JPH0959222A - （ｓ）体２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−末端エトキシアルカノン−３およびその製造方法 - Google Patents
（ｓ）体２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−末端エトキシアルカノン−３およびその製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反強誘電性液晶化合物の中間原料として有
用な化合物およびその製造方法の提供。 【構成】 式（１） 【化１】 （式中、ｍは３〜６を表わす。）で示される（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−１，１，
１−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−３、および
その製造方法。
用な化合物およびその製造方法の提供。 【構成】 式（１） 【化１】 （式中、ｍは３〜６を表わす。）で示される（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−１，１，
１−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−３、および
その製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、反強誘電
性液晶化合物の中間原料等として有用である新規な
（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）
−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−
３の提供とその製造方法に関するものである。
性液晶化合物の中間原料等として有用である新規な
（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）
−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−
３の提供とその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】含フッ素化合物として、２−アルコキシ
−３，３，３−トリフルオロエチルメチルケトンが知ら
れている。しかしながら、この化合物は沸点が低く、か
つ揮発性が高いため、取り扱いが容易で、汎用性のある
含フッ素カルボニル化合物が求められている。
−３，３，３−トリフルオロエチルメチルケトンが知ら
れている。しかしながら、この化合物は沸点が低く、か
つ揮発性が高いため、取り扱いが容易で、汎用性のある
含フッ素カルボニル化合物が求められている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、取り扱
いが容易で、反強誘電性液晶化合物の中間原料等として
期待されている新規な含フッ素カルボニル化合物につき
鋭意研究した結果、本発明の化合物を発明し、また該化
合物を簡単な操作で、より効率的に、かつ高収率で製造
する方法を見出し、本発明を完成した。
いが容易で、反強誘電性液晶化合物の中間原料等として
期待されている新規な含フッ素カルボニル化合物につき
鋭意研究した結果、本発明の化合物を発明し、また該化
合物を簡単な操作で、より効率的に、かつ高収率で製造
する方法を見出し、本発明を完成した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、新規化合物で
ある式（１）
ある式（１）
【０００５】
【化３】
【０００６】（式中、ｍは３〜６を表わす。）で示され
る（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ）−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノ
ン−３（以下、本発明化合物という。）に関するもので
ある。また、本発明は、有機溶媒中で、式（２）
る（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ）−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシアルカノ
ン−３（以下、本発明化合物という。）に関するもので
ある。また、本発明は、有機溶媒中で、式（２）
【０００７】
【化４】
【０００８】［式中、ｍは式（１）と同じ。］で示され
る（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロ
エチル末端エトキシアルキルケトン（以下、原料化合物
という。）とアルカリ金属水素化物とを反応させ、次い
で、反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリ
ドとを反応させることにより、本発明化合物を製造する
方法に関するものである。
る（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロ
エチル末端エトキシアルキルケトン（以下、原料化合物
という。）とアルカリ金属水素化物とを反応させ、次い
で、反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリ
ドとを反応させることにより、本発明化合物を製造する
方法に関するものである。
【０００９】
［本発明化合物：（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベ
ンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ末端エト
キシアルカノン−３］本発明化合物は式（１）で示され
る通りであり、式中、ｍは３〜６を示すメチレン基、す
なわち、１，３−トリメチレン基、１，４−テトラメチ
レン基、１，５−ペンタメチレン基および１，６−ヘキ
サメチレン基等が挙げられ、それらの具体的な化合物を
示すと、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジ
オール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサン
ジオール、テトラヒドロフランおよびテトラヒドロピラ
ン等が挙げられる。本発明化合物の好適な具体例を示す
と、（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ）−６−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘキサ
ノン−３、（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタノン−３、（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベ
ンゾイルオキシ）−８−エトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロオクタノン−３および（Ｓ）−２−（４−ベンジ
ルオキシベンゾイルオキシ）−９−エトキシ−１，１，
１−トリフルオロノナノン−３等が挙げられる。
ンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ末端エト
キシアルカノン−３］本発明化合物は式（１）で示され
る通りであり、式中、ｍは３〜６を示すメチレン基、す
なわち、１，３−トリメチレン基、１，４−テトラメチ
レン基、１，５−ペンタメチレン基および１，６−ヘキ
サメチレン基等が挙げられ、それらの具体的な化合物を
示すと、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジ
オール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサン
ジオール、テトラヒドロフランおよびテトラヒドロピラ
ン等が挙げられる。本発明化合物の好適な具体例を示す
と、（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ）−６−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘキサ
ノン−３、（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタノン−３、（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベ
ンゾイルオキシ）−８−エトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロオクタノン−３および（Ｓ）−２−（４−ベンジ
ルオキシベンゾイルオキシ）−９−エトキシ−１，１，
１−トリフルオロノナノン−３等が挙げられる。
【００１０】本発明化合物は、有機溶媒中、式（２）で
示される（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロ末端エトキシアルキルケトン（原料化合物）とア
ルカリ金属水素化物とを反応させ（第一段反応）、次い
で反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
とを反応させる（第二段反応）ことにより得られる。以
下、原料化合物について説明する。
示される（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロ末端エトキシアルキルケトン（原料化合物）とア
ルカリ金属水素化物とを反応させ（第一段反応）、次い
で反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
とを反応させる（第二段反応）ことにより得られる。以
下、原料化合物について説明する。
【００１１】（原料化合物）原料化合物である式（２）
で示される（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリ
フルオロエチル末端エトキシアルキルケトンは新規化合
物である。上記化合物について、具体的に説明すると、
式中ｍで表わされるメチレン基は、式（１）のｍに対応
し、好適な化合物の具体例としては、（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−３−エトキ
シプロピルケトン、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，
２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトン、
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル−５−エトキシペンチルケトンおよび（Ｓ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−６−エ
トキシヘキシルケトン等が挙げられる。
で示される（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリ
フルオロエチル末端エトキシアルキルケトンは新規化合
物である。上記化合物について、具体的に説明すると、
式中ｍで表わされるメチレン基は、式（１）のｍに対応
し、好適な化合物の具体例としては、（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−３−エトキ
シプロピルケトン、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，
２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトン、
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル−５−エトキシペンチルケトンおよび（Ｓ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−６−エ
トキシヘキシルケトン等が挙げられる。
【００１２】（原料化合物の製造）以下、（Ｓ）−Ｎ−
（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオ
ニル）ピロリジン（以下、出発原料化合物という。）か
ら、原第一段反応および原第二段反応を経て、原料化合
物を製造する方法を示すと次の通りである。なお、出発
原料化合物は新規化合物ではないが、市販されていない
ため製造しなければならない。後記参考例１に出発原料
化合物の製造例を示す。
（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオ
ニル）ピロリジン（以下、出発原料化合物という。）か
ら、原第一段反応および原第二段反応を経て、原料化合
物を製造する方法を示すと次の通りである。なお、出発
原料化合物は新規化合物ではないが、市販されていない
ため製造しなければならない。後記参考例１に出発原料
化合物の製造例を示す。
【００１３】（原第一段反応）原第一段反応の反応式は
式（３）
式（３）
【００１４】
【化５】
【００１５】［式中、ｍは式（１）と同じ。］の通りで
あり、出発原料化合物中のカルボニル基に、末端エトキ
シアルキルマグネシウムブロミドであるグリニャール試
薬が１モル付加し、また出発原料化合物の水酸基とグリ
ニャール試薬１モルとが反応し、反応生成物と末端エト
キシアルカンが生成する。式（３）における反応は、グ
リニャール試薬に出発原料化合物の有機溶媒溶液を滴下
して行うのが、好ましい。有機溶媒としてはジエチルエ
ーテル、ＴＨＦ、ジグリム等のエーテル溶媒が挙げられ
る。出発原料化合物を溶解するために用いられる有機溶
媒の使用量は出発原料化合物１モルに対して０．５〜２
リットルが好ましい。式（３）の反応において、出発原
料化合物とグリニャール試薬との供給割合は出発原料化
合物１モルに対して、グリニャール試薬２〜３モルが好
ましい。出発原料化合物の反応系への供給速度は、出発
原料化合物１モルを１００〜２５０分間かけて滴下する
のが好ましい。式（３）の反応温度は−１０〜１０℃が
好ましい。出発原料化合物溶液の滴下完了後、引き続き
２時間撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物を生
成させる。
あり、出発原料化合物中のカルボニル基に、末端エトキ
シアルキルマグネシウムブロミドであるグリニャール試
薬が１モル付加し、また出発原料化合物の水酸基とグリ
ニャール試薬１モルとが反応し、反応生成物と末端エト
キシアルカンが生成する。式（３）における反応は、グ
リニャール試薬に出発原料化合物の有機溶媒溶液を滴下
して行うのが、好ましい。有機溶媒としてはジエチルエ
ーテル、ＴＨＦ、ジグリム等のエーテル溶媒が挙げられ
る。出発原料化合物を溶解するために用いられる有機溶
媒の使用量は出発原料化合物１モルに対して０．５〜２
リットルが好ましい。式（３）の反応において、出発原
料化合物とグリニャール試薬との供給割合は出発原料化
合物１モルに対して、グリニャール試薬２〜３モルが好
ましい。出発原料化合物の反応系への供給速度は、出発
原料化合物１モルを１００〜２５０分間かけて滴下する
のが好ましい。式（３）の反応温度は−１０〜１０℃が
好ましい。出発原料化合物溶液の滴下完了後、引き続き
２時間撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物を生
成させる。
【００１６】なお上記グリニャール試薬は市販されてお
らず、次の三工程で製造することが出来る。以下、例と
して、ｍ＝４、５のグリニャール試薬の製造方法の概要
を示すと、次の通りである。
らず、次の三工程で製造することが出来る。以下、例と
して、ｍ＝４、５のグリニャール試薬の製造方法の概要
を示すと、次の通りである。
【００１７】第一工程 第一工程を反応式で示すと、式（４）
【００１８】
【化６】
【００１９】［式中、ｍは式（１）と同じ］で示される
ように例えば、ｍ＝４に相当するテトラヒドロフラン１
モル、またはｍ＝５に相当するテトラヒドロピラン１モ
ルと、エチルアルコール１．１モルおよびパラトルエン
スルホン酸１水塩０．０５モルを加えて、加熱し、８０
℃×８時間還流した後、減圧濃縮し、得られた残渣に水
２リットルを加えた後、エーテル抽出し、抽出液に無水
硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減
圧留去し、無色透明な液状の末端エトキシアルコールで
ある４−エトキシブチルアルコール、または５−エトキ
シペンチルアルコールを収率９０％で得る。
ように例えば、ｍ＝４に相当するテトラヒドロフラン１
モル、またはｍ＝５に相当するテトラヒドロピラン１モ
ルと、エチルアルコール１．１モルおよびパラトルエン
スルホン酸１水塩０．０５モルを加えて、加熱し、８０
℃×８時間還流した後、減圧濃縮し、得られた残渣に水
２リットルを加えた後、エーテル抽出し、抽出液に無水
硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減
圧留去し、無色透明な液状の末端エトキシアルコールで
ある４−エトキシブチルアルコール、または５−エトキ
シペンチルアルコールを収率９０％で得る。
【００２０】第二工程 第二工程を反応式で示すと、式（５） Ｃ2Ｈ5Ｏ（ＣＨ2）mＯＨ＋Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3＋Ｂｒ2→ （末端エトキシアルキルアルコール） Ｃ2Ｈ5Ｏ（ＣＨ2）mＢｒ＋ＨＢｒ＋Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3Ｏ↓ （５） （末端エトキシアルキルブロミド） で示されるように、第一工程で得られた末端エトキシア
ルコールである４−エトキシブチルアルコール、または
５−エトキシペンチルアルコール各１モルを塩化メチレ
ン３リットルに溶解した溶液を０℃に調整する。ついで
トリフェニルホスフィン１モルと塩化メチレン１，００
０ｍｌを加えた溶液に、臭素１モルと塩化メチレン５０
０ｍｌを加えた溶液を入れ、撹拌しながら、０℃で１０
０分間かけて滴下し、滴下完了後、引き続き１時間撹拌
保持して反応を完結させる。次いで、室温まで昇温し、
引き続き１時間撹拌保持して、トリフェニルホスフィン
オキシドの微結晶を生成させる。次いで濃縮し、塩化メ
チレンと臭化小素を留去し、生成したスラッジに熱ｎ−
ヘキサン８Ｌを加えて、溶解し、冷却晶析し、白色針状
結晶である大部分のトリフェニルホスフィンオキシドを
濾過により除去し、濾液を濃縮し、シロップ状の残渣を
得る。次いでこの残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状の末端エトキシアルキ
ルブロミドである４−エトキシブチルブロミドまたは５
−エトキシペンチルブロミドを収率８０％で得る。
ルコールである４−エトキシブチルアルコール、または
５−エトキシペンチルアルコール各１モルを塩化メチレ
ン３リットルに溶解した溶液を０℃に調整する。ついで
トリフェニルホスフィン１モルと塩化メチレン１，００
０ｍｌを加えた溶液に、臭素１モルと塩化メチレン５０
０ｍｌを加えた溶液を入れ、撹拌しながら、０℃で１０
０分間かけて滴下し、滴下完了後、引き続き１時間撹拌
保持して反応を完結させる。次いで、室温まで昇温し、
引き続き１時間撹拌保持して、トリフェニルホスフィン
オキシドの微結晶を生成させる。次いで濃縮し、塩化メ
チレンと臭化小素を留去し、生成したスラッジに熱ｎ−
ヘキサン８Ｌを加えて、溶解し、冷却晶析し、白色針状
結晶である大部分のトリフェニルホスフィンオキシドを
濾過により除去し、濾液を濃縮し、シロップ状の残渣を
得る。次いでこの残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状の末端エトキシアルキ
ルブロミドである４−エトキシブチルブロミドまたは５
−エトキシペンチルブロミドを収率８０％で得る。
【００２１】第三工程 第三工程を反応式で示すと、式（６） Ｃ2Ｈ 5Ｏ（ＣＨ2）mＢｒ＋１．１Ｍｇ→Ｃ2Ｈ5Ｏ（ＣＨ2）mＭｇＢｒ （６） （末端エトキシアルキルブロミド） （グリニャール試薬） で示されるように、窒素置換した反応器へ、金属マグネ
シウム１．１モルと乾燥ジエチルエーテル２００ｍｌを
入れ、ついでヨウ素１ミリモルを入れ、赤褐色の溶液が
無色になるまで撹拌する。次いで第二工程で得られた末
端エトキシアルキルブロミドである４−エトキシブチル
ブロミドまたは５−エトキシペンチルブロミドを各０．
１モル加え、還流が生じるまで撹拌する。次いで残りの
４−エトキシブチルブロミド０．９モルまたは５−エト
キシブチルブロミド０．９モルと乾燥ジエチルエーテル
各５００ｍｌを滴下ロートに入れ、還流が持続するよう
に滴下し、滴下完了後、１時間還流し反応を完結させ
る。次いで注射器で反応液を抜き取り、反応容器の底に
たまった未反応金属マグネシウムの塊個を乾燥ジエチル
エーテル３００ｍｌで洗浄し、０．８モル／リットルの
４−エトキシブチルマグネシウムブロミドまたは５−エ
トキシペンチルマグネシウムブロミドのエーテル溶液
（収率８０％）であるグリニャール試薬が得られる。
シウム１．１モルと乾燥ジエチルエーテル２００ｍｌを
入れ、ついでヨウ素１ミリモルを入れ、赤褐色の溶液が
無色になるまで撹拌する。次いで第二工程で得られた末
端エトキシアルキルブロミドである４−エトキシブチル
ブロミドまたは５−エトキシペンチルブロミドを各０．
１モル加え、還流が生じるまで撹拌する。次いで残りの
４−エトキシブチルブロミド０．９モルまたは５−エト
キシブチルブロミド０．９モルと乾燥ジエチルエーテル
各５００ｍｌを滴下ロートに入れ、還流が持続するよう
に滴下し、滴下完了後、１時間還流し反応を完結させ
る。次いで注射器で反応液を抜き取り、反応容器の底に
たまった未反応金属マグネシウムの塊個を乾燥ジエチル
エーテル３００ｍｌで洗浄し、０．８モル／リットルの
４−エトキシブチルマグネシウムブロミドまたは５−エ
トキシペンチルマグネシウムブロミドのエーテル溶液
（収率８０％）であるグリニャール試薬が得られる。
【００２２】（原第二段反応）原第二段反応の反応式の
一例を鉱酸として塩酸を用いた場合について示すと、式
（７）
一例を鉱酸として塩酸を用いた場合について示すと、式
（７）
【００２３】
【化７】
【００２４】［式中、ｍは式（１）と同じ。］の通りで
あり、原第一段反応で得られた反応生成物１モルを３グ
ラム当量の鉱酸で加水分解することにより、原料化合物
が生成する。鉱酸としては塩酸、硫酸、硝酸等が挙げら
れる。鉱酸の使用量は出発原料化合物１モルに対して３
〜４グラム当量が好ましい。鉱酸の濃度は１〜５規定が
好ましい。式（７）の反応において、原第一段反応で得
られた反応生成物溶液に鉱酸水溶液を滴下するのが好ま
しい。反応系への鉱酸水溶液の滴下時間は出発原料化合
物１モルに対して、３０〜６０分間が好ましい。加水分
解反応は常温が好ましい。鉱酸の滴下完了後、引き続き
２０分間撹拌保持することにより、加水分解反応を完結
させる。
あり、原第一段反応で得られた反応生成物１モルを３グ
ラム当量の鉱酸で加水分解することにより、原料化合物
が生成する。鉱酸としては塩酸、硫酸、硝酸等が挙げら
れる。鉱酸の使用量は出発原料化合物１モルに対して３
〜４グラム当量が好ましい。鉱酸の濃度は１〜５規定が
好ましい。式（７）の反応において、原第一段反応で得
られた反応生成物溶液に鉱酸水溶液を滴下するのが好ま
しい。反応系への鉱酸水溶液の滴下時間は出発原料化合
物１モルに対して、３０〜６０分間が好ましい。加水分
解反応は常温が好ましい。鉱酸の滴下完了後、引き続き
２０分間撹拌保持することにより、加水分解反応を完結
させる。
【００２５】加水分解反応完了後、２０％炭酸水素ナト
リウム水溶液でｐＨ８に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状生成物を得る。この生
成物の1ＨＮＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲスペクトル、
１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結
果、生成物は１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル末端エトキシアルキルケトンであることが確認
される。また、上述の生成物を光学活性ガスクロマトグ
ラフィーにかけたところ、１本の光学活性ピークしか得
られないことより、出発原料化合物の２位の不斉炭素原
子の立体配置は反応前後では変化せず、光学的反転が起
こらないことより、生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキル
ケトンの原料化合物であることが確認される。
リウム水溶液でｐＨ８に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状生成物を得る。この生
成物の1ＨＮＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲスペクトル、
１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結
果、生成物は１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル末端エトキシアルキルケトンであることが確認
される。また、上述の生成物を光学活性ガスクロマトグ
ラフィーにかけたところ、１本の光学活性ピークしか得
られないことより、出発原料化合物の２位の不斉炭素原
子の立体配置は反応前後では変化せず、光学的反転が起
こらないことより、生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル末端エトキシアルキル
ケトンの原料化合物であることが確認される。
【００２６】（本発明化合物の製造方法）本発明化合物
は有機溶媒中で、上述で得られた原料化合物とアルカリ
金属水素化物を反応させ（第一段反応）、次いで反応生
成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドとを反応
させる（第二段反応）ことにより得られる。以下、原料
化合物からの製造方法について詳細に説明する。
は有機溶媒中で、上述で得られた原料化合物とアルカリ
金属水素化物を反応させ（第一段反応）、次いで反応生
成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドとを反応
させる（第二段反応）ことにより得られる。以下、原料
化合物からの製造方法について詳細に説明する。
【００２７】（第一段反応）第一段反応を反応式で示す
と式（８）
と式（８）
【００２８】
【化８】
【００２９】［式中、ｍは式（１）と同じ、Ｍはアルカ
リ金属を表わす。］の通りであり、有機溶媒中で、原料
化合物中の水酸基とアルカリ金属水素化物とが反応し、
アルカリ金属アルコラートである反応生成物−１が生成
する。有機溶媒としては、ジエチルエーテル、ｎ−ヘキ
サン、ＴＨＦおよび塩化メチレン等が挙げられ、特に好
ましくはジエチルエーテルである。その使用量は、原料
化合物１モルを基準として、１〜５Ｌが好ましく、特に
好ましくは２〜４Ｌである。１Ｌ未満では反応熱の上昇
により、水素の発生速度が増大し危険となる場合があ
り、５Ｌを超えると経済的とはいえない。アルカリ金属
水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウムお
よび水素化カリウム等が挙げられ、経済的に安価である
等の点から水素化ナトリウムが特に好ましい。市販のア
ルカリ金属水素化物は通常油性であるので、ｎ−ヘキサ
ン等で洗浄、精製、乾燥した後、有機溶媒に懸濁したも
のを用いるのがよい。アルカリ金属水素化物は原料化合
物１モルを基準として１．０〜１．２モルが好ましい。
１．０モル未満では反応生成物−１の収率低下を招き、
１．２モルを超えると経済的とはいえない。
リ金属を表わす。］の通りであり、有機溶媒中で、原料
化合物中の水酸基とアルカリ金属水素化物とが反応し、
アルカリ金属アルコラートである反応生成物−１が生成
する。有機溶媒としては、ジエチルエーテル、ｎ−ヘキ
サン、ＴＨＦおよび塩化メチレン等が挙げられ、特に好
ましくはジエチルエーテルである。その使用量は、原料
化合物１モルを基準として、１〜５Ｌが好ましく、特に
好ましくは２〜４Ｌである。１Ｌ未満では反応熱の上昇
により、水素の発生速度が増大し危険となる場合があ
り、５Ｌを超えると経済的とはいえない。アルカリ金属
水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウムお
よび水素化カリウム等が挙げられ、経済的に安価である
等の点から水素化ナトリウムが特に好ましい。市販のア
ルカリ金属水素化物は通常油性であるので、ｎ−ヘキサ
ン等で洗浄、精製、乾燥した後、有機溶媒に懸濁したも
のを用いるのがよい。アルカリ金属水素化物は原料化合
物１モルを基準として１．０〜１．２モルが好ましい。
１．０モル未満では反応生成物−１の収率低下を招き、
１．２モルを超えると経済的とはいえない。
【００３０】原料化合物とアルカリ金属水素化物との混
合方法はアルカリ金属水素化物の有機溶媒懸濁液中に、
原料化合物の有機溶媒液を滴下するのが好ましい。逆の
滴下を行うと水素ガスの異常発生が生じ、危険を伴う恐
れがあるとともに、反応熱の制御が困難となり、収率低
下を招く。有機溶媒の使用比率はアルカリ金属水素化物
／原料化合物＝１／９程度の容量比に按分することが好
ましい。原料化合物の反応系への供給速度は、原料化合
物１モルを３０〜９０分間かけて滴下するのが好まし
い。３０分未満では水素の発生速度が増大して危険を伴
う恐れがあり、９０分を超えると経済的とはいえない。
反応温度は−１０〜１０℃が好ましく、特に好ましくは
０℃付近である。−１０℃未満では経済的とはいえず、
１０℃を超えると水素の発生速度が増大して危険を伴う
恐れがある。原料化合物の滴下完了後、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き６０分間程度撹拌保持して反
応を完結させ、反応生成物溶液−１を得る。
合方法はアルカリ金属水素化物の有機溶媒懸濁液中に、
原料化合物の有機溶媒液を滴下するのが好ましい。逆の
滴下を行うと水素ガスの異常発生が生じ、危険を伴う恐
れがあるとともに、反応熱の制御が困難となり、収率低
下を招く。有機溶媒の使用比率はアルカリ金属水素化物
／原料化合物＝１／９程度の容量比に按分することが好
ましい。原料化合物の反応系への供給速度は、原料化合
物１モルを３０〜９０分間かけて滴下するのが好まし
い。３０分未満では水素の発生速度が増大して危険を伴
う恐れがあり、９０分を超えると経済的とはいえない。
反応温度は−１０〜１０℃が好ましく、特に好ましくは
０℃付近である。−１０℃未満では経済的とはいえず、
１０℃を超えると水素の発生速度が増大して危険を伴う
恐れがある。原料化合物の滴下完了後、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き６０分間程度撹拌保持して反
応を完結させ、反応生成物溶液−１を得る。
【００３１】（第二段反応）第二段反応を反応式で示す
と、式（９）
と、式（９）
【００３２】
【化９】
【００３３】［式中、ｍは式（１）と同じ、Ｍはアルカ
リ金属を表わす。］の通りであり、有機溶媒中で反応生
成物−１のアルカリ金属と４−ベンジルオキシベンゾイ
ルクロリドの塩素とが反応し、本発明化合物が生成す
る。有機溶媒は第一段反応と同じ有機溶媒が使用出来
る。従って第一段反応で得た反応生成物−１溶液に、４
−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの有機溶媒溶液を
直接加えることにより、反応を行うことが出来る。４−
ベンジルオキシベンゾイルクロリドの反応系への供給割
合は、原料化合物１モルを基準として、１．１〜１．３
モルが好ましい。１．１モル未満では本発明化合物の収
率低下を招く恐れがあり、１．３モルを超えると、後述
の精製操作が煩雑になるとともに、経済的とは言えな
い。
リ金属を表わす。］の通りであり、有機溶媒中で反応生
成物−１のアルカリ金属と４−ベンジルオキシベンゾイ
ルクロリドの塩素とが反応し、本発明化合物が生成す
る。有機溶媒は第一段反応と同じ有機溶媒が使用出来
る。従って第一段反応で得た反応生成物−１溶液に、４
−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの有機溶媒溶液を
直接加えることにより、反応を行うことが出来る。４−
ベンジルオキシベンゾイルクロリドの反応系への供給割
合は、原料化合物１モルを基準として、１．１〜１．３
モルが好ましい。１．１モル未満では本発明化合物の収
率低下を招く恐れがあり、１．３モルを超えると、後述
の精製操作が煩雑になるとともに、経済的とは言えな
い。
【００３４】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドは
有機溶媒に溶解して、反応系へ供給するのが好ましい。
有機溶媒の混合割合は４−ベンジルオキシベンゾイルク
ロリド１モルに対して０．５〜２Ｌが好ましく、特に好
ましくは０．９〜１．５Ｌである。０．５Ｌ未満では反
応温度の制御が困難となり、収率低下を招く恐れがあ
り、２Ｌを超えると経済的とはいえない。４−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドの反応系への供給速度は、原
料化合物１モルを基準として１〜３時間が好ましい。あ
まりに短時間ではゲル化する危険があるとともに、反応
