JPH09320996A5 - - Google Patents
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- JPH09320996A5 JPH09320996A5 JP1997035078A JP3507897A JPH09320996A5 JP H09320996 A5 JPH09320996 A5 JP H09320996A5 JP 1997035078 A JP1997035078 A JP 1997035078A JP 3507897 A JP3507897 A JP 3507897A JP H09320996 A5 JPH09320996 A5 JP H09320996A5
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体装置及びその製造方法に係り、例えば、加速度や圧力等の力学量を検出するための半導体力学量センサ及びその製造に好適なものである。
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体装置及びその製造方法に係り、例えば、加速度や圧力等の力学量を検出するための半導体力学量センサ及びその製造に好適なものである。
【0016】
このダイシング後に金属ステムの上に半田により前記金属膜を介して台座が接合される。このとき、接合部に金属膜が残っており接合強度の向上が図られる。また、請求項9に記載の発明によれば断面半円状の溝をダイシングライン上に形成すし、この溝にダイシングブレードの側面がくる位置にて、半導体ウェハをダイシングカットして各チップに裁断するので、請求項1記載の発明同様の効果を得る。
請求項10記載の発明によれば半導体ウェハは、裏面におけるダイシングライン上に側壁が斜状の溝を備えるので、ダイシングラインに沿って裁断されて複数のシリコンチップに分割される際、ダイシング端部でのクラックや欠けが生じにくい。
請求項11記載の発明によれば、四角環状の枠部は外周面の裏面に斜状面を備えるので、ハンドリングの際に枠部が折れたり組付け時における接着不良することを回避できる。
このダイシング後に金属ステムの上に半田により前記金属膜を介して台座が接合される。このとき、接合部に金属膜が残っており接合強度の向上が図られる。また、請求項9に記載の発明によれば断面半円状の溝をダイシングライン上に形成すし、この溝にダイシングブレードの側面がくる位置にて、半導体ウェハをダイシングカットして各チップに裁断するので、請求項1記載の発明同様の効果を得る。
請求項10記載の発明によれば半導体ウェハは、裏面におけるダイシングライン上に側壁が斜状の溝を備えるので、ダイシングラインに沿って裁断されて複数のシリコンチップに分割される際、ダイシング端部でのクラックや欠けが生じにくい。
請求項11記載の発明によれば、四角環状の枠部は外周面の裏面に斜状面を備えるので、ハンドリングの際に枠部が折れたり組付け時における接着不良することを回避できる。
Claims (11)
- ダイシング前の半導体ウェハにおけるダイシング用粘着シートの貼付面に、側壁が斜状の溝をダイシングライン上に形成する工程と、
前記半導体ウェハにダイシング用粘着シートを貼り付けて、前記溝の斜状面にダイシングブレードの側面がくる位置にて、前記半導体ウェハをダイシングカットして各チップに裁断する工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の一部に、歪みゲージが配置された薄肉部を有する半導体センサを製造する方法であって、
ダイシング前の半導体ウェハにおけるダイシング用粘着シートの貼付面に、側壁が斜状の溝をダイシングライン上に形成する工程と、
前記半導体ウェハにダイシング用粘着シートを貼り付けて、前記溝の斜状面にダイシングブレードの側面がくる位置にて、前記半導体ウェハをダイシングカットして各チップに裁断する工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 異方性エッチングを用いて、側壁が斜状の溝と薄肉部とを同時に形成する請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基板の一部に厚肉の枠部を有するとともに、当該枠部はダイシング後に接着剤を介して基台上に配置されるものである請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体センサは半導体加速度センサである請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 枠部の幅は1mm以下である請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 台座の上に半導体基板が接合された半導体装置の製造方法であって、
ダイシング前の台座形成用板材におけるダイシング用粘着シートの貼付面に、側壁が斜状の溝をダイシングライン上に形成する工程と、
半導体ウェハと前記台座形成用板材とが接合された状態において、前記台座形成用板材にダイシング用粘着シートを貼り付けて、前記溝の斜状面にダイシングブレードの側面がくる位置にて、前記半導体ウェハ及び台座形成用板材をダイシングカットして各チップに裁断する工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - ダイシングは、台座形成用板材におけるダイシング用粘着シートの貼付面に金属膜が形成された状態で行われるものであり、ダイシング後に金属ステムの上に半田により前記金属膜を介して台座が接合される請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
- ダイシング前の半導体ウェハにおけるダイシング用粘着シートの貼付面に、断面半円状の溝をダイシングライン上に形成する工程と、
前記半導体ウェハにダイシング用粘着シートを貼り付けて、前記溝にダイシングブレードの側面がくる位置にて、前記半導体ウェハをダイシングカットして各チップに裁断する工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 四角環状の枠部、及び前記四角環状の枠部の内側に配置されて薄肉の梁部を介して接続された重り部、を有する複数のシリコンチップが表面に形成され、隣接する前記シリコンチップ相互間にダイシングラインが規定される半導体ウェハと、
前記半導体ウェハの裏面に貼り付けられたダイシング用粘着シートと
を有し、前記半導体ウェハは、前記裏面における前記ダイシングライン上に、側壁が斜状の溝を備えることを特徴とする半導体力学量センサ。 - 四角環状の枠部、及び前記四角環状の枠部の内側に配置されて薄肉の梁部を介して接続された重り部、を有する半導体力学量センサであって、前記四角環状の枠部は外周面の裏面に斜状面を備えることを特徴とする半導体力学量センサ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9035078A JPH09320996A (ja) | 1996-03-29 | 1997-02-19 | 半導体装置の製造方法 |
