描型
水なし平版印刷版原版の製造方法。

【００４５】１２．前記１１においてフィルムの、イン
キ受容性感熱層上に、予めシランカップリング剤が塗布
されていることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版
原版の製造方法。

【００４６】１３．前記１〜１０のいずれかに記載の直
描型水なし平版印刷版原版を、選択的に露光、現像して
なる、水なし平版印刷版。

【００４７】

【発明の実施の形態】ここで、直描型とは、露光時にネ
ガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版上に直接
記録ヘッドから、画像形成を行うことをいう。

【００４８】また、ここでの光学濃度とはラッテンフィ
ルターＮｏ．１０６を用いて、マクベス反射濃度計
ＲＤ―５１４で測定を行った場合の数値をいう。

【００４９】次に、本発明に使用する直描型水なし平版
印刷版について説明する。

【００５０】本発明では、シリコーンゴム層上に金属の
インキ受容性感熱層を設けたことが特徴となっている。

【００５１】ここで使用されるインキ受容性感熱層は、
レーザ光を効率よく吸収して、その熱によって瞬間的に
一部または全部が蒸発、または融解することが好まし
い。

【００５２】まず、レーザ光を効率良く吸収するために
は、光源として用いられる半導体レーザの波長（８００
ｎｍ付近）に対する吸収率が重要となってくる。

【００５３】そして、この８００ｎｍ付近の光に対する
吸収率の指標として、印刷版の光学濃度を測定してい
る。すなわち、光学濃度が高いほどレーザ光を効率良く
吸収することができるのである。

【００５４】この、光学濃度は０．６〜２．５が好まし
く、より好ましくは０．８〜１．８である。光学濃度が
０．６よりも小さいと、レーザ光が効率良く吸収されな
いために印刷版の感度が低下しやすく、２．５よりも大
きくても膜厚が厚くなるために画像を形成するためのエ
ネルギーが余分に必要となり、感度が低下してしまう。

【００５５】このような金属材料としては、金属光沢
の、より小さい材料が好まれる。金属光沢が大きくなる
と、表面でのレーザ光の反射も大きくなるためである。

【００５６】このような金属として具体的には、テル
ル、スズ、アンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポロ
ニウム、セレン、タリウム、亜鉛、銅、インジウム、マ
ンガン、鉛、リン、ビスマス、コバルト、パラジウム、
ビスマスが好ましく使用されるが、より好ましくは、テ
ルル、スズ、アンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポ
ロニウム、セレン、タリウム、亜鉛、ビスマスである。

【００５７】また、瞬間的に一部または全部が蒸発、ま
たは融解する金属としては、融点が１５００（Ｋ）以下
であれば、どのようなものでも好ましく使用できるが、
より好ましくは９３０（Ｋ）以下である。融点が１５０
０（Ｋ）よりも大きいと、レーザ光を照射しても、蒸発
または融解するのに時間がかかるため、結果的に版材の
感度が低下してしまう。

【００５８】具体的には、融点が９３０（Ｋ）以下の金
属である、テルル、スズ、アンチモン、ガリウム、マグ
ネシウム、ポロニウム、セレン、タリウム、亜鉛、ビス
マスが好ましく使用されるが、より好ましくはテルル、
スズ、亜鉛である。これらの金属は、薄膜にレーザ光が
照射された時に、熱によって容易に蒸発、または融解す
るために特に好ましい。

【００５９】またこれらの金属は、２種類あるいは３種
類のアロイとすることによって、より融点が低下しやす
くなり、印刷版としての感度も向上するため、特に好ま
しい。

【００６０】そのようなアロイとする場合の組み合わせ
としては、請求項４や５に記載の、テルル、スズ、アン
チモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛からなる群より選ば
れる。

【００６１】具体的には、２種類の組み合わせのアロイ
としては、テルル／スズ、テルル／アンチモン、テルル
／ガリウム、テルル／ビスマス、テルル／亜鉛、スズ／
亜鉛、が好ましく、より好ましくはテルル／亜鉛、テル
ル／スズ、スズ／亜鉛、のアロイである。

【００６２】３種類のアロイとしては、テルル／スズ／
亜鉛、テルル／ガリウム／亜鉛、スズ／アンチモン／亜
鉛、スズ／ビスマス／亜鉛、が好ましく、より好ましく
はテルル／スズ／亜鉛、スズ／アンチモン／亜鉛、のア
ロイである。

