JPH0959220A - syn−(2S,3R)−7−エトキシ−3−メトキシヘプタン誘導体および液晶表示素子 - Google Patents
syn−(2S,3R)−7−エトキシ−3−メトキシヘプタン誘導体および液晶表示素子Info
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- JPH0959220A JPH0959220A JP7237614A JP23761495A JPH0959220A JP H0959220 A JPH0959220 A JP H0959220A JP 7237614 A JP7237614 A JP 7237614A JP 23761495 A JP23761495 A JP 23761495A JP H0959220 A JPH0959220 A JP H0959220A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 72
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 claims abstract description 24
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 abstract description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract description 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 87
- 239000000047 product Substances 0.000 description 66
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 64
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 62
- 238000000806 fluorine-19 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 52
- -1 n-octyl group Chemical group 0.000 description 52
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 50
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 50
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 43
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 41
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 230000008859 change Effects 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 31
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 30
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 28
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 26
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N isopropyl alcohol Natural products CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 25
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 24
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 23
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 19
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 18
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 16
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 16
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 14
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 14
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 13
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 230000004044 response Effects 0.000 description 10
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- JWNUWKGVARYVKY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroheptane Chemical compound CCCCCCC(F)(F)F JWNUWKGVARYVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical class C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 7
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 7
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- XARIGGJLJPXOJZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-2-methoxyheptane Chemical compound O(C)C(C(F)(F)F)CCCCC XARIGGJLJPXOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GZHXUSMJGRJQEK-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroheptane-2,3-diol Chemical compound CCCCC(O)C(O)C(F)(F)F GZHXUSMJGRJQEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 4
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- YPXUVVVVYKDAAD-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-3-methoxyheptane Chemical compound COC(CC(F)(F)F)CCCC YPXUVVVVYKDAAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AABRBNAXKRILNN-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethoxybutane Chemical compound CCOCCCCBr AABRBNAXKRILNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VOSYPAKJPLIRPV-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,1,1-trifluoro-3-methoxyheptane Chemical compound C(C)OC(C(F)(F)F)C(CCCC)OC VOSYPAKJPLIRPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHKZCVSYUXTPLV-UHFFFAOYSA-N 4-(4-ethoxybutyl)-2,2-dimethyl-5-(trifluoromethyl)-1,3-dioxolane Chemical compound CCOCCCCC1OC(C)(C)OC1C(F)(F)F MHKZCVSYUXTPLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JNERLXPFUDOPRF-UHFFFAOYSA-N CCOC(CCCC(CCCC(CC(F)(F)F)OCC)=O)CC(F)(F)F Chemical compound CCOC(CCCC(CCCC(CC(F)(F)F)OCC)=O)CC(F)(F)F JNERLXPFUDOPRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 3
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 3
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- RQZXYWVKRSVBQX-YFKPBYRVSA-N (2s)-3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-1-pyrrolidin-1-ylpropan-1-one Chemical compound FC(F)(F)[C@@H](O)C(=O)N1CCCC1 RQZXYWVKRSVBQX-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 2
- JLFHSRUXXKLKCG-HESLUPGFSA-N (3S,11S)-3,11-diethoxy-1,1,1,13,13,13-hexafluoro-2,12-dihydroxytridecan-7-one Chemical compound OC(C(F)(F)F)[C@H](CCCC(=O)CCC[C@@H](C(C(F)(F)F)O)OCC)OCC JLFHSRUXXKLKCG-HESLUPGFSA-N 0.000 description 2
- GQAPZJXHNCYPAY-UHFFFAOYSA-N (7-ethoxy-1,1,1-trifluoro-3-methoxyheptan-2-yl) 4-hydroxybenzoate Chemical compound CCOCCCCC(OC)C(C(F)(F)F)OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 GQAPZJXHNCYPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLFHSRUXXKLKCG-UHFFFAOYSA-N 3,11-diethoxy-1,1,1,13,13,13-hexafluoro-2,12-dihydroxytridecan-7-one Chemical compound OC(C(F)(F)F)C(CCCC(=O)CCCC(C(C(F)(F)F)O)OCC)OCC JLFHSRUXXKLKCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ASNHGEVAWNWCRQ-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)oxolane-2,3,4-triol Chemical compound OCC1(O)COC(O)C1O ASNHGEVAWNWCRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUOTIJTSNETKW-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxybutan-1-ol Chemical compound CCOCCCCO QRUOTIJTSNETKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ICEKEZSKMGHZNT-UHFFFAOYSA-N 4-phenylmethoxybenzoyl chloride Chemical compound C1=CC(C(=O)Cl)=CC=C1OCC1=CC=CC=C1 ICEKEZSKMGHZNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000856 Amylose Polymers 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQAPZJXHNCYPAY-GJZGRUSLSA-N [(2S,3S)-7-ethoxy-1,1,1-trifluoro-3-methoxyheptan-2-yl] 4-hydroxybenzoate Chemical compound CCOCCCC[C@H](OC)[C@@H](C(F)(F)F)OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 GQAPZJXHNCYPAY-GJZGRUSLSA-N 0.000 description 2
- MJLNYKZBEYQDKZ-UHFFFAOYSA-M [Br-].C(C)OCCCC[Mg+] Chemical compound [Br-].C(C)OCCCC[Mg+] MJLNYKZBEYQDKZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 150000004862 dioxolanes Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 description 2
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKGUTLIPHZYCX-SFOWXEAESA-N (2s)-3,3,3-trifluoro-2-hydroxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)C(F)(F)F BVKGUTLIPHZYCX-SFOWXEAESA-N 0.000 description 1
- IGGXVAUUTYVHBN-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluorodecane Chemical class CCCCCCCCCC(F)(F)F IGGXVAUUTYVHBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADFXKUOMJKEIND-UHFFFAOYSA-N 1,3-dicyclohexylurea Chemical compound C1CCCCC1NC(=O)NC1CCCCC1 ADFXKUOMJKEIND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxypropane Chemical compound COC(C)(C)OC HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHUUZKCUQVILTK-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpyridin-4-amine Chemical compound CC1=NC=CC(N)=C1C YHUUZKCUQVILTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMBLYBIJPDOOBB-UHFFFAOYSA-N 3,11-diethoxy-1,1,1,13,13,13-hexafluoro-3,11-dihydroxytridecan-7-one Chemical compound OC(CCCC(=O)CCCC(O)(CC(F)(F)F)OCC)(OCC)CC(F)(F)F MMBLYBIJPDOOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQZXYWVKRSVBQX-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-1-pyrrolidin-1-ylpropan-1-one Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(=O)N1CCCC1 RQZXYWVKRSVBQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAMYBXKUPZPVOB-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(2-ethoxyethyl)-1,1,1,9,9,9-hexafluorononan-5-one Chemical compound FC(CC(CC(=O)CC(CCOCC)CC(F)(F)F)CCOCC)(F)F BAMYBXKUPZPVOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTHUCLUKHVXMOX-UHFFFAOYSA-N 7-ethoxy-1,1,1-trifluoro-3-methoxyheptan-2-ol Chemical group CCOCCCCC(OC)C(O)C(F)(F)F HTHUCLUKHVXMOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRZPCWVKMGOALF-UHFFFAOYSA-N 7-ethoxy-1,1,1-trifluoro-3-methoxyheptane Chemical compound C(C)OCCCCC(CC(F)(F)F)OC QRZPCWVKMGOALF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHZIUOLFKDRGBN-UHFFFAOYSA-N 7-ethoxy-1,1,1-trifluoroheptane-2,3-diol Chemical compound CCOCCCCC(O)C(O)C(F)(F)F CHZIUOLFKDRGBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKUEORASWFQAG-UHFFFAOYSA-N C(C)OCCCCC(CC)OC Chemical compound C(C)OCCCCC(CC)OC HXKUEORASWFQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBBGGTJMVBWSBG-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCC)C1=CC=C(C=C1)C1=C(C(=O)O)C=CC=C1 Chemical compound C(CCCCCCCCC)C1=CC=C(C=C1)C1=C(C(=O)O)C=CC=C1 OBBGGTJMVBWSBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHKZCVSYUXTPLV-VHSXEESVSA-N CCOCCCC[C@H]1[C@@H](OC(O1)(C)C)C(F)(F)F Chemical compound CCOCCCC[C@H]1[C@@H](OC(O1)(C)C)C(F)(F)F MHKZCVSYUXTPLV-VHSXEESVSA-N 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- GRFUMPFWJKGLQC-ZETCQYMHSA-N [(1s)-1-phenylethyl]carbamic acid Chemical compound OC(=O)N[C@@H](C)C1=CC=CC=C1 GRFUMPFWJKGLQC-ZETCQYMHSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical group 0.000 description 1
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- SBUXRMKDJWEXRL-ROUUACIJSA-N cis-body Chemical compound O=C([C@H]1N(C2=O)[C@H](C3=C(C4=CC=CC=C4N3)C1)CC)N2C1=CC=C(F)C=C1 SBUXRMKDJWEXRL-ROUUACIJSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N dicarbon monoxide Chemical compound [C]=C=O VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- PMGBATZKLCISOD-UHFFFAOYSA-N methyl 3,3,3-trifluoropropanoate Chemical compound COC(=O)CC(F)(F)F PMGBATZKLCISOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBUXRMKDJWEXRL-ZWKOTPCHSA-N trans-body Chemical compound O=C([C@@H]1N(C2=O)[C@H](C3=C(C4=CC=CC=C4N3)C1)CC)N2C1=CC=C(F)C=C1 SBUXRMKDJWEXRL-ZWKOTPCHSA-N 0.000 description 1
