JPH09255886A - ジスアゾ顔料 - Google Patents
ジスアゾ顔料Info
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- JPH09255886A JPH09255886A JP6759696A JP6759696A JPH09255886A JP H09255886 A JPH09255886 A JP H09255886A JP 6759696 A JP6759696 A JP 6759696A JP 6759696 A JP6759696 A JP 6759696A JP H09255886 A JPH09255886 A JP H09255886A
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- Japan
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- general formula
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B35/00—Disazo and polyazo dyes of the type A<-D->B prepared by diazotising and coupling
- C09B35/02—Disazo dyes
- C09B35/021—Disazo dyes characterised by two coupling components of the same type
- C09B35/035—Disazo dyes characterised by two coupling components of the same type in which the coupling component containing an activated methylene group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B35/00—Disazo and polyazo dyes of the type A<-D->B prepared by diazotising and coupling
- C09B35/02—Disazo dyes
- C09B35/039—Disazo dyes characterised by the tetrazo component
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】従来のジスアゾ顔料と同等以上の顔料適性を有
しつつ、特別な製造装置が不要で、しかも低価格である
顔料を提供すること。 【解決手段】一般式（１）で示される新規なジスアゾ顔
料。 一般式（１） 【化１】 （式中、Ａはエノール化し得るケトメチレン化合物の残
基を表す。）
しつつ、特別な製造装置が不要で、しかも低価格である
顔料を提供すること。 【解決手段】一般式（１）で示される新規なジスアゾ顔
料。 一般式（１） 【化１】 （式中、Ａはエノール化し得るケトメチレン化合物の残
基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なジスアゾ顔
料に関する。
料に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、最も大量に製造されている有機顔
料はアゾ顔料であり、モノアゾ顔料およびジスアゾ顔料
が主流である。
料はアゾ顔料であり、モノアゾ顔料およびジスアゾ顔料
が主流である。
【０００３】顔料として要求される適性はその用途によ
って異なるが、一般的には色相、鮮明性、着色力などの
光学的特性と、耐光性、耐溶剤性、耐熱性、耐移行性な
どの耐久性であり、これらの適性を満足させるために種
々の化学構造のアゾ顔料が開発されている。
って異なるが、一般的には色相、鮮明性、着色力などの
光学的特性と、耐光性、耐溶剤性、耐熱性、耐移行性な
どの耐久性であり、これらの適性を満足させるために種
々の化学構造のアゾ顔料が開発されている。
【０００４】とくに、ジスアゾ顔料は多くの種類の顔料
が市販されており、その代表的なものは、光学的特性が
優れることを特徴とするベンジジン系顔料や耐久性が優
れることを特徴とする縮合アゾ系顔料などである。
が市販されており、その代表的なものは、光学的特性が
優れることを特徴とするベンジジン系顔料や耐久性が優
れることを特徴とする縮合アゾ系顔料などである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ベンジジン系
顔料はその原料であるベンジジン類の毒性のために特別
な製造装置で製造する必要があること、縮合アゾ系顔料
は比較的に高価格であることなどの問題点があった。そ
こで本発明は、従来のジスアゾ顔料と同等以上の顔料適
性を有しつつ、特別な製造装置が不要で、しかも低価格
である顔料を提供することを目的とするものである。
顔料はその原料であるベンジジン類の毒性のために特別
な製造装置で製造する必要があること、縮合アゾ系顔料
は比較的に高価格であることなどの問題点があった。そ
こで本発明は、従来のジスアゾ顔料と同等以上の顔料適
性を有しつつ、特別な製造装置が不要で、しかも低価格
である顔料を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的を達成する
ために鋭意研究した結果、下記一般式（１）で示される
ジスアゾ顔料が、上記目的に合致することを見い出し、
本発明を完成するに到った。
ために鋭意研究した結果、下記一般式（１）で示される
ジスアゾ顔料が、上記目的に合致することを見い出し、
