JPH09244251A - レジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ガラス基板の終端に発生した膜厚レジストを除
去してレジスト塗膜を均一に形成する。 【解決手段】ニップローラとロールバーおよびレジスト
の受け皿と、受け皿内に設置してロールバーをレジスト
溶液内で支持するロールバー保持部材とを少なくとも有
するレジスト塗布部の搬出部に設置して幅方向終端に形
成されるレジスト膜厚部を負圧で吸引しつつ上記幅方向
に移動するレジスト除去ノズル９を備えたレジスト塗布
装置において、レジスト除去ノズル９を、先端が開放し
た可撓性材料からなる略半円筒形のレジスト吸引部と、
ガラス基板１に摺接する一側端縁９ａを薄肉とし、他側
端縁を前記ガラス基板から離間した状態で移動方向に向
けて設置した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平板状体に流動性
材料を塗布する装置に係り、特に液晶パネル用ガラス基
板にカラーフィルタ等への薄層パターンの形成に好適な
レジスト塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶表示装置を構成する液晶パネ
ルは、各々透明電極群を形成した２枚の透明ガラス基板
の間に液晶層を注入してなり、上記表示面となる一方の
ガラス基板に複数色のそれぞれに対応する複数のカラー
フィルタを形成してなる構成を基本としている。

【０００３】上記カラーフィルタは、ガラス基板の上に
ゼラチン／重クロメート等の水溶性の光硬化型感光性組
成物を塗布し、これを所定の画素パターンに対応するご
とくパターニングした後、所定の色に染色する工程を所
要回数繰り返して形成する方法が採用されていたが、フ
ィルタ濃度のばらつきや使用溶剤の毒性の問題等があ
り、安定した品質のカラーフィルタを効率よく製造する
ことが困難であり、また環境に悪影響をもたらす等の問
題を有していた。

【０００４】上記の各問題点を解消するものとして、顔
料で着色した感光性組成物をガラス基板に塗布し、所定
のマスクを介して露光し、現像して所定の着色パターン
を形成する工程を所要回数繰り返す方法等が知られてい
る。

【０００５】この顔料着色の感光性組成物（以下、単に
レジストと言う）をガラス基板に塗布する方法として
は、溝付きゴムローラによってレジスト溶液を塗布する
ロールコート法、あるいはガラス基板を回転させながら
レジスト溶液を遠心力で引延して塗布するスピンコート
法、その他種々の方法があるが、前者では塗膜の平滑性
に限界があり、また、後者ではレジスト溶液の利用効率
が極めて低く、多数のガラス基板を効率よく処理するこ
とが困難であるという問題がある。

【０００６】これに対して、例えば特開平２−２５８０
８１号公報、あるいは特開平４−２７０３４６号公報に
開示されたようなワイヤーを巻き付けたロッド（以下、
ロールバーと称する）を用いて平面搬送されるガラス基
板の下面からレジスト溶液を塗布する、所謂ロッドコー
タ法を用いることで、連続して搬送される多数のガラス
基板に均一なレジストの塗膜を形成することができる。

【０００７】従来、ロッドコート法によるカラーフィル
タの顔料レジスト塗布装置では、レジスト受け皿に溜め
たレジストの溶液をこの中に配置したロールバーにより
汲み上げ、当該ロールバーの上を通過するガラス基板の
上方からニップローラによってロールバーに押圧し、ロ
ールバーで汲み上げたレジスト溶液を接触させ、余剰の
レジスト溶液を掻き取りながら基板に均一に塗布してい
る。

【０００８】このレジスト塗布装置では、ロールバーは
ニップローラによる押圧によって撓まないように当該ニ
ップローラの略々全長にわたって下面から保持するロー
ルバー保持具を備えている。

【０００９】図１０は本発明を適用するガラス基板への
レジスト塗布装置の全体構成を説明する模式正面図であ
って、１はガラス基板、１ａは基板搬入装置、１ｂは搬
送ローラ、１ｃは搬出装置、１ｄは搬送ローラ、２はニ
ップローラ、３はロールバー、４はレジスト溶液、５は
レジスト溶液の受け皿、７は塗布部、７ａは回転装置、
７ｂはガイドレール、７ｃは昇降装置、８は架台であ
る。