【００６３】またこの時、薄膜の膜厚も版材の感度に大
きな影響を与える。すなわち、膜厚が厚すぎると、薄膜
を蒸発、融解させるために要するエネルギーが余分に必
要となるために、版材の感度が低下してしまうのであ
る。そのため、膜厚としては５０〜１００００オングス
トロームが好ましく、より好ましくは２００〜２０００
オングストロームである。

【００６４】このような薄膜の形成方法としては、真空
蒸着、スパッタリングのいずれかの方法で行うことが好
ましい。

【００６５】真空蒸着は、１０^-4〜１０^-7ｍｍＨｇの減
圧容器中で、金属と炭素を加熱蒸発させ、基板の表面に
薄膜を形成させるのが一般的である。

【００６６】スパッタリングは１０^-1〜１０^-3ｍｍＨｇ
の減圧容器中で１対の電極に直流あるいは交流電圧を加
え、グロー放電を起こさせ、陰極のスパッタリング現象
を利用して基板上に薄膜を形成する。

【００６７】以上のインキ受容性感熱層を形成するため
の基板としては、寸法的に安定な板状物が用いられる。
この様な寸法的に安定な板状物としては、従来印刷版の
基板として使用されたものが含まれ、それらを好適に使
用することができる。かかる基板としては、紙、プラス
チック（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど）がラミネ−トされた紙、例えばアルミニウ
ム（アルミニウム合金も含む。）、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、例えばセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタ
レ−ト、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ−ボ
ネ−ト、ポリビニルアセタ−ルなどのようなプラスチッ
クのフィルム、上記の如き金属がラミネ−トもしくは蒸
着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれ
る。これらの基板のうち、アルミニウム板は寸法的に著
しく安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。
また、軽印刷用の基板として用いられている、ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。

【００６８】本発明で使用する水なし平版印刷版は、基
板とシリコーンゴム層との接着を強固にするため、プラ
イマ−層を設けても良い。本発明で使用する直描型水な
し平版印刷版原版のプライマ−層は、次の条件を満たす
ことが必要である。すなわち、基板とシリコーンゴム層
とをよく接着し、経時において安定であること、さらに
現像液の溶剤に対する耐溶剤性が良いことである。この
ような条件を満たすものとして、特公昭６１−５４２１
９号公報に示されるようなエポキシ樹脂を含むものの
他、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリル樹
脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、
塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、エチレン―酢酸ビニル共重合
体、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル―ブ
タジエン共重合体、ポリエーテル樹脂、ポリエーテルス
ルフォン樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチン等を使用する
ことが出来る。これらの樹脂は単独であるいは二種以上
混合して用いることができる。

【００６９】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることが
好ましい。

【００７０】また、上記プライマー層を構成するアンカ
ー剤としては、例えばシランカップリング剤等の、公知
の接着剤を用いることができ、また有機チタネート等も
有効である。

【００７１】さらに塗工性を改良する目的で、界面活性
剤を添加することも任意である。

【００７２】また、印刷版の露光部は、プライマー層が
露出して画線部となるために、このプライマー層中に染
料等の添加剤を含有させて検版性を向上させることが好
ましい。

【００７３】上記のプライマー層を形成するための組成
物は、ＤＭＦ、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジオキサン、トルエン、キシレン、ＴＨＦ等の
適当な有機溶剤に溶解させることによって組成物溶液と
して調整される。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗
布し必要な温度で必要な時間加熱することにより、プラ
イマー層が形成される。

【００７４】プライマ−層の厚さは被覆層にして０．５
〜５０ｇ／ｍ² が好ましく、より好ましくは１〜１０
ｇ／ｍ²である。厚さが０．５ｇ／ｍ²よりも薄いと基
板表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果がおと
り、５０ｇ／ｍ²よりも厚いと経済的見地から不利とな
るので上記の範囲が好ましい。

【００７５】基板上または、プライマー層上に形成され
るシリコーンゴム層としては、従来の水なし平版印刷版
のシリコーンゴム組成物がすべて使用できる。

【００７６】このようなシリコ−ンゴム層は線状オルガ
ノポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサ
ン）をまばらに架橋することにより得られるものであ
り、代表的なシリコ−ンゴム層は、次式（Ｉ）に示すよ
うな繰り返し単位を有するものである。

