JPH0942685A - 加熱調理装置 - Google Patents
加熱調理装置Info
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- JPH0942685A JPH0942685A JP7194560A JP19456095A JPH0942685A JP H0942685 A JPH0942685 A JP H0942685A JP 7194560 A JP7194560 A JP 7194560A JP 19456095 A JP19456095 A JP 19456095A JP H0942685 A JPH0942685 A JP H0942685A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 冷凍食品の解凍や、調理済み食品などを再加
熱するとき、簡単な構成で、食品の中心と表面との温度
差の小さい良好な仕上がりが得られる加熱調理を提供す
ることを目的とする。 【構成】 輻射加熱手段４から輻射された輻射エネルギ
ーを、赤外線領域で透過率の小さい非結晶化ガラスのよ
うな輻射エネルギー透過手段１０に透過させた後、被加
熱物３に照射する構成とした。この構成により、近赤外
線の波長領域の輻射エネルギーは大部分が輻射エネルギ
ー透過手段１０を透過し、透過後の輻射エネルギーは近
赤外線を中心とした波長分布を持つものが大部分とな
り、被加熱物３の表面から内部約１０〜２０ｍｍの深さ
まで浸透し、食品の中心と表面との温度差の小さい良好
な仕上がりの解凍・再加熱が実現できる。
熱するとき、簡単な構成で、食品の中心と表面との温度
差の小さい良好な仕上がりが得られる加熱調理を提供す
ることを目的とする。 【構成】 輻射加熱手段４から輻射された輻射エネルギ
ーを、赤外線領域で透過率の小さい非結晶化ガラスのよ
うな輻射エネルギー透過手段１０に透過させた後、被加
熱物３に照射する構成とした。この構成により、近赤外
線の波長領域の輻射エネルギーは大部分が輻射エネルギ
ー透過手段１０を透過し、透過後の輻射エネルギーは近
赤外線を中心とした波長分布を持つものが大部分とな
り、被加熱物３の表面から内部約１０〜２０ｍｍの深さ
まで浸透し、食品の中心と表面との温度差の小さい良好
な仕上がりの解凍・再加熱が実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、冷凍食品の解凍や、調
理済み食品などを再加熱する加熱調理装置に関するもの
である。
理済み食品などを再加熱する加熱調理装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来の冷凍食品の解凍方法や、調理済み
食品の再加熱は、常温で放置する自然解凍や流水につけ
る方法、あるいは、電子レンジによって解凍・加熱する
方法が多く用いられている。
食品の再加熱は、常温で放置する自然解凍や流水につけ
る方法、あるいは、電子レンジによって解凍・加熱する
方法が多く用いられている。
【０００３】また、輻射ヒーターによって加熱しつつ食
品表面を冷却し、食品の中心と表面との温度差を小さく
し、均質な解凍を可能にしたものが特開平１−３０９６
６９号公報に開示されている。
品表面を冷却し、食品の中心と表面との温度差を小さく
し、均質な解凍を可能にしたものが特開平１−３０９６
６９号公報に開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、自然解
凍や流水による解凍では、食品の温度伝導率が小さいた
め、中心まで熱伝導によって解凍するのに長時間要す
る。
凍や流水による解凍では、食品の温度伝導率が小さいた
め、中心まで熱伝導によって解凍するのに長時間要す
る。
【０００５】また電子レンジによる解凍再加熱では、例
えば２４５０ＭＨｚのマイクロ波を使用する場合、オー
ブン内部では原理的に定在波の腹と節が約１２ｃｍおき
にできるので、それに応じた加熱むらができ、良好な仕
上がりを得ることが難しかった。
えば２４５０ＭＨｚのマイクロ波を使用する場合、オー
ブン内部では原理的に定在波の腹と節が約１２ｃｍおき
にできるので、それに応じた加熱むらができ、良好な仕
上がりを得ることが難しかった。
【０００６】さらに、輻射ヒーターによって加熱しつつ
食品表面を冷却する方法は冷凍機が必要など装置が複雑
になり高価になってしまうという問題があった。
食品表面を冷却する方法は冷凍機が必要など装置が複雑
になり高価になってしまうという問題があった。
【０００７】本発明は上記課題を解決するもので、簡単
な構成で、食品の中心と表面の温度との温度との差の小
さい良好な仕上がりの解凍・再加熱の実現を図ることを
目的とする。
な構成で、食品の中心と表面の温度との温度との差の小
さい良好な仕上がりの解凍・再加熱の実現を図ることを
目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、輻射波長が０．７μｍ以上１．９μｍ以下を
中心とした近赤外線の波長分布を持つ近赤外線輻射手段
と、前記近赤外線輻射手段を被加熱物との間に距離を保
つように支持し調理空間を形成する支持台からなる構成
とした。
するため、輻射波長が０．７μｍ以上１．９μｍ以下を
中心とした近赤外線の波長分布を持つ近赤外線輻射手段
と、前記近赤外線輻射手段を被加熱物との間に距離を保
つように支持し調理空間を形成する支持台からなる構成
とした。
【０００９】また、輻射エネルギーを発生する輻射加熱
手段と、反射率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波
長が０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高
い反射手段と、前記輻射加熱手段と前記反射手段を被加
熱物との間に距離を保つように支持し調理空間を形成す
る支持台からなり、前記輻射加熱手段で発生した輻射エ
ネルギーを前記反射手段に反射させて被加熱物を加熱す
る構成とした。