【００１０】同図において、レジストを塗布するガラス
基板１は図示しない基板供給部から搬送ローラ１ｂを備
えた基板搬入装置１ａにより塗布部７に搬送される。

【００１１】塗布部７は受け皿５に貯留されたレジスト
溶液４に一部を没設して回転するロールバー３とニップ
ローラ２、および回転装置７ａで回転されるロールバー
３をガイドレール７ｂに沿って昇降する昇降装置７ｃか
ら構成され、この塗布部７に搬入されたガラス基板１の
裏面にロールバー３で汲み上げたレジスト溶液を接触さ
せて塗布すると共に、余剰のレジスト溶液を掻き落とし
て所要の膜厚のレジストを塗布する。

【００１２】レジストが塗布されたガラス基板１はニッ
プローラ２の回転で塗布部７から搬出される。この搬出
は搬送ローラ１ｄを備えた基板搬出装置１ｃで行われ、
後段の乾燥部（図示せず）に渡される。

【００１３】上記ニップローラ２はガラス基板１へのレ
ジスト塗布時以外は昇降装置７ｃでロールバー３から離
れるように上昇されてロールバー３にレジストが付着し
ないように離脱される。

【００１４】図１１は従来のロールバーによるレジスト
塗布装置の塗布メカニズムを説明するための模式図であ
って、１はレジストを塗布するガラス基板、２はガラス
基板１をロールバー３に押圧するニップローラ、３はレ
ジスト溶液をガラス基板１に接触塗布するロールバー、
４はレジスト溶液、４ａはロールバー３で汲み上げられ
たレジスト溶液溜まり、４ｂは塗布されたレジストの塗
膜、５は受け皿、６はロールバー保持部材である。

【００１５】図示したように、ガラス基板１は図示しな
い基板搬送装置によりロールバー３とニップローラ２の
対向部に搬入され、矢印Ｂ方向に回転するニップローラ
２の押圧力でロールバー３に押し付けられながら矢印Ａ
方向に進行する。

【００１６】受け皿５に貯留されたレジスト溶液４は矢
印Ｃ方向に回転するロールバー３の回転で汲み上げら
れ、ガラス基板１の搬入側にレジスト溶液溜まり４ａを
形成する。このレジスト溶液溜まり４ａがガラス基板１
に接触して塗布される。

【００１７】ガラス基板１はその裏面にレジスト溶液が
塗布されてロールバー３を通過して搬出されるとき、ロ
ールバー３は塗布されたレジスト溶液の余剰分を掻き落
として所要の厚さの塗膜４ｂを形成する。

【００１８】この塗膜４ｂの厚さは、レジスト溶液の粘
度、ガラス基板１の搬送速度、ロールバー３の直径およ
び周速度等の諸条件で決定される。

【００１９】また、ロールバー保持部材６はレジスト溶
液の受け皿５に固定され、そのロールバー回転受け部分
の形状も使用されるロールバーの形状（直径、巻き付け
たワイヤーのサイズと間隔）に合わせて形成されてお
り、レジストの切替え（カラーフィルタの色切替え、
等）を行なう場合、あるいは塗布するレジストの膜厚を
変更したい場合はロールバー３と共にレジストの受け皿
５も一緒に交換して塗布を行なっている。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】上記したレジスト塗布
装置においては、ガラス基板１がレジスト溶液が塗布さ
れた状態でニップローラとロールバーの間を抜けると
き、ガラス基板１の終端の幅方向にわたってにレジスト
溶液の厚さが厚くなり、レジスト塗膜の厚さの均一性が
阻害される。

【００２１】ガラス基板の終端で形成したレジスト塗膜
が不均一になると、後段の露光工程で露光マスクとの間
の間隙が一様でなくなり、あるいは現像残りが生じる。

【００２２】図１２はガラス基板に塗布されたレジスト
塗膜の塗布状態の説明図であって、４ｃはガラス基板１
に塗布されたレジスト塗膜４ｂのガラス基板終端に発生
する膜厚部、９はレジスト除去ノズルである。

【００２３】同図において、（ａ）はガラス基板の平面
図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ｘ方向から見た側面図、
（ｃ）は（ａ）の矢印Ｙ方向から見た側面図である。

【００２４】レジスト溶液は幅Ｌ１のガラス基板１の搬
送方向（矢印Ａ）と平行に幅Ｌ２の範囲に塗布されてレ
ジスト塗膜４ｂが形成される。

【００２５】そして、ガラス基板終端に発生した膜厚部
４ｅはレジスト塗布部を通過直後に、当該ガラス基板１
の終端に沿って幅方向Ｚに移動するレジスト除去ノズル
９の負圧で吸い取るようにしている。