本発明を完成するに到った。
【０００７】すなわち、本発明は、下記一般式（１）で
表されるジスアゾ顔料に関する。 一般式（１）
表されるジスアゾ顔料に関する。 一般式（１）
【０００８】
【化９】
【０００９】（式中、Ａはエノール化し得るケトメチレ
ン化合物の残基を表す。）
ン化合物の残基を表す。）
【００１０】エノール化し得るケトメチレン化合物は、
染料および顔料製造業者がカップラーと呼んでいるもの
で、その残基は、例えば、下記一般式（２）〜（７）で
ある。 一般式（２）
染料および顔料製造業者がカップラーと呼んでいるもの
で、その残基は、例えば、下記一般式（２）〜（７）で
ある。 一般式（２）
【００１１】
【化１０】
【００１２】（式中、Ｒ1 はメチル基またはフェニル基
を表し、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 はそれぞれ独立に、水素
原子、塩素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、水酸基、カルバモイル基、−ＣＯＯ- Ｍn+／
ｎ基、−ＳＯ3 - Ｍn+／ｎ基またはＲ3 とＲ4 が−ＮＨ
−ＣＯ−ＮＨ−で閉環したイミダゾロン基を表し、Ｍは
水素原子またはｎ価の金属原子、ｎは２または３の整数
をそれぞれ表す。） 一般式（３）
を表し、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 はそれぞれ独立に、水素
原子、塩素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、水酸基、カルバモイル基、−ＣＯＯ- Ｍn+／
ｎ基、−ＳＯ3 - Ｍn+／ｎ基またはＲ3 とＲ4 が−ＮＨ
−ＣＯ−ＮＨ−で閉環したイミダゾロン基を表し、Ｍは
水素原子またはｎ価の金属原子、ｎは２または３の整数
をそれぞれ表す。） 一般式（３）
【００１３】
【化１１】
【００１４】（式中、Ｒ5 はフェニル基またはトリル基
を表し、Ｒ6 はメチル基、メトキシカルボニル基または
エトキシカルボニル基を表す。） 一般式（４）
を表し、Ｒ6 はメチル基、メトキシカルボニル基または
エトキシカルボニル基を表す。） 一般式（４）
【００１５】
【化１２】
【００１６】（式中、Ｒ7 は水素原子、塩素原子、メチ
ル基またはメトキシ基を表す。） 一般式（５）
ル基またはメトキシ基を表す。） 一般式（５）
【００１７】
【化１３】
【００１８】（式中、Ｒ8 とＲ9 はそれぞれ独立に水素
原子、メチル基、エチル基またはフェニル基を表す。） 一般式（６）
原子、メチル基、エチル基またはフェニル基を表す。） 一般式（６）
【００１９】
【化１４】
【００２０】（式中、Ｒ10は水素原子またはメチル基を
表し、Ｍとｎは前記と同じ意味を表す。） 一般式（７）
表し、Ｍとｎは前記と同じ意味を表す。） 一般式（７）
【００２１】
【化１５】
【００２２】（式中、Ｒ11は水素原子、−ＣＯＯ- Ｍn+
／ｎ基または一般式（８）の化合物基を表し、Ｍとｎは
前記と同じ意味を表す。） 一般式（８）
／ｎ基または一般式（８）の化合物基を表し、Ｍとｎは
前記と同じ意味を表す。） 一般式（８）
【００２３】
【化１６】
【００２４】（式中、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ
独立に、水素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、メ
トキシ基、エトキシ基、−ＣＯＯ- Ｍn+／ｎ基、−ＳＯ
3 -Ｍn+／ｎ基またはＲ13とＲ14が−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ
−で閉環したイミダゾロン基を表し、Ｍとｎは前記と同
じ意味を表す。）
独立に、水素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、メ
トキシ基、エトキシ基、−ＣＯＯ- Ｍn+／ｎ基、−ＳＯ
3 -Ｍn+／ｎ基またはＲ13とＲ14が−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ
−で閉環したイミダゾロン基を表し、Ｍとｎは前記と同
じ意味を表す。）
【００２５】一般式（２）、（６）、（７）および
（８）中のＭは２または３価の金属原子で、例えば、Ｍ
ｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｎ、Ｚｎ、ＡｌまたはＦｅで
ある。
（８）中のＭは２または３価の金属原子で、例えば、Ｍ
ｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｎ、Ｚｎ、ＡｌまたはＦｅで
ある。
【００２６】
【発明の実施の形態】本発明のジスアゾ顔料の製造法
は、下記一般式（９）で表されるジアミンのテトラゾ化
（ビスジアゾ化）工程、テトラゾ化合物とエノール化し
得るケトメチレン化合物のカップリング工程および必要
に応じて後処理工程から成る。これらの工程で得られた
顔料スラリーを濾過、洗浄した顔料ケーキまたは乾燥し
た顔料粉末を色材として用いる。 一般式（９）
は、下記一般式（９）で表されるジアミンのテトラゾ化
（ビスジアゾ化）工程、テトラゾ化合物とエノール化し
得るケトメチレン化合物のカップリング工程および必要
に応じて後処理工程から成る。これらの工程で得られた
顔料スラリーを濾過、洗浄した顔料ケーキまたは乾燥し
た顔料粉末を色材として用いる。 一般式（９）
【００２７】
【化１７】
【００２８】一般式（９）で表されるジアミンは毒性が
極めて低いので、ベンジジン系顔料の製造において毒性