- 210000002700 urine Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高速応答性および広視野角を有し、3安定状
態を有し、カイラルスメクチックCA相を示す反強誘電
性液晶化合物、およびそれを用いた液晶表示素子の提
供。 【構成4】 式(1) 【化1】 (式中、Rは炭素数6〜14の直鎖状アルキル基を表わ
す。)で示されるsyn−(2S,3R)−2−{4−
[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベ
ンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタン、およびそれを用いた液
晶表示素子。
態を有し、カイラルスメクチックCA相を示す反強誘電
性液晶化合物、およびそれを用いた液晶表示素子の提
供。 【構成4】 式(1) 【化1】 (式中、Rは炭素数6〜14の直鎖状アルキル基を表わ
す。)で示されるsyn−(2S,3R)−2−{4−
[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベ
ンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタン、およびそれを用いた液
晶表示素子。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規液晶化合物で
あるsyn−(2S,3R)−7−エトキシ−3−メト
キシヘプタン誘導体およびそれを用いた液晶表示素子に
関するものである。さらに詳しくは、本発明は、高速応
答性、および広視野角を有し、3安定状態を有するカイ
ラルスメクチックCA相(以下、SCA☆という)を示す
反強誘電性液晶化合物である上記化合物、およびそれを
用いた液晶表示素子に関するものである。
あるsyn−(2S,3R)−7−エトキシ−3−メト
キシヘプタン誘導体およびそれを用いた液晶表示素子に
関するものである。さらに詳しくは、本発明は、高速応
答性、および広視野角を有し、3安定状態を有するカイ
ラルスメクチックCA相(以下、SCA☆という)を示す
反強誘電性液晶化合物である上記化合物、およびそれを
用いた液晶表示素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】反強誘電性液晶化合物は印加電界に対し
て、3安定状態を示し、急峻な閾値とダブルヒステリシ
ス曲線が存在するため、マルチプレックス駆動が可能で
あり、高速応答性と広視野角を有し、大画面液晶ディス
プレイ材料および壁掛けテレビ材料等として期待されて
いる。しかしながら、現在までに多くの文献で発表され
ている(R)−1,1,1−トリフルオロノナン誘導体
からなる反強誘電性液晶化合物はSCA☆が室温より高温
域まで存在するため、室温作動性に劣り、大画面液晶デ
ィスプレイ材料および壁掛けテレビ材料としては実用さ
れていない。したがって新規の光学活性な化合物からな
る反強誘電性液晶化合物が求められている。
て、3安定状態を示し、急峻な閾値とダブルヒステリシ
ス曲線が存在するため、マルチプレックス駆動が可能で
あり、高速応答性と広視野角を有し、大画面液晶ディス
プレイ材料および壁掛けテレビ材料等として期待されて
いる。しかしながら、現在までに多くの文献で発表され
ている(R)−1,1,1−トリフルオロノナン誘導体
からなる反強誘電性液晶化合物はSCA☆が室温より高温
域まで存在するため、室温作動性に劣り、大画面液晶デ
ィスプレイ材料および壁掛けテレビ材料としては実用さ
れていない。したがって新規の光学活性な化合物からな
る反強誘電性液晶化合物が求められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、従
来知られている1個の不斉炭素原子の(R)体からなる
反強誘電性液晶化合物とは異にし、隣接する2個の不斉
炭素原子を有するsyn体(2S、3R)型からなる新
規な反強誘電性液晶化合物であって、単独で、高速応答
性、広視野角(高チルト角)を示し、特に室温付近でS
CA☆を有する反強誘電性液晶化合物を提供するものであ
る。
来知られている1個の不斉炭素原子の(R)体からなる
反強誘電性液晶化合物とは異にし、隣接する2個の不斉
炭素原子を有するsyn体(2S、3R)型からなる新
規な反強誘電性液晶化合物であって、単独で、高速応答
性、広視野角(高チルト角)を示し、特に室温付近でS
CA☆を有する反強誘電性液晶化合物を提供するものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、新規化合物で
ある式(1)
ある式(1)
【0005】
【化2】
【0006】(式中、Rは炭素数6〜14の直鎖状アル
キル基を表わす。)で示されるsyn−(2S,3R)
−2−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイ
ルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンである反強
誘電性液晶化合物(以下、本発明化合物という。)およ
び本発明化合物を用いた液晶表示素子に関する。
キル基を表わす。)で示されるsyn−(2S,3R)
−2−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイ
ルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンである反強
誘電性液晶化合物(以下、本発明化合物という。)およ
び本発明化合物を用いた液晶表示素子に関する。
【0007】
(本発明化合物)本発明化合物は式(1)で示される通
りであり、式中、Rで表わされるアルキル基は炭素数6
〜14の直鎖状アルキル基、すなわち、n−ヘキシル
基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、
n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n
−トリデシル基およびn−テトラデシル基が挙げられ、
それらの中でも有用なアルキル基は炭素数8〜12の直
鎖状アルキル基である。
りであり、式中、Rで表わされるアルキル基は炭素数6
〜14の直鎖状アルキル基、すなわち、n−ヘキシル
基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、
n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n
−トリデシル基およびn−テトラデシル基が挙げられ、
それらの中でも有用なアルキル基は炭素数8〜12の直
鎖状アルキル基である。
【0008】本発明化合物の好ましい具体例を示すと、
syn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −n−
オクチルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキ
シ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン、syn−(2S,3R)−2−{4
−[4−(4 −n−ノニルフェニル)ベンゾイルオキ
シ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン、syn−(2
S,3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン、syn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −
n−ウンデシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイ
ルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタン、およびsyn−(2S,3
R)−2−{4−[4−(4 −n−ドデシルフェニル)
ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン等
が挙げられる。
syn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −n−
オクチルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキ
シ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン、syn−(2S,3R)−2−{4
−[4−(4 −n−ノニルフェニル)ベンゾイルオキ
シ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン、syn−(2
S,3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン、syn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −
n−ウンデシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイ
ルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタン、およびsyn−(2S,3
R)−2−{4−[4−(4 −n−ドデシルフェニル)
ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン等
が挙げられる。
【0009】[本発明化合物:syn−(2S,3R)
−2−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイ
ルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの製造方
法]本発明化合物は、式(2)
−2−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイ
ルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの製造方
法]本発明化合物は、式(2)
【0010】
【化3】
【0011】(式中、Rは炭素6〜14の直鎖状アルキ
ル基を表わす。)で示される通り、有機溶媒中で、新規
化合物syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン(以下、原料化合物
という。)と、4−(4−n−アルキルフェニル)安息
香酸とを、脱水縮合剤としてジシクロヘキシルカルボジ
イミド等を用い、触媒としてN,N−ジメチル−4−ア
ミノピリジン等の有機塩基を用いて、反応させることに
より、容易に製造することが出来る。有機溶媒は塩化メ
チレンまたはクロロホルム等塩素系溶媒が好ましい。有
機溶媒の使用量は原料化合物1モルを基準として20〜
40リットルが好ましい。20リットル未満の場合には
4−(4−n−アルキルフェニル)安息香酸が溶解しに
くい場合があり、収率低下を招く恐れがあり、40リッ
トルを超えると経済的とはいえない。原料化合物と4−
(4−n−アルキルフェニル)安息香酸との供給割合は
原料化合物1モルを基準として1.1〜1.3モルが好
ましい。1.1モル未満の場合には収率低下を招く恐れ
があり、1.3モルを超えると経済的とはいえない。
ル基を表わす。)で示される通り、有機溶媒中で、新規
化合物syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン(以下、原料化合物
という。)と、4−(4−n−アルキルフェニル)安息
香酸とを、脱水縮合剤としてジシクロヘキシルカルボジ
イミド等を用い、触媒としてN,N−ジメチル−4−ア
ミノピリジン等の有機塩基を用いて、反応させることに
より、容易に製造することが出来る。有機溶媒は塩化メ
チレンまたはクロロホルム等塩素系溶媒が好ましい。有
機溶媒の使用量は原料化合物1モルを基準として20〜
40リットルが好ましい。20リットル未満の場合には
4−(4−n−アルキルフェニル)安息香酸が溶解しに
くい場合があり、収率低下を招く恐れがあり、40リッ
トルを超えると経済的とはいえない。原料化合物と4−
(4−n−アルキルフェニル)安息香酸との供給割合は
原料化合物1モルを基準として1.1〜1.3モルが好
ましい。1.1モル未満の場合には収率低下を招く恐れ
があり、1.3モルを超えると経済的とはいえない。
【0012】原料化合物とN,N−ジメチルアミノピリ
ジンとの混合割合は原料化合物1モルを基準として、
0.4〜0.8モルが好ましい。0.4モル未満では脱
水時間が長くなり、収率低下を招く恐れがあり、0.8
モルを超えると経済的とはいえない。原料化合物と4−
(4−n−アルキルフェニル)安息香酸およびN,N,
−ジメチルアミノピリジンに塩化メチレンを加えて、室
温で撹拌しながら、均一な溶液を調合する。次いで、ジ
シクロヘキシルカルボジイミドを上述の溶液へ加えて、
撹拌しながら均一な溶液とする。ジシクロヘキシルカル
ボジイミドの上述の溶液への供給量は原料化合物1モル
を基準として、1.3〜1.7モルが好ましい。1.3
モル未満では脱水縮合反応が不十分となり、収率低下を
招く恐れがあり、1.7モルを超えると経済的ではな
い。ジシクロヘキシルカルボジイシドの供給完了後、撹
拌しながら、室温で反応させる。その反応時間は原料化
合物1モルに対して、25〜35時間が好ましい。25
時間未満では収率低下を招く恐れがあり、35時間を超
えると経済的とはいえない。反応温度は室温が好まし
い。
ジンとの混合割合は原料化合物1モルを基準として、
0.4〜0.8モルが好ましい。0.4モル未満では脱
水時間が長くなり、収率低下を招く恐れがあり、0.8
モルを超えると経済的とはいえない。原料化合物と4−
(4−n−アルキルフェニル)安息香酸およびN,N,
−ジメチルアミノピリジンに塩化メチレンを加えて、室
温で撹拌しながら、均一な溶液を調合する。次いで、ジ
シクロヘキシルカルボジイミドを上述の溶液へ加えて、
撹拌しながら均一な溶液とする。ジシクロヘキシルカル
ボジイミドの上述の溶液への供給量は原料化合物1モル
を基準として、1.3〜1.7モルが好ましい。1.3
モル未満では脱水縮合反応が不十分となり、収率低下を
招く恐れがあり、1.7モルを超えると経済的ではな
い。ジシクロヘキシルカルボジイシドの供給完了後、撹
拌しながら、室温で反応させる。その反応時間は原料化
合物1モルに対して、25〜35時間が好ましい。25
時間未満では収率低下を招く恐れがあり、35時間を超
えると経済的とはいえない。反応温度は室温が好まし
い。
【0013】反応完了後、析出したジシクロヘキシル尿
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸で洗
浄した後、10 %炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した
後、水洗し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去
した後、減圧留去して溶媒を除去し、シロップ状の残渣
を得る。得られた残渣を熱n−ヘキサンで溶解した後、
冷却晶析して、白色の粗結晶を得る。次いで得られた粗
結晶を液体クロマトグラフィーで精製し、無色透明な液
状の本発明化合物としてのsyn−(2S,3R)−2
−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイルオ
キシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタンを得る。
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸で洗
浄した後、10 %炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した
後、水洗し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去
した後、減圧留去して溶媒を除去し、シロップ状の残渣
を得る。得られた残渣を熱n−ヘキサンで溶解した後、
冷却晶析して、白色の粗結晶を得る。次いで得られた粗
結晶を液体クロマトグラフィーで精製し、無色透明な液
状の本発明化合物としてのsyn−(2S,3R)−2
−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイルオ
キシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタンを得る。
【0014】また、この反応は原料化合物の2個の不斉
炭素原子の立体配置には無関係であることより、光学活
性な不斉中心は変化せず、syn体(2S,3R)型で
ある。さらに、後述の実施例1の同定例でも、本発明化
合物がsyn体(2S,3R)型であることは確認済み
である。かくして得られた本発明化合物の相転移温度を
測定した結果、SCA☆の温度範囲は
炭素原子の立体配置には無関係であることより、光学活
性な不斉中心は変化せず、syn体(2S,3R)型で
ある。さらに、後述の実施例1の同定例でも、本発明化
合物がsyn体(2S,3R)型であることは確認済み
である。かくして得られた本発明化合物の相転移温度を
測定した結果、SCA☆の温度範囲は
【0015】
【化4】
【0016】となり、本発明化合物はSCA☆が室温付近
を含む反強誘電性液晶化合物であることが確認される。
さらに、本発明化合物による液晶表示素子を作成し、そ
の表示素子を用い、25℃での印加電圧変化に対する透
過光量変化より1つの暗状態と2つの明状態を有する3
安定状態のダブルヒステリシス曲線が得られる。これを
もとに、表示素子の性能を測定した結果、高速応答性、
低しきい値および高チルト角を有することより、本発明
化合物は室温作動可能な液晶表示素子を形成する優れた
反強誘電性液晶化合物であることが確認される。なお、
原料化合物は新規化合物であり、以下の反応工程によっ
て得ることが出来る。
を含む反強誘電性液晶化合物であることが確認される。
さらに、本発明化合物による液晶表示素子を作成し、そ
の表示素子を用い、25℃での印加電圧変化に対する透
過光量変化より1つの暗状態と2つの明状態を有する3
安定状態のダブルヒステリシス曲線が得られる。これを
もとに、表示素子の性能を測定した結果、高速応答性、
低しきい値および高チルト角を有することより、本発明
化合物は室温作動可能な液晶表示素子を形成する優れた
反強誘電性液晶化合物であることが確認される。なお、
原料化合物は新規化合物であり、以下の反応工程によっ
て得ることが出来る。
【0017】
【化5】
【0018】
【実施例】以下、参考例および実施例により、本発明を
具体的に説明する。参考例1〜5は(S)−N−(2−
ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオニル)
ピロリジン(出発原料化合物)から原料化合物に至る製
造例、実施例1は本発明化合物の製造例、試験例1は本
発明化合物の有用性を示す試験例である。
具体的に説明する。参考例1〜5は(S)−N−(2−
ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオニル)
ピロリジン(出発原料化合物)から原料化合物に至る製
造例、実施例1は本発明化合物の製造例、試験例1は本
発明化合物の有用性を示す試験例である。
【0019】参考例1[出発原料化合物:(S)−N−
(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオ
ニル)ピロリジンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器を備えた三ツ口丸底フラス
コに(S)−トリフルオロ乳酸25.8g(179ミリ
モル)、メタノール520mlおよび濃硫酸270ml
を入れ、撹拌しながら加熱還流した。還流中、19FNM
Rスペクトルで乳酸ピークを追跡しながら、12時間還
流した結果、反応液中の乳酸がなくなったことが確認さ
れ加熱還流を停止し、撹拌しながら室温まで冷却した。
次いで、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH
8〜9に調整した後、エーテルで抽出し、抽出液を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、抽出液を減圧濃縮し、残ったシロップ状の残渣を減
圧蒸留し、無色透明な液状の生成物[収量26.9g
(170ミリモル)収率95%]を得た。
(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオ
ニル)ピロリジンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器を備えた三ツ口丸底フラス
コに(S)−トリフルオロ乳酸25.8g(179ミリ
モル)、メタノール520mlおよび濃硫酸270ml
を入れ、撹拌しながら加熱還流した。還流中、19FNM
Rスペクトルで乳酸ピークを追跡しながら、12時間還
流した結果、反応液中の乳酸がなくなったことが確認さ
れ加熱還流を停止し、撹拌しながら室温まで冷却した。
次いで、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH
8〜9に調整した後、エーテルで抽出し、抽出液を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、抽出液を減圧濃縮し、残ったシロップ状の残渣を減
圧蒸留し、無色透明な液状の生成物[収量26.9g
(170ミリモル)収率95%]を得た。
【0020】この生成物の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した。またこの生成物の2位の炭素原子の