【００２６】しかし、（ｃ）に示したように、ガラス基
板１は搬送方向両端を搬送ローラで支持されて搬送され
るため、レジスト塗布部から搬出されてレジストの膜厚
部４ｅを掻き取る際に、レジスト除去ノズルとガラス基
板との間のギャップが変化して均一な除去ができなくな
るという問題がある。

【００２７】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消し、ガラス基板の終端に形成されう膜厚レジストを
均一に除去することができるレジスト塗布装置を提供す
ることにある。

【００２８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ガラス基板の終端の幅方向に摺接移動す
るレジスト除去ノズルのレジスト掻き落とし縁を、当該
ガラス基板面の平行度の乱れにかかわらずに常に当接状
態を保持する構成としたことにより達成される。

【００２９】すなわち、請求項１に記載の第１の発明
は、ニップローラとロールバーおよびレジストの受け皿
と、前記受け皿内に設置して前記ロールバーをレジスト
溶液内で支持するロールバー保持部材とを少なくとも有
するレジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の搬出部に
設置して当該レジスト塗布部を通過したガラス基板の幅
方向終端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で吸引しつ
つ上記幅方向に移動するレジスト除去ノズルを備え、前
記ニップローラと前記ロールバーの間にガラス基板を通
過させつつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロールバー
で汲み上げることにより、前記ガラス基板にレジスト溶
液を塗布するレジスト塗布装置において、前記レジスト
除去ノズルは、先端が開放した可撓性材料からなる略半
円筒形のレジスト吸引部を有し、前記略半円筒形のレジ
スト吸引部の前記ガラス基板に摺接する一側端縁を薄肉
とし、他側端縁を前記ガラス基板から離間した状態で前
記他側端縁を移動方向に向けて設置したことを特徴とす
る。

【００３０】上記レジスト吸引部の前記ガラス基板に摺
接する一側端縁を薄肉としたことで、当該一側端縁をガ
ラス基板に押接して摺接移動させる際に、ガラス基板の
平面度が変化している場合でも、上記薄肉部はガラス基
板面に接した状態を保持する。

【００３１】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００３２】また、請求項２に記載の第２の発明は、ニ
ップローラとロールバーおよびレジストの受け皿と、前
記受け皿内に設置して前記ロールバーをレジスト溶液内
で支持するロールバー保持部材とを少なくとも有するレ
ジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の搬出部に設置し
て当該レジスト塗布部を通過したガラス基板の幅方向終
端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で吸引しつつ上記
幅方向に移動するレジスト除去ノズルを備え、前記ニッ
プローラと前記ロールバーの間にガラス基板を通過させ
つつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロールバーで汲み
上げることにより、前記ガラス基板にレジスト溶液を塗
布するレジスト塗布装置において、前記レジスト除去ノ
ズルは、先端が開放した可撓性材料からなる略半円筒形
のレジスト吸引部を有し、前記略半円筒形のレジスト吸
引部の一端縁を前記ガラス基板に摺接すると共に他側端
縁を前記ガラス基板から離間した状態で全体が前記ガラ
ス基板に対して弾接させるバネ部材で支持されて前記他
側端縁を移動方向に向けて設置したことを特徴とする。

【００３３】上記バネ部材による弾接により、前記一側
端縁をガラス基板に押接して摺接移動させる際に、ガラ
ス基板の平面度が変化している場合でも、上記薄肉部は
ガラス基板面に接した状態を保持する。

【００３４】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００３５】さらに、請求項３に記載の第３の発明は、
ニップローラとロールバーおよびレジストの受け皿と、
前記受け皿内に設置して前記ロールバーをレジスト溶液
内で支持するロールバー保持部材とを少なくとも有する
レジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の搬出部に設置
して当該レジスト塗布部を通過したガラス基板の幅方向
終端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で吸引しつつ上
記幅方向に移動するレジスト除去ノズルを備え、前記ニ
ップローラと前記ロールバーの間にガラス基板を通過さ
せつつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロールバーで汲
み上げることにより、前記ガラス基板にレジスト溶液を
塗布するレジスト塗布装置において、前記レジスト除去
ノズルは、先端が開放した可撓性材料からなる略半円筒
形のレジスト吸引部を有し、前記略半円筒形のレジスト
吸引部の一端縁を前記ガラス基板に摺接すると共に他側
端縁を前記ガラス基板から離間した状態で全体が前記ガ
ラス基板のレジスト塗布面に対して前記レジスト吸引部
の軸回りに回転可能に前記他側端縁を移動方向に向けて
設置したことを特徴とする。