【００７７】

【化１】（ここでｎは２以上の整数である。Ｒは炭素数１〜１０
のアルキル、アリ−ル、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のＲの４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Ｒの６０％以
上がメチル基であるものが好ましい。また、鎖末端もし
くは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくとも一つ以上の水
酸基を有する。）本発明の印刷版に適用するシリコ−ンゴム層の場合には
次に示すような縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴム（Ｒ
ＴＶ、ＬＴＶ型シリコ−ンゴム）を用いることができ
る。このようなシリコ−ンゴムとしてはオルガノポリシ
ロキサン鎖のＲの一部がＨに置換されたものも使用でき
るが、通常次式（II）と（III ）、（IV）で表される末
端基どうしの縮合によって架橋される。これにさらに過
剰の架橋剤を存在させる場合もある。

【００７８】

【化２】

【化３】

【化４】（ここでＲは先に説明したＲと同様であり、Ｒ1 、Ｒ2
は一価の低級アルキル基であり、Ａｃはアセチル基であ
る。）このような縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴムには、
錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボ
ン酸塩、例えばラウリン酸ジブチル錫、錫（II）オクト
エ−ト、ナフテン酸塩など、あるいは塩化白金酸のよう
な触媒が添加される。

【００７９】更に、本発明において用いられる次式
（Ｖ）と（VI）との付加反応により架橋を行ったシリコ
−ンゴム層としては、多価ハイドロジェンオルガノポリ
シロキサンと１分子中に２個以上の式（VI）結合を有す
るポリシロキサンとの反応によって得られ、望ましくは
以下の成分からなる組成物を架橋硬化したものがあげら
れる。

【００８０】

【化５】

【化６】（１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン１００重量部（２）１分子中に少なくとも式（Ｖ）基を２個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン０．１〜１０００重量部（３）付加触媒０．００００１〜１０重量部成分（１）のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれ
にあってもよく、アルケニル基以外の有機基としては、
置換もしくは非置換のアルキル基、アリ−ル基である。
成分（１）は水酸基を微量有していることが好ましい。
成分（２）は成分（１）と反応してシリコ−ンゴム層を
形成するが、感熱破壊層に対する接着性の付与の役割を
果たす。成分（２）の水素基は分子鎖末端、中間のいず
れにあってもよく、水素以外の有機基としては成分
（１）と同様のものから選ばれる。成分（１）と成分
（２）の有機基はインキ反撥性の向上の点で総じて基数
の６０％以上がメチル基であることが好ましい。成分
（１）及び成分（２）の分子構造は直鎖状、環状、分枝
状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量が
１０００を超えることがゴム物性の面で好ましく、更
に、成分（２）の分子量が１０００を超えることが好ま
しい。成分（１）としては、α，ω−ジビニルポリジメ
チルシロキサン、両末端メチル基の（メチルビニルシロ
キサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが例示さ
れ、成分（２）としては、両末端水素基のポリジメチル
シロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の（メチルハイドロジェ
ンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体、環状
ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが例示され
る。成分（３）の付加触媒は、公知のもののなかから任
意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白金
単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金など
が例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目
的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロキサンなどの
ビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭素三
重結合含有のアルコ−ル、アセトン、メチルエチルケト
ン、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピレングリコ−ルモ
ノメチルエ−テルなどの架橋抑制剤を添加することも可
能である。これらの組成物は、３成分を混合した時点に
おいて付加反応が起き、硬化が始まるが、硬化速度は反
応温度が高くなるに従い急激に大きくなる特徴を有す
る。故に組成物のゴム化までのポットライフを長くし、
かつ感光層上での硬化時間を短くする目的で、組成物の
硬化条件は、基板、感光層の特性が変わらない範囲の温
度条件で、かつ完全に硬化するまで高温に保持しておく
ことが、感光層との接着力の安定性の面で好ましい。

【００８１】これらの組成物の他に、インキ受容性感熱
層との接着性を向上させる目的でシラン系化合物をシリ
コーンゴム層中に添加したり、シリコーンゴム層とイン
キ受容性感熱層あるいは、シリコーンゴム層と基板の間
にシラン系化合物層を設けることが、好ましい。

