JPH0959221A - syn体(2S,3R)型およびanti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
syn体(2S,3R)型およびanti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 室温でのスイッチング操作の容易な反強誘電
性液晶化合物の前駆体として有用な化合物およびその製
造方法の提供。 【解決手段】 式(1) (式中、mは3〜6の整数を表わす)で示されるsyn
−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端
エトキシアルカン、およびその製造方法。
性液晶化合物の前駆体として有用な化合物およびその製
造方法の提供。 【解決手段】 式(1) (式中、mは3〜6の整数を表わす)で示されるsyn
−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端
エトキシアルカン、およびその製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、大画面液
晶ディスプレイ等の素材である反強誘電性液晶化合物の
前駆体として有用である新規なsyn体(2S,3R)
型およびanti体(2S,3S)型3−メトキシアル
カン誘導体の提供およびその製造方法に関するものであ
る。
晶ディスプレイ等の素材である反強誘電性液晶化合物の
前駆体として有用である新規なsyn体(2S,3R)
型およびanti体(2S,3S)型3−メトキシアル
カン誘導体の提供およびその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】大画面液晶ディスプレイ等の素材である
反強誘電性液晶化合物の前駆体として(R)−2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフ
ルオロアルカンが知られている。しかしながら、この化
合物から誘導される反強誘電性液晶化合物は反強誘電性
液晶相が常温より高温で存在するため、室温作業性に劣
り、大画面液晶ディスプレイ材料としては実用化に至っ
ておらず、室温でのスイッチング操作が容易な反強誘電
性液晶化合物の出現が要望されている。
反強誘電性液晶化合物の前駆体として(R)−2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフ
ルオロアルカンが知られている。しかしながら、この化
合物から誘導される反強誘電性液晶化合物は反強誘電性
液晶相が常温より高温で存在するため、室温作業性に劣
り、大画面液晶ディスプレイ材料としては実用化に至っ
ておらず、室温でのスイッチング操作が容易な反強誘電
性液晶化合物の出現が要望されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、室温でのスイッチング操作の容易な反強誘電性液晶
化合物の前駆体として有用な新規の光学活性な化合物に
つき、鋭意研究した結果、本発明の化合物を発明し、ま
た該化合物を効率的に製造する方法を見出し、本発明を
完成した。
は、室温でのスイッチング操作の容易な反強誘電性液晶
化合物の前駆体として有用な新規の光学活性な化合物に
つき、鋭意研究した結果、本発明の化合物を発明し、ま
た該化合物を効率的に製造する方法を見出し、本発明を
完成した。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、新規化合物で
ある式(1)
ある式(1)
【0005】
【化4】
【0006】(式中、mは3〜6の整数を表わす)で示
されるsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロ末端エトキシアルカン[以下、syn体(2
S,3R)型3−メトキシアルカン誘導体という、また
は、本発明化合物ともいう。]、および式(2)
されるsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロ末端エトキシアルカン[以下、syn体(2
S,3R)型3−メトキシアルカン誘導体という、また
は、本発明化合物ともいう。]、および式(2)
【0007】
【化5】
【0008】[式中、mは式(1)と同じ]で示される
anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカン[以下、anti体(2S,
3S)型3−メトキシアルカン誘導体という、また本発
明化合物ともいう。]である。
anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカン[以下、anti体(2S,
3S)型3−メトキシアルカン誘導体という、また本発
明化合物ともいう。]である。
【0009】また、本発明は、上記化合物を効率的に製
造する方法、すなわち、有機溶媒中で、式(3)
造する方法、すなわち、有機溶媒中で、式(3)
【0010】
【化6】
【0011】[式中、mは上と同じ]で示される(S)
−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−1,
1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカン[以下、原
料化合物という。]を金属水素化物を用いて還元し、次
いで、反応生成物とヨウ化メチルを反応させ、O−メチ
ル化誘導体を得、次いで、溶媒中で、該O−メチル化誘
導体をパラジウム/炭素触媒の存在下、水素を用いて還
元し、得られたジアステレオマー混合物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで分取することにより、式
(1)および/または式(2)で示される本発明化合物
を製造する方法に関するものである。
−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−1,
1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカン[以下、原
料化合物という。]を金属水素化物を用いて還元し、次
いで、反応生成物とヨウ化メチルを反応させ、O−メチ
ル化誘導体を得、次いで、溶媒中で、該O−メチル化誘
導体をパラジウム/炭素触媒の存在下、水素を用いて還
元し、得られたジアステレオマー混合物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで分取することにより、式
(1)および/または式(2)で示される本発明化合物
を製造する方法に関するものである。
【0012】
[本発明化合物:syn体(2S,3R)型3−メトキ
シアルカン誘導体およびanti体(2S,3S)型3
−メトキシアルカン誘導体]本発明化合物は式(1)お
よび式(2)で示される通りであり、式中、mは3〜6
である。mが3未満のメチレン基については、出発時点
での化合物が沸点が低く取り扱いづらく、mが6を超え
るメチレン基は作りづらい。好ましいメチレン基は1,
3−トリメチレン基、1,4−テトラメチレン基、1,
5−ペンタメチレン基および1,6−ヘキサメチレン基
等が挙げられる。本発明化合物として式(1)で示され
るsyn体(2S,3R)型3−メトキシアルカン誘導
体の好適な具体例を開示すると、syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−6−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
キサン、syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキ
シベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン、syn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−8
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
オクタノンおよびsyn−(2S,3R)−2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロノナン等が挙げられ
る。
シアルカン誘導体およびanti体(2S,3S)型3
−メトキシアルカン誘導体]本発明化合物は式(1)お
よび式(2)で示される通りであり、式中、mは3〜6
である。mが3未満のメチレン基については、出発時点
での化合物が沸点が低く取り扱いづらく、mが6を超え
るメチレン基は作りづらい。好ましいメチレン基は1,
3−トリメチレン基、1,4−テトラメチレン基、1,
5−ペンタメチレン基および1,6−ヘキサメチレン基
等が挙げられる。本発明化合物として式(1)で示され
るsyn体(2S,3R)型3−メトキシアルカン誘導
体の好適な具体例を開示すると、syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−6−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
キサン、syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキ
シベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン、syn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−8
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
オクタノンおよびsyn−(2S,3R)−2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロノナン等が挙げられ
る。
【0013】本発明化合物として式(2)で示されるa
nti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体
の好適な具体例を開示すると、anti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−6−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
キサン、anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン、anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−8−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロオクタンおよびanti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロノナン等が挙
げられる。
nti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体
の好適な具体例を開示すると、anti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−6−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
キサン、anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタン、anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−8−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロオクタンおよびanti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロノナン等が挙
げられる。
【0014】[原料化合物:(S)−2−(4−ベンジ
ルオキシベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオ
ロ末端エトキシアルカノン−3]原料化合物である、前
述の式(3)で示される(S)−2−(4−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末
端エトキシアルカノン−3は新規化合物である。上記化
合物を具体的に説明すると、式中、mで表わされるメチ
レン基は式(1)のmに対応し、好適な化合物の具体例
としては、(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ)−6−エトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘキサノン−3、(S)−2−(4−ベンジルオキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタノン−3、(S)−2−(4−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ)−8−エトキシ−1,1,1−
トリフルオロオクタノン−3および(S)−2−(4−
ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロノナノン−3等が挙げられ
る。
ルオキシベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオ
ロ末端エトキシアルカノン−3]原料化合物である、前
述の式(3)で示される(S)−2−(4−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末
端エトキシアルカノン−3は新規化合物である。上記化
合物を具体的に説明すると、式中、mで表わされるメチ
レン基は式(1)のmに対応し、好適な化合物の具体例
としては、(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ)−6−エトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘキサノン−3、(S)−2−(4−ベンジルオキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタノン−3、(S)−2−(4−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ)−8−エトキシ−1,1,1−
トリフルオロオクタノン−3および(S)−2−(4−
ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロノナノン−3等が挙げられ
る。
【0015】(原料化合物の製造方法)以下、(S)−
N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロ
ピオニル)ピロリジン(以下、出発原料化合物とい
う。)から、原第一段反応〜原第四段反応を経て、原料
化合物を製造する方法を示す。なお、出発原料化合物は
新規化合物ではないが、市販されていないため製造しな
ければならない。後記参考例1に出発原料化合物の製造
例を示す。
N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロ
ピオニル)ピロリジン(以下、出発原料化合物とい
う。)から、原第一段反応〜原第四段反応を経て、原料
化合物を製造する方法を示す。なお、出発原料化合物は
新規化合物ではないが、市販されていないため製造しな
ければならない。後記参考例1に出発原料化合物の製造
例を示す。
【0016】(原第一段反応)原第一段反応の反応式は
式(4)
式(4)
【0017】
【化7】
【0018】[式中、mは式(1)と同じ。]の通りで
あり、出発原料化合物中のカルボニル基に、末端エトキ
シアルキルマグネシウムブロミドであるグリニャール試
薬が1モル付加し、また出発原料化合物の水酸基とグリ
ニャール試薬1モルとが反応し、反応生成物と末端エト
キシアルカンが生成する。式(4)における反応は、グ
リニャール試薬に出発原料化合物の有機溶媒溶液を滴下
して行うのが、好ましい。有機溶媒としてはジエチルエ
ーテル、THF、ジグリム等のエーテル溶媒が挙げられ
る。出発原料化合物を溶解するために用いられる有機溶
媒の使用量は出発原料化合物1モルに対して0.5〜2
リットルが好ましい。式(4)の反応において、出発原
料化合物とグリニャール試薬との供給割合は出発原料化
合物1モルに対して、グリニャール試薬2〜3モルが好
ましい。出発原料化合物の反応系への供給速度は、出発
原料化合物1モルを100〜250分間かけて滴下する
のが好ましい。式(4)の反応温度は−10〜10℃が
好ましい。出発原料化合物溶液の滴下完了後、引き続き
2時間撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物を生
成させる。
あり、出発原料化合物中のカルボニル基に、末端エトキ
シアルキルマグネシウムブロミドであるグリニャール試
薬が1モル付加し、また出発原料化合物の水酸基とグリ
ニャール試薬1モルとが反応し、反応生成物と末端エト
キシアルカンが生成する。式(4)における反応は、グ
リニャール試薬に出発原料化合物の有機溶媒溶液を滴下
して行うのが、好ましい。有機溶媒としてはジエチルエ
ーテル、THF、ジグリム等のエーテル溶媒が挙げられ
る。出発原料化合物を溶解するために用いられる有機溶
媒の使用量は出発原料化合物1モルに対して0.5〜2
リットルが好ましい。式(4)の反応において、出発原
料化合物とグリニャール試薬との供給割合は出発原料化
合物1モルに対して、グリニャール試薬2〜3モルが好
ましい。出発原料化合物の反応系への供給速度は、出発
原料化合物1モルを100〜250分間かけて滴下する
のが好ましい。式(4)の反応温度は−10〜10℃が
好ましい。出発原料化合物溶液の滴下完了後、引き続き
2時間撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物を生
成させる。
【0019】なお上記グリニャール試薬は市販されてお
らず、次の三工程で製造することが出来る。以下、例と
して、m=4、5のグリニャール試薬の製造方法の概要
を示すと、次の通りである。
らず、次の三工程で製造することが出来る。以下、例と
して、m=4、5のグリニャール試薬の製造方法の概要
を示すと、次の通りである。
【0020】第一工程 第一工程を反応式で示すと、式(5)
【0021】
【化8】
【0022】[式中、mは式(1)と同じ]で示される
ように例えば、m=4に相当するテトラヒドロフラン1
モルまたはm=5に相当するテトラヒドロピラン1モ
ル、エチルアルコール1.1モルおよびパラトルエンス
ルホン酸1水塩0.05モルを混合し、加熱し、80℃
×8時間還流した後、減圧濃縮し、得られた残渣に水2
リットルを加えた後、エーテル抽出し、抽出液に無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、無色透明な液状の末端エトキシアルコールであ
る4−エトキシブチルアルコール、または5−エトキシ
ペンチルアルコールを収率90%で得る。
ように例えば、m=4に相当するテトラヒドロフラン1
モルまたはm=5に相当するテトラヒドロピラン1モ
ル、エチルアルコール1.1モルおよびパラトルエンス
ルホン酸1水塩0.05モルを混合し、加熱し、80℃
×8時間還流した後、減圧濃縮し、得られた残渣に水2
リットルを加えた後、エーテル抽出し、抽出液に無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、無色透明な液状の末端エトキシアルコールであ
る4−エトキシブチルアルコール、または5−エトキシ
ペンチルアルコールを収率90%で得る。
【0023】第二工程 第二工程を反応式で示すと、式(6) C2H5O(CH2)mOH+P(C6H5)3+Br2→ (末端エトキシアルキルアルコール) C2H5O(CH2)mBr+HBr+P(C6H5)3O↓ (6) (末端エトキシアルキルブロミド) で示されるように、第一工程で得られた末端エトキシア
ルコールである4−エトキシブチルアルコール、または
5−エトキシペンチルアルコール各1モルを塩化メチレ
ン3リットルに溶解した溶液を0℃に調整する。ついで
トリフェニルホスフィン1モルと塩化メチレン1,00
0mlを加えた溶液に、臭素1モルと塩化メチレン50
0mlを加えた溶液を入れ、撹拌しながら、0℃で10
0分間かけて滴下し、滴下完了後、引き続き1時間撹拌
保持して反応を完結させる。次いで、室温まで昇温し、
引き続き1時間撹拌保持して、トリフェニルホスフィン
オキシドの微結晶を生成させる。次いで濃縮し、塩化メ
チレンと臭化小素を留去し、生成したスラッジに熱n−
ヘキサン8Lを加えて、溶解し、冷却晶析し、白色針状
結晶である大部分のトリフェニルホスフィンオキシドを
濾過により除去し、濾液を濃縮し、シロップ状の残渣を
得る。次いでこの残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状の末端エトキシアルキ
ルブロミドである4−エトキシブチルブロミドまたは5
−エトキシペンチルブロミドを収率80%で得る。
ルコールである4−エトキシブチルアルコール、または
5−エトキシペンチルアルコール各1モルを塩化メチレ
ン3リットルに溶解した溶液を0℃に調整する。ついで
トリフェニルホスフィン1モルと塩化メチレン1,00
0mlを加えた溶液に、臭素1モルと塩化メチレン50
0mlを加えた溶液を入れ、撹拌しながら、0℃で10
0分間かけて滴下し、滴下完了後、引き続き1時間撹拌
保持して反応を完結させる。次いで、室温まで昇温し、
引き続き1時間撹拌保持して、トリフェニルホスフィン
オキシドの微結晶を生成させる。次いで濃縮し、塩化メ
チレンと臭化小素を留去し、生成したスラッジに熱n−
ヘキサン8Lを加えて、溶解し、冷却晶析し、白色針状
結晶である大部分のトリフェニルホスフィンオキシドを
濾過により除去し、濾液を濃縮し、シロップ状の残渣を
得る。次いでこの残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状の末端エトキシアルキ
ルブロミドである4−エトキシブチルブロミドまたは5
−エトキシペンチルブロミドを収率80%で得る。
【0024】第三工程 第三工程を反応式で示すと、式(7) C2H 5O(CH2)mBr+1.1Mg→C2H5O(CH2)mMgBr (末端エトキシアルキルブロミド) (グリニャール試薬) (7) で示されるように、窒素置換した反応器へ、金属マグネ
シウム1.1モルと乾燥ジエチルエーテル200mlを
入れ、ついでヨウ素1ミリモルを入れ、赤褐色の溶液が
無色になるまで撹拌する。次いで第二工程で得られた末
端エトキシアルキルブロミドである4−エトキシブチル
ブロミドまたは5−エトキシペンチルブロミドを各0.
1モル加え、還流が生じるまで撹拌する。次いで残りの
4−エトキシブチルブロミド0.9モル、または5−エ
トキシブチルブロミド0.9モルと乾燥ジエチルエーテ
ル各500mlを滴下ロートに入れ、還流が持続するよ
うに滴下し、滴下完了後、1時間還流し反応を完結させ
る。次いで注射器で反応液を抜き取り、反応容器の底に
たまった未反応金属マグネシウムの塊個を乾燥ジエチル
エーテル300mlで洗浄し、0.8モル/リットルの
4−エトキシブチルマグネシウムブロミドまたは5−エ
トキシペンチルマグネシウムブロミドのエーテル溶液
(収率80%)であるグリニャール試薬が得られる。
シウム1.1モルと乾燥ジエチルエーテル200mlを
入れ、ついでヨウ素1ミリモルを入れ、赤褐色の溶液が
無色になるまで撹拌する。次いで第二工程で得られた末
端エトキシアルキルブロミドである4−エトキシブチル
ブロミドまたは5−エトキシペンチルブロミドを各0.
