JPH09208502A - ｐ−キシレンの選択的製造方法 - Google Patents
ｐ−キシレンの選択的製造方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
- C07C2/86—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by condensation between a hydrocarbon and a non-hydrocarbon
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ベンゼンあるいはトルエンをアルキル化して
ｐ−キシレンを熱力学平衡以上の高濃度で選択的に製造
する方法に関する。 【解決手段】 ベンゼンあるいはトルエンをエチレンあ
るいはメタノールを用いてアルキル化させることにより
ｐ−キシレンを製造する方法において、酸化物のモル比
で、ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｙＳｉＯ2 （式
中、Ｒ：アルカリ金属イオン、水素イオン、Ｍ：一種以
上のアルカリ土類金属イオン、０．７＜ａ＜１．２，ｂ
＞０，ｙ＞３０）の化学組成を有し、かつ特定の格子面
間隔を有する結晶性シリケートを触媒として用いてｐ−
キシレンを選択的に製造する方法。
ｐ−キシレンを熱力学平衡以上の高濃度で選択的に製造
する方法に関する。 【解決手段】 ベンゼンあるいはトルエンをエチレンあ
るいはメタノールを用いてアルキル化させることにより
ｐ−キシレンを製造する方法において、酸化物のモル比
で、ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｙＳｉＯ2 （式
中、Ｒ：アルカリ金属イオン、水素イオン、Ｍ：一種以
上のアルカリ土類金属イオン、０．７＜ａ＜１．２，ｂ
＞０，ｙ＞３０）の化学組成を有し、かつ特定の格子面
間隔を有する結晶性シリケートを触媒として用いてｐ−
キシレンを選択的に製造する方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は石油のリフォーミン
グ、熱分解、ハイドロクラッキングなどの副生物として
得られるベンゼンあるいはトルエンを、結晶性シリケー
トを触媒としてエチレンあるいはメタノールでアルキル
化することにより、ポリエステルの出発原料として重要
なｐ−キシレンを熱力学平衡以上の高濃度で選択的に製
造する方法に関する。
グ、熱分解、ハイドロクラッキングなどの副生物として
得られるベンゼンあるいはトルエンを、結晶性シリケー
トを触媒としてエチレンあるいはメタノールでアルキル
化することにより、ポリエステルの出発原料として重要
なｐ−キシレンを熱力学平衡以上の高濃度で選択的に製
造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりトルエンとメタノールからアル
キル化によりキシレンを合成する反応の場合、従来より
触媒として塩化アルミニウムなどを用いるフリーデル・
クラフツ触媒が用いられている。しかし、反応が触媒表
面で起こるためにキシレンの他にＣ6 〜Ｃ10程度の芳香
族炭化水素とアルカン、アルケンが副反応として生成
し、さらにＣ8 芳香族においてもＰ−キシレン、ｏ−キ
シレン、ｍ−キシレンの３種異性体とエチルベンゼンが
生成し、これらはそれぞれ熱力学的な平衡を形成して、
決まった組成になることが知られている。例えば３２７
℃におけるキシレンの３種異性体の組成はｐ−キシレ
ン：２３．８％、ｍ−キシレン：５３．２％、ｏ−キシ
レン：２３．０％のようになる。
キル化によりキシレンを合成する反応の場合、従来より
触媒として塩化アルミニウムなどを用いるフリーデル・
クラフツ触媒が用いられている。しかし、反応が触媒表
面で起こるためにキシレンの他にＣ6 〜Ｃ10程度の芳香
族炭化水素とアルカン、アルケンが副反応として生成
し、さらにＣ8 芳香族においてもＰ−キシレン、ｏ−キ
シレン、ｍ−キシレンの３種異性体とエチルベンゼンが
生成し、これらはそれぞれ熱力学的な平衡を形成して、
決まった組成になることが知られている。例えば３２７
℃におけるキシレンの３種異性体の組成はｐ−キシレ
