JPH093058A - 新規チオール誘導体及びその製造方法 - Google Patents
新規チオール誘導体及びその製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高屈折率を有する透明な樹脂を製造するため
に好適な単量体である新規チオール誘導体及びその製造
方法を提供する。 【構成】 下記式(I)で表される新規チオール誘導体
及びその製造方法。
に好適な単量体である新規チオール誘導体及びその製造
方法を提供する。 【構成】 下記式(I)で表される新規チオール誘導体
及びその製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規チオール誘導体に
関し、更に詳しくは、眼鏡用プラスチックレンズ、フレ
ネルレンズ、レンチキュラーレンズ、光ディスク基盤、
プラスチック光ファイバー、LCD用プリズムシート、
導光板、拡散シート等の光学材料、塗料、接着剤、封止
剤の原料、特に光学材料の原料として、極めて有用な新
規チオール誘導体及びその製造方法に関する。
関し、更に詳しくは、眼鏡用プラスチックレンズ、フレ
ネルレンズ、レンチキュラーレンズ、光ディスク基盤、
プラスチック光ファイバー、LCD用プリズムシート、
導光板、拡散シート等の光学材料、塗料、接着剤、封止
剤の原料、特に光学材料の原料として、極めて有用な新
規チオール誘導体及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機光学材料用樹脂は、ガラス等に比較
して軽量で取扱いが簡単であることから、近年は各種材
料として汎用されている。このような有機光学材料用樹
脂として、従来から、ポリスチレン系樹脂、ポリメチル
メタクリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ジエ
チレングリコールジアリルカーボナート樹脂等が広く用
いられている。
して軽量で取扱いが簡単であることから、近年は各種材
料として汎用されている。このような有機光学材料用樹
脂として、従来から、ポリスチレン系樹脂、ポリメチル
メタクリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ジエ
チレングリコールジアリルカーボナート樹脂等が広く用
いられている。
【0003】しかし、このような従来の有機光学材料用
樹脂は、低い屈折率、大きな複屈折、高い分散性の欠点
を有し、耐熱性や耐衝撃性にも劣るため、必ずしも満足
できるものではなかった。
樹脂は、低い屈折率、大きな複屈折、高い分散性の欠点
を有し、耐熱性や耐衝撃性にも劣るため、必ずしも満足
できるものではなかった。
【0004】特にレンズ用材料として用いられているジ
エチレングリコールジアリルカーボナート樹脂(CR−
39)等は、屈折率が1.50と低いため、レンズとし
て使用した場合にはコバ厚や中心厚が厚くなるため、レ
ンズの外観が悪くなり、また重量の増大を招くという欠
点があった。
エチレングリコールジアリルカーボナート樹脂(CR−
39)等は、屈折率が1.50と低いため、レンズとし
て使用した場合にはコバ厚や中心厚が厚くなるため、レ
ンズの外観が悪くなり、また重量の増大を招くという欠
点があった。
【0005】これらの欠点を解決するために、主として
屈折率を向上させる方法が種々検討されて来た。例え
ば、特公平5−4404号公報には、芳香環にハロゲン
を導入した樹脂が開示されている。しかしながら、この
技術により得られた樹脂は、屈折率が1.60と大きく
なるものの、比重が1.37と高く、プラスチックレン
ズの特徴であるレンズの軽量性の点で満足できるもので
はなかった。
屈折率を向上させる方法が種々検討されて来た。例え
ば、特公平5−4404号公報には、芳香環にハロゲン
を導入した樹脂が開示されている。しかしながら、この
技術により得られた樹脂は、屈折率が1.60と大きく
なるものの、比重が1.37と高く、プラスチックレン
ズの特徴であるレンズの軽量性の点で満足できるもので
はなかった。
【0006】特公平4−15249号公報及び特開昭6
0−199016号公報では、イソシアネート化合物と
ポリチオールの重合により樹脂を得る技術が開示されて
いる。しかし、この樹脂も屈折率が1.60と大きくな
るものの、比重が1.30以上であり、重合温度が比較
的低く、また重合速度が速いため、重合時の熱制御が困
難となり、そのため光学歪が大きいという欠点があっ
た。
0−199016号公報では、イソシアネート化合物と
ポリチオールの重合により樹脂を得る技術が開示されて
いる。しかし、この樹脂も屈折率が1.60と大きくな
るものの、比重が1.30以上であり、重合温度が比較
的低く、また重合速度が速いため、重合時の熱制御が困
難となり、そのため光学歪が大きいという欠点があっ
た。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
現状に鑑み、高屈折率を有する透明な樹脂を製造するた
めに好適な単量体である新規チオール誘導体及びその製
造方法を提供することを目的とするものである。
現状に鑑み、高屈折率を有する透明な樹脂を製造するた
めに好適な単量体である新規チオール誘導体及びその製
造方法を提供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記式(I)
又は下記式(II)で表される新規チオール誘導体及び
その製造方法に関する。
又は下記式(II)で表される新規チオール誘導体及び
その製造方法に関する。
【0009】
【化5】
【0010】上記式(I)で表されるビス(4−アリル
チオフェニル)スルフィドは、例えば下式(III)に
示すようにビス(4−メルカプトフェニル)スルフィド
とハロゲン化アリルを、アルカリ存在下、攪拌しなが
ら、水中、あるいは、水と有機溶媒との2相系中で反応
させることにより製造できる。
チオフェニル)スルフィドは、例えば下式(III)に
示すようにビス(4−メルカプトフェニル)スルフィド
とハロゲン化アリルを、アルカリ存在下、攪拌しなが
ら、水中、あるいは、水と有機溶媒との2相系中で反応
させることにより製造できる。
