JPH09310696A - 分子ポンプ - Google Patents

分子ポンプ

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JPH09310696A
JPH09310696A JP8324731A JP32473196A JPH09310696A JP H09310696 A JPH09310696 A JP H09310696A JP 8324731 A JP8324731 A JP 8324731A JP 32473196 A JP32473196 A JP 32473196A JP H09310696 A JPH09310696 A JP H09310696A
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molecular pump
stator
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preheating
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昌司 井口
Mitsuru Sakurai
充 桜井
Akihiko Nishide
昭彦 西出
Masatomo Okamoto
正智 岡本
Kiyoshi Murosaku
喜代志 室作
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OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2260/00Function
    • F05D2260/60Fluid transfer
    • F05D2260/607Preventing clogging or obstruction of flow paths by dirt, dust, or foreign particles

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プロセスガス負荷の大小にかかわらずロータ
やステータや排気管等の排気ガスと接触する部分の温度
を所定温度に保って凝縮性ガスの凝縮を常時防止するこ
とができる分子ポンプを提供する。 【解決手段】 導入量の制御が可能な予熱用ガス導入手
段と導入量の制御が可能なパージガス導入手段とを具備
すると共に、リング3b、3bを介してステータ3aを
上部筐体6に断熱的に係止し、第1ねじシール7を該ス
テータ3aに密着して接続し、排気管12a及び12b
を下部筐体12に断熱的に挿通した構造とし、更に駆動
用モータ8aは一定値以上のガス負荷の増大に対してそ
の回転速度が低下する特性としてステータ3a、ロータ
5等の排気ガスと接触する部分の温度調節を可能に形成
した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は実験研究装置、分析
計測装置、及び半導体製造工業における成膜分野等にお
ける工業用真空装置において、中真空から超高真空にわ
たる圧力範囲で使用される分子ポンプに関する。
【0002】
【従来の技術】分子ポンプにはターボ分子ポンプ、ねじ
溝真空ポンプ、及びこれら2者が複合した複合分子ポン
プがある。
【0003】従来エッチング装置、CVD(Chemical Va
por Deposition)装置等の成膜装置の排気用として使用
されている複合分子ポンプの例として、図10の如く吸
気口aと排気口bとを有する筐体c内に、吸気口a側か
らターボ分子ポンプ部d及びねじ溝真空ポンプ部eを順
次配設したものが知られている。
【0004】尚、fはこれらターボ分子ポンプ部d及び
ねじ溝真空ポンプ部eの共通ロータgを固定した回転
軸、hはモータ、i及びjはそれぞれジャーナル磁気軸
受及びスラスト磁気軸受を示し、X矢印はプロセスガス
の吸入方向を、又、Y矢印はプロセスガスの排出方向を
示す。
【0005】従来の分子ポンプをエッチング装置やCV
D装置等の排気に使用した場合、プロセスガスが凝縮性
を有するため、分子ポンプのロータやステータをはじめ
プロセスガスの接する部分に凝縮性気体が凝縮・堆積し
てロータをロックさせてしまう不具合があった。
【0006】そこで、分子ポンプの外周又は内部に設置
したヒータによりポンプ部を加熱してロータ及びステー
タに凝縮性気体が凝縮・堆積するのを防止しようとした
例(特開平3−290092号公報)や、ねじ溝ポンプ
のステータを断熱材で支持してステータを自己昇温させ
て同上の凝縮・堆積の防止を図った例(特開平7−43
84号公報)が知られている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】分子ポンプのロータ等
はアルミ合金製のため、強度上の制約からロータの温度
は120℃程度までとする必要があり、又、磁気軸受や
モータ等の電気部品も高温を嫌うので、前記のヒータに
よりポンプ部を加熱する方法(特開平3−290092
号公報)は、ポンプ部の過熱によりポンプ寿命を劣化さ
せたり、不具合を発生させたりする原因となる問題があ
った。
【0008】又、前記のステータを断熱材で支持して自
己昇温させる方法(特開平7−4384号公報)も、大
流量のプロセスガスが負荷として加わる時には、ポンプ
部が過熱するという同上の問題があった。
【0009】更に又、このステータを自己昇温させる方
法では、プロセスガス負荷が少な過ぎる場合とか、プロ
セス開始後数時間はステータ温度が充分に昇温せず、ポ
ンプ部の流路に排気ガスの凝縮を起こす問題があった。
【0010】本発明はこれらの問題点を解消し、プロセ
スガス負荷の大小にかかわらずロータやステータや排気
管等の排気ガスと接触する部分の温度を所定温度に保っ
て凝縮を常時防止することができる分子ポンプを提供す
ることを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目標を達
成するべく、ロータ、ステータ及び排気通路部の温度を
制御可能に形成したことを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の第1の実施の形態とし
て、複合分子ポンプに適用した例を図1の縦断面図によ
り説明する。
【0013】プロセスガスは吸気口1から吸入され、タ