1モル加え、還流が生じるまで撹拌する。次いで残りの
4−エトキシブチルブロミド0.9モル、または5−エ
トキシブチルブロミド0.9モルと乾燥ジエチルエーテ
ル各500mlを滴下ロートに入れ、還流が持続するよ
うに滴下し、滴下完了後、1時間還流し反応を完結させ
る。次いで注射器で反応液を抜き取り、反応容器の底に
たまった未反応金属マグネシウムの塊個を乾燥ジエチル
エーテル300mlで洗浄し、0.8モル/リットルの
4−エトキシブチルマグネシウムブロミドまたは5−エ
トキシペンチルマグネシウムブロミドのエーテル溶液
(収率80%)であるグリニャール試薬が得られる。
【0025】(原第二段反応)原第二段反応の反応式の
一例を鉱酸として塩酸を用いた場合について示すと、式
(8)
一例を鉱酸として塩酸を用いた場合について示すと、式
(8)
【0026】
【化9】
【0027】[式中、mは式(1)と同じ。]の通りで
あり、原第一段反応で得られた反応生成物1モルを3グ
ラム当量の鉱酸で加水分解することにより、(S)体ヒ
ドロキシケトンが生成する。鉱酸としては塩酸、硫酸、
硝酸等が挙げられる。鉱酸の使用量は出発原料化合物1
モルに対して3〜4グラム当量が好ましい。鉱酸の濃度
は1〜5規定が好ましい。式(8)の反応において、原
第一段反応で得られた反応生成物溶液に鉱酸水溶液を滴
下するのが好ましい。反応系への鉱酸水溶液の滴下時間
は出発原料化合物1モルに対して、30〜60分間が好
ましい。加水分解反応は常温が好ましい。鉱酸の滴下完
了後、引き続き20分間撹拌保持することにより、加水
分解反応を完結させる。
あり、原第一段反応で得られた反応生成物1モルを3グ
ラム当量の鉱酸で加水分解することにより、(S)体ヒ
ドロキシケトンが生成する。鉱酸としては塩酸、硫酸、
硝酸等が挙げられる。鉱酸の使用量は出発原料化合物1
モルに対して3〜4グラム当量が好ましい。鉱酸の濃度
は1〜5規定が好ましい。式(8)の反応において、原
第一段反応で得られた反応生成物溶液に鉱酸水溶液を滴
下するのが好ましい。反応系への鉱酸水溶液の滴下時間
は出発原料化合物1モルに対して、30〜60分間が好
ましい。加水分解反応は常温が好ましい。鉱酸の滴下完
了後、引き続き20分間撹拌保持することにより、加水
分解反応を完結させる。
【0028】加水分解反応完了後、20%炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH8に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状生成物を得る。この生
成物の1HNMRスペクトル、19FNMRスペクトル、
1R吸収スペクトルおよびMSスペクトルを測定した結
果、生成物は1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオ
ロエチル末端エトキシアルキルケトンであることが確認
される。また、上述の生成物を光学活性ガスクロマトグ
ラフィーにかけたところ、1本の光学活性ピークしか得
られないことより、出発原料化合物の2位の不斉炭素原
子の立体配置は反応前後では変化せず、光学的反転が起
こらないことより、生成物は(S)−1−ヒドロキシ−
2,2,2−トリフルオロエチル末端エトキシアルキル
ケトン[(S)体ヒドロキシケトン]であることが確認
される。
リウム水溶液でpH8に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色透明な液状生成物を得る。この生
成物の1HNMRスペクトル、19FNMRスペクトル、
1R吸収スペクトルおよびMSスペクトルを測定した結
果、生成物は1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオ
ロエチル末端エトキシアルキルケトンであることが確認
される。また、上述の生成物を光学活性ガスクロマトグ
ラフィーにかけたところ、1本の光学活性ピークしか得
られないことより、出発原料化合物の2位の不斉炭素原
子の立体配置は反応前後では変化せず、光学的反転が起
こらないことより、生成物は(S)−1−ヒドロキシ−
2,2,2−トリフルオロエチル末端エトキシアルキル
ケトン[(S)体ヒドロキシケトン]であることが確認
される。
【0029】(原第三段反応)原第三段反応を反応式で
表わすと、式(9)
表わすと、式(9)
【0030】
【化10】
【0031】[式中、mは式(1)と同じ、Mはアルカ
リ金属を表わす。]の通りであり、有機溶媒中で、
(S)体ヒドロキシケトン中の水酸基とアルカリ金属水
素化物が反応し、アルカリ金属アルコラートである反応
生成物−1が生成する。有機溶媒としては、ジエチルエ
ーテル、n−ヘキサン、THFおよび塩化メチレン等が
挙げられる。その使用量は(S)体ヒドロキシケトン1
モルを基準として、1〜5Lが好ましい。アルカリ金属
水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウムお
よび水素化カリウム等が挙げられる。市販のアルカリ金
属水素化物は通常油性であるので、n−ヘキサン等で洗
浄、精製、乾燥した後、有機溶媒に懸濁したものを用い
るのがよい。アルカリ金属水素化物は(S)体ヒドロキ
シケトン1モルを基準として1.0〜1.2モルが好ま
しい。
リ金属を表わす。]の通りであり、有機溶媒中で、
(S)体ヒドロキシケトン中の水酸基とアルカリ金属水
素化物が反応し、アルカリ金属アルコラートである反応
生成物−1が生成する。有機溶媒としては、ジエチルエ
ーテル、n−ヘキサン、THFおよび塩化メチレン等が
挙げられる。その使用量は(S)体ヒドロキシケトン1
モルを基準として、1〜5Lが好ましい。アルカリ金属
水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウムお
よび水素化カリウム等が挙げられる。市販のアルカリ金
属水素化物は通常油性であるので、n−ヘキサン等で洗
浄、精製、乾燥した後、有機溶媒に懸濁したものを用い
るのがよい。アルカリ金属水素化物は(S)体ヒドロキ
シケトン1モルを基準として1.0〜1.2モルが好ま
しい。
【0032】(S)体ヒドロキシケトンとアルカリ金属
水素化物との混合方法はアルカリ金属水素化物の有機溶
媒懸濁液中に、原料化合物の有機溶媒溶液を滴下するの
が好ましい。有機溶媒の使用比率はアルカリ金属水素化
物/(S)体ヒドロキシケトン=1/9程度の容量比に
按分することが好ましい。(S)体ヒドロキシケトンの
反応系への供給速度は原料化合物1モルを30〜90分
間かけて滴下するのが好ましい。反応温度は−10〜1
0℃が好ましい。(S)体ヒドロキシケトンの滴下完了
後、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き続き60分間
程度撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物溶液−
1を得る。
水素化物との混合方法はアルカリ金属水素化物の有機溶
媒懸濁液中に、原料化合物の有機溶媒溶液を滴下するの
が好ましい。有機溶媒の使用比率はアルカリ金属水素化
物/(S)体ヒドロキシケトン=1/9程度の容量比に
按分することが好ましい。(S)体ヒドロキシケトンの
反応系への供給速度は原料化合物1モルを30〜90分
間かけて滴下するのが好ましい。反応温度は−10〜1
0℃が好ましい。(S)体ヒドロキシケトンの滴下完了
後、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き続き60分間
程度撹拌保持して、反応を完結させ、反応生成物溶液−
1を得る。
【0033】(原第四段反応)原第四段反応を反応式で
示すと、式(10)
示すと、式(10)
【0034】
【化11】
【0035】[式中、mは式(1)と同じ、Mはアルカ
リ金属を表わす。]の通りであり、有機溶媒中で、反応
生成物−1のアルカリ金属と4−ベンジルオキシベンゾ
イルクロリドの塩素と反応し、原料化合物を生成する。
有機溶媒は原第三段反応と同じ有機溶媒が使用出来る。
従って、原第三段反応で得た反応生成物−1溶液に、4
−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの有機溶媒溶液を
直接加えることにより反応を行うことが出来る。4−ベ
ンジルオキシベンゾイルクロリドの反応系への供給割合
は、(S)体ヒドロキシケトン1モルを基準として、
1.1〜1.3モルが好ましい。4−ベンジルオキシベ
ンゾイルクロリドは有機溶媒に溶解して、反応系へ供給
するのが好ましい。有機溶媒の好適な混合割合は4−ベ
ンジルオキシベンゾイルクロリド1モルに対して0.5
〜2Lが好ましい。4−ベンジルオキシベンゾイルクロ
リドの反応系への供給速度は(S)体ヒドロキシケトン
1モルを基準として1〜3時間が好ましい。反応温度は
−10〜10℃が好ましく、特に好ましくは0℃付近で
ある。4−ベンジルオキシベンゾイルクロリド溶液の滴
下完了後、室温まで昇温し、引き続き150分間撹拌保
持して、反応を完結させる。
リ金属を表わす。]の通りであり、有機溶媒中で、反応
生成物−1のアルカリ金属と4−ベンジルオキシベンゾ
イルクロリドの塩素と反応し、原料化合物を生成する。
有機溶媒は原第三段反応と同じ有機溶媒が使用出来る。
従って、原第三段反応で得た反応生成物−1溶液に、4
−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの有機溶媒溶液を
直接加えることにより反応を行うことが出来る。4−ベ
ンジルオキシベンゾイルクロリドの反応系への供給割合
は、(S)体ヒドロキシケトン1モルを基準として、
1.1〜1.3モルが好ましい。4−ベンジルオキシベ
ンゾイルクロリドは有機溶媒に溶解して、反応系へ供給
するのが好ましい。有機溶媒の好適な混合割合は4−ベ
ンジルオキシベンゾイルクロリド1モルに対して0.5
〜2Lが好ましい。4−ベンジルオキシベンゾイルクロ
リドの反応系への供給速度は(S)体ヒドロキシケトン
1モルを基準として1〜3時間が好ましい。反応温度は
−10〜10℃が好ましく、特に好ましくは0℃付近で
ある。4−ベンジルオキシベンゾイルクロリド溶液の滴
下完了後、室温まで昇温し、引き続き150分間撹拌保
持して、反応を完結させる。
【0036】反応終了後、例えば、室温で1規定塩酸を
用いて、過剰のアルカリ金属水素化物あるいは4−ベン
ジルオキシベンゾイルクロリドを塩化アルカリおるいは
4−ベンジルオキシベンゾアートとし、次いで5%炭酸
ナトリウム水溶液によりpH8に調整し、4−ベンジル
オキシベンゾアートを水に可溶なソーダ塩とした後、エ
ーテル抽出し、抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧濃縮し、残
った淡黄色のシロップ状残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー等で精製後、精製液を活性炭等で脱色した
後、減圧濃縮し、無色透明な液状の原料化合物を得る。
用いて、過剰のアルカリ金属水素化物あるいは4−ベン
ジルオキシベンゾイルクロリドを塩化アルカリおるいは
4−ベンジルオキシベンゾアートとし、次いで5%炭酸
ナトリウム水溶液によりpH8に調整し、4−ベンジル
オキシベンゾアートを水に可溶なソーダ塩とした後、エ
ーテル抽出し、抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧濃縮し、残
った淡黄色のシロップ状残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー等で精製後、精製液を活性炭等で脱色した
後、減圧濃縮し、無色透明な液状の原料化合物を得る。
【0037】この原料化合物の各種スペクトル分析を行
うことになり、原料化合物は2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカノン−3であることが確認される。なお
(S)−1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエ
チル末端エトキシアルキルケトンの1位の不斉炭素原子
に結合した水酸基をアルカリ金属水素化物と反応させ、
アルカリ金属アルコラートにし、次いで、4−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドを反応させ、4−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ基に置換しても、1位の不斉炭素
原子の不斉中心は光学的反転を生ぜず(S)配置である
ことは確認済みであり、原料化合物は(S)−2−(4
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−1,1,1−ト
リフルオロ末端エトキシアルカノン−3であることが確
認出来る。
うことになり、原料化合物は2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカノン−3であることが確認される。なお
(S)−1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエ
チル末端エトキシアルキルケトンの1位の不斉炭素原子
に結合した水酸基をアルカリ金属水素化物と反応させ、
アルカリ金属アルコラートにし、次いで、4−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドを反応させ、4−ベンジルオ
キシベンゾイルオキシ基に置換しても、1位の不斉炭素
原子の不斉中心は光学的反転を生ぜず(S)配置である
ことは確認済みであり、原料化合物は(S)−2−(4
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−1,1,1−ト
リフルオロ末端エトキシアルカノン−3であることが確
認出来る。
【0038】[本発明化合物:syn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカン
および本発明化合物:anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンの製造
方法。]本発明化合物は前述した通りであり、まず、有
機溶媒中で、式(3)で示される原料化合物を金属水素
化物で還元し(第一段反応)、次いで反応生成物とヨウ
化メチルを反応させO−メチル化誘導体を得る(第二段
反応)。次いで、該O−メチル誘導体をパラジウム/炭
素触媒の存在下、水素を用いて還元し(第三段反応)、
得られたジアステレオマー混合物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分取する(第四段工程)ことによ
り、本発明化合物を製造することが出来る。以下本発明
化合物の製造方法について更に詳細に説明する。
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカン
および本発明化合物:anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンの製造
方法。]本発明化合物は前述した通りであり、まず、有
機溶媒中で、式(3)で示される原料化合物を金属水素
化物で還元し(第一段反応)、次いで反応生成物とヨウ
化メチルを反応させO−メチル化誘導体を得る(第二段
反応)。次いで、該O−メチル誘導体をパラジウム/炭
素触媒の存在下、水素を用いて還元し(第三段反応)、
得られたジアステレオマー混合物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分取する(第四段工程)ことによ
り、本発明化合物を製造することが出来る。以下本発明
化合物の製造方法について更に詳細に説明する。
【0039】(第一段工程)第一段反応を、例えば、金
属水素化物として安定化した水素化ホウ素ナトリウム水
溶液を用いた場合についての反応式を示すと、式(1
1)
属水素化物として安定化した水素化ホウ素ナトリウム水
溶液を用いた場合についての反応式を示すと、式(1
1)
【0040】
【化12】
【0041】[式中、mは式(1)と同じ]の通りであ
り、有機溶媒中で、原第四段反応で得た(S)−2−
(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−1,1,1
−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−3である原料
化合物を金属水素化物を用いて還元することにより、原
料化合物のカルボニル炭素へのヒドリドのジアステレオ
面区別した攻撃を経由して反応生成物を製造することが
出来る。好適な金属水素化物としては水素化ホウ素ナト
リウムおよび水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げ
られる。水素化ホウ素ナトリウムの場合には5%水素化
ナトリウム水溶液(水酸化ナトリウムの使用量は水素化
ホウ素ナトリウム1モルに対して5倍モルである。)に
メタノール(メタノールの使用量は水素化ホウ素ナトリ
ウム1モルに対して1リットルである。)を入れ、次い
で、水素化ホウ素ナトリウム1モルを加えて調合する安
定化した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を使用する。な
お水酸化ナトリウム水溶液中では水素化ホウ素ナトリウ
ムが安定になり、長期保存に耐える。さらにメタノール
は水素化ホウ素ナトリウムを溶解する。
り、有機溶媒中で、原第四段反応で得た(S)−2−
(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−1,1,1
−トリフルオロ末端エトキシアルカノン−3である原料
化合物を金属水素化物を用いて還元することにより、原
料化合物のカルボニル炭素へのヒドリドのジアステレオ
面区別した攻撃を経由して反応生成物を製造することが
出来る。好適な金属水素化物としては水素化ホウ素ナト
リウムおよび水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げ
られる。水素化ホウ素ナトリウムの場合には5%水素化
ナトリウム水溶液(水酸化ナトリウムの使用量は水素化
ホウ素ナトリウム1モルに対して5倍モルである。)に
メタノール(メタノールの使用量は水素化ホウ素ナトリ
ウム1モルに対して1リットルである。)を入れ、次い
で、水素化ホウ素ナトリウム1モルを加えて調合する安
定化した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を使用する。な
お水酸化ナトリウム水溶液中では水素化ホウ素ナトリウ
ムが安定になり、長期保存に耐える。さらにメタノール
は水素化ホウ素ナトリウムを溶解する。
【0042】原料化合物と金属水素化物との供給割合は
原料化合物1モルに対して1.0〜1.2グラム当量
(水素原子換算、以下同じ)が好ましい。1.0グラム
当量未満では反応生成物の収率低下を招く恐れがあり、
1.2グラム当量を超えると経済的とはいえない。有機
溶媒としては、ジエチルエーテル、THF、n−ヘキサ
ン、トルエンおよびメタノール等が挙げられる。その使
用量は原料化合物1モルを基準として1.0〜2.5L
が好ましい。1.0L未満ではエステル部分が切断され
反応生成物の収率低下を招く恐れがあり、2.5Lを超
えると経済的とはいえない。原料化合物と金属水素化物
の混合方法は原料化合物の有機溶媒溶液に、金属水素化
物の有機溶媒溶液を滴下するのが好適である。逆の供給
方法を行うと原料化合物のエステル部分が切断し、反応
生成物の収率低下を招く恐れがある。
原料化合物1モルに対して1.0〜1.2グラム当量
(水素原子換算、以下同じ)が好ましい。1.0グラム
当量未満では反応生成物の収率低下を招く恐れがあり、
1.2グラム当量を超えると経済的とはいえない。有機
溶媒としては、ジエチルエーテル、THF、n−ヘキサ
ン、トルエンおよびメタノール等が挙げられる。その使
用量は原料化合物1モルを基準として1.0〜2.5L
が好ましい。1.0L未満ではエステル部分が切断され
反応生成物の収率低下を招く恐れがあり、2.5Lを超
えると経済的とはいえない。原料化合物と金属水素化物
の混合方法は原料化合物の有機溶媒溶液に、金属水素化
物の有機溶媒溶液を滴下するのが好適である。逆の供給
方法を行うと原料化合物のエステル部分が切断し、反応
生成物の収率低下を招く恐れがある。
【0043】例えば、金属水素化物として、安定化した
水素化ホウ素ナトリウム水溶液を用いた場合には、原料
化合物1モルに対して、有機溶媒1.6L程度を用い、
残りの有機溶媒は安定化した水素化ホウ素ナトリウム水
溶液中のメタノールを使用するのが好適である。また、
金属水素化物として、水素化ジイソブチルアルミニウム
を用いた場合は原料化合物1モルと有機溶媒0.9Lを
混合した溶液に、水素化イソブチルアルミニウム1.0
〜1.2グラム当量と有機溶媒0.9Lを混合した溶液
を滴下するのが好ましい。原料化合物溶液中への金属水
素化物溶液の供給時間は原料化合物1モルに対して、3
0〜90分が好ましい。30分未満では反応熱の除去が
困難となり、原料化合物のエステル部分が切断され、反
応生成物の収率低下を招く恐れがあり、90分を超える
と経済的とはいえない。原料化合物と金属水素化物との
反応温度は−10〜10℃が好ましい。−10℃未満で
は経済的とはいえず、10℃を超えると反応温度の制御
が困難となり、反応生成物の収率低下を招く恐れがあ
る。金属水素化物溶液の滴下完了後、室温まで昇温し、
引き続き、90分程度撹拌保持して、反応を完結させ、
反応生成物を得る。
水素化ホウ素ナトリウム水溶液を用いた場合には、原料
化合物1モルに対して、有機溶媒1.6L程度を用い、
残りの有機溶媒は安定化した水素化ホウ素ナトリウム水
溶液中のメタノールを使用するのが好適である。また、
金属水素化物として、水素化ジイソブチルアルミニウム
を用いた場合は原料化合物1モルと有機溶媒0.9Lを
混合した溶液に、水素化イソブチルアルミニウム1.0
〜1.2グラム当量と有機溶媒0.9Lを混合した溶液
を滴下するのが好ましい。原料化合物溶液中への金属水
素化物溶液の供給時間は原料化合物1モルに対して、3
0〜90分が好ましい。30分未満では反応熱の除去が
困難となり、原料化合物のエステル部分が切断され、反
応生成物の収率低下を招く恐れがあり、90分を超える
と経済的とはいえない。原料化合物と金属水素化物との
反応温度は−10〜10℃が好ましい。−10℃未満で
は経済的とはいえず、10℃を超えると反応温度の制御
が困難となり、反応生成物の収率低下を招く恐れがあ
る。金属水素化物溶液の滴下完了後、室温まで昇温し、
引き続き、90分程度撹拌保持して、反応を完結させ、
反応生成物を得る。
【0044】[反応生成物がsyn体(2S,3R)型
およびanti体(2S,3S)型からなるジアステレ
オマー混合物であることの確認]後記同定例1および同
定例3より明らかなように、上述の同定例1および3で
得られた反応生成物の1部を取り、大部分のエーテルを
減圧留去した濃縮反応生成物溶液に3規定塩酸とメタノ
ールを加えて、80℃まで昇温し、引き続き6時間還流
し加水分解反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し
た後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、次いで水洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムを加えて水分を除去した後、減圧濃縮により
溶媒を留去し、シロップ状の残渣を得る。この残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明
な液状の生成物を得る。この生成物の各種スペクトルを
測定した結果、生成物は1,1,1−トリフルオロ末端
エトキシアルカン−2,3−ジオールであることが確認
される。また19FNMRスペクトルは2本のピークを有
し、第1ピーク/第2ピークが所定比であることより、
生成物は1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカ
ン−2,3−ジオールのジアステレオマー混合物である
ことが確認される。
およびanti体(2S,3S)型からなるジアステレ
オマー混合物であることの確認]後記同定例1および同
定例3より明らかなように、上述の同定例1および3で
得られた反応生成物の1部を取り、大部分のエーテルを
減圧留去した濃縮反応生成物溶液に3規定塩酸とメタノ
ールを加えて、80℃まで昇温し、引き続き6時間還流
し加水分解反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し
た後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、次いで水洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムを加えて水分を除去した後、減圧濃縮により
溶媒を留去し、シロップ状の残渣を得る。この残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明
な液状の生成物を得る。この生成物の各種スペクトルを
測定した結果、生成物は1,1,1−トリフルオロ末端
エトキシアルカン−2,3−ジオールであることが確認
される。また19FNMRスペクトルは2本のピークを有
し、第1ピーク/第2ピークが所定比であることより、
生成物は1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカ
ン−2,3−ジオールのジアステレオマー混合物である
ことが確認される。
【0045】次いで上述で得られた生成物に2,2−ジ
メトキシプロパンおよびパラトルエンスルホン酸1水塩
を加えて、95℃で5時間還流し、アセタール交換反応
を行い、精製し、無色透明な液状の化合物を得る。この
化合物の各種スペクトルを測定した結果は2,2−ジメ
チル−4−(末端エトキシアルキル)−5−トリフルオ
ロメチル−1,3−ジオキソラン(以下1,3−ジオキ
ソラン誘導体という)からなるジアステレオマー混合物
であることが確認される。また1HNMRスペクトルの
メチル基の位置と面積比より、化合物はtrans−
2,2−ジメチル−4−(末端エトキシアルキル)−5
−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
tran体1,3−ジオキソラン誘導体という)および
cis−2,2−ジメチル−4−(末端エトキシアルキ
ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン
(以下、cis体1,3−ジオキソラン誘導体という)
からなるジアステレオマー混合物であることが判明す
る。
メトキシプロパンおよびパラトルエンスルホン酸1水塩
を加えて、95℃で5時間還流し、アセタール交換反応
を行い、精製し、無色透明な液状の化合物を得る。この
化合物の各種スペクトルを測定した結果は2,2−ジメ
チル−4−(末端エトキシアルキル)−5−トリフルオ
ロメチル−1,3−ジオキソラン(以下1,3−ジオキ
ソラン誘導体という)からなるジアステレオマー混合物
であることが確認される。また1HNMRスペクトルの
メチル基の位置と面積比より、化合物はtrans−
2,2−ジメチル−4−(末端エトキシアルキル)−5
−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
tran体1,3−ジオキソラン誘導体という)および
cis−2,2−ジメチル−4−(末端エトキシアルキ
ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン
(以下、cis体1,3−ジオキソラン誘導体という)
からなるジアステレオマー混合物であることが判明す
る。
【0046】したがって、trans体1,3−ジオキ
ソラン誘導体の面積比と一致する化合物の 19FNMR
スペクトルの第1ピークはtran体1,3−ジオキソ
ラン誘導体であり、cis体1,3−ジオキソラン誘導
体の面積比と一致する化合物の19FNMRスペクトルの
第2ピークはcis体1,3−ジオキソラン誘導体であ
ることが確認される。さらに、trans体1,3−ジ
オキソラン誘導体の面積比と一致する生成物の19FNM
Rスペクトルの第1ピークはsyn−1,1,1−トリ
フルオロ末端エトキシアルカン2,3−ジオールであ
り、cis体1,3−ジオキソラン誘導体の面積比と一
致する生成物の19FNMRスペクトルの第2ピークはa
nti−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカ
ン2,3−ジオールであることが確認される。
ソラン誘導体の面積比と一致する化合物の 19FNMR
スペクトルの第1ピークはtran体1,3−ジオキソ
ラン誘導体であり、cis体1,3−ジオキソラン誘導
体の面積比と一致する化合物の19FNMRスペクトルの
第2ピークはcis体1,3−ジオキソラン誘導体であ
ることが確認される。さらに、trans体1,3−ジ
オキソラン誘導体の面積比と一致する生成物の19FNM
Rスペクトルの第1ピークはsyn−1,1,1−トリ
フルオロ末端エトキシアルカン2,3−ジオールであ
り、cis体1,3−ジオキソラン誘導体の面積比と一
致する生成物の19FNMRスペクトルの第2ピークはa
nti−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカ
ン2,3−ジオールであることが確認される。
【0047】また、原料化合物である(S)体末端エト
キシアルカノン−3を金属水素化物で還元し、これを加
水分解することによって得られることから、2位の不斉
炭素原子の不斉中心は変らず(2S)配置であることよ
り、生成物はsyn−(2S,3R)−1,1,1−ト
リフルオロ末端エトキシアルカン−2,3−ジオールお
よびanti−(2S,3S)−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカン−2,3−ジオールからなる
ジアステレオマー混合物であることが確認される。よっ
て、加水分解反応前後では2位と3位の不斉炭素原子の
絶対配置は変らないことより、反応生成物はsyn体
(2S,3R)型およびanti体(2S,3S)型か
らなるジアステレオマー混合物であることが確認され
る。反応生成物は金属水素化物の種類により、syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70
〜40/30〜60(面積比)のジアステレオマー混合
物が得られる。
キシアルカノン−3を金属水素化物で還元し、これを加
水分解することによって得られることから、2位の不斉
炭素原子の不斉中心は変らず(2S)配置であることよ
り、生成物はsyn−(2S,3R)−1,1,1−ト
リフルオロ末端エトキシアルカン−2,3−ジオールお
よびanti−(2S,3S)−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカン−2,3−ジオールからなる
ジアステレオマー混合物であることが確認される。よっ
て、加水分解反応前後では2位と3位の不斉炭素原子の
絶対配置は変らないことより、反応生成物はsyn体
(2S,3R)型およびanti体(2S,3S)型か
らなるジアステレオマー混合物であることが確認され
る。反応生成物は金属水素化物の種類により、syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70
〜40/30〜60(面積比)のジアステレオマー混合
物が得られる。
【0048】(第二段反応)第二段反応を反応式で示す
と、式(12)
と、式(12)
【0049】
【化13】
【0050】[式中、mは式(1)と同じ]の通りであ
り、第一段反応で得られた反応生成物中のホウ素ナトリ
ウムカチオンとヨウ化メチル中のヨウ素が反応して、O
−メチル化誘導体を生成する。ヨウ化メチルは原料化合
物1モルに対して1.0〜1.1モルが好ましい。1.