立体配置には無関係であり、光学的反転は起こらないこ
とより、この生成物は(S)−2−ヒドロキシ−3,
3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステルであ
ることが確認された。
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した。またこの生成物の2位の炭素原子の
立体配置には無関係であり、光学的反転は起こらないこ
とより、この生成物は(S)−2−ヒドロキシ−3,
3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステルであ
ることが確認された。
【0021】次いで、温度計、撹拌機、滴下ロートのつ
いたクライゼンフラスコの枝管にリービッヒコンデンサ
ーを取り付け、その出口にメチルアルコール回収ビンを
取り付け、その出口がアスピレーターにつながっている
装置を用い、上述で得られた(S)−2−ヒドロキシ−
3,3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
26.1g(165ミリモル)とピロリジン12.8g
(180ミリモル)および濃硫酸0.7ミリモルを入
れ、200mmHg×60℃で反応させ、発生したメチ
ルアルコール蒸気を連続的にリービッヒコンデンサーに
送り、メチルアルコールを回収した。メチルアルコール
蒸気の発生がなくなったことを確認し、加熱を停止し、
室温まで放冷した後、常圧に戻して、反応を完了した。
次いで生成した淡褐色の固体を取り出し、水で洗浄した
後、熱n−ヘキサンを加えて、溶解した後、冷却晶析し
て、白色針状結晶である生成物[収量27.6g(14
0ミリモル)収率85%]を得た。
いたクライゼンフラスコの枝管にリービッヒコンデンサ
ーを取り付け、その出口にメチルアルコール回収ビンを
取り付け、その出口がアスピレーターにつながっている
装置を用い、上述で得られた(S)−2−ヒドロキシ−
3,3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
26.1g(165ミリモル)とピロリジン12.8g
(180ミリモル)および濃硫酸0.7ミリモルを入
れ、200mmHg×60℃で反応させ、発生したメチ
ルアルコール蒸気を連続的にリービッヒコンデンサーに
送り、メチルアルコールを回収した。メチルアルコール
蒸気の発生がなくなったことを確認し、加熱を停止し、
室温まで放冷した後、常圧に戻して、反応を完了した。
次いで生成した淡褐色の固体を取り出し、水で洗浄した
後、熱n−ヘキサンを加えて、溶解した後、冷却晶析し
て、白色針状結晶である生成物[収量27.6g(14
0ミリモル)収率85%]を得た。
【0022】この生成物の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生
成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学
的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl2) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3.21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm-1(CO)、3,330cm-1(OH) MSスペクトル m/z 197(M+)
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生
成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学
的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl2) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3.21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm-1(CO)、3,330cm-1(OH) MSスペクトル m/z 197(M+)
【0023】参考例2(グリニャール試薬:4−エトキ
シブチルマグネシウムブロミドの製造) 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコにテトラヒドロフラン40.0g(55
6ミリモル)、エチルアルコール28.2g(612ミ
リモル)およびパラトルエンスルホン酸1水塩5.2g
(29ミリモル)を入れ、温水バスに浸漬した。次いで
80℃×6時間還流した後、減圧濃縮し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣に水620mlを加えた後、エー
テル抽出し、抽出後に無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の
4−エトキシブタノール[収量59.0g(500ミリ
モル)収率90%]を得た。
シブチルマグネシウムブロミドの製造) 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコにテトラヒドロフラン40.0g(55
6ミリモル)、エチルアルコール28.2g(612ミ
リモル)およびパラトルエンスルホン酸1水塩5.2g
(29ミリモル)を入れ、温水バスに浸漬した。次いで
80℃×6時間還流した後、減圧濃縮し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣に水620mlを加えた後、エー
テル抽出し、抽出後に無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の
4−エトキシブタノール[収量59.0g(500ミリ
モル)収率90%]を得た。
【0024】次いで温度計、撹拌機、滴下ロートを備え
た三ツ口フラスコに、上述で得た4−エトキシブタノー
ル57.2g(485ミリモル)と塩化メチレン1,4
50Lを入れ、氷水バスに浸漬し、0℃に調整した。次
いで、滴下ロートにトリフエニルホスフィン126.6
g(485ミリモル)と塩化メチレン485Lを入れ、
完全に均一な溶液を調合した。次いで、臭素77.6g
(485ミリモル)と塩化メチレン240mlを混合し
た溶液を上記滴下ロートに加えた。滴下ロートより混合
液を撹拌しながら、68分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き1時間撹拌保持して反応を完結させた。次
いで、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温まで昇温
し、引き続き1時間撹拌保持し、トリフェニルホスフィ
ンオキシドの微結晶を生成させた。次いで減圧濃縮し、
塩化メチレンと臭化水素を除去し、スラッジを得た。次
いで、熱n−ヘキサン3,850mlを加えて溶解した
後、冷却晶析し、白色針状結晶である大部分のトリフェ
ニルホスフィンオキシドを濾過により除去し、濾液を濃
縮しシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液n−ヘキサン)で精製
し、無色透明な液状の4−エトキシブチルブロミド[収
量70.2g(388ミリモル)収率80%]を得た。
た三ツ口フラスコに、上述で得た4−エトキシブタノー
ル57.2g(485ミリモル)と塩化メチレン1,4
50Lを入れ、氷水バスに浸漬し、0℃に調整した。次
いで、滴下ロートにトリフエニルホスフィン126.6
g(485ミリモル)と塩化メチレン485Lを入れ、
完全に均一な溶液を調合した。次いで、臭素77.6g
(485ミリモル)と塩化メチレン240mlを混合し
た溶液を上記滴下ロートに加えた。滴下ロートより混合
液を撹拌しながら、68分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き1時間撹拌保持して反応を完結させた。次
いで、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温まで昇温
し、引き続き1時間撹拌保持し、トリフェニルホスフィ
ンオキシドの微結晶を生成させた。次いで減圧濃縮し、
塩化メチレンと臭化水素を除去し、スラッジを得た。次
いで、熱n−ヘキサン3,850mlを加えて溶解した
後、冷却晶析し、白色針状結晶である大部分のトリフェ
ニルホスフィンオキシドを濾過により除去し、濾液を濃
縮しシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液n−ヘキサン)で精製
し、無色透明な液状の4−エトキシブチルブロミド[収
量70.2g(388ミリモル)収率80%]を得た。
【0025】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器、滴
下ロートおよび窒素挿入コックを備えた窒素置換したフ
ラスコに、金属マグネシウム10.9g(456ミリモ
ル)と乾燥ジエチルエーテル76mlを入れ、次いでヨ
ウ素0.1g(0.38ミリモル)を入れた。混合液の
赤褐色が消失するまで撹拌した。次いで上述で得られた
4−エトキシブチルブロミド6.9g(38ミリモル)
を加え、還流するまで撹拌した。還流が生じたら、4−
エトキシブチルブロミド61.9g(342ミリモル)
と乾燥ジエチルエーテル190mlを滴下ロートに入
れ、還流が持続するように滴下し、滴下完了後、1時間
還流し、反応を完結させた。次いで、フラスコより注射
器で反応液を取り出し、残りの未反応金属マグネシウム
の固体を乾燥エーテル114mlで洗浄した洗浄液を反
応液に戻し、濃度0.8モル/リットルの4−エトキシ
ブチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液3
80ml[4−エトキシブチルマグネシウムブロミド
[収量62.3g(304ミリモル)収率80%]であ
るグリニャール試薬を得た。
下ロートおよび窒素挿入コックを備えた窒素置換したフ
ラスコに、金属マグネシウム10.9g(456ミリモ
ル)と乾燥ジエチルエーテル76mlを入れ、次いでヨ
ウ素0.1g(0.38ミリモル)を入れた。混合液の
赤褐色が消失するまで撹拌した。次いで上述で得られた
4−エトキシブチルブロミド6.9g(38ミリモル)
を加え、還流するまで撹拌した。還流が生じたら、4−
エトキシブチルブロミド61.9g(342ミリモル)
と乾燥ジエチルエーテル190mlを滴下ロートに入
れ、還流が持続するように滴下し、滴下完了後、1時間
還流し、反応を完結させた。次いで、フラスコより注射
器で反応液を取り出し、残りの未反応金属マグネシウム
の固体を乾燥エーテル114mlで洗浄した洗浄液を反
応液に戻し、濃度0.8モル/リットルの4−エトキシ
ブチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液3
80ml[4−エトキシブチルマグネシウムブロミド
[収量62.3g(304ミリモル)収率80%]であ
るグリニャール試薬を得た。
【0026】参考例3[(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例2で得られる0.8モル
/lのグリニャール試薬371ml[4−エトキシブチ
ルマグネシウムブロミド60.9g(297ミリモ
ル)、残りジエチルエーテル]を入れ、氷水バスに浸漬
し、0℃に調整した。滴下ロートに参考例1で得られる
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジン26.6g(135ミリ
モル)にジエチルエーテル200mlを加えて溶解した
溶液を入れ、撹拌しながら、60分間かけて滴下し、滴
下完了後、引き続き、2時間撹拌保持して反応を完結さ
せ、反応生成物溶液を得た。次いで氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで昇温した。次いで、滴下ロ
ートに3規定塩酸160mlを入れ、撹拌しながら、2
3分間かけて滴下した。3規定塩酸の滴下完了後、引き
続き20分間撹拌保持することにより、加水分解反応を
完結させた。
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例2で得られる0.8モル
/lのグリニャール試薬371ml[4−エトキシブチ
ルマグネシウムブロミド60.9g(297ミリモ
ル)、残りジエチルエーテル]を入れ、氷水バスに浸漬
し、0℃に調整した。滴下ロートに参考例1で得られる
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジン26.6g(135ミリ
モル)にジエチルエーテル200mlを加えて溶解した
溶液を入れ、撹拌しながら、60分間かけて滴下し、滴
下完了後、引き続き、2時間撹拌保持して反応を完結さ
せ、反応生成物溶液を得た。次いで氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで昇温した。次いで、滴下ロ
ートに3規定塩酸160mlを入れ、撹拌しながら、2
3分間かけて滴下した。3規定塩酸の滴下完了後、引き
続き20分間撹拌保持することにより、加水分解反応を
完結させた。
【0027】加水分解反応終了後、20 %炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH8に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール
=9/1(容量比)]で精製し、無色透明な液状の生成
物[収量18.5g(81ミリモル)収率60%]を得
た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMRス
ペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペクトルを
測定した結果は次の通りであり、1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお、後述の同定例1より
生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフ
ルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであることが
確認された。
リウム水溶液でpH8に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール
=9/1(容量比)]で精製し、無色透明な液状の生成
物[収量18.5g(81ミリモル)収率60%]を得
た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMRス
ペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペクトルを
測定した結果は次の通りであり、1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお、後述の同定例1より
生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフ
ルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであることが
確認された。
【0028】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.94〜1.08ppm(3H)、1.18〜1.4
8ppm(6H)、2.61〜2.80ppm(2
H)、3.20〜3.35ppm(2H)、3.46〜
3.78ppm(1H)、4.21〜4.31ppm
(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.66ppm 1R吸収スペクトル 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(C
O)、3,280cm-1(OH) MSスペクトル m/z 228(M+) また、1HNMRスペクトル図を図1に示した。
8ppm(6H)、2.61〜2.80ppm(2
H)、3.20〜3.35ppm(2H)、3.46〜
3.78ppm(1H)、4.21〜4.31ppm
(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.66ppm 1R吸収スペクトル 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(C
O)、3,280cm-1(OH) MSスペクトル m/z 228(M+) また、1HNMRスペクトル図を図1に示した。
【0029】(同定例1)[生成物が(S)−1−ヒド
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンであることの同定] (S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンの替りに、N−(2−ヒ
ドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオニル)ピ
ロリジンを用い、上述の実験の1/10スケールにし
て、上述と同様な処理を行い、無色透明な液状の生成物
−1[収量1.85g(8.1ミリモル)収率60%]
を得た。この生成物−1の各種スペクトルを測定した結
果は上と同様であり、1−ヒドロキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであっ
た。
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンであることの同定] (S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンの替りに、N−(2−ヒ
ドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオニル)ピ
ロリジンを用い、上述の実験の1/10スケールにし
て、上述と同様な処理を行い、無色透明な液状の生成物
−1[収量1.85g(8.1ミリモル)収率60%]
を得た。この生成物−1の各種スペクトルを測定した結
果は上と同様であり、1−ヒドロキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであっ
た。
【0030】この生成物−1を次の条件で、光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー(以下、
光学活性ガスクロマトグラフィーという。)にかけた。 カラム :商品名 CHIRALDEX,B−TA(ASTEC社製) 内径0.25mm、長さ10m、シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 70Nl/min、スプリット比 100/1 検出 :FID 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図2の通
りであり、図2の解析結果より、2本の光学活性ピーク
が得られ、それらのピークの保持時間と面積比を求める
と次の通り 第1ピーク:保持時間34.67分、面積比1 (S)体 ☆1 第2ピーク:保持時間37.67分、面積比1 (R)体 ☆1 (☆1 本同定例で確認) したがって、生成物−1は1−ヒドロキシ−2,2,2
−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの鏡
像異性体混合物であった。
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー(以下、
光学活性ガスクロマトグラフィーという。)にかけた。 カラム :商品名 CHIRALDEX,B−TA(ASTEC社製) 内径0.25mm、長さ10m、シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 70Nl/min、スプリット比 100/1 検出 :FID 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図2の通
りであり、図2の解析結果より、2本の光学活性ピーク
が得られ、それらのピークの保持時間と面積比を求める
と次の通り 第1ピーク:保持時間34.67分、面積比1 (S)体 ☆1 第2ピーク:保持時間37.67分、面積比1 (R)体 ☆1 (☆1 本同定例で確認) したがって、生成物−1は1−ヒドロキシ−2,2,2
−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの鏡
像異性体混合物であった。
【0031】次いで、上述で得た生成物を上と同様な条
件で、光学活性ガスクロマトグラフィーにかけた。光学
活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図3の通りで
あり、図3より1本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間は34.67分であった。出発原料化合物である
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンのN−ピロリジニル基を
グリニャール試薬中の4−エトキシブチル基に置換する
ことにより、生成物が得られる。したがって2位の不斉
炭素原子の立体配置には無関係であり、反応前後では光
学的反転が起こらないことより、(S)配置であること
が確認された。よって、生成物の光学活性ガスクロマト
グラフィーの保持時間34.67分は(S)体であるこ
とが判明し、生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお生成物−1の光学活性
ガスクロマトグラフィーの第2ピークの保持時間37.