ーボ分子ポンプ部2及びねじ溝真空ポンプ部3を経て排
気口4より排出される。
【0014】5はこれらターボ分子ポンプ部2及びねじ
溝真空ポンプ部3の共通のロータで、回転軸5aに固定
されており、アルミ合金製である。
【0015】ねじ溝真空ポンプ部3のステータ3aは、
断熱材製のリング3b、3bを介して上部筐体6に係止
されていると共に、ロータ5にあるねじ溝3cのねじ山
部とは僅かな間隙を存して対向しており、又、該ステー
タ3aの下端には第1ねじシール7が一部を密着して係
着されている。
【0016】しかし、該ステータ3aはその他の部分と
は直接に接触をしていないので、該ステータ3aは断熱
的に支持されていることになる。
【0017】第1ねじシール7は外周部にねじ溝7aを
有すると共に内周部にOリング7bを有し、該ねじ溝7
aはねじ山部をロータ5の内周部に僅かな間隙を存して
対向させている。
【0018】該ねじ溝7aは共通ロータ5の回転により
ロータ内室5bの気体を下向き(排気内側管12aに通
じる方向)に排気するように形成されている。
【0019】又、該第1ねじシール7は前記Oリング7
bを介してモータハウジング8の外周部に摺動可能に外
挿されている。
【0020】該第1ねじシール7はねじ溝7aの作用に
よってねじ溝真空ポンプ部3より排出されるプロセスガ
スがロータ内室5bに漏洩してくるのを防止している。
【0021】9は第2ねじシールで、内周部にねじ溝9
aを有し、モータハウジング8の上端部に係止されてい
ると共に、該ねじ溝9aのねじ山部を共通ロータ5のボ
ス部外周部に僅かな間隙を存して対向させている。
【0022】該ねじ溝9aは、ロータ5の回転により、
前記ロータ内室5bの気体を下向き(モータハウジング
8の内部)に排気するように形成されいている。
【0023】10はパージガス導入口で、該パージガス
導入口10より導入された窒素ガス等のパージガスは下
部筐体内室10a及びパージ穴10bを通ってモータハ
ウジング8内部を満たし、プロセスガスがモータハウジ
ング8内部へ浸入するのを防止している。
【0024】該モータハウジング8内部のパージガスの
圧力は前記第2ねじシール9のねじ溝9aの圧縮作用に
よってロータ内室5bの圧力よりも高くなっている。こ
のモータハウジング8の内部の圧力は該モータハウジン
グ8と回転軸5aとの間の熱伝達に大きな影響を与え
る。
【0025】即ち、 Q :回転軸5aからモータハウジング8に伝達される
伝熱量 γ :パージガスの比熱比 M :パージガスの分子量 R :気体定数 T1 :回転軸5aの温度 T2 :モータハウジング8に接しているモータステータ
電磁石の温度 P :モータハウジング8内の圧力 とすると、数1に示す関係式が成立する。
【0026】
【数1】
【0027】このように、モータハウジング8内の圧力
Pを高くすることによって、回転軸5aとモータハウジ
ング8間の伝熱量を増大させることができる。
【0028】モータハウジング8は空冷又は水冷された
下部筐体12を介して放熱し、一定温度に保たれてい
る。一方、ロータ5は回転軸5aを介しての熱伝達によ
って放熱しているので、プロセスガス負荷の増大によっ
てロータ5の温度が上昇した場合には、回転軸5aから
モータハウジング8への熱伝達量Qを増やしてロータ5
の過熱を防ぐ必要がある。
【0029】このため、プロセスガス負荷の増減に応じ
てモータハウジング8内のパージガス圧力を制御するよ
うにしている。
【0030】尚、プロセスガス負荷の増減は、後述する
駆動用モータ8aの特性から、定格回転速度からの回転
速度の変動値として検出されるので、回転速度検知器
(図示せず)による検出値よりプロセスガス負荷の増減
を知り、これによってパージガス導入口10へのパージ
ガス導入量を自動制御し、これに繋がる前記モータハウ
ジング8内のパージガスの圧力を制御して、ロータ5の
温度を所定値に保っている。
【0031】次に11は予熱用ガス導入口を示す。
【0032】本実施の形態の複合分子ポンプにおいて、
該予熱用ガス導入口11はターボ分子ポンプ部2とねじ
溝真空ポンプ部3の間に設けられている。
【0033】予熱用ガスには常温の窒素ガスなどが用い
られ、プロセスの稼動を始める前の装置立上げ時に該予
熱用ガス導入口11から予熱用ガスを導入し、ねじ溝真
空ポンプ部3におけるポンプ作用に伴う発熱によってス
テータ3a等の温度を昇温させておく。
【0034】又、長時間プロセスガス負荷がない場合
(例えばプロセスを中断している時)にも、予熱用ガス
の導入によりステータ3a等の温度を所定の高温に保つ
ことができる。
【0035】尚、該ステータ3aの温度を適切に保つた
めには、この予熱用ガスの導入量を制御する必要があ
り、この予熱用ガス導入量の制御は後述する駆動用モー
タ8aの制御特性を用いて回転速度を検知して行ってい
る。
【0036】尚、予熱用ガスの導入口部は、本実施の形
態の複合分子ポンプの場合にはターボ分子ポンプ部2と
ねじ溝真空ポンプ部3の間に設けるとしたが、これは分
子ポンプがターボ分子ポンプだけの場合にはロータ翼及
びステータ翼の全段数のほぼ中央部に該導入口部を設け
ればよく、又、分子ポンプがねじ溝真空ポンプだけの場
合にはステータのほぼ中央部に該導入口部を設ければよ
い。
【0037】ここで、本発明の特徴の1つである駆動用
モータ8aの特性について説明する。
【0038】回転軸5aを駆動する駆動用モータ8aは
ブラシレスのDCモータで、図2の実線で示す特性を持
つように形成されている。
【0039】従来この種のモータの制御方法では、図2
の点線で示す特性を持っていた。即ち、定格回転速度に
おいてプロセスガス負荷が増大すると回転速度は僅かに
低下するが、その低下の割合は最大電流値の時でも約1
%程度と少ない。
【0040】この様なモータを分子ポンプ駆動用に用い
ると、プロセスガス負荷が増大した場合など、最大定格
出力で連続運転中に分子ポンプのロータが過熱して12
0℃を超えてしまい、ロータの強度上極めて危険な状態
になることが予想される。
【0041】又、このロータの過熱を避けるために、駆
動用モータの最大定格出力がより小さな従来形のモータ
で従来の制御方法を用いた場合には、起動時に慣性モー
メントの大きな前記ロータを定格回転速度にまで上昇す
るのに長時間を要するので、やはり不具合である。
