JPH09198611A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH09198611A JPH09198611A JP514096A JP514096A JPH09198611A JP H09198611 A JPH09198611 A JP H09198611A JP 514096 A JP514096 A JP 514096A JP 514096 A JP514096 A JP 514096A JP H09198611 A JPH09198611 A JP H09198611A
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- metal film
- film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来技術よりも性能の向上を期待できる磁気
ヘッドを提供すること。 【解決手段】 磁気ヘッドＡは、非磁性材料からなる基
板５と、窒化した金属膜７と、当該金属膜７の上に主磁
気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜１ａとを有してなり、
前記基板５および前記金属膜７の間に非磁性酸化物膜６
を形成した。
ヘッドを提供すること。 【解決手段】 磁気ヘッドＡは、非磁性材料からなる基
板５と、窒化した金属膜７と、当該金属膜７の上に主磁
気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜１ａとを有してなり、
前記基板５および前記金属膜７の間に非磁性酸化物膜６
を形成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドに関す
る。詳しくは高密度磁気記録の再生および消去に用いら
れる磁気ヘッドに関する。
る。詳しくは高密度磁気記録の再生および消去に用いら
れる磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化にともな
い、メタルテープのような高保磁力媒体の使用が増えて
きた。そこで、非磁性材料基板上に高飽和磁化束密度を
有するセンダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属膜を蒸着
法やスパッタリング法によって形成した磁気コアを有す
る磁気ヘッドが開発されている。
い、メタルテープのような高保磁力媒体の使用が増えて
きた。そこで、非磁性材料基板上に高飽和磁化束密度を
有するセンダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属膜を蒸着
法やスパッタリング法によって形成した磁気コアを有す
る磁気ヘッドが開発されている。
【０００３】図５はそのような磁気ヘッドの一例であっ
て、この第１の従来技術に係る磁気ヘッドは非磁性材料
でできた基板１７上に直接Ｆｅ系軟磁性金属膜１８を形
成し、さらにその上に非磁性材料１９を被着した構造と
なっている。
て、この第１の従来技術に係る磁気ヘッドは非磁性材料
でできた基板１７上に直接Ｆｅ系軟磁性金属膜１８を形
成し、さらにその上に非磁性材料１９を被着した構造と
なっている。
【０００４】図６は他の磁気ヘッドを示すものであっ
て、この第２の従来技術に係る磁気ヘッドは、非磁性材
料でできた基板２０に傾斜溝を形成し、その上に直接Ｆ
ｅ系軟磁性金属膜２１を形成後、前記傾斜溝内にガラス
２２を充填してなる構造となっている。
て、この第２の従来技術に係る磁気ヘッドは、非磁性材
料でできた基板２０に傾斜溝を形成し、その上に直接Ｆ
ｅ系軟磁性金属膜２１を形成後、前記傾斜溝内にガラス
２２を充填してなる構造となっている。
【０００５】図７はさらに他の磁気ヘッドを示すもので
あって、この第３の従来技術に係る磁気ヘッドは、強磁
性酸化物材料からなる基板２３の表面に非磁性高硬度膜
２４を形成し、その後Ｆｅ系軟磁性金属膜２５を形成す
るようにしたものであって、例えば、特公平４−７５５
６６で開示されている。この従来例にあっては、基板２
３内部の酸素の結合が弱いので、その上部に形成される
強磁性金属薄膜の強磁性酸化物材料基板界面部分が基板
２３から拡散してきた酸素によって酸化し、その結果、
磁気特性が劣化がちであるが、これを防止できるという
ものである。
あって、この第３の従来技術に係る磁気ヘッドは、強磁