67分は(R)体であることが判明した。
件で、光学活性ガスクロマトグラフィーにかけた。光学
活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図3の通りで
あり、図3より1本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間は34.67分であった。出発原料化合物である
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンのN−ピロリジニル基を
グリニャール試薬中の4−エトキシブチル基に置換する
ことにより、生成物が得られる。したがって2位の不斉
炭素原子の立体配置には無関係であり、反応前後では光
学的反転が起こらないことより、(S)配置であること
が確認された。よって、生成物の光学活性ガスクロマト
グラフィーの保持時間34.67分は(S)体であるこ
とが判明し、生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお生成物−1の光学活性
ガスクロマトグラフィーの第2ピークの保持時間37.
67分は(R)体であることが判明した。
【0032】参考例4[(S)−2−(4−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタノン−3の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコにn−ヘキサンで洗浄、精製、乾燥
した水素化ナトリウム1.99g(83ミリモル)とジ
エチルエーテル23mlを入れ、氷水バスに挿入し、撹
拌しながら、0℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロ
ートに参考例3で得られる(S)−1−ヒドロキシ−
2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチル
ケトン17.0g(75ミリモル)とジエチルエーテル
202mlを入れ、均一な溶液とし、撹拌しながら、1
7分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、25℃まで昇温し、引き続き60分
間撹拌保持して、反応を完結させた。次いで、上述のフ
ラスコを、再度氷水バスに挿入し、0℃に調整した。別
途滴下ロートに4−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
22.2g(90ミリモル)とジエチルエーテル108
mlを入れ、撹拌しながら、33分間かけて滴下した。
滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、25
℃まで昇温し、引き続き150分間撹拌保持して、反応
を完結させた。
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタノン−3の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコにn−ヘキサンで洗浄、精製、乾燥
した水素化ナトリウム1.99g(83ミリモル)とジ
エチルエーテル23mlを入れ、氷水バスに挿入し、撹
拌しながら、0℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロ
ートに参考例3で得られる(S)−1−ヒドロキシ−
2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチル
ケトン17.0g(75ミリモル)とジエチルエーテル
202mlを入れ、均一な溶液とし、撹拌しながら、1
7分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、25℃まで昇温し、引き続き60分
間撹拌保持して、反応を完結させた。次いで、上述のフ
ラスコを、再度氷水バスに挿入し、0℃に調整した。別
途滴下ロートに4−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
22.2g(90ミリモル)とジエチルエーテル108
mlを入れ、撹拌しながら、33分間かけて滴下した。
滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、25
℃まで昇温し、引き続き150分間撹拌保持して、反応
を完結させた。
【0033】反応終了後、1規定塩酸75mlを入れ、
60分間撹拌保持した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH8に調整した。次いで、エーテル抽出し、抽出
液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、減圧濃縮し、溶媒を留去し、残った淡
黄色のシロップ状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコー
ル=96/4(容量比)]にて精製した溶液に粒状活性
炭0.52g[粒状活性炭の添加量は(S)−1−ヒド
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンの仕込量に対して、3重量パーセントで
ある。]を加えて、30分間撹拌した後、粒状活性炭を
濾過により除去し、濾液を減圧濃縮し、溶離液を留去
し、無色透明な液状の生成物[収量26.3g(60ミ
リモル)収率80%]を得た。この生成物の1HNMR
スペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペクト
ルおよびMSスペクトルを測定した結果は次の通りであ
り、生成物は2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ノン−3であることが確認された。
60分間撹拌保持した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH8に調整した。次いで、エーテル抽出し、抽出
液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、減圧濃縮し、溶媒を留去し、残った淡
黄色のシロップ状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコー
ル=96/4(容量比)]にて精製した溶液に粒状活性
炭0.52g[粒状活性炭の添加量は(S)−1−ヒド
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンの仕込量に対して、3重量パーセントで
ある。]を加えて、30分間撹拌した後、粒状活性炭を
濾過により除去し、濾液を減圧濃縮し、溶離液を留去
し、無色透明な液状の生成物[収量26.3g(60ミ
リモル)収率80%]を得た。この生成物の1HNMR
スペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペクト
ルおよびMSスペクトルを測定した結果は次の通りであ
り、生成物は2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ノン−3であることが確認された。
【0034】1HNMRスペクトル(CDCl3) 1.07ppm(3H)、1.18〜1.48ppm
(6H)、2.92〜3.04ppm(2H)、3.2
4〜3.35ppm(2H)、4.17〜4.27pp
m(1H)、4.49〜4.67ppm(2H)、7.
25ppm(2H)、(6.75〜7.00、7.76
〜7.95)ppm(4H、ABパターン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −5.50ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm-1(COC)、1,660cm-1(C
O)、1,740cm-1(COO) MSスペクトル m/z. 438(M+) また、1HNMRスペクトル図を図4に示した。
(6H)、2.92〜3.04ppm(2H)、3.2
4〜3.35ppm(2H)、4.17〜4.27pp
m(1H)、4.49〜4.67ppm(2H)、7.
25ppm(2H)、(6.75〜7.00、7.76
〜7.95)ppm(4H、ABパターン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −5.50ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm-1(COC)、1,660cm-1(C
O)、1,740cm-1(COO) MSスペクトル m/z. 438(M+) また、1HNMRスペクトル図を図4に示した。
【0035】(同定例)[参考例4で得られた生成物が
(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン
−3であることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに、上述で得られた生成物2.19g
(5ミリモル)と、3規定塩酸25mlとメタノール1
00mlを入れ、温度80℃の温水バスに浸漬し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き6時間還流し
て加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した
後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=90/10(容
量比)]で製造し、無色透明な液状の生成物[収量0.
91g(4ミリモル)収率80%]を得た。
(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン
−3であることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに、上述で得られた生成物2.19g
(5ミリモル)と、3規定塩酸25mlとメタノール1
00mlを入れ、温度80℃の温水バスに浸漬し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き6時間還流し
て加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した
後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=90/10(容
量比)]で製造し、無色透明な液状の生成物[収量0.
91g(4ミリモル)収率80%]を得た。
【0036】得られた生成物の各種スペクトルを測定す
ると、参考例4の出発化合物である(S)−1−ヒドロ
キシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシ
ブチルケトンの各種スペクトル分析と一致し、さらに光
学活性ガスクロマトグラフィーにかけると保持時間3
4.67分となり(S)配置であることが確認され、生
成物は出発化合物と同じ(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが判明した。したがって、(S)−1−ヒ
ドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エト
キシブチルケトンの1位の不斉炭素原子に結合した水酸
基とアルカリ金属水素化物を反応させ、アルカリ金属ア
ルコラートに換え、次いで、4−ベンジルオキシベンゾ
イルクロリドを反応させても、絶対配置は変らず、
(S)配置であることが確認され、生成物は(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3である
ことが確認された。
ると、参考例4の出発化合物である(S)−1−ヒドロ
キシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシ
ブチルケトンの各種スペクトル分析と一致し、さらに光
学活性ガスクロマトグラフィーにかけると保持時間3
4.67分となり(S)配置であることが確認され、生
成物は出発化合物と同じ(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが判明した。したがって、(S)−1−ヒ
ドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エト
キシブチルケトンの1位の不斉炭素原子に結合した水酸
基とアルカリ金属水素化物を反応させ、アルカリ金属ア
ルコラートに換え、次いで、4−ベンジルオキシベンゾ
イルクロリドを反応させても、絶対配置は変らず、
(S)配置であることが確認され、生成物は(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3である
ことが確認された。
【0037】参考例5[syn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンおよ
びanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタン(原料化合物)の製造:
ただし金属水素化物として安定した水素化ホウ素ナトリ
ウム水溶液を用いた場合] (第一段反応)[syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)とジエチルエーテル40m
lを入れ、撹拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、0℃に調整した。
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンおよ
びanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタン(原料化合物)の製造:
ただし金属水素化物として安定した水素化ホウ素ナトリ
ウム水溶液を用いた場合] (第一段反応)[syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)とジエチルエーテル40m
lを入れ、撹拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、0℃に調整した。
【0038】次いで、滴下ロートに水素化ホウ素ナトリ
ウム0.27g(7ミリモル)と5%水酸化ナトリウム
水溶液28g[NaOH1.4g(35ミリモル)]と
メタノール7mlを入れた安定化した水素化ホウ素ナト
リウム水溶液を撹拌しながら、10分間かけて滴下し
た。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き、90分間撹拌保持して、反
応を完結させ、反応生成物を得た。得られた反応生成物
溶液は後述の同定例1より、syn体(2S,3R)型
/anti体(2S,3S)型=70/30(面積比)
からなるジアステレオマー混合物であることが確認され
た。
ウム0.27g(7ミリモル)と5%水酸化ナトリウム
水溶液28g[NaOH1.4g(35ミリモル)]と
メタノール7mlを入れた安定化した水素化ホウ素ナト
リウム水溶液を撹拌しながら、10分間かけて滴下し
た。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き、90分間撹拌保持して、反
応を完結させ、反応生成物を得た。得られた反応生成物
溶液は後述の同定例1より、syn体(2S,3R)型
/anti体(2S,3S)型=70/30(面積比)
からなるジアステレオマー混合物であることが確認され
た。
【0039】[同定例1:反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた40重量%の反応
生成物溶液[原料化合物換算10ミリモル含有反応生成
物溶液]と、3規定塩酸50mlおよびメタノール20
0mlを入れ、温度80%の温水バス中に挿入し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還
流し加水分解反応を行った。
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた40重量%の反応
生成物溶液[原料化合物換算10ミリモル含有反応生成
物溶液]と、3規定塩酸50mlおよびメタノール20
0mlを入れ、温度80%の温水バス中に挿入し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還
流し加水分解反応を行った。
【0040】加水分解反応完了後、温水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、エーテル抽出
し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水溶液40ml
で洗浄し、次いで、水300mlで洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イ
ソプロピルアルコール=95/5(容量比)]で精製
し、無色透明な液状の生成物−1[収量1.84g(8
ppm)収率80%]を得た。この生成物−1の1HN
MRスペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペ
クトルおよびMSスペクトルを測定した結果、生成物−
1は7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
−2,3−ジオールであることが判明した。
り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、エーテル抽出
し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水溶液40ml
で洗浄し、次いで、水300mlで洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イ
ソプロピルアルコール=95/5(容量比)]で精製
し、無色透明な液状の生成物−1[収量1.84g(8
ppm)収率80%]を得た。この生成物−1の1HN
MRスペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペ
クトルおよびMSスペクトルを測定した結果、生成物−
1は7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
−2,3−ジオールであることが判明した。
【0041】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.86〜1.00ppm(3H)、1.06〜1.2
4ppm(6H)、2.69〜2.80ppm(2
H)、2.95〜3.16ppm(1H)、3.20〜
3.35ppm(2H)、3.52〜3.66ppm
(2H)、4.08〜4.16ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆1] 第2ピーク:−2.21ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆1] (☆1 本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,150cm-1(COC)、3,270cm-1(O
H) MSスペクトル m/z. 230(M+) また、1HNMRスペクトル図を図5に示した。
4ppm(6H)、2.69〜2.80ppm(2
H)、2.95〜3.16ppm(1H)、3.20〜
3.35ppm(2H)、3.52〜3.66ppm
(2H)、4.08〜4.16ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆1] 第2ピーク:−2.21ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆1] (☆1 本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,150cm-1(COC)、3,270cm-1(O
H) MSスペクトル m/z. 230(M+) また、1HNMRスペクトル図を図5に示した。
【0042】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器を備
えた三ツ口丸底フラスコに上述で得られた生成物−1、
1.15g(5ミリモル)と2.2−ジメトキシプロパ
ン5mlとパラトルエンスルホン酸1水塩0.1mgを
入れ、温度90℃の温水バスに挿入し、撹拌しながら、
沸騰するまで昇温し、引き続き5時間還流し、アセター
ル交換反応を行い、反応終了後、反応生成物を82℃で
蒸留し、留分を濃縮して、無色透明な液状の生成物−1
を得た。この生成物−2の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−2は
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
1,3−ジオキソラン誘導体という。)であることが確
認された。
えた三ツ口丸底フラスコに上述で得られた生成物−1、
1.15g(5ミリモル)と2.2−ジメトキシプロパ
ン5mlとパラトルエンスルホン酸1水塩0.1mgを
入れ、温度90℃の温水バスに挿入し、撹拌しながら、
沸騰するまで昇温し、引き続き5時間還流し、アセター
ル交換反応を行い、反応終了後、反応生成物を82℃で
蒸留し、留分を濃縮して、無色透明な液状の生成物−1
を得た。この生成物−2の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−2は
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
1,3−ジオキソラン誘導体という。)であることが確
認された。
【0043】1HNMRスペクトル(CDCl3) 1.00〜1.05ppm(3H)、1.36〜2.0
7ppm(6H)、1.58ppm(CH3)、1.7
5ppm(CH3)、1.82ppm(CH3)、1.9
0ppm(CH3)、2.73〜2.84ppm(2
H)、2.95〜3.04ppm(2H)、3.55〜
3.80ppm(2H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.46ppm、面積比70%[tra
ns体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] 第2ピーク:−3.66ppm、面積比30%[cis
体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] (☆2 本同定例にて確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,140cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 270(M+) また、1HNMRスペクトル図を図6に示した。
7ppm(6H)、1.58ppm(CH3)、1.7
5ppm(CH3)、1.82ppm(CH3)、1.9
0ppm(CH3)、2.73〜2.84ppm(2
H)、2.95〜3.04ppm(2H)、3.55〜
3.80ppm(2H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.46ppm、面積比70%[tra
ns体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] 第2ピーク:−3.66ppm、面積比30%[cis
体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] (☆2 本同定例にて確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,140cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 270(M+) また、1HNMRスペクトル図を図6に示した。
【0044】また、上述で得た生成物−2である1,3
−ジオキソラン誘導体の1HNMRスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表1の通りである。表1
より、面積比70%であるメチル基の位置はtrans
−2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5
−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
trans体1,3−ジオキソラン誘導体という。)で
あり、面積比30%であるメチル基の位置はcis−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、c
is体1,3−ジオキソラン誘導体という。)であるこ