手段と、反射率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波
長が０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高
い反射手段と、前記輻射加熱手段と前記反射手段を被加
熱物との間に距離を保つように支持し調理空間を形成す
る支持台からなり、前記輻射加熱手段で発生した輻射エ
ネルギーを前記反射手段に反射させて被加熱物を加熱す
る構成とした。
【００１０】さらに、輻射エネルギーを発生する輻射加
熱手段と、透過率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも
波長が０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が
高い輻射エネルギー透過手段と、前記輻射加熱手段と前
記輻射エネルギー透過手段手段を被加熱物との間に距離
を保つように支持し調理空間を形成する支持台からな
り、前記輻射加熱手段で発生した輻射エネルギーを前記
輻射エネルギー透過手段で透過させて被加熱物を加熱す
る構成とした。
熱手段と、透過率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも
波長が０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が
高い輻射エネルギー透過手段と、前記輻射加熱手段と前
記輻射エネルギー透過手段手段を被加熱物との間に距離
を保つように支持し調理空間を形成する支持台からな
り、前記輻射加熱手段で発生した輻射エネルギーを前記
輻射エネルギー透過手段で透過させて被加熱物を加熱す
る構成とした。
【００１１】さらに、反射手段をの温度を低下させる反
射手段冷却手段、または輻射エネルギー透過手段の温度
を低下させる透過手段冷却手段を設けた構成とした。
射手段冷却手段、または輻射エネルギー透過手段の温度
を低下させる透過手段冷却手段を設けた構成とした。
【００１２】また、食品等の被加熱物を載置する透過率
が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μｍ
以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い食品載置台
と、前記食品載置台を通して被加熱物に輻射エネルギー
を供給する輻射加熱手段と、輻射波長が０．７μｍ以上
１．９μｍ以下を中心とした近赤外線の波長分布を持つ
近赤外線輻射手段と、前記近赤外線輻射手段を被加熱物
との間に距離を保つように支持し調理空間を形成する支
持台からなる構成とした。
が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μｍ
以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い食品載置台
と、前記食品載置台を通して被加熱物に輻射エネルギー
を供給する輻射加熱手段と、輻射波長が０．７μｍ以上
１．９μｍ以下を中心とした近赤外線の波長分布を持つ
近赤外線輻射手段と、前記近赤外線輻射手段を被加熱物
との間に距離を保つように支持し調理空間を形成する支
持台からなる構成とした。
【００１３】さらに、食品等の被加熱物の周囲を透過率
が０以上１未満の材料からなる防眩手段で覆った構成と
した。
が０以上１未満の材料からなる防眩手段で覆った構成と
した。
【００１４】
【作用】本発明は上記構成によって以下の作用をはた
す。
す。
【００１５】熱エネルギー成分の多い輻射波長が０．７
μｍ以上を中心とした近赤外線波長分布を持ち、かつ波
長が１．９μｍ以下を中心とした近赤外線の波長分布を
持つ近赤外線輻射手段用いるので、輻射エネルギーが食
品表面から約１０〜２０ｍｍの深さまで浸透し、食品表
面のみならず食品内部も加熱するので、短時間調理と、
食品の中心部と表面部の温度差を小さくした均一加熱を
実現する。
μｍ以上を中心とした近赤外線波長分布を持ち、かつ波
長が１．９μｍ以下を中心とした近赤外線の波長分布を
持つ近赤外線輻射手段用いるので、輻射エネルギーが食
品表面から約１０〜２０ｍｍの深さまで浸透し、食品表
面のみならず食品内部も加熱するので、短時間調理と、
食品の中心部と表面部の温度差を小さくした均一加熱を
実現する。
【００１６】また、輻射加熱手段から輻射される近赤外
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、反射
率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μ
ｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い反射手段に
反射させる構成によって、赤外線の波長領域の輻射エネ
ルギーは大部分が反射手段に吸収され、反射後の輻射エ
ネルギーは近赤外線を中心とした波長分布を持つものに
変換されるため、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを
使用しなくても短時間、均一加熱を実現する事ができ
る。
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、反射
率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μ
ｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い反射手段に
反射させる構成によって、赤外線の波長領域の輻射エネ
ルギーは大部分が反射手段に吸収され、反射後の輻射エ
ネルギーは近赤外線を中心とした波長分布を持つものに
変換されるため、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを
使用しなくても短時間、均一加熱を実現する事ができ
る。
【００１７】さらに、輻射加熱手段から輻射される近赤
外線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、透