【００８２】このような、シラン系化合物としては、公
知のシランカップリング剤の他、シリル基を有する化合
物であれば、いかなるものでも使用できるが、本発明に
おいては、アクリルシラン、メタアクリルシラン（以下
両者をあわせて（メタ）アクリルシランという）、ビニ
ルシラン及びアリルシラン等の不飽和基含有シランカッ
プリング剤やエポキシシラン、アミノシラン、メルカプ
トシラン、等の官能基含有シランカップリング剤が好ま
しく用いられる。

【００８３】これらの中でも、不飽和基含有シランカッ
プリング剤は感熱破壊層を光または熱キュアーした際
に、他のモノマーと共重合し、かつシリコーン層との界
面で接着力を発現するため、本発明における、感熱破壊
層の接着に有効に作用する。

【００８４】（メタ）アクリルシランとしては、具体的
には、Ｎ―（３―（メタ）アクリロキシ―２―ヒドロキ
シプロピル）―３―アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、ビス（（メタ）アクリロキシプロピル）―１，１，
３，３―テトラメチルジシロキサン、２―（メタ）アク
リロキシエチルジメチル（３―（トリメトキシシリル）
プロピル）アンモニウムクロライド、（メタ）アクリロ
キシプロピルビス（トリメチルシロキシ）メチルシラ
ン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチルクロロ
シラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルメチルジク
ロロシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリク
ロロシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチ
ルエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピル
メチルジエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプ
ロピルトリエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシ
プロピルジメチルメトキシシラン、３―（メタ）アクリ
ロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３―（メタ）
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３―（メ
タ）アクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、
３―（メタ）アクリロキシプロピルトリス（メトキシエ
トキシ）シラン、３―（メタ）アクリロキシトリス（ト
リメチルシロキシ）シラン、２―（トリメチルシロキ
シ）エチル（メタ）アクリレート、トリメチルシリル
（メタ）アクリレート等が挙げられるが、好ましくは、
３―（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチルエトキ
シシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルト
リエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピル
ジメチルメトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、３―（メタ）アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、等が挙げられる。

【００８５】また、ビニルシラン、及びアリルシラン
は、特に下層のシリコーンゴム層が付加型の場合、ハイ
ドロジェンポリシロキサンと反応して、接着力を発揮す
る。

【００８６】ビニルシランとして具体的には、ビス（ジ
メチルアミノ）メチルビニルシラン、１―ブロモビニル
トリメチルシラン、クロロメチルジメチルビニルシラ
ン、３―クロロプロピルジメチルビニルシラン、１―ク
ロロビニルトリクロロシラン、Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノ
ビニルジエトキシシラン、ジフェニルビニルクロロシラ
ン、ジフェニルビニルエトキシシラン、１，３―ジビニ
ル―１，３―ジメチル―１，３―ジクロロジシロキサ
ン、ジビニルジメチルシラン、１，３―ジビニル―１，
３―ジフェニル―１，３―ジメチルジシラザン、１，３
―ジビニル―１，３―ジフェニル―１，３―ジメチルジ
シロキサン、１，３―ジビニルテトラテトラエトキシジ
シロキサン、１，３―ジビニルテトラメチルジシラザ
ン、１，３―ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，
４―ジビニル―１，１，４，４―テトラメチルジシリル
エチレン、フェニルジメチルビニルシラン、フェニルメ
チルビニルクロロシラン、フェニルメチルビニルシラ
ン、フェニルビニルクロロシラン、フェニルビニルジメ
トキシシラン、１，１，３，３―テトラビニルジメチル
ジシロキサン、テトラビニルシラン、１，３，５，７―
テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン、ト
リフェニルビニルシラン、トリビニルメチルシラン、
１，３，５―トリビニル―１，１，３，５，５―ペンタ
メチルトリシロキサン、ビニルジエチルメチルシラン、
ビニルジメチルクロロシラン、ビニルジメチルエトキシ
シラン、ビニルエチルジクロロシラン、ビニルメチルジ
アセトキシシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニ
ルメチルジエトキシシラン、１―ビニルシラトラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリメチル
シラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリス
（トリ―ｓ―ブトキシシロキサニル）シラン、ビニルト
リス（ｔ―ブチルパーオキシ）シラン、ビニルトリス
（２―メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリス（トリ
メチルシロキシ）シランが挙げられるが、好ましくは、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２―メトキ
シエトキシ）シラン、ビニルトリメトキシシラン、ジビ
ニルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシランで
ある。

