JPH09241258A - 2−オキサゾリジノン誘導体 - Google Patents
2−オキサゾリジノン誘導体Info
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- JPH09241258A JPH09241258A JP8060896A JP8060896A JPH09241258A JP H09241258 A JPH09241258 A JP H09241258A JP 8060896 A JP8060896 A JP 8060896A JP 8060896 A JP8060896 A JP 8060896A JP H09241258 A JPH09241258 A JP H09241258A
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- Japan
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- methyl
- mmol
- mol
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- tosylimidazol
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Abstract
(57)【要約】
【目的】2−オキサゾリジノン誘導体の合成
【構成】β,γ−不飽和 α−ヒドロキシエステルを出
発原料とし、分子内環化反応によって、4−イソプロピ
ル−5−カルボキシル−5−イミダゾールメチル−2−
オキサゾリジノン誘導体を合成することができる。
発原料とし、分子内環化反応によって、4−イソプロピ
ル−5−カルボキシル−5−イミダゾールメチル−2−
オキサゾリジノン誘導体を合成することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アミノペプチダー
ゼMの阻害活性を示し、免疫増強作用を有するα−ヒド
ロキシ−β−アミノ酸であるロイヒスチンヘ誘導可能な
2−オキサゾリジノン誘導体の製造方法に関するもので
ある。
ゼMの阻害活性を示し、免疫増強作用を有するα−ヒド
ロキシ−β−アミノ酸であるロイヒスチンヘ誘導可能な
2−オキサゾリジノン誘導体の製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】現在までにロイヒスチンの合成に関して
は、ラセミ体の全合成が報告されているが(J.Or
g.Chem.,1993年,58巻,1762ペー
ジ)、光学活性体の合成法は報告例がない。
は、ラセミ体の全合成が報告されているが(J.Or
g.Chem.,1993年,58巻,1762ペー
ジ)、光学活性体の合成法は報告例がない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって、ロイヒス
チンの一般的な合成ルートが確立され、さらにそれによ
って光学活性体の合成が可能となれば、ロイヒスチンの
みならず、様々な類縁化合物も得ることができ新たな生
理活性物質を提供することが期待される。
チンの一般的な合成ルートが確立され、さらにそれによ
って光学活性体の合成が可能となれば、ロイヒスチンの
みならず、様々な類縁化合物も得ることができ新たな生
理活性物質を提供することが期待される。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、(式1)
に示されるように水酸基を保護したβ,γ−不飽和α−
ヒドロキシエステルに塩基を作用させエノラートとし、
4−ヨードメチル−1−トシルイミダゾールを付加さ
せ、α位にイミダゾールメチル基を導入し、水酸基の保
護基を脱保護した後、(式2)に示されるようにN−p
−トシルイソシアナートを付加させて得られた生成物
を、アルカリ存在下にヨウ素を活性化剤として分子内環
化反応を行うと2−オキサゾリジノン誘導体が得られる
ことを見い出した。さらに(式3)の反応工程で還元的
にヨード基を除去し、ロイヒスチンへ変換可能な2−オ
キサゾリジノン誘導体とすることによって本発明を完成
するに至った。
に示されるように水酸基を保護したβ,γ−不飽和α−
ヒドロキシエステルに塩基を作用させエノラートとし、
4−ヨードメチル−1−トシルイミダゾールを付加さ
せ、α位にイミダゾールメチル基を導入し、水酸基の保
護基を脱保護した後、(式2)に示されるようにN−p
−トシルイソシアナートを付加させて得られた生成物
を、アルカリ存在下にヨウ素を活性化剤として分子内環
化反応を行うと2−オキサゾリジノン誘導体が得られる
ことを見い出した。さらに(式3)の反応工程で還元的
にヨード基を除去し、ロイヒスチンへ変換可能な2−オ
キサゾリジノン誘導体とすることによって本発明を完成
するに至った。
【化2】(式中、Rはトリアルキルシリル、アルコキシ
メチル基などの水酸基の保護基を、R*はメチル基また
はトランス−2−フェニルシクロヘキシル基を示す。)
メチル基などの水酸基の保護基を、R*はメチル基また
はトランス−2−フェニルシクロヘキシル基を示す。)
【化3】(式中、R*はメチル基またはトランス−2−
フェニルシクロヘキシル基を示す。)
フェニルシクロヘキシル基を示す。)
【化4】(式中、R*はメチル基またはトランス−2−
フェニルシクロヘキシル基を示す。)
フェニルシクロヘキシル基を示す。)
【0005】すなわち本発明は、β,γ−不飽和 α−ヒ
ドロキシエステルにイミダゾールメチル基を導入後(第
1工程)、N−p−トシルイソシアナートを反応させて
得られる生成物をアルカリ存在下にヨウ素を反応させて
2−オキサゾリジノン環を形成させ(第2工程)、ヨー
ド基を除去する(第3工程)、以上3工程によって得ら
れる一般式[1]で表わされる2−オキサゾリジノン誘
導体の製造方法に関するものである。
ドロキシエステルにイミダゾールメチル基を導入後(第
1工程)、N−p−トシルイソシアナートを反応させて
得られる生成物をアルカリ存在下にヨウ素を反応させて
2−オキサゾリジノン環を形成させ(第2工程)、ヨー
ド基を除去する(第3工程)、以上3工程によって得ら
れる一般式[1]で表わされる2−オキサゾリジノン誘
導体の製造方法に関するものである。
【0006】以下、本発明について詳述する。
【0007】本発明方法における原料化合物である2−
O−置換 5−メチル−3−ヘキセン酸エステルは一般
式[2]で表わされるものであり、容易に入手可能であ
る(例えば、特開平 6−107599)。Rの具体例
としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル基やメ
トキシメチル基など、水酸基とエーテル結合をする保護
基であればよく特に制限はない。R*の具体例として
は、 メチル基、エチル基や、(−)および(+)−ト
ランス−2−フェニルシクロヘキシル基等の光学活性な
アルコール類より導かれる基を挙げることができる。
O−置換 5−メチル−3−ヘキセン酸エステルは一般
式[2]で表わされるものであり、容易に入手可能であ