が認められているベンジジン系アミンの取扱いに必要な
特別の装置は、本発明のジスアゾ顔料の製造には不要で
ある。また、縮合アゾ系顔料における酸クロリドとアミ
ンの縮合工程も、本発明のジスアゾ顔料の製造には不要
であり、したがって、製造コストは低くなる。
極めて低いので、ベンジジン系顔料の製造において毒性
が認められているベンジジン系アミンの取扱いに必要な
特別の装置は、本発明のジスアゾ顔料の製造には不要で
ある。また、縮合アゾ系顔料における酸クロリドとアミ
ンの縮合工程も、本発明のジスアゾ顔料の製造には不要
であり、したがって、製造コストは低くなる。
【００２９】テトラゾ化工程は、種々の方法で行うこと
ができるが、一般式（９）で表されるジアミンと鉱酸水
溶液のスラリーに亜硝酸塩を加える方法が工業的に有利
である。テトラゾ化反応を完結させて副反応を抑制する
ために、０〜５℃程度の低温で、亜硝酸塩をジアミンの
当量に対して小過剰用い、反応終了後に過剰の亜硝酸を
スルファミン酸で分解する方法が好ましい。また、必要
に応じて活性炭やケイソウ土で澄明化してもよい。カッ
プリング工程は、常法により水溶媒中で弱酸性〜アルカ
リ性で行うことができ、適当な有機溶剤、例えば、酢
酸、低級アルコール、ジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ンの存在下でも行うことができる。後処理工程は、上記
２工程終了後の顔料スラリーを直接に加熱処理する方
法、顔料スラリーまたは濾過、洗浄した後の水ケーキま
たは乾燥した粉末に適当な有機溶剤、例えば、エタノー
ル、プロパノール、ブタノールなどのアルコール化合
物、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエステル化合物、
トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン
などの芳香族化合物、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えて加
熱処理する方法などがあるが、顔料適性、とくに鮮明
性、隠蔽性、流動性などが向上する場合が多い。
ができるが、一般式（９）で表されるジアミンと鉱酸水
溶液のスラリーに亜硝酸塩を加える方法が工業的に有利
である。テトラゾ化反応を完結させて副反応を抑制する
ために、０〜５℃程度の低温で、亜硝酸塩をジアミンの
当量に対して小過剰用い、反応終了後に過剰の亜硝酸を
スルファミン酸で分解する方法が好ましい。また、必要
に応じて活性炭やケイソウ土で澄明化してもよい。カッ
プリング工程は、常法により水溶媒中で弱酸性〜アルカ
リ性で行うことができ、適当な有機溶剤、例えば、酢
酸、低級アルコール、ジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ンの存在下でも行うことができる。後処理工程は、上記
２工程終了後の顔料スラリーを直接に加熱処理する方
法、顔料スラリーまたは濾過、洗浄した後の水ケーキま
たは乾燥した粉末に適当な有機溶剤、例えば、エタノー
ル、プロパノール、ブタノールなどのアルコール化合
物、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエステル化合物、
トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン
などの芳香族化合物、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを加えて加
熱処理する方法などがあるが、顔料適性、とくに鮮明
性、隠蔽性、流動性などが向上する場合が多い。
【００３０】また、上記３工程の全てに、ノニオン活性
剤、アニオン活性剤、カチオン活性剤などの表面活性
剤、ロジン類ならびに高分子分散剤を添加してもよい。
剤、アニオン活性剤、カチオン活性剤などの表面活性
剤、ロジン類ならびに高分子分散剤を添加してもよい。
【００３１】一般式（９）で表されるジアミンは、１，
２−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンまたは１，４−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンである。これら
は全て工業品が比較的低価格で入手可能であり、変異原
性は陰性で、発癌性であるという報告も無く、衛生上の
問題の無い化合物である。
２−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンまたは１，４−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンである。これら
は全て工業品が比較的低価格で入手可能であり、変異原
性は陰性で、発癌性であるという報告も無く、衛生上の
問題の無い化合物である。
【００３２】エノール化し得るケトメチレン化合物は、
例えば、一般式（２）に対応するものとして、アセトア
セトアニリド、Ｎ−アセトアセチル−２−メチルアニリ
ン、Ｎ−アセトアセチル−２−エチルアニリン、Ｎ−ア
セトアセチル−２−メトキシアニリン、Ｎ−アセトアセ
チル−２−エトキシアニリン、Ｎ−アセトアセチル−２
−クロロアニリン、Ｎ−アセトアセチル−２−カルボキ
シアニリン、Ｎ−アセトアセチル−４−メチルアニリ
ン、Ｎ−アセトアセチル−４−メトキシアニリン、Ｎ−
アセトアセチル−４−スルホアニリン、Ｎ−アセトアセ
チル−４−カルバモイルアニリン、Ｎ−アセトアセチル
−２，４−ジメチルアニリン、Ｎ−アセトアセチル−
２，４−ジメトキシアニリン、Ｎ−アセトアセチル−
