JPH09213530A - 平面トランス - Google Patents
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- JPH09213530A JPH09213530A JP8014653A JP1465396A JPH09213530A JP H09213530 A JPH09213530 A JP H09213530A JP 8014653 A JP8014653 A JP 8014653A JP 1465396 A JP1465396 A JP 1465396A JP H09213530 A JPH09213530 A JP H09213530A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F27/00—Details of transformers or inductances, in general
- H01F27/28—Coils; Windings; Conductive connections
- H01F27/2804—Printed windings
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Insulating Of Coils (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、小型化薄型化が容易であって1次
コイルの巻線数と2次コイルの巻線数を変えることで出
力電圧の変成も容易にでき、発熱も少なくでき、かつ電
磁波ノイズ放射がほとんどない平面トランスの提供を目
的とする。 【解決手段】 本発明は、磁性体からなる基体1に収納
溝5が形成され、この収納溝5に1次平面コイル10と
2次平面コイル8が収納された平面トランスであって、
1次平面コイル10と2次平面コイル8の少なくとも一
方が複数に分割されて出力電圧変成自在に構成されてな
るものである。
コイルの巻線数と2次コイルの巻線数を変えることで出
力電圧の変成も容易にでき、発熱も少なくでき、かつ電
磁波ノイズ放射がほとんどない平面トランスの提供を目
的とする。 【解決手段】 本発明は、磁性体からなる基体1に収納
溝5が形成され、この収納溝5に1次平面コイル10と
2次平面コイル8が収納された平面トランスであって、
1次平面コイル10と2次平面コイル8の少なくとも一
方が複数に分割されて出力電圧変成自在に構成されてな
るものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は小型薄型化を実現で
きる特殊な形状の平面トランスに関する。
きる特殊な形状の平面トランスに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、携帯用情報機器の普及等に見られ
るように電子機器の小型化薄型化が求められ、これらの
機器に組み込まれる電源回路の小型化薄型化の要求も高
まってきているが、特にトランスやインダクタ等の磁気
素子の小型化薄型化が重要な課題となっている。従来、
この種の電子機器に搭載されるトランスにおいては、急
冷法で製造したアモルファス合金などの薄帯を巻回して
構成した円環状の磁性体からなる磁気コアに1次巻線と
2次巻線を施した構成のトロイダルコアを備えたトラン
ス、あるいは、E型の磁性体とI型の磁性体を組み合わ
せた形状の磁気コア(EIコア型の磁気コア)に対して
E型の磁性体の中央部分に巻線を施した構成のトランス
などが知られている。
るように電子機器の小型化薄型化が求められ、これらの
機器に組み込まれる電源回路の小型化薄型化の要求も高
まってきているが、特にトランスやインダクタ等の磁気
素子の小型化薄型化が重要な課題となっている。従来、
この種の電子機器に搭載されるトランスにおいては、急
冷法で製造したアモルファス合金などの薄帯を巻回して
構成した円環状の磁性体からなる磁気コアに1次巻線と
2次巻線を施した構成のトロイダルコアを備えたトラン
ス、あるいは、E型の磁性体とI型の磁性体を組み合わ
せた形状の磁気コア(EIコア型の磁気コア)に対して
E型の磁性体の中央部分に巻線を施した構成のトランス
などが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、電子機器の
小型化薄型化に伴い、高さ数mmのトランスが必要とさ
れてきているが、従来のトロイダルコアを備えたトラン
スにおいては、円環状の磁性体を薄く形成すると磁性体
自身の強度が不足し、強度的に問題を生じるおそれがあ
り、また、薄帯を巻回して円環状の磁性体を構成する場
合に、製造可能な薄帯の幅にも限度があり、この薄帯の
幅によって円環状の磁性体の厚さが制限されるので、円
環状の磁性体を薄くするにも限度があるとともに、その
ような薄い磁性体に施し得る巻線数も制限されるという
問題がある。次に、E型の磁性体とI型の磁性体を組み
合わせたEIコア型の磁気コアにおいては、E型の磁性
体とI型の磁性体を重ね合わせるので全体の厚みがある
程度必要になり、これに加えて巻線部分の厚さが加わる
ので、全体の厚さを数mmの大きさにすることは困難な
状況にある。更に、コイル巻線を露出形とした従来のト
ランスやインダクタは、不要な高周波電磁界を放出し、
電磁ノイズを引き起こすとともに、これらのトランスや
インダクタンスを取り付けた同じマザーボード上のIC
や他の機器の誤動作の原因ともなっていた。
小型化薄型化に伴い、高さ数mmのトランスが必要とさ
れてきているが、従来のトロイダルコアを備えたトラン
スにおいては、円環状の磁性体を薄く形成すると磁性体
自身の強度が不足し、強度的に問題を生じるおそれがあ
り、また、薄帯を巻回して円環状の磁性体を構成する場
合に、製造可能な薄帯の幅にも限度があり、この薄帯の
幅によって円環状の磁性体の厚さが制限されるので、円
環状の磁性体を薄くするにも限度があるとともに、その
ような薄い磁性体に施し得る巻線数も制限されるという
問題がある。次に、E型の磁性体とI型の磁性体を組み
合わせたEIコア型の磁気コアにおいては、E型の磁性
体とI型の磁性体を重ね合わせるので全体の厚みがある
程度必要になり、これに加えて巻線部分の厚さが加わる
ので、全体の厚さを数mmの大きさにすることは困難な
状況にある。更に、コイル巻線を露出形とした従来のト
ランスやインダクタは、不要な高周波電磁界を放出し、
電磁ノイズを引き起こすとともに、これらのトランスや
インダクタンスを取り付けた同じマザーボード上のIC
や他の機器の誤動作の原因ともなっていた。
【0004】また、前記トロイダルコアを備えたトラン
スにしてもEIコアを用いたトランスにしても、いずれ
も樹脂製のボビンに収納することが必要になるが、樹脂
被覆を施して樹脂ボビンに磁気コアを収納すると、トラ
ンス内部で発生した熱を樹脂被覆と樹脂ボビンが蓄積
し、この熱を外部に効率よく発散させることができない
ために、磁気コア全体が過熱し易い問題がある。更に、
EIコア形状では、磁束の集中による鉄損の増加、およ
び、銅線と磁束の交鎖による銅損の増加の問題があり、
EIコアの構造に起因して熱の集中点が発生するという
欠点もあった。
スにしてもEIコアを用いたトランスにしても、いずれ
も樹脂製のボビンに収納することが必要になるが、樹脂
被覆を施して樹脂ボビンに磁気コアを収納すると、トラ
ンス内部で発生した熱を樹脂被覆と樹脂ボビンが蓄積
し、この熱を外部に効率よく発散させることができない
ために、磁気コア全体が過熱し易い問題がある。更に、
EIコア形状では、磁束の集中による鉄損の増加、およ
び、銅線と磁束の交鎖による銅損の増加の問題があり、
EIコアの構造に起因して熱の集中点が発生するという
欠点もあった。
【0005】本発明は前記事情に鑑みてなされたもので
あり、従来のトロイダル型のトランスなどとは全く構成
が異なる新規な構成であって、導体を埋め込み構造にす
ることによって、電流分布の均一化による銅損の低減
と、平面形構造による磁束集中を無くすることによって
銅損を低減し、発熱を抑え、かつ放熱がし易い構成であ
って、小型化薄型化が容易であり、1次コイルの巻線数
と2次コイルの巻線数を変えることで出力電圧の変成も
容易にできるとともに、各コイルが磁性体で囲まれてい
る構造とすることで動作磁束が外部へ漏れないように
し、電磁ノイズの放射がほとんど生じないようにした平
面トランスの提供を目的とする。
あり、従来のトロイダル型のトランスなどとは全く構成
が異なる新規な構成であって、導体を埋め込み構造にす
ることによって、電流分布の均一化による銅損の低減
と、平面形構造による磁束集中を無くすることによって
銅損を低減し、発熱を抑え、かつ放熱がし易い構成であ
って、小型化薄型化が容易であり、1次コイルの巻線数
と2次コイルの巻線数を変えることで出力電圧の変成も
容易にできるとともに、各コイルが磁性体で囲まれてい
る構造とすることで動作磁束が外部へ漏れないように
し、電磁ノイズの放射がほとんど生じないようにした平
面トランスの提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は前
記課題を解決するために、磁性体からなる基体に収納溝
を形成し、この収納溝に1次平面コイルと2次平面コイ
ルを収納した平面トランスであって、1次平面コイルと
2次平面コイルの少なくとも一方を複数個の導体からな
り出力電圧変成自在に構成してなるものである。前記構
成において、磁性体からなる複数の基体と、それらの間
に介在されるギャップ絶縁層と、それらに収納される1
次平面コイルと主絶縁層と2次平面コイルを具備してな
り、前記複数の基体の少なくとも一つの少なくとも一面
に、各平面コイルのほぼ全長形状に沿った形状の収納溝
を形成し、この収納溝に1次平面コイルと主絶縁層と2
次平面コイルを積層収納し、基体どうしをギャップ絶縁
層を介して一体化してなる構成とすることができる。前
記構成において、基体を板状とし、この基体の一面に平
面コイルのほぼ全長形状に沿った形状の収納溝を形成
し、基体の一面にギャップ絶縁層を介して磁性体からな
る別の基体を前記収納溝を閉じた状態で取り付けること
ができる。前記構成において、平面コイルを葛折状ある
いは渦巻状に形成することもできる。次に、収納溝に積
層された平面コイルにおける上部の平面コイルと下部の
平面コイルの各々の横断面の幅が、中央部の平面コイル
の横断面の幅よりも短く形成されてなることが好まし
い。更に、前記構成において、ギャップ絶縁層の厚さを
1〜50μmの範囲にすることが好ましく、前記複数の
基体にそれぞれ収納溝を形成することもできる。前記構
成において、1次平面コイルと2次平面コイルの少なく
とも一方を、それらの全長にわたる中心線で2分割し、
分割された1次平面コイルどうしまたは2次平面コイル
どうしを相互に接続して連続平面コイルとすることもで
きる。
記課題を解決するために、磁性体からなる基体に収納溝
を形成し、この収納溝に1次平面コイルと2次平面コイ
ルを収納した平面トランスであって、1次平面コイルと
2次平面コイルの少なくとも一方を複数個の導体からな
り出力電圧変成自在に構成してなるものである。前記構
成において、磁性体からなる複数の基体と、それらの間
に介在されるギャップ絶縁層と、それらに収納される1
次平面コイルと主絶縁層と2次平面コイルを具備してな
り、前記複数の基体の少なくとも一つの少なくとも一面
に、各平面コイルのほぼ全長形状に沿った形状の収納溝
を形成し、この収納溝に1次平面コイルと主絶縁層と2
次平面コイルを積層収納し、基体どうしをギャップ絶縁
層を介して一体化してなる構成とすることができる。前
記構成において、基体を板状とし、この基体の一面に平
面コイルのほぼ全長形状に沿った形状の収納溝を形成
し、基体の一面にギャップ絶縁層を介して磁性体からな
る別の基体を前記収納溝を閉じた状態で取り付けること
ができる。前記構成において、平面コイルを葛折状ある
いは渦巻状に形成することもできる。次に、収納溝に積
層された平面コイルにおける上部の平面コイルと下部の
平面コイルの各々の横断面の幅が、中央部の平面コイル
の横断面の幅よりも短く形成されてなることが好まし
い。更に、前記構成において、ギャップ絶縁層の厚さを
1〜50μmの範囲にすることが好ましく、前記複数の
基体にそれぞれ収納溝を形成することもできる。前記構
成において、1次平面コイルと2次平面コイルの少なく
とも一方を、それらの全長にわたる中心線で2分割し、
分割された1次平面コイルどうしまたは2次平面コイル
どうしを相互に接続して連続平面コイルとすることもで
きる。
【0007】次に、前記収納溝の溝幅を0.2〜2mm
の範囲とすることが好ましく、前記基体は1MHzでの