る(例えば、特開平 6−107599)。Rの具体例
としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル基やメ
トキシメチル基など、水酸基とエーテル結合をする保護
基であればよく特に制限はない。R*の具体例として
は、 メチル基、エチル基や、(−)および(+)−ト
ランス−2−フェニルシクロヘキシル基等の光学活性な
アルコール類より導かれる基を挙げることができる。
【0008】第1工程で用いる塩基はリチウムジイソプ
ロピルアミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミ
ドなど金属アミドであり、その使用量は一般式[2]で
表される化合物1モルに対して1.0〜1.5モル、好
ましくは1.2モルである。上記反応はTHFに代表さ
れるエーテル系溶媒中で行い反応温度は、−100℃〜
−30℃、好ましくは−78℃である。
ロピルアミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミ
ドなど金属アミドであり、その使用量は一般式[2]で
表される化合物1モルに対して1.0〜1.5モル、好
ましくは1.2モルである。上記反応はTHFに代表さ
れるエーテル系溶媒中で行い反応温度は、−100℃〜
−30℃、好ましくは−78℃である。
【0009】第1工程で用いる4−ヨードメチル−1−
トシルイミダゾールの使用量は、一般式[2]で表され
る化合物1モルに対して1.0〜2.0モル、好ましく
は1.1モルである。
トシルイミダゾールの使用量は、一般式[2]で表され
る化合物1モルに対して1.0〜2.0モル、好ましく
は1.1モルである。
【0010】シリル基の脱保護には、フッ化テトラブチ
ルアンモニウムを用い、その使用量は一般式[3]で表
される化合物1モルに対して1.0〜1.5モル、好ま
しくは1.2モル、THF中で行い、反応温度は−30
℃〜−5℃である。
ルアンモニウムを用い、その使用量は一般式[3]で表
される化合物1モルに対して1.0〜1.5モル、好ま
しくは1.2モル、THF中で行い、反応温度は−30
℃〜−5℃である。
【0011】第2工程で用いるN−p−トシルイソシア
ナートの使用量は、一般式[4]で表わされる化合物1
モルに対して1.0〜2.5モル、好ましくは2.0モ
ルであり、非プロトン性有機溶媒中で行い、反応温度は
室温(25℃)である。
ナートの使用量は、一般式[4]で表わされる化合物1
モルに対して1.0〜2.5モル、好ましくは2.0モ
ルであり、非プロトン性有機溶媒中で行い、反応温度は
室温(25℃)である。
【0012】分子内環化反応における塩基としては、炭
酸ナトリウムが好ましく、その使用量は一般式[5]で
表わされる化合物1モルに対して2〜10モル、好まし
くは5モル、ヨウ素の使用量は、一般式[5]で表わさ
れる化合物 1モルに対して1〜5モル、好ましくは2
モルである。
酸ナトリウムが好ましく、その使用量は一般式[5]で
表わされる化合物1モルに対して2〜10モル、好まし
くは5モル、ヨウ素の使用量は、一般式[5]で表わさ
れる化合物 1モルに対して1〜5モル、好ましくは2
モルである。
【0013】分子内環化反応は、非プロトン性有機溶媒
中で行うことができ、好ましくはアセトニトリル中で行
い、反応温度は0℃〜 30℃ 好ましくは室温(25
℃)である。
中で行うことができ、好ましくはアセトニトリル中で行
い、反応温度は0℃〜 30℃ 好ましくは室温(25
℃)である。
【0014】第3工程で還元反応に用いる水素化トリブ
チルスズは一般式[6]で表わされる化合物1モルに対
して1〜3モル、好ましくは1.2モル、アゾビスイソ
ブチロニトリルは触媒量用いられ、反応温度は80℃〜
120℃、好ましくは110℃である。
チルスズは一般式[6]で表わされる化合物1モルに対
して1〜3モル、好ましくは1.2モル、アゾビスイソ
ブチロニトリルは触媒量用いられ、反応温度は80℃〜
120℃、好ましくは110℃である。
【0015】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を説明する。
NMRスペクトルは日本電子社製EX−400を用いて
測定した。
NMRスペクトルは日本電子社製EX−400を用いて
測定した。
【0016】
【実施例1】 (2R,S)−2−O−トリエチルシリル−2−(1−
p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−5−メチ
ル−3−ヘキセン酸メチルの製造
p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−5−メチ
ル−3−ヘキセン酸メチルの製造
【0017】リチウムジイソプロピルアミドの0.24
M−THF溶液(2.5ml,0.60mmol)にア
ルゴン雰囲気下、−78℃にて(2R,S)−2−O−
トリエチルシリル−5−メチル−3−ヘキセン酸メチル
(136mg,0.50mmol)のTHF溶液(2m
l)を滴下し、15分攪拌後、4−ヨードメチル−1−
トシルイミダゾール(181mg,0.50mmol)
のTHF溶液(1ml)を滴下し、−78℃にて1時間
攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、濾過、濃縮し、シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー (展開溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=1:4)に
て精製し、標記化合物(173mg,0.36mmo
l,収率71%)を得る。 NMRによりその構造を確
認した。得られたスペクトルデータを下に示す。
M−THF溶液(2.5ml,0.60mmol)にア
ルゴン雰囲気下、−78℃にて(2R,S)−2−O−
トリエチルシリル−5−メチル−3−ヘキセン酸メチル
(136mg,0.50mmol)のTHF溶液(2m
l)を滴下し、15分攪拌後、4−ヨードメチル−1−
トシルイミダゾール(181mg,0.50mmol)
のTHF溶液(1ml)を滴下し、−78℃にて1時間
攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、濾過、濃縮し、シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー (展開溶媒;酢酸エチル:ヘキサン=1:4)に
て精製し、標記化合物(173mg,0.36mmo
l,収率71%)を得る。 NMRによりその構造を確
認した。得られたスペクトルデータを下に示す。
【0018】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.49 (q, J = 7.8 H
z, 6H), 0.82 (t, J = 7.8 Hz, 9H), 0.91 (d, J = 6.8