２，５−ジメトキシアニリン、Ｎ−アセトアセチル−
２，４−ジクロロアニリン、Ｎ−アセトアセチル−３−
カルボキシ−４−ヒドロキシアニリン、Ｎ−アセトアセ
チル−４−クロロ−２−メトキシアニリン、Ｎ−アセト
アセチル−４−クロロ−２，５−ジメトキシアニリン、
５−アセトアセチルアミノ−ベンズイミダゾロン、２−
ベンゾイルアセトアニリドなどが挙げられ、一般式
（３）に対応するものとして、３−メチル−１−フェニ
ル−５−ピラゾロン、３−メチル−１−ｐ−トリル−５
−ピラゾロン、３−メトキシカルボニル−１−フェニル
−５−ピラゾロン、３−エトキシカルボニル−１−フェ
ニル−５−ピラゾロンなどが挙げられ、一般式（４）に
対応するものとして、２，４−ジヒドロキシ−キノリ
ン、２，４−ジヒドロキシ−７−クロロ−キノリン、
２，４−ジヒドロキシ−８−メチル−キノリン、２，４
−ジヒドロキシ−８−メトキシ−キノリンなどが挙げら
れ、一般式（５）に対応するものとして、バルビツール
酸、１，３−ジメチルバルビツール酸、１−エチルバル
ビツール酸、１−フェニルバルビツール酸などが挙げら
れ、一般式（６）に対応するものとして、サリチル酸、
３−メチルサリチル酸などが挙げられ、一般式（７）に
対応するものとして、２−ナフトール、２−ヒドロキシ
−３−ナフトエ酸、Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシ−２
−ナフタレンカルボアミド、Ｎ−（２−メチルフェニ
ル）−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、
Ｎ−（４−メチルフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボアミド、Ｎ−（２，４−ジメチルフェニ
ル）−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、
Ｎ−（４−クロロフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボアミド、Ｎ−（４−スルホフェニル）−
３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、Ｎ−
（４−カルボキシフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボアミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）
−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、Ｎ−
（２−エトキシフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンカルボアミド、Ｎ−（４−クロロ−２，５−ジメ
トキシフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカ
ルボアミド、Ｎ−（１，２−ジヒドロベンズイミダゾー
ル−２−オン−５−イル）−３−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンカルボアミドなどが挙げられる。
例えば、一般式（２）に対応するものとして、アセトア
セトアニリド、Ｎ−アセトアセチル−２−メチルアニリ
ン、Ｎ−アセトアセチル−２−エチルアニリン、Ｎ−ア
セトアセチル−２−メトキシアニリン、Ｎ−アセトアセ
チル−２−エトキシアニリン、Ｎ−アセトアセチル−２
−クロロアニリン、Ｎ−アセトアセチル−２−カルボキ
シアニリン、Ｎ−アセトアセチル−４−メチルアニリ
ン、Ｎ−アセトアセチル−４−メトキシアニリン、Ｎ−
アセトアセチル−４−スルホアニリン、Ｎ−アセトアセ
チル−４−カルバモイルアニリン、Ｎ−アセトアセチル
−２，４−ジメチルアニリン、Ｎ−アセトアセチル−
２，４−ジメトキシアニリン、Ｎ−アセトアセチル−
２，５−ジメトキシアニリン、Ｎ−アセトアセチル−
２，４−ジクロロアニリン、Ｎ−アセトアセチル−３−
カルボキシ−４−ヒドロキシアニリン、Ｎ−アセトアセ
チル−４−クロロ−２−メトキシアニリン、Ｎ−アセト
アセチル−４−クロロ−２，５−ジメトキシアニリン、
５−アセトアセチルアミノ−ベンズイミダゾロン、２−
ベンゾイルアセトアニリドなどが挙げられ、一般式
（３）に対応するものとして、３−メチル−１−フェニ
ル−５−ピラゾロン、３−メチル−１−ｐ−トリル−５
−ピラゾロン、３−メトキシカルボニル−１−フェニル
−５−ピラゾロン、３−エトキシカルボニル−１−フェ
ニル−５−ピラゾロンなどが挙げられ、一般式（４）に
対応するものとして、２，４−ジヒドロキシ−キノリ
ン、２，４−ジヒドロキシ−７−クロロ−キノリン、
２，４−ジヒドロキシ−８−メチル−キノリン、２，４
−ジヒドロキシ−８−メトキシ−キノリンなどが挙げら
れ、一般式（５）に対応するものとして、バルビツール
酸、１，３−ジメチルバルビツール酸、１−エチルバル
ビツール酸、１−フェニルバルビツール酸などが挙げら
れ、一般式（６）に対応するものとして、サリチル酸、
３−メチルサリチル酸などが挙げられ、一般式（７）に
対応するものとして、２−ナフトール、２−ヒドロキシ
−３−ナフトエ酸、Ｎ−フェニル−３−ヒドロキシ−２
−ナフタレンカルボアミド、Ｎ−（２−メチルフェニ
ル）−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、
Ｎ−（４−メチルフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボアミド、Ｎ−（２，４−ジメチルフェニ