透磁率200以上の磁性体からなることが好ましい。更
に、1次平面コイルと2次平面コイルの間に配置された
主絶縁層あるいはギャップ絶縁層をポリ塩化ビニル、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカー
ボネート、ポリエステル、フッ素樹脂(ポリ四フッ化エ
チレン)、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン
テレフタレート、ナイロン、エポキシ樹脂の内から選択
される1種からなるものとすることが好ましく、コイル
を導電材料からなる箔体と樹脂フィルムの2層構造にす
ることができる。
の範囲とすることが好ましく、前記基体は1MHzでの
透磁率200以上の磁性体からなることが好ましい。更
に、1次平面コイルと2次平面コイルの間に配置された
主絶縁層あるいはギャップ絶縁層をポリ塩化ビニル、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカー
ボネート、ポリエステル、フッ素樹脂(ポリ四フッ化エ
チレン)、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン
テレフタレート、ナイロン、エポキシ樹脂の内から選択
される1種からなるものとすることが好ましく、コイル
を導電材料からなる箔体と樹脂フィルムの2層構造にす
ることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例について説明する。図1〜図3は本発明に係る平面
トランスの第1の例を示すもので、この例の平面トラン
スAは、後述する平面コイルが収納された板状の磁性体
からなる基体1と、この基体1の上面に被着されたギャ
ップ絶縁層2と、このギャップ絶縁層2上に被着された
磁性体からなる平面上の基体3を主体として構成されて
いる。前記基体1と基体3を構成する磁性体は、Ni-
Znフェライト、Mn-Znフェライトなどのような高
電気抵抗、高透磁率の磁性体からなり、ギャップ絶縁層
2は絶縁性の樹脂フィルムから構成されている。
施例について説明する。図1〜図3は本発明に係る平面
トランスの第1の例を示すもので、この例の平面トラン
スAは、後述する平面コイルが収納された板状の磁性体
からなる基体1と、この基体1の上面に被着されたギャ
ップ絶縁層2と、このギャップ絶縁層2上に被着された
磁性体からなる平面上の基体3を主体として構成されて
いる。前記基体1と基体3を構成する磁性体は、Ni-
Znフェライト、Mn-Znフェライトなどのような高
電気抵抗、高透磁率の磁性体からなり、ギャップ絶縁層
2は絶縁性の樹脂フィルムから構成されている。
【0009】前記基体1、3を構成する磁性体は、1M
Hzで200以上の透磁率を有するものを使用すること
が好ましく、1MHzで1000以上の透磁率のものを
用いることがより好ましい。これは、後述する如く平面
コイルの近傍に高透磁率の磁性体を配置することにより
平面コイルの外周縁部のインダクタンスを大きくし、平
面コイル中の電流密度を均一化して平面コイルでの局部
発熱を避けるためであり、基体1と基体3の透磁率が低
いと平面コイルが発熱する割合が大きくなるので好まし
くない。また、基体1あるいは基体3をNi-Znフェ
ライト、Mn-Znフェライトなどのような高電気抵
抗、高透磁率の磁性体から構成すると、これらが熱伝導
性にも優れているので、平面コイル部分あるいは基体1
あるいは基体3で生じた熱を効率よくそれらの外部に逃
がすことができる。
Hzで200以上の透磁率を有するものを使用すること
が好ましく、1MHzで1000以上の透磁率のものを
用いることがより好ましい。これは、後述する如く平面
コイルの近傍に高透磁率の磁性体を配置することにより
平面コイルの外周縁部のインダクタンスを大きくし、平
面コイル中の電流密度を均一化して平面コイルでの局部
発熱を避けるためであり、基体1と基体3の透磁率が低
いと平面コイルが発熱する割合が大きくなるので好まし
くない。また、基体1あるいは基体3をNi-Znフェ
ライト、Mn-Znフェライトなどのような高電気抵
抗、高透磁率の磁性体から構成すると、これらが熱伝導
性にも優れているので、平面コイル部分あるいは基体1
あるいは基体3で生じた熱を効率よくそれらの外部に逃
がすことができる。
【0010】前記基体1の上面1aには平面略葛折状あ
るいは略櫛刃状に形成された収納溝5が基体1の上面1
aと側面1bに開口して形成されている。この例の収納
溝5にあっては、入口部6と出口部7から短尺の直線状
部分があってこの直線状部分を介してその他の部分が葛
折状あるいは櫛刃状に形成されている。更に詳述する
と、この収納溝5は、入口部6と出口部7を基体1の上
面1aと側面1bに開口させるとともに、入口部6から
出口部7に至る略葛折状部分を基体1の上面1aに開口
させ、入口部6から出口部7までの間の略葛折状部分で
基体1の上面1aのできるだけ多くの部分を交差しない
状態で通過するように形成されたものである。なお、図
1と図2の例では収納溝5を平面葛折状あるいは櫛刃状
に形成しているが、後述する如く渦巻状あるいは鋸刃状
などの他の平面形状であって、入口部6から出口部7ま
での間の部分が途中で交差しない形状であれば、任意の
形状であって差し支えない。また、収納溝5の溝幅は、
0.2〜2mmの範囲が好ましく、0.4〜2mmの範囲
がより好ましい。これらの関係は、後述する結合係数と
導体幅との関係から求められ、収納溝5の溝幅が0.4
mmを下回ると結合係数の低下割合が大きくなり始め、
溝幅が0.2mmを下回ると結合係数の低下割合が大き
いのでこのような範囲が好ましい。
るいは略櫛刃状に形成された収納溝5が基体1の上面1
aと側面1bに開口して形成されている。この例の収納
溝5にあっては、入口部6と出口部7から短尺の直線状
部分があってこの直線状部分を介してその他の部分が葛
折状あるいは櫛刃状に形成されている。更に詳述する
と、この収納溝5は、入口部6と出口部7を基体1の上
面1aと側面1bに開口させるとともに、入口部6から
出口部7に至る略葛折状部分を基体1の上面1aに開口
させ、入口部6から出口部7までの間の略葛折状部分で
基体1の上面1aのできるだけ多くの部分を交差しない
状態で通過するように形成されたものである。なお、図
1と図2の例では収納溝5を平面葛折状あるいは櫛刃状
に形成しているが、後述する如く渦巻状あるいは鋸刃状
などの他の平面形状であって、入口部6から出口部7ま
での間の部分が途中で交差しない形状であれば、任意の
形状であって差し支えない。また、収納溝5の溝幅は、
0.2〜2mmの範囲が好ましく、0.4〜2mmの範囲
がより好ましい。これらの関係は、後述する結合係数と
導体幅との関係から求められ、収納溝5の溝幅が0.4
mmを下回ると結合係数の低下割合が大きくなり始め、
溝幅が0.2mmを下回ると結合係数の低下割合が大き
いのでこのような範囲が好ましい。
【0011】次に前記収納溝5には、その上側から順に
収納溝5と同じ平面形状の2次平面コイル8、8、主絶
縁層9、1次平面コイル10が積層状態で収納されてい
る。前記2次平面コイル8は銅などの導電材料のフィル
ム導体12の外周部に樹脂絶縁膜13が形成されたもの
で、1次平面コイル10も同様に銅などの導電材料のフ
ィルム導体14の外周部に樹脂絶縁膜15が形成された
ものである。また、各コイル8、10は、収納溝5の入
口部6と出口部7に収納される短尺の直線状部8a、1
0aと、これら直線状部8a、10aに連続する平面葛
折状あるいは櫛刃状の折曲部8b、10bから構成され
ている。
収納溝5と同じ平面形状の2次平面コイル8、8、主絶
縁層9、1次平面コイル10が積層状態で収納されてい
る。前記2次平面コイル8は銅などの導電材料のフィル
ム導体12の外周部に樹脂絶縁膜13が形成されたもの
で、1次平面コイル10も同様に銅などの導電材料のフ
ィルム導体14の外周部に樹脂絶縁膜15が形成された
ものである。また、各コイル8、10は、収納溝5の入
口部6と出口部7に収納される短尺の直線状部8a、1
0aと、これら直線状部8a、10aに連続する平面葛
折状あるいは櫛刃状の折曲部8b、10bから構成され
ている。
【0012】前記フィルム導体12、14の厚さは5〜
100μm、横断面の横幅は0.3〜2mmの範囲が好
ましく、厚さは35〜100μmの範囲がより好まし
い。この理由は、1MHzの電流のスキンデプスは約6
6μmであり、フィルム導体12、14の厚さを必要以
上に厚くしても、直流の抵抗は小さくできるが、交流抵
抗は小さくならず、また結合係数が小さくなり、一方、
フィルム導体12、14の厚さを薄くしてゆくと、直流
の抵抗が大きくなる。従って、直流抵抗が小さく、か
つ、結合が良い導体の厚さは35μmとなる。よってフ
ィルム導体12、14の厚さを5〜100μm、より好
ましくは35〜100μm、横断面の横幅を0.3〜2
mmの範囲とすることが好ましい。なお、フィルム導体
12、14の厚さが5μm未満であると、製造技術上、
均一な厚さの銅箔を製造することが困難であり、好まし
くない。また、フィルム導体の厚さが100μmよりも
大きくなると直流抵抗は小さくできるが、前述したよう
に、結合係数が悪化する。ここで例えば、厚さ200μ
mのフィルム導体を1枚使用するよりも、100μmの
フィルム導体を2枚重ねて並列に配線することにより、
フィルム導体のトータルとしての厚さを200μmとし
て同じにしても、同じ値の電流を1〜10MHzで流し
た場合の発熱をより低く抑えることができる。これは複
数のフィルム導体を重ね合わせて並列に配線する構造の
方が、1枚ものの構造よりもスキンデプスの効果を考え
ると発熱を抑制でき、有効であるためである。
100μm、横断面の横幅は0.3〜2mmの範囲が好
ましく、厚さは35〜100μmの範囲がより好まし
い。この理由は、1MHzの電流のスキンデプスは約6
6μmであり、フィルム導体12、14の厚さを必要以
上に厚くしても、直流の抵抗は小さくできるが、交流抵
抗は小さくならず、また結合係数が小さくなり、一方、
フィルム導体12、14の厚さを薄くしてゆくと、直流
の抵抗が大きくなる。従って、直流抵抗が小さく、か
つ、結合が良い導体の厚さは35μmとなる。よってフ
ィルム導体12、14の厚さを5〜100μm、より好
ましくは35〜100μm、横断面の横幅を0.3〜2
mmの範囲とすることが好ましい。なお、フィルム導体
12、14の厚さが5μm未満であると、製造技術上、
均一な厚さの銅箔を製造することが困難であり、好まし
くない。また、フィルム導体の厚さが100μmよりも
大きくなると直流抵抗は小さくできるが、前述したよう
に、結合係数が悪化する。ここで例えば、厚さ200μ
mのフィルム導体を1枚使用するよりも、100μmの
フィルム導体を2枚重ねて並列に配線することにより、
フィルム導体のトータルとしての厚さを200μmとし
て同じにしても、同じ値の電流を1〜10MHzで流し
た場合の発熱をより低く抑えることができる。これは複
数のフィルム導体を重ね合わせて並列に配線する構造の
方が、1枚ものの構造よりもスキンデプスの効果を考え
ると発熱を抑制でき、有効であるためである。
【0013】また、実際の使用において、1次側と2次
側の出力電圧比によって、導体の重ね枚数が異なり、更
に収納溝5の深さは用いる基体1の厚さにより決まって
くるので、それらに合わせてフィルム導体に必要な厚さ
も適宜選択して用いる必要がある。従って例えば、1次
側:2次側=1:2ターンの場合には、1次平面コイル
10のフィルム導体14の厚さを70μm、2次平面コ
イル8のフィルム導体12の厚さを35μmに設定する
ことができる。
側の出力電圧比によって、導体の重ね枚数が異なり、更
に収納溝5の深さは用いる基体1の厚さにより決まって
くるので、それらに合わせてフィルム導体に必要な厚さ
も適宜選択して用いる必要がある。従って例えば、1次
側:2次側=1:2ターンの場合には、1次平面コイル
10のフィルム導体14の厚さを70μm、2次平面コ
イル8のフィルム導体12の厚さを35μmに設定する
ことができる。
【0014】次に、前記ギャップ絶縁層2と主絶縁層9
は樹脂フィルムなどの絶縁フィルムから構成されるが、
主絶縁層9は、この種の薄型の平面コイルで1次コイル
と2次コイルの間に要求される安全規格(IEC950
などの規格)から、厚さ0.4mm以上であるのが好ま
しい。また、ギャップ絶縁層2の厚さは、1〜50μm
の範囲、特に1〜10μmの範囲が好ましく、これらの
範囲内でも5μmが最も好ましい。上記の構成におい
て、ギャップは磁束密度を均一化することによる鉄損の