0モル未満ではO−メチル化誘導体の収率低下を招き、
1.1モルを超えると経済的とはいえない。反応はヨウ
化メチルの有機溶媒溶液を反応生成物溶液に滴下するの
が好ましい。逆の滴下を行うと反応熱が増大し、O−メ
チル化誘導体の収率低下を招く恐れがある。
り、第一段反応で得られた反応生成物中のホウ素ナトリ
ウムカチオンとヨウ化メチル中のヨウ素が反応して、O
−メチル化誘導体を生成する。ヨウ化メチルは原料化合
物1モルに対して1.0〜1.1モルが好ましい。1.
0モル未満ではO−メチル化誘導体の収率低下を招き、
1.1モルを超えると経済的とはいえない。反応はヨウ
化メチルの有機溶媒溶液を反応生成物溶液に滴下するの
が好ましい。逆の滴下を行うと反応熱が増大し、O−メ
チル化誘導体の収率低下を招く恐れがある。
【0051】有機溶媒としては特に限定されるものでな
く、例えばジエチルエーテル、n−ヘキサン、トルエン
およびTHF等が挙げられ、特に好ましくはジエチルエ
ーテルである。有機溶媒の混合割合はヨウ化メチル1モ
ルに対して0.5〜2Lが好ましく、特に好ましくは1
〜1.5Lである。0.5L未満では反応熱の除去が困
難となり、エステル部分が切断し、O−メチル化誘導体
の収率低下を招く恐れがあり、2Lを超えると経済的と
はいえない。ヨウ化メチルの反応系への供給速度は原料
化合物1モルを基準として1〜2時間が好ましい。1時
間未満では反応温度の制御が困難となり、エステル部分
も切断され、O−メチル化誘導体の収率低下を招く恐れ
があり、2時間を超えると経済的とはいえない。
く、例えばジエチルエーテル、n−ヘキサン、トルエン
およびTHF等が挙げられ、特に好ましくはジエチルエ
ーテルである。有機溶媒の混合割合はヨウ化メチル1モ
ルに対して0.5〜2Lが好ましく、特に好ましくは1
〜1.5Lである。0.5L未満では反応熱の除去が困
難となり、エステル部分が切断し、O−メチル化誘導体
の収率低下を招く恐れがあり、2Lを超えると経済的と
はいえない。ヨウ化メチルの反応系への供給速度は原料
化合物1モルを基準として1〜2時間が好ましい。1時
間未満では反応温度の制御が困難となり、エステル部分
も切断され、O−メチル化誘導体の収率低下を招く恐れ
があり、2時間を超えると経済的とはいえない。
【0052】反応温度は−10〜10℃が好ましく、特
に好ましくは0℃付近である。−10℃未満では経済的
とはいえず、10℃を超えると反応温度の制御が困難と
なり、エステル部分が切断され、O−メチル化誘導体の
収率低下を招く恐れがある。ヨウ化メチルの有機溶媒溶
液の滴下完了後、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き
続き室温で2時間程度撹拌保持することにより反応を完
成させる。反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えて、中和した後、濃縮し、溶媒を留去した後、飽
和チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、
抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、濃縮し、シロップ状の残渣を得る。この残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明な
液状のO−メチル化誘導体を得ることが出来る。
に好ましくは0℃付近である。−10℃未満では経済的
とはいえず、10℃を超えると反応温度の制御が困難と
なり、エステル部分が切断され、O−メチル化誘導体の
収率低下を招く恐れがある。ヨウ化メチルの有機溶媒溶
液の滴下完了後、撹拌しながら、室温まで昇温し、引き
続き室温で2時間程度撹拌保持することにより反応を完
成させる。反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えて、中和した後、濃縮し、溶媒を留去した後、飽
和チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、
抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、濃縮し、シロップ状の残渣を得る。この残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色透明な
液状のO−メチル化誘導体を得ることが出来る。
【0053】(第三段反応)第三段反応を反応式で示す
と、式(13)
と、式(13)
【0054】
【化14】
【0055】[ただし、式中、mは式(1)と同じ]の
通りであり、溶媒中で、第二段反応で得たO−メチル化
誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下、水素で還元す
ることにより、脱トルエンし、syn体(2S,3R)
型3−メトキシアルカン誘導体およびanti体(2
S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体からなるジア
ステレオマー混合物(以下、ジアステレオマー混合物−
1という)を製造することが出来る。
通りであり、溶媒中で、第二段反応で得たO−メチル化
誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下、水素で還元す
ることにより、脱トルエンし、syn体(2S,3R)
型3−メトキシアルカン誘導体およびanti体(2
S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体からなるジア
ステレオマー混合物(以下、ジアステレオマー混合物−
1という)を製造することが出来る。
【0056】式(13)で示されるmは、式(1)、式
(2)に対応し、ジアステレオマー混合物−1の好適な
具体例を開示すると、syn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−6−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘキサンおよ
びanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−6−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘキサンからなり、その生成比率
syn体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)
型が既知であるジアステレオマー混合物、syn−(2
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンおよびanti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンから
なり、その生成比率syn体(2S,3R)型/ant
i体(2S,3S)型が既知であるジアステレオマー混
合物、syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−8−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロオクタンおよびanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−8−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロオクタンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型が既知であ
るジアステレオマー混合物、およびsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−9−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロノ
ナンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロノナンからなり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型が既知であるジアステレオマー混合物等が挙げ
られる。
(2)に対応し、ジアステレオマー混合物−1の好適な
具体例を開示すると、syn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−6−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘキサンおよ
びanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−6−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘキサンからなり、その生成比率
syn体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)
型が既知であるジアステレオマー混合物、syn−(2
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンおよびanti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンから
なり、その生成比率syn体(2S,3R)型/ant
i体(2S,3S)型が既知であるジアステレオマー混
合物、syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−8−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロオクタンおよびanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−8−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロオクタンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型が既知であ
るジアステレオマー混合物、およびsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−9−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロノ
ナンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ)−9−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロノナンからなり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型が既知であるジアステレオマー混合物等が挙げ
られる。
【0057】以下、ジアステレオマー混合物−1の製造
方法を詳細に述べる。溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、水、ジエチルエーテル、n−ヘキサン
およびTHF等が挙げられ、それらの中でも、特に好ま
しくはメタノールである。その使用量はO−メチル化誘
導体1グラムを基準として4〜26mlが好ましく、特
に好ましくは13〜17mlである。4ml未満では反
応系の粘度が増し、パラジウム/炭素触媒が均一に分散
されにくく、ジアステレオマー混合物−1の収率低下を
招く恐れがあり、26mlを超えると脱トルエン速度が
遅くなり、経済的とはいえない。パラジウム/炭素触媒
は、例えば、パラジウム含有量、1、3、5、10%の
各パラジウム/炭素触媒が挙げられ、それらの中でも、
パラジウム原子換算で安価であることから、10%パラ
ジウム/炭素触媒が好適である。パラジウム/炭素触媒
の反応系への供給割合はO−メチル化誘導体10gを基
準として、5〜35ミリグラム(パラジウム純度換算、
以下同じ)、好ましくは10〜30ミリグラムが特に好
ましい。5ミリグラム未満では還元能力が不足し、ジア
ステレオマー混合物−1の収率低下を招く恐れがあり、
また35ミリグラムを超えると経済的とはいえない。
方法を詳細に述べる。溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、水、ジエチルエーテル、n−ヘキサン
およびTHF等が挙げられ、それらの中でも、特に好ま
しくはメタノールである。その使用量はO−メチル化誘
導体1グラムを基準として4〜26mlが好ましく、特
に好ましくは13〜17mlである。4ml未満では反
応系の粘度が増し、パラジウム/炭素触媒が均一に分散
されにくく、ジアステレオマー混合物−1の収率低下を
招く恐れがあり、26mlを超えると脱トルエン速度が
遅くなり、経済的とはいえない。パラジウム/炭素触媒
は、例えば、パラジウム含有量、1、3、5、10%の
各パラジウム/炭素触媒が挙げられ、それらの中でも、
パラジウム原子換算で安価であることから、10%パラ
ジウム/炭素触媒が好適である。パラジウム/炭素触媒
の反応系への供給割合はO−メチル化誘導体10gを基
準として、5〜35ミリグラム(パラジウム純度換算、
以下同じ)、好ましくは10〜30ミリグラムが特に好
ましい。5ミリグラム未満では還元能力が不足し、ジア
ステレオマー混合物−1の収率低下を招く恐れがあり、
また35ミリグラムを超えると経済的とはいえない。
【0058】反応方法は、例えば密閉式の反応容器に、
O−メチル化誘導体と溶媒を加え、均一な溶液を調合
し、次いで、撹拌しながら、パラジウム/炭素触媒を入
れ、出来るだけ均一に分散された懸濁液を調合する。次
いで、1.05〜1.15気圧程度の水素ガスで反応系
をシールする。還元時間は水素ガスの吸収がなくなるま
で供給する。例えばO−メチル化誘導体10gを基準と
して、水素ガスを5〜7時間程度供給するのが好まし
い。5時間未満では還元が不足し、ジアステレオマー混
合物−1の収率低下を招き、7時間を超えると経済的と
はいえない。還元温度15〜30℃が好ましい。15℃
未満では還元速度が遅く、経済的とはいえず、30℃を
超えると水素ガスの使用量が多くなり、ジアステレオマ
ー混合物−1の収率低下を招く恐れがある。
O−メチル化誘導体と溶媒を加え、均一な溶液を調合
し、次いで、撹拌しながら、パラジウム/炭素触媒を入
れ、出来るだけ均一に分散された懸濁液を調合する。次
いで、1.05〜1.15気圧程度の水素ガスで反応系
をシールする。還元時間は水素ガスの吸収がなくなるま
で供給する。例えばO−メチル化誘導体10gを基準と
して、水素ガスを5〜7時間程度供給するのが好まし
い。5時間未満では還元が不足し、ジアステレオマー混
合物−1の収率低下を招き、7時間を超えると経済的と
はいえない。還元温度15〜30℃が好ましい。15℃
未満では還元速度が遅く、経済的とはいえず、30℃を
超えると水素ガスの使用量が多くなり、ジアステレオマ
ー混合物−1の収率低下を招く恐れがある。
【0059】反応終了後、例えば、濾過により、パラジ
ウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮し、次いで、
真空ポンプ等で生成した溶媒を除去し、シロップ状の残
渣を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー等で精製し、無色透明な液状の生成物であるジアス
テレオマー混合物−1を得る。この生成物の1HNMR
スペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペクト
ルおよびMSスペクトルを測定した結果、生成物は2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンである
ことが確認される。また生成物を光学活性液体クロマト
グラフィーにかけると2本の光学活性ピークが認められ
る。また後述の同定例2および同定例4より、ジアステ
レオマー混合物−1はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンおよび
anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
70〜40/30〜60(面積比)であるジアステレオ
マー混合物であることは、以下により確認済みである。
ウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮し、次いで、
真空ポンプ等で生成した溶媒を除去し、シロップ状の残
渣を得る。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー等で精製し、無色透明な液状の生成物であるジアス
テレオマー混合物−1を得る。この生成物の1HNMR
スペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペクト
ルおよびMSスペクトルを測定した結果、生成物は2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンである
ことが確認される。また生成物を光学活性液体クロマト
グラフィーにかけると2本の光学活性ピークが認められ
る。また後述の同定例2および同定例4より、ジアステ
レオマー混合物−1はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンおよび
anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
70〜40/30〜60(面積比)であるジアステレオ
マー混合物であることは、以下により確認済みである。
【0060】[ジアステレオマー混合物−1はsyn−
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンお
よびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカンからなるジアステレオマー混合物である
ことを確認]第一段反応の反応生成物は後述の同定例1
および同定例3より明らかなように、syn体(2S,
3R)型/anti体(2S,3S)型=70〜40/
30〜60(面積比)からなるジアステレオマー混合物
であることはすでに確認済みである。
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンお
よびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカンからなるジアステレオマー混合物である
ことを確認]第一段反応の反応生成物は後述の同定例1
および同定例3より明らかなように、syn体(2S,
3R)型/anti体(2S,3S)型=70〜40/
30〜60(面積比)からなるジアステレオマー混合物
であることはすでに確認済みである。
【0061】また第二段反応において、上述の反応生成
物とヨウ化メチルを反応させて得られるO−メチル化誘
導体の19FNMRスペクトルを測定すると、2本のピー
クが得られ、その第1ピークは第一段反応の反応生成物
を加水分解して、得られる生成物−1の19FNMRスペ
クトルの第1ピークであるsyn−(2S,3R)−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカン−2、
3−ジオールの面積比と一致したことにより、O−メチ
ル化誘導体の19FNMRスペクトルの第1ピークはsy
n体(2S,3R)型であり、他方O−メチル化誘導体
の19FNMRスペクトルの第2ピークと生成物−1の19
FNMRスペクトルの第2ピークであるanti−(2
S,3S)−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシア
ルカン−2、3−ジオールの面積比と一致したことによ
り、O−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの第2
ピークはanti体(2S,3S)型であることが判明
する。
物とヨウ化メチルを反応させて得られるO−メチル化誘
導体の19FNMRスペクトルを測定すると、2本のピー
クが得られ、その第1ピークは第一段反応の反応生成物
を加水分解して、得られる生成物−1の19FNMRスペ
クトルの第1ピークであるsyn−(2S,3R)−
1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカン−2、
3−ジオールの面積比と一致したことにより、O−メチ
ル化誘導体の19FNMRスペクトルの第1ピークはsy
n体(2S,3R)型であり、他方O−メチル化誘導体
の19FNMRスペクトルの第2ピークと生成物−1の19
FNMRスペクトルの第2ピークであるanti−(2
S,3S)−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシア
ルカン−2、3−ジオールの面積比と一致したことによ
り、O−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの第2
ピークはanti体(2S,3S)型であることが判明
する。
【0062】また、第三段反応において、O−メチル化
誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下で、水素ガスで
脱トルエンしたジアステレオマー混合物−1は2位と3
位の不斉炭素原子には無関係であることから、2位と3
位の不斉中心は変化しないことより、syn体(2S,
3R)型/anti体(2S,3S)型からなるジアス
テレオマー混合物であることが予測される。
誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下で、水素ガスで
脱トルエンしたジアステレオマー混合物−1は2位と3
位の不斉炭素原子には無関係であることから、2位と3
位の不斉中心は変化しないことより、syn体(2S,
3R)型/anti体(2S,3S)型からなるジアス
テレオマー混合物であることが予測される。
【0063】また、第三段反応で得られるジアステレオ
マー混合物−1は光学活性液体クロマトグラフィーにか
けると、2本の光学活性ピークが得られ、その第1ピー
クはO−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの第1
ピークであるsyn体(2S,3R)型と面積比が一致
することより、ジアステレオマー混合物−1の光学活性
液体クロマトグラフィーの第1ピークはsyn体(2
S,3R)型であり、光学活性液体クロマトグラフィー
の第2ピークはO−メチル化誘導体の19FNMRスペク
トルの第2ピークであるanti体(2S,3S)型と
面積比が一致することより、ジアステレオマー混合物−
1の光学活性液体クロマトグラフィーの第2ピークはa
nti体(2S,3S)型であることが確認される。さ
らにジアステレオマー混合物−1の19FNMRスペクト
ルは2本のピークが認められ、その第1ピークはジアス
テレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第1ピークであるsyn体(2S,3R)型と一致
することによりジアステレオマー混合物−1の19FNM
Rスペクトルの第1ピークはSyn体(2S,3R)型
であり、他方第2ピークは光学活性液体クロマトグラフ
ィーの第2ピークであるanti体(2S,3S)型と
一致することにより、anti体(2S,3S)型であ
ることが確認される。
マー混合物−1は光学活性液体クロマトグラフィーにか
けると、2本の光学活性ピークが得られ、その第1ピー
クはO−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの第1
ピークであるsyn体(2S,3R)型と面積比が一致
することより、ジアステレオマー混合物−1の光学活性
液体クロマトグラフィーの第1ピークはsyn体(2
S,3R)型であり、光学活性液体クロマトグラフィー
の第2ピークはO−メチル化誘導体の19FNMRスペク
トルの第2ピークであるanti体(2S,3S)型と
面積比が一致することより、ジアステレオマー混合物−
1の光学活性液体クロマトグラフィーの第2ピークはa
nti体(2S,3S)型であることが確認される。さ
らにジアステレオマー混合物−1の19FNMRスペクト
ルは2本のピークが認められ、その第1ピークはジアス
テレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第1ピークであるsyn体(2S,3R)型と一致
することによりジアステレオマー混合物−1の19FNM
Rスペクトルの第1ピークはSyn体(2S,3R)型
であり、他方第2ピークは光学活性液体クロマトグラフ
ィーの第2ピークであるanti体(2S,3S)型と
一致することにより、anti体(2S,3S)型であ
ることが確認される。
【0064】以上の結果より、ジアステレオマー混合物
−1はsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロ末端エトキシアルカンおよびanti−(2
S,3S)−2−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−3−メトキシ−1、1、1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70〜4
0/30〜60(面積比)であるジアステレオマー混合
物であることが確認される。
−1はsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロ末端エトキシアルカンおよびanti−(2