ル）−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、
Ｎ−（４−クロロフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボアミド、Ｎ−（４−スルホフェニル）−
３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、Ｎ−
（４−カルボキシフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボアミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）
−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド、Ｎ−
（２−エトキシフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンカルボアミド、Ｎ−（４−クロロ−２，５−ジメ
トキシフェニル）−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカ
ルボアミド、Ｎ−（１，２−ジヒドロベンズイミダゾー
ル−２−オン−５−イル）−３−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンカルボアミドなどが挙げられる。
【００３３】本発明のジスアゾ顔料は、優れた顔料適性
を示し、印刷インキ、塗料、プラスチック、ゴム、文
具、皮革、捺染などの着色剤として広範囲に使用するこ
とができる。とくに、高鮮明性、高着色力および易分散
性が要求される印刷インキやプラスチックに好適であ
る。従来のベンジジン系顔料に比較して、色相は浅い傾
向があるが、鮮明性、着色力および耐久性などは同等以
上である。
を示し、印刷インキ、塗料、プラスチック、ゴム、文
具、皮革、捺染などの着色剤として広範囲に使用するこ
とができる。とくに、高鮮明性、高着色力および易分散
性が要求される印刷インキやプラスチックに好適であ
る。従来のベンジジン系顔料に比較して、色相は浅い傾
向があるが、鮮明性、着色力および耐久性などは同等以
上である。
【００３４】また、本発明のジスアゾ顔料は、他の有機
顔料または無機顔料と混合して所望の色調および用途適
性を付与して使用することもできる。混合の方法は、粉
末顔料、顔料ケーキまたは顔料スラリーの状態で機械的
に混合することが一般的であるが、顔料合成工程中に混
合することもできる。後者の方法は、本発明のジスアゾ
顔料と既存のアゾ顔料との混合に有利である。すなわ
ち、例えば、一般式（９）で表されるジアミンのテトラ
ゾ化合物と、既存顔料の原料であるアミン、例えば、２
−ニトロアニリン、４−ニトロアニリン、４−メチル−
２−ニトロアニリン、４−クロロ−２−ニトロアニリ
ン、３，３’−ジクロロベンジジン、３，３’−ジメチ
ルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、３，
３’，６，６’−テトラクロロベンジジン、１−アミノ
−４−メチルベンゼン−２−スルホン酸などのジアゾ化
合物またはテトラゾ化合物をあらかじめ混合し、１種ま
たは２種以上のエノール化し得るケトメチレン化合物と
カップリングする方法、いわゆる共カップリングによる
方法は、単純に機械的に混合した場合に比較して特徴あ
る色調を示し、熱や溶剤に対する安定性が増大する場合
が多い。
顔料または無機顔料と混合して所望の色調および用途適
性を付与して使用することもできる。混合の方法は、粉
末顔料、顔料ケーキまたは顔料スラリーの状態で機械的
に混合することが一般的であるが、顔料合成工程中に混
合することもできる。後者の方法は、本発明のジスアゾ
顔料と既存のアゾ顔料との混合に有利である。すなわ
ち、例えば、一般式（９）で表されるジアミンのテトラ
ゾ化合物と、既存顔料の原料であるアミン、例えば、２
−ニトロアニリン、４−ニトロアニリン、４−メチル−
２−ニトロアニリン、４−クロロ−２−ニトロアニリ
ン、３，３’−ジクロロベンジジン、３，３’−ジメチ
ルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、３，
３’，６，６’−テトラクロロベンジジン、１−アミノ
−４−メチルベンゼン−２−スルホン酸などのジアゾ化
合物またはテトラゾ化合物をあらかじめ混合し、１種ま
たは２種以上のエノール化し得るケトメチレン化合物と
カップリングする方法、いわゆる共カップリングによる
方法は、単純に機械的に混合した場合に比較して特徴あ
る色調を示し、熱や溶剤に対する安定性が増大する場合
が多い。
【００３５】
【実施例】次に実施例をもって説明する。実施例中、部
とは重量部を示す。
とは重量部を示す。
【００３６】実施例 １ １，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン２９．
２部および３５％塩酸５０．６部を水２００部に加えて
懸濁液とし、氷を加えて５℃以下に調整して亜硝酸ナト
リウム１４．０部を少量の水に溶解した溶液を徐々に加
えた。さらに５℃以下で３時間攪拌後、残存する亜硝酸
イオンをスルファミン酸で除去してテトラゾ溶液を得
た。アセトアセトアニリド３５．４部および水酸化ナト
リウム３２．０部を水１０００部に加えて溶解し、激し
く攪拌しながら酢酸４９．０部を徐々に加えてアセトア
セトアニリドを沈殿させ、カップラー懸濁液を得た。カ
ップラー懸濁液を２０℃に調整し、テトラゾ水溶液を徐
々に加えてカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌
した。次いで、７０℃まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥
および粉砕して、緑味黄色の下記構造のジスアゾ顔料を
得た。
２部および３５％塩酸５０．６部を水２００部に加えて
懸濁液とし、氷を加えて５℃以下に調整して亜硝酸ナト
リウム１４．０部を少量の水に溶解した溶液を徐々に加
えた。さらに５℃以下で３時間攪拌後、残存する亜硝酸
イオンをスルファミン酸で除去してテトラゾ溶液を得
た。アセトアセトアニリド３５．４部および水酸化ナト
リウム３２．０部を水１０００部に加えて溶解し、激し
く攪拌しながら酢酸４９．０部を徐々に加えてアセトア
セトアニリドを沈殿させ、カップラー懸濁液を得た。カ
ップラー懸濁液を２０℃に調整し、テトラゾ水溶液を徐
々に加えてカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌
した。次いで、７０℃まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥
および粉砕して、緑味黄色の下記構造のジスアゾ顔料を
得た。
【００３７】
【化１８】
【００３８】実施例 ２ Ｎ−アセトアセチル−４−クロロ−２，５−ジメトキシ
アニリン５４．３部をジオキサン５００部に加えて溶解
し、１０％酢酸ナトリウム水溶液６６０部を加えてカッ
プラー溶液を得た。カップラー溶液を２０℃に調整し、
実施例１と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐々に加え
てカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌した。８
０℃まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、
黄色の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
アニリン５４．３部をジオキサン５００部に加えて溶解
し、１０％酢酸ナトリウム水溶液６６０部を加えてカッ
プラー溶液を得た。カップラー溶液を２０℃に調整し、
実施例１と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐々に加え
てカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌した。８
０℃まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、
黄色の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
【００３９】
【化１９】
【００４０】実施例 ３ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸３７．６部をおよび水
酸化ナトリウム２０．０部を水１０００部に加えて溶解
してカップラー溶液を得た。カップラー溶液を１５℃に
調整し、実施例１と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐
々に加えてカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌
した。次いで、１％水酸化ナトリウム溶液でｐＨ１１．
５に調整し、３５％塩化カルシウム溶液６０部を加えて
８０℃に加熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、
赤色の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
酸化ナトリウム２０．０部を水１０００部に加えて溶解
してカップラー溶液を得た。カップラー溶液を１５℃に
調整し、実施例１と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐
々に加えてカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌
した。次いで、１％水酸化ナトリウム溶液でｐＨ１１．
５に調整し、３５％塩化カルシウム溶液６０部を加えて
８０℃に加熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、
赤色の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
【００４１】
【化２０】
【００４２】実施例 ４ １，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン２９．
２部および３５％塩酸５０．６部を水２００部に加えて
懸濁液とし、氷を加えて５℃以下に調整して亜硝酸ナト
リウム１４．０部を少量の水に溶解した溶液を徐々に加
えた。さらに５℃以下で３時間攪拌後、残存する亜硝酸
イオンをスルファミン酸で除去してテトラゾ溶液を得
た。Ｎ−アセトアセチル−２，４−ジメチルアニリン４
１．０部および水酸化ナトリウム３２．０部を水１００
０部に加えて溶解し、激しく攪拌しながら酢酸４９．０
部を徐々に加えてＮ−アセトアセチル−２，４−ジメチ
ルアニリンを沈殿させ、カップラー懸濁液を得た。カッ
プラー懸濁液を２０℃に調整し、テトラゾ水溶液を徐々
に加えてカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌し
た。次いで、７０℃まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥お
よび粉砕して、黄色の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