過率が赤外線領域よりも近赤外線領域の方が高い輻射エ
ネルギー透過手段輻射加熱手段に透過させて被加熱物を
加熱する構成によって、赤外線の波長領域の輻射エネル
ギーは大部分が輻射エネルギー透過手段に吸収されるた
め、反射後の輻射エネルギーは近赤外線を中心とした波
長分布を持つものに変換され、特定の波長分布を持つ特
殊なヒータを使用しなくても短時間、均一加熱を実現す
る事ができるとともに、輻射加熱手段が輻射エネルギー
透過手段によってカバーされているため防汚、清掃性の
高い調理器が実現できる。
外線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、透
過率が赤外線領域よりも近赤外線領域の方が高い輻射エ
ネルギー透過手段輻射加熱手段に透過させて被加熱物を
加熱する構成によって、赤外線の波長領域の輻射エネル
ギーは大部分が輻射エネルギー透過手段に吸収されるた
め、反射後の輻射エネルギーは近赤外線を中心とした波
長分布を持つものに変換され、特定の波長分布を持つ特
殊なヒータを使用しなくても短時間、均一加熱を実現す
る事ができるとともに、輻射加熱手段が輻射エネルギー
透過手段によってカバーされているため防汚、清掃性の
高い調理器が実現できる。
【００１８】さらに、反射手段を温度を低下させる反射
手段冷却手段、または輻射エネルギー透過手段の温度を
低下させる透過手段冷却手段を設けた構成によって、反
射手段および輻射エネルギー透過手段に吸収された赤外
線の波長領域の輻射エネルギーによる、反射手段および
輻射エネルギー透過手段の温度上昇を抑え、２次輻射に
よる赤外線の発生を防止し、長時間の調理においても近
赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーによ
る均一な仕上がりの調理を実現できる。
手段冷却手段、または輻射エネルギー透過手段の温度を
低下させる透過手段冷却手段を設けた構成によって、反
射手段および輻射エネルギー透過手段に吸収された赤外
線の波長領域の輻射エネルギーによる、反射手段および
輻射エネルギー透過手段の温度上昇を抑え、２次輻射に
よる赤外線の発生を防止し、長時間の調理においても近
赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーによ
る均一な仕上がりの調理を実現できる。
【００１９】また、食品等の被加熱物を載置する透過率
が赤外線領域よりも近赤外線領域の方が高い食品載置台
を設けた構成によって、被加熱物の下面も、近赤外線を
中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーによる均一加
熱調理を実現できる。
が赤外線領域よりも近赤外線領域の方が高い食品載置台
を設けた構成によって、被加熱物の下面も、近赤外線を
中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーによる均一加
熱調理を実現できる。
【００２０】さらに、調理空間の周囲を防眩手段で覆っ
た構成によって、調理中被加熱物からの反射等による、
調理人への近赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エ
ネルギーを減少させ、調理中のの眩しさを防止し、快適
な調理環境を実現する。
た構成によって、調理中被加熱物からの反射等による、
調理人への近赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エ
ネルギーを減少させ、調理中のの眩しさを防止し、快適
な調理環境を実現する。
【００２１】
（実施例１）以下本発明の実施例を図１、図２を参照し
て説明する。
て説明する。
【００２２】図１において、１はメタルハライドランプ
やハロゲンヒーター等の近赤外線輻射手段であり、例え
ば線温度が３０００Ｋのハロゲンヒーターでは熱エネル
ギー成分が多く、食品の内部まで輻射エネルギーが浸透
する。輻射波長が１μｍを中心にした近赤外線の輻射ス
ペクトル分布を持つ。前記近赤外線輻射手段１は、支持
台２によって、食品等の被加熱物３との間に調理空間７
を形成するよう支持され、前記近赤外線輻射手段によっ
て発生した近赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エ
ネルギーは、被加熱物３の表面から内部約１０〜２０ｍ
ｍの深さまで浸透し、被加熱物を効率よく加熱する。
やハロゲンヒーター等の近赤外線輻射手段であり、例え
ば線温度が３０００Ｋのハロゲンヒーターでは熱エネル
ギー成分が多く、食品の内部まで輻射エネルギーが浸透
する。輻射波長が１μｍを中心にした近赤外線の輻射ス
ペクトル分布を持つ。前記近赤外線輻射手段１は、支持
台２によって、食品等の被加熱物３との間に調理空間７
を形成するよう支持され、前記近赤外線輻射手段によっ
て発生した近赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エ
ネルギーは、被加熱物３の表面から内部約１０〜２０ｍ
ｍの深さまで浸透し、被加熱物を効率よく加熱する。
【００２３】図２は炭水化物系の食品の一例として、５
％コーンスターチ水溶液を加熱ゲル化したものの、厚さ
２．４ｍｍ波長分布に対する輻射エネルギーの透過率を
示した物である。図から分かるように波長が１．９μｍ
を越える波長では輻射エネルギーはほとんど食品に対し
て透過しないため（透過率０％）食品表面に吸収され食
品表面付近のみを加熱するが、１．９μｍ以下の波長で
は、輻射エネルギーは食品９の表面から内部約１０〜２
０ｍｍの深さまで浸透し食品内部で熱エネルギーとなっ
て食品を内部から加熱する。なおこの傾向は肉等のタン
パク質系食品でも同様であり、特に波長が３μｍ以上で
は、輻射エネルギーは食品９の表面から０．５ｍｍの深
さで全て吸収し焦げが発生しやすい。従って、本実施例
の構成の加熱調理器によって被加熱物の中心部と表面部
の温度差を小さくした均一加熱を実現するとともに、短
時間で解凍・再加熱調理を実現できる。