【0042】これに対し、本発明の駆動用モータ8a
は、負荷の増大を入力電流値で検知し、それに応じてモ
ータ回転速度を定格回転速度よりも低下させる制御を行
っている。
【0043】即ち、定格回転速度の30乃至70%(5
0%以上の範囲が好ましい)から駆動用モータ8aへの
供給電流値を低下させて、図2の実線で示すモータ入力
電流・回転速度特性が得られるようにしている。
【0044】この制御により駆動用モータ8aの最大出
力は著しく低下し、過大なプロセスガス負荷が加えられ
た場合にはロータ5の回転速度が低下して該プロセスガ
ス負荷によるモータの負荷が下がり、ロータ5等の過熱
を防止することができる。又、回転速度を測定すればモ
ータ入力電流が判るので、直ちにモータ出力即ちプロセ
スガス負荷の大きさを知ることができる。
【0045】又、駆動用モータ8aの最大出力を低下さ
せたために、ロータ5が定格回転速度まで上昇するのに
従来よりも多少長い時間を要するようになるが、一般に
分子ポンプでは定格回転速度の半分の回転速度でも装置
立上げ時等の初期排気に充分な排気速度を有しているた
め、それ以後の定格回転速度までの回転速度の上昇に要
する時間が多少増大しても実用上問題はない。
【0046】本発明の駆動用モータ8aでは電流値と共
に回転速度を情報としてコントローラへ取り込み、マイ
コンを用いて制御を行って回転速度に応じた電流がモー
タに流れるようにしているが、この制御のブロック図を
図3に示す。又、従来の駆動用モータの制御のブロック
図を図4に示す。
【0047】但し、I0 は設定された最大電流値、Iは
電流検出値、Nは回転速度検出値であり、又、K(N)
はマイコンを用いた可変ゲインである。
【0048】尚、ねじ溝分子ポンプ部3から排気される
プロセスガス又は予熱ガス等は、排気内側管12a及び
12bを経て排気口4より外部に排出されるが、これら
排気内側管12a、12bから下部筐体12へ熱が伝達
するのを防ぐために、該下部筐体12の排気孔部の内壁
12cと間隙を存してこれら排気内側管12a、12b
を挿通させている。
【0049】又、排気内側管12bの周囲に加熱用ヒー
タ12dを設置して、プロセスガスが排気内側管12
a、12bの排気通路内に凝縮・堆積するのを防止する
構造としている。
【0050】次に、本発明の第1の実施の形態の作動、
効果について説明する。
【0051】プロセスの稼動を始める前に分子ポンプの
ウォーミングアップをする。即ち、装置の立上げ時に
は、予熱用ガス導入口11から窒素ガスなどの予熱用ガ
スをねじ溝ポンプ部3に導入し、ポンプ作用に伴う発熱
によってステータ3a及びロータ5の温度を昇温させて
おき、然る後にプロセスガスに切り更えることにより、
プロセスガスが流路に凝縮・堆積するのを防止してい
る。
【0052】尚、この予熱ガスの導入は装置立上げ時だ
けに限らず、長時間プロセスガスの負荷の無い状態で装
置を運転している場合にも同様に予熱ガスの導入を行っ
て、ねじ溝ポンプ部のステータ3aをはじめロータ5等
を高温に保つことができる。
【0053】又、プロセスの稼動中はプロセスガス負荷
の増減がロータ5の温度変動を引き起こすので、該プロ
セスガス負荷の増減を前記回転速度検知器により検出す
ると共にこの信号によりパージガスの供給量を制御する
ことによりロータ5の温度をコントロールしている。
【0054】即ち、プロセスガス負荷が増加した時はパ
ージガスの導入量を増やして下部筐体内室10a及びモ
ータハウジング8の内部の圧力を上昇させ、ロータ5か
ら回転軸5aを介してモータハウジング8への伝熱量を
増加させてロータ5の温度が120℃以上に上昇するの
を防ぎ、又、プロセス負荷が減少した時はパージガスの
導入量を減らして前記伝熱量を減少させてロータ5の過
度の温度低下を防止している。
【0055】これらの効果は、予熱用ガスの導入量の制
御やパージガスの導入量の制御と共に、モータハウジン
グ8及びステータ3aの前記構造、第1ねじシール7及
び第2ねじシール9の前記パージガス送出作用、及び駆
動用モータ8aに与えた前記特性等の総合作用により実
現されている。
【0056】更に又、排気内側管12bを加熱用ヒータ
12dによって120℃以上に加熱することにより、該
排気内側管内にプロセスガスが凝縮・堆積することを防
止している。
【0057】尚、この加熱用ヒータ12dによる加熱
は、分子ポンプと補助ポンプ間の補助配管を加熱すると
いう従来から行われている方法が採用されている場合に
は、その熱伝導による加熱を利用するようにしてもよ
い。
【0058】又、本実施の形態では、分子ポンプを複合
分子ポンプとしたが、これは分子ポンプがターボ分子ポ
ンプだけの場合でも、又は分子ポンプがねじ溝真空ポン
プだけの場合でも同様に実施することが可能である。
【0059】本発明の第2の実施の形態を図5乃至図9
により説明する。
【0060】図5は本第2の実施の形態の縦断面図で、
前述の第1の実施の形態と同じく複合分子ポンプに適用
した例を示す。
【0061】本実施の形態では、パージガス供給手段と
予熱用ガス供給手段とを兼用した供給手段を具備させ
た。
【0062】即ち、パージガス供給口10の前に後述す
るガス流量切り替え機構13を設置してパージガスと予
熱用ガス各々に必要なガス流量を供給できるようにする
と共に、前記第1ねじシール7の軸長をねじ溝真空ポン
プ部3のステータ3aの軸長と略同じ長さに形成した点
が第1の実施の形態とは異なっている。
【0063】前記第1の実施の形態では、予熱用ガスが
ターボ分子ポンプ部2とねじ溝真空ポンプ部3の間の予
熱用ガス導入口11から導入するようにしていたのに対
し、本第2の実施の形態では、パージガス導入口10か
らモータハウジング8内に導入された予熱用ガスが第2
ねじシール9のねじ溝9a及び第1ねじシール7のねじ
溝7aを経由してねじ溝真空ポンプ部3の流路の下流側
に供給されるようにした。
【0064】パージガスも予熱用ガスも、共に窒素ガス
等が使用される。
【0065】図6にガス流量切り替え機構の1例を示
す。
【0066】高圧の窒素ガスライン14に接続した該ガ
ス流量切り替え機構13は減圧弁13a、パージガス用
弁13bを経て、パージガス用オリフィス13cを有す
る第1管路と、予熱用ガス弁13d及び予熱ガス用オリ
フィス13eを有する第2管路とに分岐するが、これら
第1管路と第2管路は再び合流してパージガス導入口1