性酸化物材料からなる基板２３の表面に非磁性高硬度膜
２４を形成し、その後Ｆｅ系軟磁性金属膜２５を形成す
るようにしたものであって、例えば、特公平４−７５５
６６で開示されている。この従来例にあっては、基板２
３内部の酸素の結合が弱いので、その上部に形成される
強磁性金属薄膜の強磁性酸化物材料基板界面部分が基板
２３から拡散してきた酸素によって酸化し、その結果、
磁気特性が劣化がちであるが、これを防止できるという
ものである。
【０００６】図８は別の磁気ヘッドを示しており、例え
ば特開平６−６８４２３や特開平６−１３９５１４に開
示されている。この第４の従来技術に係る磁気ヘッド
は、非磁性酸化物材料からなる基板２６と軟磁性薄膜２
５との間の反応を防止するようにしたものであって、そ
のために、基板２６と軟磁性薄膜２５との間に酸化アル
ミや窒化珪素のような酸化物膜（もしくは炭化物膜）２
７を設けてある。
ば特開平６−６８４２３や特開平６−１３９５１４に開
示されている。この第４の従来技術に係る磁気ヘッド
は、非磁性酸化物材料からなる基板２６と軟磁性薄膜２
５との間の反応を防止するようにしたものであって、そ
のために、基板２６と軟磁性薄膜２５との間に酸化アル
ミや窒化珪素のような酸化物膜（もしくは炭化物膜）２
７を設けてある。
【０００７】図９はさらに別の磁気ヘッドを示してお
り、第１９回応用磁気学会学術講演概要集Ｐ．１８２−
ａ，ｂに示されている。この第５の従来技術に係る磁気
ヘッドは、Ｆｅ系軟磁性金属膜２５の結晶の配向性を改
善するために非磁性材料からなる基板２６上に窒化した
鉄膜２８を形成し、その後Ｆｅ系軟磁性金属膜２５を形
成したものである。
り、第１９回応用磁気学会学術講演概要集Ｐ．１８２−
ａ，ｂに示されている。この第５の従来技術に係る磁気
ヘッドは、Ｆｅ系軟磁性金属膜２５の結晶の配向性を改
善するために非磁性材料からなる基板２６上に窒化した
鉄膜２８を形成し、その後Ｆｅ系軟磁性金属膜２５を形
成したものである。
【０００８】図１０及び図１１に示す磁気ヘッドは、渦
電流損失による高い周波数領域での特性低下を防止しつ
つ所定のトラック幅を得るためのものであって、図１０
および図１１にそれぞれ示す第６や第７の従来技術に係
るＦｅ系軟磁性金属膜の上にＳｉＯ2等の非磁性酸化物
絶縁膜を形成し、さらに、Ｆｅ系軟磁性金属膜を形成す
るという積層構造を必要回数繰り返してなる構造となっ
ている。
電流損失による高い周波数領域での特性低下を防止しつ
つ所定のトラック幅を得るためのものであって、図１０
および図１１にそれぞれ示す第６や第７の従来技術に係
るＦｅ系軟磁性金属膜の上にＳｉＯ2等の非磁性酸化物
絶縁膜を形成し、さらに、Ｆｅ系軟磁性金属膜を形成す
るという積層構造を必要回数繰り返してなる構造となっ
ている。
【０００９】ところで、図５及び図６で示した磁気ヘッ
ドにおいては、磁気ヘッド本体部分である非磁性材料で
できた基板１７上に直接Ｆｅ系軟磁性金属膜１８を形成
した構造となっているが、このような構造では、基板１
７上のＦｅ系軟磁性金属膜１８において十分な透磁率を
得ることができないため、磁気ヘッドの性能が向上しに
くい。このことは、磁気ヘッドのトラック幅に対して、
基板１７に直接接するＦｅ系軟磁性膜１８の割合が大き
い程顕著といえる。図１０及び図１１の磁気ヘッドのよ
うに、積層構造でない場合は一層そのことが顕著であっ
て、磁気ヘッドの記録再生出力が低くなってしまう。
ドにおいては、磁気ヘッド本体部分である非磁性材料で
できた基板１７上に直接Ｆｅ系軟磁性金属膜１８を形成
した構造となっているが、このような構造では、基板１
７上のＦｅ系軟磁性金属膜１８において十分な透磁率を
得ることができないため、磁気ヘッドの性能が向上しに
くい。このことは、磁気ヘッドのトラック幅に対して、
基板１７に直接接するＦｅ系軟磁性膜１８の割合が大き
い程顕著といえる。図１０及び図１１の磁気ヘッドのよ
うに、積層構造でない場合は一層そのことが顕著であっ
て、磁気ヘッドの記録再生出力が低くなってしまう。
【００１０】また、図７および図８でそれぞれ示した特
公平４−７５５６６および特開平６−６８４２３、特開
平６−１３９５１４に開示されている各磁気ヘッドにあ
っては、基板材料と軟磁性薄膜の反応を防止するように
してあるが、各基板上のＦｅ系軟磁性金属膜において十
分な透磁率を得ることができないため、磁気ヘッドの性
能は同様に向上しにくい。