％コーンスターチ水溶液を加熱ゲル化したものの、厚さ
２．４ｍｍ波長分布に対する輻射エネルギーの透過率を
示した物である。図から分かるように波長が１．９μｍ
を越える波長では輻射エネルギーはほとんど食品に対し
て透過しないため（透過率０％）食品表面に吸収され食
品表面付近のみを加熱するが、１．９μｍ以下の波長で
は、輻射エネルギーは食品９の表面から内部約１０〜２
０ｍｍの深さまで浸透し食品内部で熱エネルギーとなっ
て食品を内部から加熱する。なおこの傾向は肉等のタン
パク質系食品でも同様であり、特に波長が３μｍ以上で
は、輻射エネルギーは食品９の表面から０．５ｍｍの深
さで全て吸収し焦げが発生しやすい。従って、本実施例
の構成の加熱調理器によって被加熱物の中心部と表面部
の温度差を小さくした均一加熱を実現するとともに、短
時間で解凍・再加熱調理を実現できる。
【００２４】（実施例２）以下本発明の実施例を図３か
ら図５を参照して説明する。
ら図５を参照して説明する。
【００２５】図３、図４において、４は近赤外線〜赤外
線の波長範囲をもった輻射エネルギーを輻射する表面温
度が８００℃程度のヒーターのような輻射加熱手段であ
り、前記輻射加熱手段４から輻射された輻射エネルギー
は、図５に示すような波長が３μｍ以上の赤外線領域よ
りも波長が０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の
方が高い反射率を持つアルマイト処理鋼板のような反射
手段５に反射させ、食品等の被加熱物３照射させる構成
となっている。
線の波長範囲をもった輻射エネルギーを輻射する表面温
度が８００℃程度のヒーターのような輻射加熱手段であ
り、前記輻射加熱手段４から輻射された輻射エネルギー
は、図５に示すような波長が３μｍ以上の赤外線領域よ
りも波長が０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の
方が高い反射率を持つアルマイト処理鋼板のような反射
手段５に反射させ、食品等の被加熱物３照射させる構成
となっている。
【００２６】輻射加熱手段４から輻射された近赤外線〜
赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは反射手段５
に輻射され、３μｍの波長付近の赤外線の波長領域の輻
射エネルギー８は大部分が反射手段５に吸収され、１μ
ｍの波長付近の近赤外線の波長領域の輻射エネルギー９
は大部分が反射手段５によって反射され、反射後の輻射
エネルギーは近赤外線を中心とした波長分布を持つもの
が大部分となり、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを
使用しなくても実施例１のような短時間、均一加熱を実
現する事ができる。
赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは反射手段５
に輻射され、３μｍの波長付近の赤外線の波長領域の輻
射エネルギー８は大部分が反射手段５に吸収され、１μ
ｍの波長付近の近赤外線の波長領域の輻射エネルギー９
は大部分が反射手段５によって反射され、反射後の輻射
エネルギーは近赤外線を中心とした波長分布を持つもの
が大部分となり、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを
使用しなくても実施例１のような短時間、均一加熱を実
現する事ができる。
【００２７】（実施例３）以下本発明の実施例を図６か
ら図８を参照して説明する。
ら図８を参照して説明する。
【００２８】図６、図７において、４は近赤外線〜赤外
線の波長範囲を持った輻射エネルギーを輻射する表面温
度が８００℃程度のヒーターの様な輻射加熱手段であ
り、前記輻射加熱手段４から輻射された輻射エネルギー
は、図８に示すような３μｍ付近の赤外線領域で透過率
の小さい非結晶化ガラスのような輻射エネルギー透過手
段１０に透過させた後、食品等の被加熱物３照射させる
構成となっている。
線の波長範囲を持った輻射エネルギーを輻射する表面温
度が８００℃程度のヒーターの様な輻射加熱手段であ
り、前記輻射加熱手段４から輻射された輻射エネルギー
は、図８に示すような３μｍ付近の赤外線領域で透過率
の小さい非結晶化ガラスのような輻射エネルギー透過手
段１０に透過させた後、食品等の被加熱物３照射させる
構成となっている。
【００２９】輻射加熱手段から輻射された近赤外線〜赤
外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは透過手段１０
に輻射され、３μｍの波長付近の赤外線の波長領域の輻
射エネルギー８は大部分が輻射エネルギー透過手段１０
に吸収され、１μｍの波長付近の近赤外線の波長領域の
輻射エネルギー９は大部分が輻射エネルギー透過手段１
０を透過し、透過後の輻射エネルギーは０．７μｍ以上
３μｍ未満の近赤外線を中心とした波長分布を持つもの
が大部分となり、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを
使用しなくても実施例１のような短時間、均一加熱を実
現する事ができる。また、輻射加熱手段４が輻射エネル
ギー透過手段１０によってカバーされているため防汚、
清掃性も良い。
外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは透過手段１０
に輻射され、３μｍの波長付近の赤外線の波長領域の輻
射エネルギー８は大部分が輻射エネルギー透過手段１０
に吸収され、１μｍの波長付近の近赤外線の波長領域の
輻射エネルギー９は大部分が輻射エネルギー透過手段１
０を透過し、透過後の輻射エネルギーは０．７μｍ以上
３μｍ未満の近赤外線を中心とした波長分布を持つもの
が大部分となり、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを
使用しなくても実施例１のような短時間、均一加熱を実
現する事ができる。また、輻射加熱手段４が輻射エネル
ギー透過手段１０によってカバーされているため防汚、
清掃性も良い。