温度の制御が困難となる場合があり、滴下速度があまり
遅くては経済的とはいえない。反応温度は−１０〜１０
℃が好ましく、特に好ましくは０℃付近である。−１０
℃以下では経済的とはいえず、１０℃を超えると反応温
度の制御が困難となる恐れがある。４−ベンジルオキシ
ベンゾイルクロリド溶液の滴下完了後、室温まで昇温
し、引き続き１５０分間撹拌保持して、反応を完結させ
る。
有機溶媒に溶解して、反応系へ供給するのが好ましい。
有機溶媒の混合割合は４−ベンジルオキシベンゾイルク
ロリド１モルに対して０．５〜２Ｌが好ましく、特に好
ましくは０．９〜１．５Ｌである。０．５Ｌ未満では反
応温度の制御が困難となり、収率低下を招く恐れがあ
り、２Ｌを超えると経済的とはいえない。４−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドの反応系への供給速度は、原
料化合物１モルを基準として１〜３時間が好ましい。あ
まりに短時間ではゲル化する危険があるとともに、反応
温度の制御が困難となる場合があり、滴下速度があまり
遅くては経済的とはいえない。反応温度は−１０〜１０
℃が好ましく、特に好ましくは０℃付近である。−１０
℃以下では経済的とはいえず、１０℃を超えると反応温
度の制御が困難となる恐れがある。４−ベンジルオキシ
ベンゾイルクロリド溶液の滴下完了後、室温まで昇温
し、引き続き１５０分間撹拌保持して、反応を完結させ
る。
【００３５】反応終了後、例えば室温で、１規定塩酸を
用いて、過剰のアルカリ金属水素化物あるいは４−ベン
ジルオキシベンゾイルクロリドを塩化アルカリあるいは
４−ベンジルオキシベンゾアートとし、次いで５％炭酸
ナトリウム水溶液により、ｐＨ８に調整し、４−ベンジ
ルオキシベンゾアートを水に可溶なソーダ塩とした後、
エーテル抽出し、抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧濃縮し、
残った淡黄色のシロップ状残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー等で精製後、精製液を活性炭等で脱色し
た後、減圧濃縮し、無色透明な液状の目的生成物を得
る。
用いて、過剰のアルカリ金属水素化物あるいは４−ベン
ジルオキシベンゾイルクロリドを塩化アルカリあるいは
４−ベンジルオキシベンゾアートとし、次いで５％炭酸
ナトリウム水溶液により、ｐＨ８に調整し、４−ベンジ
ルオキシベンゾアートを水に可溶なソーダ塩とした後、
エーテル抽出し、抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧濃縮し、
残った淡黄色のシロップ状残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー等で精製後、精製液を活性炭等で脱色し
た後、減圧濃縮し、無色透明な液状の目的生成物を得
る。
【００３６】この目的生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果、目的生成物は２−（４−ベ
ンジルオキシベンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフ
ルオロ末端エトキシアルカノン−３であることが確認さ
れる。また、後述の同定例より、原料化合物である
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル末端エトキシアルキルケトンの１位の不斉炭素原子
に結合した水酸基をアルカリ金属水素化物と反応させ、
アルカリ金属アルコラートにし、次いで、４−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドと反応させ、４−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ基に置換しても、１位の不斉炭素
原子の不斉中心は光学的反転を生ぜず（Ｓ）配置である
ことは確認済みであり、目的生成物は（Ｓ）−２−（４
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−１，１，１−ト
リフルオロ末端エトキシアルカノン−３の本発明化合物
であることが確認出来る。
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果、目的生成物は２−（４−ベ
ンジルオキシベンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフ
ルオロ末端エトキシアルカノン−３であることが確認さ
れる。また、後述の同定例より、原料化合物である
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル末端エトキシアルキルケトンの１位の不斉炭素原子
に結合した水酸基をアルカリ金属水素化物と反応させ、
アルカリ金属アルコラートにし、次いで、４−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドと反応させ、４−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ基に置換しても、１位の不斉炭素
原子の不斉中心は光学的反転を生ぜず（Ｓ）配置である
ことは確認済みであり、目的生成物は（Ｓ）−２−（４
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−１，１，１−ト
リフルオロ末端エトキシアルカノン−３の本発明化合物
であることが確認出来る。
【００３７】本発明化合物は以下の工程によって得られ
る下記式（１０）で示されるｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
末端エトキシ−３−メトキシアルカン誘導体の製造中間
体として有用である。
る下記式（１０）で示されるｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
末端エトキシ−３−メトキシアルカン誘導体の製造中間
体として有用である。
【００３８】
【化１０】
【００３９】式（１０）で表わされる化合物は、優れた
性質を有する［例えば、式（１０）中、ｍ＝４、Ｒ＝ｎ
−デシルである化合物は高速応答性および広視野角を有
し、３安定状態を有するカイラルスメクチックＣA相を
示す］反強誘電性液晶化合物であり、液晶表示素子とし
て用いることが出来る。式（１０）で表わされる化合物
の製造例および反強誘電性液晶化合物としての有用性を
示す試験例を後記参考例に示す。
性質を有する［例えば、式（１０）中、ｍ＝４、Ｒ＝ｎ
−デシルである化合物は高速応答性および広視野角を有
し、３安定状態を有するカイラルスメクチックＣA相を
示す］反強誘電性液晶化合物であり、液晶表示素子とし
て用いることが出来る。式（１０）で表わされる化合物
の製造例および反強誘電性液晶化合物としての有用性を
示す試験例を後記参考例に示す。
【００４０】
【実施例】以下、参考例および実施例に基づいて、本発
明を具体的に説明する。参考例１〜３は本発明化合物の
原料として用いられる化合物の製造例、実施例１は本発
明化合物の製造例、参考例４および５は本発明化合物を
原料として、段階的に最終有用化合物に至る製造例、参
考例６は最終有用化合物の有用性を示す試験例である。
明を具体的に説明する。参考例１〜３は本発明化合物の
原料として用いられる化合物の製造例、実施例１は本発
明化合物の製造例、参考例４および５は本発明化合物を
原料として、段階的に最終有用化合物に至る製造例、参
考例６は最終有用化合物の有用性を示す試験例である。
【００４１】参考例１［出発原料化合物：（Ｓ）−Ｎ−
（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオ
ニル）ピロリジンの製造］ 温度計、撹拌機、還流冷却器を備えた三ツ口丸底フラス
コに（Ｓ）−トリフルオロ乳酸２５．８ｇ（１７９ミリ
モル）、メタノール５２０ｍｌおよび濃硫酸２７０ｍｌ
を入れ、撹拌しながら加熱還流した。還流中、ＦＮＭＲ
スペクトルで乳酸ピークを追跡しながら、１２時間還流
した結果、反応液中の乳酸がなくなったことが確認され
加熱還流を停止し、撹拌しながら室温まで冷却した。次
いで、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ８
〜９に調整した後、エーテルで抽出し、抽出液を水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、抽出液を減圧濃縮し、残ったシロップ状の残渣を減
圧蒸留し、無色透明な液状の生成物［収量２６．９ｇ
（１７０ミリモル）収率９５％］を得た。
（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオ
ニル）ピロリジンの製造］ 温度計、撹拌機、還流冷却器を備えた三ツ口丸底フラス
コに（Ｓ）−トリフルオロ乳酸２５．８ｇ（１７９ミリ
モル）、メタノール５２０ｍｌおよび濃硫酸２７０ｍｌ
を入れ、撹拌しながら加熱還流した。還流中、ＦＮＭＲ
スペクトルで乳酸ピークを追跡しながら、１２時間還流
した結果、反応液中の乳酸がなくなったことが確認され
加熱還流を停止し、撹拌しながら室温まで冷却した。次
いで、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ８
〜９に調整した後、エーテルで抽出し、抽出液を水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、抽出液を減圧濃縮し、残ったシロップ状の残渣を減
圧蒸留し、無色透明な液状の生成物［収量２６．９ｇ
（１７０ミリモル）収率９５％］を得た。
【００４２】この生成物のＨＮＭＲスペクトル、ＦＮＭ
Ｒスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクト
ルを測定した。またこの反応はこの生成物の２位の炭素
原子の立体配置には無関係であり、光学的反転は起こら
ないことより、この生成物は（Ｓ）−２−ヒドロキシ−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
であることが確認された。
Ｒスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクト
ルを測定した。またこの反応はこの生成物の２位の炭素
原子の立体配置には無関係であり、光学的反転は起こら
ないことより、この生成物は（Ｓ）−２−ヒドロキシ−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
であることが確認された。
【００４３】次いで、温度計、撹拌機、滴下ロートのつ
いたクライゼンフラスコの枝管にリービッヒコンデンサ
ーを取り付け、その出口にメチルアルコール回収ビンを
取り付け、その出口がアスピレーターにつながっている
装置を用い、上述で得られた（Ｓ）−２−ヒドロキシ−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
２６．１ｇ（１６５ミリモル）とピロリジン１２．８ｇ
（１８０ミリモル）および濃硫酸０．７ミリモルを入
れ、２００ｍｍＨｇ×６０℃で反応させ、発生したメチ
ルアルコール蒸気を連続的にリービッヒコンデンサーに
送り、メチルアルコールを回収した。メチルアルコール
蒸気の発生がなくなったことを確認し、加熱を停止し、
室温まで放冷した後、常圧に戻して、反応を完了した。
次いで生成した淡褐色の固体を取り出し、水で洗浄した
後、熱ｎ−ヘキサンを加えて、溶解した後、冷却晶析し
て、白色針状結晶である生成物［収量２７．６ｇ（１４
０ミリモル）収率８５％］を得た。
いたクライゼンフラスコの枝管にリービッヒコンデンサ
ーを取り付け、その出口にメチルアルコール回収ビンを
取り付け、その出口がアスピレーターにつながっている
装置を用い、上述で得られた（Ｓ）−２−ヒドロキシ−
３，３，３−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
２６．１ｇ（１６５ミリモル）とピロリジン１２．８ｇ
（１８０ミリモル）および濃硫酸０．７ミリモルを入
れ、２００ｍｍＨｇ×６０℃で反応させ、発生したメチ
ルアルコール蒸気を連続的にリービッヒコンデンサーに
送り、メチルアルコールを回収した。メチルアルコール
蒸気の発生がなくなったことを確認し、加熱を停止し、
室温まで放冷した後、常圧に戻して、反応を完了した。
次いで生成した淡褐色の固体を取り出し、水で洗浄した
後、熱ｎ−ヘキサンを加えて、溶解した後、冷却晶析し
て、白色針状結晶である生成物［収量２７．６ｇ（１４
０ミリモル）収率８５％］を得た。
【００４４】この生成物のＨＮＭＲスペクトル、ＦＮＭ
Ｒスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳスペク
トルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生成物
の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学的反
転は起こらないことより、生成物は出発原料化合物
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンであることが確認され
た。 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ） １．５３〜２．３７ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、３．２１〜
３．８８ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、４．１４ｐｐｍ（１Ｈ，
ｂｒ）、４．５８（１Ｈ，ｑ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦＣＯ
ＯＨ） −４．２ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝６．０） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，６４０ｃｍ（ＣＯ）、３，３３０ｃｍ（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ １９７（Ｍ+）
Ｒスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳスペク
トルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生成物
の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学的反
転は起こらないことより、生成物は出発原料化合物
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンであることが確認され
た。 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ） １．５３〜２．３７ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、３．２１〜
３．８８ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、４．１４ｐｐｍ（１Ｈ，
ｂｒ）、４．５８（１Ｈ，ｑ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦＣＯ
ＯＨ） −４．２ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝６．０） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，６４０ｃｍ（ＣＯ）、３，３３０ｃｍ（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ １９７（Ｍ+）
【００４５】参考例２（グリニャール試薬：４−エトキ
シブチルマグネシウムブロミドの製造） 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコにテトラヒドロフラン４０．０ｇ（５５
６ミリモル）、エチルアルコール２８．２ｇ（６１２ミ
リモル）およびパラトルエンスルホン酸１水塩５．２ｇ
（２９ミリモル）を入れ、温水バスに浸漬した。次いで
８０℃×６時間還流した後、減圧濃縮し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣に水６２０ｍｌを加えた後、エー
テル抽出し、抽出後に無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の
４−エトキシブタノール［収量５９．０ｇ（５００ミリ
モル）収率９０％］を得た。
シブチルマグネシウムブロミドの製造） 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコにテトラヒドロフラン４０．０ｇ（５５
６ミリモル）、エチルアルコール２８．２ｇ（６１２ミ
リモル）およびパラトルエンスルホン酸１水塩５．２ｇ
（２９ミリモル）を入れ、温水バスに浸漬した。次いで
８０℃×６時間還流した後、減圧濃縮し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣に水６２０ｍｌを加えた後、エー
テル抽出し、抽出後に無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の
４−エトキシブタノール［収量５９．０ｇ（５００ミリ
モル）収率９０％］を得た。
【００４６】次いで温度計、撹拌機、滴下ロートを備え
た三ツ口フラスコに、上述で得た４−エトキシブタノー
ル５７．２ｇ（４８５ミリモル）と塩化メチレン１，４
５０Ｌを入れ、氷水バスに浸漬し、０℃に調整した。次
いで、滴下ロートにトリフエニルホスフィン１２６．６
ｇ（４８５ミリモル）と塩化メチレン４８５Ｌを入れ、
完全に均一な溶液を調合した。次いで、臭素７７．６ｇ
（４８５ミリモル）と塩化メチレン２４０ｍｌを混合し
た溶液を上記滴下ロートに加えた。滴下ロートより混合
液を撹拌しながら、６８分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き１時間撹拌保持して反応を完結させた。次
いで、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温まで昇温
し、引き続き１時間撹拌保持し、トリフェニルホスフィ
ンオキシドの微結晶を生成させた。次いで減圧濃縮し、
塩化メチレンと臭化水素を除去し、スラッジを得た。次
いで、熱ｎ−ヘキサン３，８５０ｍｌを加えて溶解した
後、冷却晶析し、白色針状結晶である大部分のトリフェ
ニルホスフィンオキシドを濾過により除去し、濾液を濃
縮しシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘキサン）で精製
し、無色透明な液状の４−エトキシブチルブロミド［収
量７０．２ｇ（３８８ミリモル）収率８０％］を得た。
た三ツ口フラスコに、上述で得た４−エトキシブタノー
ル５７．２ｇ（４８５ミリモル）と塩化メチレン１，４
５０Ｌを入れ、氷水バスに浸漬し、０℃に調整した。次
いで、滴下ロートにトリフエニルホスフィン１２６．６
ｇ（４８５ミリモル）と塩化メチレン４８５Ｌを入れ、
完全に均一な溶液を調合した。次いで、臭素７７．６ｇ
（４８５ミリモル）と塩化メチレン２４０ｍｌを混合し
た溶液を上記滴下ロートに加えた。滴下ロートより混合
液を撹拌しながら、６８分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き１時間撹拌保持して反応を完結させた。次
いで、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温まで昇温
し、引き続き１時間撹拌保持し、トリフェニルホスフィ
ンオキシドの微結晶を生成させた。次いで減圧濃縮し、
塩化メチレンと臭化水素を除去し、スラッジを得た。次
いで、熱ｎ−ヘキサン３，８５０ｍｌを加えて溶解した
後、冷却晶析し、白色針状結晶である大部分のトリフェ
ニルホスフィンオキシドを濾過により除去し、濾液を濃
縮しシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘキサン）で精製
し、無色透明な液状の４−エトキシブチルブロミド［収
量７０．２ｇ（３８８ミリモル）収率８０％］を得た。
【００４７】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器、滴
下ロートおよび窒素挿入コックを備えた窒素置換したフ
ラスコに、金属マグネシウム１０．９ｇ（４５６ミリモ
ル）と乾燥ジエチルエーテル７６ｍｌを入れ、次いでヨ
ウ素０．１ｇ（０．３８ミリモル）を入れた。混合液の
赤褐色が消失するまで撹拌した。次いで上述で得られた
４−エトキシブチルブロミド６．９ｇ（３８ミリモル）
を加え、還流するまで撹拌した。還流が生じたら、４−
エトキシブチルブロミド６１．９ｇ（３４２ミリモル）
と乾燥ジエチルエーテル１９０ｍｌを滴下ロートに入
れ、還流が持続するように滴下し、滴下完了後、１時間
還流し、反応を完結させた。次いで、フラスコより注射
器で反応液を取り出し、残りの未反応金属マグネシウム
の固体を乾燥エーテル１１４ｍｌで洗浄した洗浄液を反
応液に戻し、濃度０．８モル／リットルの４−エトキシ
ブチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液３
８０ｍｌ［４−エトキシブチルマグネシウムブロミド
［収量６２．３ｇ（３０４ミリモル）収率８０％］であ
るグリニャール試薬を得た。
下ロートおよび窒素挿入コックを備えた窒素置換したフ
ラスコに、金属マグネシウム１０．９ｇ（４５６ミリモ
ル）と乾燥ジエチルエーテル７６ｍｌを入れ、次いでヨ
ウ素０．１ｇ（０．３８ミリモル）を入れた。混合液の
赤褐色が消失するまで撹拌した。次いで上述で得られた
４−エトキシブチルブロミド６．９ｇ（３８ミリモル）
を加え、還流するまで撹拌した。還流が生じたら、４−
エトキシブチルブロミド６１．９ｇ（３４２ミリモル）
と乾燥ジエチルエーテル１９０ｍｌを滴下ロートに入
れ、還流が持続するように滴下し、滴下完了後、１時間
還流し、反応を完結させた。次いで、フラスコより注射
器で反応液を取り出し、残りの未反応金属マグネシウム
の固体を乾燥エーテル１１４ｍｌで洗浄した洗浄液を反
応液に戻し、濃度０．８モル／リットルの４−エトキシ
ブチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液３
８０ｍｌ［４−エトキシブチルマグネシウムブロミド
［収量６２．３ｇ（３０４ミリモル）収率８０％］であ
るグリニャール試薬を得た。
【００４８】参考例３ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例２で得られる０．８モル
／ｌのグリニャール試薬３７１ｍｌ［４−エトキシブチ
ルマグネシウムブロミド６０．９ｇ（２９７ミリモ
ル）、残りジエチルエーテル］を入れ、氷水バスに浸漬
し、０℃に調整した。滴下ロートに参考例１で得られる
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジン２６．６ｇ（１３５ミリ
モル）にジエチルエーテル２００ｍｌを加えて溶解した
溶液を入れ、撹拌しながら、６０分間かけて滴下し、滴
下完了後、引き続き、２時間撹拌保持して反応を完結さ
せ、反応生成物溶液を得た。次いで氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで昇温した。次いで、滴下ロ
ートに３規定塩酸１６０ｍｌを入れ、撹拌しながら、２
３分間かけて滴下した。３規定塩酸の滴下完了後、引き
続き２０分間撹拌保持することにより、加水分解反応を
完結させた。
四ツ口丸底フラスコに、参考例２で得られる０．８モル
／ｌのグリニャール試薬３７１ｍｌ［４−エトキシブチ
ルマグネシウムブロミド６０．９ｇ（２９７ミリモ
ル）、残りジエチルエーテル］を入れ、氷水バスに浸漬
し、０℃に調整した。滴下ロートに参考例１で得られる
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジン２６．６ｇ（１３５ミリ
モル）にジエチルエーテル２００ｍｌを加えて溶解した
溶液を入れ、撹拌しながら、６０分間かけて滴下し、滴
下完了後、引き続き、２時間撹拌保持して反応を完結さ
せ、反応生成物溶液を得た。次いで氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで昇温した。次いで、滴下ロ
ートに３規定塩酸１６０ｍｌを入れ、撹拌しながら、２
３分間かけて滴下した。３規定塩酸の滴下完了後、引き
続き２０分間撹拌保持することにより、加水分解反応を
完結させた。
【００４９】加水分解反応終了後、２０ ％炭酸水素ナト
リウム水溶液でｐＨ８に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール
＝９／１（容量比）］で精製し、無色透明な液状の生成
物［収量１８．５ｇ（８１ミリモル）収率６０％］を得
た。この生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲス
ペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを
測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお、後述の同定例１より
生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであることが
確認された。
リウム水溶液でｐＨ８に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール
＝９／１（容量比）］で精製し、無色透明な液状の生成
物［収量１８．５ｇ（８１ミリモル）収率６０％］を得
た。この生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲス
ペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを
測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお、後述の同定例１より
生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであることが
確認された。
【００５０】1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．９４〜１．０８ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１８〜１．４
８ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６１〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、３．２０〜３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．４６〜
３．７８ｐｐｍ（１Ｈ）、４．２１〜４．３１ｐｐｍ
（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −４．６６ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ-1（Ｃ
Ｏ）、３，２８０ｃｍ-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２２８（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図１に示した。
８ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６１〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、３．２０〜３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．４６〜
３．７８ｐｐｍ（１Ｈ）、４．２１〜４．３１ｐｐｍ
（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −４．６６ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ-1（Ｃ
Ｏ）、３，２８０ｃｍ-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２２８（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図１に示した。
【００５１】（同定例１）［生成物が（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキ
シブチルケトンであることの同定］ （Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンの替りに、Ｎ−（２−ヒ
ドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオニル）ピ
ロリジンを用い、上述の実験の１／１０スケールにし
て、上述と同様な処理を行い、無色透明な液状の生成物
−１［収量１．８５ｇ（８．１ミリモル）収率６０％］
を得た。この生成物−１の各種スペクトルを測定した結
果は上と同様であり、１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであっ
た。
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキ
シブチルケトンであることの同定］ （Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンの替りに、Ｎ−（２−ヒ
ドロキシ−３，３，３−トリフルオロプロピオニル）ピ
ロリジンを用い、上述の実験の１／１０スケールにし
て、上述と同様な処理を行い、無色透明な液状の生成物
−１［収量１．８５ｇ（８．１ミリモル）収率６０％］
を得た。この生成物−１の各種スペクトルを測定した結
果は上と同様であり、１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであっ
た。
【００５２】この生成物−１を次の条件で、光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー（以下、
光学活性ガスクロマトグラフィーという。）にかけた。 カラム ：商品名 ＣＨＩＲＡＬＤＥＸ，Ｂ−ＴＡ（ＡＳＴＥＣ社製） 内径０．２５ｍｍ、長さ１０ｍ、シリカキャピラリーカラ ム カラム温度 ：１００℃×１０分保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量 ７０Ｎｌ／ｍｉｎ、スプリット比 １００／１ 検出 ：ＦＩＤ 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図２の通
りであり、図２の解析結果より、２本の光学活性ピーク
が得られ、それらのピークの保持時間と面積比を求める
と次の通り 第１ピーク：保持時間３４．６７分、面積比１ （Ｓ）体 ☆１ 第２ピーク：保持時間３７．６７分、面積比１ （Ｒ）体 ☆１ （☆１ 本同定例で確認） したがって、生成物−１は１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの鏡
像異性体混合物であった。
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー（以下、
光学活性ガスクロマトグラフィーという。）にかけた。 カラム ：商品名 ＣＨＩＲＡＬＤＥＸ，Ｂ−ＴＡ（ＡＳＴＥＣ社製） 内径０．２５ｍｍ、長さ１０ｍ、シリカキャピラリーカラ ム カラム温度 ：１００℃×１０分保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量 ７０Ｎｌ／ｍｉｎ、スプリット比 １００／１ 検出 ：ＦＩＤ 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図２の通
りであり、図２の解析結果より、２本の光学活性ピーク
が得られ、それらのピークの保持時間と面積比を求める
と次の通り 第１ピーク：保持時間３４．６７分、面積比１ （Ｓ）体 ☆１ 第２ピーク：保持時間３７．６７分、面積比１ （Ｒ）体 ☆１ （☆１ 本同定例で確認） したがって、生成物−１は１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの鏡
像異性体混合物であった。
【００５３】次いで、上述で得た生成物を上と同様な条
件で、光学活性ガスクロマトグラフィーにかけた。光学
活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図３の通りで
あり、図３より１本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間は３４．６７分であった。出発化合物である
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンのＮ−ピロリジニル基を
グリニャール試薬中の４−エトキシブチル基に置換する
ことにより、生成物が得られる。したがって２位の不斉
炭素原子の立体配置には無関係であり、反応前後では光
学的反転が起こらないことより、（Ｓ）配置であること