0へと接続している。
【0067】次に本第2の実施の形態の作用及び効果に
ついて説明する。
【0068】パージガスは、プロセスガスがモータハウ
ジング8の内部に浸入してくるのを防止する目的で該モ
ータハウジング8内部へ供給されているが、その供給量
は、標準的な例では10SCCM程度である。
【0069】これに対し、予熱用ガスとしては約200
SCCM程度の供給量が必要となる。このため、パージガス
用オリフフィス13cと予熱ガス用オリフィス13eと
を別々に設けることにより、電磁弁の操作によって直ち
にパージガスから予熱用ガスへと窒素ガス流量が切り替
わるようにした。
【0070】図7はガス流量切り替え機構13の配線図
を示す。
【0071】PB1 を押すとR1 が励磁してPVが励磁
され、パージガス用弁13bが開き、パージガス用オリ
フィス13cを通って10SCCM程度の窒素ガスがモータ
ハウジング8内部へ供給される。尚、パージガスの供給
を停止する時はPB2 を押してR1 を非励磁とすればよ
い。
【0072】又、R1 が励磁されている時、PB3 を押
すことによりタイマーリレーTが一定時間励磁され、更
にHVが励磁されて予熱用ガス弁13dが開き、流量2
00SCCMの窒素ガスが予熱ガス用オリフィス13eを通
ってモータハウジング8内部へ供給される。
【0073】モータハウジング8内部へ供給されたこの
窒素ガスは、第2ねじシール9のねじ溝9aを経て第1
ねじシール7のねじ溝7aを通り、ねじ溝真空ポンプ部
3の流路の下流側に放出される。この時、軸方向に長く
形成された該ねじ溝7aを窒素ガスが通過する際の摩擦
熱により該第1ねじシール7とロータ5、及び該第1ね
じシール7と密着して接続しているステータ3aが昇温
する。
【0074】又、ねじ溝真空ポンプ3自体も、その下流
側に放出された窒素ガスに対するポンプ作用により発熱
するので、ロータ5とステータ3aは更に昇温して、短
時間で予熱が行われる。
【0075】この予熱はロータ5を高速回転させた状態
で行われ、一定時間Tだけ大流量の窒素ガスを供給して
予熱を行うようにしたが、これを第1の実施の形態と比
較すると、本実施の形態ではターボ分子ポンプ部2とね
じ溝真空ポンプ部3の間に面倒な予熱用ガス導入口11
や予熱用ガス配管がなくて済み、又、予熱用ガスがねじ
溝真空ポンプ部3の下流側に導入されるため、分子ポン
プの上流側の吸気圧力が大きく上昇するという不具合も
発生しない利点を有する。
【0076】因みに、ねじ溝真空ポンプ部3の下流側に
予熱用ガスを導入した場合の複合分子ポンプの排気性能
への影響について検討する。
【0077】図8は排気速度700L/S クラスの複合分
子ポンプの圧縮比曲線の一例である。補助ポンプ排気速
度を標準的な値である1000L/min とし、200SCCM
の窒素ガスをパージガス導入口10より導入した場合、
該複合分子ポンプの排気圧力は0.15Torrとなる。
【0078】即ち、図8により、予熱ガス導入による圧
力上昇分は、数2のとおりとなる。
【0079】
【数2】
【0080】この程度の吸気口圧力の上昇は、プロセス
開始前のバックグランド圧力条件にとって全く問題とな
らない。
【0081】又、従来の外部ヒータによりねじ溝真空ポ
ンプのステータを昇温させた場合と、本第2の実施の形
態によりねじ溝真空ポンプ部3のステータ3aを昇温さ
せた場合との比較例を図9に示す。ステータ3aをプロ
セスガスが凝着を起こさない温度の55℃とするのに、
ヒータ加熱型では2時間を要するのに対し、本第2の実
施の形態による自己昇温型では、より短い時間で所要の
温度に達することがわかる。
【0082】尚、本第2の実施の形態では、ガス流量切
り替え機構13をパージガス用オリフィス13c及び予
熱ガス用オリフィス13e等からなるものとしたが、こ
れは1台のマスフローコントローラで置き換えてもよ
い。
【0083】又、前記パージガス用オリフィス13cの
絞りを可変とし、前記回転軸5aからモータハウジング
8への伝熱量Qのコントロールを該パージガス用オリフ
ィス13cとの可変絞りによって行うようにしてもよ
い。
【0084】又、本実施の形態では分子ポンプを複合分
子ポンプとしたが、これはねじ溝真空ポンプだけの場合
でも同様に実施することが可能である。
【0085】
【発明の効果】このように本発明によれば、ポンプ部の
外部又は内部にヒータを用いずに、自己昇温によって短
時間でポンプ部を加熱して分子ポンプ内にプロセスガス
が凝縮・堆積するのを防止すると共に、プロセスガスの
ガス負荷が急速に増大しても、ロータ部の温度上昇を安
全な許容範囲内に保持することが可能な構造の分子ポン
プを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の複合分子ポンプの
縦断面図である。
【図2】駆動用モータの特性を示す図である。
【図3】本発明の駆動用モータの制御のブロック図であ
る。
【図4】従来の駆動用モータの制御のブロック図であ
る。
【図5】本発明の第2の実施の形態の複合分子ポンプの
縦断面図である。
【図6】複合分子ポンプのパージガス導入口に接続した
ガス流量切り替え機構のシステム図である。
【図7】同上ガス流量切り替え機構の配線図である。
【図8】複合分子ポンプの圧縮曲線の1例を示すグラフ
である。
【図9】ねじ溝真空ポンプにおける外部ヒータ加熱型と
自己昇温型の昇温時間の比較の1例を示すグラフであ
る。
【図10】従来の複合分子ポンプの縦断面図である。
【符号の説明】
3 ねじ溝真空ポンプ部 3a ステータ 4 排気口 5 ロータ 6、12 筐体 7 第1ねじシール 7b Oリング 8 モータハウジング 8a 駆動用モータ 9 第2ねじシール 10 パージガス導入口 11 予熱用ガス導入口 12a、12b 排気内側管 12c 排気孔部の内壁 12d 加熱用ヒータ 13 ガス流量切り替え機構 13c パージガス用オリフィス 13e 予熱ガス用オリフィス
フロントページの続き (72)発明者 岡本 正智 大阪府大阪市中央区北浜3−2−25 株式 会社大阪真空機器製作所内 (72)発明者 室作 喜代志 大阪府大阪市中央区北浜3−2−25 株式 会社大阪真空機器製作所内

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ロータ、ステータ及び排気通路部の温度