【００３０】（実施例４）以下本発明の実施例を図９を
参照して説明する。
参照して説明する。
【００３１】図９において、４は表面温度が８００℃程
度のヒーターのような輻射加熱手段であり、５は波長３
μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７ｍｍ以上３μ
ｍ未満の近赤外線領域の方が高い反射率を持つアルマイ
ト処理鋼板のような反射手段であり、前記反射手段５に
は冷却フィンや送風ファン、ペリチェ素子のような反射
手段冷却手段１２を備えた構成となっている。
度のヒーターのような輻射加熱手段であり、５は波長３
μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７ｍｍ以上３μ
ｍ未満の近赤外線領域の方が高い反射率を持つアルマイ
ト処理鋼板のような反射手段であり、前記反射手段５に
は冷却フィンや送風ファン、ペリチェ素子のような反射
手段冷却手段１２を備えた構成となっている。
【００３２】輻射加熱手段４から輻射された近赤外線〜
赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは反射手段５
に輻射さる。３μｍの波長付近の赤外線の波長領域の輻
射エネルギーは大部分が反射手段５に吸収されるが前記
反射手段冷却手段１２によって冷却されるため、前記反
射手段の温度は低く抑えられ、長時間の調理の後でも反
射手段５からの赤外線の２次輻射を防止する。
赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは反射手段５
に輻射さる。３μｍの波長付近の赤外線の波長領域の輻
射エネルギーは大部分が反射手段５に吸収されるが前記
反射手段冷却手段１２によって冷却されるため、前記反
射手段の温度は低く抑えられ、長時間の調理の後でも反
射手段５からの赤外線の２次輻射を防止する。
【００３３】したがって、長時間の調理においても、食
品等の被加熱物に照射される反射後の輻射エネルギーは
近赤外線を中心とした波長分布を持つものが大部分であ
り、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを使用しなくて
も実施例１のような食品表面と中心の温度差の小さい均
一加熱を実現する事ができる。
品等の被加熱物に照射される反射後の輻射エネルギーは
近赤外線を中心とした波長分布を持つものが大部分であ
り、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを使用しなくて
も実施例１のような食品表面と中心の温度差の小さい均
一加熱を実現する事ができる。
【００３４】（実施例５）以下本発明の実施例を図１０
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００３５】図９において、４は表面温度が８００℃程
度のヒーターのような輻射加熱手段であり、１０は３μ
ｍ付近の赤外線領域で透過率の小さい非結晶化ガラスの
ような輻射エネルギー透過手段であり、冷却フィンや送
風ファン、ペリチェ素子のような透過手段冷却手段１３
を備えた構成となっている。
度のヒーターのような輻射加熱手段であり、１０は３μ
ｍ付近の赤外線領域で透過率の小さい非結晶化ガラスの
ような輻射エネルギー透過手段であり、冷却フィンや送
風ファン、ペリチェ素子のような透過手段冷却手段１３
を備えた構成となっている。
【００３６】輻射加熱手段４から輻射された近赤外線〜
赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは輻射エネル
ギー透過手段１０に輻射さる。３μｍの波長付近の赤外
線の波長領域の輻射エネルギーは大部分が輻射エネルギ
ー透過手段に吸収されるが前記透過手段冷却手段１３に
よって冷却されるため、前記反射手段の温度は低く抑え
られ、長時間の調理の後でも輻射エネルギー透過手段５
からの赤外線の２次輻射を防止する。
赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは輻射エネル
ギー透過手段１０に輻射さる。３μｍの波長付近の赤外
線の波長領域の輻射エネルギーは大部分が輻射エネルギ
ー透過手段に吸収されるが前記透過手段冷却手段１３に
よって冷却されるため、前記反射手段の温度は低く抑え
られ、長時間の調理の後でも輻射エネルギー透過手段５
からの赤外線の２次輻射を防止する。
【００３７】したがって、長時間の調理においても、食
品等の被加熱物に照射される反射後の輻射エネルギーは
近赤外線を中心とした波長分布を持つものが大部分であ
り、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを使用しなくて
も実施例１のような食品表面と中心の温度差の小さい均
一加熱を実現する事ができる。
品等の被加熱物に照射される反射後の輻射エネルギーは
近赤外線を中心とした波長分布を持つものが大部分であ
り、特定の波長分布を持つ特殊なヒータを使用しなくて
も実施例１のような食品表面と中心の温度差の小さい均
一加熱を実現する事ができる。
【００３８】（実施例５）以下本発明の実施例を図１
１、図１２を参照して説明する。
１、図１２を参照して説明する。
【００３９】１４は食品等の被加熱物を載置する透過率
が波長３μｍ付近の赤外線領域よりも波長１μｍ付近の
近赤外線領域の方が高い非結晶化ガラス製の食品載置台
であり、表面温度が８００℃程度のヒーターのような輻
射加熱手段４から輻射された輻射エネルギーは、前記食
品載置台１４を透過して食品等の被加熱物に供給される
構成となっている。
が波長３μｍ付近の赤外線領域よりも波長１μｍ付近の
近赤外線領域の方が高い非結晶化ガラス製の食品載置台
であり、表面温度が８００℃程度のヒーターのような輻
射加熱手段４から輻射された輻射エネルギーは、前記食
品載置台１４を透過して食品等の被加熱物に供給される
構成となっている。
【００４０】前記輻射加熱手段４から輻射された近赤外
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは食品載