Hz, 3H), 0.93 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 2.21-2.29 (m,
1H),2.43 (s, 3H), 2.90 (d, J = 14.7 Hz, 1H), 3.10
(d, J = 14.7 Hz, 1H), 3.67 (s, 3H), 5.55 (d, J = 1
5.6 Hz, 1H), 5.60 (dd, J = 6.8, 15.6 Hz, 1H), 7.05
(s, 1H), 7.33 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 7.79 (d, J =
7.3 Hz, 2H), 7.86 (s, 1H)
z, 6H), 0.82 (t, J = 7.8 Hz, 9H), 0.91 (d, J = 6.8
Hz, 3H), 0.93 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 2.21-2.29 (m,
1H),2.43 (s, 3H), 2.90 (d, J = 14.7 Hz, 1H), 3.10
(d, J = 14.7 Hz, 1H), 3.67 (s, 3H), 5.55 (d, J = 1
5.6 Hz, 1H), 5.60 (dd, J = 6.8, 15.6 Hz, 1H), 7.05
(s, 1H), 7.33 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 7.79 (d, J =
7.3 Hz, 2H), 7.86 (s, 1H)
【0019】
【実施例2】 2−O−トリエチルシリル−2−(1−p−トシルイミ
ダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセ
ン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの
製造
ダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセ
ン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの
製造
【0020】実施例1と同様にして、(2R)−2−O
−トリエチルシリル−5−メチル−3−ヘキセン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシル(24
7mg,0.50mmol)から、リチウムジイソプロ
ピルアミドの0.24M−THF溶液(2.5ml,
0.60mmol)、4−ヨードメチル−1−トシルイ
ミダゾール(181mg,0.50mmol)を用い
て、標記化合物を得る(ジアステレオマー混合比;1:
1、収率50%)。 NMRによりその構造を確認し
た。得られたスペクトルデータを下に示す。
−トリエチルシリル−5−メチル−3−ヘキセン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシル(24
7mg,0.50mmol)から、リチウムジイソプロ
ピルアミドの0.24M−THF溶液(2.5ml,
0.60mmol)、4−ヨードメチル−1−トシルイ
ミダゾール(181mg,0.50mmol)を用い
て、標記化合物を得る(ジアステレオマー混合比;1:
1、収率50%)。 NMRによりその構造を確認し
た。得られたスペクトルデータを下に示す。
【0021】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.43 (q, J = 7.8 H
z, 6H), 0.69 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.70 (d, J = 6.8
Hz, 3H), 0.79 (t, J = 7.8 Hz, 9H), 1.18-1.51 (m,
6H),1.71-1.84 (m, 2H), 1.85-1.90 (m, 1H), 2.43 (s,
3H), 2.64 (dt, J = 3.9,12.2 Hz, 1H), 2.76 (d, J =
14.4 Hz, 1H), 2.91 (d, J = 14.4 Hz, 1H), 4.96(dt,
J = 3.9, 10.7 Hz, 1H), 4.97 (d, J = 15.6 Hz, 1H),
5.14 (dd, J = 6.8, 15.6 Hz, 1H), 7.05 (s, 1H), 7.
11-7.24 (m, 5H), 7.32 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.79
(d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.84 (s, 1H)1 HNMR (CDCl3) : δ= 0.40 (q, J = 7.8 Hz, 6H), 0.76
(t, J = 7.8 Hz, 9H), 0.78 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.
82 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.32-1.56 (m, 4H),1.75-1.9
4 (m, 2H), 2.01-2.03 (m, 1H), 2.43 (s, 3H), 2.54
(d, J = 15.1Hz, 1H), 2.66 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 2.
67-2.71 (m, 1H), 5.04 (dt, J = 4.4, 10.7 Hz, 1H),
5.25 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 5.32 (dd, J = 5.9, 15.6
Hz, 1H), 6.84 (s, 1H), 7.10-7.28 (m, 5H), 7.31
(d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.75 (d,J = 8.4 Hz, 2H), 7.79
(s, 1H)
z, 6H), 0.69 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.70 (d, J = 6.8
Hz, 3H), 0.79 (t, J = 7.8 Hz, 9H), 1.18-1.51 (m,
6H),1.71-1.84 (m, 2H), 1.85-1.90 (m, 1H), 2.43 (s,
3H), 2.64 (dt, J = 3.9,12.2 Hz, 1H), 2.76 (d, J =
14.4 Hz, 1H), 2.91 (d, J = 14.4 Hz, 1H), 4.96(dt,
J = 3.9, 10.7 Hz, 1H), 4.97 (d, J = 15.6 Hz, 1H),
5.14 (dd, J = 6.8, 15.6 Hz, 1H), 7.05 (s, 1H), 7.