が確認された。よって、生成物の光学活性ガスクロマト
グラフィーの保持時間３４．６７分は（Ｓ）体であるこ
とが判明し、生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお生成物−１の光学活性
ガスクロマトグラフィーの第２ピークの保持時間３７．
６７分は（Ｒ）体であることが判明した。
件で、光学活性ガスクロマトグラフィーにかけた。光学
活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図３の通りで
あり、図３より１本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間は３４．６７分であった。出発化合物である
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンのＮ−ピロリジニル基を
グリニャール試薬中の４−エトキシブチル基に置換する
ことにより、生成物が得られる。したがって２位の不斉
炭素原子の立体配置には無関係であり、反応前後では光
学的反転が起こらないことより、（Ｓ）配置であること
が確認された。よって、生成物の光学活性ガスクロマト
グラフィーの保持時間３４．６７分は（Ｓ）体であるこ
とが判明し、生成物は（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお生成物−１の光学活性
ガスクロマトグラフィーの第２ピークの保持時間３７．
６７分は（Ｒ）体であることが判明した。
【００５４】実施例１［（Ｓ）−２−（４−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ−
７−エトキシヘプタノン−３の製造］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコにｎ−ヘキサンで洗浄、精製、乾燥
した水素化ナトリウム２．０ｇ（８３ミリモル）とジエ
チルエーテル２３ｍｌを入れ、氷水バス中に挿入し、撹
拌しながら、０℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロ
ートに参考例３で得られる（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチル
ケトン１７．１ｇ（７５ミリモル）とジエチルエーテル
２０２ｍｌを入れ、均一な溶液とし、撹拌しながら、１
７分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、２５℃まで昇温し、引き続き、６０
分間撹拌保持して、反応を完結させた。次いで、上述の
フラスコを再度氷水バスに挿入し、０℃に調整した。別
途滴下ロートに４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
２２．２ｇ（９０ミリモル）とジエチルエーテル１０８
ｍｌを入れ、撹拌しながら、３３分間かけて滴下した。
滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、２５
℃まで昇温し、引き続き１５０分間撹拌保持して、反応
を完結させた。
キシベンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ−
７−エトキシヘプタノン−３の製造］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコにｎ−ヘキサンで洗浄、精製、乾燥
した水素化ナトリウム２．０ｇ（８３ミリモル）とジエ
チルエーテル２３ｍｌを入れ、氷水バス中に挿入し、撹
拌しながら、０℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロ
ートに参考例３で得られる（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチル
ケトン１７．１ｇ（７５ミリモル）とジエチルエーテル
２０２ｍｌを入れ、均一な溶液とし、撹拌しながら、１
７分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、２５℃まで昇温し、引き続き、６０
分間撹拌保持して、反応を完結させた。次いで、上述の
フラスコを再度氷水バスに挿入し、０℃に調整した。別
途滴下ロートに４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
２２．２ｇ（９０ミリモル）とジエチルエーテル１０８
ｍｌを入れ、撹拌しながら、３３分間かけて滴下した。
滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、２５
℃まで昇温し、引き続き１５０分間撹拌保持して、反応
を完結させた。
【００５５】反応終了後、１規定塩酸７５ｍｌを入れ、
６０分間撹拌保持した後、５％炭酸水素ナトリウム水溶
液でｐＨ８に調整した。次いでエーテル抽出し、抽出液
を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分
を除去した後、減圧濃縮し溶媒を留去し、残った淡黄色
のシロップ状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝
９６／４（容量比）］にて精製した溶液に粒状活性炭
０．５２ｇ［粒状活性炭の添加量は（Ｓ）−１−ヒドロ
キシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシ
ブチルケトンの仕込量に対して３重量パーセントであ
る］を加えて、３０分間撹拌した後、粒状活性炭を濾過
により除去し、濾液を減圧濃縮し、溶離液を留去し、無
色透明な液状の目的生成物［収量２６．３ｇ（６０ミリ
モル）収率８０％］を得た。この目的生成物の1ＨＮＭ
Ｒスペクトル、19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペク
トルおよびＭＳスペクトルを測定した結果は次の通りで
あり、目的生成物は２−（４−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタノン−３であることが確認された。
６０分間撹拌保持した後、５％炭酸水素ナトリウム水溶
液でｐＨ８に調整した。次いでエーテル抽出し、抽出液
を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分
を除去した後、減圧濃縮し溶媒を留去し、残った淡黄色
のシロップ状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝
９６／４（容量比）］にて精製した溶液に粒状活性炭
０．５２ｇ［粒状活性炭の添加量は（Ｓ）−１−ヒドロ
キシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシ
ブチルケトンの仕込量に対して３重量パーセントであ
る］を加えて、３０分間撹拌した後、粒状活性炭を濾過
により除去し、濾液を減圧濃縮し、溶離液を留去し、無
色透明な液状の目的生成物［収量２６．３ｇ（６０ミリ
モル）収率８０％］を得た。この目的生成物の1ＨＮＭ
Ｒスペクトル、19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペク
トルおよびＭＳスペクトルを測定した結果は次の通りで
あり、目的生成物は２−（４−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタノン−３であることが確認された。
【００５６】1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） １．０７ｐｐｍ（３Ｈ）、１．４７〜２．１８ｐｐｍ
（６Ｈ）、２．９２〜３．０４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．２
４〜３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、４．１７〜４．２７ｐｐ
ｍ（１Ｈ）、４．４９〜４．６７ｐｐｍ（２Ｈ）、７．
２７ｐｐｍ（５Ｈ） （６．７５〜７．００、７．７６〜７．９５）ｐｐｍ
（４Ｈ、Ａ，Ｂパターン）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −５．５０ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１１０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６６０ｃｍ-1（Ｃ
Ｏ）、１，７４０ｃｍ-1（ＣＯＯ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ４３８（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図４に示した。この目
的生成物は後述の同定例２より、（Ｓ）−２−（４−ベ
ンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタノン−３であることが確認
された。
（６Ｈ）、２．９２〜３．０４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．２
４〜３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、４．１７〜４．２７ｐｐ
ｍ（１Ｈ）、４．４９〜４．６７ｐｐｍ（２Ｈ）、７．
２７ｐｐｍ（５Ｈ） （６．７５〜７．００、７．７６〜７．９５）ｐｐｍ
（４Ｈ、Ａ，Ｂパターン）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −５．５０ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１１０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６６０ｃｍ-1（Ｃ
Ｏ）、１，７４０ｃｍ-1（ＣＯＯ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ４３８（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図４に示した。この目
的生成物は後述の同定例２より、（Ｓ）−２−（４−ベ
ンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタノン−３であることが確認
された。
【００５７】（同定例２）［実施例１で得られた目的生
成物が（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タノン−３であることの同定］ 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに、上述で得られた目的生成物２．１９
ｇ（５ミリモル）と、３規定塩酸２５ｍｌとメタノール
１００ｍｌを入れ、温度８０℃の温水バスに浸漬し、撹
拌しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き６時間還流
して加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した
後、エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２０ｍｌで洗浄し、次いで水２００ｍｌで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ
−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９０／１０（容
量比）］で製造し、無色透明な液状の生成物［収量０．
９１ｇ（４ミリモル）収率８０％］を得た。
成物が（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タノン−３であることの同定］ 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに、上述で得られた目的生成物２．１９
ｇ（５ミリモル）と、３規定塩酸２５ｍｌとメタノール
１００ｍｌを入れ、温度８０℃の温水バスに浸漬し、撹
拌しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き６時間還流
して加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した
後、エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２０ｍｌで洗浄し、次いで水２００ｍｌで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ
−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９０／１０（容
量比）］で製造し、無色透明な液状の生成物［収量０．
９１ｇ（４ミリモル）収率８０％］を得た。
【００５８】この生成物の各種スペクトル分析は参考例
３と一致し、生成物は１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであるこ
とが確認された。また上記生成物を参考例３の同定例１
と同様な条件で光学活性ガスクロマトグラフィーをかけ
た結果、１本の光学活性ピークが得られ、その保持時間
は３４．６７分となり、参考例３の図３と一致したこと
より、（Ｓ）配置であることが確認され、この生成物は
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル−４−エトキシブチルケトンであることが確認され
た。したがって、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであ
る原料化合物の１位の不斉炭素原子に結合した水酸基
と、アルカリ金属水素化物とを反応させ、アルカリ金属
アルコラートに換え、次いで、４−ベンジルオキシベン
ゾイルクロリドを反応させて得た目的生成物を、鉱酸で
加水分解することにより、原料化合物と一致した生成物
が得られることより、原料化合物と上述の化合物を反応
することによって得られた目的生成物は（Ｓ）配置であ
ることが判明し、目的生成物は（Ｓ）−２−（４−ベン
ジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタノン−３であることが確認
された。
３と一致し、生成物は１−ヒドロキシ−２，２，２−ト
リフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであるこ
とが確認された。また上記生成物を参考例３の同定例１
と同様な条件で光学活性ガスクロマトグラフィーをかけ
た結果、１本の光学活性ピークが得られ、その保持時間
は３４．６７分となり、参考例３の図３と一致したこと
より、（Ｓ）配置であることが確認され、この生成物は
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル−４−エトキシブチルケトンであることが確認され
た。したがって、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２
−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンであ
る原料化合物の１位の不斉炭素原子に結合した水酸基
と、アルカリ金属水素化物とを反応させ、アルカリ金属
アルコラートに換え、次いで、４−ベンジルオキシベン
ゾイルクロリドを反応させて得た目的生成物を、鉱酸で
加水分解することにより、原料化合物と一致した生成物
が得られることより、原料化合物と上述の化合物を反応
することによって得られた目的生成物は（Ｓ）配置であ
ることが判明し、目的生成物は（Ｓ）−２−（４−ベン
ジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタノン−３であることが確認
された。
【００５９】参考例４［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンおよ
びａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし金属水
素化物として安定した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を
用いた場合］ （第一段反応）［ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造：実施例
１の化合物の−ＣＯ−の−ＣＨ（ＯＨ）−への還元］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）とジエチルエーテル４０ｍ
ｌを入れ、撹拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、０℃に調整した。
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンおよ
びａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし金属水
素化物として安定した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を
用いた場合］ （第一段反応）［ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造：実施例
１の化合物の−ＣＯ−の−ＣＨ（ＯＨ）−への還元］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）とジエチルエーテル４０ｍ
ｌを入れ、撹拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、０℃に調整した。
【００６０】次いで、滴下ロートに水素化ホウ素ナトリ
ウム０．２７ｇ（７ミリモル）と５％水酸化ナトリウム
水溶液２８ｇ［ＮａＯＨ１．４ｇ（３５ミリモル）］と
メタノール７ｍｌを入れた安定化した水素化ホウ素ナト
リウム水溶液を撹拌しながら、１０分間かけて滴下し
た。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き、９０分間撹拌保持して、反
応を完結させ、反応生成物を得た。得られた反応生成物
溶液は後述の同定例１より、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型
／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）
からなるジアステレオマー混合物であることが確認され
た。
ウム０．２７ｇ（７ミリモル）と５％水酸化ナトリウム
水溶液２８ｇ［ＮａＯＨ１．４ｇ（３５ミリモル）］と
メタノール７ｍｌを入れた安定化した水素化ホウ素ナト
リウム水溶液を撹拌しながら、１０分間かけて滴下し
た。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き、９０分間撹拌保持して、反
応を完結させ、反応生成物を得た。得られた反応生成物
溶液は後述の同定例１より、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型
／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）
からなるジアステレオマー混合物であることが確認され
た。
【００６１】［同定例１：反応生成物はｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定］温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた４０重量％の反応
生成物溶液［原料化合物換算１０ミリモル含有反応生成
物溶液］と、３規定塩酸５０ｍｌおよびメタノール２０
０ｍｌを入れ、温度８０％の温水バス中に挿入し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き７時間加熱還
流し加水分解反応を行った。
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定］温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた４０重量％の反応
生成物溶液［原料化合物換算１０ミリモル含有反応生成
物溶液］と、３規定塩酸５０ｍｌおよびメタノール２０
０ｍｌを入れ、温度８０％の温水バス中に挿入し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き７時間加熱還
流し加水分解反応を行った。
【００６２】加水分解反応完了後、温水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、エーテル抽出
し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム水溶液４０ｍｌ
で洗浄し、次いで、水３００ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イ
ソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］で精製
し、無色透明な液状の生成物−１［収量１．８４ｇ（８
ｐｐｍ）収率８０％］を得た。この生成物−１の1ＨＮ
ＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペ
クトルおよびＭＳスペクトルを測定した結果、生成物−
１は７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
−２，３−ジオールであることが判明した。
り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、エーテル抽出
し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム水溶液４０ｍｌ
で洗浄し、次いで、水３００ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イ
ソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］で精製
し、無色透明な液状の生成物−１［収量１．８４ｇ（８
ｐｐｍ）収率８０％］を得た。この生成物−１の1ＨＮ
ＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペ
クトルおよびＭＳスペクトルを測定した結果、生成物−
１は７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
−２，３−ジオールであることが判明した。
【００６３】1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．８６〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０６〜１．２
４ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６９〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３．１６ｐｐｍ（１Ｈ）、３．２０〜
３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５２〜３．６６ｐｐｍ
（２Ｈ）、４．０８〜４．１６ｐｐｍ（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比７０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆１］ 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比３０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆１］ （☆１ 本同定例で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１５０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、３，２７０ｃｍ-1（Ｏ
Ｈ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ２３０（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図５に示した。
４ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６９〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３．１６ｐｐｍ（１Ｈ）、３．２０〜
３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５２〜３．６６ｐｐｍ
（２Ｈ）、４．０８〜４．１６ｐｐｍ（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比７０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆１］ 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比３０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆１］ （☆１ 本同定例で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１５０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、３，２７０ｃｍ-1（Ｏ
Ｈ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ２３０（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図５に示した。
【００６４】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器を備
えた三ツ口丸底フラスコに上述で得られた生成物−１、
１．１５ｇ（５ミリモル）と２．２−ジメトキシプロパ
ン５ｍｌとパラトルエンスルホン酸１水塩０．１ｍｇを
入れ、温度９０℃の温水バスに挿入し、撹拌しながら、
沸騰するまで昇温し、引き続き５時間還流し、アセター
ル交換反応を行い、反応終了後、反応生成物を８２℃で
蒸留し、留分を濃縮して、無色透明な液状の生成物−１
を得た。この生成物−２の1ＨＮＭＲスペクトル、19Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−２は
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、
１，３−ジオキソラン誘導体という。）であることが確
認された。
えた三ツ口丸底フラスコに上述で得られた生成物−１、
１．１５ｇ（５ミリモル）と２．２−ジメトキシプロパ
ン５ｍｌとパラトルエンスルホン酸１水塩０．１ｍｇを
入れ、温度９０℃の温水バスに挿入し、撹拌しながら、
沸騰するまで昇温し、引き続き５時間還流し、アセター
ル交換反応を行い、反応終了後、反応生成物を８２℃で
蒸留し、留分を濃縮して、無色透明な液状の生成物−１
を得た。この生成物−２の1ＨＮＭＲスペクトル、19Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−２は
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、
１，３−ジオキソラン誘導体という。）であることが確
認された。
【００６５】1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） １．００〜１．０５ｐｐｍ（３Ｈ）、１．３６〜２．０
７ｐｐｍ（６Ｈ）、１．５８ｐｐｍ（ＣＨ3）、１．７
５ｐｐｍ（ＣＨ3）、１．８２ｐｐｍ（ＣＨ3）、１．９
０ｐｐｍ（ＣＨ3）、２．７３〜２．８４ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３．０４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５５〜
３．８０ｐｐｍ（２Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４６ｐｐｍ、面積比７０％［ｔｒａ
ｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体☆２］ 第２ピーク：−３．６６ｐｐｍ、面積比３０％［ｃｉｓ
体１，３−ジオキソラン誘導体☆２］ （☆２ 本同定例にて確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１４０ｃｍ-1（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ２７０（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図６に示した。
７ｐｐｍ（６Ｈ）、１．５８ｐｐｍ（ＣＨ3）、１．７
５ｐｐｍ（ＣＨ3）、１．８２ｐｐｍ（ＣＨ3）、１．９
０ｐｐｍ（ＣＨ3）、２．７３〜２．８４ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３．０４ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５５〜
３．８０ｐｐｍ（２Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４６ｐｐｍ、面積比７０％［ｔｒａ
ｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体☆２］ 第２ピーク：−３．６６ｐｐｍ、面積比３０％［ｃｉｓ
体１，３−ジオキソラン誘導体☆２］ （☆２ 本同定例にて確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１４０ｃｍ-1（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ２７０（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図６に示した。
【００６６】また、上述で得た生成物−２である１，３
−ジオキソラン誘導体の1ＨＮＭＲスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表１の通りである。表１
より、面積比７０％であるメチル基の位置はｔｒａｎｓ
−２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５
−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、
ｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）で
あり、面積比３０％であるメチル基の位置はｃｉｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、ｃ
ｉｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）であるこ
とが判明した。したがって、生成物−２はｔｒａｎｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランおよびｃｉ
ｓ−２，２−２−ジメチル−４−（４−エトキシブチ
ル）−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン
からなり、その生成比率ｔｒａｎｓ体／ｃｉｓ体＝７０
／３０（面積比）のジアステレオマー混合物であること
が確認された。
−ジオキソラン誘導体の1ＨＮＭＲスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表１の通りである。表１
より、面積比７０％であるメチル基の位置はｔｒａｎｓ
−２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５
−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、
ｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）で
あり、面積比３０％であるメチル基の位置はｃｉｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、ｃ
ｉｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）であるこ
とが判明した。したがって、生成物−２はｔｒａｎｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランおよびｃｉ
ｓ−２，２−２−ジメチル−４−（４−エトキシブチ
ル）−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン
からなり、その生成比率ｔｒａｎｓ体／ｃｉｓ体＝７０
／３０（面積比）のジアステレオマー混合物であること
が確認された。
【００６７】
【表１】
【００６８】また、生成物−２の1ＨＮＭＲスペクトル