置台１４に輻射され、３μｍの波長付近の赤外線の波長
領域の輻射エネルギーの大部分は輻射エネルギー透過手
段１０に吸収され、１μｍの波長付近の近赤外線の波長
領域の輻射エネルギーは大部分が食品載置台１４を透過
し、透過後の輻射エネルギーは近赤外線を中心とした波
長分布を持つものが大部分となり食品等の被加熱物に照
射される。この照射された輻射エネルギーは被加熱物中
心まで到達するので、表面と中心の温度差の小さい下面
からの均一加熱が実現できる。
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーは食品載
置台１４に輻射され、３μｍの波長付近の赤外線の波長
領域の輻射エネルギーの大部分は輻射エネルギー透過手
段１０に吸収され、１μｍの波長付近の近赤外線の波長
領域の輻射エネルギーは大部分が食品載置台１４を透過
し、透過後の輻射エネルギーは近赤外線を中心とした波
長分布を持つものが大部分となり食品等の被加熱物に照
射される。この照射された輻射エネルギーは被加熱物中
心まで到達するので、表面と中心の温度差の小さい下面
からの均一加熱が実現できる。
【００４１】また図１２は、上記構成に加え、食品載置
台の上部に実施例１の近赤外線輻射手段と支持台を設け
た構成であり、上下からの近赤外線輻射加熱によって、
温度むらの均一な加熱調理を実現できる。
台の上部に実施例１の近赤外線輻射手段と支持台を設け
た構成であり、上下からの近赤外線輻射加熱によって、
温度むらの均一な加熱調理を実現できる。
【００４２】（実施例６）以下本発明の実施例を図１３
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００４３】図１３において、１はメタルハライドラン
プやハロゲンヒーター等の近赤外線輻射手段であり、例
えば線温度が３０００Ｋのハロゲンヒーターでは１μｍ
の波長を中心にした輻射スペクトル分布を持つ。前記近
赤外線輻射手段１は、支持台２によって、食品等の被加
熱物３との間に調理空間７を形成するよう支持され、前
記調理空間７の周囲は、可視光線の波長で透過率が３０
％程度の減光ガラスやパンチング板の様な防眩手段１５
によって覆われている。
プやハロゲンヒーター等の近赤外線輻射手段であり、例
えば線温度が３０００Ｋのハロゲンヒーターでは１μｍ
の波長を中心にした輻射スペクトル分布を持つ。前記近
赤外線輻射手段１は、支持台２によって、食品等の被加
熱物３との間に調理空間７を形成するよう支持され、前
記調理空間７の周囲は、可視光線の波長で透過率が３０
％程度の減光ガラスやパンチング板の様な防眩手段１５
によって覆われている。
【００４４】前記近赤外線輻射手段によって発生した近
赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーは、
被加熱物３の表面から内部約１０〜２０ｍｍの深さまで
浸透し、被加熱物を効率よく加熱するとともに、調理中
被加熱物からの反射等による、調理人への近赤外線を中
心とした波長分布を持つ輻射エネルギーを減少させ、調
理中のの眩しさを防止し、快適な調理環境を実現する。
赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーは、
被加熱物３の表面から内部約１０〜２０ｍｍの深さまで
浸透し、被加熱物を効率よく加熱するとともに、調理中
被加熱物からの反射等による、調理人への近赤外線を中
心とした波長分布を持つ輻射エネルギーを減少させ、調
理中のの眩しさを防止し、快適な調理環境を実現する。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように本発明の加熱調理装
置は、以下に述べる効果を有する物である。
置は、以下に述べる効果を有する物である。
【００４６】（１）輻射波長が０．７μｍ以上１．９μ
ｍ以下の近赤外線の波長を中心とした分布を持つ近赤外
線輻射手段用いて食品等の被加熱物を加熱する構成によ
って、輻射エネルギーが食品表面から約１０〜２０ｍｍ
の深さまで浸透し、食品表面のみならず食品内部も加熱
するので、短時間調理と、食品の中心部と表面部の温度
差を小さくした均一加熱を実現する。
ｍ以下の近赤外線の波長を中心とした分布を持つ近赤外
線輻射手段用いて食品等の被加熱物を加熱する構成によ
って、輻射エネルギーが食品表面から約１０〜２０ｍｍ
の深さまで浸透し、食品表面のみならず食品内部も加熱
するので、短時間調理と、食品の中心部と表面部の温度
差を小さくした均一加熱を実現する。
【００４７】（２）輻射加熱手段から輻射される近赤外
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、反射
率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μ
ｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い反射手段に
反射させる構成によって、特定の波長分布を持つ特殊な
ヒータを使用しなくても短時間、均一加熱を実現する事
ができる。
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、反射
率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μ
ｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い反射手段に
反射させる構成によって、特定の波長分布を持つ特殊な
ヒータを使用しなくても短時間、均一加熱を実現する事
ができる。
【００４８】（３）輻射加熱手段から輻射される近赤外
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、透過
率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μ
ｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い輻射エネル