公平４−７５５６６および特開平６−６８４２３、特開
平６−１３９５１４に開示されている各磁気ヘッドにあ
っては、基板材料と軟磁性薄膜の反応を防止するように
してあるが、各基板上のＦｅ系軟磁性金属膜において十
分な透磁率を得ることができないため、磁気ヘッドの性
能は同様に向上しにくい。
【００１１】さらに、第１９回応用磁気学会学術講演概
要集Ｐ．１８２−ａ，ｂにおいて提案された磁気ヘッド
のように、センダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属膜の
結晶の配向性を改善するために非磁性材料からなる基板
上に窒化した鉄膜を下地膜となるように形成し、その後
Ｆｅ系軟磁性金属膜を形成するといった構造にあって
も、Ｆｅ系軟磁性金属膜において十分な透磁率を得られ
ず、やはり磁気ヘッドの性能を向上させにくいという問
題がある。
要集Ｐ．１８２−ａ，ｂにおいて提案された磁気ヘッド
のように、センダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属膜の
結晶の配向性を改善するために非磁性材料からなる基板
上に窒化した鉄膜を下地膜となるように形成し、その後
Ｆｅ系軟磁性金属膜を形成するといった構造にあって
も、Ｆｅ系軟磁性金属膜において十分な透磁率を得られ
ず、やはり磁気ヘッドの性能を向上させにくいという問
題がある。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情に鑑
みて発明されてものであって、その解決しようとする課
題は、従来技術よりも性能の向上を期待できる磁気ヘッ
ドを提供することにある。
みて発明されてものであって、その解決しようとする課
題は、従来技術よりも性能の向上を期待できる磁気ヘッ
ドを提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は以上
の課題を解決するために次の手段を講じた。すなわち、
請求項１に記載の本発明磁気ヘッドは、非磁性材料から
なる基板と、窒化した金属膜と、当該金属膜の上に主磁
気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜とを有してなり、前記
基板と前記金属膜との間に非磁性酸化物膜を形成した。
の課題を解決するために次の手段を講じた。すなわち、
請求項１に記載の本発明磁気ヘッドは、非磁性材料から
なる基板と、窒化した金属膜と、当該金属膜の上に主磁
気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜とを有してなり、前記
基板と前記金属膜との間に非磁性酸化物膜を形成した。
【００１４】請求項２に記載の本発明磁気ヘッドは、前
記金属膜をセンダスト合金膜または鉄膜またはＦｅ系軟
磁性金属膜とした。
記金属膜をセンダスト合金膜または鉄膜またはＦｅ系軟
磁性金属膜とした。
【００１５】請求項３に記載の本発明磁気ヘッドは、非
磁性材料からなる基板と、窒化した金属膜と、当該金属
膜の上に主磁気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜とを有し
てなり、前記金属膜とＦｅ系軟磁性金属膜との間に非磁
性酸化物膜を形成した。
磁性材料からなる基板と、窒化した金属膜と、当該金属
膜の上に主磁気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜とを有し
てなり、前記金属膜とＦｅ系軟磁性金属膜との間に非磁
性酸化物膜を形成した。
【００１６】請求項４に記載の本発明磁気ヘッドは、前
記金属膜をセンダスト合金膜または鉄膜またはＦｅ系軟
磁性金属膜とした。
記金属膜をセンダスト合金膜または鉄膜またはＦｅ系軟
磁性金属膜とした。
【００１７】したがって、本発明磁気ヘッドによれば、
非磁性酸化物膜を基板と金属膜との間にまたは、金属膜
とＦｅ系軟磁性金属膜との間に介しているので、主磁気
コアとしてのＦｅ系軟磁性金属膜の結晶を非常に良好に
（１１１）面配向するようになる。
非磁性酸化物膜を基板と金属膜との間にまたは、金属膜
とＦｅ系軟磁性金属膜との間に介しているので、主磁気
コアとしてのＦｅ系軟磁性金属膜の結晶を非常に良好に
（１１１）面配向するようになる。
【００１８】すなわち、Ｆｅ系軟磁性金属膜にあって
は、結晶は体心立法構造を基本構造としており、J.App