とが判明した。したがって、生成物−2はtrans−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランおよびci
s−2,2−2−ジメチル−4−(4−エトキシブチ
ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン
からなり、その生成比率trans体/cis体=70
/30(面積比)のジアステレオマー混合物であること
が確認された。
−ジオキソラン誘導体の1HNMRスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表1の通りである。表1
より、面積比70%であるメチル基の位置はtrans
−2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5
−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
trans体1,3−ジオキソラン誘導体という。)で
あり、面積比30%であるメチル基の位置はcis−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、c
is体1,3−ジオキソラン誘導体という。)であるこ
とが判明した。したがって、生成物−2はtrans−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランおよびci
s−2,2−2−ジメチル−4−(4−エトキシブチ
ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン
からなり、その生成比率trans体/cis体=70
/30(面積比)のジアステレオマー混合物であること
が確認された。
【0045】
【表1】
【0046】また、生成物−2の1HNMRスペクトル
のメチル基(1.75ppm、 1.82ppm)の面
積比70%であるtrans体1,3−ジオキソラン誘
導体と生成物−2の19FNMRスペクトルの第1ピーク
(−0.46ppm)の面積比が一致したことにより、
第1ピークはtrans体1,3−ジオキソラン誘導体
であり、1HNMRスペクトルのメチル基(1.58p
pm、1.90ppm)の面積比30%であるcis体
1,3−ジオキソラン誘導体と生成物−2の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−3.66ppm)の面積比
が一致したことにより、第2ピークはcis体1,3−
ジオキソラン誘導体であることが確認された。
のメチル基(1.75ppm、 1.82ppm)の面
積比70%であるtrans体1,3−ジオキソラン誘
導体と生成物−2の19FNMRスペクトルの第1ピーク
(−0.46ppm)の面積比が一致したことにより、
第1ピークはtrans体1,3−ジオキソラン誘導体
であり、1HNMRスペクトルのメチル基(1.58p
pm、1.90ppm)の面積比30%であるcis体
1,3−ジオキソラン誘導体と生成物−2の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−3.66ppm)の面積比
が一致したことにより、第2ピークはcis体1,3−
ジオキソラン誘導体であることが確認された。
【0047】また、上述の第一段反応で得られた反応生
成物は(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプ
タノン−3のカルボニル炭素を金属水素化物で還元する
ことによって得られるため、2位の不斉炭素原子は還元
反応には無関係であり、(2S)配置であることが確認
された。また得られた反応生成物を加水分解した7−エ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−
ジオールの2位の不斉炭素原子は加水分解しても絶対配
置は変らないことより(2S)配置であることが確認さ
れた。
成物は(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプ
タノン−3のカルボニル炭素を金属水素化物で還元する
ことによって得られるため、2位の不斉炭素原子は還元
反応には無関係であり、(2S)配置であることが確認
された。また得られた反応生成物を加水分解した7−エ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−
ジオールの2位の不斉炭素原子は加水分解しても絶対配
置は変らないことより(2S)配置であることが確認さ
れた。
【0048】したがって、生成物−2のtrans体
1,3−ジオキソラン誘導体と面積比が一致する生成物
−1の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−0.48
ppm)はsyn−(2S,3R)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であり、他方、生成物−2のcis体1,3−ジオキソ
ラン誘導体と面積比が一致する生成物−1の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−2.21ppm)はant
i−(2S,3S)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン−2,3−ジオールであることが判明
し、生成物−1はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジ
アステレオマー混合物であることが確認された。したが
って、第一段反応で得られた反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
1,3−ジオキソラン誘導体と面積比が一致する生成物
−1の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−0.48
ppm)はsyn−(2S,3R)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であり、他方、生成物−2のcis体1,3−ジオキソ
ラン誘導体と面積比が一致する生成物−1の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−2.21ppm)はant
i−(2S,3S)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン−2,3−ジオールであることが判明
し、生成物−1はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジ
アステレオマー混合物であることが確認された。したが
って、第一段反応で得られた反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
【0049】(第二段反応)(O−メチル化誘導体の製
造) 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り60%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算15ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル2.27g
(16ミリモル)とジエチルエーテル20mlを入れ、
撹拌しながら、11分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、
引き続き、室温で2時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
造) 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り60%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算15ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル2.27g
(16ミリモル)とジエチルエーテル20mlを入れ、
撹拌しながら、11分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、
引き続き、室温で2時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
【0050】反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクト
ルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピーク
の位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比70%、[Sy
n体(2S、3R)型☆3] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比30%、[an
ti体(2S、3S)型☆3] (☆3、後述の同定例2で確認) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述の
同定例2より、O−メチル化誘導体はSyn体(2S、
3R)型/anti体(2S、3S)型=70/30
(面積比)からなるジアステレオマー混合物であること
が確認された。
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクト
ルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピーク
の位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比70%、[Sy
n体(2S、3R)型☆3] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比30%、[an
ti体(2S、3S)型☆3] (☆3、後述の同定例2で確認) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述の
同定例2より、O−メチル化誘導体はSyn体(2S、
3R)型/anti体(2S、3S)型=70/30
(面積比)からなるジアステレオマー混合物であること
が確認された。
【0051】(第三段反応)温度計、撹拌機、滴下ロー
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体3.86g(8.5ミ
リモル)とメタノール58mlを入れ、室温で撹拌しな
がら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.0
8gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液
を調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1
kg/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元
反応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素
ガスの吸収がなくなるまで、4時間供給し、反応を完結
させた。
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体3.86g(8.5ミ
リモル)とメタノール58mlを入れ、室温で撹拌しな
がら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.0
8gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液
を調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1
kg/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元
反応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素
ガスの吸収がなくなるまで、4時間供給し、反応を完結
させた。
【0052】還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾
過し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮
することにより、メタノールを留去した後、副生したト
ルエンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色
透明な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−1
[収量3.03g(8.33ミリモル)収率98%]を
得た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMR
スペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。
過し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮
することにより、メタノールを留去した後、副生したト
ルエンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色
透明な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−1
[収量3.03g(8.33ミリモル)収率98%]を
得た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMR
スペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。
【0053】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.87〜0.96ppm(3H)、1.09〜1.5
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H )、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆4] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆4] (☆4、後述の同定例2で確認) 1R吸収スペクトル 1,110cm-1(COC)、1,740cm-1(CO
O)、3,300cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H )、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆4] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆4] (☆4、後述の同定例2で確認) 1R吸収スペクトル 1,110cm-1(COC)、1,740cm-1(CO
O)、3,300cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
【0054】得られた生成物は後述の同定例2より、s
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなるジア
ステレオマー混合物であり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)であるジアステレオマー混合物−1である
ことが確認された。
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなるジア
ステレオマー混合物であり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)であるジアステレオマー混合物−1である
ことが確認された。
【0055】[同定例2:第二段反応で得られたO−メ
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンか
らなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/an
ti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジア
ステレオマー混合物−1であることの同定]温度計、撹
拌機、還流冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコ
に、実施例1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導
体1.82g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlと
メタノール80mlを入れ、撹拌しながら、80℃まで
昇温し、6時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、
室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量
0.78g(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンか
らなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/an
ti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジア
ステレオマー混合物−1であることの同定]温度計、撹
拌機、還流冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコ
に、実施例1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導
体1.82g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlと
メタノール80mlを入れ、撹拌しながら、80℃まで
昇温し、6時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、
室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量
0.78g(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
【0056】この生成物の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.81〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H )、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆5] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆5] (☆5、本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H)、 MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図8に示した。
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.81〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H )、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆5] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆5] (☆5、本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H)、 MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図8に示した。
【0057】次いで、上述の生成物を、下記条件で光学
異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ 内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60NL/min、スプリット比 100/1 検出 :FID
異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ 内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60NL/min、スプリット比 100/1 検出 :FID
【0058】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比70%、
[Syn体(2S、3R)型☆6] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比30%、
[anti体(2S、3S)型☆6] (☆6 本同定例で確認)
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比70%、
[Syn体(2S、3R)型☆6] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比30%、
[anti体(2S、3S)型☆6] (☆6 本同定例で確認)
【0059】第一段反応で得られたsyn体(2S,3
R)型/anti体(2S,3S)型=70/30(面
積比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成
物の3位の不斉炭素原子に結合した金属化合物のアルコ
ラートとヨウ化メチルと反応させることによって得られ
たO−メチル化誘導体を酸で加水分解することによって
得られる生成物は2本の光学活性ピークが得られ、かつ
第1ピーク/第2ピーク=70/30(面積比)が上記
第一段反応で得た反応生成物の面積比と一致したことに
より、反応生成物と生成物との間で2位と3位の不斉炭
素原子の絶対配置が変化しないことが確認された。
R)型/anti体(2S,3S)型=70/30(面
積比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成
物の3位の不斉炭素原子に結合した金属化合物のアルコ
ラートとヨウ化メチルと反応させることによって得られ
たO−メチル化誘導体を酸で加水分解することによって
得られる生成物は2本の光学活性ピークが得られ、かつ
第1ピーク/第2ピーク=70/30(面積比)が上記
第一段反応で得た反応生成物の面積比と一致したことに
より、反応生成物と生成物との間で2位と3位の不斉炭
素原子の絶対配置が変化しないことが確認された。
【0060】よって、生成物の光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比70%である第1ピーク(保持時間1
4.55分)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比30%である第2ピーク(保持時間1
5.27分)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシヘプタンであること
が判明し、syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシヘプタンと面積比が一致す
る生成物の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−2.
12ppm)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、anti−(2S,3
S)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する
生成物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.1
4ppm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであることが確認された。
ラフィーの面積比70%である第1ピーク(保持時間1
4.55分)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比30%である第2ピーク(保持時間1
5.27分)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシヘプタンであること
が判明し、syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシヘプタンと面積比が一致す
る生成物の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−2.