【００３６】上記前記レジスト除去ノズルを回転可能に
したことで、前記一側端縁をガラス基板に押接して摺接
移動させる際に、ガラス基板の平面度が変化している場
合でも、上記ガラス基板と接する端縁が当該ガラス基板
面に接した状態を保持する。これにより、ガラス基板の
終端に形成された膜厚レジストを均一に除去することが
できる。

【００３７】そして、請求項４に記載の第４の発明は、
ニップローラとロールバーおよびレジストの受け皿と、
前記受け皿内に設置して前記ロールバーをレジスト溶液
内で支持するロールバー保持部材とを少なくとも有する
レジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の搬出部に設置
して当該レジスト塗布部を通過したガラス基板の幅方向
終端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で吸引しつつ上
記幅方向に移動するレジスト除去ノズルを備え、前記ニ
ップローラと前記ロールバーの間にガラス基板を通過さ
せつつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロールバーで汲
み上げることにより、前記ガラス基板にレジスト溶液を
塗布するレジスト塗布装置において、前記レジスト除去
ノズルは、先端が開放した可撓性材料からなる略半円筒
形のレジスト吸引部を有し、前記略半円筒形のレジスト
吸引部の前記ガラス基板に対する移動方向後方の側端縁
に可撓性材料からなるブレードを取付けてなり、前記ブ
レードを前記ガラス基板に摺接させ、他側端縁を前記ガ
ラス基板から離間した状態で前記他側端縁を移動方向に
向けて設置したことを特徴とする。

【００３８】上記レジスト吸引部の前記ガラス基板に摺
接する一側端縁に可撓性ブレードを設けたことで、当該
一側端縁をガラス基板に押接して摺接移動させる際に、
ガラス基板の平面度が変化している場合でも、上記薄肉
部はガラス基板面に接した状態を保持する。

【００３９】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００４０】なお、上記各発明を組み合わせることもで
きる。

【００４１】また、本発明は液晶パネルに限らず、他の
同様のレジスト類の塗布装置に適用できる。

【００４２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、実
施例の図面を参照して詳細に説明する。

【００４３】図１は本発明によるレジスト塗布装置の第
１実施例の構成を説明する要部模式図であって、１はガ
ラス基板、４ｅはレジスト厚肉部、４ｆは除去レジスト
溜り、９はレジスト除去ノズル、１０はノズル移動機
構、１１は連結導管、１２は収集容器、１３は吸引導
管、１４は排気ポンプである。

【００４４】同図において、ガラス基板１の終端に形成
されたレジスト厚肉部４ｅは、当該ガラス基板１の後端
にレジスト除去ノズル９を押接して矢印Ｚ方向（ガラス
基板１の幅方向）に移動させる。

【００４５】レジスト除去ノズル９は、先端が開放した
可撓性材料からなる略半円筒形のレジスト吸引部を有
し、前記略半円筒形のレジスト吸引部の前記ガラス基板
に摺接する一側端縁を薄肉とし、他側端縁を前記ガラス
基板から離間した状態で前記他側端縁を移動方向に向け
て設置されている。

【００４６】このレジスト除去ノズル９には連結導管１
１と収納容器１２および吸引導管１３を介して排気ポン
プ１４に接続されており、この排気ポンプ１４で発生さ
れる負圧でガラス基板１の終端にレジストを吸引する。
吸引したレジストは収集容器１２に除去レジスト溜り４
ｆとして保留される。

【００４７】図２は図１のレジスト除去ノズルの作用を
説明する部分模式図であって、可撓性材料のレジスト除
去ノズル９の一端縁は薄肉に形成されてガラス基板に押
接されて厚肉レジスト４ｅを掻き取り、他端縁すなわち
先行端はガラス基板１の表面から離間して厚肉レジスト
４ｅをノズル内に取り込むようになっている。