ン：２３．８％、ｍ−キシレン：５３．２％、ｏ−キシ
レン：２３．０％のようになる。
【０００３】現在、ｐ−キシレンはこれらの副反応生成
物を蒸留あるいは深冷分離することにより分離している
が、分離装置が複雑で高価である。特に蒸留の場合は、
Ｃ8芳香族異性体の沸点が近接しているため条件制御が
困難であり、装置面及び操作面に伴うコストが大きい。
また、ｐ−キシレンは需要が拡大しており、今後工業的
価値に大きな影響を与えるためｐ−キシレンのコストの
低減が要望されている。
物を蒸留あるいは深冷分離することにより分離している
が、分離装置が複雑で高価である。特に蒸留の場合は、
Ｃ8芳香族異性体の沸点が近接しているため条件制御が
困難であり、装置面及び操作面に伴うコストが大きい。
また、ｐ−キシレンは需要が拡大しており、今後工業的
価値に大きな影響を与えるためｐ−キシレンのコストの
低減が要望されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記技術水準
に鑑み、熱力学的平衡組成以上のｐ−キシレンを選択的
に得られる方法を提供しようとするものである。
に鑑み、熱力学的平衡組成以上のｐ−キシレンを選択的
に得られる方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は従来技術が有す
る上記課題を解決することを目的としたものであり、特
定の組成、結晶構造を有する結晶性シリケートにアルカ
リ土類金属を含有した触媒がベンゼンあるいはトルエン
のアルキル化反応において副反応が少なく、特にｐ−キ
シレンが熱力学的な平衡組成以上の割合で選択的に生成
していることを見い出し本発明を完成するに至った。
る上記課題を解決することを目的としたものであり、特
定の組成、結晶構造を有する結晶性シリケートにアルカ
リ土類金属を含有した触媒がベンゼンあるいはトルエン
のアルキル化反応において副反応が少なく、特にｐ−キ
シレンが熱力学的な平衡組成以上の割合で選択的に生成
していることを見い出し本発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明はベンゼンあるいはトル
エンをエチレンあるいはメタノールを用いてアルキル化
させることによりｐ−キシレンを製造する方法におい
て、酸化物のモル比で、ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3
・ｙＳｉＯ2 （式中、Ｒ：アルカリ金属イオン、水素イ
オン、Ｍ：一種以上のアルカリ土類金属イオン、０．７
＜ａ＜１．２，ｂ＞０，ｙ＞３０）の化学組成を有し、
かつ下記表１に示す格子面間隔を有する結晶性シリケー
トを触媒として用いることを特徴とするｐ−キシレンの
選択的製造方法である。なお、本発明を実施するに際し
ては、上記触媒を粒状あるいはペレット状に成型したも
のを用いてもよいし、モノリス型に成形したものを用い
てもよい。
エンをエチレンあるいはメタノールを用いてアルキル化
させることによりｐ−キシレンを製造する方法におい
て、酸化物のモル比で、ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3
・ｙＳｉＯ2 （式中、Ｒ：アルカリ金属イオン、水素イ
オン、Ｍ：一種以上のアルカリ土類金属イオン、０．７
＜ａ＜１．２，ｂ＞０，ｙ＞３０）の化学組成を有し、
かつ下記表１に示す格子面間隔を有する結晶性シリケー
トを触媒として用いることを特徴とするｐ−キシレンの
選択的製造方法である。なお、本発明を実施するに際し
ては、上記触媒を粒状あるいはペレット状に成型したも
のを用いてもよいし、モノリス型に成形したものを用い
てもよい。
【０００７】
【表１】 ＶＳ：非常に強い Ｍ：中級 Ｓ：強い Ｗ：弱い
【０００８】（作用）本発明で使用される触媒の作用に
ついては、直径約０．６ｎｍの結晶性シリケートの細孔
にベンゼン環（分子直径約０．５５ｎｍ）が入り込み、
細孔中の酸点でアルキル化が起こるが、ベンゼン環が結
晶性シリケートの細孔中で立体的に束縛されるためにｐ
−キシレンが選択的に生成するものと考えられる。
ついては、直径約０．６ｎｍの結晶性シリケートの細孔
にベンゼン環（分子直径約０．５５ｎｍ）が入り込み、
細孔中の酸点でアルキル化が起こるが、ベンゼン環が結