12ppm)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、anti−(2S,3
S)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する
生成物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.1
4ppm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであることが確認された。
【0061】したがって、O−メチル誘導体を加水分解
して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と3
位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O−
メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比70%
である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体(2
S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積比3
0%である第2ピーク(−3.90ppm)はanti
体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチル化
誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)からなるジアステ
レオマー混合物であることが確認出来た。
して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と3
位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O−
メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比70%
である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体(2
S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積比3
0%である第2ピーク(−3.90ppm)はanti
体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチル化
誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)からなるジアステ
レオマー混合物であることが確認出来た。
【0062】次いで、第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−1を下記条件で光学活性液体クロマトグ
ラフィーにかけた。 光学異性体分離カラム:[商品名:アミロース系光学異性体分離用HPLC カラム:ダイセル化学工業(株)製] 分離剤 :アミロース・トリス[(S)−1−フェニルエチルカルバ メート]をシリカゲルでコーティングしたもの(グレート CHIRALPAKAS) サイズ :4.6mmφ×250mmH 溶離液 :n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4(容量比 ) 流速 :0.5ml/min. 検出 :紫外検出器で波長254mmの紫外吸収を用いた。 試料 :0.1mg
オマー混合物−1を下記条件で光学活性液体クロマトグ
ラフィーにかけた。 光学異性体分離カラム:[商品名:アミロース系光学異性体分離用HPLC カラム:ダイセル化学工業(株)製] 分離剤 :アミロース・トリス[(S)−1−フェニルエチルカルバ メート]をシリカゲルでコーティングしたもの(グレート CHIRALPAKAS) サイズ :4.6mmφ×250mmH 溶離液 :n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4(容量比 ) 流速 :0.5ml/min. 検出 :紫外検出器で波長254mmの紫外吸収を用いた。 試料 :0.1mg
【0063】上記光学活性液体クロマトグラフィーのチ
ャートは図10の通りであり、図10の解析結果より、
2本の光学活性ピークが得られ、その保持時間と面積比
は以下の通りであった。 第1ピーク[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間10.11分 面積比70% 第2ピーク[anti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間11.46分 面積比30% (☆7 本同定例より確認)
ャートは図10の通りであり、図10の解析結果より、
2本の光学活性ピークが得られ、その保持時間と面積比
は以下の通りであった。 第1ピーク[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間10.11分 面積比70% 第2ピーク[anti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間11.46分 面積比30% (☆7 本同定例より確認)
【0064】なお、上述の同定例2より、syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるO
−メチル化誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下で水
素ガスで還元することによりジアステレオマー混合物−
1が得られる反応では、2位と3位の不斉炭素原子の立
体配置には無関係である。したがって、O−メチル化誘
導体のsyn体(2S,3R)型の面積比と一致するジ
アステレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラ
フィーの第1ピーク(保持時間10.11分)はsyn
−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−ト
リフルオロヘプタンであり、他方O−メチル化誘導体の
anti体(2S,3S)型の面積比と一致するジアス
テレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第2ピーク(保持時間11.46分)はanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンであることが判明した。
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるO
−メチル化誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下で水
素ガスで還元することによりジアステレオマー混合物−
1が得られる反応では、2位と3位の不斉炭素原子の立
体配置には無関係である。したがって、O−メチル化誘
導体のsyn体(2S,3R)型の面積比と一致するジ
アステレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラ
フィーの第1ピーク(保持時間10.11分)はsyn
−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−ト
リフルオロヘプタンであり、他方O−メチル化誘導体の
anti体(2S,3S)型の面積比と一致するジアス
テレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第2ピーク(保持時間11.46分)はanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンであることが判明した。
【0065】よって、ジアステレオマー混合物−1の19
FNMRスペクトルの面積比70%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比30%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
70/30(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
FNMRスペクトルの面積比70%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比30%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
70/30(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
【0066】(第四段反応)[syn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン(原料化合物)およびanti−(2S,3S)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−1、2
00g(5.5ミリモル)を下記条件で、分取用シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、第1ピークお
よび第2ピークを各々分取し、溶離液を減圧留去し、い
ずれも無色透明な液状の生成物である第1フラクション
[取得量1.26g(3.47ミリモル)取得率63
%]および第2フラクション[取得量0.54g(1.
48ミリモル)取得率27%]を各々得た。
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン(原料化合物)およびanti−(2S,3S)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−1、2
00g(5.5ミリモル)を下記条件で、分取用シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、第1ピークお
よび第2ピークを各々分取し、溶離液を減圧留去し、い
ずれも無色透明な液状の生成物である第1フラクション
[取得量1.26g(3.47ミリモル)取得率63
%]および第2フラクション[取得量0.54g(1.
48ミリモル)取得率27%]を各々得た。
【0067】これらの生成物の1HNMRスペクトル、
1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレオマ
ー混合物−1と一致し、各生成物は2−(4−ヒドロキ
シベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。また、19
FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1本のピー
クが認められた。さらに第三段反応の同定例2と同じ条
件で、光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記
光学活性液体クロマトグラフィーのチャートは各々図1
1および図12の通りで、図11、および図12の解析
結果より、各々1本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間を示すと以下の通りとなり、生成物である第1フ
ラションはsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン(原料化合物)で
あり、第2フラクションはanti−(2S,3S)−
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
であることが確認出来た。
1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレオマ
ー混合物−1と一致し、各生成物は2−(4−ヒドロキ
シベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。また、19
FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1本のピー
クが認められた。さらに第三段反応の同定例2と同じ条
件で、光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記
光学活性液体クロマトグラフィーのチャートは各々図1
1および図12の通りで、図11、および図12の解析
結果より、各々1本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間を示すと以下の通りとなり、生成物である第1フ
ラションはsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン(原料化合物)で
あり、第2フラクションはanti−(2S,3S)−
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
であることが確認出来た。
【0068】分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー[商品名:イナートシエルPREP−ODS分取、ガ
ードカラム2点セットNo.5020−35112、ジ
ーエルサイエンス(株)製] 充填剤:純度99.9%の10μシリカゲルにオクタデ
シル基を化学結合したもの サイズ:10mmφ×250mmH 溶離液:n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比) 流速:2ml/min 検出:紫外検出器、波長254nm 試料供給量:1g
ー[商品名:イナートシエルPREP−ODS分取、ガ
ードカラム2点セットNo.5020−35112、ジ
ーエルサイエンス(株)製] 充填剤:純度99.9%の10μシリカゲルにオクタデ
シル基を化学結合したもの サイズ:10mmφ×250mmH 溶離液:n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比) 流速:2ml/min 検出:紫外検出器、波長254nm 試料供給量:1g
【0069】第1フラクシヨン[syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 10.11分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フランクシヨン[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 11.46分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 10.11分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フランクシヨン[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 11.46分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
【0070】参考例6[syn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンおよ
びanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし、金属
水素化物として水素化ジイソブチルアルミニウムを用い
た場合]
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンおよ
びanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし、金属
水素化物として水素化ジイソブチルアルミニウムを用い
た場合]
【0071】(第一段反応)[syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)に23mlを入れ、撹拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム3.91g(27.5ミリモル)とジエチルエー
テル23mlを入れ、撹拌しながら、10分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き90分間撹拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例3より、syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)に23mlを入れ、撹拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム3.91g(27.5ミリモル)とジエチルエー
テル23mlを入れ、撹拌しながら、10分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き90分間撹拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例3より、syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
【0072】[同定例3:反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた20重量%反応生
成物溶液(原料化合物換算5ミリモル含有反応生成物溶
液)と、3規定塩酸25mlおよびメタノール100m
lを入れ、温度80℃の温水バス中に挿入し、撹拌しな
がら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還流
し、加水分解反応を行った。加水分解反応完了後、温水
バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水
溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=95/5(容量
比)]で精製し、無色透明な液状の生成物−3[収量
0.9g(3.92ppm)収率78.4%]を得た。
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた20重量%反応生
成物溶液(原料化合物換算5ミリモル含有反応生成物溶
液)と、3規定塩酸25mlおよびメタノール100m
lを入れ、温度80℃の温水バス中に挿入し、撹拌しな
がら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還流
し、加水分解反応を行った。加水分解反応完了後、温水
バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水
溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=95/5(容量
比)]で精製し、無色透明な液状の生成物−3[収量
0.9g(3.92ppm)収率78.4%]を得た。
【0073】この生成物−3の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルを測定した
結果は参考例5の同定例1と一致し、7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であることが確認された。また、参考例5の同定例1の
結果を基に、19FNMRスペクトルを測定した結果、2
本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比よ
り、生成物−3はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=40/60(面積比)から
なるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比40 syn体
(2S,3R)型 第2ピーク:−2.21ppm、面積比60 anti
体(2S,3S)型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40
/60(面積比)からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルを測定した
結果は参考例5の同定例1と一致し、7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であることが確認された。また、参考例5の同定例1の
結果を基に、19FNMRスペクトルを測定した結果、2
本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比よ
り、生成物−3はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=40/60(面積比)から
なるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比40 syn体
(2S,3R)型 第2ピーク:−2.21ppm、面積比60 anti
体(2S,3S)型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40
/60(面積比)からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
【0074】(第二段反応)(O−メチル化誘導体) 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り80%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算20ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル3.12g
(22ミリモル)とジエチルエーテル28mlを入れ、
撹拌しながら、13分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、室温まで昇温し、引き続き、室温
で2時間撹拌保持して、反応を完結させた。
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り80%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算20ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル3.12g
(22ミリモル)とジエチルエーテル28mlを入れ、
撹拌しながら、13分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、室温まで昇温し、引き続き、室温
で2時間撹拌保持して、反応を完結させた。
【0075】反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
7.54g(16.6ミリモル)収率83%]を得た。
得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルを
測定した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位
置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆7] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆7] (☆7、後述の同定例4で確認)
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
7.54g(16.6ミリモル)収率83%]を得た。
得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルを
測定した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位
置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆7] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆7] (☆7、後述の同定例4で確認)
【0076】(第三段反応)温度計、撹拌機、滴下ロー
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体4.99g(11ミリ
モル)とメタノール75mlを入れ、室温で撹拌しなが
ら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.10
gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液を
調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1k
g/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元反
応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素ガ
スの吸収がなくなるまで、4、5時間供給し、反応を完
結させた。還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾過
し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮す
ることにより、メタノールを留去した後、副生したトル
エンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得た。
この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4
(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色透明
な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−2[収
量3.92g(10.78ミリモル)収率98%]を得
た。
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体4.99g(11ミリ
モル)とメタノール75mlを入れ、室温で撹拌しなが
ら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.10
gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液を
調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1k
g/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元反
応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素ガ
スの吸収がなくなるまで、4、5時間供給し、反応を完
結させた。還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾過
し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮す
ることにより、メタノールを留去した後、副生したトル
エンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得た。
この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4
(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色透明
な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−2[収
量3.92g(10.78ミリモル)収率98%]を得
た。
【0077】この生成物の1HNMRスペクトル、1R
吸収スペクトル、およびMSスペクトルを測定した結果
は参考例5の第三段反応と同じであり、生成物は2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19FNMRス
ペクトルを測定した結果、2本のピークが認められ、各
ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比40%[Syn
体(2S、3R)型☆8] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比60%[ant
i体(2S、3S)型☆8] (☆8、後述の同定例4で確認)
吸収スペクトル、およびMSスペクトルを測定した結果
は参考例5の第三段反応と同じであり、生成物は2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19FNMRス
ペクトルを測定した結果、2本のピークが認められ、各
ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比40%[Syn
体(2S、3R)型☆8] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比60%[ant
i体(2S、3S)型☆8] (☆8、後述の同定例4で確認)
【0078】得られた生成物は後述の同定例4より、s
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなるジアステレオマー混合物であり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)であるジアステレオマ
ー混合物−2であることが確認された。
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなるジアステレオマー混合物であり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)であるジアステレオマ