２部および３５％塩酸５０．６部を水２００部に加えて
懸濁液とし、氷を加えて５℃以下に調整して亜硝酸ナト
リウム１４．０部を少量の水に溶解した溶液を徐々に加
えた。さらに５℃以下で３時間攪拌後、残存する亜硝酸
イオンをスルファミン酸で除去してテトラゾ溶液を得
た。Ｎ−アセトアセチル−２，４−ジメチルアニリン４
１．０部および水酸化ナトリウム３２．０部を水１００
０部に加えて溶解し、激しく攪拌しながら酢酸４９．０
部を徐々に加えてＮ−アセトアセチル−２，４−ジメチ
ルアニリンを沈殿させ、カップラー懸濁液を得た。カッ
プラー懸濁液を２０℃に調整し、テトラゾ水溶液を徐々
に加えてカップリング反応を行い、さらに１時間攪拌し
た。次いで、７０℃まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥お
よび粉砕して、黄色の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
【００４３】
【化２１】
【００４４】実施例 ５ ５−アセトアセチルアミノ−ベンズイミダゾロン４６．
６部をジメチルホルムアミド５００部に加えて溶解し、
１０％酢酸ナトリウム水溶液６６０部を加えてカップラ
ー溶液を得た。カップラー溶液を２０℃に調整し、実施
例４と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐々に加えてカ
ップリング反応を行い、さらに１時間攪拌した。９０℃
まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、黄色
の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
６部をジメチルホルムアミド５００部に加えて溶解し、
１０％酢酸ナトリウム水溶液６６０部を加えてカップラ
ー溶液を得た。カップラー溶液を２０℃に調整し、実施
例４と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐々に加えてカ
ップリング反応を行い、さらに１時間攪拌した。９０℃
まで加熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、黄色
の下記構造のジスアゾ顔料を得た。
【００４５】
【化２２】
【００４６】実施例 ６ ２−ナフトール２８．８部をおよび水酸化ナトリウム１
２．０部を水１０００部に加えて溶解してカップラー溶
液を得た。カップラー溶液を１５℃に調整し、実施例４
と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐々に加えてカップ
リング反応を行い、さらに１時間攪拌した。８０℃に加
熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、赤色の下記
構造のジスアゾ顔料を得た。
２．０部を水１０００部に加えて溶解してカップラー溶
液を得た。カップラー溶液を１５℃に調整し、実施例４
と同一の方法で得たテトラゾ溶液を徐々に加えてカップ
リング反応を行い、さらに１時間攪拌した。８０℃に加
熱後に、濾過、水洗、乾燥および粉砕して、赤色の下記
構造のジスアゾ顔料を得た。
【００４７】
【化２３】
【００４８】実施例 ７〜１５ 実施例２〜６に準じ、表１記載のエノール化し得るケト
メチレン化合物を０．２モル用いて種々のジスアゾ顔料
を得た。すなわち、実施例２のＮ−アセトアセチル−４
−クロロ−２，５−ジメトキシアニリンの代わりにＮ−
アセトアセチル−４−メチルアニリン、２−ベンゾイル
アセトアニリドおよび３−メチル−１−ｐ−トリル−５
−ヒラゾロン、実施例３の２−ヒドロキシ−３−ナフト
エ酸の代わりにサリチル酸、実施例４のＮ−アセトアセ
チル−２，４−ジメチルアニリンの代わりにアセトアセ
トアニリド、３−メチル−１−フェニル−５−ヒラゾロ
ンおよびバルビツール酸、実施例６の２−ナフトールの
代わりに２，４−ジヒドロキシ−キノリンおよびＮ−フ
ェニル−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド
に変更し、それ以外はそれぞれの実施例と同一に実施し
た。表１に、得られたジスアゾ顔料の色相を併記した。
メチレン化合物を０．２モル用いて種々のジスアゾ顔料
を得た。すなわち、実施例２のＮ−アセトアセチル−４
−クロロ−２，５−ジメトキシアニリンの代わりにＮ−
アセトアセチル−４−メチルアニリン、２−ベンゾイル
アセトアニリドおよび３−メチル−１−ｐ−トリル−５
−ヒラゾロン、実施例３の２−ヒドロキシ−３−ナフト
エ酸の代わりにサリチル酸、実施例４のＮ−アセトアセ
チル−２，４−ジメチルアニリンの代わりにアセトアセ
トアニリド、３−メチル−１−フェニル−５−ヒラゾロ
ンおよびバルビツール酸、実施例６の２−ナフトールの
代わりに２，４−ジヒドロキシ−キノリンおよびＮ−フ
ェニル−３−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボアミド
に変更し、それ以外はそれぞれの実施例と同一に実施し
た。表１に、得られたジスアゾ顔料の色相を併記した。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【発明の効果】本発明の新規化学構造のジスアゾ顔料
は、製造が容易で、優れた顔料適性を示し、広範囲の用
途に使用できる。
は、製造が容易で、優れた顔料適性を示し、広範囲の用
途に使用できる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるジスアゾ顔