S,3S)−2−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−3−メトキシ−1、1、1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70〜4
0/30〜60(面積比)であるジアステレオマー混合
物であることが確認される。
【0065】(第四段工程)第四段工程を工程式で示す
と、式(14)
と、式(14)
【0066】
【化15】
【0067】[ただし、式中、mは式(1)と同じ]の
通りであり、第三段反応で得られたジアステレオマー混
合物−1を分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィー
で分取することにより、syn体(2S,3R)型3−
メトキシアルカン誘導体である本発明化合物およびan
ti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体で
ある本発明化合物を取得することが出来る。すなわち第
三段反応で得られたジアステレオマー混合物−1を分取
用シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけることに
より、2つのピークが確認され、第1ピークおよび第2
ピークを分取し、溶媒を留去することにより、無色透明
な液状の各目的生成物である第1フラクションおよび第
2フラクションを得ることが出来る。
通りであり、第三段反応で得られたジアステレオマー混
合物−1を分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィー
で分取することにより、syn体(2S,3R)型3−
メトキシアルカン誘導体である本発明化合物およびan
ti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体で
ある本発明化合物を取得することが出来る。すなわち第
三段反応で得られたジアステレオマー混合物−1を分取
用シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけることに
より、2つのピークが確認され、第1ピークおよび第2
ピークを分取し、溶媒を留去することにより、無色透明
な液状の各目的生成物である第1フラクションおよび第
2フラクションを得ることが出来る。
【0068】各目的生成物より、第1フラクションの取
得比率は第三段反応の19FNMRスペクトルの第1ピー
クの面積比と一致することにより、第1フラクションは
syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロ末端エトキシアルカンであることが確認される。また
光学活性液体クロマトグラフィー分析を行うと1本の光
学活性ピークが得られ、その保持時間からSyn体(2
S,3R)型本発明化合物であることが確認出来る。
得比率は第三段反応の19FNMRスペクトルの第1ピー
クの面積比と一致することにより、第1フラクションは
syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロ末端エトキシアルカンであることが確認される。また
光学活性液体クロマトグラフィー分析を行うと1本の光
学活性ピークが得られ、その保持時間からSyn体(2
S,3R)型本発明化合物であることが確認出来る。
【0069】また、第2フラクションの取得比率は第三
段反応の19FNMRスペクトルの第2ピークの面積比と
一致することにより、第2フランクションはanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカンであることが確認される。また光学活性
液体クロマトグラフィー分析を行うと1本の光学活性ピ
ークが得られ、その保持時間からanti体(2S,3
S)型本発明化合物であることが確認出来る。
段反応の19FNMRスペクトルの第2ピークの面積比と
一致することにより、第2フランクションはanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカンであることが確認される。また光学活性
液体クロマトグラフィー分析を行うと1本の光学活性ピ
ークが得られ、その保持時間からanti体(2S,3
S)型本発明化合物であることが確認出来る。
【0070】本発明化合物は、例えば、以下の式(1
5)
5)
【0071】
【化16】
【0072】(式中、Rは炭素数6〜14の直鎖状アル
キル基を表わし、mは式(1)と同じである。)で示さ
れるsyn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −
アルキルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキ
シ}−末端エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロアルカン、または以下の式(16)
キル基を表わし、mは式(1)と同じである。)で示さ
れるsyn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −
アルキルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキ
シ}−末端エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロアルカン、または以下の式(16)
【0073】
【化17】
【0074】(式中、Rは炭素数6〜14の直鎖状アル
キル基を表わし、mは式(1)と同じである。)で示さ
れるanti−(2S,3S)−2−{4−[4−(4
−アルキルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオ
キシ}−末端エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−ト
リフルオロアルカンの製造中間体として有用である。以
下、式(15)の化合物を例に取って最終有用化合物の
製法を説明するが、式(16)の化合物も本発明化合物
のanti−(2S,3S)体から同様にして製造する
ことが出来る。式(15)の化合物は以下の反応式(1
7)によって得ることが出来る。
キル基を表わし、mは式(1)と同じである。)で示さ
れるanti−(2S,3S)−2−{4−[4−(4
−アルキルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオ
キシ}−末端エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−ト
リフルオロアルカンの製造中間体として有用である。以
下、式(15)の化合物を例に取って最終有用化合物の
製法を説明するが、式(16)の化合物も本発明化合物
のanti−(2S,3S)体から同様にして製造する
ことが出来る。式(15)の化合物は以下の反応式(1
7)によって得ることが出来る。
【0075】
【化18】
【0076】すなわち、式(15)で表わされるsyn
−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −アルキルフ
ェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−末端
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロア
ルカンは、有機溶媒中で、本発明化合物syn−(2
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−末端エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロアルカンと、4−(4−n−アルキルフェニル)安
息香酸とを、脱水縮合剤としてジシクロヘキシルカルボ
ジイミド等を用い、触媒としてN,N−ジメチル−4−
アミノピリジン等の有機塩基を用いて、反応させること
により、容易に製造することが出来る。有機溶媒は塩化
メチレンまたはクロロホルム等塩素系溶媒が好ましい。
有機溶媒の使用量は出発本発明化合物1モルを基準とし
て20〜40リットルが好ましい。20リットル未満の
場合には4−(4−n−アルキルフェニル)安息香酸が
溶解しにくい場合があり、収率低下を招く恐れがあり、
40リットルを超えると経済的とはいえない。出発本発
明化合物と4−(4−n−アルキルフェニル)安息香酸
との供給割合は出発本発明化合物1モルを基準として
1.1〜1.3モルが好ましい。1.1モル未満の場合
には収率低下を招く恐れがあり、1.3モルを超えると
経済的とはいえない。
−(2S,3R)−2−{4−[4−(4 −アルキルフ
ェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−末端
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロア
ルカンは、有機溶媒中で、本発明化合物syn−(2
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−末端エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロアルカンと、4−(4−n−アルキルフェニル)安
息香酸とを、脱水縮合剤としてジシクロヘキシルカルボ
ジイミド等を用い、触媒としてN,N−ジメチル−4−
アミノピリジン等の有機塩基を用いて、反応させること
により、容易に製造することが出来る。有機溶媒は塩化
メチレンまたはクロロホルム等塩素系溶媒が好ましい。
有機溶媒の使用量は出発本発明化合物1モルを基準とし
て20〜40リットルが好ましい。20リットル未満の
場合には4−(4−n−アルキルフェニル)安息香酸が
溶解しにくい場合があり、収率低下を招く恐れがあり、
40リットルを超えると経済的とはいえない。出発本発
明化合物と4−(4−n−アルキルフェニル)安息香酸
との供給割合は出発本発明化合物1モルを基準として
1.1〜1.3モルが好ましい。1.1モル未満の場合
には収率低下を招く恐れがあり、1.3モルを超えると
経済的とはいえない。
【0077】出発本発明化合物とN,N−ジメチルアミ
ノピリジンとの混合割合は出発本発明化合物1モルを基
準として、0.4〜0.8モルが好ましい。0.4モル
未満では脱水時間が長くなり、収率低下を招く恐れがあ
り、0.8モルを超えると経済的とはいえない。出発本
発明化合物と4−(4−n−アルキルフェニル)安息香
酸およびN,N,−ジメチルアミノピリジンに塩化メチ
レンを加えて、室温で撹拌しながら、均一な溶液を調合
する。次いで、ジシクロヘキシルカルボジイミドを上述
の溶液へ加えて、撹拌しながら均一な溶液とする。ジシ
クロヘキシルカルボジイミドの上述の溶液への供給量は
出発本発明化合物1モルを基準として、1.3〜1.7
モルが好ましい。1.3モル未満では脱水縮合反応が不
十分となり、収率低下を招く恐れがあり、1.7モルを
超えると経済的ではない。ジシクロヘキシルカルボジイ
シドの供給完了後、撹拌しながら、室温で反応させる。
その反応時間は出発本発明化合物1モルに対して、25
〜35時間が好ましい。25時間未満では収率低下を招
く恐れがあり、35時間を超えると経済的とはいえな
い。反応温度は室温が好ましい。
ノピリジンとの混合割合は出発本発明化合物1モルを基
準として、0.4〜0.8モルが好ましい。0.4モル
未満では脱水時間が長くなり、収率低下を招く恐れがあ
り、0.8モルを超えると経済的とはいえない。出発本
発明化合物と4−(4−n−アルキルフェニル)安息香
酸およびN,N,−ジメチルアミノピリジンに塩化メチ
レンを加えて、室温で撹拌しながら、均一な溶液を調合
する。次いで、ジシクロヘキシルカルボジイミドを上述
の溶液へ加えて、撹拌しながら均一な溶液とする。ジシ
クロヘキシルカルボジイミドの上述の溶液への供給量は
出発本発明化合物1モルを基準として、1.3〜1.7
モルが好ましい。1.3モル未満では脱水縮合反応が不
十分となり、収率低下を招く恐れがあり、1.7モルを
超えると経済的ではない。ジシクロヘキシルカルボジイ
シドの供給完了後、撹拌しながら、室温で反応させる。
その反応時間は出発本発明化合物1モルに対して、25
〜35時間が好ましい。25時間未満では収率低下を招
く恐れがあり、35時間を超えると経済的とはいえな
い。反応温度は室温が好ましい。
【0078】反応完了後、析出したジシクロヘキシル尿
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸で洗
浄した後、10 %炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した
後、水洗し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去
した後、減圧留去して溶媒を除去し、シロップ状の残渣
を得る。得られた残渣を熱n−ヘキサンで溶解した後、
冷却晶析して、白色の粗結晶を得る。次いで得られた粗
結晶を液体クロマトグラフィーで精製し、無色透明な液
状の最終有用化合物としてのsyn−(2S,3R)−
2−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイル
オキシ]ベンゾイルオキシ}−末端エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロアルカンを得る。
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸で洗
浄した後、10 %炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した
後、水洗し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去
した後、減圧留去して溶媒を除去し、シロップ状の残渣
を得る。得られた残渣を熱n−ヘキサンで溶解した後、
冷却晶析して、白色の粗結晶を得る。次いで得られた粗
結晶を液体クロマトグラフィーで精製し、無色透明な液
状の最終有用化合物としてのsyn−(2S,3R)−
2−{4−[4−(4 −アルキルフェニル)ベンゾイル
オキシ]ベンゾイルオキシ}−末端エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロアルカンを得る。
【0079】また、この反応は出発本発明化合物の2個
の不斉炭素原子の立体配置には無関係であることより、
光学活性な不斉中心は変化せず、syn体(2S,3
R)型である。さらに、後述の参考例5の同定例でも、
最終有用化合物がsyn体(2S,3R)型であること
は確認済みである。
の不斉炭素原子の立体配置には無関係であることより、
光学活性な不斉中心は変化せず、syn体(2S,3
R)型である。さらに、後述の参考例5の同定例でも、
最終有用化合物がsyn体(2S,3R)型であること
は確認済みである。
【0080】上記で得られる、式(15)または式(1
6)で表わされる最終有用化合物は、優れた性質を有す
る[例えば、式(15)中、m=4、R=n−デシルで
ある化合物は高速応答性および広視野角を有し、3安定
状態を有するカイラルスメクチックCA相を示す]反強
誘電性液晶化合物であり、液晶表示素子として用いるこ
とが出来る。最終有用化合物の製造例および反強誘電性
液晶化合物としての有用性を示す試験例を後記参考例に
示す。
6)で表わされる最終有用化合物は、優れた性質を有す
る[例えば、式(15)中、m=4、R=n−デシルで
ある化合物は高速応答性および広視野角を有し、3安定
状態を有するカイラルスメクチックCA相を示す]反強
誘電性液晶化合物であり、液晶表示素子として用いるこ
とが出来る。最終有用化合物の製造例および反強誘電性
液晶化合物としての有用性を示す試験例を後記参考例に
示す。
【0081】
【実施例】以下、参考例および実施例に基づいて、本発
明を具体的に説明する。参考例1〜4は本発明化合物の
原料として用いられる化合物の製造例、実施例1および
2は本発明化合物の製造例、参考例5は本発明化合物を
原料とする最終有用化合物の製造例、参考例6は最終有
用化合物の有用性を示す試験例である。
明を具体的に説明する。参考例1〜4は本発明化合物の
原料として用いられる化合物の製造例、実施例1および
2は本発明化合物の製造例、参考例5は本発明化合物を
原料とする最終有用化合物の製造例、参考例6は最終有
用化合物の有用性を示す試験例である。
【0082】参考例1[出発原料化合物:(S)−N−
(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオ
ニル)ピロリジンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器を備えた三ツ口丸底フラス
コに(S)−トリフルオロ乳酸25.8g(179ミリ
モル)、メタノール520mlおよび濃硫酸270ml
を入れ、撹拌しながら加熱還流した。還流中、19FNM
Rスペクトルで乳酸ピークを追跡しながら、12時間還
流した結果、反応液中の乳酸がなくなったことが確認さ
れ加熱還流を停止し、撹拌しながら室温まで冷却した。
次いで、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH
8〜9に調整した後、エーテルで抽出し、抽出液を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、抽出液を減圧濃縮し、残ったシロップ状の残渣を減
圧蒸留し、無色透明な液状の生成物[収量26.9g
(170ミリモル)収率95%]を得た。
(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオ
ニル)ピロリジンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器を備えた三ツ口丸底フラス
コに(S)−トリフルオロ乳酸25.8g(179ミリ
モル)、メタノール520mlおよび濃硫酸270ml
を入れ、撹拌しながら加熱還流した。還流中、19FNM
Rスペクトルで乳酸ピークを追跡しながら、12時間還
流した結果、反応液中の乳酸がなくなったことが確認さ
れ加熱還流を停止し、撹拌しながら室温まで冷却した。
次いで、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH
8〜9に調整した後、エーテルで抽出し、抽出液を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、抽出液を減圧濃縮し、残ったシロップ状の残渣を減
圧蒸留し、無色透明な液状の生成物[収量26.9g
(170ミリモル)収率95%]を得た。
【0083】この生成物の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した。またこの生成物の2位の炭素原子の
立体配置には無関係であり、光学的反転は起こらないこ
とより、この生成物は(S)−2−ヒドロキシ−3,
3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステルであ
ることが確認された。
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した。またこの生成物の2位の炭素原子の
立体配置には無関係であり、光学的反転は起こらないこ
とより、この生成物は(S)−2−ヒドロキシ−3,
3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステルであ
ることが確認された。
【0084】次いで、温度計、撹拌機、滴下ロートのつ
いたクライゼンフラスコの枝管にリービッヒコンデンサ
ーを取り付け、その出口にメチルアルコール回収ビンを
取り付け、その出口がアスピレーターにつながっている
装置を用い、上述で得られた(S)−2−ヒドロキシ−
3,3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
26.1g(165ミリモル)とピロリジン12.8g
(180ミリモル)および濃硫酸0.7ミリモルを入
れ、200mmHg×60℃で反応させ、発生したメチ
ルアルコール蒸気を連続的にリービッヒコンデンサーに
送り、メチルアルコールを回収した。メチルアルコール
蒸気の発生がなくなったことを確認し、加熱を停止し、
室温まで放冷した後、常圧に戻して、反応を完了した。
次いで生成した淡褐色の固体を取り出し、水で洗浄した
後、熱n−ヘキサンを加えて、溶解した後、冷却晶析し
て、白色針状結晶である生成物[収量27.6g(14
0ミリモル)収率85%]を得た。
いたクライゼンフラスコの枝管にリービッヒコンデンサ
ーを取り付け、その出口にメチルアルコール回収ビンを
取り付け、その出口がアスピレーターにつながっている
装置を用い、上述で得られた(S)−2−ヒドロキシ−
3,3,3−トリフルオロプロピオン酸メチルエステル
26.1g(165ミリモル)とピロリジン12.8g
(180ミリモル)および濃硫酸0.7ミリモルを入
れ、200mmHg×60℃で反応させ、発生したメチ
ルアルコール蒸気を連続的にリービッヒコンデンサーに
送り、メチルアルコールを回収した。メチルアルコール
蒸気の発生がなくなったことを確認し、加熱を停止し、
室温まで放冷した後、常圧に戻して、反応を完了した。
次いで生成した淡褐色の固体を取り出し、水で洗浄した
後、熱n−ヘキサンを加えて、溶解した後、冷却晶析し
て、白色針状結晶である生成物[収量27.6g(14
0ミリモル)収率85%]を得た。
【0085】この生成物の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生
成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学
的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl2) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3.21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm-1(CO)、3,330cm-1(OH) MSスペクトル m/z 197(M+)
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの生
成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光学
的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl2) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3.21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm-1(CO)、3,330cm-1(OH) MSスペクトル m/z 197(M+)
【0086】参考例2(グリニャール試薬:4−エトキ
シブチルマグネシウムブロミドの製造) 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコにテトラヒドロフラン40.0g(55
6ミリモル)、エチルアルコール28.2g(612ミ
リモル)およびパラトルエンスルホン酸1水塩5.2g
(29ミリモル)を入れ、温水バスに浸漬した。次いで
80℃×6時間還流した後、減圧濃縮し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣に水620mlを加えた後、エー
テル抽出し、抽出後に無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の
4−エトキシブタノール[収量59.0g(500ミリ
モル)収率90%]を得た。
シブチルマグネシウムブロミドの製造) 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコにテトラヒドロフラン40.0g(55
6ミリモル)、エチルアルコール28.2g(612ミ
リモル)およびパラトルエンスルホン酸1水塩5.2g
(29ミリモル)を入れ、温水バスに浸漬した。次いで
80℃×6時間還流した後、減圧濃縮し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣に水620mlを加えた後、エー
テル抽出し、抽出後に無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の
4−エトキシブタノール[収量59.0g(500ミリ
モル)収率90%]を得た。
【0087】次いで温度計、撹拌機、滴下ロートを備え
た三ツ口フラスコに、上述で得た4−エトキシブタノー
ル57.2g(485ミリモル)と塩化メチレン1,4
50Lを入れ、氷水バスに浸漬し、0℃に調整した。次
いで、滴下ロートにトリフエニルホスフィン126.6
g(485ミリモル)と塩化メチレン485Lを入れ、
完全に均一な溶液を調合した。次いで、臭素77.6g
(485ミリモル)と塩化メチレン240mlを混合し
た溶液を上記滴下ロートに加えた。滴下ロートより混合
液を撹拌しながら、68分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き1時間撹拌保持して反応を完結させた。次
いで、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温まで昇温
し、引き続き1時間撹拌保持し、トリフェニルホスフィ