のメチル基（１．７５ｐｐｍ、 １．８２ｐｐｍ）の面
積比７０％であるｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘
導体と生成物−２の19ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク
（−０．４６ｐｐｍ）の面積比が一致したことにより、
第１ピークはｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体
であり、1ＨＮＭＲスペクトルのメチル基（１．５８ｐ
ｐｍ、１．９０ｐｐｍ）の面積比３０％であるｃｉｓ体
１，３−ジオキソラン誘導体と生成物−２の19ＦＮＭＲ
スペクトルの第２ピーク（−３．６６ｐｐｍ）の面積比
が一致したことにより、第２ピークはｃｉｓ体１，３−
ジオキソラン誘導体であることが確認された。
のメチル基（１．７５ｐｐｍ、 １．８２ｐｐｍ）の面
積比７０％であるｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘
導体と生成物−２の19ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク
（−０．４６ｐｐｍ）の面積比が一致したことにより、
第１ピークはｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体
であり、1ＨＮＭＲスペクトルのメチル基（１．５８ｐ
ｐｍ、１．９０ｐｐｍ）の面積比３０％であるｃｉｓ体
１，３−ジオキソラン誘導体と生成物−２の19ＦＮＭＲ
スペクトルの第２ピーク（−３．６６ｐｐｍ）の面積比
が一致したことにより、第２ピークはｃｉｓ体１，３−
ジオキソラン誘導体であることが確認された。
【００６９】また、上述の第一段反応で得られた反応生
成物は（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タノン−３のカルボニル炭素を金属水素化物で還元する
ことによって得られるため、２位の不斉炭素原子は還元
反応には無関係であり、（２Ｓ）配置であることが確認
された。また得られた反応生成物を加水分解した７−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−
ジオールの２位の不斉炭素原子は加水分解しても絶対配
置は変らないことより（２Ｓ）配置であることが確認さ
れた。
成物は（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプ
タノン−３のカルボニル炭素を金属水素化物で還元する
ことによって得られるため、２位の不斉炭素原子は還元
反応には無関係であり、（２Ｓ）配置であることが確認
された。また得られた反応生成物を加水分解した７−エ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−
ジオールの２位の不斉炭素原子は加水分解しても絶対配
置は変らないことより（２Ｓ）配置であることが確認さ
れた。
【００７０】したがって、生成物−２のｔｒａｎｓ体
１，３−ジオキソラン誘導体と面積比が一致する生成物
−１の19ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−０．４８
ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
であり、他方、生成物−２のｃｉｓ体１，３−ジオキソ
ラン誘導体と面積比が一致する生成物−１の19ＦＮＭＲ
スペクトルの第２ピーク（−２．２１ｐｐｍ）はａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタン−２，３−ジオールであることが判明
し、生成物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオ
ールおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
からなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）のジ
アステレオマー混合物であることが確認された。したが
って、第一段反応で得られた反応生成物はｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
１，３−ジオキソラン誘導体と面積比が一致する生成物
−１の19ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−０．４８
ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
であり、他方、生成物−２のｃｉｓ体１，３−ジオキソ
ラン誘導体と面積比が一致する生成物−１の19ＦＮＭＲ
スペクトルの第２ピーク（−２．２１ｐｐｍ）はａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタン−２，３−ジオールであることが判明
し、生成物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオ
ールおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
からなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）のジ
アステレオマー混合物であることが確認された。したが
って、第一段反応で得られた反応生成物はｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
【００７１】（第二段反応）（Ｏ−メチル化誘導体の製
造） 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り６０％の反
応生成物溶液［（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ−７−エト
キシヘプタノン−３換算１５ミリモルを含有した液］を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル２．２７ｇ
（１６ミリモル）とジエチルエーテル２０ｍｌを入れ、
撹拌しながら、１１分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、
引き続き、室温で２時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
造） 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り６０％の反
応生成物溶液［（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ−７−エト
キシヘプタノン−３換算１５ミリモルを含有した液］を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル２．２７ｇ
（１６ミリモル）とジエチルエーテル２０ｍｌを入れ、
撹拌しながら、１１分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、
引き続き、室温で２時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
【００７２】反応終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］
で精製し、無色透明な液状のＯ−メチル化誘導体［収量
５．７９ｇ（１２．７５ミリモル）収率８５％］を得
た。得られたＯ−メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクト
ルを測定した結果、２本のピークが認められ、各ピーク
の位置と面積比を示すと次の通り19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．２０ｐｐｍ、面積比７０％、［Ｓｙ
ｎ体（２Ｓ、３Ｒ）型☆３］ 第２ピーク：−３．９０ｐｐｍ、面積比３０％、［ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆３］ （☆３、後述の同定例２で確認） したがって、19ＦＮＭＲスペクトルの結果および後述の
同定例２より、Ｏ−メチル化誘導体はＳｙｎ体（２Ｓ、
３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型＝７０／３０
（面積比）からなるジアステレオマー混合物であること
が確認された。
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］
で精製し、無色透明な液状のＯ−メチル化誘導体［収量
５．７９ｇ（１２．７５ミリモル）収率８５％］を得
た。得られたＯ−メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクト
ルを測定した結果、２本のピークが認められ、各ピーク
の位置と面積比を示すと次の通り19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．２０ｐｐｍ、面積比７０％、［Ｓｙ
ｎ体（２Ｓ、３Ｒ）型☆３］ 第２ピーク：−３．９０ｐｐｍ、面積比３０％、［ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆３］ （☆３、後述の同定例２で確認） したがって、19ＦＮＭＲスペクトルの結果および後述の
同定例２より、Ｏ−メチル化誘導体はＳｙｎ体（２Ｓ、
３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型＝７０／３０
（面積比）からなるジアステレオマー混合物であること
が確認された。
【００７３】（第三段反応）（Ｈ2、Ｐｄ／Ｃによるベ
ンジル基の除去） 温度計、撹拌機、滴下ロート、水素ガスチャージ管およ
びポリエチレン樹脂風船を備えた密閉型の４ツ口丸底フ
ラスコに、上述の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘
導体３．８６ｇ（８．５ミリモル）とメタノール５８ｍ
ｌを入れ、室温で撹拌しながら、滴下ロートに１０％パ
ラジウム／炭素触媒０．０８ｇを入れ、ゆっくり滴下
し、均一に分散された懸濁液を調合した。次いで、室温
で撹拌しながら、圧力１．１ｋｇ／ｃｍ2程度の水素ガ
スで反応系をシールし、還元反応を行った。還元反応は
懸濁液を撹拌しながら、水素ガスの吸収がなくなるま
で、４時間供給し、反応を完結させた。
ンジル基の除去） 温度計、撹拌機、滴下ロート、水素ガスチャージ管およ
びポリエチレン樹脂風船を備えた密閉型の４ツ口丸底フ
ラスコに、上述の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘
導体３．８６ｇ（８．５ミリモル）とメタノール５８ｍ
ｌを入れ、室温で撹拌しながら、滴下ロートに１０％パ
ラジウム／炭素触媒０．０８ｇを入れ、ゆっくり滴下
し、均一に分散された懸濁液を調合した。次いで、室温
で撹拌しながら、圧力１．１ｋｇ／ｃｍ2程度の水素ガ
スで反応系をシールし、還元反応を行った。還元反応は
懸濁液を撹拌しながら、水素ガスの吸収がなくなるま
で、４時間供給し、反応を完結させた。
【００７４】還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾
過し、パラジウム／炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮
することにより、メタノールを留去した後、副生したト
ルエンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６
／４（容量比）］で精製し、溶離液を減圧留去し、無色
透明な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−１
［収量３．０３ｇ（８．３３ミリモル）収率９８％］を
得た。この生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲ
スペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、生成物は２−（４
−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。
過し、パラジウム／炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮
することにより、メタノールを留去した後、副生したト
ルエンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６
／４（容量比）］で精製し、溶離液を減圧留去し、無色
透明な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−１
［収量３．０３ｇ（８．３３ミリモル）収率９８％］を
得た。この生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、19ＦＮＭＲ
スペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、生成物は２−（４
−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。
【００７５】1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．８７〜０．９６ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０９〜１．５
３ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６０〜２．７２ｐｐｍ（２
Ｈ ）、２．７５ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８７〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．２７〜３．４２ｐｐｍ（２Ｈ）、
４．１８〜４．３５ｐｐｍ（１Ｈ）、５．４１ｐｐｍ
（１Ｈ）、６．６９〜７．９８ｐｐｍ（４Ｈ、ＡＢパタ
ーン）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−１．８６ｐｐｍ、面積比７０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆４］ 第２ピーク：−２．３３ｐｐｍ、面積比３０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆４］ （☆４、後述の同定例２で確認） １Ｒ吸収スペクトル １，１１０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，７４０ｃｍ-1（ＣＯ
Ｏ）、３，３００ｃｍ-1（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ３６４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図７に示した。
３ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６０〜２．７２ｐｐｍ（２
Ｈ ）、２．７５ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８７〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．２７〜３．４２ｐｐｍ（２Ｈ）、
４．１８〜４．３５ｐｐｍ（１Ｈ）、５．４１ｐｐｍ
（１Ｈ）、６．６９〜７．９８ｐｐｍ（４Ｈ、ＡＢパタ
ーン）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−１．８６ｐｐｍ、面積比７０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆４］ 第２ピーク：−２．３３ｐｐｍ、面積比３０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆４］ （☆４、後述の同定例２で確認） １Ｒ吸収スペクトル １，１１０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，７４０ｃｍ-1（ＣＯ
Ｏ）、３，３００ｃｍ-1（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ３６４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図７に示した。
【００７６】得られた生成物は後述の同定例２より、ｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンおよびａｎｔｉ−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなるジア
ステレオマー混合物であり、その生成比率ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）であるジアステレオマー混合物−１である
ことが確認された。
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンおよびａｎｔｉ−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなるジア
ステレオマー混合物であり、その生成比率ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）であるジアステレオマー混合物−１である
ことが確認された。
【００７７】［同定例２：第二段反応で得られたＯ−メ
チル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンか
らなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）のジア
ステレオマー混合物−１であることの同定］温度計、撹
拌機、還流冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコ
に、参考例４の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘導
体１．８２ｇ（４ミリモル）と、３規定塩酸２０ｍｌと
メタノール８０ｍｌを入れ、撹拌しながら、８０℃まで
昇温し、６時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、
室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽出液を２０％
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成物［収量
０．７８ｇ（３．２ミリモル）収率８０％］を得た。
チル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンか
らなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）のジア
ステレオマー混合物−１であることの同定］温度計、撹
拌機、還流冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコ
に、参考例４の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘導
体１．８２ｇ（４ミリモル）と、３規定塩酸２０ｍｌと
メタノール８０ｍｌを入れ、撹拌しながら、８０℃まで
昇温し、６時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、
室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽出液を２０％
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成物［収量
０．７８ｇ（３．２ミリモル）収率８０％］を得た。
【００７８】この生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、19Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は２
−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンであった。1 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．８１〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ）、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３
Ｈ ）、２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、
３．７７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１
４ｐｐｍ（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．１２ｐｐｍ、面積比７０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆５］ 第２ピーク：−４．１４ｐｐｍ、面積比３０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆５］ （☆５、本同定例で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ-1（Ｏ
Ｈ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図８に示した。
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は２
−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンであった。1 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．８１〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ）、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３
Ｈ ）、２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、
３．７７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１
４ｐｐｍ（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．１２ｐｐｍ、面積比７０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆５］ 第２ピーク：−４．１４ｐｐｍ、面積比３０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆５］ （☆５、本同定例で確認） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ-1（Ｏ
Ｈ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図８に示した。
【００７９】次いで、上述の生成物を、下記条件で光学
異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー
（以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。）に
かけた。 カラム ：商品名 シクロデックスβ２３６Ｍ（クロムパック社製） ：サイズ 内径０．２５ｍｍ、長さ２５ｍ ：シリカキャピラリーカラム カラム温度 ：１００℃×１０分間保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量 ６０ＮＬ／ｍｉｎ、スプリット比 １００／１ 検出 ：ＦＩＤ
異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー
（以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。）に
かけた。 カラム ：商品名 シクロデックスβ２３６Ｍ（クロムパック社製） ：サイズ 内径０．２５ｍｍ、長さ２５ｍ ：シリカキャピラリーカラム カラム温度 ：１００℃×１０分間保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量 ６０ＮＬ／ｍｉｎ、スプリット比 １００／１ 検出 ：ＦＩＤ
【００８０】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを示すと図９となった。図９のチャートの解析結果よ
り、２本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第１ピーク：保持時間１４．５５分、面積比７０％、
［Ｓｙｎ体（２Ｓ、３Ｒ）型☆６］ 第２ピーク：保持時間１５．２７分、面積比３０％、
［ａｎｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆６］ （☆６ 本同定例で確認）
トを示すと図９となった。図９のチャートの解析結果よ
り、２本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第１ピーク：保持時間１４．５５分、面積比７０％、
［Ｓｙｎ体（２Ｓ、３Ｒ）型☆６］ 第２ピーク：保持時間１５．２７分、面積比３０％、
［ａｎｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆６］ （☆６ 本同定例で確認）
【００８１】第一段反応で得られたｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面
積比）からなるジアステレオマー混合物である反応生成
物の３位の不斉炭素原子に結合した金属化合物のアルコ
ラートとヨウ化メチルと反応させることによって得られ
たＯ−メチル化誘導体を酸で加水分解することによって
得られる生成物は２本の光学活性ピークが得られ、かつ
第１ピーク／第２ピーク＝７０／３０（面積比）が上記
第一段反応で得た反応生成物の面積比と一致したことに
より、反応生成物と生成物との間で２位と３位の不斉炭
素原子の絶対配置が変化しないことが確認された。
Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面
積比）からなるジアステレオマー混合物である反応生成
物の３位の不斉炭素原子に結合した金属化合物のアルコ
ラートとヨウ化メチルと反応させることによって得られ
たＯ−メチル化誘導体を酸で加水分解することによって
得られる生成物は２本の光学活性ピークが得られ、かつ
第１ピーク／第２ピーク＝７０／３０（面積比）が上記
第一段反応で得た反応生成物の面積比と一致したことに
より、反応生成物と生成物との間で２位と３位の不斉炭
素原子の絶対配置が変化しないことが確認された。
【００８２】よって、生成物の光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比７０％である第１ピーク（保持時間１
４．５５分）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比３０％である第２ピーク（保持時間１
５．２７分）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロ
キシ−７−エトキシ−３−メトキシヘプタンであること
が判明し、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−
７−エトキシ−３−メトキシヘプタンと面積比が一致す
る生成物の19ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−２．
１２ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する
生成物の19ＦＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．１
４ｐｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタンであることが確認された。
ラフィーの面積比７０％である第１ピーク（保持時間１
４．５５分）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比３０％である第２ピーク（保持時間１
５．２７分）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロ
キシ−７−エトキシ−３−メトキシヘプタンであること
が判明し、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−
７−エトキシ−３−メトキシヘプタンと面積比が一致す
る生成物の19ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−２．
１２ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する
生成物の19ＦＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．１
４ｐｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタンであることが確認された。
【００８３】したがって、Ｏ−メチル誘導体を加水分解
して得られる生成物とＯ−メチル化誘導体の各２位と３
位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、Ｏ−
メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクトルの面積比７０％
である第１ピーク（−２．２０ｐｐｍ）はｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型であり、19ＦＮＭＲスペクトルの面積比３
０％である第２ピーク（−３．９０ｐｐｍ）はａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型であることが判明し、Ｏ−メチル化
誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジアステ
レオマー混合物であることが確認出来た。
して得られる生成物とＯ−メチル化誘導体の各２位と３
位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、Ｏ−
メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクトルの面積比７０％
である第１ピーク（−２．２０ｐｐｍ）はｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型であり、19ＦＮＭＲスペクトルの面積比３
０％である第２ピーク（−３．９０ｐｐｍ）はａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型であることが判明し、Ｏ−メチル化
誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジアステ
レオマー混合物であることが確認出来た。
【００８４】次いで、第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−１を下記条件で光学活性液体クロマトグ
ラフィーにかけた。 光学異性体分離カラム：［商品名：アミロース系光学異性体分離用ＨＰＬＣ カラム：ダイセル化学工業（株）製］ 分離剤 ：アミロース・トリス［（Ｓ）−１−フェニルエチルカルバ メート］をシリカゲルでコーティングしたもの（グレート ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＡＳ） サイズ ：４．６ｍｍφ×２５０ｍｍＨ 溶離液 ：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６／４（容量比 ） 流速 ：０．５ｍｌ／ｍｉｎ． 検出 ：紫外検出器で波長２５４ｍｍの紫外吸収を用いた。 試料 ：０．１ｍｇ
オマー混合物−１を下記条件で光学活性液体クロマトグ
ラフィーにかけた。 光学異性体分離カラム：［商品名：アミロース系光学異性体分離用ＨＰＬＣ カラム：ダイセル化学工業（株）製］ 分離剤 ：アミロース・トリス［（Ｓ）−１−フェニルエチルカルバ メート］をシリカゲルでコーティングしたもの（グレート ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＡＳ） サイズ ：４．６ｍｍφ×２５０ｍｍＨ 溶離液 ：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６／４（容量比 ） 流速 ：０．５ｍｌ／ｍｉｎ． 検出 ：紫外検出器で波長２５４ｍｍの紫外吸収を用いた。 試料 ：０．１ｍｇ
【００８５】上記光学活性液体クロマトグラフィーのチ
ャートは図１０の通りであり、図１０の解析結果より、