低減(I.Sasada 他:IEEE Trans. Magn. Vol.29, No.6,
P3231/P3233 を参照)を行う効果を有している。ギャッ
プ絶縁層2の厚さが1μm未満であると、製造技術的に
ギャップ絶縁層2を形成することが困難になるために好
ましくない。また、この厚さが50μmよりも大きくな
ると結合係数が劣化するために好ましくない。更に、ギ
ャップ絶縁層2の厚さを5μmとすることが最も好まし
いのは、後述するように、結合係数が高く、かつ、フィ
ルム導体12、14近傍の磁束密度が均一化しているた
めである。
は樹脂フィルムなどの絶縁フィルムから構成されるが、
主絶縁層9は、この種の薄型の平面コイルで1次コイル
と2次コイルの間に要求される安全規格(IEC950
などの規格)から、厚さ0.4mm以上であるのが好ま
しい。また、ギャップ絶縁層2の厚さは、1〜50μm
の範囲、特に1〜10μmの範囲が好ましく、これらの
範囲内でも5μmが最も好ましい。上記の構成におい
て、ギャップは磁束密度を均一化することによる鉄損の
低減(I.Sasada 他:IEEE Trans. Magn. Vol.29, No.6,
P3231/P3233 を参照)を行う効果を有している。ギャッ
プ絶縁層2の厚さが1μm未満であると、製造技術的に
ギャップ絶縁層2を形成することが困難になるために好
ましくない。また、この厚さが50μmよりも大きくな
ると結合係数が劣化するために好ましくない。更に、ギ
ャップ絶縁層2の厚さを5μmとすることが最も好まし
いのは、後述するように、結合係数が高く、かつ、フィ
ルム導体12、14近傍の磁束密度が均一化しているた
めである。
【0015】ここで用いる樹脂としては誘電率のできる
だけ小さなものが好ましく、具体的にはポリイミド、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ四フッ
化エチレン、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート、テトラフルオロエチレン、ナイロ
ン、エポキシ樹脂の内から適宜選択して用いることがで
きる。これらの樹脂は、いずれも比誘電率が2〜4の範
囲で十分に低く、本発明の構造に適用することができる
ものである。
だけ小さなものが好ましく、具体的にはポリイミド、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ四フッ
化エチレン、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート、テトラフルオロエチレン、ナイロ
ン、エポキシ樹脂の内から適宜選択して用いることがで
きる。これらの樹脂は、いずれも比誘電率が2〜4の範
囲で十分に低く、本発明の構造に適用することができる
ものである。
【0016】なお、より具体的には、103〜109Hz
において、ポリ塩化ビニルの比誘電率は2.8〜3.3、
ポリスチレンの比誘電率は2.4〜2.7、ポリプロピレ
ンの比誘電率は2.0〜2.1、ポリエチレンの比誘電率
は2.3、ポリカーボネートの比誘電率は2.94〜2.
99、ポリエステルの比誘電率は2.8〜3.2、ポリ四
フッ化エチレンの比誘電率は2.0〜2.1、テトラフル
オロエチレンの比誘電率は2.0〜2.1、ポリイミド樹
脂の比誘電率は103Hzで3.62、ポリエチレンテレ
フタレートの比誘電率は103Hzの場合に2.6である
ので、いずれも比誘電率が2〜4の範囲にあり十分に低
く、本発明の構造に適用することができるものである。
において、ポリ塩化ビニルの比誘電率は2.8〜3.3、
ポリスチレンの比誘電率は2.4〜2.7、ポリプロピレ
ンの比誘電率は2.0〜2.1、ポリエチレンの比誘電率
は2.3、ポリカーボネートの比誘電率は2.94〜2.
99、ポリエステルの比誘電率は2.8〜3.2、ポリ四
フッ化エチレンの比誘電率は2.0〜2.1、テトラフル
オロエチレンの比誘電率は2.0〜2.1、ポリイミド樹
脂の比誘電率は103Hzで3.62、ポリエチレンテレ
フタレートの比誘電率は103Hzの場合に2.6である
ので、いずれも比誘電率が2〜4の範囲にあり十分に低
く、本発明の構造に適用することができるものである。
【0017】また、前記収納溝5の入口部6と出口部7
に位置する2次平面コイル8、8と1次平面コイル10
の端末部分は、樹脂絶縁膜13、15が除去されて導電
材料のフィルム導体部分が露出されている。そして、入
口部6の下側の2次平面コイル8のフィルム導体12
と、出口部7の上側の2次平面コイル8のフィルム導体
12とが、接続線18により電気的に接続され、入口部
6の上側の2次平面コイル8のフィルム導体12に引出
線20が接続され、出口部7の下側の2次平面コイル8
のフィルム導体12に引出線21が接続されるととも
に、入口部6の1次平面コイル10のフィルム導体14
に引出線22が接続され、出口部7の1次平面コイル1
0のフィルム導体14に引出線23が接続されていて、
前記引出線20、21により2次巻線側の第2ターミナ
ルが、引出線22、23により1次巻線側の第1ターミ
ナルがそれぞれ形成されている。
に位置する2次平面コイル8、8と1次平面コイル10
の端末部分は、樹脂絶縁膜13、15が除去されて導電
材料のフィルム導体部分が露出されている。そして、入
口部6の下側の2次平面コイル8のフィルム導体12
と、出口部7の上側の2次平面コイル8のフィルム導体
12とが、接続線18により電気的に接続され、入口部
6の上側の2次平面コイル8のフィルム導体12に引出
線20が接続され、出口部7の下側の2次平面コイル8
のフィルム導体12に引出線21が接続されるととも
に、入口部6の1次平面コイル10のフィルム導体14
に引出線22が接続され、出口部7の1次平面コイル1
0のフィルム導体14に引出線23が接続されていて、
前記引出線20、21により2次巻線側の第2ターミナ
ルが、引出線22、23により1次巻線側の第1ターミ
ナルがそれぞれ形成されている。
【0018】前記構成の平面トランスAは、引出線2
2、23を1次側の巻線用の引出線とし、引出線20、
21を2次側の巻線用の引出線として、使用すること
で、1:2の出力比のトランスとして使用することがで
きる。この例の構成において、1次平面コイル10と2
次平面コイル8は対向する形で上下に配置されているの
で、出力の最大値はコイルパターンの長さを長くするこ
とで比例して大きくできる。ここで各コイルはそれらの
折曲部8b、10bにおいて葛折状あるいは櫛刃状に形
成されていて、コイルパターンができるだけ長くなるよ
うに構成されているので、出力の最大値を十分大きくで
きるようになっている。
2、23を1次側の巻線用の引出線とし、引出線20、
21を2次側の巻線用の引出線として、使用すること
で、1:2の出力比のトランスとして使用することがで
きる。この例の構成において、1次平面コイル10と2
次平面コイル8は対向する形で上下に配置されているの
で、出力の最大値はコイルパターンの長さを長くするこ
とで比例して大きくできる。ここで各コイルはそれらの
折曲部8b、10bにおいて葛折状あるいは櫛刃状に形
成されていて、コイルパターンができるだけ長くなるよ
うに構成されているので、出力の最大値を十分大きくで
きるようになっている。
【0019】また、一般に扁平矩形導体に通電した場
合、導体横断面における導体中心から最も離れた外周縁
部側の電流密度が高くなり、それ以外の部分の電流密度
が低くなるので、導体の交流抵抗が大きくなり、発熱が
生じる。更に、扁平矩形導体における高周波電流の偏り
を平坦化するために、電流密度の高い端面近傍に、高透
磁率磁性材を充填することが好ましい。(山口、笹田、
原田:日本応用磁気学会誌16,445〜448(19
92))本発明においては、1次平面コイル10の周囲
と2次平面コイル8の周囲とに、1MHzで200以
上、より好ましくは1MHzで1000以上の高透磁率
を有する磁性体を配置しているので、平面コイルの部分
的な発熱を抑制できる。更に、この例の基体1は、Ni
-Znフェライト、Mn-Znフェライトなどのような高
電気抵抗の高透磁率の磁性体からなり、熱伝導性に優れ
ており、平面コイルと磁性体を広い面積でごく近傍に配
置できるために、平面コイル側で発生した熱を基体1を
介して速やかに外部に排出できるので、従来構造の樹脂
ボビン収納型のトランスとは異なり、平面コイルに熱を
蓄積してしまうおそれは少ない。
合、導体横断面における導体中心から最も離れた外周縁
部側の電流密度が高くなり、それ以外の部分の電流密度
が低くなるので、導体の交流抵抗が大きくなり、発熱が
生じる。更に、扁平矩形導体における高周波電流の偏り
を平坦化するために、電流密度の高い端面近傍に、高透
磁率磁性材を充填することが好ましい。(山口、笹田、
原田:日本応用磁気学会誌16,445〜448(19
92))本発明においては、1次平面コイル10の周囲
と2次平面コイル8の周囲とに、1MHzで200以
上、より好ましくは1MHzで1000以上の高透磁率
を有する磁性体を配置しているので、平面コイルの部分
的な発熱を抑制できる。更に、この例の基体1は、Ni
-Znフェライト、Mn-Znフェライトなどのような高
電気抵抗の高透磁率の磁性体からなり、熱伝導性に優れ
ており、平面コイルと磁性体を広い面積でごく近傍に配
置できるために、平面コイル側で発生した熱を基体1を
介して速やかに外部に排出できるので、従来構造の樹脂
ボビン収納型のトランスとは異なり、平面コイルに熱を
蓄積してしまうおそれは少ない。
【0020】次に、2次平面コイル8と1次平面コイル
10を共にシート状にすることで薄型化できるので、全
体として数mmの厚さの平面トランスAを構成し、収納
溝5の部分の深さを数mm程度とした構成であっても、
これらシート状の平面コイル8、10を複数枚容易に積
層することができるようになり、この積層数の組み合わ
せによって1次平面コイルと2次平面コイルの出力比を
この例の如く1:2ではなく、1:nの所望の割合にす
ることができる。即ち、例えば、シート状の2次平面コ
イルを3枚積層して接続線により直列接続することで
1:3の出力比を得ることができ、シート状の2次平面
コイルを4枚積層して接続線で直列接続することで1:
4の出力比を得ることができる。
10を共にシート状にすることで薄型化できるので、全
体として数mmの厚さの平面トランスAを構成し、収納
溝5の部分の深さを数mm程度とした構成であっても、
これらシート状の平面コイル8、10を複数枚容易に積
層することができるようになり、この積層数の組み合わ
せによって1次平面コイルと2次平面コイルの出力比を
この例の如く1:2ではなく、1:nの所望の割合にす
ることができる。即ち、例えば、シート状の2次平面コ
イルを3枚積層して接続線により直列接続することで
1:3の出力比を得ることができ、シート状の2次平面
コイルを4枚積層して接続線で直列接続することで1:
4の出力比を得ることができる。
【0021】なお、本発明構成においてギャップを設け
る場合と設けない場合において、ギャップ絶縁層2を設
けない場合の方がわずかながら結合や効率の点では有利
になると思われるが、ギャップ絶縁層2を無くした構成
とすると、閉磁路構成となるので、励磁電流が存在する
コイル付近への磁束の集中が起こり、局所的な磁気飽和
や鉄損の集中による発熱が問題になるので、ギャップを
設ける方が好ましいと考えられる。即ち、ギャップ絶縁
層2の部分では磁気的な抵抗が高いので、磁性体からな
る基体1と基体3での磁束密度分布が均一化することに
なる。ギャップを設けることによって結合係数が減少す
るが、本発明者らの研究によればギャップを5μmとし
たときに結合係数は0.985、20μmで0.95とわ
ずかしか減少しない。これに対し、ギャップを設けるこ
とによる磁性体中の磁束密度の均一化の効果が大きい。
例えば、ギャップなしでの磁性体の端部と中央部では磁
束密度に3倍以上の開きがあるが、5μmのギャップを
設けることによって、磁束密度の分布はほとんど平坦に
なる。従ってトランスのサイズを小さくしていくときに
は、磁束密度を均一化して飽和する部分を無くすること
が重要となる。
る場合と設けない場合において、ギャップ絶縁層2を設
けない場合の方がわずかながら結合や効率の点では有利
になると思われるが、ギャップ絶縁層2を無くした構成
とすると、閉磁路構成となるので、励磁電流が存在する
コイル付近への磁束の集中が起こり、局所的な磁気飽和
や鉄損の集中による発熱が問題になるので、ギャップを
設ける方が好ましいと考えられる。即ち、ギャップ絶縁
層2の部分では磁気的な抵抗が高いので、磁性体からな
る基体1と基体3での磁束密度分布が均一化することに