ー混合物−2であることが確認された。
【0079】[同定例4:第二段反応で得られたO−メ
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また第三段反応で得られた
ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)のジアステレオマー混
合物であることの同定]
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また第三段反応で得られた
ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)のジアステレオマー混
合物であることの同定]
【0080】温度計、撹拌機、還流冷却器、ロートを備
えた四ツ口丸底フラスコに、参考例6の第二段反応で得
られたO−メチル化誘導体2.27g(5ミリモル)
と、3規定塩酸25mlとメタノール100mlを入
れ、撹拌しながら、80℃まで昇温し、6時間還流し、
加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて、水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無
色透明な液状の生成物[収量0.98g(4ミリモル)
収率80%]を得た。
えた四ツ口丸底フラスコに、参考例6の第二段反応で得
られたO−メチル化誘導体2.27g(5ミリモル)
と、3規定塩酸25mlとメタノール100mlを入
れ、撹拌しながら、80℃まで昇温し、6時間還流し、
加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて、水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無
色透明な液状の生成物[収量0.98g(4ミリモル)
収率80%]を得た。
【0081】この生成物の1HNMRスペクトル、 1R
吸収スペクトル、MSスペクトルを測定した結果は同定
例2と一致し、生成物は2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あった。得られた生成物の19FNMRスペクトルを測定
した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位置と
面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆9] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆9] (☆9、本同定例で確認)
吸収スペクトル、MSスペクトルを測定した結果は同定
例2と一致し、生成物は2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あった。得られた生成物の19FNMRスペクトルを測定
した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位置と
面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆9] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆9] (☆9、本同定例で確認)
【0082】また、上述の生成物を、参考例5の同定例
2と同様な条件で、光学活性ガスクロマトグラフィーに
かけた。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを
示すと図13となった。図13のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比40%[s
yn体(2S,3R)型☆10] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比60%[a
nti体(2S,3S)型☆10]
2と同様な条件で、光学活性ガスクロマトグラフィーに
かけた。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを
示すと図13となった。図13のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比40%[s
yn体(2S,3R)型☆10] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比60%[a
nti体(2S,3S)型☆10]
【0083】参考例5の同定例2の結果に基づき、第1
ピーク(保持時間14.55分)はsyn−(2S,3
R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであり、第2ピーク
(保持時間15.27分)はanti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認され、
生成物はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
ピーク(保持時間14.55分)はsyn−(2S,3
R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであり、第2ピーク
(保持時間15.27分)はanti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認され、
生成物はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
【0084】syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンと面積比が一致する生成物の19FNMRス
ペクトルの第1ピーク(−2.12ppm)はsyn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とがあることが確認された。anti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する生成
物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.14p
pm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロヘプタンであることが確認された。
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンと面積比が一致する生成物の19FNMRス
ペクトルの第1ピーク(−2.12ppm)はsyn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とがあることが確認された。anti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する生成
物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.14p
pm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロヘプタンであることが確認された。
【0085】したがって、O−メチル化誘導体を加水分
解して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と
3位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O
−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比40
%である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体
(2S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積
比60%である第2ピーク(−3.90ppm)はan
ti体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチ
ル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であることが確認出来た。
解して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と
3位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O
−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比40
%である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体
(2S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積
比60%である第2ピーク(−3.90ppm)はan
ti体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチ
ル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であることが確認出来た。
【0086】次いで、第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−2を参考例5の同定例2と同様な条件で
光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記光学活
性液体クロマトグラフィーのチャートは図14の通りで
あり、図14の解析結果より、2本の光学活性ピークが
得られ、その保持時間と面積比は以下の通りであった。 第1ピーク:[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:10.11分、面積比40% 第2ピーク:[anti−(2S,3S)−2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:11.46分、面積比60% (☆11 本同定例より確認)
オマー混合物−2を参考例5の同定例2と同様な条件で
光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記光学活
性液体クロマトグラフィーのチャートは図14の通りで
あり、図14の解析結果より、2本の光学活性ピークが
得られ、その保持時間と面積比は以下の通りであった。 第1ピーク:[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:10.11分、面積比40% 第2ピーク:[anti−(2S,3S)−2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:11.46分、面積比60% (☆11 本同定例より確認)
【0087】なお、syn体(2S,3R)型/ant
i体(2S,3S)型=40/60(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物であるO−メチル化誘導体をパ
ラジウム/炭素触媒の存在下で水素ガスで還元すること
によりジアステレオマー混合物−2が得られる反応で
は、2位と3位の不斉炭素原子の立体配置には無関係で
ある。したがって、O−メチル化誘導体のsyn体(2
S,3R)型の面積比と一致するジアステレオマー混合
物−2の光学活性液体クロマトグラフィーの第1ピーク
(保持時間10.11分)はsyn−(2S,3R)−
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
であり、他方O−メチル化誘導体のanti体(2S,
3S)型の面積比と一致するジアステレオマー混合物−
2の光学活性液体クロマトグラフィーの第2ピーク(保
持時間11.46分)はanti−(2S,3S)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが判明した。
i体(2S,3S)型=40/60(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物であるO−メチル化誘導体をパ
ラジウム/炭素触媒の存在下で水素ガスで還元すること
によりジアステレオマー混合物−2が得られる反応で
は、2位と3位の不斉炭素原子の立体配置には無関係で
ある。したがって、O−メチル化誘導体のsyn体(2
S,3R)型の面積比と一致するジアステレオマー混合
物−2の光学活性液体クロマトグラフィーの第1ピーク
(保持時間10.11分)はsyn−(2S,3R)−
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
であり、他方O−メチル化誘導体のanti体(2S,
3S)型の面積比と一致するジアステレオマー混合物−
2の光学活性液体クロマトグラフィーの第2ピーク(保
持時間11.46分)はanti−(2S,3S)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが判明した。
【0088】よって、ジアステレオマー混合物−2の19
FNMRスペクトルの面積比40%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比60%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
40/60(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
FNMRスペクトルの面積比40%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比60%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
40/60(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
【0089】(第四段反応)[syn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンの製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−2、
2.91g(8ミリモル)を参考例5の第四段反応と同
様な条件で、分取用シリカゲルクロマトグラフィーを用
いて第1ピークおよび第2ピークを各々分取し、溶離液
を減圧留去し、いずれも無色透明な液状の各目的生成物
である第1フラクション[収得量1.05g(2.88
ミリモル)収得率36%]および第2フラクション[収
得量1.57g(4.32ミリモル)収得率54%]を
各々得た。
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンの製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−2、
2.91g(8ミリモル)を参考例5の第四段反応と同
様な条件で、分取用シリカゲルクロマトグラフィーを用
いて第1ピークおよび第2ピークを各々分取し、溶離液
を減圧留去し、いずれも無色透明な液状の各目的生成物
である第1フラクション[収得量1.05g(2.88
ミリモル)収得率36%]および第2フラクション[収
得量1.57g(4.32ミリモル)収得率54%]を
各々得た。
【0090】これらの目的生成物の1HNMRスペクト
ル、1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレ
オマー混合物−2と一致し、各目的生成物は2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
また19FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1本
のピークが認められた。さらに、参考例5の第四段反応
と同様な条件で光学活性液体クロマトグラフィーをかけ
ると、図11、図12と同様のチャートが得られた。以
上の結果より、目的生成物である第1フラクションはs
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンであり、第2フラクションはa
nti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
ル、1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレ
オマー混合物−2と一致し、各目的生成物は2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
また19FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1本
のピークが認められた。さらに、参考例5の第四段反応
と同様な条件で光学活性液体クロマトグラフィーをかけ
ると、図11、図12と同様のチャートが得られた。以
上の結果より、目的生成物である第1フラクションはs
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンであり、第2フラクションはa
nti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
【0091】第1フラクション[syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.05g(2.88ミリモル)、収得率36
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 10.11分 第2フラクション[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 1.57g(4.32ミリモル) 収得率54
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 11.46分
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.05g(2.88ミリモル)、収得率36
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 10.11分 第2フラクション[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 1.57g(4.32ミリモル) 収得率54
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 11.46分
【0092】実施例1[syn−(2S,3R)−2−
{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオ
キシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
4ツ口丸底フラスコに、参考例5で得られるsyn−
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン1.46g(4ミリモル)と、4−
(4−n−デシルフェニル)安息香酸1.62g(4.
8ミリモル)と、N,N−ジメチルアミノピリジン0.
29g(2.4ミリモル)および塩化メチレン120m
lを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液を調合した。次
いで滴下ロートにジシクロヘキシルカルボジイミド1.
22g(6ミリモル)を入れ、撹拌しながら滴下し、引
き続き、室温で5時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオ
キシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
4ツ口丸底フラスコに、参考例5で得られるsyn−
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン1.46g(4ミリモル)と、4−
(4−n−デシルフェニル)安息香酸1.62g(4.
8ミリモル)と、N,N−ジメチルアミノピリジン0.
29g(2.4ミリモル)および塩化メチレン120m
lを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液を調合した。次
いで滴下ロートにジシクロヘキシルカルボジイミド1.
22g(6ミリモル)を入れ、撹拌しながら滴下し、引
き続き、室温で5時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
【0093】反応完了後、析出したジシクロヘキシル尿
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸、1
0%炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、減
圧留去して塩化メチレンを除去し、シロップ状の残渣を
得た。この残渣を熱n−ヘキサンに溶解した後、冷却晶
析して、白色の粗結晶を得た。得られた粗結晶を液体ク
ロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピル
アルコール=93/7(容量比)]で精製し、無色透明
な液状の目的生成物[収量2.33g(3.4ミリモ
ル)収率85%]を得た。
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸、1
0%炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、減
圧留去して塩化メチレンを除去し、シロップ状の残渣を
得た。この残渣を熱n−ヘキサンに溶解した後、冷却晶
析して、白色の粗結晶を得た。得られた粗結晶を液体ク
ロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピル
アルコール=93/7(容量比)]で精製し、無色透明
な液状の目的生成物[収量2.33g(3.4ミリモ
ル)収率85%]を得た。
【0094】この目的生成物の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、目的生成
物は2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベン
ゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3
−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。また、この目的生成物は原料化合物の2個の不斉炭
素原子の立体配置には無関係であり、光学活性な不斉中
心は変化しないことより、本発明化合物syn−(2
S,3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフメオロヘプタ
ンであることが確認された。さらに後述の同定例より、
syn体(2S,3R)型であることを確認した。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、目的生成
物は2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベン
ゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3
−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。また、この目的生成物は原料化合物の2個の不斉炭
素原子の立体配置には無関係であり、光学活性な不斉中
心は変化しないことより、本発明化合物syn−(2
S,3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフメオロヘプタ
ンであることが確認された。さらに後述の同定例より、
syn体(2S,3R)型であることを確認した。
【0095】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.8〜1.04ppm(6H)、1.09〜1.62
ppm(24H)、2.07〜2.20ppm(2
H)、2.60ppm(3H)、3.07〜3.20p
pm(2H)、4.15〜4.20ppm(1H)、
4.52〜4.56ppm(1H)、6.58〜8.0
4ppm(12H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.95ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,730cm-1(CO
O) MSスペクトル m/z 684(M+) また、1HNMRスペクトル図を図15に示した。
ppm(24H)、2.07〜2.20ppm(2
H)、2.60ppm(3H)、3.07〜3.20p
pm(2H)、4.15〜4.20ppm(1H)、
4.52〜4.56ppm(1H)、6.58〜8.0
4ppm(12H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.95ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,730cm-1(CO
O) MSスペクトル m/z 684(M+) また、1HNMRスペクトル図を図15に示した。
【0096】(同定例)[本発明化合物がsyn−(2
S、3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンであることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに原料化合物0.36g(1ミリモル)
と3規定塩酸5ミリモルとメタノール20mlを入れ、
80℃まで昇温し、6時間還流し、加水分解反応を行っ
た。次いで、室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽
出液を20%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を
除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成
物−1[収量0.2g(0.8ミリモル)収率80%]
を得た。
S、3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンであることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに原料化合物0.36g(1ミリモル)
と3規定塩酸5ミリモルとメタノール20mlを入れ、
80℃まで昇温し、6時間還流し、加水分解反応を行っ
た。次いで、室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽
出液を20%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を
除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成
物−1[収量0.2g(0.8ミリモル)収率80%]
を得た。
【0097】この生成物−1の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−
1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−
1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
【0098】次いで、上述の生成物−1を下記条件で、
光学異性体分離カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60Nl/min、スプリット比10 0/1 検出 :FID
光学異性体分離カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60Nl/min、スプリット比10 0/1 検出 :FID
【0099】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを図17に示した。図17の解析結果より1本の光学
活性なピークが認められ、その保持時間は14.55分
であった。原料化合物を加水分解して得た生成物−1は
1本の光学活性しか認められないことより生成物はsy
n−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
ることが判明した。次いで、原料化合物0.36g(1
ppm)の代わりに目的生成物0.68g(1ppm)
を用いた以外は上述と同様な方法で加水分解反応を行
い、無色透明な液状の生成物−2[収量0.2g(0.
8ミリモル)収率80%]を得た。この生成物−2の各
種スペクトルを測定した結果、生成物−1と同様であ
り、2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
トを図17に示した。図17の解析結果より1本の光学
活性なピークが認められ、その保持時間は14.55分
であった。原料化合物を加水分解して得た生成物−1は
1本の光学活性しか認められないことより生成物はsy
n−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
ることが判明した。次いで、原料化合物0.36g(1
ppm)の代わりに目的生成物0.68g(1ppm)
を用いた以外は上述と同様な方法で加水分解反応を行
い、無色透明な液状の生成物−2[収量0.2g(0.