l.Phys.,vol.67(11),pp.6981-pp.6990,1990でA.Hosono
らが計算して示したことから明らかなように、（１１
１）面に配向したときの結晶磁気異方性エネルギーが最
少となる。
は、結晶は体心立法構造を基本構造としており、J.App
l.Phys.,vol.67(11),pp.6981-pp.6990,1990でA.Hosono
らが計算して示したことから明らかなように、（１１
１）面に配向したときの結晶磁気異方性エネルギーが最
少となる。
【００１９】したがって、結晶磁気異方性エネルギーが
小さいほど良好な特性を示す軟磁気特性も非常に良好と
なる。
小さいほど良好な特性を示す軟磁気特性も非常に良好と
なる。
【００２０】つまり、本発明によれば、非磁性材料から
なる基板に形成される主磁気コアであるセンダスト合金
膜等のＦｅ系軟磁性金属膜の結晶を、非常に良好に（１
１１）面配向させることができるので、磁気コアである
Ｆｅ系軟磁性薄膜の軟磁気特性が非常に良好となって、
それを用いる磁気ヘッドの特性も当然良好なものとでき
る。
なる基板に形成される主磁気コアであるセンダスト合金
膜等のＦｅ系軟磁性金属膜の結晶を、非常に良好に（１
１１）面配向させることができるので、磁気コアである
Ｆｅ系軟磁性薄膜の軟磁気特性が非常に良好となって、
それを用いる磁気ヘッドの特性も当然良好なものとでき
る。
【００２１】
（第１の実施の形態）以下、本発明を図示した実施の形
態に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明に係わる
磁気ヘッドの斜視図、図２は磁気ヘッドにおけるテープ
摺動面の形状を示す図であって図１の矢印II方向から見
た図、図３は図２の領域III部分の拡大図である。
態に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明に係わる
磁気ヘッドの斜視図、図２は磁気ヘッドにおけるテープ
摺動面の形状を示す図であって図１の矢印II方向から見
た図、図３は図２の領域III部分の拡大図である。
【００２２】図１及び図２において、１ａ、１ｂは主磁
気コアを構成するセンダスト合金膜等からなるＦｅ系軟
磁性金属膜である。また、符号２ａ、２ｂがそれぞれ示
すものは、磁気ヘッドコアを構成する一対のコアであ
る。これらコア２ａ、２ｂのうち、一方または両方のコ
アには、コイル巻線用の溝３が形成されており、両コア
２ａ、２ｂは、ガラス４によって接合されている。
気コアを構成するセンダスト合金膜等からなるＦｅ系軟
磁性金属膜である。また、符号２ａ、２ｂがそれぞれ示
すものは、磁気ヘッドコアを構成する一対のコアであ
る。これらコア２ａ、２ｂのうち、一方または両方のコ
アには、コイル巻線用の溝３が形成されており、両コア
２ａ、２ｂは、ガラス４によって接合されている。
【００２３】図２において符号５が示すものは、主磁気
コアであるセンダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属膜を
形成する際に基板として用いるものであって、セラミッ
ク、結晶化ガラス等の非磁性材料からできている。以
下、この基板のことを「非磁気性基板５」ということに
する。本発明に係わる磁気ヘッドの形成の仕方を図２お
よび図３を用いて説明する。
コアであるセンダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属膜を
形成する際に基板として用いるものであって、セラミッ
ク、結晶化ガラス等の非磁性材料からできている。以
下、この基板のことを「非磁気性基板５」ということに
する。本発明に係わる磁気ヘッドの形成の仕方を図２お
よび図３を用いて説明する。
【００２４】非磁性基板５にまずＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3の
非磁性酸化物薄膜６を形成する。非磁性酸化物薄膜６の
膜厚は、２．５nm〜２００nmとする。下限を２．５nmと
したのは薄膜の連続性を保つためであり、上限を２００
nmとしたのは、非磁性材料からなる基板５と非磁性酸化
物薄膜６の熱膨張係数の差に由来する応力による膜剥離
を防止するためである。
非磁性酸化物薄膜６を形成する。非磁性酸化物薄膜６の
膜厚は、２．５nm〜２００nmとする。下限を２．５nmと
したのは薄膜の連続性を保つためであり、上限を２００