【００４８】図３は本実施例におけるレジスト除去ノズ
ルの構成説明図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は開
放端側正面図、（ｃ）は側面図である。

【００４９】本実施例のレジスト除去ノズル９は、先端
が開放した略半円筒形のレジスト吸引部を有し、その一
端縁（後行縁）に薄肉部９ａを有する。

【００５０】このように、レジスト吸引部の前記ガラス
基板に摺接する一側端縁９ａを薄肉としたことで、当該
一側端縁９ａをガラス基板１に押接してＺ方向に摺接移
動させる際に、ガラス基板の平面度が変化している場合
でも、上記薄肉部９ａはガラス基板１の面に接した状態
を保持する。

【００５１】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００５２】図４は本発明によるレジスト塗布装置の第
２実施例のレジスト除去ノズルの作用を説明する部分模
式図であって、レジスト除去ノズル９の一端縁９ｂはガ
ラス基板１に押接されて厚肉レジスト４ｅを掻き取り、
他端縁すなわち先行端はガラス基板１の表面から離間し
て厚肉レジスト４ｅをノズル内に取り込むようになって
いる。

【００５３】図５は本実施例におけるレジスト除去ノズ
ルの構成説明図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は開
放端側正面図、（ｃ）は側面図である。

【００５４】本実施例のレジスト除去ノズル９は、先端
が開放した略半円筒形のレジスト吸引部を有し、このレ
ジスト吸引部の一端縁を前記ガラス基板に摺接すると共
に他側端縁を前記ガラス基板から離間した状態で全体が
前記ガラス基板に対して弾接させるバネ部材９ｃで支持
されて前記他側端縁（先行端縁）を移動方向Ｚに向けて
設置してなる。

【００５５】上記バネ部材による弾接により、レジスト
除去ノズル９はＦ方向およびＧ方向に揺動可能となり、
前記一側端縁（後行端縁）９ｂをガラス基板１に押接し
て摺接移動させる際に、ガラス基板１の平面度が変化し
ている場合でも、上記後行端縁９ｂはガラス基板面に接
した状態を保持する。

【００５６】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００５７】このように、レジスト吸引部をバネ部材で
支持してガラス基板１に弾接したことで、当該一側端縁
９ｂをガラス基板１に押接してＺ方向に摺接移動させる
際に、ガラス基板の平面度が変化している場合でも、上
記一側端縁９ｂはガラス基板１の面に接した状態を保持
する。

【００５８】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００５９】図６は本発明によるレジスト塗布装置の第
３実施例のレジスト除去ノズルの作用を説明する部分模
式図であって、レジスト除去ノズル９の一端縁９ｂはガ
ラス基板１に押接されて厚肉レジスト４ｅを掻き取り、
他端縁すなわち先行端はガラス基板１の表面から離間し
て厚肉レジスト４ｅをノズル内に取り込むようになって
いる。

【００６０】図７は本実施例におけるレジスト除去ノズ
ルの構成説明図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は開
放端側正面図、（ｃ）は側面図である。

【００６１】本実施例のレジスト除去ノズル９は、先端
が開放した略半円筒形のレジスト吸引部を有し、このレ
ジスト吸引部の一端縁を前記ガラス基板に摺接すると共
に他側端縁を前記ガラス基板から離間した状態で全体が
前記ガラス基板に対して回転可能とした回転部９ｄで支
持されて前記他側端縁（先行端縁）を移動方向Ｚに向け
て設置してなる。

【００６２】上記回転部９ｄによる支持により、レジス
ト除去ノズル９はＨ方向に回転可能となり、前記一側端
縁（後行端縁）９ｂをガラス基板１に押接して摺接移動
させる際に、ガラス基板１の平面度が変化している場合
でも、上記後行端縁９ｂはガラス基板面に接した状態を
保持する。

【００６３】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００６４】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００６５】図８は本発明によるレジスト塗布装置の第
４実施例のレジスト除去ノズルの作用を説明する部分模
式図であって、レジスト除去ノズル９の一端縁には可撓
性ブレード９ｅが固定されており、このブレード９ｅを
ガラス基板１に押接することでガラス基板１の厚肉レジ
スト４ｅを掻き取る。

【００６６】レジスト除去ノズル９の他端縁すなわち先
行端はガラス基板１の表面から離間して厚肉レジスト４
ｅをノズル内に取り込むようになっている。

【００６７】図９は本実施例におけるレジスト除去ノズ
ルの構成説明図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は開
放端側正面図、（ｃ）は側面図である。