【００８７】アリルシランとして具体的には、アリルジ
メチルクロロシラン、アリルジメチルシラン、アリルメ
チルジクロロシラン、アリルトリクロロシラン、アリル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジア
リルジエトキシシラン、ジアリルジメトキシシラン、ト
リアリルエトキシシラン、トリアリルメトキシシラン、
フェニルアリルジエトキシシラン、フェニルアリルジメ
トキシシラン、フェニルジアリルエトキシシラン、フェ
ニルジアリルメトキシシタン、アリルトリメチルシラ
ン、ジアリルジクロロシラン、ジアリルジメチルシラ
ン、ジフェニルジアリルシラン、フェニルアリルジクロ
ロシラン、テトラアリロキシシラン、Ｏ―トリメチルシ
リルアリルアルコール等が挙げられるが、好ましくはア
リルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、
ジアリルジエトキシシラン、ジアリルジメトキシシラン
である。

【００８８】エポキシシランとしては、３―グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、２―（３，４―エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランであり、
アミノシランとしては、Ｎ―２―（アミノエチル）―３
―アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ―２―（アミ
ノエチル）―３―アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３―アミノプロピルトリエトキシシランであり、メ
ルカプトシランとしては、３―メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、３―メルカプトプロピルトリエトキシ
シラン等が挙げられる。

【００８９】このような、シラン系化合物の添加量は、
全感熱破壊層組成物に対して、０．０１〜２０重量％が
好ましく、より好ましくは０．０５〜１０重量％であ
る。

【００９０】あるいは、シランカップリング剤を、適当
な溶剤に溶解して希薄溶液の状態で、シリコーンゴム層
上、あるいは基板上に塗布して、接着層として用いるこ
とも可能である。

【００９１】この場合、シランカップリング剤層の膜厚
は、シランカップリング剤の単分子膜が形成される程度
の膜厚があれば十分であり、具体的には１０００オング
ストローム以下が好ましく、より好ましくは５００オン
グストローム以下である。

【００９２】膜厚が１０００オングストロームよりも厚
い場合には、シリコーンゴム層との接着性が低下しやす
くなり、印刷版の耐刷性や溶剤耐性が低下する。

【００９３】これ以外にも、縮合型シリコ−ンゴム層の
組成物である水酸基含有オルガノポリシロキサン、加水
分解性官能基含有シラン（もしくはシロキサン）を添加
することも任意であり、またゴム強度を向上させる目的
で、シリカなどの公知の充填剤を添加させることも任意
である。

【００９４】これら、シリコーンゴム層の膜厚は０．５
〜５０ｇ／ｍ²が好ましく、さらに好ましくは０．５〜
１０ｇ／ｍ²である。膜厚が０．５ｇ／ｍ²よりも小さ
い場合には印刷版のインキ反撥性が低下しやすく、５０
ｇ／ｍ²よりも大きい場合には、経済的見地から不利で
ある。

【００９５】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版の表面を保護するなどの目的で、インキ
受容性感熱層の表面にプレ−ンまたは凹凸処理した薄い
保護フィルムをラミネ−トしたり、予めインキ受容性感
熱層が形成されたフィルムをシリコーンゴム層上にラミ
ネートすることも可能である。

【００９６】また、特開平５―３２３５８８号公報に記
載の現像溶媒に溶解するような、ポリマーの塗膜を形成
することも可能である。

【００９７】特に、保護フィルムをラミネートした場合
には、保護フィルム上からレーザ露光を行い、その後保
護フィルムを剥離することによって印刷版上にパターン
を形成する、いわゆる剥離現像を行うことによって印刷
版を作成することも可能である。

【００９８】次に、本発明における水なし平版印刷版原
版の製造方法について説明する。

【００９９】まず、基板上にリバースロールコーター、
エアーナイフコーター、メーヤバーコーターなどの通常
のコーターあるいはホエラーのような回転塗布装置を用
い、必要に応じてプライマー層組成物を塗布し１００〜
３００℃で数分間硬化した後、シリコーンゴム組成物を
塗布し５０〜１５０℃の温度で数分間熱処理してゴム硬
化させてシリコーンゴム層を形成する。