料。 一般式（１） 【化１】 （式中、Ａはエノール化し得るケトメチレン化合物の残
基を表す。） - 【請求項２】 一般式（１）中のＡが下記一般式（２）
〜（７）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種
である請求項１記載のジスアゾ顔料。 一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 はメチル基またはフェニル基を表し、
Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 はそれぞれ独立に、水素原子、塩
素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ
基、水酸基、カルバモイル基、−ＣＯＯ- Ｍn+／ｎ基、
−ＳＯ3 - Ｍn+／ｎ基またはＲ3 とＲ4 が−ＮＨ−ＣＯ
−ＮＨ−で閉環したイミダゾロン基を表し、Ｍは水素原
子またはｎ価の金属原子、ｎは２または３の整数をそれ
ぞれ表す。） 一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ5 はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ6
はメチル基、メトキシカルボニル基またはエトキシカル
ボニル基を表す。） 一般式（４） 【化４】 （式中、Ｒ7 は水素原子、塩素原子、メチル基またはメ
トキシ基を表す。） 一般式（５） 【化５】 （式中、Ｒ8 とＲ9 はそれぞれ独立に水素原子、メチル
基、エチル基またはフェニル基を表す。） 一般式（６） 【化６】 （式中、Ｒ10は水素原子またはメチル基を表し、Ｍとｎ
は前記と同じ意味を表す。） 一般式（７） 【化７】 （式中、Ｒ11は水素原子、−ＣＯＯ- Ｍn+／ｎ基または
一般式（８）の化合物基を表し、Ｍとｎは前記と同じ意
味を表す。） 一般式（８） 【化８】 （式中、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に、水素
原子、塩素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、−ＣＯＯ- Ｍn+／ｎ基、−ＳＯ3 -Ｍn+／ｎ
基またはＲ13とＲ14が−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−で閉環した
イミダゾロン基を表し、Ｍとｎは前記と同じ意味を表
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6759696A JPH09255886A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | ジスアゾ顔料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6759696A JPH09255886A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | ジスアゾ顔料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09255886A true JPH09255886A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13349465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6759696A Pending JPH09255886A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | ジスアゾ顔料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09255886A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001039039A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザ熱転写材料 |
| JP2002012784A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 顔料および静電荷現像用トナー |
| JP2002020645A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-23 | Dainippon Ink & Chem Inc | 顔料用添加剤、顔料組成物及び静電荷像現像用トナー |
-
1996
- 1996-03-25 JP JP6759696A patent/JPH09255886A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001039039A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザ熱転写材料 |
| JP2002012784A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 顔料および静電荷現像用トナー |
| JP2002020645A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-23 | Dainippon Ink & Chem Inc | 顔料用添加剤、顔料組成物及び静電荷像現像用トナー |
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