ンオキシドの微結晶を生成させた。次いで減圧濃縮し、
塩化メチレンと臭化水素を除去し、スラッジを得た。次
いで、熱n−ヘキサン3,850mlを加えて溶解した
後、冷却晶析し、白色針状結晶である大部分のトリフェ
ニルホスフィンオキシドを濾過により除去し、濾液を濃
縮しシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液n−ヘキサン)で精製
し、無色透明な液状の4−エトキシブチルブロミド[収
量70.2g(388ミリモル)収率80%]を得た。
た三ツ口フラスコに、上述で得た4−エトキシブタノー
ル57.2g(485ミリモル)と塩化メチレン1,4
50Lを入れ、氷水バスに浸漬し、0℃に調整した。次
いで、滴下ロートにトリフエニルホスフィン126.6
g(485ミリモル)と塩化メチレン485Lを入れ、
完全に均一な溶液を調合した。次いで、臭素77.6g
(485ミリモル)と塩化メチレン240mlを混合し
た溶液を上記滴下ロートに加えた。滴下ロートより混合
液を撹拌しながら、68分間かけて滴下し、滴下完了
後、引き続き1時間撹拌保持して反応を完結させた。次
いで、氷水バスを取り去り、撹拌しながら室温まで昇温
し、引き続き1時間撹拌保持し、トリフェニルホスフィ
ンオキシドの微結晶を生成させた。次いで減圧濃縮し、
塩化メチレンと臭化水素を除去し、スラッジを得た。次
いで、熱n−ヘキサン3,850mlを加えて溶解した
後、冷却晶析し、白色針状結晶である大部分のトリフェ
ニルホスフィンオキシドを濾過により除去し、濾液を濃
縮しシロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液n−ヘキサン)で精製
し、無色透明な液状の4−エトキシブチルブロミド[収
量70.2g(388ミリモル)収率80%]を得た。
【0088】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器、滴
下ロートおよび窒素挿入コックを備えた窒素置換したフ
ラスコに、金属マグネシウム10.9g(456ミリモ
ル)と乾燥ジエチルエーテル76mlを入れ、次いでヨ
ウ素0.1g(0.38ミリモル)を入れた。混合液の
赤褐色が消失するまで撹拌した。次いで上述で得られた
4−エトキシブチルブロミド6.9g(38ミリモル)
を加え、還流するまで撹拌した。還流が生じたら、4−
エトキシブチルブロミド61.9g(342ミリモル)
と乾燥ジエチルエーテル190mlを滴下ロートに入
れ、還流が持続するように滴下し、滴下完了後、1時間
還流し、反応を完結させた。次いで、フラスコより注射
器で反応液を取り出し、残りの未反応金属マグネシウム
の固体を乾燥エーテル114mlで洗浄した洗浄液を反
応液に戻し、濃度0.8モル/リットルの4−エトキシ
ブチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液3
80ml[4−エトキシブチルマグネシウムブロミド
[収量62.3g(304ミリモル)収率80%]であ
るグリニャール試薬を得た。
下ロートおよび窒素挿入コックを備えた窒素置換したフ
ラスコに、金属マグネシウム10.9g(456ミリモ
ル)と乾燥ジエチルエーテル76mlを入れ、次いでヨ
ウ素0.1g(0.38ミリモル)を入れた。混合液の
赤褐色が消失するまで撹拌した。次いで上述で得られた
4−エトキシブチルブロミド6.9g(38ミリモル)
を加え、還流するまで撹拌した。還流が生じたら、4−
エトキシブチルブロミド61.9g(342ミリモル)
と乾燥ジエチルエーテル190mlを滴下ロートに入
れ、還流が持続するように滴下し、滴下完了後、1時間
還流し、反応を完結させた。次いで、フラスコより注射
器で反応液を取り出し、残りの未反応金属マグネシウム
の固体を乾燥エーテル114mlで洗浄した洗浄液を反
応液に戻し、濃度0.8モル/リットルの4−エトキシ
ブチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液3
80ml[4−エトキシブチルマグネシウムブロミド
[収量62.3g(304ミリモル)収率80%]であ
るグリニャール試薬を得た。
【0089】参考例3[(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例2で得られる0.8モル
/lのグリニャール試薬371ml[4−エトキシブチ
ルマグネシウムブロミド60.9g(297ミリモ
ル)、残りジエチルエーテル]を入れ、氷水バスに浸漬
し、0℃に調整した。滴下ロートに参考例1で得られる
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジン26.6g(135ミリ
モル)にジエチルエーテル200mlを加えて溶解した
溶液を入れ、撹拌しながら、60分間かけて滴下し、滴
下完了後、引き続き、2時間撹拌保持して反応を完結さ
せ、反応生成物溶液を得た。次いで氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで昇温した。次いで、滴下ロ
ートに3規定塩酸160mlを入れ、撹拌しながら、2
3分間かけて滴下した。3規定塩酸の滴下完了後、引き
続き20分間撹拌保持することにより、加水分解反応を
完結させた。
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンの製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例2で得られる0.8モル
/lのグリニャール試薬371ml[4−エトキシブチ
ルマグネシウムブロミド60.9g(297ミリモ
ル)、残りジエチルエーテル]を入れ、氷水バスに浸漬
し、0℃に調整した。滴下ロートに参考例1で得られる
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジン26.6g(135ミリ
モル)にジエチルエーテル200mlを加えて溶解した
溶液を入れ、撹拌しながら、60分間かけて滴下し、滴
下完了後、引き続き、2時間撹拌保持して反応を完結さ
せ、反応生成物溶液を得た。次いで氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで昇温した。次いで、滴下ロ
ートに3規定塩酸160mlを入れ、撹拌しながら、2
3分間かけて滴下した。3規定塩酸の滴下完了後、引き
続き20分間撹拌保持することにより、加水分解反応を
完結させた。
【0090】加水分解反応終了後、20 %炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH8に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール
=9/1(容量比)]で精製し、無色透明な液状の生成
物[収量18.5g(81ミリモル)収率60%]を得
た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMRス
ペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペクトルを
測定した結果は次の通りであり、1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお、後述の同定例1より
生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフ
ルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであることが
確認された。
リウム水溶液でpH8に調整した後、エーテル抽出し、
抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加え
て水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の
残渣を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール
=9/1(容量比)]で精製し、無色透明な液状の生成
物[収量18.5g(81ミリモル)収率60%]を得
た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMRス
ペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペクトルを
測定した結果は次の通りであり、1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお、後述の同定例1より
生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフ
ルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであることが
確認された。
【0091】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.94〜1.08ppm(3H)、1.18〜1.4
8ppm(6H)、2.61〜2.80ppm(2
H)、3.20〜3.35ppm(2H)、3.46〜
3.78ppm(1H)、4.21〜4.31ppm
(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.66ppm 1R吸収スペクトル 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(C
O)、3,280cm-1(OH) MSスペクトル m/z 228(M+) また、1HNMRスペクトル図を図1に示した。
8ppm(6H)、2.61〜2.80ppm(2
H)、3.20〜3.35ppm(2H)、3.46〜
3.78ppm(1H)、4.21〜4.31ppm
(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.66ppm 1R吸収スペクトル 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(C
O)、3,280cm-1(OH) MSスペクトル m/z 228(M+) また、1HNMRスペクトル図を図1に示した。
【0092】(同定例1)[生成物が(S)−1−ヒド
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンであることの同定] (S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンの替りに、N−(2−ヒ
ドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオニル)ピ
ロリジンを用い、上述の実験の1/10スケールにし
て、上述と同様な処理を行い、無色透明な液状の生成物
−1[収量1.85g(8.1ミリモル)収率60%]
を得た。この生成物−1の各種スペクトルを測定した結
果は上と同様であり、1−ヒドロキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであっ
た。
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンであることの同定] (S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンの替りに、N−(2−ヒ
ドロキシ−3,3,3−トリフルオロプロピオニル)ピ
ロリジンを用い、上述の実験の1/10スケールにし
て、上述と同様な処理を行い、無色透明な液状の生成物
−1[収量1.85g(8.1ミリモル)収率60%]
を得た。この生成物−1の各種スペクトルを測定した結
果は上と同様であり、1−ヒドロキシ−2,2,2−ト
リフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンであっ
た。
【0093】この生成物−1を次の条件で、光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー(以下、
光学活性ガスクロマトグラフィーという。)にかけた。 カラム :商品名 CHIRALDEX,B−TA(ASTEC社製) 内径0.25mm、長さ10m、シリカキャピラリーカラ ム カラム温度 :100℃×10分保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 70Nl/min、スプリット比 100/1 検出 :FID 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図2の通
りであり、図2の解析結果より、2本の光学活性ピーク
が得られ、それらのピークの保持時間と面積比を求める
と次の通り 第1ピーク:保持時間34.67分、面積比1 (S)体 ☆1 第2ピーク:保持時間37.67分、面積比1 (R)体 ☆1 (☆1 本同定例で確認) したがって、生成物−1は1−ヒドロキシ−2,2,2
−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの鏡
像異性体混合物であった。
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー(以下、
光学活性ガスクロマトグラフィーという。)にかけた。 カラム :商品名 CHIRALDEX,B−TA(ASTEC社製) 内径0.25mm、長さ10m、シリカキャピラリーカラ ム カラム温度 :100℃×10分保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 70Nl/min、スプリット比 100/1 検出 :FID 光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図2の通
りであり、図2の解析結果より、2本の光学活性ピーク
が得られ、それらのピークの保持時間と面積比を求める
と次の通り 第1ピーク:保持時間34.67分、面積比1 (S)体 ☆1 第2ピーク:保持時間37.67分、面積比1 (R)体 ☆1 (☆1 本同定例で確認) したがって、生成物−1は1−ヒドロキシ−2,2,2
−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの鏡
像異性体混合物であった。
【0094】次いで、上述で得た生成物を上と同様な条
件で、光学活性ガスクロマトグラフィーにかけた。光学
活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図3の通りで
あり、図3より1本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間は34.67分であった。出発原料化合物である
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンのN−ピロリジニル基を
グリニャール試薬中の4−エトキシブチル基に置換する
ことにより、生成物が得られる。したがって2位の不斉
炭素原子の立体配置には無関係であり、反応前後では光
学的反転が起こらないことより、(S)配置であること
が確認された。よって、生成物の光学活性ガスクロマト
グラフィーの保持時間34.67分は(S)体であるこ
とが判明し、生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお生成物−1の光学活性
ガスクロマトグラフィーの第2ピークの保持時間37.
67分は(R)体であることが判明した。
件で、光学活性ガスクロマトグラフィーにかけた。光学
活性ガスクロマトグラフィーのチャートは図3の通りで
あり、図3より1本の光学活性ピークが得られ、その保
持時間は34.67分であった。出発原料化合物である
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリフル
オロプロピオニル)ピロリジンのN−ピロリジニル基を
グリニャール試薬中の4−エトキシブチル基に置換する
ことにより、生成物が得られる。したがって2位の不斉
炭素原子の立体配置には無関係であり、反応前後では光
学的反転が起こらないことより、(S)配置であること
が確認された。よって、生成物の光学活性ガスクロマト
グラフィーの保持時間34.67分は(S)体であるこ
とが判明し、生成物は(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが確認された。なお生成物−1の光学活性
ガスクロマトグラフィーの第2ピークの保持時間37.
67分は(R)体であることが判明した。
【0095】参考例4[原料化合物:(S)−2−(4
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコにn−ヘキサンで洗浄、精製、乾燥
した水素化ナトリウム1.99g(83ミリモル)とジ
エチルエーテル23mlを入れ、氷水バスに挿入し、撹
拌しながら、0℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロ
ートに参考例3で得られる(S)−1−ヒドロキシ−
2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチル
ケトン17.0g(75ミリモル)とジエチルエーテル
202mlを入れ、均一な溶液とし、撹拌しながら、1
7分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、25℃まで昇温し、引き続き60分
間撹拌保持して、反応を完結させた。次いで、上述のフ
ラスコを、再度氷水バスに挿入し、0℃に調整した。別
途滴下ロートに4−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
22.2g(90ミリモル)とジエチルエーテル108
mlを入れ、撹拌しながら、33分間かけて滴下した。
滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、25
℃まで昇温し、引き続き150分間撹拌保持して、反応
を完結させた。
−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコにn−ヘキサンで洗浄、精製、乾燥
した水素化ナトリウム1.99g(83ミリモル)とジ
エチルエーテル23mlを入れ、氷水バスに挿入し、撹
拌しながら、0℃の懸濁液を調合した。次いで、滴下ロ
ートに参考例3で得られる(S)−1−ヒドロキシ−
2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチル
ケトン17.0g(75ミリモル)とジエチルエーテル
202mlを入れ、均一な溶液とし、撹拌しながら、1
7分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去
り、撹拌しながら、25℃まで昇温し、引き続き60分
間撹拌保持して、反応を完結させた。次いで、上述のフ
ラスコを、再度氷水バスに挿入し、0℃に調整した。別
途滴下ロートに4−ベンジルオキシベンゾイルクロリド
22.2g(90ミリモル)とジエチルエーテル108
mlを入れ、撹拌しながら、33分間かけて滴下した。
滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、25
℃まで昇温し、引き続き150分間撹拌保持して、反応
を完結させた。
【0096】反応終了後、1規定塩酸75mlを入れ、
60分間撹拌保持した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH8に調整した。次いで、エーテル抽出し、抽出
液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、減圧濃縮し、溶媒を留去し、残った淡
黄色のシロップ状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコー
ル=96/4(容量比)]にて精製した溶液に粒状活性
炭0.52g[粒状活性炭の添加量は(S)−1−ヒド
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンの仕込量に対して、3重量パーセントで
ある。]を加えて、30分間撹拌した後、粒状活性炭を
濾過により除去し、濾液を減圧濃縮し、溶離液を留去
し、無色透明な液状の生成物[収量26.3g(60ミ
リモル)収率80%]を得た。この生成物の1HNMR
スペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペクト
ルおよびMSスペクトルを測定した結果は次の通りであ
り、生成物は2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ノン−3であることが確認された。
60分間撹拌保持した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH8に調整した。次いで、エーテル抽出し、抽出
液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水
分を除去した後、減圧濃縮し、溶媒を留去し、残った淡
黄色のシロップ状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコー
ル=96/4(容量比)]にて精製した溶液に粒状活性
炭0.52g[粒状活性炭の添加量は(S)−1−ヒド
ロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキ
シブチルケトンの仕込量に対して、3重量パーセントで
ある。]を加えて、30分間撹拌した後、粒状活性炭を
濾過により除去し、濾液を減圧濃縮し、溶離液を留去
し、無色透明な液状の生成物[収量26.3g(60ミ
リモル)収率80%]を得た。この生成物の1HNMR
スペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペクト
ルおよびMSスペクトルを測定した結果は次の通りであ
り、生成物は2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ノン−3であることが確認された。
【0097】1HNMRスペクトル(CDCl3) 1.07ppm(3H)、1.18〜1.48ppm
(6H)、2.92〜3.04ppm(2H)、3.2
4〜3.35ppm(2H)、4.17〜4.27pp
m(1H)、4.49〜4.67ppm(2H)、7.
25ppm(2H)、(6.75〜7.00、7.76
〜7.95)ppm(4H、ABパターン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −5.50ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm-1(COC)、1,660cm-1(C
O)、1,740cm-1(COO) MSスペクトル m/z. 438(M+) また、1HNMRスペクトル図を図4に示した。
(6H)、2.92〜3.04ppm(2H)、3.2
4〜3.35ppm(2H)、4.17〜4.27pp
m(1H)、4.49〜4.67ppm(2H)、7.
25ppm(2H)、(6.75〜7.00、7.76
〜7.95)ppm(4H、ABパターン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −5.50ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm-1(COC)、1,660cm-1(C
O)、1,740cm-1(COO) MSスペクトル m/z. 438(M+) また、1HNMRスペクトル図を図4に示した。
【0098】(同定例)[参考例4で得られた生成物が
(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン
−3であることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに、上述で得られた生成物2.19g
(5ミリモル)と、3規定塩酸25mlとメタノール1
00mlを入れ、温度80℃の温水バスに浸漬し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き6時間還流し
て加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した
後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=90/10(容
量比)]で製造し、無色透明な液状の生成物[収量0.
91g(4ミリモル)収率80%]を得た。
(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン
−3であることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに、上述で得られた生成物2.19g
(5ミリモル)と、3規定塩酸25mlとメタノール1
00mlを入れ、温度80℃の温水バスに浸漬し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き6時間還流し
て加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した
後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=90/10(容
量比)]で製造し、無色透明な液状の生成物[収量0.