【００６８】本実施例のレジスト除去ノズル９は、先端
が開放した略半円筒形のレジスト吸引部を有し、このレ
ジスト吸引部の一端縁に可撓性ブレード９ｅを固定しこ
のブレード９ｅを前記ガラス基板に摺接すると共に他側
端縁を前記ガラス基板から離間した状態で前記他側端縁
（先行端縁）を移動方向Ｚに向けて設置してなる。

【００６９】上記可撓性ブレード９ｅにより、レジスト
除去ノズル９をガラス基板１に押接して摺接移動させる
際に、ガラス基板１の平面度が変化している場合でも、
上記ブレード９えはガラス基板１の面に接した状態を保
持する。

【００７０】これにより、ガラス基板の終端に形成され
た膜厚レジストを均一に除去することができる。

【００７１】なお、上記各実施例の構成を組み合わせる
こともできる。

【００７２】以上の実施例は、液晶パネルのガラス基板
にフィルタ用のレジスト塗膜を形成するレジスト塗布装
置に本発明を適用したものであるが、本発明はこれに限
るものではなく、液晶表示パネルのガラス基板に形成す
る他の薄膜の形成にんも同様に適用でき、さらに、液晶
パネル以外の同様のレジスト塗膜の形成装置に提供でき
る。

【００７３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レジスト塗布部から搬出されてレジストの膜厚部を掻き
取る際に、レジスト除去ノズルとガラス基板との間のギ
ャップが変化しても当該膜厚レジストを均一に除去する
ことができ、レジスト塗膜を一様に形成可能なレジスト
塗布装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるレジスト塗布装置の第１実施例の
構成を説明する要部模式図である。

【図２】本発明によるレジスト塗布装置の第１実施例の
レジスト除去ノズルの作用を説明する部分模式図であ
る。

【図３】本発明によるレジスト塗布装置の第１実施例の
レジスト除去ノズルの構成説明図である。

【図４】本発明によるレジスト塗布装置の第２実施例の
レジスト除去ノズルの作用を説明する部分模式図であ
る。

【図５】本発明によるレジスト塗布装置の第２実施例の
レジスト除去ノズルの構成説明図である。

【図６】本発明によるレジスト塗布装置の第３実施例の
レジスト除去ノズルの作用を説明する部分模式図であ
る。

【図７】本発明によるレジスト塗布装置の第３実施例の
レジスト除去ノズルの構成説明図である。

【図８】本発明によるレジスト塗布装置の第４実施例の
レジスト除去ノズルの作用を説明する部分模式図であ
る。

【図９】本発明によるレジスト塗布装置の第４実施例の
レジスト除去ノズルの構成説明図である。

【図１０】本発明を適用するガラス基板へのレジスト塗
布装置の全体構成を説明する模式正面図である。

【図１１】従来のロールバーによるレジスト塗布装置の
塗布メカニズムを説明するための模式図である。

【図１２】ガラス基板に塗布されたレジスト塗膜の塗布
状態の説明図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 １ａ 基板搬入装置 １ｂ 搬送ローラ １ｃ 搬出装置 １ｄ 搬送ローラ ２ ニップローラ ３ ロールバー ４ レジスト溶液 ４ａ レジスト溜り ４ｂ レジスト塗膜 ４ｅ レジスト厚肉部 ４ｆ 除去レジスト溜り ５ レジスト溶液の受け皿 ６ ロールバー保持部材 ９ レジスト除去ノズル ９ａ 薄肉部 ９ｂ 一端部 ９ｃ バネ部材 ９ｄ 回転部 ９ｅ ブレード １０ ノズル移動機構 １１ 連結導管 １２ 収集容器 １３ 吸引導管 １４ 排気ポンプ。