【０１００】その上に、インキ受容性感熱層を蒸着また
はスパッタリングによって形成し、必要に応じて保護フ
ィルムをラミネートするかあるいは、保護層を形成す
る。

【０１０１】この時、インキ受容性感熱層が予め形成さ
れたフィルムをシリコーンゴム層上にラミネートするこ
とも可能である。

【０１０２】また、インキ受容性感熱層とシリコーンゴ
ム層との接着性を向上させる目的で、上述のインキ受容
性感熱層上に予めシランカップリング剤を塗布してお
き、これをシリコーンゴムが塗布された基板上にラミネ
ートすることも有効である。

【０１０３】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、保護フィルムを剥離してからまたは、保
護フィルム上からレーザ光で画像状に露光する。

【０１０４】露光には通常レーザ光が使用されるが、こ
の時の光源としては、発振波長が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるＡｒイオンレーザ、Ｋｒイオンレー
ザ、Ｈｅ―Ｎｅレーザ、Ｈｅ―Ｃｄレーザ、ルビーレー
ザ、ガラスレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、チタ
ンサファイアレーザ、色素レーザ、窒素レーザ、金属蒸
気レーザ等の種々のレーザが使用できる。なかでも、半
導体レーザは近年の技術的進歩により、小型化し、経済
的にも他のレーザ光源よりも有利であるので、好まし
い。

【０１０５】上記の方法で露光された、直描型水なし平
版印刷版は必要に応じて、剥離現像、または通常の溶剤
現像処理される。

【０１０６】本発明で用いられる現像液としては、例え
ば水や、水に下記の極性溶媒を添加したものや、脂肪族
炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、「アイソパーＥ，
Ｇ，Ｈ」（ＥＳＳＯ製イソパラフィン系炭化水素の商品
名）、ガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トル
エン、キシレンなど）、ハロゲン化炭化水素類（トリク
レンなど）などの少なくとも１種類以上の混合溶媒に下
記の極性溶媒を少なくとも１種類添加したものが好まし
く用いられる。

【０１０７】アルコール類（メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングルコール、ジプ
ロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、１，３―ブチレングリコール、
２，３―ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、
２―エチル―１，３―ヘキサンジオールなど）エーテル類（エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ―２
―エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコールなど）エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテートなど）カルボン酸（２―エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、２―エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸など）また、上記の現像液組成には、公知の界面活性剤を添加
することも自由に行われる。また、さらにアルカリ剤、
例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコールア
ミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを
添加することもできる。

【０１０８】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。

【０１０９】また、現像には特開昭６３―１６３３５７
に記載されているような自動現像機を用い、上記の現像
液で版面を前処理した後に水道水などでシャワーしなが
ら回転ブラシで版面を擦ることによって、好適に現像す
ることができる。

【０１１０】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。

【０１１１】

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されない。

【０１１２】実施例１〜６厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなるプライマー液を塗布し、２３０℃、２分間乾燥
し、４ｇ／ｍ²のプライマ−層を設けた。

【０１１３】（ａ）カンコ−ト９０Ｔ−２５−３０９４（関西ペイント（株）製、エポキシフェノ−ル樹脂）１５重量部（ｂ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨナフタレンスルフォン酸０．１重量部（ｃ）ジメチルホルムアミド８５重量部次に、このプライマー層上に、下記の組成のシリコーン
ゴム溶液を塗布し、１２０℃、２分間乾燥し、厚さ５ｇ
／ｍ²のシリコ−ンゴム層を設けた。

【０１１４】（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）エチルトリアセトキシシラン１２重量部（ｃ）ジブチル錫ジアセテート０．１重量部（ｄ）３―アミノプロピルトリエトキシシラン０．２重量部（ｅ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製）１２００重量部次いで、このシリコーン層上に次の組成を有するシラン
カップリング剤溶液を塗布し、１２０℃ ２分間露点
３０℃の条件でキュアーして、厚さ０．０１ｇ／ｍ²の
シランカップリング剤層を設けた。

【０１１５】（ａ）３―アミノプロピルトリメトキシシラン０．００１重量部（ｂ）トルエン１００重量部次に、厚さ８０μｍのポリプロピレンフィルム“トレフ
ァン”（東レ（株）製）上に、次の組成を有するインキ
受容性感熱層組成物を真空蒸着によって形成し、インキ
受容性感熱層を設けた。

【０１１６】（ａ）金属（表１）このフィルムと、シランカップリング剤まで塗布された
基板の、それぞれの塗布面が接するように、カレンダー
ローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平版印刷
版原版を得た。