晶性シリケートの細孔中で立体的に束縛されるためにｐ
−キシレンが選択的に生成するものと考えられる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明で使用する触媒を詳
細に説明する。本発明で使用する結晶性シリケートはシ
リカの給源、アルカリ土類金属、アルミナの給源、アル
カリの給源、水及び有機窒素化合物を含有する反応混合
物を作り、この混合物を結晶性シリケートが生成するの
に至る時間及び温度で加熱することにより合成される。
細に説明する。本発明で使用する結晶性シリケートはシ
リカの給源、アルカリ土類金属、アルミナの給源、アル
カリの給源、水及び有機窒素化合物を含有する反応混合
物を作り、この混合物を結晶性シリケートが生成するの
に至る時間及び温度で加熱することにより合成される。
【００１０】シリカの給源はゼオライトの合成において
普通に使用されるシリカの化合物であれば、何れのシリ
カの給源であってもよく、例えば固形シリカ粉末、コロ
イド状シリカ、または水ガラスなどの珪酸塩が用いられ
る。アルカリ土類元素としては、マグネシウム、カルシ
ウム、バリウムの硫酸塩あるいは硝酸塩が用いられる。
また、アルミナの給源は、アルミン酸ソーダが最も適し
ているが、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物または水酸
化物等の化合物が用いられる。アルカリの給源はナトリ
ウムなどのアルカリ金属の水酸化物またはアルミン酸、
珪酸との化合物などが用いられる。結晶性シリケートの
水熱合成原料の１つである有機窒素含有化合物として
は、ｎ−プロプルアミンなどの第１級アミン、ジプロピ
ルアミンなどの第２級アミン、トリプロピルアミンなど
の第３級アミンやテトラプロピルアンモニウム塩等の第
４級アンモニウム塩等が用いられる。
普通に使用されるシリカの化合物であれば、何れのシリ
カの給源であってもよく、例えば固形シリカ粉末、コロ
イド状シリカ、または水ガラスなどの珪酸塩が用いられ
る。アルカリ土類元素としては、マグネシウム、カルシ
ウム、バリウムの硫酸塩あるいは硝酸塩が用いられる。
また、アルミナの給源は、アルミン酸ソーダが最も適し
ているが、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物または水酸
化物等の化合物が用いられる。アルカリの給源はナトリ
ウムなどのアルカリ金属の水酸化物またはアルミン酸、
珪酸との化合物などが用いられる。結晶性シリケートの
水熱合成原料の１つである有機窒素含有化合物として
は、ｎ−プロプルアミンなどの第１級アミン、ジプロピ
ルアミンなどの第２級アミン、トリプロピルアミンなど
の第３級アミンやテトラプロピルアンモニウム塩等の第
４級アンモニウム塩等が用いられる。
【００１１】本発明で使用する結晶性シリケートは上記
原料混合物を結晶性シリケートが生成するに十分な温度
と時間加熱することにより合成されるが、水熱合成温度
は８０〜３００℃で好ましくは１３０〜２００℃の範囲
であり、また水熱合成時間は０．５〜１４日好ましくは
１〜１０日である。圧力は特に制限を受けないが、自圧
で実施するのが望ましい。本発明で使用する結晶性シリ
ケートは一定の結晶構造を有する規則正しい多孔性結晶
性物質であり、一般に前記表１に示すＸ線回析パターン
を示す。
原料混合物を結晶性シリケートが生成するに十分な温度
と時間加熱することにより合成されるが、水熱合成温度
は８０〜３００℃で好ましくは１３０〜２００℃の範囲
であり、また水熱合成時間は０．５〜１４日好ましくは
１〜１０日である。圧力は特に制限を受けないが、自圧
で実施するのが望ましい。本発明で使用する結晶性シリ
ケートは一定の結晶構造を有する規則正しい多孔性結晶
性物質であり、一般に前記表１に示すＸ線回析パターン
を示す。
【００１２】上記の水熱合成で得られる結晶性シリケー
トは、Ｎａ+ などのアルカリ金属イオン、（Ｃ3 Ｈ7 ）
4 Ｎ+ などの有機窒素含有化合物イオンを含有してい
る。これらのイオンの一部または全部を水素イオンに置
換するためには、空気中で４００〜７００℃の範囲で２
〜４８時間焼成することにより有機化合物を除去した
後、塩酸などの強酸に浸漬して直接Ｈ型にする方法など