ギー透過手段輻射加熱手段に透過させて被加熱物を加熱
する構成によって、特定の波長分布を持つ特殊なヒータ
を使用しなくても短時間、均一加熱とともに防汚、清掃
性の高い調理器が実現できる。
線〜赤外線の波長範囲をもった輻射エネルギーを、透過
率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μ
ｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い輻射エネル
ギー透過手段輻射加熱手段に透過させて被加熱物を加熱
する構成によって、特定の波長分布を持つ特殊なヒータ
を使用しなくても短時間、均一加熱とともに防汚、清掃
性の高い調理器が実現できる。
【００４９】（４）反射手段をの温度を低下させる反射
手段冷却手段、または輻射エネルギー透過手段の温度を
低下させる透過手段冷却手段を設けた構成によって、長
時間の調理においても近赤外線を中心とした波長分布を
持つ輻射エネルギーによる均一な仕上がりの調理を実現
できる。
手段冷却手段、または輻射エネルギー透過手段の温度を
低下させる透過手段冷却手段を設けた構成によって、長
時間の調理においても近赤外線を中心とした波長分布を
持つ輻射エネルギーによる均一な仕上がりの調理を実現
できる。
【００５０】（５）食品等の被加熱物を載置する透過率
が赤外線領域よりも近赤外線領域の方が高い食品載置台
を設けた構成によって、被加熱物の下面も、近赤外線を
中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーによる均一加
熱調理を実現できる。
が赤外線領域よりも近赤外線領域の方が高い食品載置台
を設けた構成によって、被加熱物の下面も、近赤外線を
中心とした波長分布を持つ輻射エネルギーによる均一加
熱調理を実現できる。
【００５１】（６）調理空間の周囲を防眩手段で覆った
構成によって、調理中被加熱物からの反射等による、調
理人への近赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エネ
ルギーを減少させ、調理中のの眩しさを防止し、快適な
調理環境を実現する。
構成によって、調理中被加熱物からの反射等による、調
理人への近赤外線を中心とした波長分布を持つ輻射エネ
ルギーを減少させ、調理中のの眩しさを防止し、快適な
調理環境を実現する。
【図１】本発明の一実施例における加熱調理装置の斜視
図
図
【図２】食品の波長に対する輻射透過率の特性図
【図３】本発明の他の実施例における加熱調理器の斜視
図
図
【図４】同加熱調理器の断面図
【図５】同反射手段の波長と反射率との関係を示す特性
図
図
【図６】本発明の他の実施例における加熱調理器の斜視
図
図
【図７】同加熱調理器の断面図
【図８】同輻射エネルギー透過手段の波長に対する透過
率の関係を示す特性図
率の関係を示す特性図
【図９】本発明の他の実施例における加熱調理器の斜視
図
図
【図１０】本発明の他の実施例における加熱調理器の斜
視図
視図
【図１１】本発明の他の実施例における加熱調理器の斜
視図
視図
【図１２】本発明の他の実施例における加熱調理器の斜
視図
視図
【図１３】本発明の他の実施例における加熱調理器の斜
視図
視図
１ 近赤外線輻射手段 ２、６、１１ 支持台 ３ 被加熱物 ４ 輻射加熱手段 ５ 反射手段 ７ 調理空間 １０ 輻射エネルギー透過手段 １２ 反射手段冷却手段 １３ 透過手段冷却手段 １４ 食品載置台 １５ 防眩手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森口 美弥子 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 待寺 知子 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】輻射波長が０．７μｍ以上１．９μ以下を
中心とした近赤外線の波長分布を持つ近赤外線輻射手段
と、前記近赤外線輻射手段を被加熱物との間に距離を保
つように支持し調理空間を形成する支持台とを備えた加
熱調理装置。 - 【請求項２】輻射エネルギーを発生する輻射加熱手段
と、反射率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が
０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い反
射手段と、前記輻射加熱手段と前記反射手段を被加熱物
との間に距離を保つように支持し調理空間を形成する支
持台とを備え、前記輻射加熱手段で発生した輻射エネル
ギーを前記反射手段に反射させて被加熱物を加熱する構
成とした加熱調理装置。 - 【請求項３】輻射エネルギーを発生する輻射加熱手段
と、透過率が波長３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が
０．７μｍ以上３μｍ未満の近赤外線領域の方が高い輻
射エネルギー透過手段と、前記輻射加熱手段と前記輻射
エネルギー透過手段手段を被加熱物との間に距離を保つ
ように支持し調理空間を形成する支持台とを備え、前記
輻射加熱手段で発生した輻射エネルギーを前記輻射エネ
ルギー透過手段で透過させて被加熱物を加熱する構成と
した加熱調理装置。 - 【請求項４】反射手段の温度を低下させる反射手段冷却
手段を備えた請求項２記載の加熱調理装置。 - 【請求項５】輻射エネルギー透過手段の温度を低下させ
る透過手段冷却手段を備えた請求項３記載の加熱調理装
置。 - 【請求項６】食品等の被加熱物を載置する透過率が波長
３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μｍ以上３
μｍ未満の近赤外線領域の方が高い食品載置台と、前記
食品載置台を通して被加熱物に輻射エネルギーを供給す
る輻射加熱手段とからなる加熱調理装置。 - 【請求項７】食品等の被加熱物を載置する透過率が波長
３μｍ以上の赤外線領域よりも波長が０．７μｍ以上３