11-7.24 (m, 5H), 7.32 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.79
(d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.84 (s, 1H)1 HNMR (CDCl3) : δ= 0.40 (q, J = 7.8 Hz, 6H), 0.76
(t, J = 7.8 Hz, 9H), 0.78 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.
82 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.32-1.56 (m, 4H),1.75-1.9
4 (m, 2H), 2.01-2.03 (m, 1H), 2.43 (s, 3H), 2.54
(d, J = 15.1Hz, 1H), 2.66 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 2.
67-2.71 (m, 1H), 5.04 (dt, J = 4.4, 10.7 Hz, 1H),
5.25 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 5.32 (dd, J = 5.9, 15.6
Hz, 1H), 6.84 (s, 1H), 7.10-7.28 (m, 5H), 7.31
(d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.75 (d,J = 8.4 Hz, 2H), 7.79
(s, 1H)
【0022】
【実施例3】 2−O−トリメチルシリル−2−(1−p−トシルイミ
ダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセ
ン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの
製造
ダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセ
ン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの
製造
【0023】実施例1と同様にして、(2R)−2−O
−トリメチルシリル−5−メチル−3−ヘキセン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシル(7
6.7mg,0.20mmol)から、カリウムビス
(トリメチルシリル)アミドの0.5M−トルエン溶液
(0.48ml,0.24mmol)、4−ヨードメチ
ル−1−トシルイミダゾール(72.4mg,0.20
mmol)を用いて、標記化合物を得る(ジアステレオ
マー混合比;6:1、収率74%)。 NMRによりそ
の構造を確認した。得られたスペクトルデータを下に示
す。
−トリメチルシリル−5−メチル−3−ヘキセン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシル(7
6.7mg,0.20mmol)から、カリウムビス
(トリメチルシリル)アミドの0.5M−トルエン溶液
(0.48ml,0.24mmol)、4−ヨードメチ
ル−1−トシルイミダゾール(72.4mg,0.20
mmol)を用いて、標記化合物を得る(ジアステレオ
マー混合比;6:1、収率74%)。 NMRによりそ
の構造を確認した。得られたスペクトルデータを下に示
す。
【0024】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.24 (s, 9H), 0.19
(s, 1.51H), 0.78 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.79 (d, J
= 6.8 Hz, 3H), 0.86 (d, J = 6.6 Hz, 0.51H), 0.90
(d, J= 6.6 Hz, 0.51H), 1.21-1.63 (m, 7.02H), 1.73-
1.81 (m, 2.34H), 1.89-2.12(m, 1.17H), 2.51 (d, J =
3.51 Hz, 1H), 2.70-2.78 (m, 1.51H), 2.80 (d, J= 1
5.1 Hz, 1H), 2.99 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 5.00 (dt,
J = 3.9, 11.2 Hz,1H), 5.01 (d, J = 15.6 Hz, 1H),
5.06-5.11 (m, 0.17H), 5.26 (dd, J = 6.8,15.6 Hz, 1
H), 5.37 (dd, J = 1.6, 15.6 Hz, 0.17H), 5.42 (dd,
J = 3.4, 15.6 Hz, 0.17H), 6.87 (s, 0.17H), 7.16
(s, 1H), 7.18-7.46 (m, 8.19H), 7.86 (d, J = 8.3 H
z, 2.34H), 7.91 (s, 1.17H)
(s, 1.51H), 0.78 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.79 (d, J
= 6.8 Hz, 3H), 0.86 (d, J = 6.6 Hz, 0.51H), 0.90
(d, J= 6.6 Hz, 0.51H), 1.21-1.63 (m, 7.02H), 1.73-
1.81 (m, 2.34H), 1.89-2.12(m, 1.17H), 2.51 (d, J =
3.51 Hz, 1H), 2.70-2.78 (m, 1.51H), 2.80 (d, J= 1
5.1 Hz, 1H), 2.99 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 5.00 (dt,
J = 3.9, 11.2 Hz,1H), 5.01 (d, J = 15.6 Hz, 1H),
5.06-5.11 (m, 0.17H), 5.26 (dd, J = 6.8,15.6 Hz, 1
H), 5.37 (dd, J = 1.6, 15.6 Hz, 0.17H), 5.42 (dd,
J = 3.4, 15.6 Hz, 0.17H), 6.87 (s, 0.17H), 7.16
(s, 1H), 7.18-7.46 (m, 8.19H), 7.86 (d, J = 8.3 H
z, 2.34H), 7.91 (s, 1.17H)
【0025】
【実施例4】 (2R,S)−2−ヒドロキシ−2−(1−p−トシル
イミダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘ
キセン酸メチルの製造
イミダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘ
キセン酸メチルの製造
【0026】(2R,S)−2−O−トリエチルシリル
−5−メチル−3−ヘキセン酸メチル(800mg,
1.58mmol)のTHF溶液(10ml)にフッ化
テトラブチルアンモニウムの1.0M−THF溶液
(1.58ml,1.58mmol)を滴下し、−30
〜−10℃にて1時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:ヘキ
サン=1:2)にて精製し、標記化合物(578mg,
1.47mmol,収率93%)を得る。 NMRによ
りその構造を確認した。得られたスペクトルデータを下
に示す。
−5−メチル−3−ヘキセン酸メチル(800mg,
1.58mmol)のTHF溶液(10ml)にフッ化
テトラブチルアンモニウムの1.0M−THF溶液
(1.58ml,1.58mmol)を滴下し、−30
〜−10℃にて1時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:ヘキ
サン=1:2)にて精製し、標記化合物(578mg,
1.47mmol,収率93%)を得る。 NMRによ
りその構造を確認した。得られたスペクトルデータを下
に示す。
【0027】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.91 (d, J = 6.3 H