なる。ギャップを設けることによって結合係数が減少す
るが、本発明者らの研究によればギャップを5μmとし
たときに結合係数は0.985、20μmで0.95とわ
ずかしか減少しない。これに対し、ギャップを設けるこ
とによる磁性体中の磁束密度の均一化の効果が大きい。
例えば、ギャップなしでの磁性体の端部と中央部では磁
束密度に3倍以上の開きがあるが、5μmのギャップを
設けることによって、磁束密度の分布はほとんど平坦に
なる。従ってトランスのサイズを小さくしていくときに
は、磁束密度を均一化して飽和する部分を無くすること
が重要となる。
【0022】次に、前記構成の平面トランスAの製造方
法の一例について図4〜図6を基に以下に説明する。こ
の例の平面トランスAを製造するには、Ni-Znフェ
ライトなどの高透磁率磁性材料からなる図4に示すよう
な基体30と基体31を用意し、板状体30の上面に超
音波加工などの手段で図5に示すような葛折状で深さ数
分の一mm程度の収納溝33を形成する。次に、厚さ数
十μm程度の銅箔をそれぞれ一体化した複数種類の銅箔
付き樹脂フィルムを用意し、それぞれをプレス打ち抜き
加工して図6に示すように前記収納溝と相似形状で収納
溝に挿入可能な銅箔付きコイル35を用意し、これらの
銅箔付きコイル35の側面を樹脂ディッピィングにより
樹脂コートして乾燥させて銅箔付きコイル35を樹脂膜
で覆う。
法の一例について図4〜図6を基に以下に説明する。こ
の例の平面トランスAを製造するには、Ni-Znフェ
ライトなどの高透磁率磁性材料からなる図4に示すよう
な基体30と基体31を用意し、板状体30の上面に超
音波加工などの手段で図5に示すような葛折状で深さ数
分の一mm程度の収納溝33を形成する。次に、厚さ数
十μm程度の銅箔をそれぞれ一体化した複数種類の銅箔
付き樹脂フィルムを用意し、それぞれをプレス打ち抜き
加工して図6に示すように前記収納溝と相似形状で収納
溝に挿入可能な銅箔付きコイル35を用意し、これらの
銅箔付きコイル35の側面を樹脂ディッピィングにより
樹脂コートして乾燥させて銅箔付きコイル35を樹脂膜
で覆う。
【0023】次いで絶縁シートを用意し、これを前記収
納溝と相似形状にプレス打ち抜き加工して主絶縁層を形
成する。この際に、主絶縁層を形成するために、樹脂粉
末を圧密加工してシート状に加工する方法を採用しても
良い。これらを形成したならば、板状体30の収納溝3
3に前記の工程で得られたコイル35と主絶縁層とコイ
ル35を積層し、その上から厚さ数μm〜数十μmの樹
脂シートを介して基体31を重ねて樹脂接着することで
図1に示す構成の平面コイルAと同等構成の平面コイル
を得ることができる。なお、銅箔付きコイルが基体側面
の収納溝の開口部から露出する部分においては、複数に
分割した平面コイルの端部どうしを接続する接続線をつ
なぐために、銅箔付きコイルの端部を適切な手段で樹脂
フィルムを剥離して銅箔付きコイルの銅部分が露出する
ようにしておくことにする。また、必要に応じて剥離加
工後に結線を行い更に全体を樹脂で薄くコートして仕上
げることもできる。
納溝と相似形状にプレス打ち抜き加工して主絶縁層を形
成する。この際に、主絶縁層を形成するために、樹脂粉
末を圧密加工してシート状に加工する方法を採用しても
良い。これらを形成したならば、板状体30の収納溝3
3に前記の工程で得られたコイル35と主絶縁層とコイ
ル35を積層し、その上から厚さ数μm〜数十μmの樹
脂シートを介して基体31を重ねて樹脂接着することで
図1に示す構成の平面コイルAと同等構成の平面コイル
を得ることができる。なお、銅箔付きコイルが基体側面
の収納溝の開口部から露出する部分においては、複数に
分割した平面コイルの端部どうしを接続する接続線をつ
なぐために、銅箔付きコイルの端部を適切な手段で樹脂
フィルムを剥離して銅箔付きコイルの銅部分が露出する
ようにしておくことにする。また、必要に応じて剥離加
工後に結線を行い更に全体を樹脂で薄くコートして仕上
げることもできる。
【0024】図7と図8は本発明に係る平面トランスの
第2の例を示すもので、この例の平面トランスBにおい
て先の第1の例の平面トランスAと異なっているのは、
2次平面コイルの形状である。この例の平面トランスB
にあっては、2次平面コイル8’が先の例の1次平面コ
イル8と同様に直線状部8a’と折曲部8b’を有し、
全体として略葛折状あるいは略櫛刃状に形成されている
が、各2次平面コイル8’の横断面が先の第1の例の2
次平面コイル8の横断面の半分程度の幅に形成され、2
本の2次平面コイル8’を合わせて先の第1の例の2次
平面コイル8になるように形成され、収納溝5に2次平
面コイル8’が合計4本収納されるとともに、各2次コ
イル8’が3本の接続線18’で直列接続されてなる点
が異なっている。即ち、この例の構成では第1の例の構
成の2次平面コイル8をその全長に及ぶ中心線で2分割
した形状の2次平面コイル8’、8’が組み合わされて
収納溝5に収納され、2次平面コイル8’、8’が直列
接続されて連続平面コイルとされている。なお、その他
の構成は第1の例と同等であるので、同一符号を付して
それらの同等部分の詳細な説明は省略する。
第2の例を示すもので、この例の平面トランスBにおい
て先の第1の例の平面トランスAと異なっているのは、
2次平面コイルの形状である。この例の平面トランスB
にあっては、2次平面コイル8’が先の例の1次平面コ
イル8と同様に直線状部8a’と折曲部8b’を有し、
全体として略葛折状あるいは略櫛刃状に形成されている
が、各2次平面コイル8’の横断面が先の第1の例の2
次平面コイル8の横断面の半分程度の幅に形成され、2
本の2次平面コイル8’を合わせて先の第1の例の2次
平面コイル8になるように形成され、収納溝5に2次平
面コイル8’が合計4本収納されるとともに、各2次コ
イル8’が3本の接続線18’で直列接続されてなる点
が異なっている。即ち、この例の構成では第1の例の構
成の2次平面コイル8をその全長に及ぶ中心線で2分割
した形状の2次平面コイル8’、8’が組み合わされて
収納溝5に収納され、2次平面コイル8’、8’が直列
接続されて連続平面コイルとされている。なお、その他
の構成は第1の例と同等であるので、同一符号を付して
それらの同等部分の詳細な説明は省略する。
【0025】この例の平面トランスBにあっては、2次
平面コイル8’が4本設けられているので、1:4の出
力比を得ることができる。その他の作用と効果は先の第
1の例の場合と同等である。
平面コイル8’が4本設けられているので、1:4の出
力比を得ることができる。その他の作用と効果は先の第
1の例の場合と同等である。
【0026】図9は本発明に係る平面トランスの第3の
例を示すもので、この例の平面トランスCにおいて先の
第1の例の平面トランスBと異なっているのは、1次平
面コイルと2次平面コイルの形状と設置状態である。こ
の例の2次平面コイル8”は、導電材料製のフィルム導
体12''からなり、1次平面コイル10”は導電材料製
のフィルム導体14’からなり、各コイルには樹脂被覆
が施されておらず、2次平面コイル8”どうしは適切な
間隙をあけて収納溝5に収納され、2次平面コイル8”
に対して適切な間隔をあけて収納溝5の底部に1次平面
コイル10”が収納されている。この例の各コイル
8”、14’は、接着により図9の収納溝5の内面に固
定されている。その他の構成は先の第2の例の平面コイ
ルBと同等である。この例の構成では、各コイルに樹脂
被覆が施されていないが、その間に存在する空気層が絶
縁機能を奏し、絶縁層として作用するので、この例の構
造においても先に記載した平面コイルBと同等の作用と
効果を得ることができる。
例を示すもので、この例の平面トランスCにおいて先の
第1の例の平面トランスBと異なっているのは、1次平
面コイルと2次平面コイルの形状と設置状態である。こ
の例の2次平面コイル8”は、導電材料製のフィルム導
体12''からなり、1次平面コイル10”は導電材料製
のフィルム導体14’からなり、各コイルには樹脂被覆
が施されておらず、2次平面コイル8”どうしは適切な
間隙をあけて収納溝5に収納され、2次平面コイル8”
に対して適切な間隔をあけて収納溝5の底部に1次平面
コイル10”が収納されている。この例の各コイル
8”、14’は、接着により図9の収納溝5の内面に固
定されている。その他の構成は先の第2の例の平面コイ
ルBと同等である。この例の構成では、各コイルに樹脂
被覆が施されていないが、その間に存在する空気層が絶
縁機能を奏し、絶縁層として作用するので、この例の構
造においても先に記載した平面コイルBと同等の作用と
効果を得ることができる。
【0027】図10と図11は本発明に係る平面トラン
スの第4の例を示すもので、この例の平面トランスDに
おいて先の第1の例の平面トランスAと異なっているの
は、1次平面コイルと2次平面コイルの形状である。収
納溝5において最上層の2次平面コイル8Aは導電材料
製のフィルム導体12Aとそれを覆う被覆層13Aから
なり、中央部の2次平面コイル8Bは導電材料製のフィ
ルム導体12A’とそれを覆う被覆層13A’からなる
が、最上層の2次平面コイル8Aのフィルム導体12A
の横断面における横幅は、中央部の2次平面コイル8B
のフィルム導体12A’よりも狭く形成されている。ま
た、最下層の1次平面コイル10Aは導電材料製のフィ
ルム導体14Aとそれを覆う被覆層15Aからなるが、
この1次平面コイル10Aのフィルム導体14Aも先の
最上層の2次平面コイル8Aの場合と同様に、中央部の
2次平面コイル8Bのフィルム導体12A’よりも狭く
形成されている。
スの第4の例を示すもので、この例の平面トランスDに
おいて先の第1の例の平面トランスAと異なっているの
は、1次平面コイルと2次平面コイルの形状である。収
納溝5において最上層の2次平面コイル8Aは導電材料
製のフィルム導体12Aとそれを覆う被覆層13Aから
なり、中央部の2次平面コイル8Bは導電材料製のフィ
ルム導体12A’とそれを覆う被覆層13A’からなる
が、最上層の2次平面コイル8Aのフィルム導体12A
の横断面における横幅は、中央部の2次平面コイル8B
のフィルム導体12A’よりも狭く形成されている。ま
た、最下層の1次平面コイル10Aは導電材料製のフィ
ルム導体14Aとそれを覆う被覆層15Aからなるが、
この1次平面コイル10Aのフィルム導体14Aも先の
最上層の2次平面コイル8Aの場合と同様に、中央部の
2次平面コイル8Bのフィルム導体12A’よりも狭く
形成されている。
【0028】前記の如く最上層と最下層のフィルム導体
12A、14Aの横断面の幅を中央のフィルム導体12
A’の横断面の幅よりも狭くしたのは、この構成の平面
コイルにおいては、通電した場合、図11の矢印fに示
すように磁束が1次平面コイル10Aと2次平面コイル
8A、8Bを囲むように環状に生成するが、このときフ
ィルム導体12A、14Aの両端部に磁束fが貫通し易
くなる。従って特にフィルム導体12A、14Aをフィ
ルム導体12A’よりも狭く形成して磁束fがフィルム
導体12A、14Aを貫通し難くし、この磁束fがフィ
ルム導体12A、12A’、14Aを貫通する鎖行を極
力少なくして導体に生じる渦電流損失の発生を抑制する
ためである。また、トランスの構造設計には、磁束fが
磁性体中を効率良く鎖行させること、および磁束fがフ
ィルム導体12A、12A’、14Aを貫通させないよ
うにする事が必要である。前者においては、先に述べた
ように磁性体にギャップを設けることによって効率化を
図ることができる。後者においては、フィルム導体12
A、12A’、14Aを貫通する磁束を少なくするため
に、積層された1次、2次平面コイル8A、10Aのフ
ィルム導体12、14Aの幅を狭くすることによって実
現することができる。後者をより詳細に述べると、図1
1に示す1次平面コイル10Aのフィルム導体14Aと
2次平面コイル8Aのフィルム導体12Aの幅をフィル
ム導体12A’の幅より狭くすることによって導体を貫
通する磁束を少なくでき、フィルム導体12Aと14A
における渦電流損失の発生を抑えて銅損を少なくするこ
とができる。その他の作用と効果は先の第1の例の場合
と同等である。
12A、14Aの横断面の幅を中央のフィルム導体12
A’の横断面の幅よりも狭くしたのは、この構成の平面
コイルにおいては、通電した場合、図11の矢印fに示
すように磁束が1次平面コイル10Aと2次平面コイル
8A、8Bを囲むように環状に生成するが、このときフ
ィルム導体12A、14Aの両端部に磁束fが貫通し易
くなる。従って特にフィルム導体12A、14Aをフィ
ルム導体12A’よりも狭く形成して磁束fがフィルム