91g(4ミリモル)収率80%]を得た。
【0099】得られた生成物の各種スペクトルを測定す
ると、参考例4の出発化合物である(S)−1−ヒドロ
キシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシ
ブチルケトンの各種スペクトル分析と一致し、さらに光
学活性ガスクロマトグラフィーにかけると保持時間3
4.67分となり(S)配置であることが確認され、生
成物は出発化合物と同じ(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが判明した。したがって、(S)−1−ヒ
ドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エト
キシブチルケトンの1位の不斉炭素原子に結合した水酸
基とアルカリ金属水素化物を反応させ、アルカリ金属ア
ルコラートに換え、次いで、4−ベンジルオキシベンゾ
イルクロリドを反応させても、絶対配置は変らず、
(S)配置であることが確認され、生成物は(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3である
ことが確認された。
ると、参考例4の出発化合物である(S)−1−ヒドロ
キシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシ
ブチルケトンの各種スペクトル分析と一致し、さらに光
学活性ガスクロマトグラフィーにかけると保持時間3
4.67分となり(S)配置であることが確認され、生
成物は出発化合物と同じ(S)−1−ヒドロキシ−2,
2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケト
ンであることが判明した。したがって、(S)−1−ヒ
ドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エト
キシブチルケトンの1位の不斉炭素原子に結合した水酸
基とアルカリ金属水素化物を反応させ、アルカリ金属ア
ルコラートに換え、次いで、4−ベンジルオキシベンゾ
イルクロリドを反応させても、絶対配置は変らず、
(S)配置であることが確認され、生成物は(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3である
ことが確認された。
【0100】実施例1[本発明化合物:syn−(2
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタン、および本発明化合物:anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンの各製造、ただし金属水素化物として安定
した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を用いた場合] (第一段反応)[syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)とジエチルエーテル40m
lを入れ、撹拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、0℃に調整した。
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタン、および本発明化合物:anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンの各製造、ただし金属水素化物として安定
した水素化ホウ素ナトリウム水溶液を用いた場合] (第一段反応)[syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジ
アステレオマー混合物である反応生成物の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)とジエチルエーテル40m
lを入れ、撹拌しながら、均一な溶液とし、氷水バス中
に挿入し、0℃に調整した。
【0101】次いで、滴下ロートに水素化ホウ素ナトリ
ウム0.27g(7ミリモル)と5%水酸化ナトリウム
水溶液28g[NaOH1.4g(35ミリモル)]と
メタノール7mlを入れた安定化した水素化ホウ素ナト
リウム水溶液を撹拌しながら、10分間かけて滴下し
た。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き、90分間撹拌保持して、反
応を完結させ、反応生成物を得た。得られた反応生成物
溶液は後述の同定例1より、syn体(2S,3R)型
/anti体(2S,3S)型=70/30(面積比)
からなるジアステレオマー混合物であることが確認され
た。
ウム0.27g(7ミリモル)と5%水酸化ナトリウム
水溶液28g[NaOH1.4g(35ミリモル)]と
メタノール7mlを入れた安定化した水素化ホウ素ナト
リウム水溶液を撹拌しながら、10分間かけて滴下し
た。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しながら、
室温まで昇温し、引き続き、90分間撹拌保持して、反
応を完結させ、反応生成物を得た。得られた反応生成物
溶液は後述の同定例1より、syn体(2S,3R)型
/anti体(2S,3S)型=70/30(面積比)
からなるジアステレオマー混合物であることが確認され
た。
【0102】[同定例1:反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた40重量%の反応
生成物溶液[原料化合物換算10ミリモル含有反応生成
物溶液]と、3規定塩酸50mlおよびメタノール20
0mlを入れ、温度80%の温水バス中に挿入し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還
流し加水分解反応を行った。
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた40重量%の反応
生成物溶液[原料化合物換算10ミリモル含有反応生成
物溶液]と、3規定塩酸50mlおよびメタノール20
0mlを入れ、温度80%の温水バス中に挿入し、撹拌
しながら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還
流し加水分解反応を行った。
【0103】加水分解反応完了後、温水バスを取り去
り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、エーテル抽出
し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水溶液40ml
で洗浄し、次いで、水300mlで洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イ
ソプロピルアルコール=95/5(容量比)]で精製
し、無色透明な液状の生成物−1[収量1.84g(8
ppm)収率80%]を得た。この生成物−1の1HN
MRスペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペ
クトルおよびMSスペクトルを測定した結果、生成物−
1は7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
−2,3−ジオールであることが判明した。
り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、エーテル抽出
し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水溶液40ml
で洗浄し、次いで、水300mlで洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、シロップ状の残渣を得た。この残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イ
ソプロピルアルコール=95/5(容量比)]で精製
し、無色透明な液状の生成物−1[収量1.84g(8
ppm)収率80%]を得た。この生成物−1の1HN
MRスペクトル、19FNMRスペクトル、1R吸収スペ
クトルおよびMSスペクトルを測定した結果、生成物−
1は7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
−2,3−ジオールであることが判明した。
【0104】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.86〜1.00ppm(3H)、1.06〜1.2
4ppm(6H)、2.69〜2.80ppm(2
H)、2.95〜3.16ppm(1H)、3.20〜
3.35ppm(2H)、3.52〜3.66ppm
(2H)、4.08〜4.16ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆1] 第2ピーク:−2.21ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆1] (☆1 本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,150cm-1(COC)、3,270cm-1(O
H)、 MSスペクトル m/z. 230(M+) また、1HNMRスペクトル図を図5に示した。
4ppm(6H)、2.69〜2.80ppm(2
H)、2.95〜3.16ppm(1H)、3.20〜
3.35ppm(2H)、3.52〜3.66ppm
(2H)、4.08〜4.16ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆1] 第2ピーク:−2.21ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆1] (☆1 本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,150cm-1(COC)、3,270cm-1(O
H)、 MSスペクトル m/z. 230(M+) また、1HNMRスペクトル図を図5に示した。
【0105】次いで、温度計、撹拌機、還流冷却器を備
えた三ツ口丸底フラスコに上述で得られた生成物−1、
1.15g(5ミリモル)と2.2−ジメトキシプロパ
ン5mlとパラトルエンスルホン酸1水塩0.1mgを
入れ、温度90℃の温水バスに挿入し、撹拌しながら、
沸騰するまで昇温し、引き続き5時間還流し、アセター
ル交換反応を行い、反応終了後、反応生成物を82℃で
蒸留し、留分を濃縮して、無色透明な液状の生成物−1
を得た。この生成物−2の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−2は
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
1,3−ジオキソラン誘導体という。)であることが確
認された。
えた三ツ口丸底フラスコに上述で得られた生成物−1、
1.15g(5ミリモル)と2.2−ジメトキシプロパ
ン5mlとパラトルエンスルホン酸1水塩0.1mgを
入れ、温度90℃の温水バスに挿入し、撹拌しながら、
沸騰するまで昇温し、引き続き5時間還流し、アセター
ル交換反応を行い、反応終了後、反応生成物を82℃で
蒸留し、留分を濃縮して、無色透明な液状の生成物−1
を得た。この生成物−2の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMSスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−2は
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
1,3−ジオキソラン誘導体という。)であることが確
認された。
【0106】1HNMRスペクトル(CDCl3) 1.00〜1.05ppm(3H)、1.36〜2.0
7ppm(6H)、1.58ppm(CH3)、1.7
5ppm(CH3)、1.82ppm(CH3)、1.9
0ppm(CH3)、2.73〜2.84ppm(2
H)、2.95〜3.04ppm(2H)、3.55〜
3.80ppm(2H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.46ppm、面積比70%[tra
ns体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] 第2ピーク:−3.66ppm、面積比30%[cis
体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] (☆2 本同定例にて確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,140cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 270(M+) また、1HNMRスペクトル図を図6に示した。
7ppm(6H)、1.58ppm(CH3)、1.7
5ppm(CH3)、1.82ppm(CH3)、1.9
0ppm(CH3)、2.73〜2.84ppm(2
H)、2.95〜3.04ppm(2H)、3.55〜
3.80ppm(2H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.46ppm、面積比70%[tra
ns体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] 第2ピーク:−3.66ppm、面積比30%[cis
体1,3−ジオキソラン誘導体☆2] (☆2 本同定例にて確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,140cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 270(M+) また、1HNMRスペクトル図を図6に示した。
【0107】また、上述で得た生成物−2である1,3
−ジオキソラン誘導体の1HNMRスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表1の通りである。表1
より、面積比70%であるメチル基の位置はtrans
−2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5
−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
trans体1,3−ジオキソラン誘導体という。)で
あり、面積比30%であるメチル基の位置はcis−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、c
is体1,3−ジオキソラン誘導体という。)であるこ
とが判明した。したがって、生成物−2はtrans−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランおよびci
s−2,2−2−ジメチル−4−(4−エトキシブチ
ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン
からなり、その生成比率trans体/cis体=70
/30(面積比)のジアステレオマー混合物であること
が確認された。
−ジオキソラン誘導体の1HNMRスペクトル中のメチ
ル基の位置と面積比を求めると表1の通りである。表1
より、面積比70%であるメチル基の位置はtrans
−2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5
−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、
trans体1,3−ジオキソラン誘導体という。)で
あり、面積比30%であるメチル基の位置はcis−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン(以下、c
is体1,3−ジオキソラン誘導体という。)であるこ
とが判明した。したがって、生成物−2はtrans−
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランおよびci
s−2,2−2−ジメチル−4−(4−エトキシブチ
ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−ジオキソラン
からなり、その生成比率trans体/cis体=70
/30(面積比)のジアステレオマー混合物であること
が確認された。
【0108】
【表1】
【0109】また、生成物−2の1HNMRスペクトル
のメチル基(1.75ppm、 1.82ppm)の面
積比70%であるtrans体1,3−ジオキソラン誘
導体と生成物−2の19FNMRスペクトルの第1ピーク
(−0.46ppm)の面積比が一致したことにより、
第1ピークはtrans体1,3−ジオキソラン誘導体
であり、1HNMRスペクトルのメチル基(1.58p
pm、1.90ppm)の面積比30%であるcis体
1,3−ジオキソラン誘導体と生成物−2の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−3.66ppm)の面積比
が一致したことにより、第2ピークはcis体1,3−
ジオキソラン誘導体であることが確認された。
のメチル基(1.75ppm、 1.82ppm)の面
積比70%であるtrans体1,3−ジオキソラン誘
導体と生成物−2の19FNMRスペクトルの第1ピーク
(−0.46ppm)の面積比が一致したことにより、
第1ピークはtrans体1,3−ジオキソラン誘導体
であり、1HNMRスペクトルのメチル基(1.58p
pm、1.90ppm)の面積比30%であるcis体
1,3−ジオキソラン誘導体と生成物−2の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−3.66ppm)の面積比
が一致したことにより、第2ピークはcis体1,3−
ジオキソラン誘導体であることが確認された。
【0110】また、上述の第一段反応で得られた反応生
成物は(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプ
タノン−3のカルボニル炭素を金属水素化物で還元する
ことによって得られるため、2位の不斉炭素原子は還元
反応には無関係であり、(2S)配置であることが確認
された。また得られた反応生成物を加水分解した7−エ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−
ジオールの2位の不斉炭素原子は加水分解しても絶対配
置は変らないことより(2S)配置であることが確認さ
れた。
成物は(S)−2−(4−ベンジルオキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプ
タノン−3のカルボニル炭素を金属水素化物で還元する
ことによって得られるため、2位の不斉炭素原子は還元
反応には無関係であり、(2S)配置であることが確認
された。また得られた反応生成物を加水分解した7−エ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−
ジオールの2位の不斉炭素原子は加水分解しても絶対配
置は変らないことより(2S)配置であることが確認さ
れた。
【0111】したがって、生成物−2のtrans体
1,3−ジオキソラン誘導体と面積比が一致する生成物
−1の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−0.48
ppm)はsyn−(2S,3R)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であり、他方、生成物−2のcis体1,3−ジオキソ
ラン誘導体と面積比が一致する生成物−1の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−2.21ppm)はant
i−(2S,3S)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン−2,3−ジオールであることが判明
し、生成物−1はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジ
アステレオマー混合物であることが確認された。したが
って、第一段反応で得られた反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
1,3−ジオキソラン誘導体と面積比が一致する生成物
−1の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−0.48
ppm)はsyn−(2S,3R)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であり、他方、生成物−2のcis体1,3−ジオキソ
ラン誘導体と面積比が一致する生成物−1の19FNMR
スペクトルの第2ピーク(−2.21ppm)はant
i−(2S,3S)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン−2,3−ジオールであることが判明
し、生成物−1はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジ
アステレオマー混合物であることが確認された。したが
って、第一段反応で得られた反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
【0112】(第二段反応)(O−メチル化誘導体の製
造) 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り60%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算15ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル2.27g
(16ミリモル)とジエチルエーテル20mlを入れ、
撹拌しながら、11分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、
引き続き、室温で2時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
造) 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り60%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算15ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル2.27g
(16ミリモル)とジエチルエーテル20mlを入れ、
撹拌しながら、11分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、
引き続き、室温で2時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
【0113】反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクト
ルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピーク
の位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比70%、[Sy
n体(2S、3R)型☆3] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比30%、[an
ti体(2S、3S)型☆3] (☆3、後述の同定例2で確認) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述の
同定例2より、O−メチル化誘導体はSyn体(2S、
3R)型/anti体(2S、3S)型=70/30
(面積比)からなるジアステレオマー混合物であること
が確認された。
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクト
ルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピーク
の位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比70%、[Sy
n体(2S、3R)型☆3] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比30%、[an
ti体(2S、3S)型☆3] (☆3、後述の同定例2で確認) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述の
同定例2より、O−メチル化誘導体はSyn体(2S、
3R)型/anti体(2S、3S)型=70/30
(面積比)からなるジアステレオマー混合物であること
が確認された。
【0114】(第三段反応)温度計、撹拌機、滴下ロー
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体3.86g(8.5ミ
リモル)とメタノール58mlを入れ、室温で撹拌しな
がら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.0
8gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液
を調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1
kg/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元
反応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素
ガスの吸収がなくなるまで、4時間供給し、反応を完結
させた。
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体3.86g(8.5ミ
リモル)とメタノール58mlを入れ、室温で撹拌しな
がら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.0
8gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液
を調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1
kg/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元
反応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素
ガスの吸収がなくなるまで、4時間供給し、反応を完結
させた。
【0115】還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾
過し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮
することにより、メタノールを留去した後、副生したト
ルエンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色
透明な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−1
[収量3.03g(8.33ミリモル)収率98%]を
得た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMR
スペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。
過し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮
することにより、メタノールを留去した後、副生したト
ルエンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[溶離液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色
透明な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−1
[収量3.03g(8.33ミリモル)収率98%]を
得た。この生成物の1HNMRスペクトル、19FNMR
スペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とが確認された。
【0116】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.87〜0.96ppm(3H)、1.09〜1.5
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H )、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆4] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆4] (☆4、後述の同定例2で確認) 1R吸収スペクトル 1,110cm-1(COC)、1,740cm-1(CO
O)、3,300cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H )、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆4] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆4] (☆4、後述の同定例2で確認) 1R吸収スペクトル 1,110cm-1(COC)、1,740cm-1(CO
O)、3,300cm-1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
【0117】得られた生成物は後述の同定例2より、s
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなるジア
ステレオマー混合物であり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)であるジアステレオマー混合物−1である
ことが確認された。
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなるジア
ステレオマー混合物であり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)であるジアステレオマー混合物−1である
ことが確認された。
【0118】[同定例2:第二段反応で得られたO−メ
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンか
らなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/an
ti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジア
ステレオマー混合物−1であることの同定]温度計、撹
拌機、還流冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコ
に、実施例1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導
体1.82g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlと
メタノール80mlを入れ、撹拌しながら、80℃まで
昇温し、6時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、
室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量
0.78g(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンか
らなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/an
ti体(2S,3S)型=70/30(面積比)のジア
ステレオマー混合物−1であることの同定]温度計、撹
拌機、還流冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコ
に、実施例1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導
体1.82g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlと
メタノール80mlを入れ、撹拌しながら、80℃まで
昇温し、6時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、
室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量
0.78g(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
【0119】この生成物の1HNMRスペクトル、19F
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.81〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H )、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆5] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆5] (☆5、本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H)、 MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図8に示した。
NMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMSス
ペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は2
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.81〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H )、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比70%[Syn
体(2S、3R)型☆5] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比30%[ant
i体(2S、3S)型☆5] (☆5、本同定例で確認) 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H)、 MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図8に示した。
【0120】次いで、上述の生成物を、下記条件で光学
異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ 内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60NL/min、スプリット比 100/1 検出 :FID
異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ 内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60NL/min、スプリット比 100/1 検出 :FID
【0121】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比70%、
[Syn体(2S、3R)型☆6] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比30%、
[anti体(2S、3S)型☆6] (☆6 本同定例で確認)
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比70%、
[Syn体(2S、3R)型☆6] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比30%、
[anti体(2S、3S)型☆6] (☆6 本同定例で確認)
【0122】第一段反応で得られたsyn体(2S,3
R)型/anti体(2S,3S)型=70/30(面
積比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成
物の3位の不斉炭素原子に結合した金属化合物のアルコ
ラートとヨウ化メチルと反応させることによって得られ
たO−メチル化誘導体を酸で加水分解することによって
得られる生成物は2本の光学活性ピークが得られ、かつ
第1ピーク/第2ピーク=70/30(面積比)が上記
第一段反応で得た反応生成物の面積比と一致したことに
より、反応生成物と生成物との間で2位と3位の不斉炭
素原子の絶対配置が変化しないことが確認された。
R)型/anti体(2S,3S)型=70/30(面
積比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成
物の3位の不斉炭素原子に結合した金属化合物のアルコ
ラートとヨウ化メチルと反応させることによって得られ
たO−メチル化誘導体を酸で加水分解することによって
得られる生成物は2本の光学活性ピークが得られ、かつ
第1ピーク/第2ピーク=70/30(面積比)が上記
第一段反応で得た反応生成物の面積比と一致したことに
より、反応生成物と生成物との間で2位と3位の不斉炭
素原子の絶対配置が変化しないことが確認された。
【0123】よって、生成物の光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比70%である第1ピーク(保持時間1
4.55分)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比30%である第2ピーク(保持時間1
5.27分)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシヘプタンであること
が判明し、syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシヘプタンと面積比が一致す
る生成物の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−2.
12ppm)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、anti−(2S,3
S)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する
生成物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.1
4ppm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであることが確認された。
ラフィーの面積比70%である第1ピーク(保持時間1
4.55分)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、光学活性ガスクロマトグ
ラフィーの面積比30%である第2ピーク(保持時間1
5.27分)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシヘプタンであること
が判明し、syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシヘプタンと面積比が一致す
る生成物の19FNMRスペクトルの第1ピーク(−2.