z, 3H), 0.93 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 2.21-2.30 (m, 1
H), 2.44 (s, 3H), 2.83 (d, J = 14.9 Hz, 1H), 3.12
(d, J= 14.9 Hz, 1H), 3.67 (s, 3H), 4.10 (s, 1H),
5.52 (d, J = 15.6 Hz, 1H),5.84 (dd, J = 6.6, 15.6
Hz, 1H), 7.09 (s, 1H), 7.343 (d, J = 8.3 Hz, 2H),
7.78 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.89 (s, 1H)
z, 3H), 0.93 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 2.21-2.30 (m, 1
H), 2.44 (s, 3H), 2.83 (d, J = 14.9 Hz, 1H), 3.12
(d, J= 14.9 Hz, 1H), 3.67 (s, 3H), 4.10 (s, 1H),
5.52 (d, J = 15.6 Hz, 1H),5.84 (dd, J = 6.6, 15.6
Hz, 1H), 7.09 (s, 1H), 7.343 (d, J = 8.3 Hz, 2H),
7.78 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.89 (s, 1H)
【0028】
【実施例5】 2−O−ヒドロキシ−2−(1−p−トシルイミダゾー
ル−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの製造
ル−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの製造
【0029】実施例4と同様にして、2−O−トリエチ
ルシリル−2−(1−p−トシルイミダゾール−4−イ
ルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸(−)−トラ
ンス−2−フェニルシクロヘキシルの単一のジアステレ
オマー(96.0mg,0.15mmol)から、フッ
化テトラブチルアンモニウムの1.0M−THF溶液
(0.18ml,0.18mmol)を用いて、標記化
合物を得る(収率99%)。 NMRによりその構造を
確認した。得られたスペクトルデータを下に示す。
ルシリル−2−(1−p−トシルイミダゾール−4−イ
ルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸(−)−トラ
ンス−2−フェニルシクロヘキシルの単一のジアステレ
オマー(96.0mg,0.15mmol)から、フッ
化テトラブチルアンモニウムの1.0M−THF溶液
(0.18ml,0.18mmol)を用いて、標記化
合物を得る(収率99%)。 NMRによりその構造を
確認した。得られたスペクトルデータを下に示す。
【0030】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.72 (d, J = 6.8 H
z, 3H), 0.740 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.14-1.57 (m, 4
H), 1.72-1.76 (m, 3H), 1.87-1.95 (m, 2H), 2.44 (s,
3H), 2.64-2.71 (m, 1H), 2.69 (d, J = 15.2 Hz, 1
H), 2.96 (d, J = 15.2 Hz, 1H), 3.77 (s, 1H), 4.82
(d, J = 15.6 Hz, 1H), 4.87 (dt, J = 3.9, 10.7 Hz,1
H), 5.53 (dd, J = 6.8, 15.6 Hz, 1H), 7.08 (s, 1H),
7.12-7.25 (m, 5H),7.33 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.77
(d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.84 (s, 1H)
z, 3H), 0.740 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.14-1.57 (m, 4
H), 1.72-1.76 (m, 3H), 1.87-1.95 (m, 2H), 2.44 (s,
3H), 2.64-2.71 (m, 1H), 2.69 (d, J = 15.2 Hz, 1
H), 2.96 (d, J = 15.2 Hz, 1H), 3.77 (s, 1H), 4.82
(d, J = 15.6 Hz, 1H), 4.87 (dt, J = 3.9, 10.7 Hz,1
H), 5.53 (dd, J = 6.8, 15.6 Hz, 1H), 7.08 (s, 1H),
7.12-7.25 (m, 5H),7.33 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.77
(d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.84 (s, 1H)
【0031】
【実施例6】 (2R,S)−2−[(N−p−トシルカルバモイル)
オキシ]−2−(1−p−トシルイミダゾール−4−イ
ルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸メチルの製造
オキシ]−2−(1−p−トシルイミダゾール−4−イ
ルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸メチルの製造
【0032】(2R,S)−2−ヒドロキシ−2−(1
−p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−5−メ
チル−3−ヘキセン酸メチル(1.67g,4.25m
mol)のジクロロメタン溶液(20mmol)に、ア
ルゴン雰囲気下室温にて N−p−トシルイソシアナー
ト(1.29ml,8.50mmol)を滴下し14時
間攪拌する。この混合物を減圧下溶媒を除去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチ
ル:ヘキサン=1:2〜1:1)にて精製し、標記化合
物(2.10g,3.50mmol,収率84%)を得
る。 NMRによりその構造を確認した。得られたスペ
クトルデータを下に示す。
−p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−5−メ
チル−3−ヘキセン酸メチル(1.67g,4.25m
mol)のジクロロメタン溶液(20mmol)に、ア
ルゴン雰囲気下室温にて N−p−トシルイソシアナー
ト(1.29ml,8.50mmol)を滴下し14時
間攪拌する。この混合物を減圧下溶媒を除去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチ
ル:ヘキサン=1:2〜1:1)にて精製し、標記化合
物(2.10g,3.50mmol,収率84%)を得
る。 NMRによりその構造を確認した。得られたスペ
クトルデータを下に示す。
【0033】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.78 (d, J = 6.8 H
z, 6H), 2.09-2.18 (m, 1H), 2.44(s, 6H), 3.13 (d, J
= 14.8 Hz, 1H), 3.38 (d, J = 14.8 Hz, 1H), 3.54
(s,3H), 5.40 (dd, J = 6.8, 15.9 Hz, 1H), 5.55 (dd,
J = 1.0, 15.9 Hz, 1H), 7.02 (s, 1H), 7.30 (d, J =
8.3 Hz, 2H), 7.36 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.80 (d, J