導体12A、14Aを貫通し難くし、この磁束fがフィ
ルム導体12A、12A’、14Aを貫通する鎖行を極
力少なくして導体に生じる渦電流損失の発生を抑制する
ためである。また、トランスの構造設計には、磁束fが
磁性体中を効率良く鎖行させること、および磁束fがフ
ィルム導体12A、12A’、14Aを貫通させないよ
うにする事が必要である。前者においては、先に述べた
ように磁性体にギャップを設けることによって効率化を
図ることができる。後者においては、フィルム導体12
A、12A’、14Aを貫通する磁束を少なくするため
に、積層された1次、2次平面コイル8A、10Aのフ
ィルム導体12、14Aの幅を狭くすることによって実
現することができる。後者をより詳細に述べると、図1
1に示す1次平面コイル10Aのフィルム導体14Aと
2次平面コイル8Aのフィルム導体12Aの幅をフィル
ム導体12A’の幅より狭くすることによって導体を貫
通する磁束を少なくでき、フィルム導体12Aと14A
における渦電流損失の発生を抑えて銅損を少なくするこ
とができる。その他の作用と効果は先の第1の例の場合
と同等である。
【0029】図12は本発明に係る平面トランスの第5
の例を示すもので、この例の平面トランスEにおいて先
の第1の例の平面トランスAと異なっているのは、基体
1’と基体3’の形状である。この例の基体1’と基体
3’には、先の第1の例の平面トランスAの収納溝5と
平面相似形状で深さが半分程度の収納溝5’がそれぞれ
形成され、基体3’の収納溝5’に2次平面コイル8、
8と主絶縁層9の上側半分とが収納され、基体1’の収
納溝5’に主絶縁層9の下側半分と1次平面コイル10
とが収納されている。この場合、基体3’、収納溝5’
に1次平面コイル10と2次平面コイル8、8と主絶縁
層9の上側半分が収納され、基体1’の収納溝5’に主
絶縁層9の下側半分と2次平面コイル8、8とが収納さ
れていても構わない。その他の構成は第1の例の平面コ
イルAと同等である。
の例を示すもので、この例の平面トランスEにおいて先
の第1の例の平面トランスAと異なっているのは、基体
1’と基体3’の形状である。この例の基体1’と基体
3’には、先の第1の例の平面トランスAの収納溝5と
平面相似形状で深さが半分程度の収納溝5’がそれぞれ
形成され、基体3’の収納溝5’に2次平面コイル8、
8と主絶縁層9の上側半分とが収納され、基体1’の収
納溝5’に主絶縁層9の下側半分と1次平面コイル10
とが収納されている。この場合、基体3’、収納溝5’
に1次平面コイル10と2次平面コイル8、8と主絶縁
層9の上側半分が収納され、基体1’の収納溝5’に主
絶縁層9の下側半分と2次平面コイル8、8とが収納さ
れていても構わない。その他の構成は第1の例の平面コ
イルAと同等である。
【0030】この例に示す如く基体1’と基体3’にそ
れぞれ収納溝5’を設けて2次平面コイル8、8と主絶
縁層9および1次平面コイル10を収納する構成として
も、先に説明した第1の例の平面コイルAと同様の作用
効果を得ることができる。なお、基体1’と基体3’に
形成する収納溝5’の深さは同じである必要はなく、ど
ちらか一方を深く、他方を浅く形成しても良いのは勿論
である。また、前述した平面トランスA〜Eは、基体
1、3を2層の構造としたが、3層以上の多層構造とし
ても良い。この構造の場合も2層構造とした時と同等の
効果を得ることができる。さらに、1次側を多層に、2
次側を単層としても良い。
れぞれ収納溝5’を設けて2次平面コイル8、8と主絶
縁層9および1次平面コイル10を収納する構成として
も、先に説明した第1の例の平面コイルAと同様の作用
効果を得ることができる。なお、基体1’と基体3’に
形成する収納溝5’の深さは同じである必要はなく、ど
ちらか一方を深く、他方を浅く形成しても良いのは勿論
である。また、前述した平面トランスA〜Eは、基体
1、3を2層の構造としたが、3層以上の多層構造とし
ても良い。この構造の場合も2層構造とした時と同等の
効果を得ることができる。さらに、1次側を多層に、2
次側を単層としても良い。
【0031】図13は本発明で用いられる2次平面コイ
ルの他の例を示すもので、この例の2次平面コイル8C
は平面略矩形2重渦巻状に形成されている。この例のよ
うな2次平面コイル8Cの形状を用いた場合であって
も、先の例と同様の効果を得ることができる。また、2
次平面コイル8Cを図13に示す形状とした場合は、1
次平面コイルも同様の形状にしておくことは勿論であ
る。この例で示したように本発明の平面コイルは先に説
明した葛折状に限らず、平面丸型2重渦巻き状、平面鋸
歯状あるいはその他の形状であって、コイルパターンの
長さができるだけ長くなるような形状であれば、任意の
形状を採用することができる。
ルの他の例を示すもので、この例の2次平面コイル8C
は平面略矩形2重渦巻状に形成されている。この例のよ
うな2次平面コイル8Cの形状を用いた場合であって
も、先の例と同様の効果を得ることができる。また、2
次平面コイル8Cを図13に示す形状とした場合は、1
次平面コイルも同様の形状にしておくことは勿論であ
る。この例で示したように本発明の平面コイルは先に説
明した葛折状に限らず、平面丸型2重渦巻き状、平面鋸
歯状あるいはその他の形状であって、コイルパターンの
長さができるだけ長くなるような形状であれば、任意の
形状を採用することができる。
【0032】
【実施例】幅15×奥行15mm、厚さ1.6mmのM
n-Znフェライト製の基板と、幅15×奥行15m
m、厚さ1.0mmのMn-Znフェライト製の基体を用
意し、基板上面に超音波加工で深さ0.6mm、他の部
分の細部の寸法を図14に示す寸法とした収納溝を形成
して基体を得た。次に、複数の銅張りフィルム(厚さ約
60〜100μm、銅箔の厚さ35μmと70μm、樹
脂フィルムの厚さ25μm、)を用意し、この銅張りフ
ィルムをプレス打抜加工して図6に示すような形状の1
次平面コイルと2次平面コイルを作製した。次に、この
1次平面コイルと2次平面コイルを樹脂液に浸漬する樹
脂ディッピング処理を施し、それらの側面に厚さ約10
μmの樹脂コートを行った。また、別工程において厚さ
0.4mmの樹脂シート(ポリイミド樹脂:デュポン社
製ベスペル(登録商標)SP-1)を前記1次平面コイ
ルあるいは2次平面コイルと同じ平面形状にプレス打ち
抜き加工で打ち抜き、主絶縁層形成用の樹脂フィルムを
得た。
n-Znフェライト製の基板と、幅15×奥行15m
m、厚さ1.0mmのMn-Znフェライト製の基体を用
意し、基板上面に超音波加工で深さ0.6mm、他の部
分の細部の寸法を図14に示す寸法とした収納溝を形成
して基体を得た。次に、複数の銅張りフィルム(厚さ約
60〜100μm、銅箔の厚さ35μmと70μm、樹
脂フィルムの厚さ25μm、)を用意し、この銅張りフ
ィルムをプレス打抜加工して図6に示すような形状の1
次平面コイルと2次平面コイルを作製した。次に、この
1次平面コイルと2次平面コイルを樹脂液に浸漬する樹
脂ディッピング処理を施し、それらの側面に厚さ約10
μmの樹脂コートを行った。また、別工程において厚さ
0.4mmの樹脂シート(ポリイミド樹脂:デュポン社
製ベスペル(登録商標)SP-1)を前記1次平面コイ
ルあるいは2次平面コイルと同じ平面形状にプレス打ち
抜き加工で打ち抜き、主絶縁層形成用の樹脂フィルムを
得た。
【0033】次に、前記1次平面コイルと樹脂フィルム
と2次平面コイルを基体の収納溝に順次積層して収納
し、厚さ2〜50μmの樹脂シートを介して基体上に平
面状の基体を樹脂接着して平面コイルを作製した。続い
て、収納溝を有する基体側面に露出した2次平面コイル
の端末部分どうしを2次平面コイルどうしが直列接続に
なるように接続線で結線し、2次平面コイルの残った端
末部分と1次平面コイルの端末部分に引出線をそれぞれ
接続し、最後に全体を樹脂被覆して平面コイルを作製し
た。
と2次平面コイルを基体の収納溝に順次積層して収納
し、厚さ2〜50μmの樹脂シートを介して基体上に平
面状の基体を樹脂接着して平面コイルを作製した。続い
て、収納溝を有する基体側面に露出した2次平面コイル
の端末部分どうしを2次平面コイルどうしが直列接続に
なるように接続線で結線し、2次平面コイルの残った端
末部分と1次平面コイルの端末部分に引出線をそれぞれ
接続し、最後に全体を樹脂被覆して平面コイルを作製し
た。
【0034】前記構成により作製したトランスを平面コ
イルパターンを任意の形状としてシュミレーションによ
って解析した結果を以下に示す。収納溝の幅Wcを以下
の表1に示すような各値に設定した場合であって、動作
周波数を1MHz、基体を構成する磁性体(Ni-Zn
フェライト)のμ=1000(tanδ=1)とした場合
の結合係数を求めた結果を表1と図15に示す。
イルパターンを任意の形状としてシュミレーションによ
って解析した結果を以下に示す。収納溝の幅Wcを以下
の表1に示すような各値に設定した場合であって、動作
周波数を1MHz、基体を構成する磁性体(Ni-Zn
フェライト)のμ=1000(tanδ=1)とした場合
の結合係数を求めた結果を表1と図15に示す。
【0035】
【0036】表1と図15に示す結果から、収納溝を有
する基体と平面状の基体のギャップ(=絶縁層の厚さ)
が5μmの場合において、収納溝の溝幅Wcが0.400
mmを下回ると結合係数が低下し始め、0.200mm
を下回ると結合係数の値が急激に低下する(結合係数が
0.97未満)ことが明らかであるので、収納溝の溝幅
は最低でも0.2mm以上、より好ましくは0.4mm以
上とすることが好ましいことが明らかになった。
する基体と平面状の基体のギャップ(=絶縁層の厚さ)
が5μmの場合において、収納溝の溝幅Wcが0.400
mmを下回ると結合係数が低下し始め、0.200mm
を下回ると結合係数の値が急激に低下する(結合係数が
0.97未満)ことが明らかであるので、収納溝の溝幅
は最低でも0.2mm以上、より好ましくは0.4mm以
上とすることが好ましいことが明らかになった。
【0037】次に、前記の平面トランスに対して図7と
図8に示す構成で1次平面コイルを2分割して巻線比を
1:4とした構成の平面トランスにおいて、Wcを0.4
00mmとしたものを用いて基体と基体との間の間隔t
g(=ギャップ絶縁層の厚さ)をパラメータとして結合
係数を求めた結果を図16に示す。図16に示す結果か
らギャップ絶縁層が無い場合には結合係数として0.9
96が得られるが、ギャップ絶縁層の厚さの増加ととも
に結合係数が低下し、tg=5μmでは結合係数0.98
5となることが明らかである。しかし、結合係数の値と
してはこの値でも充分に許容範囲内である。
図8に示す構成で1次平面コイルを2分割して巻線比を
1:4とした構成の平面トランスにおいて、Wcを0.4
00mmとしたものを用いて基体と基体との間の間隔t
g(=ギャップ絶縁層の厚さ)をパラメータとして結合
係数を求めた結果を図16に示す。図16に示す結果か
らギャップ絶縁層が無い場合には結合係数として0.9
96が得られるが、ギャップ絶縁層の厚さの増加ととも
に結合係数が低下し、tg=5μmでは結合係数0.98
5となることが明らかである。しかし、結合係数の値と
してはこの値でも充分に許容範囲内である。
【0038】また、前記と同じ寸法の収納溝に対して図
1〜図3に示した構成の1次平面コイルを収納して1:
2の巻線比の平面コイルを作製し、前記と同等の試験を
行った結果を図17に示す。図17に示す結果も図16
に示す結果とほぼ同様の傾向を示し、ギャップ絶縁層が
無い場合(基体上にギャップ絶縁層を介さずに直接平面
状の基体を取り付けた構成)には、結合係数として0.
996が得られるが、ギャップ絶縁層の厚さの増加とと
もに結合係数が低下し、tg=5μmでは結合係数0.9
85となることが明らかである。しかし、結合係数の値
としてはこの値でも充分に許容範囲内である。以上の結
果から、本発明構成を採用することで、いずれの出力比
であっても高い結合係数を得ることができることが判明
した。
1〜図3に示した構成の1次平面コイルを収納して1:
2の巻線比の平面コイルを作製し、前記と同等の試験を
行った結果を図17に示す。図17に示す結果も図16
に示す結果とほぼ同様の傾向を示し、ギャップ絶縁層が
無い場合(基体上にギャップ絶縁層を介さずに直接平面
状の基体を取り付けた構成)には、結合係数として0.
996が得られるが、ギャップ絶縁層の厚さの増加とと
もに結合係数が低下し、tg=5μmでは結合係数0.9
85となることが明らかである。しかし、結合係数の値
としてはこの値でも充分に許容範囲内である。以上の結
果から、本発明構成を採用することで、いずれの出力比