    を制御可能に形成したことを特徴とする分子ポンプ。
  2. 【請求項2】 ロータ及びステータを予熱するための予
    熱用ガス導入手段を具備すると共に、ロータ駆動用モー
    タにかかるガス負荷の大きさに応じて該予熱用ガスの導
    入量を制御するように形成したことを特徴とする請求項
    1に記載の分子ポンプ。
  3. 【請求項3】 パージガスをモータハウジング内部に導
    入するためのパージガス導入手段を具備すると共に、ロ
    ータ駆動用モータにかかるガス負荷の大きさに応じて該
    パージガスの導入量を制御するように形成したことを特
    徴とする請求項1に記載の分子ポンプ。
  4. 【請求項4】 前記パージガス導入手段は、前記プロセ
    スガスがロータ内部に漏洩しないように作動する第1ね
    じシールと、モータハウジング内部にあるパージガスが
    モータハウジング外部に漏洩しないように作動する第2
    ねじシールとを有することを特徴とする請求項3に記載
    の分子ポンプ。
  5. 【請求項5】 ねじ溝真空ポンプ部を有する分子ポンプ
    において、モータハウジング内部に前記予熱用ガスを導
    入すると共に、該予熱用ガスはねじ溝真空ポンプ部の内
    側に設置した前記第1ねじシールのねじ溝部を経由して
    該ねじ溝真空ポンプ部の流路の下流側に供給されるよう
    に形成したことを特徴とする請求項2及び請求項4に記
    載の分子ポンプ。
  6. 【請求項6】 前記予熱用ガス導入手段と前記パージガ
    ス導入手段が共通に形成されて前記モータハウジング内
    部に連通し、パージガスを導入するとき或いは予熱用ガ
    スを導入するときにガス流量を切り替えるためのガス流
    量切り替え機構を具備していることを特徴とする請求項
    2及び請求項3に記載の分子ポンプ。
  7. 【請求項7】 前記第1ねじシールの軸長を前記ねじ溝
    真空ポンプ部のステータの軸長と略同じ長さに形成した
    ことを特徴とする請求項5に記載の分子ポンプ。
  8. 【請求項8】 ステータがポンプの筐体に断熱的に係止
    されているねじ溝真空ポンプ部を具備していることを特
    徴とする請求項5に記載の分子ポンプ。
  9. 【請求項9】 前記モータハウジングは、排気通路部か
    らの熱伝導を遮断する構造に形成されていることを特徴
    とする請求項3乃至請求項6のいずれか1に記載の分子
    ポンプ。
  10. 【請求項10】 前記排気通路部のプロセスガスを排出す
    るための排出口部はポンプの筐体の排気孔部内に該排気
    孔部の内壁と間隙を存して断熱的に挿通した排気内側管
    からなると共に、該排気内側管には加熱用ヒータを設置
    したことを特徴とする請求項9に記載の分子ポンプ。
  11. 【請求項11】 前記第1ねじシールはOリングを介して
    前記モータハウジングの外周部に摺動可能に外挿されて
    ポンプの筐体に断熱的に係止されたねじ溝真空ポンプ部
    のステータに係着されていると共に、該第1ねじシール
    は該ステータからの熱伝導によって該ステータとほぼ同
    じ温度となるように形成されていることを特徴とする請
    求項4に記載の分子ポンプ。
  12. 【請求項12】 前記ロータ及びステータを予熱するため
    の予熱用ガス負荷又はプロセスガス負荷は、前記駆動用
    モータの回転速度から検出できるように形成されている
    ことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の分子ポ
    ンプ。
  13. 【請求項13】 前記ロータ駆動用モータはブラシレスの
    DCモータとすると共に、該モータの最大電流値が流れ
    るときの該モータの回転速度は該モータの定格回転速度
    の30乃至70%以下の範囲とし、それ以上の該モータ
    の回転速度においては該モータへ供給される電流値が該
    モータの回転速度の増大と供に減少するように制御され
    ていることを特徴とする請求項12に記載の分子ポン
    プ。
  14. 【請求項14】 前記ガス流量切り替え機構は、並列接続
    されているパージガス用オリフィスを有する第1管路と
    予熱ガス用オリフィスとを有する第2管路と、所定時間
    だけ該第1管路へのガスの流れから該第2管路へのガス
    の流れに切り替える弁とからなることを特徴とする請求
    項6に記載の分子ポンプ。
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Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11193793A (ja) * 1997-12-26 1999-07-21 Ebara Corp ターボ分子ポンプ
JP2002147365A (ja) * 2000-11-08 2002-05-22 Osaka Vacuum Ltd 真空排気系の排気圧制御装置
JP2002541405A (ja) * 1999-03-30 2002-12-03 ライボルト ヴァークウム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 遮断ガス弁装置
JP2004076622A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプのシール構造
US6926493B1 (en) 1997-06-27 2005-08-09 Ebara Corporation Turbo-molecular pump
JP2010096007A (ja) * 2008-10-14 2010-04-30 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプのロータ
JPWO2011024528A1 (ja) * 2009-08-28 2013-01-24 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び真空ポンプに使用される部材