がある。以上の方法により本発明に使用される触媒が得
られる。
トは、Ｎａ+ などのアルカリ金属イオン、（Ｃ3 Ｈ7 ）
4 Ｎ+ などの有機窒素含有化合物イオンを含有してい
る。これらのイオンの一部または全部を水素イオンに置
換するためには、空気中で４００〜７００℃の範囲で２
〜４８時間焼成することにより有機化合物を除去した
後、塩酸などの強酸に浸漬して直接Ｈ型にする方法など
がある。以上の方法により本発明に使用される触媒が得
られる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例及び比較例をあげ、本
発明の効果を明らかにする。
発明の効果を明らかにする。
【００１４】（実施例１）本発明に使用する結晶性シリ
ケートを一例として、次に示す方法で合成した。１９８
ｇの水に１４０ｇの水ガラス（Ｎａ2 Ｏ・３．４ＳｉＯ
2 ・２４Ｈ2 Ｏ）を溶解して溶液Ａを作った。次に、３
１６ｇの水と１１．８ｇの硫酸の混合物中に１０．８ｇ
の硫酸アルミニウム｛Ａｌ2 （ＳＯ4 ）3 ・１６Ｈ
2 Ｏ｝及び０．４３ｇの硫酸カルシウム（ＣａＳＯ4 ・
２Ｈ2 Ｏ）を溶解させて溶液Ｂを作った。上記酸は存在
する過剰アルカリを中和することにより反応混合組成物
を所要のＮａ2 Ｏ／ＳｉＯ2 範囲にするものである。
ケートを一例として、次に示す方法で合成した。１９８
ｇの水に１４０ｇの水ガラス（Ｎａ2 Ｏ・３．４ＳｉＯ
2 ・２４Ｈ2 Ｏ）を溶解して溶液Ａを作った。次に、３
１６ｇの水と１１．８ｇの硫酸の混合物中に１０．８ｇ
の硫酸アルミニウム｛Ａｌ2 （ＳＯ4 ）3 ・１６Ｈ
2 Ｏ｝及び０．４３ｇの硫酸カルシウム（ＣａＳＯ4 ・
２Ｈ2 Ｏ）を溶解させて溶液Ｂを作った。上記酸は存在
する過剰アルカリを中和することにより反応混合組成物
を所要のＮａ2 Ｏ／ＳｉＯ2 範囲にするものである。
【００１５】溶液Ｂを溶液Ａ中に攪拌混合し（３０分
間）、更に１２．７ｇのテトラプロピルアンモニウムブ
ロマイドを加えた後、１リットルのテフロン内張りステ
ンレス鋼オートクレーブ内で１８０℃、２日間激しくか
き混ぜながら反応させた。冷却固形分をろ過し、十分洗
浄した後、１２０℃で１２時間乾燥してカルシウム含有
結晶性シリケートを得た。この生成物の結晶粒径は５μ
ｍ程度であり、有機化合物を除外した組成は０．８Ｎａ
2 Ｏ・０．６７ＣａＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４０ＳｉＯ 2 であ
りＳｉ／Ａｌ比：８０、Ｓｉ／Ｃａ比：約６０であっ
た。
間）、更に１２．７ｇのテトラプロピルアンモニウムブ
ロマイドを加えた後、１リットルのテフロン内張りステ
ンレス鋼オートクレーブ内で１８０℃、２日間激しくか
き混ぜながら反応させた。冷却固形分をろ過し、十分洗
浄した後、１２０℃で１２時間乾燥してカルシウム含有
結晶性シリケートを得た。この生成物の結晶粒径は５μ
ｍ程度であり、有機化合物を除外した組成は０．８Ｎａ
2 Ｏ・０．６７ＣａＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４０ＳｉＯ 2 であ
りＳｉ／Ａｌ比：８０、Ｓｉ／Ｃａ比：約６０であっ
た。
【００１６】上記のように合成した結晶性シリケートを
１Ｎの塩酸に浸漬し、８０℃で３日間処理し、前記公知
の慣用法によりナトリウムイオンを水素イオンに置換し
た（水素イオン置換量：約７０％）。これを洗浄ろ過し
た後、１２０℃で１２時間乾燥、更に５５０℃で５時間
焼成し、圧縮成型したものを下記に示す反応条件でメタ
ノール及びトルエンの混合溶液と接触させ表２のような
結果を得た。
１Ｎの塩酸に浸漬し、８０℃で３日間処理し、前記公知
の慣用法によりナトリウムイオンを水素イオンに置換し
た（水素イオン置換量：約７０％）。これを洗浄ろ過し
た後、１２０℃で１２時間乾燥、更に５５０℃で５時間
焼成し、圧縮成型したものを下記に示す反応条件でメタ
ノール及びトルエンの混合溶液と接触させ表２のような
結果を得た。
【００１７】
【表２】 ※p-キシレン選択率（％）＝生成p-キシレン分率／生成全キシレン分率×１００
【００１８】表２のようにカルシウムを含有した結晶性
シリケートを触媒に用いた場合、温度３００〜６００℃
の範囲でｐ−キシレンの選択率が４０％以上になり、熱