= 8.3 Hz, 2H), 7.85 (s, 1H), 7.87 (d, J = 8.3 Hz,
2H)
z, 6H), 2.09-2.18 (m, 1H), 2.44(s, 6H), 3.13 (d, J
= 14.8 Hz, 1H), 3.38 (d, J = 14.8 Hz, 1H), 3.54
(s,3H), 5.40 (dd, J = 6.8, 15.9 Hz, 1H), 5.55 (dd,
J = 1.0, 15.9 Hz, 1H), 7.02 (s, 1H), 7.30 (d, J =
8.3 Hz, 2H), 7.36 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.80 (d, J
= 8.3 Hz, 2H), 7.85 (s, 1H), 7.87 (d, J = 8.3 Hz,
2H)
【0034】
【実施例7】 2−[(N−p−トシルカルバモイル)オキシ]−2−
(1−p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−5
−メチル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシルの製造
(1−p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−5
−メチル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシルの製造
【0035】2−ヒドロキシ−2−(1−p−トシルイ
ミダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキ
セン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシル
(90.0mg,0.17mmol)からN−p−トシ
ルイソシアナート(49.8μl,0.34mmol)
を用いて、標記化合物を得る(収率100%)。 NM
Rによりその構造を確認した。得られたスペクトルデー
タを下に示す。
ミダゾール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキ
セン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシル
(90.0mg,0.17mmol)からN−p−トシ
ルイソシアナート(49.8μl,0.34mmol)
を用いて、標記化合物を得る(収率100%)。 NM
Rによりその構造を確認した。得られたスペクトルデー
タを下に示す。
【0036】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.60 (d, J = 6.8 H
z, 3H), 0.62 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.84-0.94 (m, 1
H), 1.18-1.55 (m, 4H), 1.70-1.76 (m, 2H), 1.87-1.9
6 (m,2H), 2.43 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 2.51 (dt, J
= 4.4, 12.2 Hz, 1H), 2.58(d, J = 15.1 Hz, 1H), 2.9
9 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 4.91 (dt, J = 4.4, 11.2Hz,
1H), 5.11 (dd, J = 6.8, 15.9 Hz, 1H), 5.32 (d, J
= 15.9 Hz, 1H), 6.67 (s, 1H), 7.09-7.17 (m, 5H),
7.30 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.34 (d, J = 8.3 Hz, 2
H), 7.78 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.83 (s, 1H), 7.87
(d, J = 8.3 Hz,2H)
z, 3H), 0.62 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.84-0.94 (m, 1
H), 1.18-1.55 (m, 4H), 1.70-1.76 (m, 2H), 1.87-1.9
6 (m,2H), 2.43 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 2.51 (dt, J
= 4.4, 12.2 Hz, 1H), 2.58(d, J = 15.1 Hz, 1H), 2.9
9 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 4.91 (dt, J = 4.4, 11.2Hz,
1H), 5.11 (dd, J = 6.8, 15.9 Hz, 1H), 5.32 (d, J
= 15.9 Hz, 1H), 6.67 (s, 1H), 7.09-7.17 (m, 5H),
7.30 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.34 (d, J = 8.3 Hz, 2
H), 7.78 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.83 (s, 1H), 7.87
(d, J = 8.3 Hz,2H)
【0037】
【実施例8】 4−(1−ヨード−2−メチルプロピル)−5−(1−
p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−N−p−
トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸メ
チルの製造
p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−N−p−
トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸メ
チルの製造
【0038】(2R,S)−2−[(N−p−トシルカ
ルバモイル)オキシ]−2−(1−p−トシルイミダゾ
ール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸
メチル(2.10g,3.57mmol)をアセトニト
リル(110ml)に溶解させ、炭酸ナトリウム(1.
89g,17.8mmol)とヨウ素(1.81g,
7.13mmol)を加え、室温で21時間撹拌する。
チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、炭酸水素ナトリウム
水溶液で中和し、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:ヘキ
サン=1:2)にて精製し、標記化合物(620mg,
0.87mmol,収率24%)を得る。NMRにより
その構造を確認した。得られたスペクトルデータを下に
示す。
ルバモイル)オキシ]−2−(1−p−トシルイミダゾ
ール−4−イルメチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸
メチル(2.10g,3.57mmol)をアセトニト
リル(110ml)に溶解させ、炭酸ナトリウム(1.
89g,17.8mmol)とヨウ素(1.81g,
7.13mmol)を加え、室温で21時間撹拌する。
チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、炭酸水素ナトリウム
水溶液で中和し、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:ヘキ
サン=1:2)にて精製し、標記化合物(620mg,
0.87mmol,収率24%)を得る。NMRにより
その構造を確認した。得られたスペクトルデータを下に
示す。
【0039】1HNMR (CDCl3) : δ= 1.23 (d, J = 6.4 H
z, 3H), 1.32 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 2.29 (m, 1H), 2.