12ppm)はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであり、他方、anti−(2S,3
S)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する
生成物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.1
4ppm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキ
シ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフ
ルオロヘプタンであることが確認された。
【0124】したがって、O−メチル誘導体を加水分解
して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と3
位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O−
メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比70%
である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体(2
S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積比3
0%である第2ピーク(−3.90ppm)はanti
体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチル化
誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)からなるジアステ
レオマー混合物であることが確認出来た。
して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と3
位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O−
メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比70%
である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体(2
S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積比3
0%である第2ピーク(−3.90ppm)はanti
体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチル化
誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)からなるジアステ
レオマー混合物であることが確認出来た。
【0125】次いで、第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−1を下記条件で光学活性液体クロマトグ
ラフィーにかけた。 光学異性体分離カラム:[商品名:アミロース系光学異性体分離用HPLC カラム:ダイセル化学工業(株)製] 分離剤 :アミロース・トリス[(S)−1−フェニルエチルカルバ メート]をシリカゲルでコーティングしたもの(グレート CHIRALPAKAS) サイズ :4.6mmφ×250mmH 溶離液 :n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4(容量比 ) 流速 :0.5ml/min. 検出 :紫外検出器で波長254mmの紫外吸収を用いた。 試料 :0.1mg
オマー混合物−1を下記条件で光学活性液体クロマトグ
ラフィーにかけた。 光学異性体分離カラム:[商品名:アミロース系光学異性体分離用HPLC カラム:ダイセル化学工業(株)製] 分離剤 :アミロース・トリス[(S)−1−フェニルエチルカルバ メート]をシリカゲルでコーティングしたもの(グレート CHIRALPAKAS) サイズ :4.6mmφ×250mmH 溶離液 :n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4(容量比 ) 流速 :0.5ml/min. 検出 :紫外検出器で波長254mmの紫外吸収を用いた。 試料 :0.1mg
【0126】上記光学活性液体クロマトグラフィーのチ
ャートは図10の通りであり、図10の解析結果より、
2本の光学活性ピークが得られ、その保持時間と面積比
は以下の通りであった。 第1ピーク[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間10.11分 面積比70% 第2ピーク[anti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間11.46分 面積比30% (☆7 本同定例より確認)
ャートは図10の通りであり、図10の解析結果より、
2本の光学活性ピークが得られ、その保持時間と面積比
は以下の通りであった。 第1ピーク[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒド
ロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間10.11分 面積比70% 第2ピーク[anti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆7] 保持時間11.46分 面積比30% (☆7 本同定例より確認)
【0127】なお、上述の同定例2より、syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるO
−メチル化誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下で水
素ガスで還元することによりジアステレオマー混合物−
1が得られる反応では、2位と3位の不斉炭素原子の立
体配置には無関係である。したがって、O−メチル化誘
導体のsyn体(2S,3R)型の面積比と一致するジ
アステレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラ
フィーの第1ピーク(保持時間10.11分)はsyn
−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−ト
リフルオロヘプタンであり、他方O−メチル化誘導体の
anti体(2S,3S)型の面積比と一致するジアス
テレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第2ピーク(保持時間11.46分)はanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンであることが判明した。
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるO
−メチル化誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下で水
素ガスで還元することによりジアステレオマー混合物−
1が得られる反応では、2位と3位の不斉炭素原子の立
体配置には無関係である。したがって、O−メチル化誘
導体のsyn体(2S,3R)型の面積比と一致するジ
アステレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラ
フィーの第1ピーク(保持時間10.11分)はsyn
−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−ト
リフルオロヘプタンであり、他方O−メチル化誘導体の
anti体(2S,3S)型の面積比と一致するジアス
テレオマー混合物−1の光学活性液体クロマトグラフィ
ーの第2ピーク(保持時間11.46分)はanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンであることが判明した。
【0128】よって、ジアステレオマー混合物−1の19
FNMRスペクトルの面積比70%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比30%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
70/30(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
FNMRスペクトルの面積比70%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比30%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
70/30(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
【0129】(第四段反応)[本発明化合物:syn−
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンおよび本発明化合物:anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロヘプタンの製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−1、2
00g(5.5ミリモル)を下記条件で、分取用シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、第1ピークお
よび第2ピークを各々分取し、溶離液を減圧留去し、い
ずれも無色透明な液状の各目的生成物である第1フラク
ション[取得量1.26g(3.47ミリモル)取得率
63%]および第2フラクション[取得量0.54g
(1.48ミリモル)取得率27%]を各々得た。
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンおよび本発明化合物:anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロヘプタンの製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−1、2
00g(5.5ミリモル)を下記条件で、分取用シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、第1ピークお
よび第2ピークを各々分取し、溶離液を減圧留去し、い
ずれも無色透明な液状の各目的生成物である第1フラク
ション[取得量1.26g(3.47ミリモル)取得率
63%]および第2フラクション[取得量0.54g
(1.48ミリモル)取得率27%]を各々得た。
【0130】これらの目的生成物の1HNMRスペクト
ル、1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレ
オマー混合物−1と一致し、各目的生成物は2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
また、19FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1
本のピークが認められた。さらに第三段反応の同定例2
と同じ条件で、光学活性液体クロマトグラフィーにかけ
た。上記光学活性液体クロマトグラフィーのチャートは
各々図11および図12の通りで、図11、および図1
2の解析結果より、各々1本の光学活性ピークが得ら
れ、その保持時間を示すと以下の通りとなり、目的生成
物である第1フラションはsyn−(2S,3R)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
本発明化合物であり、第2フラクションはanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンの本発明化合物であることが確認出来
た。
ル、1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレ
オマー混合物−1と一致し、各目的生成物は2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
また、19FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1
本のピークが認められた。さらに第三段反応の同定例2
と同じ条件で、光学活性液体クロマトグラフィーにかけ
た。上記光学活性液体クロマトグラフィーのチャートは
各々図11および図12の通りで、図11、および図1
2の解析結果より、各々1本の光学活性ピークが得ら
れ、その保持時間を示すと以下の通りとなり、目的生成
物である第1フラションはsyn−(2S,3R)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
本発明化合物であり、第2フラクションはanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンの本発明化合物であることが確認出来
た。
【0131】分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー[商品名:イナートシエルPREP−ODS分取、ガ
ードカラム2点セットNo.5020−35112、ジ
ーエルサイエンス(株)製] 充填剤:純度99.9%の10μシリカゲルにオクタデ
シル基を化学結合したもの サイズ:10mmφ×250mmH 溶離液:n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比) 流速:2ml/min 検出:紫外検出器、波長254nm 試料供給量:1g
ー[商品名:イナートシエルPREP−ODS分取、ガ
ードカラム2点セットNo.5020−35112、ジ
ーエルサイエンス(株)製] 充填剤:純度99.9%の10μシリカゲルにオクタデ
シル基を化学結合したもの サイズ:10mmφ×250mmH 溶離液:n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96
/4(容量比) 流速:2ml/min 検出:紫外検出器、波長254nm 試料供給量:1g
【0132】第1フラクシヨン[syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 10.11分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フランクシヨン[anti−(2S,3S)−2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 11.46分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 10.11分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フランクシヨン[anti−(2S,3S)−2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 11.46分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
【0133】実施例2[本発明化合物:syn−(2
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタン、および本発明化合物:anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンの各製造、ただし、金属水素化物として水
素化ジイソブチルアルミニウムを用いた場合]
S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタン、および本発明化合物:anti−(2
S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンの各製造、ただし、金属水素化物として水
素化ジイソブチルアルミニウムを用いた場合]
【0134】(第一段反応)[syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)に23mlを入れ、撹拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム3.91g(27.5ミリモル)とジエチルエー
テル23mlを入れ、撹拌しながら、10分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き90分間撹拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例3より、syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物である反応生成物
の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、参考例4で得られる(S)−2
−(4−ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタノン−3、1
0.95g(25ミリモル)に23mlを入れ、撹拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バスに挿入し、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートに水素化ジイソブチルアルミ
ニウム3.91g(27.5ミリモル)とジエチルエー
テル23mlを入れ、撹拌しながら、10分間かけて滴
下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、撹拌しなが
ら、室温まで昇温し、引き続き90分間撹拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。得られた反応
生成物は後述の同定例3より、syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物であることが確認
された。
【0135】[同定例3:反応生成物はsyn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた20重量%反応生
成物溶液(原料化合物換算5ミリモル含有反応生成物溶
液)と、3規定塩酸25mlおよびメタノール100m
lを入れ、温度80℃の温水バス中に挿入し、撹拌しな
がら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還流
し、加水分解反応を行った。加水分解反応完了後、温水
バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水
溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=95/5(容量
比)]で精製し、無色透明な液状の生成物−3[収量
0.9g(3.92ppm)収率78.4%]を得た。
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
との同定]温度計、撹拌機および還流冷却器を備えた三
ツ口丸底フラスコに、上述で得られた20重量%反応生
成物溶液(原料化合物換算5ミリモル含有反応生成物溶
液)と、3規定塩酸25mlおよびメタノール100m
lを入れ、温度80℃の温水バス中に挿入し、撹拌しな
がら、沸騰するまで昇温し、引き続き7時間加熱還流
し、加水分解反応を行った。加水分解反応完了後、温水
バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナトリウム水
溶液20mlで洗浄し、次いで水200mlで洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、溶媒を減圧留去し、シロップ状の残渣を得た。この
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n
−ヘキサン/イソプロピルアルコール=95/5(容量
比)]で精製し、無色透明な液状の生成物−3[収量
0.9g(3.92ppm)収率78.4%]を得た。
【0136】この生成物−3の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルを測定した
結果は実施例1の同定例1と一致し、7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であることが確認された。また、実施例1の同定例1の
結果を基に、19FNMRスペクトルを測定した結果、2
本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比よ
り、生成物−3はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=40/60(面積比)から
なるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比40 syn体
(2S,3R)型 第2ピーク:−2.21ppm、面積比60 anti
体(2S,3S)型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40
/60(面積比)からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルを測定した
結果は実施例1の同定例1と一致し、7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
であることが確認された。また、実施例1の同定例1の
結果を基に、19FNMRスペクトルを測定した結果、2
本のピークが認められ、各ピークの位置および面積比よ
り、生成物−3はsyn−(2S,3R)−7−エトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオ
ールおよびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,3−ジオール
からなり、その生成比率syn体(2S,3R)型/a
nti体(2S,3S)型=40/60(面積比)から
なるジアステレオマー混合物であることが判明した。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−0.48ppm、面積比40 syn体
(2S,3R)型 第2ピーク:−2.21ppm、面積比60 anti
体(2S,3S)型 したがって、第一段反応で得られた反応生成物syn体
(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40
/60(面積比)からなるジアステレオマー混合物であ
ることが確認出来た。
【0137】(第二段反応)(O−メチル化誘導体) 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り80%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算20ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル3.12g
(22ミリモル)とジエチルエーテル28mlを入れ、
撹拌しながら、13分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、室温まで昇温し、引き続き、室温
で2時間撹拌保持して、反応を完結させた。
丸底フラスコに、第一段反応で得られた残り80%の反
応生成物溶液[(S)−2−(4−ベンジルオキシベン
ゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ−7−エト
キシヘプタノン−3換算20ミリモルを含有した液]を
入れ、氷水バス中に挿入し、撹拌しながら、0℃に調整
した。次いで、滴下ロートにヨウ化メチル3.12g
(22ミリモル)とジエチルエーテル28mlを入れ、
撹拌しながら、13分間かけて滴下した。滴下完了後、
氷水バスを取り去り、室温まで昇温し、引き続き、室温
で2時間撹拌保持して、反応を完結させた。
【0138】反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
7.54g(16.6ミリモル)収率83%]を得た。
得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルを
測定した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位
置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆7] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆7] (☆7、後述の同定例4で確認)
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
7.54g(16.6ミリモル)収率83%]を得た。
得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルを
測定した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位
置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.20ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆7] 第2ピーク:−3.90ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆7] (☆7、後述の同定例4で確認)
【0139】(第三段反応)温度計、撹拌機、滴下ロー
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体4.99g(11ミリ
モル)とメタノール75mlを入れ、室温で撹拌しなが
ら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.10
gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液を
調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1k
g/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元反
応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素ガ
スの吸収がなくなるまで、4、5時間供給し、反応を完
結させた。還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾過
し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮す
ることにより、メタノールを留去した後、副生したトル
エンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得た。
この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4
(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色透明
な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−2[収
量3.92g(10.78ミリモル)収率98%]を得
た。
ト、水素ガスチャージ管およびポリエチレン樹脂風船を
備えた密閉型の4ツ口丸底フラスコに、上述の第二段反
応で得られたO−メチル化誘導体4.99g(11ミリ
モル)とメタノール75mlを入れ、室温で撹拌しなが
ら、滴下ロートに10%パラジウム/炭素触媒0.10
gを入れ、ゆっくり滴下し、均一に分散された懸濁液を
調合した。次いで、室温で撹拌しながら、圧力1.1k
g/cm2程度の水素ガスで反応系をシールし、還元反
応を行った。還元反応は懸濁液を撹拌しながら、水素ガ
スの吸収がなくなるまで、4、5時間供給し、反応を完
結させた。還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾過
し、パラジウム/炭素触媒を除去し、濾液を減圧濃縮す
ることにより、メタノールを留去した後、副生したトル
エンを真空ポンプで除去し、シロップ状の残渣を得た。
この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離
液n−ヘキサン/イソプロピルアルコール=96/4
(容量比)]で精製し、溶離液を減圧留去し、無色透明
な液状の生成物であるジアステレオマー混合物−2[収
量3.92g(10.78ミリモル)収率98%]を得
た。
【0140】この生成物の1HNMRスペクトル、1R
吸収スペクトル、およびMSスペクトルを測定した結果
は実施例1の第三段反応と同じであり、生成物は2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19FNMRス
ペクトルを測定した結果、2本のピークが認められ、各
ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比40%[Syn
体(2S、3R)型☆8] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比60%[ant
i体(2S、3S)型☆8] (☆8、後述の同定例4で確認)
吸収スペクトル、およびMSスペクトルを測定した結果
は実施例1の第三段反応と同じであり、生成物は2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19FNMRス
ペクトルを測定した結果、2本のピークが認められ、各
ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−1.86ppm、面積比40%[Syn
体(2S、3R)型☆8] 第2ピーク:−2.33ppm、面積比60%[ant
i体(2S、3S)型☆8] (☆8、後述の同定例4で確認)
【0141】得られた生成物は後述の同定例4より、s
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなるジアステレオマー混合物であり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)であるジアステレオマ
ー混合物−2であることが確認された。
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなるジアステレオマー混合物であり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)であるジアステレオマ
ー混合物−2であることが確認された。
【0142】[同定例4:第二段反応で得られたO−メ
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また第三段反応で得られた
ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)のジアステレオマー混
合物であることの同定]
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また第三段反応で得られた
ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンからなり、その生
成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2S,
3S)型=40/60(面積比)のジアステレオマー混
合物であることの同定]
【0143】温度計、撹拌機、還流冷却器、ロートを備
えた四ツ口丸底フラスコに、実施例2の第二段反応で得
られたO−メチル化誘導体2.27g(5ミリモル)
と、3規定塩酸25mlとメタノール100mlを入
れ、撹拌しながら、80℃まで昇温し、6時間還流し、
加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて、水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無
色透明な液状の生成物[収量0.98g(4ミリモル)
収率80%]を得た。
えた四ツ口丸底フラスコに、実施例2の第二段反応で得
られたO−メチル化誘導体2.27g(5ミリモル)
と、3規定塩酸25mlとメタノール100mlを入
れ、撹拌しながら、80℃まで昇温し、6時間還流し、
加水分解反応を行った。次いで、室温まで冷却した後、
エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて、水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、無
色透明な液状の生成物[収量0.98g(4ミリモル)
収率80%]を得た。
【0144】この生成物の1HNMRスペクトル、 1R
吸収スペクトル、MSスペクトルを測定した結果は同定
例2と一致し、生成物は2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あった。得られた生成物の19FNMRスペクトルを測定
した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位置と
面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆9] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆9] (☆9、本同定例で確認)
吸収スペクトル、MSスペクトルを測定した結果は同定
例2と一致し、生成物は2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あった。得られた生成物の19FNMRスペクトルを測定
した結果、2本のピークが認められ、各ピークの位置と
面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) 第1ピーク:−2.12ppm、面積比40%[syn
体(2S,3R)型☆9] 第2ピーク:−4.14ppm、面積比60%[ant
i体(2S,3S)型☆9] (☆9、本同定例で確認)
【0145】また、上述の生成物を、実施例1の同定例
2と同様な条件で、光学活性ガスクロマトグラフィーに
かけた。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを
示すと図13となった。図13のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比40%[s
yn体(2S,3R)型☆10] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比60%[a
nti体(2S,3S)型☆10]
2と同様な条件で、光学活性ガスクロマトグラフィーに
かけた。光学活性ガスクロマトグラフィーのチャートを
示すと図13となった。図13のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。 第1ピーク:保持時間14.55分、面積比40%[s
yn体(2S,3R)型☆10] 第2ピーク:保持時間15.27分、面積比60%[a
nti体(2S,3S)型☆10]
【0146】実施例1の同定例2の結果に基づき、第1
ピーク(保持時間14.55分)はsyn−(2S,3
R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであり、第2ピーク
(保持時間15.27分)はanti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認され、
生成物はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
ピーク(保持時間14.55分)はsyn−(2S,3
R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであり、第2ピーク
(保持時間15.27分)はanti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認され、
生成物はsyn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−(2S,3S)−2−ヒドロ
キシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンからなり、その生成比率syn体(2
S,3R)型/anti体(2S,3S)型=40/6
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認出来た。
【0147】syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンと面積比が一致する生成物の19FNMRス
ペクトルの第1ピーク(−2.12ppm)はsyn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とがあることが確認された。anti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する生成
物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.14p
pm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロヘプタンであることが確認された。
−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロヘプタンと面積比が一致する生成物の19FNMRス
ペクトルの第1ピーク(−2.12ppm)はsyn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであるこ
とがあることが確認された。anti−(2S,3S)
−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンと面積比が一致する生成
物の19FNMRスペクトルの第2ピーク(−4.14p
pm)はanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−
7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオ
ロヘプタンであることが確認された。
【0148】したがって、O−メチル化誘導体を加水分
解して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と
3位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O
−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比40
%である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体
(2S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積
比60%である第2ピーク(−3.90ppm)はan
ti体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチ
ル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であることが確認出来た。
解して得られる生成物とO−メチル化誘導体の各2位と
3位の不斉炭素原子の絶対配置は変らないことより、O
−メチル化誘導体の19FNMRスペクトルの面積比40
%である第1ピーク(−2.20ppm)はsyn体
(2S,3R)型であり、19FNMRスペクトルの面積
比60%である第2ピーク(−3.90ppm)はan
ti体(2S,3S)型であることが判明し、O−メチ
ル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=40/60(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であることが確認出来た。
【0149】次いで、第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−2を実施例1の同定例2と同様な条件で
光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記光学活
性液体クロマトグラフィーのチャートは図14の通りで
あり、図14の解析結果より、2本の光学活性ピークが
得られ、その保持時間と面積比は以下の通りであった。 第1ピーク:[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:10.11分、面積比40% 第2ピーク:[anti−(2S,3S)−2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:11.46分、面積比60% (☆11 本同定例より確認)
オマー混合物−2を実施例1の同定例2と同様な条件で
光学活性液体クロマトグラフィーにかけた。上記光学活
性液体クロマトグラフィーのチャートは図14の通りで
あり、図14の解析結果より、2本の光学活性ピークが
得られ、その保持時間と面積比は以下の通りであった。 第1ピーク:[syn−(2S,3R)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:10.11分、面積比40% 第2ピーク:[anti−(2S,3S)−2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン☆11] 保持時間:11.46分、面積比60% (☆11 本同定例より確認)
【0150】なお、syn体(2S,3R)型/ant
i体(2S,3S)型=40/60(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物であるO−メチル化誘導体をパ
ラジウム/炭素触媒の存在下で水素ガスで還元すること
によりジアステレオマー混合物−2が得られる反応で
は、2位と3位の不斉炭素原子の立体配置には無関係で
ある。したがって、O−メチル化誘導体のsyn体(2
S,3R)型の面積比と一致するジアステレオマー混合
物−2の光学活性液体クロマトグラフィーの第1ピーク
(保持時間10.11分)はsyn−(2S,3R)−
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
であり、他方O−メチル化誘導体のanti体(2S,
3S)型の面積比と一致するジアステレオマー混合物−
2の光学活性液体クロマトグラフィーの第2ピーク(保
持時間11.46分)はanti−(2S,3S)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが判明した。
i体(2S,3S)型=40/60(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物であるO−メチル化誘導体をパ
ラジウム/炭素触媒の存在下で水素ガスで還元すること
によりジアステレオマー混合物−2が得られる反応で
は、2位と3位の不斉炭素原子の立体配置には無関係で
ある。したがって、O−メチル化誘導体のsyn体(2
S,3R)型の面積比と一致するジアステレオマー混合
物−2の光学活性液体クロマトグラフィーの第1ピーク
(保持時間10.11分)はsyn−(2S,3R)−
2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
であり、他方O−メチル化誘導体のanti体(2S,
3S)型の面積比と一致するジアステレオマー混合物−
2の光学活性液体クロマトグラフィーの第2ピーク(保
持時間11.46分)はanti−(2S,3S)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが判明した。
【0151】よって、ジアステレオマー混合物−2の19
FNMRスペクトルの面積比40%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比60%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
40/60(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
FNMRスペクトルの面積比40%である第1ピーク
(−1.86ppm)はsyn−(2S,3R)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
り、他方面積比60%である第2ピーク(−2.33p
pm)はanti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロ
キシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロヘプタンであることが確認
され、ジアステレオマー混合物−2はsyn−(2S,
3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7
−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ
ヘプタンおよびanti−2−(4−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンからなり、その生成比率sy
n体(2S,3R)型/anti体(2S,3S)型=
40/60(面積比)のジアステレオマー混合物である
ことが確認出来た。
【0152】(第四段反応)[本発明化合物:syn−
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン、および、本発明化合物:anti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンの製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−2、
2.91g(8ミリモル)を実施例1の第四段反応と同
様な条件で、分取用シリカゲルクロマトグラフィーを用
いて第1ピークおよび第2ピークを各々分取し、溶離液
を減圧留去し、いずれも無色透明な液状の各目的生成物
である第1フラクション[収得量1.05g(2.88
ミリモル)収得率36%]および第2フラクション[収
得量1.57g(4.32ミリモル)収得率54%]を
各々得た。
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン、および、本発明化合物:anti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタンの製造] 第三段反応で得られたジアステレオマー混合物−2、
2.91g(8ミリモル)を実施例1の第四段反応と同
様な条件で、分取用シリカゲルクロマトグラフィーを用
いて第1ピークおよび第2ピークを各々分取し、溶離液
を減圧留去し、いずれも無色透明な液状の各目的生成物
である第1フラクション[収得量1.05g(2.88
ミリモル)収得率36%]および第2フラクション[収
得量1.57g(4.32ミリモル)収得率54%]を
各々得た。
【0153】これらの目的生成物の1HNMRスペクト
ル、1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレ
オマー混合物−2と一致し、各目的生成物は2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
また19FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1本
のピークが認められた。さらに、実施例1の第四段反応
と同様な条件で光学活性液体クロマトグラフィーをかけ
ると、図11、図12と同様のチャートが得られた。以
上の結果より、目的生成物である第1フラクションはs
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンの本発明化合物であり、第2フ
ラクションはanti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの本発明化合
物であることが確認出来た。
ル、1R吸収スペクトル、MSスペクトルはジアステレ
オマー混合物−2と一致し、各目的生成物は2−(4−
ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メ
トキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
また19FNMRスペクトルは以下の通りであり、各1本
のピークが認められた。さらに、実施例1の第四段反応
と同様な条件で光学活性液体クロマトグラフィーをかけ
ると、図11、図12と同様のチャートが得られた。以
上の結果より、目的生成物である第1フラクションはs
yn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイ
ルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1
−トリフルオロヘプタンの本発明化合物であり、第2フ
ラクションはanti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの本発明化合
物であることが確認出来た。
【0154】第1フラクション[syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.05g(2.88ミリモル)、収得率36
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 10.11分 第2フラクション[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 1.57g(4.32ミリモル) 収得率54
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 11.46分
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.05g(2.88ミリモル)、収得率36
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 10.11分 第2フラクション[anti−(2S,3S)−2−
(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 1.57g(4.32ミリモル) 収得率54
%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー 保持時間 11.46分
【0155】参考例5[syn−(2S,3R)−2−
{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオ
キシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン(最終有用化合
物)の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
4ツ口丸底フラスコに、実施例1で得られるsyn−
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン1.46g(4ミリモル)と、4−
(4−n−デシルフェニル)安息香酸1.62g(4.