WO2014021096A1 (ja) * 2012-07-31 2014-02-06 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
WO2014038416A1 (ja) 2012-09-06 2014-03-13 エドワーズ株式会社 固定側部材及び真空ポンプ
WO2015015902A1 (ja) * 2013-07-31 2015-02-05 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
WO2015118897A1 (ja) * 2014-02-04 2015-08-13 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
WO2015122215A1 (ja) * 2014-02-14 2015-08-20 エドワーズ株式会社 真空ポンプ、及びこの真空ポンプに用いられる断熱スペーサ
WO2015151679A1 (ja) * 2014-03-31 2015-10-08 エドワーズ株式会社 排気口部品、および真空ポンプ
JP2015229936A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 株式会社島津製作所 真空ポンプ
CN105275835A (zh) * 2014-06-03 2016-01-27 株式会社岛津制作所 真空泵以及真空泵的制造方法
WO2017014022A1 (ja) * 2015-07-23 2017-01-26 エドワーズ株式会社 排気システム
WO2021010347A1 (ja) * 2019-07-17 2021-01-21 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
JP2021055673A (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
CN114776608A (zh) * 2021-01-22 2022-07-22 株式会社岛津制作所 真空泵
CN116867976A (zh) * 2021-03-05 2023-10-10 埃地沃兹日本有限公司 真空泵及真空排气装置
EP4585807A1 (de) * 2025-05-15 2025-07-16 Pfeiffer Vacuum Technology AG Vakuumsystem und verfahren zum betreiben eines solchen
EP4589152A1 (de) * 2025-05-28 2025-07-23 Pfeiffer Vacuum Technology AG Vakuumpumpe und verfahren zum betrieb einer vakuumpumpe
EP4644703A1 (de) * 2025-08-27 2025-11-05 Pfeiffer Vacuum Technology AG Turbomolekularpumpe

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7187186B2 (ja) * 2018-06-27 2022-12-12 エドワーズ株式会社 真空ポンプ、ステータコラム、ベースおよび真空ポンプの排気システム

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5968196U (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 株式会社大阪真空機器製作所 タ−ボ分子ポンプ
JPS6045792A (ja) * 1983-08-22 1985-03-12 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk タ−ボ分子ポンプ
JPS6143297A (ja) * 1984-08-06 1986-03-01 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk 分子ポンプのガスパ−ジ装置
JPS61104192A (ja) * 1984-10-29 1986-05-22 Tokuda Seisakusho Ltd 分子ポンプ
JPS6447600U (ja) * 1987-09-16 1989-03-23
JPH02146291A (ja) * 1988-11-28 1990-06-05 Hitachi Ltd 真空ポンプ
JPH0313495U (ja) * 1989-06-21 1991-02-12
JPH0643293U (ja) * 1992-11-24 1994-06-07 セイコー精機株式会社 ターボ分子ポンプ装置
JPH06159287A (ja) * 1992-11-30 1994-06-07 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ターボ分子ポンプ
JPH074384A (ja) * 1993-06-17 1995-01-10 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk 複合分子ポンプ
JPH0712087A (ja) * 1993-06-29 1995-01-17 Nec Yamaguchi Ltd 真空ポンプ
JPH0742693A (ja) * 1993-08-02 1995-02-10 Hitachi Ltd ドライ真空ポンプ
JPH08326687A (ja) * 1995-03-10 1996-12-10 Pfeiffer Vacuum Gmbh 冷却ガス機構を備えた分子真空ポンプ及びその作動方法

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5968196U (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 株式会社大阪真空機器製作所 タ−ボ分子ポンプ
JPS6045792A (ja) * 1983-08-22 1985-03-12 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk タ−ボ分子ポンプ