nmとしたのは、非磁性材料からなる基板５と非磁性酸化
物薄膜６の熱膨張係数の差に由来する応力による膜剥離
を防止するためである。
【００２５】続いて、このように非磁性酸化物薄膜６の
形成された非磁性基板５に非磁性酸化物薄膜６の上から
窒化したセンダスト合金膜または窒化した鉄膜または窒
化したＦｅ系軟磁性金属膜（これらの膜を以下「窒化し
た金属膜７」という。）を形成する。当該窒化した金属
膜７の膜厚は、薄膜の連続性を保つために２．５nm以上
の膜厚が必要である。また、窒化した金属膜７の上に
は、主磁気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜１ａ、１ｂを
形成する（図３では１ａのみ示す。）。窒化した金属膜
７は、Ｆｅ系軟磁性金属膜１ａ、１ｂに比べて軟磁気特
性が劣っているため、これをあまり厚く形成すると、磁
気ヘッドを形成した際に、トラック幅８に占める特性が
劣化する割合が多くなり、磁気ヘッドの特性が逆に低下
してしまう。このため、窒化した金属膜７の厚みは２０
０nm以下とする必要がある。
形成された非磁性基板５に非磁性酸化物薄膜６の上から
窒化したセンダスト合金膜または窒化した鉄膜または窒
化したＦｅ系軟磁性金属膜（これらの膜を以下「窒化し
た金属膜７」という。）を形成する。当該窒化した金属
膜７の膜厚は、薄膜の連続性を保つために２．５nm以上
の膜厚が必要である。また、窒化した金属膜７の上に
は、主磁気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜１ａ、１ｂを
形成する（図３では１ａのみ示す。）。窒化した金属膜
７は、Ｆｅ系軟磁性金属膜１ａ、１ｂに比べて軟磁気特
性が劣っているため、これをあまり厚く形成すると、磁
気ヘッドを形成した際に、トラック幅８に占める特性が
劣化する割合が多くなり、磁気ヘッドの特性が逆に低下
してしまう。このため、窒化した金属膜７の厚みは２０
０nm以下とする必要がある。
【００２６】このような構成の磁気ヘッドが、本発明に
係る磁気ヘッドＡである。
係る磁気ヘッドＡである。
【００２７】以上の説明において述べた薄膜の形成方法
としては、スパッタリング法や真空蒸着法等の薄膜形成
技術を用いる。
としては、スパッタリング法や真空蒸着法等の薄膜形成
技術を用いる。
【００２８】
【実施例】次に具体的な実施例を表１を参照しながら従
来例と比較して説明する。非磁性材料からなる基板５に
は、Ｌａ‐Ｎｉ‐Ｃｏ系のセラミックを用いた。また、
主磁気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜１ａ（１ｂ）に
は、膜厚３μｍの組成Ｆｅ８５wt％‐Ａｌ５．４wt％‐
Ｓｉ９．６wt％のセンダスト合金薄膜を用いた。そし
て、両者間に位置する非磁性酸化物膜６と、窒化した金
属膜７とを違えて実験した。そのときのセンダスト合金
薄膜９の結晶配向の様子を配向性、度合いおよびセンダ
クト膜の透磁率で表１に示した。なお、センダスト薄膜
の結晶配向の様子は、Ｘ線回折装置によって調べた。
来例と比較して説明する。非磁性材料からなる基板５に
は、Ｌａ‐Ｎｉ‐Ｃｏ系のセラミックを用いた。また、
主磁気コアとなるＦｅ系軟磁性金属膜１ａ（１ｂ）に
は、膜厚３μｍの組成Ｆｅ８５wt％‐Ａｌ５．４wt％‐
Ｓｉ９．６wt％のセンダスト合金薄膜を用いた。そし
て、両者間に位置する非磁性酸化物膜６と、窒化した金
属膜７とを違えて実験した。そのときのセンダスト合金
薄膜９の結晶配向の様子を配向性、度合いおよびセンダ
クト膜の透磁率で表１に示した。なお、センダスト薄膜
の結晶配向の様子は、Ｘ線回折装置によって調べた。
【００２９】
【表１】
【００３０】上表１において、〜は従来のものであ
り、およびは本発明に係るものである。非磁性酸化
物膜６と窒化した金属膜７とを介在していないの場
合、および非磁性酸化物膜６にＳｉＯ2１００nmを用い
た場合には、センダスト薄膜１ａは（１１０）面に配向
することがわかる。つまり、Ｆｅ系軟磁性材料において
非常に良好な特性を得るための条件である、（１１１）
面配向ではないことがわかる。
り、およびは本発明に係るものである。非磁性酸化
物膜６と窒化した金属膜７とを介在していないの場
合、および非磁性酸化物膜６にＳｉＯ2１００nmを用い
た場合には、センダスト薄膜１ａは（１１０）面に配向
することがわかる。つまり、Ｆｅ系軟磁性材料において