であっても高い結合係数を得ることができることが判明
した。
【0039】次に、2次平面コイル側の導体1mあたり
の出力電圧V2=50V(実効値)を一定とし、図14
のa-b間における平均磁束密度振幅(最大値)を測定
したところ、無負荷時で約0.028Tとなった。ま
た、2次平面コイル側に純抵抗負荷を接続し、2次平面
コイル側出力電流I2を変化させた場合の電力伝達効率
を求めた結果を図18と図19に示す。図18はギャッ
プ絶縁層を設けない場合の電力伝達効率を示すが、巻線
比1:4ではI2=0.77Aで最大効率93.3%、巻
線比1:2ではI2=0.66Aで最大効率92.5%と
なる。図19にギャップを5μmとした場合の電力伝達
効率を示すが、巻線比1:4ではI2=0.78Aで最大
効率93.1%、巻線比1:2ではI2=0.67Aで最
大効率92.2%となった。出力電流が大きい場合には
鉄損よりも銅損の方が支配的となり、また、銅損は電流
の2乗に比例するために、1次電流が巻線比1:2の場
合に比べて1/2となる巻線比1:4の方が効率の点で
は有利であると思われる。
の出力電圧V2=50V(実効値)を一定とし、図14
のa-b間における平均磁束密度振幅(最大値)を測定
したところ、無負荷時で約0.028Tとなった。ま
た、2次平面コイル側に純抵抗負荷を接続し、2次平面
コイル側出力電流I2を変化させた場合の電力伝達効率
を求めた結果を図18と図19に示す。図18はギャッ
プ絶縁層を設けない場合の電力伝達効率を示すが、巻線
比1:4ではI2=0.77Aで最大効率93.3%、巻
線比1:2ではI2=0.66Aで最大効率92.5%と
なる。図19にギャップを5μmとした場合の電力伝達
効率を示すが、巻線比1:4ではI2=0.78Aで最大
効率93.1%、巻線比1:2ではI2=0.67Aで最
大効率92.2%となった。出力電流が大きい場合には
鉄損よりも銅損の方が支配的となり、また、銅損は電流
の2乗に比例するために、1次電流が巻線比1:2の場
合に比べて1/2となる巻線比1:4の方が効率の点で
は有利であると思われる。
【0040】なお、前記の比較から、本発明構成におい
てギャップ絶縁層を設ける場合と設けない場合におい
て、ギャップ絶縁層を設けない場合の方がわずかながら
結合や効率の点では有利と思われるが、ギャップ絶縁層
を無くした構成とすると、閉磁路構成となるので、励磁
電流が存在するコイル付近への磁束の集中が起こり、局
所的な磁気飽和や鉄損の集中による発熱が問題になるの
で、ギャップを設ける方が好ましいと考えられる。
てギャップ絶縁層を設ける場合と設けない場合におい
て、ギャップ絶縁層を設けない場合の方がわずかながら
結合や効率の点では有利と思われるが、ギャップ絶縁層
を無くした構成とすると、閉磁路構成となるので、励磁
電流が存在するコイル付近への磁束の集中が起こり、局
所的な磁気飽和や鉄損の集中による発熱が問題になるの
で、ギャップを設ける方が好ましいと考えられる。
【0041】次に、巻線比1:4の平面トランスを図1
8および図19に示す最大効率点で作動させた場合に、
図14に示すa-b間における磁束密度の垂直方向成分
の振幅(最大値)の分布を図20と図21に示す。図2
0と図21において、横軸はa-b間の位置をa点の位
置からの距離で示しておりa-b間では距離が0.8mm
であって、a点から0.4mmの部分が中心点となり、
その中心点の左右では左右対称となるので、図20と図
21ではa点から0.4mmの距離までの部分のみ示し
た。図20に示すようにギャップが無い場合は、磁束が
a点部分に接近するにつれて大きく上昇しており、a点
とa-b間の中間点を比較すると磁束密度に3倍以上の
差があるが、5μm厚のギャップ絶縁層を設けた場合は
図21に示すようにほとんど平坦になっている。
8および図19に示す最大効率点で作動させた場合に、
図14に示すa-b間における磁束密度の垂直方向成分
の振幅(最大値)の分布を図20と図21に示す。図2
0と図21において、横軸はa-b間の位置をa点の位
置からの距離で示しておりa-b間では距離が0.8mm
であって、a点から0.4mmの部分が中心点となり、
その中心点の左右では左右対称となるので、図20と図
21ではa点から0.4mmの距離までの部分のみ示し
た。図20に示すようにギャップが無い場合は、磁束が
a点部分に接近するにつれて大きく上昇しており、a点
とa-b間の中間点を比較すると磁束密度に3倍以上の
差があるが、5μm厚のギャップ絶縁層を設けた場合は
図21に示すようにほとんど平坦になっている。
【0042】従って、ギャップを無くすることで閉磁路
構造にすることになるが、この場合は磁束密度が大きい
a点のような部分で飽和しないように磁路断面積を大き
く形成して磁束密度を全体的に小さくする必要があるた
め、磁性体の利用効率が悪くなり、基体が大型化して全
体が大型化してしまう傾向になる。また、磁束の偏りは
鉄損による発熱の偏りを生じさせるために、熱設計にも
充分に配慮する必要が生じる。従って本発明の構成にお
いてギャップ絶縁層を設ける方がより好ましいことが明
らになった。
構造にすることになるが、この場合は磁束密度が大きい
a点のような部分で飽和しないように磁路断面積を大き
く形成して磁束密度を全体的に小さくする必要があるた
め、磁性体の利用効率が悪くなり、基体が大型化して全
体が大型化してしまう傾向になる。また、磁束の偏りは
鉄損による発熱の偏りを生じさせるために、熱設計にも
充分に配慮する必要が生じる。従って本発明の構成にお
いてギャップ絶縁層を設ける方がより好ましいことが明
らになった。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、磁性体か
らなる基体の収納溝に1次平面コイルと2次平面コイル
を収納し、1次平面コイルと2次平面コイルの少なくと
も一方を複数に分割したので、1次側のコイル巻数と2
次側のコイル巻数を変えることができ、これにより、出
力電圧を所望の比率に設定できる平面トランスを提供す
ることができる。また、1次平面コイルと2次平面コイ
ルを磁性体からなる基体に収納することで、電磁ノイズ
放射がほとんどないトランスとすることができ、かつ、
1次平面コイルと2次平面コイルの近傍に透磁率の高い
磁性体を配することができ、各平面コイル外周縁部での
インダクタンスを大きくでき、通電時に平面コイル導体
部分での電流密度を均一にすることができるので、平面
コイル部分でのジュール発熱の少ない平面トランスを提
供できる。更に、基体の収納溝に1次と2次の平面コイ
ルと主絶縁層を収納した構成なので、全体を薄型化小型
化できる特徴を有する。
らなる基体の収納溝に1次平面コイルと2次平面コイル
を収納し、1次平面コイルと2次平面コイルの少なくと
も一方を複数に分割したので、1次側のコイル巻数と2
次側のコイル巻数を変えることができ、これにより、出
力電圧を所望の比率に設定できる平面トランスを提供す
ることができる。また、1次平面コイルと2次平面コイ
ルを磁性体からなる基体に収納することで、電磁ノイズ
放射がほとんどないトランスとすることができ、かつ、
1次平面コイルと2次平面コイルの近傍に透磁率の高い
磁性体を配することができ、各平面コイル外周縁部での
インダクタンスを大きくでき、通電時に平面コイル導体
部分での電流密度を均一にすることができるので、平面
コイル部分でのジュール発熱の少ない平面トランスを提
供できる。更に、基体の収納溝に1次と2次の平面コイ
ルと主絶縁層を収納した構成なので、全体を薄型化小型
化できる特徴を有する。
【0044】また、本発明は、平面コイルと主絶縁層を
収納する収納溝を複数の基体の少なくとも一つに形成
し、それらの間にギャップ絶縁層を介在させることで、
ギャップ絶縁層部分での磁気抵抗を大きくして一方の基
体と他方の基体側での磁束分布を均一化することがで
き、1次平面コイルと2次平面コイルが発生させる磁束
を平面コイルの周囲で均質化し、平面コイルの一部分に
磁束が集中することを抑制できるので、平面コイルで部
分的に過剰に発熱することを防止できる。よって平面コ
イルが発熱により溶けるおそれのない熱効率の良い平面
トランスを提供できる。また、全体として複数の基体で
生じようとする鉄損を小さくできる。更に、基体を磁性
体から構成してそれらに1次平面コイルと2次平面コイ
ルを収納した構成であり、従来構造の如く樹脂製のボビ
ンに収納した構成のコイルと比較すると、コイルを覆っ
ている基体の熱伝導率が樹脂製のボビンよりも高いの
で、平面コイル部分で発熱を生じても熱を速やかに基体
を介して外部に逃がすことができる。よって、熱のこも
り難い平面トランスを提供できる。
収納する収納溝を複数の基体の少なくとも一つに形成
し、それらの間にギャップ絶縁層を介在させることで、
ギャップ絶縁層部分での磁気抵抗を大きくして一方の基
体と他方の基体側での磁束分布を均一化することがで
き、1次平面コイルと2次平面コイルが発生させる磁束
を平面コイルの周囲で均質化し、平面コイルの一部分に
磁束が集中することを抑制できるので、平面コイルで部
分的に過剰に発熱することを防止できる。よって平面コ
イルが発熱により溶けるおそれのない熱効率の良い平面
トランスを提供できる。また、全体として複数の基体で
生じようとする鉄損を小さくできる。更に、基体を磁性
体から構成してそれらに1次平面コイルと2次平面コイ
ルを収納した構成であり、従来構造の如く樹脂製のボビ
ンに収納した構成のコイルと比較すると、コイルを覆っ
ている基体の熱伝導率が樹脂製のボビンよりも高いの
で、平面コイル部分で発熱を生じても熱を速やかに基体
を介して外部に逃がすことができる。よって、熱のこも
り難い平面トランスを提供できる。
【0045】次に、本発明構造においては、平面コイル
の長さによって出力の最大値が左右されるので、平面コ
イルを葛折状あるいは渦巻状などの形状にすることで小
型薄型の基体であっても可能な限り高い出力を得ること
ができる。また、収納溝に積層された最上層および最下
層の平面コイルの横断面の幅を、中央の平面コイルの横
断面の幅よりも小さくすることで、平面コイルが発生さ
せる磁束を上部および下部の平面コイルの端部で鎖交磁
束として受けにくくなり、この部分での発熱を少なくす
ることができる。
の長さによって出力の最大値が左右されるので、平面コ
イルを葛折状あるいは渦巻状などの形状にすることで小
型薄型の基体であっても可能な限り高い出力を得ること
ができる。また、収納溝に積層された最上層および最下
層の平面コイルの横断面の幅を、中央の平面コイルの横
断面の幅よりも小さくすることで、平面コイルが発生さ
せる磁束を上部および下部の平面コイルの端部で鎖交磁
束として受けにくくなり、この部分での発熱を少なくす
ることができる。
【0046】本発明構造において、1次平面コイルと2
次平面コイルの少なくとも一方をそれらの全長にわたる
中心線に沿って2分割し、分割された平面コイルどうし
を直列接続することで1次平面コイルと2次平面コイル
のコイル巻数を変えることができ、これにより出力電圧
比の異なる平面トランスを提供できる。また、これに加
えて1次平面コイルと2次平面コイルの少なくとも一方
を複数積層するならば、更に異なった出力電圧比の平面
トランスを提供できる。
次平面コイルの少なくとも一方をそれらの全長にわたる
中心線に沿って2分割し、分割された平面コイルどうし
を直列接続することで1次平面コイルと2次平面コイル
のコイル巻数を変えることができ、これにより出力電圧
比の異なる平面トランスを提供できる。また、これに加
えて1次平面コイルと2次平面コイルの少なくとも一方
を複数積層するならば、更に異なった出力電圧比の平面
トランスを提供できる。
【0047】次に、ギャップ絶縁層の厚さを1〜50μ
mとすることで、励磁電流の流れているコイル付近への
磁束の集中を抑制し、鉄損による局所的な発熱を防ぐこ
とができる効果がある。また、収納溝の溝幅を0.2〜
2mmとすることで、結合係数の低下を抑制しつつ変換
効率の良好な平面トランスを提供することができる。更
に、基体を構成する磁性体の透磁率を1MHzで200
以上とすることで平面コイル外周縁部でのインダクタン
スを確実に大きくすることができ、平面コイルでの電流
密度を平均化できるので、平面コイルでのジュール熱発
生を確実に抑制することができる。
mとすることで、励磁電流の流れているコイル付近への
磁束の集中を抑制し、鉄損による局所的な発熱を防ぐこ
とができる効果がある。また、収納溝の溝幅を0.2〜
2mmとすることで、結合係数の低下を抑制しつつ変換
効率の良好な平面トランスを提供することができる。更
に、基体を構成する磁性体の透磁率を1MHzで200
以上とすることで平面コイル外周縁部でのインダクタン