２本の光学活性ピークが得られ、その保持時間と面積比
は以下の通りであった。 第１ピーク［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆７］ 保持時間１０．１１分 面積比７０％ 第２ピーク［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆７］ 保持時間１１．４６分 面積比３０％ （☆７ 本同定例より確認）
ャートは図１０の通りであり、図１０の解析結果より、
２本の光学活性ピークが得られ、その保持時間と面積比
は以下の通りであった。 第１ピーク［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆７］ 保持時間１０．１１分 面積比７０％ 第２ピーク［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆７］ 保持時間１１．４６分 面積比３０％ （☆７ 本同定例より確認）
【００８６】なお、上述の同定例２より、ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるＯ
−メチル化誘導体をパラジウム／炭素触媒の存在下で水
素ガスで還元することによりジアステレオマー混合物−
１が得られる反応では、２位と３位の不斉炭素原子の立
体配置には無関係である。したがって、Ｏ−メチル化誘
導体のｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致するジ
アステレオマー混合物−１の光学活性液体クロマトグラ
フィーの第１ピーク（保持時間１０．１１分）はｓｙｎ
−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタンであり、他方Ｏ−メチル化誘導体の
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型の面積比と一致するジアス
テレオマー混合物−１の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第２ピーク（保持時間１１．４６分）はａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンであることが判明した。
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるＯ
−メチル化誘導体をパラジウム／炭素触媒の存在下で水
素ガスで還元することによりジアステレオマー混合物−
１が得られる反応では、２位と３位の不斉炭素原子の立
体配置には無関係である。したがって、Ｏ−メチル化誘
導体のｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致するジ
アステレオマー混合物−１の光学活性液体クロマトグラ
フィーの第１ピーク（保持時間１０．１１分）はｓｙｎ
−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタンであり、他方Ｏ−メチル化誘導体の
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型の面積比と一致するジアス
テレオマー混合物−１の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第２ピーク（保持時間１１．４６分）はａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンであることが判明した。
【００８７】よって、ジアステレオマー混合物−１の19
ＦＮＭＲスペクトルの面積比７０％である第１ピーク
（−１．８６ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比３０％である第２ピーク（−２．３３ｐ
ｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７
−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタンおよびａｎｔｉ−２−（４−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率ｓｙ
ｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝
７０／３０（面積比）のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
ＦＮＭＲスペクトルの面積比７０％である第１ピーク
（−１．８６ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比３０％である第２ピーク（−２．３３ｐ
ｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７
−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタンおよびａｎｔｉ−２−（４−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率ｓｙ
ｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝
７０／３０（面積比）のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
【００８８】（第四段工程）［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造：シリカゲル
クロマトグラフィーによるジアステレオマーの分離］ 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−１、２
００ｇ（５．５ミリモル）を下記条件で、分取用シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、第１ピークお
よび第２ピークを各々分取し、溶離液を減圧留去し、い
ずれも無色透明な液状の各目的生成物である第１フラク
ション［取得量１．２６ｇ（３．４７ミリモル）取得率
６３％］および第２フラクション［取得量０．５４ｇ
（１．４８ミリモル）取得率２７％］を各々得た。
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造：シリカゲル
クロマトグラフィーによるジアステレオマーの分離］ 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−１、２
００ｇ（５．５ミリモル）を下記条件で、分取用シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、第１ピークお
よび第２ピークを各々分取し、溶離液を減圧留去し、い
ずれも無色透明な液状の各目的生成物である第１フラク
ション［取得量１．２６ｇ（３．４７ミリモル）取得率
６３％］および第２フラクション［取得量０．５４ｇ
（１．４８ミリモル）取得率２７％］を各々得た。
【００８９】これらの目的生成物の1ＨＮＭＲスペクト
ル、１Ｒ吸収スペクトル、ＭＳスペクトルはジアステレ
オマー混合物−１と一致し、各目的生成物は２−（４−
ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。
また、19ＦＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、各１
本のピークが認められた。さらに第三段反応の同定例２
と同じ条件で、光学活性液体クロマトグラフィーにかけ
た。上記光学活性液体クロマトグラフィーのチャートは
各々図１１および図１２の通りで、図１１、および図１
２の解析結果より、各々１本の光学活性ピークが得ら
れ、その保持時間を示すと以下の通りとなり、目的生成
物である第１フラションはｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２
−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あり、第２フラクションはａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−
２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
であることが確認出来た。
ル、１Ｒ吸収スペクトル、ＭＳスペクトルはジアステレ
オマー混合物−１と一致し、各目的生成物は２−（４−
ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。
また、19ＦＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、各１
本のピークが認められた。さらに第三段反応の同定例２
と同じ条件で、光学活性液体クロマトグラフィーにかけ
た。上記光学活性液体クロマトグラフィーのチャートは
各々図１１および図１２の通りで、図１１、および図１
２の解析結果より、各々１本の光学活性ピークが得ら
れ、その保持時間を示すと以下の通りとなり、目的生成
物である第１フラションはｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２
−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あり、第２フラクションはａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−
２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
であることが確認出来た。
【００９０】分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー［商品名：イナートシエルＰＲＥＰ−ＯＤＳ分取、ガ
ードカラム２点セットＮｏ．５０２０−３５１１２、ジ
ーエルサイエンス（株）製］ 充填剤：純度９９．９％の１０μシリカゲルにオクタデ
シル基を化学結合したもの サイズ：１０ｍｍφ×２５０ｍｍＨ 溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６
／４（容量比） 流速：２ｍｌ／ｍｉｎ 検出：紫外検出器、波長２５４ｎｍ 試料供給量：１ｇ
ー［商品名：イナートシエルＰＲＥＰ−ＯＤＳ分取、ガ
ードカラム２点セットＮｏ．５０２０−３５１１２、ジ
ーエルサイエンス（株）製］ 充填剤：純度９９．９％の１０μシリカゲルにオクタデ
シル基を化学結合したもの サイズ：１０ｍｍφ×２５０ｍｍＨ 溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６
／４（容量比） 流速：２ｍｌ／ｍｉｎ 検出：紫外検出器、波長２５４ｎｍ 試料供給量：１ｇ
【００９１】第１フラクシヨン［ｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン］ 保持時間 １０．１１分 収得量 １．９５ｇ（５．３６ミリモル）収得率６３％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −１．８６ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１０．１１
分 第２フランクシヨン［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４’−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン］ 保持時間 １１．４６分 収得量 ０．８３ｇ（２．３０ミリモル）収得率２７％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −２．３３ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１１．４６
分
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン］ 保持時間 １０．１１分 収得量 １．９５ｇ（５．３６ミリモル）収得率６３％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −１．８６ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１０．１１
分 第２フランクシヨン［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４’−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン］ 保持時間 １１．４６分 収得量 ０．８３ｇ（２．３０ミリモル）収得率２７％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −２．３３ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１１．４６
分
【００９２】参考例５［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン、お
よびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし、
金属水素化物として水素化ジイソブチルアルミニウムを
用いた場合］
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン、お
よびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし、
金属水素化物として水素化ジイソブチルアルミニウムを
用いた場合］
【００９３】（第一段反応）［ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造：実施例１の化合物の−ＣＯ−の−ＣＨ（ＯＨ）
−への還元］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）に２３ｍｌを入れ、撹拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム３．９１ｇ（２７．５ミリモル）とジエチルエー
テル２３ｍｌを入れ、撹拌しながら、１０分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き９０分間撹拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例３より、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造：実施例１の化合物の−ＣＯ−の−ＣＨ（ＯＨ）
−への還元］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）に２３ｍｌを入れ、撹拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム３．９１ｇ（２７．５ミリモル）とジエチルエー
テル２３ｍｌを入れ、撹拌しながら、１０分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き９０分間撹拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例３より、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
【００９４】［同定例３：反応生成物はｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定］温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた２０重量％反応生
成物溶液（出発化合物換算５ミリモル含有反応生成物溶
液）と、３規定塩酸２５ｍｌおよびメタノール１００ｍ
ｌを入れ、温度８０℃の温水バス中に挿入し、撹拌しな
がら、沸騰するまで昇温し、引き続き７時間加熱還流
し、加水分解反応を行った。加水分解反応完了後、温水
バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム水
溶液２０ｍｌで洗浄し、次いで水２００ｍｌで洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ
−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量
比）］で精製し、無色透明な液状の生成物−３［収量
０．９ｇ（３．９２ｐｐｍ）収率７８．４％］を得た。
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定］温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた２０重量％反応生
成物溶液（出発化合物換算５ミリモル含有反応生成物溶
液）と、３規定塩酸２５ｍｌおよびメタノール１００ｍ
ｌを入れ、温度８０℃の温水バス中に挿入し、撹拌しな
がら、沸騰するまで昇温し、引き続き７時間加熱還流
し、加水分解反応を行った。加水分解反応完了後、温水
バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム水
溶液２０ｍｌで洗浄し、次いで水２００ｍｌで洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ
−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量
比）］で精製し、無色透明な液状の生成物−３［収量
０．９ｇ（３．９２ｐｐｍ）収率７８．４％］を得た。
【００９５】この生成物−３の1ＨＮＭＲスペクトル、
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルを測定した
結果は参考例４の同定例１と一致し、７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
であることが確認された。また、参考例４の同定例１の
結果を基に、19ＦＮＭＲスペクトルを測定した結果、２
本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比よ
り、生成物−３はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオ
ールおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
からなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）から
なるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比４０ ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比６０ ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０
／６０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルを測定した
結果は参考例４の同定例１と一致し、７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
であることが確認された。また、参考例４の同定例１の
結果を基に、19ＦＮＭＲスペクトルを測定した結果、２
本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比よ
り、生成物−３はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオ
ールおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
からなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）から
なるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比４０ ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比６０ ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０
／６０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
【００９６】（第二段反応）（Ｏ−メチル化誘導体の製
造） 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り８０％の反
応生成物溶液［（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ−７−エト
キシヘプタノン−３換算２０ミリモルを含有した液］を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル３．１２ｇ
（２２ミリモル）とジエチルエーテル２８ｍｌを入れ、
撹拌しながら、１３分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、室温まで昇温し、引き続き、室温
で２時間撹拌保持して、反応を完結させた。
造） 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り８０％の反
応生成物溶液［（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ−７−エト
キシヘプタノン−３換算２０ミリモルを含有した液］を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル３．１２ｇ
（２２ミリモル）とジエチルエーテル２８ｍｌを入れ、
撹拌しながら、１３分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、室温まで昇温し、引き続き、室温
で２時間撹拌保持して、反応を完結させた。
【００９７】反応終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］
で精製し、無色透明な液状のＯ−メチル化誘導体［収量
７．５４ｇ（１６．６ミリモル）収率８３％］を得た。
得られたＯ−メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクトルを
測定した結果、２本のピークが認められ、各ピークの位
置と面積比を示すと次の通り。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．２０ｐｐｍ、面積比４０％［ｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型☆７］ 第２ピーク：−３．９０ｐｐｍ、面積比６０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型☆７］ （☆７、後述の同定例４で確認）
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］
で精製し、無色透明な液状のＯ−メチル化誘導体［収量
７．５４ｇ（１６．６ミリモル）収率８３％］を得た。
得られたＯ−メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクトルを
測定した結果、２本のピークが認められ、各ピークの位
置と面積比を示すと次の通り。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．２０ｐｐｍ、面積比４０％［ｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型☆７］ 第２ピーク：−３．９０ｐｐｍ、面積比６０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型☆７］ （☆７、後述の同定例４で確認）
【００９８】（第三段反応）（Ｈ2、Ｐｄ／Ｃによるベ
ンジル基の除去） 温度計、撹拌機、滴下ロート、水素ガスチャージ管およ
びポリエチレン樹脂風船を備えた密閉型の４ツ口丸底フ
ラスコに、上述の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘
導体４．９９ｇ（１１ミリモル）とメタノール７５ｍｌ
を入れ、室温で撹拌しながら、滴下ロートに１０％パラ
ジウム／炭素触媒０．１０ｇを入れ、ゆっくり滴下し、
均一に分散された懸濁液を調合した。次いで、室温で撹
拌しながら、圧力１．１ｋｇ／ｃｍ2程度の水素ガスで
反応系をシールし、還元反応を行った。還元反応は懸濁
液を撹拌しながら、水素ガスの吸収がなくなるまで、
４、５時間供給し、反応を完結させた。還元反応終了
後、得られた反応懸濁液を濾過し、パラジウム／炭素触
媒を除去し、濾液を減圧濃縮することにより、メタノー
ルを留去した後、副生したトルエンを真空ポンプで除去
し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプ
ロピルアルコール＝９６／４（容量比）］で精製し、溶
離液を減圧留去し、無色透明な液状の生成物であるジア
ステレオマー混合物−２［収量３．９２ｇ（１０．７８
ミリモル）収率９８％］を得た。
ンジル基の除去） 温度計、撹拌機、滴下ロート、水素ガスチャージ管およ
びポリエチレン樹脂風船を備えた密閉型の４ツ口丸底フ
ラスコに、上述の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘
導体４．９９ｇ（１１ミリモル）とメタノール７５ｍｌ
を入れ、室温で撹拌しながら、滴下ロートに１０％パラ
ジウム／炭素触媒０．１０ｇを入れ、ゆっくり滴下し、
均一に分散された懸濁液を調合した。次いで、室温で撹
拌しながら、圧力１．１ｋｇ／ｃｍ2程度の水素ガスで
反応系をシールし、還元反応を行った。還元反応は懸濁
液を撹拌しながら、水素ガスの吸収がなくなるまで、
４、５時間供給し、反応を完結させた。還元反応終了
後、得られた反応懸濁液を濾過し、パラジウム／炭素触
媒を除去し、濾液を減圧濃縮することにより、メタノー
ルを留去した後、副生したトルエンを真空ポンプで除去
し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプ
ロピルアルコール＝９６／４（容量比）］で精製し、溶
離液を減圧留去し、無色透明な液状の生成物であるジア
ステレオマー混合物−２［収量３．９２ｇ（１０．７８
ミリモル）収率９８％］を得た。
【００９９】この生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、１Ｒ
吸収スペクトル、およびＭＳスペクトルを測定した結果
は参考例４の第三段反応と同じであり、生成物は２−
（４’−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19ＦＮＭＲス
ペクトルを測定した結果、２本のピークが認められ、各
ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−１．８６ｐｐｍ、面積比４０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆８］ 第２ピーク：−２．３３ｐｐｍ、面積比６０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆８］ （☆８、後述の同定例４で確認）
吸収スペクトル、およびＭＳスペクトルを測定した結果
は参考例４の第三段反応と同じであり、生成物は２−
（４’−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19ＦＮＭＲス
ペクトルを測定した結果、２本のピークが認められ、各
ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−１．８６ｐｐｍ、面積比４０％［Ｓｙｎ
体（２Ｓ、３Ｒ）型☆８］ 第２ピーク：−２．３３ｐｐｍ、面積比６０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型☆８］ （☆８、後述の同定例４で確認）
【０１００】得られた生成物は後述の同定例４より、ｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンからなるジアステレオマー混合物であり、その生
成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）であるジアステレオマ
ー混合物−２であることが確認された。
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３
Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンからなるジアステレオマー混合物であり、その生
成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）であるジアステレオマ
ー混合物−２であることが確認された。
【０１０１】［同定例４：第二段反応で得られたＯ−メ
チル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であり、また第三段反応で得られた
ジアステレオマー混合物−２はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなり、その生
成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）のジアステレオマー混
合物であることの同定］
チル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であり、また第三段反応で得られた
ジアステレオマー混合物−２はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなり、その生
成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）のジアステレオマー混
合物であることの同定］
【０１０２】温度計、撹拌機、還流冷却器、ロートを備
えた四ツ口丸底フラスコに、参考例５の第二段反応で得
られたＯ−メチル化誘導体２．２７ｇ（５ミリモル）
と、３規定塩酸２５ｍｌとメタノール１００ｍｌを入
れ、撹拌しながら、８０℃まで昇温し、６時間還流し、
加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて、水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無
色透明な液状の生成物［収量０．９８ｇ（４ミリモル）
収率８０％］を得た。
えた四ツ口丸底フラスコに、参考例５の第二段反応で得
られたＯ−メチル化誘導体２．２７ｇ（５ミリモル）
と、３規定塩酸２５ｍｌとメタノール１００ｍｌを入
れ、撹拌しながら、８０℃まで昇温し、６時間還流し、
加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて、水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無
色透明な液状の生成物［収量０．９８ｇ（４ミリモル）
収率８０％］を得た。
【０１０３】この生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、 １Ｒ
吸収スペクトル、ＭＳスペクトルを測定した結果は同定
例２と一致し、生成物は２−ヒドロキシ−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あった。得られた生成物の19ＦＮＭＲスペクトルを測定
した結果、２本のピークが認められ、各ピークの位置と
面積比を示すと次の通り。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．１２ｐｐｍ、面積比４０％［ｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型☆９］ 第２ピーク：−４．１４ｐｐｍ、面積比６０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型☆９］ （☆９、本同定例で確認）
吸収スペクトル、ＭＳスペクトルを測定した結果は同定
例２と一致し、生成物は２−ヒドロキシ−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あった。得られた生成物の19ＦＮＭＲスペクトルを測定
した結果、２本のピークが認められ、各ピークの位置と
面積比を示すと次の通り。19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） 第１ピーク：−２．１２ｐｐｍ、面積比４０％［ｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型☆９］ 第２ピーク：−４．１４ｐｐｍ、面積比６０％［ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型☆９］ （☆９、本同定例で確認）
【０１０４】また、上述の生成物を、参考例４の同定例
２と同様な条件で、光学活性ガスクロマトグラフィーに
かけた。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを
示すと図１３となった。図１３のチャートの解析結果よ