【0011】
【化6】
【0012】(式中Xはハロゲン原子を表す。)
【0013】ハロゲン化アリルとしては塩化アリル、臭
化アリル、ヨウ化アリルが挙げられ、ハロゲン化アリル
の使用量は、ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィ
ドに対して1〜1.5当量であるが、好ましくは1〜
1.2当量である。
化アリル、ヨウ化アリルが挙げられ、ハロゲン化アリル
の使用量は、ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィ
ドに対して1〜1.5当量であるが、好ましくは1〜
1.2当量である。
【0014】アルカリとしては水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の金属炭酸塩、トリエチルアミン、トリブチル
アミン等の第三級アミンが挙げられるが、反応性と経済
性の面から水酸化ナトリウムが最も好ましく、使用量は
ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィドに対して1
〜1.5当量、好ましくは1〜1.2当量である。
化カリウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の金属炭酸塩、トリエチルアミン、トリブチル
アミン等の第三級アミンが挙げられるが、反応性と経済
性の面から水酸化ナトリウムが最も好ましく、使用量は
ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィドに対して1
〜1.5当量、好ましくは1〜1.2当量である。
【0015】この時、反応温度は、0〜70℃、好まし
くは、10〜40℃で行うのがよい。有機溶媒としては
n−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素類、クロロベンゼン、o−ジ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類を用いること
が好ましい。
くは、10〜40℃で行うのがよい。有機溶媒としては
n−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素類、クロロベンゼン、o−ジ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類を用いること
が好ましい。
【0016】反応後は、有機層と水層を分液し、有機層
を水洗した後、溶媒を留去することにより本発明のビス
(4−アリルチオフェニル)スルフィドを得ることがで
きる。
を水洗した後、溶媒を留去することにより本発明のビス
(4−アリルチオフェニル)スルフィドを得ることがで
きる。
【0017】本発明の上記式(II)で表されるビス
(4−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル)ス
ルフィドは、下記式(IV)に示すようにビス(4−
(2,3−エポキシプロピルチオ)フェニル)スルフィ
ドとチオ尿素又はチオシアン酸塩とを有機溶媒中で反応
させることにより製造することができる。
(4−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル)ス
ルフィドは、下記式(IV)に示すようにビス(4−
(2,3−エポキシプロピルチオ)フェニル)スルフィ
ドとチオ尿素又はチオシアン酸塩とを有機溶媒中で反応
させることにより製造することができる。
【0018】
【化7】
【0019】原料のビス(4−(2,3−エポキシプロ
ピルチオ)フェニル)スルフィドを製造する方法は特に
限定されず、例えば、ビス(4−メルカプトフェニル)
スルフィドにエピクロロヒドリンを付加反応させた後、
閉環反応を行う方法(J.Appl.Poly.Sc
i.,39巻、1623(1990年)、米国特許第2
731437号明細書)等を挙げることができる。
ピルチオ)フェニル)スルフィドを製造する方法は特に
限定されず、例えば、ビス(4−メルカプトフェニル)
スルフィドにエピクロロヒドリンを付加反応させた後、
閉環反応を行う方法(J.Appl.Poly.Sc
i.,39巻、1623(1990年)、米国特許第2
731437号明細書)等を挙げることができる。
【0020】チオシアン酸塩としてはチオシアン酸カリ
ウム、チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩を
用いることができる。チオ尿素又はチオシアン酸塩の使
用量はビス(4−(2,3−エポキシプロピルチオ)フ
ェニル)スルフィドに対して、1〜4当量、好ましくは
1〜3当量である。
ウム、チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩を
用いることができる。チオ尿素又はチオシアン酸塩の使
用量はビス(4−(2,3−エポキシプロピルチオ)フ
ェニル)スルフィドに対して、1〜4当量、好ましくは
1〜3当量である。
【0021】用いられる有機溶媒としては、塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、o−ジ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、n−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオ
キサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、is
o−プロパノール等のアルコール類が挙げられる。
ン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、o−ジ
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、n−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオ
キサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、is