フロントページの続き (72)発明者 河野 和洋 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 片岡 信弥 千葉県茂原市早野3300番地 日立千葉エレ クトロニクス株式会社内 (72)発明者 市村 幸雄 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 谷口 秀明 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 並木 淳一 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 吉田 和俊 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ニップローラとロールバーおよびレジスト
   の受け皿と、前記受け皿内に設置して前記ロールバーを
   レジスト溶液内で支持するロールバー保持部材とを少な
   くとも有するレジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の
   搬出部に設置して当該レジスト塗布部を通過したガラス
   基板の幅方向終端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で
   吸引しつつ上記幅方向に移動するレジスト除去ノズルを
   備え、前記ニップローラと前記ロールバーの間にガラス
   基板を通過させつつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロ
   ールバーで汲み上げることにより、前記ガラス基板にレ
   ジスト溶液を塗布するレジスト塗布装置において、 前記レジスト除去ノズルは、先端が開放した可撓性材料
   からなる略半円筒形のレジスト吸引部を有し、前記略半
   円筒形のレジスト吸引部の前記ガラス基板に摺接する一
   側端縁を薄肉とし、他側端縁を前記ガラス基板から離間
   した状態で前記他側端縁を移動方向に向けて設置したこ
   とを特徴とするレジスト塗布装置。
2. 【請求項２】ニップローラとロールバーおよびレジスト
   の受け皿と、前記受け皿内に設置して前記ロールバーを
   レジスト溶液内で支持するロールバー保持部材とを少な
   くとも有するレジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の
   搬出部に設置して当該レジスト塗布部を通過したガラス
   基板の幅方向終端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で
   吸引しつつ上記幅方向に移動するレジスト除去ノズルを
   備え、前記ニップローラと前記ロールバーの間にガラス
   基板を通過させつつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロ
   ールバーで汲み上げることにより、前記ガラス基板にレ
   ジスト溶液を塗布するレジスト塗布装置において、 前記レジスト除去ノズルは、先端が開放した可撓性材料
   からなる略半円筒形のレジスト吸引部を有し、前記略半
   円筒形のレジスト吸引部の一端縁を前記ガラス基板に摺
   接すると共に他側端縁を前記ガラス基板から離間した状
   態で全体が前記ガラス基板に対して弾接させるバネ部材
   で支持されて前記他側端縁を移動方向に向けて設置した
   ことを特徴とするレジスト塗布装置。
3. 【請求項３】ニップローラとロールバーおよびレジスト
   の受け皿と、前記受け皿内に設置して前記ロールバーを
   レジスト溶液内で支持するロールバー保持部材とを少な
   くとも有するレジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の
   搬出部に設置して当該レジスト塗布部を通過したガラス
   基板の幅方向終端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で
   吸引しつつ上記幅方向に移動するレジスト除去ノズルを
   備え、前記ニップローラと前記ロールバーの間にガラス
   基板を通過させつつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロ
   ールバーで汲み上げることにより、前記ガラス基板にレ
   ジスト溶液を塗布するレジスト塗布装置において、 前記レジスト除去ノズルは、先端が開放した可撓性材料
   からなる略半円筒形のレジスト吸引部を有し、前記略半
   円筒形のレジスト吸引部の一端縁を前記ガラス基板に摺
   接すると共に他側端縁を前記ガラス基板から離間した状
   態で全体が前記ガラス基板のレジスト塗布面に対して前
   記レジスト吸引部の軸回りに回転可能に前記他側端縁を
   移動方向に向けて設置したことを特徴とするレジスト塗
   布装置。
4. 【請求項４】ニップローラとロールバーおよびレジスト
   の受け皿と、前記受け皿内に設置して前記ロールバーを
   レジスト溶液内で支持するロールバー保持部材とを少な
   くとも有するレジスト塗布部と、前記レジスト塗布部の
   搬出部に設置して当該レジスト塗布部を通過したガラス
   基板の幅方向終端に形成されるレジスト膜厚部を負圧で
   吸引しつつ上記幅方向に移動するレジスト除去ノズルを
   備え、前記ニップローラと前記ロールバーの間にガラス
   基板を通過させつつ前記受け皿のレジスト溶液を前記ロ
   ールバーで汲み上げることにより、前記ガラス基板にレ
   ジスト溶液を塗布するレジスト塗布装置において、 前記レジスト除去ノズルは、先端が開放した可撓性材料
   からなる略半円筒形のレジスト吸引部を有し、前記略半
   円筒形のレジスト吸引部の前記ガラス基板に対する移動
   方向後方の側端縁に可撓性材料からなるブレードを取付
   けてなり、前記ブレードを前記ガラス基板に摺接させ、
   他側端縁を前記ガラス基板から離間した状態で前記他側
   端縁を移動方向に向けて設置したことを特徴とするレジ
   スト塗布装置。