力学的な平衡組成以上になった。
シリケートを触媒に用いた場合、温度３００〜６００℃
の範囲でｐ−キシレンの選択率が４０％以上になり、熱
力学的な平衡組成以上になった。
【００１９】（実施例２）１２０ｇの水に８１ｇの水ガ
ラス（Ｎａ2 Ｏ・３．４ＳｉＯ2 ・２４Ｈ2 Ｏ）を溶解
して溶液Ｃを作った。次に、１４２ｇの水と６．４ｇの
硫酸の混合物中に０．７８ｇの硫酸アルミニウム｛Ａｌ
2 （ＳＯ4 ）3 ・１６Ｈ2 Ｏ｝及び３．０６ｇの硫酸バ
リウム（ＢａＳＯ4 ）を溶解して溶液Ｄを作った。次に
溶液Ｄを溶液Ｃ中に攪拌混合し（２０分間）、更に７．
０ｇのｎ−プロピルアミンを加えた後、１リットルのテ
フロン内張りステンレス鋼オートクレーブ内で２００
℃、２日間激しくかき混ぜながら反応させた。冷却固形
分をろ過し、十分洗浄した後、１１０℃で１２時間乾燥
して、バリウム含有結晶性シリケートを得た。この結晶
性シリケートの組成は１．２Ｎａ2 Ｏ・５．３ＢａＯ・
Ａｌ2 Ｏ3 ・１６０ＳｉＯ2 であり、Ｓｉ／Ａｌ比：３
２０、Ｓｉ／Ｂａ比：約３０、結晶粒径は５μｍであっ
た。
ラス（Ｎａ2 Ｏ・３．４ＳｉＯ2 ・２４Ｈ2 Ｏ）を溶解
して溶液Ｃを作った。次に、１４２ｇの水と６．４ｇの
硫酸の混合物中に０．７８ｇの硫酸アルミニウム｛Ａｌ
2 （ＳＯ4 ）3 ・１６Ｈ2 Ｏ｝及び３．０６ｇの硫酸バ
リウム（ＢａＳＯ4 ）を溶解して溶液Ｄを作った。次に
溶液Ｄを溶液Ｃ中に攪拌混合し（２０分間）、更に７．
０ｇのｎ−プロピルアミンを加えた後、１リットルのテ
フロン内張りステンレス鋼オートクレーブ内で２００
℃、２日間激しくかき混ぜながら反応させた。冷却固形
分をろ過し、十分洗浄した後、１１０℃で１２時間乾燥
して、バリウム含有結晶性シリケートを得た。この結晶
性シリケートの組成は１．２Ｎａ2 Ｏ・５．３ＢａＯ・
Ａｌ2 Ｏ3 ・１６０ＳｉＯ2 であり、Ｓｉ／Ａｌ比：３
２０、Ｓｉ／Ｂａ比：約３０、結晶粒径は５μｍであっ
た。
【００２０】上記のように合成した結晶性シリケートを
１Ｎの塩酸に浸漬し、８０℃で３日間処理し、ナトリウ
ムイオンを水素イオンに置換した（水素イオン置換量：
約８０％）。これを洗浄ろ過した後、乾燥、更に５５０
℃で５時間焼成し、圧縮成型したものを下記に示す反応
条件でベンゼンを一定割合のエチレンと接触させ下記表
３の結果を得た。
１Ｎの塩酸に浸漬し、８０℃で３日間処理し、ナトリウ
ムイオンを水素イオンに置換した（水素イオン置換量：
約８０％）。これを洗浄ろ過した後、乾燥、更に５５０
℃で５時間焼成し、圧縮成型したものを下記に示す反応
条件でベンゼンを一定割合のエチレンと接触させ下記表
３の結果を得た。
【００２１】
【表３】 ※p-キシレン選択率（％）＝生成p-キシレン分率／生成全キシレン分率×１００
【００２２】（比較例）１２０ｇの水に８１ｇの水ガラ
ス（Ｎａ2 Ｏ・３．４ＳｉＯ2 ・２４Ｈ2 Ｏ）を溶解し
て溶液Ｃを作った。次に、１５０ｇの水と５．２ｇの硫
酸の混合物中に３．１ｇの硫酸アルミニウム｛Ａｌ
2 （ＳＯ4 ）3 ・１６Ｈ2 Ｏ｝を溶解して溶液Ｄを作っ
た。次に溶液Ｄを溶液Ｃ中に攪拌混合し（２０分間）、
更に７．８ｇのｎ−プロピルアミンを加えた後、１１の
テフロン内張りステンレス鋼オートクレーブ内で２００
℃、２日間激しくかき混ぜながら反応させた。冷却固形
分をろ過し、十分洗浄した後、１１０℃で１２時間乾燥
して、バリウム含有結晶性シリケートを得た。この結晶
性シリケートの組成は１．２Ｎａ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４
０ＳｉＯ2 であり、Ｓｉ／Ａｌ比：８０、結晶粒径は
０．７μｍであった。
ス（Ｎａ2 Ｏ・３．４ＳｉＯ2 ・２４Ｈ2 Ｏ）を溶解し
て溶液Ｃを作った。次に、１５０ｇの水と５．２ｇの硫
酸の混合物中に３．１ｇの硫酸アルミニウム｛Ａｌ
2 （ＳＯ4 ）3 ・１６Ｈ2 Ｏ｝を溶解して溶液Ｄを作っ
た。次に溶液Ｄを溶液Ｃ中に攪拌混合し（２０分間）、
更に７．８ｇのｎ−プロピルアミンを加えた後、１１の
テフロン内張りステンレス鋼オートクレーブ内で２００
℃、２日間激しくかき混ぜながら反応させた。冷却固形
分をろ過し、十分洗浄した後、１１０℃で１２時間乾燥
して、バリウム含有結晶性シリケートを得た。この結晶