o−プロパノール等のアルコール類が挙げられる。
【0022】反応温度は、0〜80℃、好ましくは10
〜60℃である。反応後は水を添加し有機層と水層を分
液し、有機層を水洗した後、溶媒を留去することにより
本発明のビス(4−(2,3−エピチオプロピルチオ)
フェニル)スルフィドを得ることができる。
〜60℃である。反応後は水を添加し有機層と水層を分
液し、有機層を水洗した後、溶媒を留去することにより
本発明のビス(4−(2,3−エピチオプロピルチオ)
フェニル)スルフィドを得ることができる。
【0023】本発明の新規チオール誘導体は、使用目的
等に応じて共重合可能な化合物を配合し、共重合するこ
とができる。本発明の新規チオール誘導体と共重合可能
な化合物としては、例えば、ビニル基を有するモノマ
ー、ビニル基を有するオリゴマー、エポキシ基を有する
モノマー、エポキシ基を有するオリゴマー、チオール基
を有するモノマー、チオール基を有するオリゴマー等が
挙げられ、使用目的に応じ単官能化合物だけでなく多官
能化合物を選択することができ、またそれらの化合物を
2種以上併用することができる。また、本発明の新規チ
オール誘導体及び共重合可能な化合物を含む組成物は、
通常の方法により、熱、光等によって共重合させること
ができる。
等に応じて共重合可能な化合物を配合し、共重合するこ
とができる。本発明の新規チオール誘導体と共重合可能
な化合物としては、例えば、ビニル基を有するモノマ
ー、ビニル基を有するオリゴマー、エポキシ基を有する
モノマー、エポキシ基を有するオリゴマー、チオール基
を有するモノマー、チオール基を有するオリゴマー等が
挙げられ、使用目的に応じ単官能化合物だけでなく多官
能化合物を選択することができ、またそれらの化合物を
2種以上併用することができる。また、本発明の新規チ
オール誘導体及び共重合可能な化合物を含む組成物は、
通常の方法により、熱、光等によって共重合させること
ができる。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。
る。
【0025】実施例1 攪拌機、温度計、ジムロート型冷却管を備えた300m
lの四つ口フラスコに、ビス(4−メルカプトフェニ
ル)スルフィド50.1g(0.20モル)および水4
0gを仕込、反応温度を20〜30℃に保ちながら別途
調製しておいた水素化ホウ素ナトリウム0.038g
(0.001モル)を含む27%水酸化ナトリウム水溶
液59.3g(0.40モル)を1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、更に75〜80℃で1.5時間攪拌を
続けた後、20℃まで冷却した。次に別途準備した攪拌
機、温度計、ジムロート型冷却管を備えた1lの四つ口
フラスコに、臭化アリル50.0g(0.416モル)
とトルエン300g及び臭化テトラ−n−ブチルアンモ
ニウム1.61g(0.005モル)を仕込、反応温度
を20℃以下に保ちながら、前記の反応で得られた水溶
液を45分かけて滴下した。更に、20℃で1時間攪拌
した後、反応液を分液した。有機層を水100gで2回
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水しトルエンを留
去して、淡黄色の液体を得た。この液体をカラムクロマ
トグラフィで精製することにより、無色透明の液体を得
た。
lの四つ口フラスコに、ビス(4−メルカプトフェニ
ル)スルフィド50.1g(0.20モル)および水4
0gを仕込、反応温度を20〜30℃に保ちながら別途
調製しておいた水素化ホウ素ナトリウム0.038g
(0.001モル)を含む27%水酸化ナトリウム水溶
液59.3g(0.40モル)を1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、更に75〜80℃で1.5時間攪拌を
続けた後、20℃まで冷却した。次に別途準備した攪拌
機、温度計、ジムロート型冷却管を備えた1lの四つ口
フラスコに、臭化アリル50.0g(0.416モル)
とトルエン300g及び臭化テトラ−n−ブチルアンモ
ニウム1.61g(0.005モル)を仕込、反応温度
を20℃以下に保ちながら、前記の反応で得られた水溶
液を45分かけて滴下した。更に、20℃で1時間攪拌
した後、反応液を分液した。有機層を水100gで2回
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水しトルエンを留
去して、淡黄色の液体を得た。この液体をカラムクロマ
トグラフィで精製することにより、無色透明の液体を得
た。
【0026】この新規チオール誘導体の構造を決定する
ため分析を行った。結果を下記に示す。 屈折率(n25 D )1.666 元素分析値 理論値(%) C:65.41 H:5.49
S:29.10 分析値(%) C:65.47 H:5.53
S:29.00 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1) 3080、1635、1575、1473、1425、
1388、1228、1099、1076、1010、
987、9241 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、テトラ
メチルシラン基準)δ(ppm) 7.23(S、8H、芳香環水素)、6.1〜5.6
(m、2H、−CH=C−)、5.4〜5.0(2d、
4H、CH2 =C−)、3.52(d、4H、−SCH
2 −)
ため分析を行った。結果を下記に示す。 屈折率(n25 D )1.666 元素分析値 理論値(%) C:65.41 H:5.49
S:29.10 分析値(%) C:65.47 H:5.53
S:29.00 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1) 3080、1635、1575、1473、1425、
1388、1228、1099、1076、1010、
987、9241 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、テトラ