JPS6143297A (ja) * 1984-08-06 1986-03-01 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk 分子ポンプのガスパ−ジ装置
JPS61104192A (ja) * 1984-10-29 1986-05-22 Tokuda Seisakusho Ltd 分子ポンプ
JPS6447600U (ja) * 1987-09-16 1989-03-23
JPH02146291A (ja) * 1988-11-28 1990-06-05 Hitachi Ltd 真空ポンプ
JPH0313495U (ja) * 1989-06-21 1991-02-12
JPH0643293U (ja) * 1992-11-24 1994-06-07 セイコー精機株式会社 ターボ分子ポンプ装置
JPH06159287A (ja) * 1992-11-30 1994-06-07 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ターボ分子ポンプ
JPH074384A (ja) * 1993-06-17 1995-01-10 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk 複合分子ポンプ
JPH0712087A (ja) * 1993-06-29 1995-01-17 Nec Yamaguchi Ltd 真空ポンプ
JPH0742693A (ja) * 1993-08-02 1995-02-10 Hitachi Ltd ドライ真空ポンプ
JPH08326687A (ja) * 1995-03-10 1996-12-10 Pfeiffer Vacuum Gmbh 冷却ガス機構を備えた分子真空ポンプ及びその作動方法

Cited By (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6926493B1 (en) 1997-06-27 2005-08-09 Ebara Corporation Turbo-molecular pump
JPH11193793A (ja) * 1997-12-26 1999-07-21 Ebara Corp ターボ分子ポンプ
JP2002541405A (ja) * 1999-03-30 2002-12-03 ライボルト ヴァークウム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 遮断ガス弁装置
JP2002147365A (ja) * 2000-11-08 2002-05-22 Osaka Vacuum Ltd 真空排気系の排気圧制御装置
JP2004076622A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプのシール構造
JP2010096007A (ja) * 2008-10-14 2010-04-30 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプのロータ
JPWO2011024528A1 (ja) * 2009-08-28 2013-01-24 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び真空ポンプに使用される部材
WO2014021096A1 (ja) * 2012-07-31 2014-02-06 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
JP2014029129A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Edwards Kk 真空ポンプ
WO2014038416A1 (ja) 2012-09-06 2014-03-13 エドワーズ株式会社 固定側部材及び真空ポンプ
US20150240822A1 (en) * 2012-09-06 2015-08-27 Edwards Japan Limited Stator-side member and vacuum pump
KR20150053747A (ko) 2012-09-06 2015-05-18 에드워즈 가부시키가이샤 고정측 부재 및 진공 펌프
US10704555B2 (en) * 2012-09-06 2020-07-07 Edwards Japan Limited Stator-side member and vacuum pump
WO2015015902A1 (ja) * 2013-07-31 2015-02-05 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
US10954962B2 (en) 2013-07-31 2021-03-23 Edwards Japan Limited Vacuum pump
CN105358835A (zh) * 2013-07-31 2016-02-24 埃地沃兹日本有限公司 真空泵
CN106415020B (zh) * 2014-02-04 2022-02-01 埃地沃兹日本有限公司 真空泵
US11009040B2 (en) 2014-02-04 2021-05-18 Edwards Japan Limited Vacuum pump
JP2015148151A (ja) * 2014-02-04 2015-08-20 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
WO2015118897A1 (ja) * 2014-02-04 2015-08-13 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
CN106415020A (zh) * 2014-02-04 2017-02-15 埃地沃兹日本有限公司 真空泵
EP3104015A4 (en) * 2014-02-04 2017-08-30 Edwards Japan Limited Vacuum pump
KR20160117414A (ko) * 2014-02-04 2016-10-10 에드워즈 가부시키가이샤 진공 펌프