り、２本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第１ピーク：保持時間１４．５５分、面積比４０％［ｓ
ｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型☆１０］ 第２ピーク：保持時間１５．２７分、面積比６０％［ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型☆１０］
２と同様な条件で、光学活性ガスクロマトグラフィーに
かけた。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを
示すと図１３となった。図１３のチャートの解析結果よ
り、２本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第１ピーク：保持時間１４．５５分、面積比４０％［ｓ
ｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型☆１０］ 第２ピーク：保持時間１５．２７分、面積比６０％［ａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型☆１０］
【０１０５】参考例４の同定例２の結果に基づき、第１
ピーク（保持時間１４．５５分）はｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであり、第２ピーク
（保持時間１５．２７分）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンであることが確認され、
生成物はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７
−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロ
キシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンからなり、その生成比率ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
ピーク（保持時間１４．５５分）はｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであり、第２ピーク
（保持時間１５．２７分）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンであることが確認され、
生成物はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７
−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロ
キシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンからなり、その生成比率ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
【０１０６】ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ
−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフル
オロヘプタンと面積比が一致する生成物の19ＦＮＭＲス
ペクトルの第１ピーク（−２．１２ｐｐｍ）はｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであるこ
とがあることが確認された。ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する生成
物の19ＦＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．１４ｐ
ｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ−
７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオ
ロヘプタンであることが確認された。
−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフル
オロヘプタンと面積比が一致する生成物の19ＦＮＭＲス
ペクトルの第１ピーク（−２．１２ｐｐｍ）はｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであるこ
とがあることが確認された。ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する生成
物の19ＦＮＭＲスペクトルの第２ピーク（−４．１４ｐ
ｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ−
７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオ
ロヘプタンであることが確認された。
【０１０７】したがって、Ｏ−メチル化誘導体を加水分
解して得られる生成物とＯ−メチル化誘導体の各２位と
３位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、Ｏ
−メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクトルの面積比４０
％である第１ピーク（−２．２０ｐｐｍ）はｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型であり、19ＦＮＭＲスペクトルの面積
比６０％である第２ピーク（−３．９０ｐｐｍ）はａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型であることが判明し、Ｏ−メチ
ル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であることが確認出来た。
解して得られる生成物とＯ−メチル化誘導体の各２位と
３位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、Ｏ
−メチル化誘導体の19ＦＮＭＲスペクトルの面積比４０
％である第１ピーク（−２．２０ｐｐｍ）はｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型であり、19ＦＮＭＲスペクトルの面積
比６０％である第２ピーク（−３．９０ｐｐｍ）はａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型であることが判明し、Ｏ−メチ
ル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であることが確認出来た。
【０１０８】次いで、第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−２を参考例４の同定例２と同様な条件で
光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記光学活
性液体クロマトグラフィーのチャートは図１４の通りで
あり、図１４の解析結果より、２本の光学活性ピークが
得られ、その保持時間と面積比は以下の通りであった。 第１ピーク：［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆１１］ 保持時間：１０．１１分、面積比４０％ 第２ピーク：［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−
ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆１１］ 保持時間：１１．４６分、面積比６０％ （☆１１ 本同定例より確認）
オマー混合物−２を参考例４の同定例２と同様な条件で
光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記光学活
性液体クロマトグラフィーのチャートは図１４の通りで
あり、図１４の解析結果より、２本の光学活性ピークが
得られ、その保持時間と面積比は以下の通りであった。 第１ピーク：［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆１１］ 保持時間：１０．１１分、面積比４０％ 第２ピーク：［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−
ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン☆１１］ 保持時間：１１．４６分、面積比６０％ （☆１１ 本同定例より確認）
【０１０９】なお、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）からなる
ジアステレオマー混合物であるＯ−メチル化誘導体をパ
ラジウム／炭素触媒の存在下で水素ガスで還元すること
によりジアステレオマー混合物−２が得られる反応で
は、２位と３位の不斉炭素原子の立体配置には無関係で
ある。したがって、Ｏ−メチル化誘導体のｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致するジアステレオマー混合
物−２の光学活性液体クロマトグラフィーの第１ピーク
（保持時間１０．１１分）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
であり、他方Ｏ−メチル化誘導体のａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型の面積比と一致するジアステレオマー混合物−
２の光学活性液体クロマトグラフィーの第２ピーク（保
持時間１１．４６分）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２
−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あることが判明した。
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）からなる
ジアステレオマー混合物であるＯ−メチル化誘導体をパ
ラジウム／炭素触媒の存在下で水素ガスで還元すること
によりジアステレオマー混合物−２が得られる反応で
は、２位と３位の不斉炭素原子の立体配置には無関係で
ある。したがって、Ｏ−メチル化誘導体のｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致するジアステレオマー混合
物−２の光学活性液体クロマトグラフィーの第１ピーク
（保持時間１０．１１分）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
であり、他方Ｏ−メチル化誘導体のａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型の面積比と一致するジアステレオマー混合物−
２の光学活性液体クロマトグラフィーの第２ピーク（保
持時間１１．４６分）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２
−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンで
あることが判明した。
【０１１０】よって、ジアステレオマー混合物−２の19
ＦＮＭＲスペクトルの面積比４０％である第１ピーク
（−１．８６ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比６０％である第２ピーク（−２．３３ｐ
ｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−２はｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７
−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタンおよびａｎｔｉ−２−（４−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率ｓｙ
ｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝
４０／６０（面積比）のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
ＦＮＭＲスペクトルの面積比４０％である第１ピーク
（−１．８６ｐｐｍ）はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比６０％である第２ピーク（−２．３３ｐ
ｐｍ）はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−２はｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７
−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロ
ヘプタンおよびａｎｔｉ−２−（４−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率ｓｙ
ｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝
４０／６０（面積比）のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
【０１１１】（第四段工程）［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造：シリカゲ
ルクロマトグラフィーによるジアステレオマーの分離］ 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−２、
２．９１ｇ（８ミリモル）を実施例１の第四段反応と同
様な条件で、分取用シリカゲルクロマトグラフィーを用
いて第１ピークおよび第２ピークを各々分取し、溶離液
を減圧留去し、いずれも無色透明な液状の各目的生成物
である第１フラクション［収得量１．０５ｇ（２．８８
ミリモル）収得率３６％］および第２フラクション［収
得量１．５７ｇ（４．３２ミリモル）収得率５４％］を
各々得た。
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造：シリカゲ
ルクロマトグラフィーによるジアステレオマーの分離］ 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−２、
２．９１ｇ（８ミリモル）を実施例１の第四段反応と同
様な条件で、分取用シリカゲルクロマトグラフィーを用
いて第１ピークおよび第２ピークを各々分取し、溶離液
を減圧留去し、いずれも無色透明な液状の各目的生成物
である第１フラクション［収得量１．０５ｇ（２．８８
ミリモル）収得率３６％］および第２フラクション［収
得量１．５７ｇ（４．３２ミリモル）収得率５４％］を
各々得た。
【０１１２】これらの目的生成物の1ＨＮＭＲスペクト
ル、１Ｒ吸収スペクトル、ＭＳスペクトルはジアステレ
オマー混合物−２と一致し、各目的生成物は２−（４−
ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。
また19ＦＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、各１本
のピークが認められた。さらに、参考例４の第四段反応
と同様な条件で光学活性液体クロマトグラフィーをかけ
ると、図１１、図１２と同様のチャートが得られた。以
上の結果より、目的生成物である第１フラクションはｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンであり、第２フラクションはａ
ｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
ル、１Ｒ吸収スペクトル、ＭＳスペクトルはジアステレ
オマー混合物−２と一致し、各目的生成物は２−（４−
ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メ
トキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。
また19ＦＮＭＲスペクトルは以下の通りであり、各１本
のピークが認められた。さらに、参考例４の第四段反応
と同様な条件で光学活性液体クロマトグラフィーをかけ
ると、図１１、図１２と同様のチャートが得られた。以
上の結果より、目的生成物である第１フラクションはｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１
−トリフルオロヘプタンであり、第２フラクションはａ
ｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
【０１１３】第１フラクション［ｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン］ 保持時間 ２５．３０〜３２．３０分 収得量 １．０５ｇ（２．８８ミリモル）、収得率３６
％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −１．８６ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 １０．１１分 第２フラクション［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン］ 保持時間 ３４．２５〜４４．２５分 収得量 １．５７ｇ（４．３２ミリモル） 収得率５４
％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −２．３３ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 １１．４６分
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン］ 保持時間 ２５．３０〜３２．３０分 収得量 １．０５ｇ（２．８８ミリモル）、収得率３６
％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −１．８６ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 １０．１１分 第２フラクション［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン］ 保持時間 ３４．２５〜４４．２５分 収得量 １．５７ｇ（４．３２ミリモル） 収得率５４
％19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −２．３３ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 １１．４６分
【０１１４】参考例６［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾイルオ
キシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３−メトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
４ツ口丸底フラスコに、参考例５で得られるｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタン１．４６ｇ（４ミリモル）と、４−
（４−ｎ−デシルフェニル）安息香酸１．６２ｇ（４．
８ミリモル）と、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．
２９ｇ（２．４ミリモル）および塩化メチレン１２０ｍ
ｌを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液を調合した。次
いで滴下ロートにジシクロヘキシルカルボジイミド１．
２２ｇ（６ミリモル）を入れ、撹拌しながら滴下し、引
き続き、室温で５時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾイルオ
キシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３−メトキ
シ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの製造］ 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
４ツ口丸底フラスコに、参考例５で得られるｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタン１．４６ｇ（４ミリモル）と、４−
（４−ｎ−デシルフェニル）安息香酸１．６２ｇ（４．
８ミリモル）と、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．
２９ｇ（２．４ミリモル）および塩化メチレン１２０ｍ
ｌを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液を調合した。次
いで滴下ロートにジシクロヘキシルカルボジイミド１．
２２ｇ（６ミリモル）を入れ、撹拌しながら滴下し、引
き続き、室温で５時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
【０１１５】反応完了後、析出したジシクロヘキシル尿
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を１規定塩酸、１
０％炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、減
圧留去して塩化メチレンを除去し、シロップ状の残渣を
得た。この残渣を熱ｎ−ヘキサンに溶解した後、冷却晶
析して、白色の粗結晶を得た。得られた粗結晶を液体ク
ロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピル
アルコール＝９３／７（容量比）］で精製し、無色透明
な液状の目的生成物［収量２．３３ｇ（３．４ミリモ
ル）収率８５％］を得た。
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を１規定塩酸、１
０％炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、減
圧留去して塩化メチレンを除去し、シロップ状の残渣を
得た。この残渣を熱ｎ−ヘキサンに溶解した後、冷却晶
析して、白色の粗結晶を得た。得られた粗結晶を液体ク
ロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピル
アルコール＝９３／７（容量比）］で精製し、無色透明
な液状の目的生成物［収量２．３３ｇ（３．４ミリモ
ル）収率８５％］を得た。
【０１１６】この目的生成物の1ＨＮＭＲスペクトル、
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、目的生成
物は２−｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベン
ゾイルオキシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３
−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであっ
た。また、この目的生成物は出発化合物の２個の不斉炭
素原子の立体配置には無関係であり、光学活性な不斉中
心は変化しないことより、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２
−｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾイル
オキシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフメオロヘプタンであることが
確認された。さらに後述の同定例より、ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型であることを確認した。
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、目的生成
物は２−｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベン
ゾイルオキシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３
−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであっ
た。また、この目的生成物は出発化合物の２個の不斉炭
素原子の立体配置には無関係であり、光学活性な不斉中
心は変化しないことより、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２
−｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾイル
オキシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフメオロヘプタンであることが
確認された。さらに後述の同定例より、ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型であることを確認した。
【０１１７】1ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．８〜１．０４ｐｐｍ（６Ｈ）、１．０９〜１．６２
ｐｐｍ（２４Ｈ）、２．０７〜２．２０ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．６０ｐｐｍ（３Ｈ）、３．０７〜３．２０ｐ
ｐｍ（２Ｈ）、４．１５〜４．２０ｐｐｍ（１Ｈ）、
４．５２〜４．５６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５８〜８．０
４ｐｐｍ（１２Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −４．９５ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，７３０ｃｍ-1（ＣＯ
Ｏ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ６８４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図１５に示した。
ｐｐｍ（２４Ｈ）、２．０７〜２．２０ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．６０ｐｐｍ（３Ｈ）、３．０７〜３．２０ｐ
ｐｍ（２Ｈ）、４．１５〜４．２０ｐｐｍ（１Ｈ）、
４．５２〜４．５６ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５８〜８．０
４ｐｐｍ（１２Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ3Ｃ
ＯＯＨ） −４．９５ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，７３０ｃｍ-1（ＣＯ
Ｏ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ６８４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図１５に示した。
【０１１８】（同定例４）［参考例６で得られる化合物
がｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−｛４−［４−（４ −ｎ
−デシルフェニル）ベンゾイルオキシ］ベンゾイルオキ
シ｝−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンであることの同定］ 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに原料化合物０．３６ｇ（１ミリモル）
と３規定塩酸５ミリモルとメタノール２０ｍｌを入れ、
８０℃まで昇温し、６時間還流し、加水分解反応を行っ
た。次いで、室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽
出液を２０％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を
除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成
物−１［収量０．２ｇ（０．８ミリモル）収率８０％］
を得た。
がｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−｛４−［４−（４ −ｎ
−デシルフェニル）ベンゾイルオキシ］ベンゾイルオキ
シ｝−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンであることの同定］ 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに原料化合物０．３６ｇ（１ミリモル）
と３規定塩酸５ミリモルとメタノール２０ｍｌを入れ、
８０℃まで昇温し、６時間還流し、加水分解反応を行っ
た。次いで、室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽
出液を２０％炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を
除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成
物−１［収量０．２ｇ（０．８ミリモル）収率８０％］
を得た。
【０１１９】この生成物−１の1ＨＮＭＲスペクトル、
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−
１は２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。1 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．８０〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ）、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３
Ｈ）、２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、
３．７７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１
４ｐｐｍ（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル −２．１２ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ-1（Ｏ
Ｈ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図１６に示した。
19ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−
１は２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。1 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3） ０．８０〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ）、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３
Ｈ）、２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、
３．７７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１
４ｐｐｍ（１Ｈ）19 ＦＮＭＲスペクトル −２．１２ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ-1（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ-1（Ｏ
Ｈ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ+） また、1ＨＮＭＲスペクトル図を図１６に示した。
【０１２０】次いで、上述の生成物−１を下記条件で、
光学異性体分離カラムを有するガスクロマトグラフィー
（以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。）に
かけた。 カラム ：商品名 シクロデックスβ２３６Ｍ（クロムパック社製） ：サイズ内径０．２５ｍｍ、長さ２５ｍ ：シリカキャピラリーカラム カラム温度 ：１００℃×１０分間保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量 ６０Ｎｌ／ｍｉｎ、スプリット比１０ ０／１ 検出 ：ＦＩＤ
光学異性体分離カラムを有するガスクロマトグラフィー
（以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。）に