メチルシラン基準)δ(ppm) 7.23(S、8H、芳香環水素)、6.1〜5.6
(m、2H、−CH=C−)、5.4〜5.0(2d、
4H、CH2 =C−)、3.52(d、4H、−SCH
2 −)
【0027】上記の分析結果から無色透明液体は、ビス
(4−アリルチオフェニル)スルフィドと同定された。
収量は62.3gで、収率は原料のビス(4−メルカプ
トフェニル)スルフィドに対して94.2%であった。
(4−アリルチオフェニル)スルフィドと同定された。
収量は62.3gで、収率は原料のビス(4−メルカプ
トフェニル)スルフィドに対して94.2%であった。
【0028】実施例2 攪拌機、温度計及びジムロート型冷却管を備えた1lの
四つ口フラスコにビス(4−(2,3−エポキシプロピ
ルチオ)フェニル)スルフィド72.6g(0.2モ
ル)、塩化メチレン200g及びメタノール160gを
仕込み、40℃まで昇温した。ついで反応温度を40〜
45℃に保ちながらチオ尿素61g(0.8モル)を添
加し、そのままの温度で4時間攪拌した。その後、室温
まで冷却し水200gを添加し30分攪拌した。有機層
と水層を分離した後、有機層を200gの水で2回洗浄
し、溶媒を留去した後、トルエン/n−ヘキサンの混合
溶媒で再結晶することにより、白色結晶を得た。
四つ口フラスコにビス(4−(2,3−エポキシプロピ
ルチオ)フェニル)スルフィド72.6g(0.2モ
ル)、塩化メチレン200g及びメタノール160gを
仕込み、40℃まで昇温した。ついで反応温度を40〜
45℃に保ちながらチオ尿素61g(0.8モル)を添
加し、そのままの温度で4時間攪拌した。その後、室温
まで冷却し水200gを添加し30分攪拌した。有機層
と水層を分離した後、有機層を200gの水で2回洗浄
し、溶媒を留去した後、トルエン/n−ヘキサンの混合
溶媒で再結晶することにより、白色結晶を得た。
【0029】この新規チオール誘導体の構造を決定する
ため分析を行った。結果を下記に示す。 融点 41.5〜43.0℃ 屈折率(n45 D )1.703 元素分析値 理論値(%) C:54.78 H:4.60
S:40.62 分析値(%) C:54.80 H:4.55
S:40.65 赤外吸収スペクトル(KBrcm-1) 2923、1473、1388、1099、1008、
8061 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、テトラ
メチルシラン基準)δ(ppm) 7.5〜7.2(m、8H、芳香環水素)、3.6〜
2.1(m、10H、エピチオプロピルチオ水素)
ため分析を行った。結果を下記に示す。 融点 41.5〜43.0℃ 屈折率(n45 D )1.703 元素分析値 理論値(%) C:54.78 H:4.60
S:40.62 分析値(%) C:54.80 H:4.55
S:40.65 赤外吸収スペクトル(KBrcm-1) 2923、1473、1388、1099、1008、
8061 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、テトラ
メチルシラン基準)δ(ppm) 7.5〜7.2(m、8H、芳香環水素)、3.6〜
2.1(m、10H、エピチオプロピルチオ水素)
【0030】上記の分析結果から白色結晶は、ビス(4
−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル)スルフ
ィドと同定された。収量は73.8gで、収率は原料の
ビス(4−(2,3−エポキシプロピルチオ)フェニ
ル)スルフィドに対して93.5%であった。
−(2,3−エピチオプロピルチオ)フェニル)スルフ
ィドと同定された。収量は73.8gで、収率は原料の
ビス(4−(2,3−エポキシプロピルチオ)フェニ
ル)スルフィドに対して93.5%であった。
【0031】
【発明の効果】本発明の新規チオール誘導体は、それ自
体で重合させるか、又は、各種の共重合可能な化合物と
共重合させることにより、高屈折率であり透明性に優れ
た硬化物を得ることができる。それ故に、本発明の新規
チオール誘導体は優れた物性を有する光学材料、塗料、
接着剤、封止材等を与える極めて有用な単量体である。
体で重合させるか、又は、各種の共重合可能な化合物と
共重合させることにより、高屈折率であり透明性に優れ
た硬化物を得ることができる。それ故に、本発明の新規
チオール誘導体は優れた物性を有する光学材料、塗料、
接着剤、封止材等を与える極めて有用な単量体である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 道夫 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の1 住 友精化株式会社第1研究所内 (72)発明者 崎山 和夫 兵庫県姫路市飾磨区入船町1番地 住友精 化株式会社第2研究所内
Claims (4)
- 【請求項1】 下記式(I)で表される新規チオール誘
導体。 【化1】 - 【請求項2】 ビス(4−メルカプトフェニル)スルフ
ィドとハロゲン化アリルとをアルカリ存在下で反応させ
ることを特徴とする下記式(I)で表される新規チオー
ル誘導体の製造方法。 【化2】 - 【請求項3】 下記式(II)で表される新規チオール
誘導体。 【化3】 - 【請求項4】 ビス(4−(2,3−エポキシプロピル
チオ)フェニル)スルフィドとチオ尿素又はチオシアン
酸塩とを反応させることを特徴とする下記式(II)で
表される新規チオール誘導体の製造方法。 【化4】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17950095A JP3807759B2 (ja) | 1995-06-21 | 1995-06-21 | 新規チオール誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17950095A JP3807759B2 (ja) | 1995-06-21 | 1995-06-21 | 新規チオール誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH093058A true JPH093058A (ja) | 1997-01-07 |