スを確実に大きくすることができ、平面コイルでの電流
密度を平均化できるので、平面コイルでのジュール熱発
生を確実に抑制することができる。
【図1】本発明に係る平面トランスの第1の例を示す分
解斜視図である。
解斜視図である。
【図2】本発明に係る平面トランスの第1の例を示す側
面図である。
面図である。
【図3】図2に示す平面トランスの部分拡大図である。
【図4】本発明に係る平面トランスを製造する方法にお
いて用いる一方の基体と他方の基体を示す斜視図であ
る。
いて用いる一方の基体と他方の基体を示す斜視図であ
る。
【図5】図4に示す2つの基体の両方に収納溝を形成し
た状態を示す斜視図である。
た状態を示す斜視図である。
【図6】図5に示す収納溝に収納するコイルの一例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図7】本発明に係る平面トランスの第2の例を示す分
解斜視図である。
解斜視図である。
【図8】本発明に係る平面トランスの第2の例を示す側
面図である。
面図である。
【図9】本発明に係る平面トランスの第3の例を示す分
解斜視図である。
解斜視図である。
【図10】本発明に係る平面トランスの第4の例を示す
分解斜視図である。
分解斜視図である。
【図11】第4の例の平面トランスの磁束の位置を示す
図である。
図である。
【図12】本発明に係る平面トランスの第5の例を示す
分解斜視図である。
分解斜視図である。
【図13】本発明に係る平面コイルの他の例を示す平面
図である。
図である。
【図14】実施例で製造した平面トランスの各部分の寸
法を示す側面図である。
法を示す側面図である。
【図15】実施例の平面トランスの導体幅と結合係数の
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図16】実施例において巻線比を1:4とした平面ト
ランスのギャップ幅tgと結合係数の関係を示す図であ
る。
ランスのギャップ幅tgと結合係数の関係を示す図であ
る。
【図17】実施例において巻線比を1:2とした平面ト
ランスのギャップ幅tgと結合係数の関係を示す図であ
る。
ランスのギャップ幅tgと結合係数の関係を示す図であ
る。
【図18】実施例においてギャップを無くした構成の平
面トランスの電流と電力伝達効率の関係を示す図であ
る。
面トランスの電流と電力伝達効率の関係を示す図であ
る。
【図19】実施例においてギャップを5μmとした構成
の平面トランスの電流と電力伝達効率の関係を示す図で
ある。
の平面トランスの電流と電力伝達効率の関係を示す図で
ある。
【図20】実施例においてギャップを無くした構成の平
面トランスの位置と磁束密度の振幅幅の関係を示す図で
ある。
面トランスの位置と磁束密度の振幅幅の関係を示す図で
ある。
【図21】実施例においてギャップを5μmとした構成
の平面トランスの位置と磁束密度の振幅の関係を示す図
である。
の平面トランスの位置と磁束密度の振幅の関係を示す図
である。
A、B、C、D、E 平面トランス 1 基体 1a 上面 1b 側面 2 ギャップ絶縁層 3 基体 5 収納溝 8、8’、8”、 2次平面コイル 8A、8B、8C 2次平面コイル 9 主絶縁層 10、10”、10A 1次平面コイル 12、14 フィルム導体 13、15 被覆層 18 接続線 20、21 引出線 22、23 引出線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 崇 福岡県福岡市博多区吉塚本町9番11ー409 号 (72)発明者 笹田 一郎 福岡県福岡市西区愛宕浜1丁目11番13号
Claims (12)
- 【請求項1】 磁性体からなる基体に収納溝が形成さ
れ、この収納溝に1次平面コイルと2次平面コイルが収
納された平面トランスであって、1次平面コイルと2次
平面コイルの少なくとも一方が複数個の導体からなり出
力電圧変成自在に構成されてなることを特徴とする平面
トランス。 - 【請求項2】 前記1次平面コイルと2次平面コイルが
磁性体の収納溝に積層配置され、この積層された1次平
面コイルと2次平面コイルの間に主絶縁層が配置されて
なることを特徴とする請求項1記載の平面トランス。 - 【請求項3】 磁性体からなる複数の基体と、それらの
間に介在されるギャップ絶縁層と、それらに収納される
1次平面コイルと主絶縁層と2次平面コイルを具備して
なり、前記複数の基体の少なくとも1つの少なくとも一
面に、各平面コイルのほぼ全長形状に沿った形状の収納
溝が形成され、この収納溝に1次平面コイルと主絶縁層
と2次平面コイルが積層収納され、基体どうしがギャッ
プ絶縁層を介して一体化されてなることを特徴とする平
面トランス。 - 【請求項4】 前記平面コイルが葛折状あるいは渦巻状
に形成されてなることを特徴とする請求項1〜3のいず
れかに記載の平面トランス。 - 【請求項5】 前記ギャップ絶縁層の厚さが1〜50μ
mの範囲にされてなることを特徴とする請求項1〜4の
いずれかに記載の平面トランス。 - 【請求項6】 収納溝に積層された平面コイルにおける
上部の平面コイルと下部の平面コイルの各々の横断面の
幅が、中央側の平面コイルの横断面の幅よりも短く形成
されてなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに
記載の平面トランス。 - 【請求項7】 前記一方の基体に他の基体の収納溝と相
似形状の溝が形成されてなることを特徴とする請求項1
〜6のいずれかに記載の平面トランス。 - 【請求項8】 1次平面コイルと2次平面コイルの少な
くとも一方が、それらの全長に及ぶ中心線に沿って2分
割され、分割された1次平面コイルどうしまたは2次平
面コイルどうしが相互に接続されて連続平面コイルとさ
れたことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の
平面トランス。 - 【請求項9】 収納溝の溝幅が0.2〜2mmの範囲と
されてなることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに
記載の平面トランス。 - 【請求項10】 前記一方の基体あるいは両方の基体が
1MHzでの透磁率200以上の磁性体からなることを
特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の平面トラン
ス。 - 【請求項11】 1次平面コイルと2次平面コイルの間
に配置された主絶縁層、あるいはギャップ絶縁層が、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ四フッ
化エチレン等のフッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート、ナイロン、エポキシ樹脂の内から
選択される1種からなることを特徴とする請求項2〜1
0のいずれかに記載の平面トランス。 - 【請求項12】 平面コイルが、導電材料からなる箔体
と樹脂フィルムの2層構造に、あるいは、導電材料から
なる箔体を樹脂フィルムの両面に配置した3層構造にさ
れてなることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに
記載の平面トランス。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8014653A JPH09213530A (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 平面トランス |
| TW085116342A TW318248B (ja) | 1996-01-30 | 1996-12-31 | |
| US08/790,029 US6060976A (en) | 1996-01-30 | 1997-01-28 | Plane transformer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8014653A JPH09213530A (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 平面トランス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09213530A true JPH09213530A (ja) | 1997-08-15 |
Family
ID=11867176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8014653A Pending JPH09213530A (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 平面トランス |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6060976A (ja) |
| JP (1) | JPH09213530A (ja) |
| TW (1) | TW318248B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009049035A (ja) * | 2007-08-13 | 2009-03-05 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 絶縁トランスおよび電力変換装置 |
| KR20200055942A (ko) * | 2018-11-14 | 2020-05-22 | 공주대학교 산학협력단 | 유연 무선충전 모듈 제조방법 |
| US11322284B2 (en) | 2016-07-15 | 2022-05-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | High-frequency transformer and phase shifter |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE517170C2 (sv) * | 1999-03-23 | 2002-04-23 | Ericsson Telefon Ab L M | Induktans |
| US6240622B1 (en) * | 1999-07-09 | 2001-06-05 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit inductors |
| JP3654816B2 (ja) * | 1999-08-26 | 2005-06-02 | Fdk株式会社 | マルチチャンネル・ユニフォーム出力型トランス |
| JP2001085248A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-30 | Oki Electric Ind Co Ltd | トランス |
| US6434252B1 (en) * | 1999-09-20 | 2002-08-13 | Royer Labs | Ribbon microphone |
| US6417755B1 (en) | 2000-08-25 | 2002-07-09 | Conexant Systems, Inc. | Method for fabrication of high inductance inductors and related structure |
| DE10102367B4 (de) * | 2001-01-19 | 2004-04-15 | Siemens Ag | Datenübertragungseinrichtung zur galvanisch getrennten Signalübertragung und Verwendung der Einrichtung |
| US7688160B2 (en) * | 2007-04-12 | 2010-03-30 | Stats Chippac, Ltd. | Compact coils for high performance filters |
| TWI345243B (en) * | 2007-08-14 | 2011-07-11 | Ind Tech Res Inst | Inter-helix inductor devices |
| US20100301987A1 (en) * | 2009-05-27 | 2010-12-02 | Stmicroelectronics S.A. | Millimeter wave transformer with a high transformation factor and a low insertion loss |