μｍ未満の近赤外線領域の方が高い食品載置台と、前記
食品載置台を通して被加熱物に輻射エネルギーを供給す
る輻射加熱手段と、輻射波長が０．７μｍ以上１．９μ
ｍ以下を中心とした近赤外線の波長分布を持つ近赤外線
輻射手段と、前記近赤外線輻射手段を被加熱物との間に
距離を保つように支持し調理空間を形成する支持台から
なる加熱調理装置。 - 【請求項８】調理空間の周囲を透過率が１を超えないの
材料からなる防眩手段で覆った請求項１ないし請求項７
のいづれか１項に記載の加熱調理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7194560A JP2882315B2 (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 加熱調理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7194560A JP2882315B2 (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 加熱調理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0942685A true JPH0942685A (ja) | 1997-02-14 |
| JP2882315B2 JP2882315B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=16326571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7194560A Expired - Fee Related JP2882315B2 (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | 加熱調理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2882315B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007018027A1 (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | 超電導材料の製造方法 |
| KR20150072134A (ko) * | 2013-12-19 | 2015-06-29 | 농업회사법인 주식회사 다인제주 | 근적외선을 이용한 돈까스 냉동육 해동장치 |
| JP2016157544A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 日立アプライアンス株式会社 | 誘導加熱調理器 |
| US10687391B2 (en) | 2004-12-03 | 2020-06-16 | Pressco Ip Llc | Method and system for digital narrowband, wavelength specific cooking, curing, food preparation, and processing |
| US10857722B2 (en) | 2004-12-03 | 2020-12-08 | Pressco Ip Llc | Method and system for laser-based, wavelength specific infrared irradiation treatment |
| US11072094B2 (en) | 2004-12-03 | 2021-07-27 | Pressco Ip Llc | Method and system for wavelength specific thermal irradiation and treatment |
-
1995
- 1995-07-31 JP JP7194560A patent/JP2882315B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10687391B2 (en) | 2004-12-03 | 2020-06-16 | Pressco Ip Llc | Method and system for digital narrowband, wavelength specific cooking, curing, food preparation, and processing |
| US10857722B2 (en) | 2004-12-03 | 2020-12-08 | Pressco Ip Llc | Method and system for laser-based, wavelength specific infrared irradiation treatment |
| US11072094B2 (en) | 2004-12-03 | 2021-07-27 | Pressco Ip Llc | Method and system for wavelength specific thermal irradiation and treatment |
| WO2007018027A1 (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | 超電導材料の製造方法 |
| KR20150072134A (ko) * | 2013-12-19 | 2015-06-29 | 농업회사법인 주식회사 다인제주 | 근적외선을 이용한 돈까스 냉동육 해동장치 |
| JP2016157544A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 日立アプライアンス株式会社 | 誘導加熱調理器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2882315B2 (ja) | 1999-04-12 |
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