8ミリモル)収率80%]を得た。この生成物−2の各
種スペクトルを測定した結果、生成物−1と同様であ
り、2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
【0100】また、上述の生成物−2を上と同様な条件
で、光学活性ガスクロマトグラフィーをかけると、1本
の光学活性ピークが得られ、その保持時間は14.55
分となり、生成物−2は生成物−1と同様、syn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。したがって、目的生成物は加水分解しても、2位と
3位の不斉炭素原子の絶体配置は変化しないことより、
目的生成物はsyn体(2S,3R)型であることが判
明し、本発明化合物syn−(2S,3R)−2−{4
−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオキ
シ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
出来た。
で、光学活性ガスクロマトグラフィーをかけると、1本
の光学活性ピークが得られ、その保持時間は14.55
分となり、生成物−2は生成物−1と同様、syn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。したがって、目的生成物は加水分解しても、2位と
3位の不斉炭素原子の絶体配置は変化しないことより、
目的生成物はsyn体(2S,3R)型であることが判
明し、本発明化合物syn−(2S,3R)−2−{4
−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオキ
シ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
出来た。
【0101】試験例1 (本発明化合物の相転移温度の測定)本発明化合物につ
いて、DSC、および後述の液晶表示素子の電場応答を
偏光顕微鏡で観察することにより、相転移温度を測定し
た結果は次の通りである。ただし、cry:結晶相、S
CA☆:反強誘電性液晶相、SA:スメクチックA相およ
びISO:等方性液体相を表わす。また上段の値は4℃
/minで昇温したとき、下段の値は4℃/minで降
温したときの相転移温度を表わす。 相転移温度:
いて、DSC、および後述の液晶表示素子の電場応答を
偏光顕微鏡で観察することにより、相転移温度を測定し
た結果は次の通りである。ただし、cry:結晶相、S
CA☆:反強誘電性液晶相、SA:スメクチックA相およ
びISO:等方性液体相を表わす。また上段の値は4℃
/minで昇温したとき、下段の値は4℃/minで降
温したときの相転移温度を表わす。 相転移温度:
【0102】
【化6】
【0103】となり、本発明化合物は室温付近を含む反
強誘電性液晶化合物であった。 (液晶表示素子の作成)透明電極付きの2枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、1.7umのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに実施例1で得た本発明化合
物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態ま
で徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光
子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相におけ
る分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致
するように設置し、電界無印加時(0V)のとき、第3
安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルス
メクチックC相に変化させ、その状態を明状態として用
いることより、暗および明の表示を行うことが出来る液
晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が0Vのと
き透過光量が最小となるように偏光子に対するセルの角
度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転さ
せ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を100%と
した。
強誘電性液晶化合物であった。 (液晶表示素子の作成)透明電極付きの2枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、1.7umのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに実施例1で得た本発明化合
物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態ま
で徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光
子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相におけ
る分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致
するように設置し、電界無印加時(0V)のとき、第3
安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルス
メクチックC相に変化させ、その状態を明状態として用
いることより、暗および明の表示を行うことが出来る液
晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が0Vのと
き透過光量が最小となるように偏光子に対するセルの角
度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転さ
せ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を100%と
した。
【0104】(液晶表示素子の評価)上述で作成した液
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図18
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2us(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/um(25℃において、完
全に明状態になる電圧) チルト角 :30.20(25℃において、しきい
値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、本発明化合物は室温付近で反強誘電性液晶
相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、3安
定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応答時
間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大き
く、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電性
液晶化合物であることが確認出来た。
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図18
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2us(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/um(25℃において、完
全に明状態になる電圧) チルト角 :30.20(25℃において、しきい
値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、本発明化合物は室温付近で反強誘電性液晶
相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、3安
定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応答時
間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大き
く、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電性
液晶化合物であることが確認出来た。
【0105】
【発明の効果】本発明は、隣接する2個の不斉炭素原子
を有する新規なsyn−(2S,3R)−7−エトキシ
−3−メトキシヘプタン誘導体からなる反強誘電性液晶
化合物を提供し、室温付近で反強誘電性液晶相を発現
し、それを用いた液晶表示素子は3安定状態を有するダ
ブルヒステリシス曲線が得られ、高速応答性、高チルト
角および低しきい値電圧を有し、大画面液晶ディスプレ
イ材料等として好適な液晶化合物が得られる。
を有する新規なsyn−(2S,3R)−7−エトキシ
−3−メトキシヘプタン誘導体からなる反強誘電性液晶
化合物を提供し、室温付近で反強誘電性液晶相を発現
し、それを用いた液晶表示素子は3安定状態を有するダ
ブルヒステリシス曲線が得られ、高速応答性、高チルト
角および低しきい値電圧を有し、大画面液晶ディスプレ
イ材料等として好適な液晶化合物が得られる。
【図1】参考例3で得られた1−ヒドロキシ−2,2,
2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの
1HNMRスペクトル図である。
2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの
1HNMRスペクトル図である。
【図2】参考例3中の同定例1で得られた1−ヒドロキ
シ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブ
チルケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
シ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブ
チルケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
【図3】参考例3中の同定例1で得られた(S)−1−
ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エ
トキシブチルケトンの光学活性ガスクロマトグラフィー
のチャートである。
ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エ
トキシブチルケトンの光学活性ガスクロマトグラフィー
のチャートである。
【図4】参考例4で得られた2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタノン−3の1HNMRスペクトル図であ
る。
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタノン−3の1HNMRスペクトル図であ
る。
【図5】参考例5の第一段反応の同定例1で得られた7
−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,
3−ジオールの1HNMRスペクトル図である。
−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,
3−ジオールの1HNMRスペクトル図である。
【図6】参考例5の第一段反応の同定例1で得られた
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランの 1HN
MRスペクトル図である。
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランの 1HN
MRスペクトル図である。
【図7】参考例5の第三段反応で得られた2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの 1HNM
Rスペクトル図である。
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの 1HNM
Rスペクトル図である。
【図8】参考例5の第三段反応の同定例2で得られた2
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの1HNMRスペクトル図で
ある。
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの1HNMRスペクトル図で
ある。
【図9】参考例5の第三段反応の同定例2で得られたs
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンお
よびanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなり、その生成比率syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=70/30(面積
比)のジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンお
よびanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなり、その生成比率syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=70/30(面積
比)のジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
【図10】参考例5の第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−1:syn−(2S,3R)−2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン/ant
i−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイル
オキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタン=70/30(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物の光学活性液体クロマトグラフ
ィーのチャートである。
オマー混合物−1:syn−(2S,3R)−2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン/ant
i−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイル
オキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタン=70/30(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物の光学活性液体クロマトグラフ
ィーのチャートである。
【図11】参考例5の第四段反応で得られた原料化合
物:syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンの光学活性液体クロマト
グラフィーのチャートである。
物:syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンの光学活性液体クロマト
グラフィーのチャートである。
【図12】参考例5の第四段反応で得られたanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンの光学活性液体クロマトグラフィーの
チャートである。
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンの光学活性液体クロマトグラフィーの
チャートである。
【図13】参考例6の第三段反応の同定例4で得られた
syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
およびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからな
り、その生成比率syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=40/60(面積比)のジアステ
レオマー混合物の光学活性ガスクロマトグラフィーのチ
ャートである。
syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
およびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからな
り、その生成比率syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=40/60(面積比)のジアステ
レオマー混合物の光学活性ガスクロマトグラフィーのチ
ャートである。
【図14】参考例6の第三段反応の同定例4で得られた
ジアステレオマー混合物−2:syn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン/anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物の光学活性液体ク
ロマトグラフィーのチャートである。
ジアステレオマー混合物−2:syn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン/anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物の光学活性液体ク
ロマトグラフィーのチャートである。
【図15】実施例1で得られたsyn−(2S,3R)
−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾ
イルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの1HN
MRスペクトル図である。
−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾ
イルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの1HN
MRスペクトル図である。
【図16】実施例1の同定例で得られた生成物−1:s
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
1HNMRスペクトル図である。
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
1HNMRスペクトル図である。
【図17】実施例1の同定例で得られた生成物−1の光
学活性ガスクロマトグラフィーのチャートである。
学活性ガスクロマトグラフィーのチャートである。
【図18】syn−(2S,3R)−2−{4−[4−
(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾ
イルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの液晶表示素子のダブルヒス
テリシス曲線である。
(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾ
イルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの液晶表示素子のダブルヒス
テリシス曲線である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年1月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0017
【補正方法】変更
【補正内容】
【0017】
【化5】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】この生成物の1HNMRスペクトル、19
FNMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの
生成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光
学的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl3 ) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3.21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm−1(CO)、3,330cm−1(O
H) MSスペクトル m/z 197(M+)
FNMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの
生成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光
学的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl3 ) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3.21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm−1(CO)、3,330cm−1(O
H) MSスペクトル m/z 197(M+)
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0050
【補正方法】変更
【補正内容】
【0050】反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペク
トルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピー
クの位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述
の同定例2より、O−メチル化誘導体はsyn体(2
S、3R)型/anti体(2S、3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認された。
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペク
トルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピー
クの位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述
の同定例2より、O−メチル化誘導体はsyn体(2
S、3R)型/anti体(2S、3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認された。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0053
【補正方法】変更
【補正内容】
【0053】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.87〜0.96ppm(3H)、1.09〜1.5
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H)、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm−1(COC)、1,740cm
−1(COO)、3,300cm−1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H)、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm−1(COC)、1,740cm
−1(COO)、3,300cm−1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0055
【補正方法】変更
【補正内容】
【0055】[同定例2:第二段反応で得られたO−メ
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなり、そ
の生成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)のジアステレオマ
ー混合物−1であることの同定]温度計、攪拌機、還流
冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、実施例
1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導体1.82
g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlとメタノール
80mlを入れ、攪拌しながら、80℃まで昇温し、6
時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、室温まで冷
却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、溶媒を
減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量0.78g
(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなり、そ
の生成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)のジアステレオマ
ー混合物−1であることの同定]温度計、攪拌機、還流
冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、実施例
1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導体1.82
g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlとメタノール
80mlを入れ、攪拌しながら、80℃まで昇温し、6
時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、室温まで冷
却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、溶媒を
減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量0.78g
(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0058
【補正方法】変更
【補正内容】
【0058】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0069
【補正方法】変更
【補正内容】
【0069】第1フラクション[syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フラクション[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フラクション[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0073
【補正方法】変更
【補正内容】
【0073】この生成物−3の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルを測定し
た結果は参考例5の同定例1と一致し、7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であることが確認された。また、参考例5の同定例1の
結果を基に、19FNMRスペクトルを測定した結果、
2本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比
より、生成物−3はsyn−(2S,3R)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジ
オールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオー
ルからなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/
anti体(2S,3S)型=40/60(面積比)か
らなるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比40% syn
体(2S,3R)型 第2ピーク:−2.21ppm、面積比60% ant
i体(2S,3S)型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40
/60(面積比)からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルを測定し
た結果は参考例5の同定例1と一致し、7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であることが確認された。また、参考例5の同定例1の
結果を基に、19FNMRスペクトルを測定した結果、
2本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比
より、生成物−3はsyn−(2S,3R)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジ
オールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオー
ルからなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/
anti体(2S,3S)型=40/60(面積比)か
らなるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比40% syn
体(2S,3R)型 第2ピーク:−2.21ppm、面積比60% ant
i体(2S,3S)型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40
/60(面積比)からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0097
【補正方法】変更
【補正内容】
【0097】この生成物−1の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびM
Sスペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物
−1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜 1.00ppm(3H)、1.04〜1.
30ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH ) −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm−1(COC)、1,670cm
−1(OH) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびM
Sスペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物
−1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜 1.00ppm(3H)、1.04〜1.
30ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH ) −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm−1(COC)、1,670cm
−1(OH) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0103
【補正方法】変更
【補正内容】
【0103】となり、本発明化合物は室温付近を含む反
強誘電性液晶化合物であった。 (液晶表示素子の作成)透明電極付きの2枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、1.7μmのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに実施例1で得た本発明化合
物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態ま
で徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光
子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相におけ
る分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致
するように設置し、電界無印加時(0V)のとき、第3
安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルス
メクチックC相に変化させ、その状態を明状態として用
いることより、暗および明の表示を行うことが出来る液
晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が0Vのと
き透過光量が最小となるように偏光子に対するセルの角
度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転さ
せ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を100%と
した。
強誘電性液晶化合物であった。 (液晶表示素子の作成)透明電極付きの2枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、1.7μmのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに実施例1で得た本発明化合
物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態ま
で徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光
子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相におけ
る分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致
するように設置し、電界無印加時(0V)のとき、第3
安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルス
メクチックC相に変化させ、その状態を明状態として用
いることより、暗および明の表示を行うことが出来る液
晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が0Vのと
き透過光量が最小となるように偏光子に対するセルの角
度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転さ
せ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を100%と
した。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0104
【補正方法】変更
【補正内容】
【0104】(液晶表示素子の評価)上述で作成した液
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図18
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2μs(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/μm(25℃において、完
全に明状態になる電圧) チルト角 :30.20°(25℃において、しき
い値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、本発明化合物は室温付近で反強誘電性液晶
相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、3安
定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応答時
間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大き
く、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電性
液晶化合物であることが確認出来た。
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図18
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2μs(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/μm(25℃において、完
全に明状態になる電圧) チルト角 :30.20°(25℃において、しき
い値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、本発明化合物は室温付近で反強誘電性液晶
相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、3安
定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応答時
間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大き
く、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電性
液晶化合物であることが確認出来た。
【手続補正12】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図12
【補正方法】変更
【補正内容】
【図12】
【手続補正13】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図14
【補正方法】変更
【補正内容】
【図14】
【手続補正14】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図15
【補正方法】変更
【補正内容】
【図15】
Claims (2)
- 【請求項1】 式(1) 【化1】 (式中、Rは炭素数6〜14の直鎖状アルキル基を表わ
す。)で示されるsyn−(2S,3R)−2−{4−
[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベ
ンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタン。 - 【請求項2】 請求項1記載の式(1)で示される化合
物を用いた液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7237614A JPH0959220A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | syn−(2S,3R)−7−エトキシ−3−メトキシヘプタン誘導体および液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7237614A JPH0959220A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | syn−(2S,3R)−7−エトキシ−3−メトキシヘプタン誘導体および液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959220A true JPH0959220A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=17017934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7237614A Pending JPH0959220A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | syn−(2S,3R)−7−エトキシ−3−メトキシヘプタン誘導体および液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959220A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4828773A (en) * | 1987-10-14 | 1989-05-09 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non-aromatics |
| US4879044A (en) * | 1987-10-14 | 1989-11-07 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non aromatics |
| US4921611A (en) * | 1987-10-14 | 1990-05-01 | Schucker Robert C | Thin film composite membrane prepared by deposition from a solution |
| US5045354A (en) * | 1989-12-19 | 1991-09-03 | Exxon Research & Engineering Company | Production of supported thin film membranes |
-
1995
- 1995-08-23 JP JP7237614A patent/JPH0959220A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4828773A (en) * | 1987-10-14 | 1989-05-09 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non-aromatics |
| US4879044A (en) * | 1987-10-14 | 1989-11-07 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non aromatics |
| US4921611A (en) * | 1987-10-14 | 1990-05-01 | Schucker Robert C | Thin film composite membrane prepared by deposition from a solution |
| US5045354A (en) * | 1989-12-19 | 1991-09-03 | Exxon Research & Engineering Company | Production of supported thin film membranes |
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