| US7903432B2 (en) * | 2009-05-29 | 2011-03-08 | General Electric Company | High-voltage power generation system and package |
| EP2293309A1 (fr) * | 2009-09-08 | 2011-03-09 | STmicroelectronics SA | Dispositif inductif intégré. |
| JP5644852B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2014-12-24 | 株式会社村田製作所 | 電子部品及びその製造方法 |
| US9027229B2 (en) | 2011-01-04 | 2015-05-12 | ÅAC Microtec AB | Coil assembly comprising planar coil |
| DE102011102484B4 (de) * | 2011-05-24 | 2020-03-05 | Jumatech Gmbh | Leiterplatte mit Formteil und Verfahren zu dessen Herstellung |
| KR20130066174A (ko) * | 2011-12-12 | 2013-06-20 | 삼성전기주식회사 | 코일 부품 |
| US20130328165A1 (en) * | 2012-06-08 | 2013-12-12 | The Trustees Of Dartmouth College | Microfabricated magnetic devices and associated methods |
| US10840005B2 (en) | 2013-01-25 | 2020-11-17 | Vishay Dale Electronics, Llc | Low profile high current composite transformer |
| US20150116950A1 (en) * | 2013-10-29 | 2015-04-30 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Coil component, manufacturing method thereof, coil component-embedded substrate, and voltage adjustment module having the same |
| KR20150050306A (ko) * | 2013-10-29 | 2015-05-08 | 삼성전기주식회사 | 코일 부품과 그 제조 방법, 코일 부품 내장하는 기판, 및 이를 포함하는 전압조절 모듈 |
| US9490656B2 (en) | 2013-11-25 | 2016-11-08 | A.K. Stamping Company, Inc. | Method of making a wireless charging coil |
| US9859052B2 (en) * | 2013-11-25 | 2018-01-02 | A.K. Stamping Co., Inc. | Wireless charging coil |
| US9877110B2 (en) | 2014-12-29 | 2018-01-23 | Michael Patrick Timmins | Ribbon support system for electrodynamic microphone |
| FR3038121B1 (fr) * | 2015-06-25 | 2017-08-18 | Thales Sa | Transformateur ameliore pour un circuit en technologie mmic |
| JP6671919B2 (ja) * | 2015-10-23 | 2020-03-25 | キヤノン株式会社 | 送電装置、送電装置の制御方法及びプログラム |
| US20170287626A1 (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Tyco Electronics Corporation | Coil assembly for wireless power transfer having a shaped flux-control body |
| JP6690386B2 (ja) * | 2016-04-27 | 2020-04-28 | Tdk株式会社 | コイル部品及び電源回路ユニット |
| JP2017199800A (ja) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | Tdk株式会社 | コイル部品及び電源回路ユニット |
| US10998124B2 (en) | 2016-05-06 | 2021-05-04 | Vishay Dale Electronics, Llc | Nested flat wound coils forming windings for transformers and inductors |
| KR102571361B1 (ko) | 2016-08-31 | 2023-08-25 | 비쉐이 데일 일렉트로닉스, 엘엘씨 | 낮은 직류 저항을 갖는 고전류 코일을 구비한 인덕터 |
| CN108010712A (zh) * | 2018-02-05 | 2018-05-08 | 深圳前海奥磁技术有限公司 | 一种平面变压器绕组及其制作方法 |
| DE102018119331B4 (de) * | 2018-08-08 | 2024-07-25 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Herstellungsverfahren einer Spulenvorrichtung, Spulenvorrichtung, Messaufnehmer mit Spulenvorrichtung, Messgerät mit einem Messaufnehmer |
| CN111192738B (zh) * | 2020-02-21 | 2025-06-10 | 电子科技大学 | 一种磁感应器件及其制造方法 |
| US12567533B2 (en) | 2020-03-03 | 2026-03-03 | Vishay Dale Electronics, Llc | Inductor with preformed termination and method and assembly for making the same |
| USD1034462S1 (en) | 2021-03-01 | 2024-07-09 | Vishay Dale Electronics, Llc | Inductor package |
| US11948724B2 (en) | 2021-06-18 | 2024-04-02 | Vishay Dale Electronics, Llc | Method for making a multi-thickness electro-magnetic device |
| US20220223330A1 (en) * | 2022-04-01 | 2022-07-14 | Long Wang | Technologies for a low-noise-generating inductor |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2409881C3 (de) * | 1974-03-01 | 1978-12-21 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Schalenkernübertrager |
| US4009460A (en) * | 1974-09-24 | 1977-02-22 | Hitachi Metals, Ltd. | Inductor |
| JP2522318B2 (ja) * | 1987-08-21 | 1996-08-07 | 日本電装株式会社 | 変圧器 |
| JP2615151B2 (ja) * | 1988-08-19 | 1997-05-28 | 株式会社村田製作所 | チップ型コイル及びその製造方法 |
| JPH04142713A (ja) * | 1990-10-03 | 1992-05-15 | Tokin Corp | チップインダクタ |
| JPH04151810A (ja) * | 1990-10-15 | 1992-05-25 | Matsushita Electric Works Ltd | 平面トランス |
| JPH04215412A (ja) * | 1990-12-13 | 1992-08-06 | Sony Corp | インダクタ及びモールドインダクタ |
| JP2958821B2 (ja) * | 1991-07-08 | 1999-10-06 | 株式会社村田製作所 | ソリッドインダクタ |
| JPH0684646A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-03-25 | Koa Corp | 高周波コイルおよびその製造方法 |
| US5450755A (en) * | 1992-10-21 | 1995-09-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Mechanical sensor having a U-shaped planar coil and a magnetic layer |
| US5583424A (en) * | 1993-03-15 | 1996-12-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic element for power supply and dc-to-dc converter |
| US5559487A (en) * | 1994-05-10 | 1996-09-24 | Reltec Corporation | Winding construction for use in planar magnetic devices |
| US5844461A (en) * | 1996-06-06 | 1998-12-01 | Compaq Computer Corporation | Isolation transformers and isolation transformer assemblies |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP8014653A patent/JPH09213530A/ja active Pending
- 1996-12-31 TW TW085116342A patent/TW318248B/zh active
-
1997
- 1997-01-28 US US08/790,029 patent/US6060976A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009049035A (ja) * | 2007-08-13 | 2009-03-05 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 絶縁トランスおよび電力変換装置 |
| US11322284B2 (en) | 2016-07-15 | 2022-05-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | High-frequency transformer and phase shifter |
| KR20200055942A (ko) * | 2018-11-14 | 2020-05-22 | 공주대학교 산학협력단 | 유연 무선충전 모듈 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6060976A (en) | 2000-05-09 |
| TW318248B (ja) | 1997-10-21 |
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