かけた。 カラム ：商品名 シクロデックスβ２３６Ｍ（クロムパック社製） ：サイズ内径０．２５ｍｍ、長さ２５ｍ ：シリカキャピラリーカラム カラム温度 ：１００℃×１０分間保持した後、昇温速度４℃／ｍｉｎで ２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム、ガス流量 ６０Ｎｌ／ｍｉｎ、スプリット比１０ ０／１ 検出 ：ＦＩＤ
【０１２１】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを図１５に示した。図１５の解析結果より１本の光学
活性なピークが認められ、その保持時間は１４．５５分
であった。出発化合物を加水分解して得た生成物−１は
１本の光学活性しか認められないことより生成物はｓｙ
ｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであ
ることが判明した。次いで、出発化合物０．３６ｇ（１
ｐｐｍ）の代わりに目的生成物０．６８ｇ（１ｐｐｍ）
を用いた以外は上述と同様な方法で加水分解反応を行
い、無色透明な液状の生成物−２［収量０．２ｇ（０．
８ミリモル）収率８０％］を得た。この生成物−２の各
種スペクトルを測定した結果、生成物−１と同様であ
り、２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。
トを図１５に示した。図１５の解析結果より１本の光学
活性なピークが認められ、その保持時間は１４．５５分
であった。出発化合物を加水分解して得た生成物−１は
１本の光学活性しか認められないことより生成物はｓｙ
ｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであ
ることが判明した。次いで、出発化合物０．３６ｇ（１
ｐｐｍ）の代わりに目的生成物０．６８ｇ（１ｐｐｍ）
を用いた以外は上述と同様な方法で加水分解反応を行
い、無色透明な液状の生成物−２［収量０．２ｇ（０．
８ミリモル）収率８０％］を得た。この生成物−２の各
種スペクトルを測定した結果、生成物−１と同様であ
り、２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。
【０１２２】また、上述の生成物−２を上と同様な条件
で、光学活性ガスクロマトグラフィーをかけると、１本
の光学活性ピークが得られ、その保持時間は１４．５５
分となり、生成物−２は生成物−１と同様、ｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであっ
た。したがって、目的生成物は加水分解しても、２位と
３位の不斉炭素原子の絶体配置は変化しないことより、
目的生成物はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型であることが判
明し、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−｛４−［４−（４
−ｎ−デシルフェニル）ベンゾイルオキシ］ベンゾイル
オキシ｝−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−
トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
で、光学活性ガスクロマトグラフィーをかけると、１本
の光学活性ピークが得られ、その保持時間は１４．５５
分となり、生成物−２は生成物−１と同様、ｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンであっ
た。したがって、目的生成物は加水分解しても、２位と
３位の不斉炭素原子の絶体配置は変化しないことより、
目的生成物はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型であることが判
明し、ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−｛４−［４−（４
−ｎ−デシルフェニル）ベンゾイルオキシ］ベンゾイル
オキシ｝−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−
トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
【０１２３】参考例７（参考例６の最終有用化合物の特
性） （参考例６の化合物の相転移温度の測定）参考例６の化
合物はＤＳＣ、および後述の液晶表示素子の電場応答を
偏光顕微鏡で観察することにより、相転移温度を測定し
た結果は次の通りである。ただし、ｃｒｙ：結晶相、Ｓ
CA☆：反強誘電性液晶相、ＳＡ：スメクチックＡ相およ
びＩＳＯ：等方性液体相を表わす。また上段の値は４℃
／ｍｉｎで昇温したとき、下段の値は４℃／ｍｉｎで降
温したときの相転移温度を表わす。 相転移温度：
性） （参考例６の化合物の相転移温度の測定）参考例６の化
合物はＤＳＣ、および後述の液晶表示素子の電場応答を
偏光顕微鏡で観察することにより、相転移温度を測定し
た結果は次の通りである。ただし、ｃｒｙ：結晶相、Ｓ
CA☆：反強誘電性液晶相、ＳＡ：スメクチックＡ相およ
びＩＳＯ：等方性液体相を表わす。また上段の値は４℃
／ｍｉｎで昇温したとき、下段の値は４℃／ｍｉｎで降
温したときの相転移温度を表わす。 相転移温度：
【０１２４】
【化１１】
【０１２５】となり、参考例６の化合物は室温付近を含
む反強誘電性液晶化合物であった。 （液晶表示素子の作成）透明電極付きの２枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、１．７ｕｍのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに参考例６で得た化合物を等
方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態まで徐冷
した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光子と検
光子とで挟み、カイラルスメクチックＣ相における分子
層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致するよ
うに設置し、電界無印加時（０Ｖ）のとき、第３安定状
態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルスメクチ
ックＣ相に変化させ、その状態を明状態として用いるこ
とより、暗および明の表示を行うことが出来る液晶表示
素子を作成した。すなわち、印加電圧が０Ｖのとき透過
光量が最小となるように偏光子に対するセルの角度を調
整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転させ、偏
光子の透過軸と一致させたときの値を１００％とした。
む反強誘電性液晶化合物であった。 （液晶表示素子の作成）透明電極付きの２枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、１．７ｕｍのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに参考例６で得た化合物を等
方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態まで徐冷
した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光子と検
光子とで挟み、カイラルスメクチックＣ相における分子
層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致するよ
うに設置し、電界無印加時（０Ｖ）のとき、第３安定状
態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルスメクチ
ックＣ相に変化させ、その状態を明状態として用いるこ
とより、暗および明の表示を行うことが出来る液晶表示
素子を作成した。すなわち、印加電圧が０Ｖのとき透過
光量が最小となるように偏光子に対するセルの角度を調
整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転させ、偏
光子の透過軸と一致させたときの値を１００％とした。
【０１２６】（液晶表示素子の評価）上述で作成した液
晶表示素子を用い、２５℃において、印加電圧±８．７
Ｖに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図１８
となった。図より、１つの暗状態と２つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、２５℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 ：２８．２ｕｓ（２５℃において明状態
から暗状態に変化させた時間） しきい値電圧：５．１２Ｖ／ｕｍ（２５℃において、完
全に明状態になる電圧） チルト角 ：３０．２０（２５℃において、しきい
値電圧のときの光軸が偏光子となる角度） 以上の結果、参考例６の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は２５℃で、
３安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
晶表示素子を用い、２５℃において、印加電圧±８．７
Ｖに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図１８
となった。図より、１つの暗状態と２つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、２５℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 ：２８．２ｕｓ（２５℃において明状態
から暗状態に変化させた時間） しきい値電圧：５．１２Ｖ／ｕｍ（２５℃において、完
全に明状態になる電圧） チルト角 ：３０．２０（２５℃において、しきい
値電圧のときの光軸が偏光子となる角度） 以上の結果、参考例６の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は２５℃で、
３安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
【０１２７】
【発明の効果】本発明は、反強誘電性液晶化合物の中間
原料等として有用な新規の（Ｓ）−２−（４−ベンジル
オキシベンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ
末端エトキシアルカノン−３の提供であり、また本発明
は簡単な操作で、より効果的に、かつ高収率で、前記化
合物を製造する方法である。
原料等として有用な新規の（Ｓ）−２−（４−ベンジル
オキシベンゾイルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ
末端エトキシアルカノン−３の提供であり、また本発明
は簡単な操作で、より効果的に、かつ高収率で、前記化
合物を製造する方法である。
【図１】参考例３で得られた１−ヒドロキシ−２，２，
２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの
1ＨＮＭＲスペクトル図である。
２−トリフルオロエチル−４−エトキシブチルケトンの
1ＨＮＭＲスペクトル図である。
【図２】参考例３中の同定例１で得られた１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブ
チルケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
シ−２，２，２−トリフルオロエチル−４−エトキシブ
チルケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
【図３】参考例３中の同定例１で得られた（Ｓ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４ −
エトキシブチルケトンの光学活性ガスクロマトグラフィ
ーのチャートである。
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル−４ −
エトキシブチルケトンの光学活性ガスクロマトグラフィ
ーのチャートである。
【図４】実施例１で得られた２−（４−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ）−７ −エトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタノン−３の1ＨＮＭＲスペクトル図で
ある。
ベンゾイルオキシ）−７ −エトキシ−１，１，１−ト
リフルオロヘプタノン−３の1ＨＮＭＲスペクトル図で
ある。
【図５】参考例４の第一段反応の同定例１で得られた７
−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，
３−ジオールの1ＨＮＭＲスペクトル図である。
−エトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，
３−ジオールの1ＨＮＭＲスペクトル図である。
【図６】参考例４の第一段反応の同定例１で得られた
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランの 1ＨＮ
ＭＲスペクトル図である。
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランの 1ＨＮ
ＭＲスペクトル図である。
【図７】参考例４の第三段反応で得られた２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの 1ＨＮＭ
Ｒスペクトル図である。
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの 1ＨＮＭ
Ｒスペクトル図である。
【図８】参考例４の第三段反応の同定例２で得られた２
−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンの1ＨＮＭＲスペクトル図で
ある。
−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンの1ＨＮＭＲスペクトル図で
ある。
【図９】参考例４の第三段反応の同定例２で得られたｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンお
よびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンからなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積
比）のジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンお
よびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−ヒドロキシ−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンからなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積
比）のジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
【図１０】参考例４の第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−１：ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４
−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン／ａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイル
オキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−
トリフルオロヘプタン＝７０／３０（面積比）からなる
ジアステレオマー混合物の光学活性液体クロマトグラフ
ィーのチャートである。
オマー混合物−１：ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４
−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン／ａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイル
オキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−
トリフルオロヘプタン＝７０／３０（面積比）からなる
ジアステレオマー混合物の光学活性液体クロマトグラフ
ィーのチャートである。
【図１１】参考例４の第四段反応で得られたｓｙｎ−
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンの光学活性液体クロマトグラフィーの
チャートである。
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンの光学活性液体クロマトグラフィーの
チャートである。
【図１２】参考例４の第四段反応で得られたａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンの光学活性液体クロマトグラフィーの
チャートである。
（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリ
フルオロヘプタンの光学活性液体クロマトグラフィーの
チャートである。
【図１３】参考例５の第三段反応の同定例４で得られた
ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
およびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンからな
り、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）のジアステ
レオマー混合物の光学活性ガスクロマトグラフィーのチ
ャートである。
ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキ
シ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン
およびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンからな
り、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）のジアステ
レオマー混合物の光学活性ガスクロマトグラフィーのチ
ャートである。
【図１４】参考例５の第三段反応の同定例４で得られた
ジアステレオマー混合物−２：ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ン／ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物の光学活性液体ク
ロマトグラフィーのチャートである。
ジアステレオマー混合物−２：ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタ
ン／ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物の光学活性液体ク
ロマトグラフィーのチャートである。
【図１５】参考例６で得られたｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）
−２−｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾ
イルオキシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの1ＨＮ
ＭＲスペクトル図である。
−２−｛４−［４−（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾ
イルオキシ］ベンゾイルオキシ｝−７−エトキシ−３−
メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの1ＨＮ
ＭＲスペクトル図である。
【図１６】参考例６の同定例で得られた生成物−１：ｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの
1ＨＮＭＲスペクトル図である。
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンの
1ＨＮＭＲスペクトル図である。
【図１７】参考例６の同定例で得られた生成物−１の光
学活性ガスクロマトグラフィーのチャートである。
学活性ガスクロマトグラフィーのチャートである。
【図１８】ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−｛４−［４−
（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾイルオキシ］ベンゾ
イルオキシ｝−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンの液晶表示素子のダブルヒス
テリシス曲線である。
（４ −ｎ−デシルフェニル）ベンゾイルオキシ］ベンゾ
イルオキシ｝−７−エトキシ−３−メトキシ−１，１，
１−トリフルオロヘプタンの液晶表示素子のダブルヒス
テリシス曲線である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年１月８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３８】
【化１０】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４４】この生成物のＨＮＭＲスペクトル、ＦＮＭ
Ｒスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳスペク
トルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生成物
の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学的反
転は起こらないことより、生成物は出発原料化合物
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンであることが確認され
た。 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３ ） １．５３〜２．３７ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、３．２１〜
３．８８ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、４．１４ｐｐｍ（１Ｈ，
ｂｒ）、４．５８（１Ｈ，ｑ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −４．２ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝６．０） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，６４０ｃｍ（ＣＯ）、３，３３０ｃｍ（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ １９７（Ｍ＋）
Ｒスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳスペク
トルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生成物
の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学的反
転は起こらないことより、生成物は出発原料化合物
（Ｓ）−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３，３，３−トリフル
オロプロピオニル）ピロリジンであることが確認され
た。 ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３ ） １．５３〜２．３７ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、３．２１〜
３．８８ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ）、４．１４ｐｐｍ（１Ｈ，
ｂｒ）、４．５８（１Ｈ，ｑ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −４．２ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝６．０） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，６４０ｃｍ（ＣＯ）、３，３３０ｃｍ（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ １９７（Ｍ＋）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５９】参考例４［ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−２−
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンおよ
びａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし金属水
素化物として安定した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を
用いた場合］ （第一段反応）［ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造：実施例
１の化合物の−ＣＯ−へのヒドリドのジアステレオ面区
別反応］ 温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）とジエチルエーテル４０ｍ
ｌを入れ、攪拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、０℃に調整した。
（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−
３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンおよ
びａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンの各製造、ただし金属水
素化物として安定した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を
用いた場合］ （第一段反応）［ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造：実施例
１の化合物の−ＣＯ−へのヒドリドのジアステレオ面区
別反応］ 温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）とジエチルエーテル４０ｍ
ｌを入れ、攪拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、０℃に調整した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６３】１ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） ０．８６〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０６〜１．２
４ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６９〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３１６ｐｐｍ（１Ｈ）、３．２０〜
３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５２〜３．６６ｐｐｍ
（２Ｈ）、４．０８〜４．１６ｐｐｍ（１Ｈ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１５０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、３，２７０ｃｍ
−１（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ２３０（Ｍ＋ ） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図５に示した。
４ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６９〜２．８０ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．９５〜３１６ｐｐｍ（１Ｈ）、３．２０〜
３．３５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．５２〜３．６６ｐｐｍ
（２Ｈ）、４．０８〜４．１６ｐｐｍ（１Ｈ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１５０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、３，２７０ｃｍ
−１（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ２３０（Ｍ＋ ） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図５に示した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６６】また、上述で得た生成物−２である１，３
−ジオキソラン誘導体の１ＨＮＭＲスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表１の通りである。表１
より、面積比７０％であるメチル基の位置はｔｒａｎｓ
−２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５
−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、
ｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）で
あり、面積比３０％であるメチル基の位置はｃｉｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、ｃ
ｉｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）であるこ
とが判明した。したがって、生成物−２はｔｒａｎｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランおよびｃｉ
ｓ−２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−
５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランからな
り、その生成比率ｔｒａｎｓ体／ｃｉｓ体＝７０／３０
（面積比）のジアステレオマー混合物であることが確認
された。
−ジオキソラン誘導体の１ＨＮＭＲスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表１の通りである。表１
より、面積比７０％であるメチル基の位置はｔｒａｎｓ
−２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５
−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、
ｔｒａｎｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）で
あり、面積比３０％であるメチル基の位置はｃｉｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラン（以下、ｃ
ｉｓ体１，３−ジオキソラン誘導体という。）であるこ
とが判明した。したがって、生成物−２はｔｒａｎｓ−
２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−５−
トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランおよびｃｉ
ｓ−２，２−ジメチル−４−（４−エトキシブチル）−
５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソランからな
り、その生成比率ｔｒａｎｓ体／ｃｉｓ体＝７０／３０
（面積比）のジアステレオマー混合物であることが確認
された。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７２】反応終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］
で精製し、無色透明な液状のＯ−メチル化誘導体［収量