| US08/825,456 US5998234A (en) | 1996-03-29 | 1997-03-28 | Method of producing semiconductor device by dicing |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7631696 | 1996-03-29 | ||
| JP8-76316 | 1996-03-29 | ||
| JP9035078A JPH09320996A (ja) | 1996-03-29 | 1997-02-19 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320996A JPH09320996A (ja) | 1997-12-12 |
| JPH09320996A5 true JPH09320996A5 (ja) | 2004-07-15 |
Family
ID=26373992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9035078A Pending JPH09320996A (ja) | 1996-03-29 | 1997-02-19 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH09320996A (ja) |
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| JP2003197569A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体チップの製造方法 |
| US7051426B2 (en) * | 2002-01-31 | 2006-05-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method making a cutting disk into of a substrate |
| US20030140496A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-07-31 | Shen Buswell | Methods and systems for forming slots in a semiconductor substrate |
| US6911155B2 (en) * | 2002-01-31 | 2005-06-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Methods and systems for forming slots in a substrate |
| US6806552B2 (en) * | 2002-02-21 | 2004-10-19 | Altera, Corp. | Integrated inductive circuits |
| AU2003231967B2 (en) | 2002-03-11 | 2006-10-12 | Beaver-Visitec International (Us), Inc. | System and method for the manufacture of surgical blades |
| US7387742B2 (en) | 2002-03-11 | 2008-06-17 | Becton, Dickinson And Company | Silicon blades for surgical and non-surgical use |
| JP2003338587A (ja) * | 2002-05-21 | 2003-11-28 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| US6872599B1 (en) * | 2002-12-10 | 2005-03-29 | National Semiconductor Corporation | Enhanced solder joint strength and ease of inspection of leadless leadframe package (LLP) |
| US20050036004A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | Barbara Horn | Methods and systems for conditioning slotted substrates |
| WO2005027728A2 (en) | 2003-09-17 | 2005-03-31 | Becton, Dickinson And Company | Method for creating trenches in silicon wafers using a router |
| US7129114B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-10-31 | Micron Technology, Inc. | Methods relating to singulating semiconductor wafers and wafer scale assemblies |
| US7396484B2 (en) | 2004-04-30 | 2008-07-08 | Becton, Dickinson And Company | Methods of fabricating complex blade geometries from silicon wafers and strengthening blade geometries |
| JP2006062002A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の個片化方法 |
| JP2006108343A (ja) * | 2004-10-05 | 2006-04-20 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP5289666B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2013-09-11 | 住友電気工業株式会社 | センサチップ連結体及びその製造方法 |
| JP4372115B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2009-11-25 | パナソニック株式会社 | 半導体装置の製造方法、および半導体モジュールの製造方法 |