非常に良好な特性を得るための条件である、（１１１）
面配向ではないことがわかる。
【００３１】また、非磁性酸化物膜６にＦｅＡｌＳｉＮ
１００nmを用いた場合および非磁性酸化物膜６にＦｅ
Ｎ１００nmを用いた場合には、（１１１）面に配向し
てはいるものの、その度合いは低く、十分な軟磁気特性
を得るには不十分であることがわかる。
１００nmを用いた場合および非磁性酸化物膜６にＦｅ
Ｎ１００nmを用いた場合には、（１１１）面に配向し
てはいるものの、その度合いは低く、十分な軟磁気特性
を得るには不十分であることがわかる。
【００３２】これらに対し、本発明の構成である、非磁
性酸化物膜６にＳｉＯ2１００nmを用いるとともに窒化
した金属膜７にＦｅＡｌＳｉＮ１００nmを用いた場合
および非磁性酸化物膜６にＳｉＯ2１００nmを用いると
ともに窒化した金属膜７にＦｅＮ１００nmを用いた場合
は、センダスト薄膜が（１１１）面に配向し、その度
合いも非常に高いことがわかる。つまり、本発明に係る
構成によれば、従来の方法では得られなかった非常に高
く（１１１）面に配向したＦｅ系軟磁性膜を得ることが
できる。言い換えれば、従来の方法では得られなかっ
た、非常に良好な軟磁気特性を有するＦｅ系軟磁性薄膜
が本発明によって得ることができる。したがって、従来
技術よりも磁気ヘッドの性能を向上することができると
いる。
性酸化物膜６にＳｉＯ2１００nmを用いるとともに窒化
した金属膜７にＦｅＡｌＳｉＮ１００nmを用いた場合
および非磁性酸化物膜６にＳｉＯ2１００nmを用いると
ともに窒化した金属膜７にＦｅＮ１００nmを用いた場合
は、センダスト薄膜が（１１１）面に配向し、その度
合いも非常に高いことがわかる。つまり、本発明に係る
構成によれば、従来の方法では得られなかった非常に高
く（１１１）面に配向したＦｅ系軟磁性膜を得ることが
できる。言い換えれば、従来の方法では得られなかっ
た、非常に良好な軟磁気特性を有するＦｅ系軟磁性薄膜
が本発明によって得ることができる。したがって、従来
技術よりも磁気ヘッドの性能を向上することができると
いる。
【００３３】（第２の実施の形態）本発明に係る他の磁
気ヘッドとして図４のようなもの磁気ヘッドＡ1もあ
る。この磁気ヘッドＡ1は、セラミックや結晶化ガラス
等の非磁性基板１２ａ、１２ｂにまずＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ
3の非磁性酸化物薄膜１３を形成し、続いて、窒化した
センダスト合金膜または窒化した鉄膜または窒化した前
記Ｆｅ系軟磁性金属膜１４を形成する。その後、主磁気
コアとなる前記センダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属
膜１５を形成し、さらに非磁性材料１６ａ、１６ｂを形
成してなるものである。
気ヘッドとして図４のようなもの磁気ヘッドＡ1もあ
る。この磁気ヘッドＡ1は、セラミックや結晶化ガラス
等の非磁性基板１２ａ、１２ｂにまずＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ
3の非磁性酸化物薄膜１３を形成し、続いて、窒化した
センダスト合金膜または窒化した鉄膜または窒化した前
記Ｆｅ系軟磁性金属膜１４を形成する。その後、主磁気
コアとなる前記センダスト合金膜等のＦｅ系軟磁性金属
膜１５を形成し、さらに非磁性材料１６ａ、１６ｂを形
成してなるものである。
【００３４】（変形例）図１、図２、図４の磁気ヘッド
ＡまたはＡ1において、渦電流損失による高い周波数領
域での特性低下を防止しつつ所定のトラック幅を得るた
めに、第一の軟磁性材料としてセンダスト合金膜等のＦ
ｅ系軟磁性金属膜を形成後、ＳｉＯ2等の非磁性酸化物
絶縁膜を形成し、さらに、センダスト合金膜等のＦｅ系
軟磁性金属膜を形成するという積層構造を必要回数繰り
返すという構造を有する磁気ヘッドとしてもよい。
ＡまたはＡ1において、渦電流損失による高い周波数領
域での特性低下を防止しつつ所定のトラック幅を得るた
めに、第一の軟磁性材料としてセンダスト合金膜等のＦ
ｅ系軟磁性金属膜を形成後、ＳｉＯ2等の非磁性酸化物
絶縁膜を形成し、さらに、センダスト合金膜等のＦｅ系
軟磁性金属膜を形成するという積層構造を必要回数繰り
返すという構造を有する磁気ヘッドとしてもよい。
【００３５】以上のことから明らかなように、非磁性酸
化膜を窒化した金属膜に合わせ面とすることで、窒化し