５．７９ｇ（１２．７５ミリモル）収率８５％］を得
た。得られたＯ−メチル化誘導体の１９ＦＮＭＲスペク
トルを測定した結果、２本のピークが認められ、各ピー
クの位置と面積比を示すと次の通り１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） したがって、１９ＦＮＭＲスペクトルの結果および後述
の同定例２より、Ｏ−メチル化誘導体はＳｙｎ体（２
Ｓ、３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認された。
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［溶離液ｎ−ヘキ
サン／イソプロピルアルコール＝９５／５（容量比）］
で精製し、無色透明な液状のＯ−メチル化誘導体［収量
５．７９ｇ（１２．７５ミリモル）収率８５％］を得
た。得られたＯ−メチル化誘導体の１９ＦＮＭＲスペク
トルを測定した結果、２本のピークが認められ、各ピー
クの位置と面積比を示すと次の通り１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） したがって、１９ＦＮＭＲスペクトルの結果および後述
の同定例２より、Ｏ−メチル化誘導体はＳｙｎ体（２
Ｓ、３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ、３Ｓ）型＝７０／３
０（面積比）からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認された。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７５】１ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） ０．８７〜０．９６ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０９〜１．５
３ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６０〜２．７２ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．７５ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８７〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．２７〜３．４２ｐｐｍ（２Ｈ）、
４．１８〜４．３５ｐｐｍ（１Ｈ）、５．４１ｐｐｍ
（１Ｈ）、６．６９〜７．９８ｐｐｍ（４Ｈ、ＡＢパタ
ーン）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１１０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、１，７４０ｃｍ
−１（ＣＯＯ）、３，３００ｃｍ−１（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ３６４（Ｍ＋） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図７に示した。
３ｐｐｍ（６Ｈ）、２．６０〜２．７２ｐｐｍ（２
Ｈ）、２．７５ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８７〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．２７〜３．４２ｐｐｍ（２Ｈ）、
４．１８〜４．３５ｐｐｍ（１Ｈ）、５．４１ｐｐｍ
（１Ｈ）、６．６９〜７．９８ｐｐｍ（４Ｈ、ＡＢパタ
ーン）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１１０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、１，７４０ｃｍ
−１（ＣＯＯ）、３，３００ｃｍ−１（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ． ３６４（Ｍ＋） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図７に示した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７７】［同定例２：第二段反応で得られたＯ−メ
チル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなり、そ
の生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）のジアステレオマ
ー混合物−１であることの同定］温度計、攪拌機、還流
冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、参考例
４の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘導体１．８２
ｇ（４ミリモル）と、３規定塩酸２０ｍｌとメタノール
８０ｍｌを入れ、攪拌しながら、８０℃まで昇温し、６
時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、室温まで冷
却した後、エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、溶媒を
減圧留去し、無色透明な液状の生成物［収量０．７８ｇ
（３．２ミリモル）収率８０％］を得た。
チル化誘導体はｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−１はｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタンおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ−３−メト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタンからなり、そ
の生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面積比）のジアステレオマ
ー混合物−１であることの同定］温度計、攪拌機、還流
冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、参考例
４の第二段反応で得られたＯ−メチル化誘導体１．８２
ｇ（４ミリモル）と、３規定塩酸２０ｍｌとメタノール
８０ｍｌを入れ、攪拌しながら、８０℃まで昇温し、６
時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、室温まで冷
却した後、エーテル抽出し、抽出液を２０％炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、溶媒を
減圧留去し、無色透明な液状の生成物［収量０．７８ｇ
（３．２ミリモル）収率８０％］を得た。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７８】この生成物の１ＨＮＭＲスペクトル、１９
ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は
２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンであった。１ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） ０．８１〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ）、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３
Ｈ）、２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、
３．７７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１
４ｐｐｍ（１Ｈ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ
−１（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ＋） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図８に示した。
ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトル、およびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は
２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−１，
１，１−トリフルオロヘプタンであった。１ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） ０．８１〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ）、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３
Ｈ）、２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐ
ｐｍ（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、
３．７７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１
４ｐｐｍ（１Ｈ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ
−１（ＯＨ）、 ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ＋） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図８に示した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００８０】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを示すと図９となった。図９のチャートの解析結果よ
り、２本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。
トを示すと図９となった。図９のチャートの解析結果よ
り、２本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００９０】分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー［商品名：イナートシエルＰＲＥＰ−ＯＤＳ分取、ガ
ードカラム２点セットＮｏ．５０２０−３５１１２、ジ
ーエルサイエンス（株）製］ 充填剤：純度９９．９％の１０μｍシリカゲルにオクタ
デシル基を化学結合したもの サイズ：１０ｍｍφ×２５０ｍｍＨ 溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６
／４（容量比） 流速：２ｍｌ／ｍｉｎ 検出：紫外検出器、波長２５４ｎｍ 試料供給量：１ｇ
ー［商品名：イナートシエルＰＲＥＰ−ＯＤＳ分取、ガ
ードカラム２点セットＮｏ．５０２０−３５１１２、ジ
ーエルサイエンス（株）製］ 充填剤：純度９９．９％の１０μｍシリカゲルにオクタ
デシル基を化学結合したもの サイズ：１０ｍｍφ×２５０ｍｍＨ 溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６
／４（容量比） 流速：２ｍｌ／ｍｉｎ 検出：紫外検出器、波長２５４ｎｍ 試料供給量：１ｇ
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００９１】第１フラクシヨン［ｓｙｎ−（２Ｓ，３
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン］ 保持時間 ２５．３０〜３２．３０分 収得量 １．９５ｇ（５．３６ミリモル）収得率６３％１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −１．８６ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１０．１１
分 第２フランクション［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４’−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン］ 保持時間 ３４．２５〜４４．２５分 収得量 ０．８３ｇ（２．３０ミリモル）収得率２７％１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −２．３３ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１１．４６
分
Ｒ）−２−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−
エトキシ−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘ
プタン］ 保持時間 ２５．３０〜３２．３０分 収得量 １．９５ｇ（５．３６ミリモル）収得率６３％１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −１．８６ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１０．１１
分 第２フランクション［ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−２−
（４’−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−７−エトキシ
−３−メトキシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン］ 保持時間 ３４．２５〜４４．２５分 収得量 ０．８３ｇ（２．３０ミリモル）収得率２７％１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −２．３３ｐｐｍ 光学活性液体クロマトグラフィー：保持時間１１．４６
分
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００９３】（第一段反応）［ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造：実施例１の化合物の−ＣＯ−へのヒドリドのジ
アステレオ面区別反応］ 温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）に２３ｍｌを入れ、攪拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム３．９１ｇ（２７．５ミリモル）とジエチルエー
テル２３ｍｌを入れ、攪拌しながら、１０分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、攪拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き９０分間攪拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例３より、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造：実施例１の化合物の−ＣＯ−へのヒドリドのジ
アステレオ面区別反応］ 温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得られる（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタノン−３、１
０．９５ｇ（２５ミリモル）に２３ｍｌを入れ、攪拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、０℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム３．９１ｇ（２７．５ミリモル）とジエチルエー
テル２３ｍｌを入れ、攪拌しながら、１０分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、攪拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き９０分間攪拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例３より、ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積
比）からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００９５】この生成物−３の１ＨＮＭＲスペクトル、
１９ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルを測定し
た結果は参考例４の同定例１と一致し、７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
であることが確認された。また、参考例４の同定例１の
結果を基に、１９ＦＮＭＲスペクトルを測定した結果、
２本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比
より、生成物−３はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジ
オールおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオー
ルからなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）か
らなるジアステレオマー混合物であることが判明した。１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比４０ ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比６０ ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物はｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４
０／６０（面積比）からなるジアステレオマー混合物で
あることが確認出来た。
１９ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルを測定し
た結果は参考例４の同定例１と一致し、７−エトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオール
であることが確認された。また、参考例４の同定例１の
結果を基に、１９ＦＮＭＲスペクトルを測定した結果、
２本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比
より、生成物−３はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−７−エト
キシ−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジ
オールおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−７−エトキシ
−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，３−ジオー
ルからなり、その生成比率ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型／
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４０／６０（面積比）か
らなるジアステレオマー混合物であることが判明した。１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） 第１ピーク：−０．４８ｐｐｍ、面積比４０ ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型 第２ピーク：−２．２１ｐｐｍ、面積比６０ ａｎｔｉ
体（２Ｓ，３Ｓ型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物はｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝４
０／６０（面積比）からなるジアステレオマー混合物で
あることが確認出来た。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１１９】この生成物−１の１ＨＮＭＲスペクトル、
１９ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭ
Ｓスペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物
−１は２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。１ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） ０．８０〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３Ｈ）、
２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐｐｍ
（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、３．７
７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１４ｐｐ
ｍ（１Ｈ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −２．１２ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ
−１（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ＋） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図１６に示した。
１９ＦＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭ
Ｓスペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物
−１は２−ヒドロキシ−７−エトキシ−３−メトキシ−
１，１，１−トリフルオロヘプタンであった。１ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） ０．８０〜１．００ｐｐｍ（３Ｈ）、１．０４〜１．３
０ｐｐｍ（６Ｈ、２．４８〜２．６４ｐｐｍ（３Ｈ）、
２．６９ｐｐｍ（３Ｈ）、２．８４〜３．００ｐｐｍ
（１Ｈ）、３．１２〜３．２６ｐｐｍ（２Ｈ）、３．７
７〜３．９０ｐｐｍ（１Ｈ）、４．０２〜４．１４ｐｐ
ｍ（１Ｈ）１９ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ． ＣＦ３
ＣＯＯＨ） −２．１２ｐｐｍ １Ｒ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） １，１２０ｃｍ−１（ＣＯＣ）、１，６７０ｃｍ
−１（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／ｚ ２４４（Ｍ＋） また、１ＨＮＭＲスペクトル図を図１６に示した。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１２５】となり、参考例６の化合物は室温付近を含
む反強誘電性液晶化合物であった。 （液晶表示素子の作成）透明電極付きの２枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、１．７μｍのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに参考例６で得た化合物を等
方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態まで徐冷
した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光子と検
光子とで挟み、カイラルスメクチックＣ相における分子
層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致するよ
うに設置し、電界無印加時（０Ｖ）のとき、第３安定状
態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルスメクチ
ックＣ相に変化させ、その状態を明状態として用いるこ
とより、暗および明の表示を行うことが出来る液晶表示
素子を作成した。すなわち、印加電圧が０Ｖのとき透過
光量が最小となるように偏光子に対するセルの角度を調
整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転させ、偏
光子の透過軸と一致させたときの値を１００％とした。
む反強誘電性液晶化合物であった。 （液晶表示素子の作成）透明電極付きの２枚のガラス基
板に、ポリイミドをスピンコートした配向膜をラビング
処理し、それぞれのラビング方向が互に平行となるよう
に、１．７μｍのギャップ間隔で貼り合せて、セルを組
み立てた。上記で得たセルに参考例６で得た化合物を等
方性液体相にして注入した。次いで、液晶状態まで徐冷
した。この液晶入セルを透過軸を直交させた偏光子と検
光子とで挟み、カイラルスメクチックＣ相における分子
層の法線方向と偏光子または検光子の方向が一致するよ
うに設置し、電界無印加時（０Ｖ）のとき、第３安定状
態を暗状態とし、電界印加によって、カイラルスメクチ
ックＣ相に変化させ、その状態を明状態として用いるこ
とより、暗および明の表示を行うことが出来る液晶表示
素子を作成した。すなわち、印加電圧が０Ｖのとき透過
光量が最小となるように偏光子に対するセルの角度を調
整した。なお透過光量は検光子の透過軸を回転させ、偏
光子の透過軸と一致させたときの値を１００％とした。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１２６】（液晶表示素子の評価）上述で作成した液
晶表示素子を用い、２５℃において、印加電圧±８．７
Ｖに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図１８
となった。図より、１つの暗状態と２つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、２５℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 ：２８．２μｓ（２５℃において明状態
から暗状態に変化させた時間） しきい値電圧：５．１２Ｖ／μｍ（２５℃において、完
全に明状態になる電圧） チルト角 ：３０．２０°（２５℃において、しき
い値電圧のときの光軸が偏光子となる角度） 以上の結果、参考例６の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は２５℃で、
３安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
晶表示素子を用い、２５℃において、印加電圧±８．７
Ｖに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図１８
となった。図より、１つの暗状態と２つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、２５℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 ：２８．２μｓ（２５℃において明状態
から暗状態に変化させた時間） しきい値電圧：５．１２Ｖ／μｍ（２５℃において、完
全に明状態になる電圧） チルト角 ：３０．２０°（２５℃において、しき
い値電圧のときの光軸が偏光子となる角度） 以上の結果、参考例６の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は２５℃で、
３安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１２】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１４】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１５】
Claims (2)
- 【請求項１】 式（１） 【化１】 （式中、ｍは３〜６を表わす。）で示される（Ｓ）−２
−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−１，１，
１−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−３。 - 【請求項２】 有機溶媒中で、式（２） 【化２】 ［式中、ｍは式（１）と同じ。］で示される（Ｓ）−１
−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル末端エ
トキシアルキルケトンとアルカリ金属水素化物とを反応
させ、次いで、反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾ
イルクロリドとを反応させることを特徴とする請求項
（１）記載の（Ｓ）−２−（４−ベンジルオキシベンゾ
イルオキシ）−１，１，１−トリフルオロ末端エトキシ
アルカノン−３の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23775095A JPH0959222A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | （ｓ）体２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−末端エトキシアルカノン−３およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23775095A JPH0959222A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | （ｓ）体２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−末端エトキシアルカノン−３およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959222A true JPH0959222A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=17019923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23775095A Pending JPH0959222A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | （ｓ）体２−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−末端エトキシアルカノン−３およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959222A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4828773A (en) * | 1987-10-14 | 1989-05-09 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non-aromatics |
| US4879044A (en) * | 1987-10-14 | 1989-11-07 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non aromatics |
-
1995
- 1995-08-23 JP JP23775095A patent/JPH0959222A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4828773A (en) * | 1987-10-14 | 1989-05-09 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non-aromatics |
| US4879044A (en) * | 1987-10-14 | 1989-11-07 | Exxon Research And Engineering Company | Highly aromatic anisotropic polyurea/urethane membranes and their use for the separation of aromatics from non aromatics |
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