43 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 3.41 (d, J = 14.61 Hz, 1
H),3.51 (s, 3H), 3.95 (d, J = 14.6 Hz, 1H), 4.23
(dd, J = 2.9, 11.0 Hz, 1H), 4.49 (d, J = 2.9 Hz, 1
H), 7.16 (s, 1H), 7.36 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.38
(d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.78 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.8
4 (s, 1H), 7.89 (d, J= 7.8 Hz, 2H)
z, 3H), 1.32 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 2.29 (m, 1H), 2.
43 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 3.41 (d, J = 14.61 Hz, 1
H),3.51 (s, 3H), 3.95 (d, J = 14.6 Hz, 1H), 4.23
(dd, J = 2.9, 11.0 Hz, 1H), 4.49 (d, J = 2.9 Hz, 1
H), 7.16 (s, 1H), 7.36 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.38
(d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.78 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.8
4 (s, 1H), 7.89 (d, J= 7.8 Hz, 2H)
【0040】
【実施例9】 4−(1−ヨード−2−メチルプロピル)−5−(1−
p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−N−p−
トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの製造
p−トシルイミダゾール−4−イルメチル)−N−p−
トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシルの製造
【0041】2−[(N−p−トシルカルバモイル)オ
キシ]−2−(1−p−トシルイミダゾール−4−イル
メチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸(−)−トラン
ス−2−フェニルシクロヘキシル(80.7mg,0.
117mmol)から炭酸ナトリウム(58.3mg,
0.55mmol)とヨウ素(55.8mg,0.22
mmol)を用いて、標記化合物を得る(収率41
%)。NMR によりその構造を確認した。得られたス
ペクトルデータを下に示す。
キシ]−2−(1−p−トシルイミダゾール−4−イル
メチル)−5−メチル−3−ヘキセン酸(−)−トラン
ス−2−フェニルシクロヘキシル(80.7mg,0.
117mmol)から炭酸ナトリウム(58.3mg,
0.55mmol)とヨウ素(55.8mg,0.22
mmol)を用いて、標記化合物を得る(収率41
%)。NMR によりその構造を確認した。得られたス
ペクトルデータを下に示す。
【0042】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.66 (d, J = 6.8 H
z, 3H), 0.83-0.92 (m, 2H), 1.09(d, J = 6.8 Hz, 3
H), 1.20-1.40 (m, 4H), 1.66-1.68 (m, 1H), 1.88-1.9
1 (m,1H), 2.07-2.18 (m, 1H), 2.44 (s, 3H), 2.48
(s, 3H), 2.67 (dt, J = 3.9,11.7 Hz, 1H), 3.31 (d,
J = 15.6 Hz, 1H), 3.81 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 3.87
(d, J = 15.6 Hz, 1H), 3.98 (dd, J = 2.4, 10.7 Hz,
1H), 5.01 (dt, J = 3.9, 10.7 Hz, 1H), 7.11 (s, 1
H), 7.14 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.19-7.39 (m, 7H),
7.78 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.81 (s, 1H), 7.82 (d, J
= 8.3 Hz, 2H)
z, 3H), 0.83-0.92 (m, 2H), 1.09(d, J = 6.8 Hz, 3
H), 1.20-1.40 (m, 4H), 1.66-1.68 (m, 1H), 1.88-1.9
1 (m,1H), 2.07-2.18 (m, 1H), 2.44 (s, 3H), 2.48
(s, 3H), 2.67 (dt, J = 3.9,11.7 Hz, 1H), 3.31 (d,
J = 15.6 Hz, 1H), 3.81 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 3.87
(d, J = 15.6 Hz, 1H), 3.98 (dd, J = 2.4, 10.7 Hz,
1H), 5.01 (dt, J = 3.9, 10.7 Hz, 1H), 7.11 (s, 1
H), 7.14 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.19-7.39 (m, 7H),
7.78 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.81 (s, 1H), 7.82 (d, J
= 8.3 Hz, 2H)
【0043】
【実施例10】 4−(2−メチルプロピル)−5−(1−p−トシルイ
ミダゾール−4−イルメチル)−N−p−トシル−2−
オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸メチルの製造
ミダゾール−4−イルメチル)−N−p−トシル−2−
オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸メチルの製造
【0044】4−(1−ヨード−2−メチルプロピル)
−5−(1−p−トシルイミダゾール−4−イルメチ
ル)−N−p−トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジ
ンカルボン酸メチル(360mg,0.50mmol)
をベンゼン(12ml)に溶解させ、アゾビスイソブチ
ロニトリル(16.6mg,0.10mmol)および
水素化トリブチルスズ(0.21ml,0.76mmo
l)を加え、1時間還流する。冷却後濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:
ヘキサン=1:2)にて精製し、標記化合物(155m
g,0.26mmol,収率52%)を得る。NMRに
よりその構造を確認した。得られたスペクトルデータを
下に示す。
−5−(1−p−トシルイミダゾール−4−イルメチ
ル)−N−p−トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジ
ンカルボン酸メチル(360mg,0.50mmol)
をベンゼン(12ml)に溶解させ、アゾビスイソブチ
ロニトリル(16.6mg,0.10mmol)および
水素化トリブチルスズ(0.21ml,0.76mmo
l)を加え、1時間還流する。冷却後濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:
ヘキサン=1:2)にて精製し、標記化合物(155m
g,0.26mmol,収率52%)を得る。NMRに
よりその構造を確認した。得られたスペクトルデータを
下に示す。
【0045】1HNMR (CDCl3) : δ= 1.01 (d, J = 6.4 H
z, 3H), 1.05 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.67-1.72 (m, 1
H), 1.74-1.79 (m, 1H), 1.81-1.88 (m, 1H), 2.43 (s,
3H),2.44 (s, 3H), 3.07 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 3.28
(d, J = 15.1 Hz, 1H), 3.41 (s, 3H), 4.56 (dd, J =
6.6, 6.6 Hz, 1H), 7.10 (s, 1H), 7.33 (d, J = 7.8
Hz, 2H), 7.76 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.78 (d, J = 7.