【０１１７】その後、この印刷版原版の“トレファン”
を剥離して金属層をシリコーン層上に転写し、Ｘ―Ｙテ
ーブルに装着した半導体レーザ（ＳＬＤ―３０４ＸＴ、
出力１Ｗ、波長８０９ｎｍ、ソニー（株）製）を用い
て、ビーム直径２０μｍ、露光時間１０μｓでパルス露
光を行った。この時、レーザ出力はＬＤパルス変調駆動
装置で任意に変化させ、版面上でのレーザパワーを測定
した。

【０１１８】この印刷版の画像再現性を５０倍のルーペ
で評価し、ドットが形成される最小レーザパワーを決定
し、その結果から印刷版の感度を測定した。

【０１１９】また、得られた印刷版について、オフセッ
ト印刷機（小森スプリント４色機）に取り付け、大日本
インキ化学工業（株）製“ドライオカラー”墨、藍、
紅、黄インキを用いて、上質紙に印刷を行い、印刷物に
汚れが見られる時の、版面の温度を地汚れ温度として評
価した。

【０１２０】実施例７実施例１において、プライマ層とシリコーンゴム層の間
に次の組成を有するシランカップリング剤層溶液を塗布
し、１２０℃で２分間、露点３０℃の条件でキュアーし
て、厚さ０．０１ｇ／ｍ²のシランカップリング剤層を
設けた以外は全て同一にして、直描型水なし平版印刷版
原版を作製し、同様に評価した。

【０１２１】（ａ）３―メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．００１重量部（ｂ）トルエン１００重量部比較例１，２実施例１及び２において、同一組成で基板上にプライマ
ー層、インキ受容性感熱層、シランカップリング剤層、
シリコーンゴム層をこの順に積層し、あとは全て同様に
して評価した。ただし、シリコーンゴム層の膜厚のみ、
２ｇ／ｍ²とした。

【０１２２】表１において、本発明の印刷版は比較例の
ものよりも、地汚れ性、及び感度が向上していることが
判る。

【０１２３】

【表１】

【０１２４】

【発明の効果】本発明の直描型水なし平版印刷版は、従
来の直描型水なし平版印刷版よりも、地汚れ性および感
度が向上した。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板、該基板上に設けたシリコーンゴム
層、および該シリコーンゴム層上に設けた、インキ受容
性感熱層からなる直描型水なし平版印刷版原版におい
て、インキ受容性感熱層が金属の薄膜であることを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項２】請求項１において、インキ受容性感熱層が
融点９３０（Ｋ）以下の金属の薄膜であることを特徴と
する直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項３】請求項１において金属がテルル、スズ、ア
ンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セレ
ン、タリウム、亜鉛、ビスマスのいずれかであることを
特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項４】請求項１において金属が、テルル、スズ、
アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのいずれ
か２種類の組み合わせからなる、アロイであることを特
徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項５】請求項１において金属が、テルル、スズ、
アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛のうちのいずれ
か３種類の組み合わせからなる、アロイであることを特
徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項６】請求項１においてインキ受容性感熱層の膜
厚が、５０〜１００００オングストロームであることを
特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項７】請求項１においてインキ受容性感熱層の光
学濃度が０．６〜２．５であることを特徴とする直描型
水なし平版印刷版原版。
【請求項８】請求項１においてシリコーンゴム層とイン
キ受容性感熱層の間に、シランカップリング剤層を設け
たことを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項９】請求項１において基板とシリコーンゴム層
の間に、シランカップリング剤層を設けたことを特徴と
する、直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項１０】請求項１においてシリコーンゴム層が、
シランカップリング剤を含有することを特徴とする、直
描型水なし平版印刷版原版。
【請求項１１】片側にシリコーンゴム層表面を有する基
板と、片側にインキ受容性感熱層を有するフィルムを、
シリコーンゴム層面側とインキ受容性感熱層面側が接す
るようにラミネートすることを特徴とする、直描型水な
し平版印刷版原版の製造方法。
【請求項１２】請求項１１においてフィルムの、インキ
受容性感熱層上に、予めシランカップリング剤が塗布さ
れていることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原
版の製造方法。
【請求項１３】請求項１〜１０のいずれかに記載の直描
型水なし平版印刷版原版を、選択的に露光、現像してな
る、水なし平版印刷版。