た金属膜が最適化、すなわち窒化した金属膜の粒子サイ
ズや結晶構造、窒化した金属膜における窒素の結合状態
が最適化するといえる。
化膜を窒化した金属膜に合わせ面とすることで、窒化し
た金属膜が最適化、すなわち窒化した金属膜の粒子サイ
ズや結晶構造、窒化した金属膜における窒素の結合状態
が最適化するといえる。
【００３６】その理由については現在研究中であるが、
このような事実を発見したことは本発明者が初めてであ
り、それを応用してなる本発明は十分発明性を有してい
るものである。
このような事実を発見したことは本発明者が初めてであ
り、それを応用してなる本発明は十分発明性を有してい
るものである。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば、非常に良好な軟磁気特
性を有する主磁気コア材料を得ることが可能となり、良
好な特性を有する磁気ヘッドを歩留まりよく生産するこ
とができる。
性を有する主磁気コア材料を得ることが可能となり、良
好な特性を有する磁気ヘッドを歩留まりよく生産するこ
とができる。
【図１】本発明磁気ヘッドの第１の実施の形態を示す全
体斜視図である。
体斜視図である。
【図２】磁気ヘッドにおけるテープ摺動面の形状を示す
図であって図１の矢印II方向から見た図である。
図であって図１の矢印II方向から見た図である。
【図３】図２の領域III部分の拡大図である。
【図４】本発明磁気ヘッドの第２の実施の形態を示す全
体斜視図である。
体斜視図である。
【図５】第１の従来技術を説明するための図である。
【図６】第２の従来技術を説明するための図である。
【図７】第３の従来技術を説明するための図である。
【図８】第４の従来技術を説明するための図である。
【図９】第５の従来技術を説明するための図である。
【図１０】第６の従来技術を説明するための図である。
【図１１】第７の従来技術を説明するための図である。
Ａ 磁気ヘッド １ａ Ｆｅ系軟磁性金属膜 １ｂ Ｆｅ系軟磁性金属膜 ５ 基板 ６ 非磁性酸化物膜 ７ 金属膜
Claims (4)
- 【請求項１】 非磁性材料からなる基板と、窒化した金
属膜と、当該金属膜の上に主磁気コアとなるＦｅ系軟磁
性金属膜とを有してなる磁気ヘッドにおいて、前記基板
および前記金属膜の間に非磁性酸化物膜を形成したこと
を特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記金属膜はセンダスト合金膜または鉄
膜またはＦｅ系軟磁性金属膜であることを特徴とする請
求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 非磁性材料からなる基板と、窒化した金
属膜と、当該金属膜の上に主磁気コアとなるＦｅ系軟磁
性金属膜とを有してなる磁気ヘッドにおいて、前記金属
膜とＦｅ系軟磁性金属膜との間に非磁性酸化物膜を形成
したことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記金属膜はセンダスト合金膜または鉄
膜またはＦｅ系軟磁性金属膜であることを特徴とする請
求項３記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP514096A JPH09198611A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP514096A JPH09198611A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09198611A true JPH09198611A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=11603011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP514096A Pending JPH09198611A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09198611A (ja) |
-
1996
- 1996-01-16 JP JP514096A patent/JPH09198611A/ja active Pending
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