性シリケートの組成は１．２Ｎａ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４
０ＳｉＯ2 であり、Ｓｉ／Ａｌ比：８０、結晶粒径は
０．７μｍであった。
【００２３】上記のように合成した結晶性シリケートを
１Ｎの塩酸に浸漬し、８０℃で３日間処理し、ナトリウ
ムイオンを水素イオンに置換した（水素イオン置換量：
約７０％）。これを洗浄ろ過した後、乾燥、更に５５０
℃で５時間焼成し、圧縮成型してアルカリ土類金属を含
有していない結晶性シリケート触媒を合成した。この触
媒をベンゼンとエチレンとの反応及びトルエンとメタノ
ールとの反応について下記に示す反応条件で試験を行い
下記表４及び表５の結果を得た。
１Ｎの塩酸に浸漬し、８０℃で３日間処理し、ナトリウ
ムイオンを水素イオンに置換した（水素イオン置換量：
約７０％）。これを洗浄ろ過した後、乾燥、更に５５０
℃で５時間焼成し、圧縮成型してアルカリ土類金属を含
有していない結晶性シリケート触媒を合成した。この触
媒をベンゼンとエチレンとの反応及びトルエンとメタノ
ールとの反応について下記に示す反応条件で試験を行い
下記表４及び表５の結果を得た。
【００２４】
【表４】
【００２５】
【表５】
【００２６】上記結果より、アルカリ土類金属を含有し
ない結晶性シリケート触媒を用いた場合、ｐ−キシレン
選択率が熱力学的平衡組成付近になる。
ない結晶性シリケート触媒を用いた場合、ｐ−キシレン
選択率が熱力学的平衡組成付近になる。
【００２７】
【発明の効果】以上、実施例に示したように、ベンゼン
とエチレンあるいはトルエンとメタノールとの反応にお
いて、従来熱力学的平衡組成であったものが本発明の結
晶性シリケートにアルカリ土類金属を含有させた触媒を
用いることにより、熱力学的平衡組成以上のｐ−キシレ
ンを得ることが可能となった。
とエチレンあるいはトルエンとメタノールとの反応にお
いて、従来熱力学的平衡組成であったものが本発明の結
晶性シリケートにアルカリ土類金属を含有させた触媒を
用いることにより、熱力学的平衡組成以上のｐ−キシレ
ンを得ることが可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 幸男 広島県広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 ベンゼンあるいはトルエンをエチレンあ
るいはメタノールを用いてアルキル化させることにより
ｐ−キシレンを製造する方法において、酸化物のモル比
で、ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｙＳｉＯ2 （式
中、Ｒ：アルカリ金属イオン、水素イオン、Ｍ：一種以
上のアルカリ土類金属イオン、０．７＜ａ＜１．２，ｂ
＞０，ｙ＞３０）の化学組成を有し、かつ本文に詳記す
る表１に示す格子面間隔を有する結晶性シリケートを触
媒として用いることを特徴とするｐ−キシレンの選択的
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8012795A JPH09208502A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | ｐ−キシレンの選択的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8012795A JPH09208502A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | ｐ−キシレンの選択的製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09208502A true JPH09208502A (ja) | 1997-08-12 |
Family