8 Hz, 2H), 7.84 (s,1H), 7.85 (d, J = 8.3 Hz, 2H)
z, 3H), 1.05 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.67-1.72 (m, 1
H), 1.74-1.79 (m, 1H), 1.81-1.88 (m, 1H), 2.43 (s,
3H),2.44 (s, 3H), 3.07 (d, J = 15.1 Hz, 1H), 3.28
(d, J = 15.1 Hz, 1H), 3.41 (s, 3H), 4.56 (dd, J =
6.6, 6.6 Hz, 1H), 7.10 (s, 1H), 7.33 (d, J = 7.8
Hz, 2H), 7.76 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.78 (d, J = 7.
8 Hz, 2H), 7.84 (s,1H), 7.85 (d, J = 8.3 Hz, 2H)
【0046】
【実施例11】 4−(2−メチルプロピル)−5−(1−p−トシルイ
ミダゾール−4−イルメチル)−N−p−トシル−2−
オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸(−)−トラン
ス−2−フェニルシクロヘキシルの製造
ミダゾール−4−イルメチル)−N−p−トシル−2−
オキソ−5−オキサゾリジンカルボン酸(−)−トラン
ス−2−フェニルシクロヘキシルの製造
【0047】4−(1−ヨード−2−メチルプロピル)
−5−(1−p−トシルイミダゾール−4−イルメチ
ル)−N−p−トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジ
ンカルボン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘ
キシル(22.5mg,0.026mmol)から、ア
ゾビスイソブチロニトリル(2.1mg,0.013m
mol)および水素化トリブチルスズ(10.8μl,
0.039mmol)を用い、標記化合物を得る(収率
63%)。NMRによりその構造を確認した。得られた
スペクトルデータを下に示す。
−5−(1−p−トシルイミダゾール−4−イルメチ
ル)−N−p−トシル−2−オキソ−5−オキサゾリジ
ンカルボン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロヘ
キシル(22.5mg,0.026mmol)から、ア
ゾビスイソブチロニトリル(2.1mg,0.013m
mol)および水素化トリブチルスズ(10.8μl,
0.039mmol)を用い、標記化合物を得る(収率
63%)。NMRによりその構造を確認した。得られた
スペクトルデータを下に示す。
【0048】1HNMR (CDCl3) : δ= 0.82 (d, J = 6.4 H
z, 3H), 0.86 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.16-1.70 (m, 9
H), 1.90 (bd, J = 4.2 Hz, 1H), 2.40-2.51 (m, 1H),
2.43(s, 3H), 2.47 (s, 3H), 2.62 (dt, J = 3.9, 12.0
Hz, 1H), 2.97 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 3.17 (d, J =
16.1 Hz, 1H), 3.88 (dd, J = 6.4, 6.4 Hz, 1H), 4.72
(dt, J = 3.9, 10.87 Hz, 1H), 6.98 (s, 1H), 7.17
(d, J = 6.8 Hz, 2H),7.22-7.38 (m, 6H), 7.63 (d, J
= 8.3 Hz, 2H), 7.76 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.81 (s,
1H)
z, 3H), 0.86 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.16-1.70 (m, 9
H), 1.90 (bd, J = 4.2 Hz, 1H), 2.40-2.51 (m, 1H),
2.43(s, 3H), 2.47 (s, 3H), 2.62 (dt, J = 3.9, 12.0
Hz, 1H), 2.97 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 3.17 (d, J =
16.1 Hz, 1H), 3.88 (dd, J = 6.4, 6.4 Hz, 1H), 4.72
(dt, J = 3.9, 10.87 Hz, 1H), 6.98 (s, 1H), 7.17
(d, J = 6.8 Hz, 2H),7.22-7.38 (m, 6H), 7.63 (d, J
= 8.3 Hz, 2H), 7.76 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.81 (s,
1H)
【0049】
【発明の効果】本発明によって、β,γ−不飽和 α−
ヒドロキシエステルから4−イソプロピル−5−カルボ
キシル−5−イミダゾールメチル−2−オキサゾリジノ
ン誘導体を製造する方法を提供することが可能になっ
た。この2−オキサゾリジノン誘導体は、適当な脱保護
操作により、生理活性天然物であるロイヒスチンへ変換
することが可能である。
ヒドロキシエステルから4−イソプロピル−5−カルボ
キシル−5−イミダゾールメチル−2−オキサゾリジノ
ン誘導体を製造する方法を提供することが可能になっ
た。この2−オキサゾリジノン誘導体は、適当な脱保護
操作により、生理活性天然物であるロイヒスチンへ変換
することが可能である。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式[1] 【化1】(一般式[1]中、R*はメチル基またはトラ
ンス−2−フェニルシクロヘキシル基を示す。)で表さ
れる2−オキサゾリジノン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8060896A JPH09241258A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 2−オキサゾリジノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8060896A JPH09241258A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 2−オキサゾリジノン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09241258A true JPH09241258A (ja) | 1997-09-16 |
Family
ID=13723051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8060896A Pending JPH09241258A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 2−オキサゾリジノン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09241258A (ja) |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8060896A patent/JPH09241258A/ja active Pending
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