| JP3807759B2 JP3807759B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=16066912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17950095A Expired - Fee Related JP3807759B2 (ja) | 1995-06-21 | 1995-06-21 | 新規チオール誘導体及びその製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3807759B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000186087A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2000186086A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2001288181A (ja) * | 2000-04-07 | 2001-10-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物およびその製造方法 |
| JP2002371081A (ja) * | 2001-06-19 | 2002-12-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学材料用脂肪族環状化合物 |
| JP2010285378A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | アルキルスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2011195488A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 新規ジアリールスルホン化合物、及びその製造方法 |
| JP2011195487A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 新規ジアリールスルホン化合物、及びその製造方法 |
| US9040724B2 (en) | 2010-03-18 | 2015-05-26 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
| US9365507B2 (en) | 2010-03-18 | 2016-06-14 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
| CN110945054A (zh) * | 2017-07-24 | 2020-03-31 | 3M创新有限公司 | 制备聚合组合物的组合物和方法 |
-
1995
- 1995-06-21 JP JP17950095A patent/JP3807759B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2001077098A1 (en) * | 2000-04-07 | 2001-10-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Episulfide compound and process for producing the same |
| JP2002371081A (ja) * | 2001-06-19 | 2002-12-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学材料用脂肪族環状化合物 |
| JP2010285378A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | アルキルスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2011195488A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 新規ジアリールスルホン化合物、及びその製造方法 |
| JP2011195487A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 新規ジアリールスルホン化合物、及びその製造方法 |
| US9040724B2 (en) | 2010-03-18 | 2015-05-26 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
| US9365507B2 (en) | 2010-03-18 | 2016-06-14 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
| CN110945054A (zh) * | 2017-07-24 | 2020-03-31 | 3M创新有限公司 | 制备聚合组合物的组合物和方法 |
| KR20200035041A (ko) * | 2017-07-24 | 2020-04-01 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 중합된 조성물을 제조하는 조성물 및 방법 |
| TWI759510B (zh) * | 2017-07-24 | 2022-04-01 | 美商3M新設資產公司 | 組成物及製備經聚合組成物的方法 |
| US11505653B2 (en) | 2017-07-24 | 2022-11-22 | 3M Innovative Properties Company | Compositions and methods of making a polymerized composition |
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|---|---|
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