| US7884445B2 (en) * | 2006-11-22 | 2011-02-08 | Applied Nanostructures, Inc. | Semiconductor device in wafer assembly |
| JP5448430B2 (ja) * | 2007-12-18 | 2014-03-19 | 古河電気工業株式会社 | ウエハ貼着用貼着シートおよびウエハの加工方法 |
| WO2009078440A1 (ja) * | 2007-12-18 | 2009-06-25 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | ウエハ貼着用粘着シートおよびウエハの加工方法 |
| JP5276035B2 (ja) * | 2009-04-13 | 2013-08-28 | 日本電波工業株式会社 | 圧電デバイスの製造方法及び圧電デバイス |
| JP2009188428A (ja) * | 2009-05-25 | 2009-08-20 | Panasonic Corp | 半導体基板 |
| US9323010B2 (en) | 2012-01-10 | 2016-04-26 | Invensas Corporation | Structures formed using monocrystalline silicon and/or other materials for optical and other applications |
| US8757897B2 (en) | 2012-01-10 | 2014-06-24 | Invensas Corporation | Optical interposer |
| WO2013160989A1 (ja) | 2012-04-23 | 2013-10-31 | 株式会社日立製作所 | ひずみセンサチップ実装構造体、ひずみセンサチップおよびひずみセンサチップ実装構造体の製造方法 |
| US9346273B2 (en) * | 2013-05-31 | 2016-05-24 | Stmicroelectronics, Inc. | Methods of making an inkjet print head by sawing discontinuous slotted recesses |
| JP5637331B1 (ja) * | 2013-07-01 | 2014-12-10 | 富士ゼロックス株式会社 | 半導体片の製造方法、半導体片を含む回路基板および画像形成装置 |
| DE102015104410B4 (de) * | 2015-03-24 | 2018-09-13 | Tdk-Micronas Gmbh | Drucksensor |
| EP3171400A1 (en) * | 2015-11-20 | 2017-05-24 | Nexperia B.V. | Semiconductor device and method of making a semiconductor device |
| JP2017120197A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | アズビル株式会社 | 熱式流量センサ |
| US10595951B2 (en) * | 2016-08-15 | 2020-03-24 | Covidien Lp | Force sensor for surgical devices |
| CN112549331B (zh) * | 2019-09-10 | 2024-03-15 | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 | 方硅锭及其制备方法、硅片及其制备方法 |
| CN116344446A (zh) * | 2023-04-10 | 2023-06-27 | 合肥矽迈微电子科技有限公司 | 一种芯片封装体分离切割方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51149784A (en) * | 1975-06-17 | 1976-12-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Solid state light emission device |
| JPS604010A (ja) * | 1983-06-23 | 1985-01-10 | 日本電気株式会社 | 半導体素子の分割方法 |
| US5196378A (en) * | 1987-12-17 | 1993-03-23 | Texas Instruments Incorporated | Method of fabricating an integrated circuit having active regions near a die edge |
| JPH02305450A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-19 | Mitsubishi Electric Corp | 加速度センサの製造方法 |
| US5000811A (en) * | 1989-11-22 | 1991-03-19 | Xerox Corporation | Precision buttable subunits via dicing |
| JPH0485750A (ja) * | 1990-07-28 | 1992-03-18 | Sony Corp | 磁気再生装置 |
| JPH04107155A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-08 | Alps Electric Co Ltd | サーマルヘッドの製造方法 |
| US5421213A (en) * | 1990-10-12 | 1995-06-06 | Okada; Kazuhiro | Multi-dimensional force detector |
| US5219796A (en) * | 1991-11-04 | 1993-06-15 | Xerox Corporation | Method of fabricating image sensor dies and the like for use in assembling arrays |
| US5421956A (en) * | 1991-11-20 | 1995-06-06 | Nippondenso Co., Ltd. | Method of fabricating an integrated pressure sensor |
-
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