EP3106669A4 (en) * 2014-02-14 2017-09-13 Edwards Japan Limited Vacuum pump and heat insulating spacer used for said vacuum pump
WO2015122215A1 (ja) * 2014-02-14 2015-08-20 エドワーズ株式会社 真空ポンプ、及びこの真空ポンプに用いられる断熱スペーサ
KR20160119758A (ko) * 2014-02-14 2016-10-14 에드워즈 가부시키가이샤 진공 펌프, 및 이 진공 펌프에 이용되는 단열 스페이서
CN105940224A (zh) * 2014-02-14 2016-09-14 埃地沃兹日本有限公司 真空泵及在该真空泵中使用的隔热间隔件
JP2015151932A (ja) * 2014-02-14 2015-08-24 エドワーズ株式会社 真空ポンプ、及びこの真空ポンプに用いられる断熱スペーサ
CN105940224B (zh) * 2014-02-14 2019-01-04 埃地沃兹日本有限公司 真空泵及在该真空泵中使用的隔热间隔件
US10495109B2 (en) 2014-02-14 2019-12-03 Edwards Japan Limited Vacuum pump and heat insulating spacer used in vacuum pump
WO2015151679A1 (ja) * 2014-03-31 2015-10-08 エドワーズ株式会社 排気口部品、および真空ポンプ
CN106460856A (zh) * 2014-03-31 2017-02-22 埃地沃兹日本有限公司 排气口零件及真空泵
US11009044B2 (en) 2014-03-31 2021-05-18 Edwards Japan Limited Outlet port part and vacuum pump
JP2015229936A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 株式会社島津製作所 真空ポンプ
CN105275835A (zh) * 2014-06-03 2016-01-27 株式会社岛津制作所 真空泵以及真空泵的制造方法
US12276283B2 (en) 2015-07-23 2025-04-15 Edwards Japan Limited Integrated connector between first and second vacuum pumps creating a vapor phase region environment
WO2017014022A1 (ja) * 2015-07-23 2017-01-26 エドワーズ株式会社 排気システム
JP2017025793A (ja) * 2015-07-23 2017-02-02 エドワーズ株式会社 排気システム
US11802568B2 (en) 2019-07-17 2023-10-31 Edwards Japan Limited Vacuum thread-groove pump with thread exhaust channels
WO2021010347A1 (ja) * 2019-07-17 2021-01-21 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
JP2021017810A (ja) * 2019-07-17 2021-02-15 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
CN114026335A (zh) * 2019-07-17 2022-02-08 埃地沃兹日本有限公司 真空泵
US11994137B2 (en) 2019-09-30 2024-05-28 Edwards Japan Limited Vacuum pump
JP2021055673A (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
CN114364880A (zh) * 2019-09-30 2022-04-15 埃地沃兹日本有限公司 真空泵
WO2021065584A1 (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
TWI780855B (zh) * 2021-01-22 2022-10-11 日商島津製作所股份有限公司 真空泵
CN114776608B (zh) * 2021-01-22 2023-09-08 株式会社岛津制作所 真空泵
CN114776608A (zh) * 2021-01-22 2022-07-22 株式会社岛津制作所 真空泵
US11927198B2 (en) 2021-01-22 2024-03-12 Shimadzu Corporation Vacuum pump
CN116867976A (zh) * 2021-03-05 2023-10-10 埃地沃兹日本有限公司 真空泵及真空排气装置
EP4303447A4 (en) * 2021-03-05 2025-01-08 Edwards Japan Limited VACUUM PUMP AND VACUUM OUTLET DEVICE
US12467464B2 (en) 2021-03-05 2025-11-11 Edwards Japan Limited Vacuum pump and vacuum exhaust apparatus
EP4585807A1 (de) * 2025-05-15 2025-07-16 Pfeiffer Vacuum Technology AG Vakuumsystem und verfahren zum betreiben eines solchen
EP4589152A1 (de) * 2025-05-28 2025-07-23 Pfeiffer Vacuum Technology AG Vakuumpumpe und verfahren zum betrieb einer vakuumpumpe
EP4644703A1 (de) * 2025-08-27 2025-11-05 Pfeiffer Vacuum Technology AG Turbomolekularpumpe

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