ID=11815340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8012795A Withdrawn JPH09208502A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | ｐ−キシレンの選択的製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09208502A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002126535A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-05-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 一酸化炭素選択酸化触媒およびその製造方法 |
| WO2004000767A1 (en) * | 2002-06-19 | 2003-12-31 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes from reformate |
| US7119239B2 (en) | 2002-06-19 | 2006-10-10 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes using reformate |
| US7176339B2 (en) | 2002-06-19 | 2007-02-13 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes using reformate |
| WO2010151346A1 (en) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | Uop Llc | Carbohydrate route to para-xylene and terephthalic acid |
-
1996
- 1996-01-29 JP JP8012795A patent/JPH09208502A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002126535A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-05-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 一酸化炭素選択酸化触媒およびその製造方法 |
| WO2004000767A1 (en) * | 2002-06-19 | 2003-12-31 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes from reformate |
| US7119239B2 (en) | 2002-06-19 | 2006-10-10 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes using reformate |
| US7176339B2 (en) | 2002-06-19 | 2007-02-13 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes using reformate |
| US7396967B2 (en) | 2002-06-19 | 2008-07-08 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes using reformate |
| US7655823B2 (en) | 2002-06-19 | 2010-02-02 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Manufacture of xylenes from reformate |
| WO2010151346A1 (en) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | Uop Llc | Carbohydrate route to para-xylene and terephthalic acid |
| CN102482177A (zh) * | 2009-06-26 | 2012-05-30 | 环球油品公司 | 对二甲苯和对苯二甲酸的碳水化合物途径 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030401 |