8ミリモル)と、N,N−ジメチルアミノピリジン0.
29g(2.4ミリモル)および塩化メチレン120m
lを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液を調合した。次
いで滴下ロートにジシクロヘキシルカルボジイミド1.
22g(6ミリモル)を入れ、撹拌しながら滴下し、引
き続き、室温で5時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオ
キシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキ
シ−1,1,1−トリフルオロヘプタン(最終有用化合
物)の製造] 温度計、撹拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
4ツ口丸底フラスコに、実施例1で得られるsyn−
(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタン1.46g(4ミリモル)と、4−
(4−n−デシルフェニル)安息香酸1.62g(4.
8ミリモル)と、N,N−ジメチルアミノピリジン0.
29g(2.4ミリモル)および塩化メチレン120m
lを入れ、室温で撹拌して、均一な溶液を調合した。次
いで滴下ロートにジシクロヘキシルカルボジイミド1.
22g(6ミリモル)を入れ、撹拌しながら滴下し、引
き続き、室温で5時間撹拌保持して、反応を完結させ
た。
【0156】反応完了後、析出したジシクロヘキシル尿
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸、1
0%炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、減
圧留去して塩化メチレンを除去し、シロップ状の残渣を
得た。この残渣を熱n−ヘキサンに溶解した後、冷却晶
析して、白色の粗結晶を得た。得られた粗結晶を液体ク
ロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピル
アルコール=93/7(容量比)]で精製し、無色透明
な液状の目的生成物[収量2.33g(3.4ミリモ
ル)収率85%]を得た。
素の白色結晶を濾過して除去し、濾液を1規定塩酸、1
0%炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、減
圧留去して塩化メチレンを除去し、シロップ状の残渣を
得た。この残渣を熱n−ヘキサンに溶解した後、冷却晶
析して、白色の粗結晶を得た。得られた粗結晶を液体ク
ロマトグラフィー[溶離液n−ヘキサン/イソプロピル
アルコール=93/7(容量比)]で精製し、無色透明
な液状の目的生成物[収量2.33g(3.4ミリモ
ル)収率85%]を得た。
【0157】この目的生成物の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、目的生成
物は2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベン
ゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3
−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。また、この目的生成物は出発化合物の2個の不斉炭
素原子の立体配置には無関係であり、光学活性な不斉中
心は変化しないことより、syn−(2S,3R)−2
−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイル
オキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフメオロヘプタンであることが
確認された。さらに後述の同定例より、syn体(2
S,3R)型であることを確認した。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、目的生成
物は2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベン
ゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3
−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。また、この目的生成物は出発化合物の2個の不斉炭
素原子の立体配置には無関係であり、光学活性な不斉中
心は変化しないことより、syn−(2S,3R)−2
−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイル
オキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフメオロヘプタンであることが
確認された。さらに後述の同定例より、syn体(2
S,3R)型であることを確認した。
【0158】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.8〜1.04ppm(6H)、1.09〜1.62
ppm(24H)、2.07〜2.20ppm(2
H)、2.60ppm(3H)、3.07〜3.20p
pm(2H)、4.15〜4.20ppm(1H)、
4.52〜4.56ppm(1H)、6.58〜8.0
4ppm(12H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.95ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,730cm-1(CO
O) MSスペクトル m/z 684(M+) また、19FNMRスペクトル図を図15に示した。
ppm(24H)、2.07〜2.20ppm(2
H)、2.60ppm(3H)、3.07〜3.20p
pm(2H)、4.15〜4.20ppm(1H)、
4.52〜4.56ppm(1H)、6.58〜8.0
4ppm(12H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3C
OOH) −4.95ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,730cm-1(CO
O) MSスペクトル m/z 684(M+) また、19FNMRスペクトル図を図15に示した。
【0159】(同定例)[目的生成物がsyn−(2
S、3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンであることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに原料化合物0.36g(1ミリモル)
と3規定塩酸5ミリモルとメタノール20mlを入れ、
80℃まで昇温し、6時間還流し、加水分解反応を行っ
た。次いで、室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽
出液を20%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を
除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成
物−1[収量0.2g(0.8ミリモル)収率80%]
を得た。
S、3R)−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニ
ル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ンであることの同定] 温度計、撹拌機、還流冷却器、滴下ロートを備えた四ツ
口丸底フラスコに原料化合物0.36g(1ミリモル)
と3規定塩酸5ミリモルとメタノール20mlを入れ、
80℃まで昇温し、6時間還流し、加水分解反応を行っ
た。次いで、室温まで冷却した後、エーテル抽出し、抽
出液を20%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を
除去した後、溶媒を減圧留去し、無色透明な液状の生成
物−1[収量0.2g(0.8ミリモル)収率80%]
を得た。
【0160】この生成物−1の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−
1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物−
1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm-1(COC)、1,670cm-1(O
H) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
【0161】次いで、上述の生成物−1を下記条件で、
光学異性体分離カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60Nl/min、スプリット比10 0/1 検出 :FID
光学異性体分離カラムを有するガスクロマトグラフィー
(以下、光学活性ガスクロマトグラフィーという。)に
かけた。 カラム :商品名 シクロデックスβ236M(クロムパック社製) :サイズ内径0.25mm、長さ25m :シリカキャピラリーカラム カラム温度 :100℃×10分間保持した後、昇温速度4℃/minで 200℃まで昇温 キャリアーガス:ヘリウム、ガス流量 60Nl/min、スプリット比10 0/1 検出 :FID
【0162】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを図15に示した。図15の解析結果より1本の光学
活性なピークが認められ、その保持時間は14.55分
であった。出発化合物を加水分解して得た生成物−1は
1本の光学活性しか認められないことより生成物はsy
n−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
ることが判明した。次いで、出発化合物0.36g(1
ppm)の代わりに目的生成物0.68g(1ppm)
を用いた以外は上述と同様な方法で加水分解反応を行
い、無色透明な液状の生成物−2[収量0.2g(0.
8ミリモル)収率80%]を得た。この生成物−2の各
種スペクトルを測定した結果、生成物−1と同様であ
り、2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
トを図15に示した。図15の解析結果より1本の光学
活性なピークが認められ、その保持時間は14.55分
であった。出発化合物を加水分解して得た生成物−1は
1本の光学活性しか認められないことより生成物はsy
n−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−
3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであ
ることが判明した。次いで、出発化合物0.36g(1
ppm)の代わりに目的生成物0.68g(1ppm)
を用いた以外は上述と同様な方法で加水分解反応を行
い、無色透明な液状の生成物−2[収量0.2g(0.
8ミリモル)収率80%]を得た。この生成物−2の各
種スペクトルを測定した結果、生成物−1と同様であ
り、2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。
【0163】また、上述の生成物−2を上と同様な条件
で、光学活性ガスクロマトグラフィーをかけると、1本
の光学活性ピークが得られ、その保持時間は14.55
分となり、生成物−2は生成物−1と同様、syn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。したがって、目的生成物は加水分解しても、2位と
3位の不斉炭素原子の絶体配置は変化しないことより、
目的生成物はsyn体(2S,3R)型であることが判
明し、syn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4
−n−デシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイル
オキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
で、光学活性ガスクロマトグラフィーをかけると、1本
の光学活性ピークが得られ、その保持時間は14.55
分となり、生成物−2は生成物−1と同様、syn−
(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンであっ
た。したがって、目的生成物は加水分解しても、2位と
3位の不斉炭素原子の絶体配置は変化しないことより、
目的生成物はsyn体(2S,3R)型であることが判
明し、syn−(2S,3R)−2−{4−[4−(4
−n−デシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾイル
オキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタンであることが確認出来た。
【0164】参考例6(参考例5の化合物の特性) (参考例5の化合物の相転移温度の測定)参考例5の化
合物について、DSC、および後述の液晶表示素子の電
場応答を偏光顕微鏡で観察することにより、相転移温度
を測定した結果は次の通りである。ただし、cry:結
晶相、SCA☆:反強誘電性液晶相、SA:スメクチック
A相およびISO:等方性液体相を表わす。また上段の
値は4℃/minで昇温したとき、下段の値は4℃/m
inで降温したときの相転移温度を表わす。 相転移温度:
合物について、DSC、および後述の液晶表示素子の電
場応答を偏光顕微鏡で観察することにより、相転移温度
を測定した結果は次の通りである。ただし、cry:結
晶相、SCA☆:反強誘電性液晶相、SA:スメクチック
A相およびISO:等方性液体相を表わす。また上段の
値は4℃/minで昇温したとき、下段の値は4℃/m
inで降温したときの相転移温度を表わす。 相転移温度:
【0165】
【化17】
【0166】となり、参考例5の化合物は室温付近を含
む反強誘電性液晶化合物であった。
む反強誘電性液晶化合物であった。
【0167】(液晶表示素子の作成)透明電極付きの2
枚のガラス基板に、ポリイミドをスピンコートした配向
膜をラビング処理し、それぞれのラビング方向が互に平
行となるように、1.7umのギャップ間隔で貼り合せ
て、セルを組み立てた。上記で得たセルに参考例5で得
た化合物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶
状態まで徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させ
た偏光子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相
における分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向
が一致するように設置し、電界無印加時(0V)のと
き、第3安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カ
イラルスメクチックC相に変化させ、その状態を明状態
として用いることより、暗および明の表示を行うことが
出来る液晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が
0Vのとき透過光量が最小となるように偏光子に対する
セルの角度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸
を回転させ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を1
00%とした。
枚のガラス基板に、ポリイミドをスピンコートした配向
膜をラビング処理し、それぞれのラビング方向が互に平
行となるように、1.7umのギャップ間隔で貼り合せ
て、セルを組み立てた。上記で得たセルに参考例5で得
た化合物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶
状態まで徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させ
た偏光子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相
における分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向
が一致するように設置し、電界無印加時(0V)のと
き、第3安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カ
イラルスメクチックC相に変化させ、その状態を明状態
として用いることより、暗および明の表示を行うことが
出来る液晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が
0Vのとき透過光量が最小となるように偏光子に対する
セルの角度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸
を回転させ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を1
00%とした。
【0168】(液晶表示素子の評価)上述で作成した液
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図15
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2us(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/um(25℃において、完
全に明状態になる電圧) チルト角 :30.20(25℃において、しきい
値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、参考例5の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、
3安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図15
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2us(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/um(25℃において、完
全に明状態になる電圧) チルト角 :30.20(25℃において、しきい
値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、参考例5の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、
3安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
【0169】
【発明の効果】本発明は、室温でのスイッチング操作の
容易な反強誘電性液晶化合物の前駆体として有用な新規
のsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアル
カンの提供であり、(S)−2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシヘプタノン−3を金属水素化物で還元し、生成し
たヒドロキシ基をメトキシ化した後、脱トルエンするこ
とにより、効率的に製造することが出来る。
容易な反強誘電性液晶化合物の前駆体として有用な新規
のsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアル
カンの提供であり、(S)−2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシヘプタノン−3を金属水素化物で還元し、生成し
たヒドロキシ基をメトキシ化した後、脱トルエンするこ
とにより、効率的に製造することが出来る。
【図1】参考例3で得られた1−ヒドロキシ−2,2,
2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの
1HNMRスペクトル図である。
2−トリフルオロエチル−4−エトキシブチルケトンの
1HNMRスペクトル図である。
【図2】参考例3中の同定例1で得られた1−ヒドロキ
シ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブ
チルケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
シ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エトキシブ
チルケトンの鏡像異性体混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
【図3】参考例3中の同定例1で得られた(S)−1−
ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エ
トキシブチルケトンの光学活性ガスクロマトグラフィー
のチャートである。
ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチル−4−エ
トキシブチルケトンの光学活性ガスクロマトグラフィー
のチャートである。
【図4】参考例4で得られた2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタノン−3の1HNMRスペクトル図であ
る。
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−1,1,1−トリ
フルオロヘプタノン−3の1HNMRスペクトル図であ
る。
【図5】実施例1の第一段反応の同定例1で得られた7
−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,
3−ジオールの1HNMRスペクトル図である。
−エトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン−2,
3−ジオールの1HNMRスペクトル図である。
【図6】実施例1の第一段反応の同定例1で得られた
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランの 1HN
MRスペクトル図である。
2,2−ジメチル−4−(4−エトキシブチル)−5−
トリフルオロメチル−1,3−ジオキソランの 1HN
MRスペクトル図である。
【図7】実施例1の第三段反応で得られた2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの 1HNM
Rスペクトル図である。
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの 1HNM
Rスペクトル図である。
【図8】実施例1の第三段反応の同定例2で得られた2
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの1HNMRスペクトル図で
ある。
−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの1HNMRスペクトル図で
ある。
【図9】実施例1の第三段反応の同定例2で得られたs
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンお
よびanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなり、その生成比率syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=70/30(面積
比)のジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンお
よびanti−(2S,3S)−2−ヒドロキシ−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンからなり、その生成比率syn体(2S,3R)
型/anti体(2S,3S)型=70/30(面積
比)のジアステレオマー混合物の光学活性ガスクロマト
グラフィーのチャートである。
【図10】実施例1の第三段反応で得られたジアステレ
オマー混合物−1:syn−(2S,3R)−2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン/ant
i−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイル
オキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタン=70/30(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物の光学活性液体クロマトグラフ
ィーのチャートである。
オマー混合物−1:syn−(2S,3R)−2−(4
−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン/ant
i−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイル
オキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−
トリフルオロヘプタン=70/30(面積比)からなる
ジアステレオマー混合物の光学活性液体クロマトグラフ
ィーのチャートである。
【図11】実施例1の第四段反応で得られた本発明化合
物:syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンの光学活性液体クロマト
グラフィーのチャートである。
物:syn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベ
ンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンの光学活性液体クロマト
グラフィーのチャートである。
【図12】実施例1の第四段反応で得られた本発明化合
物:anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンの光学活性液体クロ
マトグラフィーのチャートである。
物:anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンの光学活性液体クロ
マトグラフィーのチャートである。
【図13】実施例2の第三段反応の同定例4で得られた
syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
およびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからな
り、その生成比率syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=40/60(面積比)のジアステ
レオマー混合物の光学活性ガスクロマトグラフィーのチ
ャートである。
syn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキ
シ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン
およびanti−(2S,3S)−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンからな
り、その生成比率syn体(2S,3R)型/anti
体(2S,3S)型=40/60(面積比)のジアステ
レオマー混合物の光学活性ガスクロマトグラフィーのチ
ャートである。
【図14】実施例2の第三段反応の同定例4で得られた
ジアステレオマー混合物−2:syn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン/anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物の光学活性液体ク
ロマトグラフィーのチャートである。
ジアステレオマー混合物−2:syn−(2S,3R)
−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エト
キシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタ
ン/anti−(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタン=40/60(面積
比)からなるジアステレオマー混合物の光学活性液体ク
ロマトグラフィーのチャートである。
【図15】参考例5で得られたsyn−(2S,3R)
−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾ
イルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの1HN
MRスペクトル図である。
−2−{4−[4−(4 −n−デシルフェニル)ベンゾ
イルオキシ]ベンゾイルオキシ}−7−エトキシ−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの1HN
MRスペクトル図である。
【図16】参考例5の同定例で得られた生成物−1:s
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
1HNMRスペクトル図である。
yn−(2S,3R)−2−ヒドロキシ−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンの
1HNMRスペクトル図である。
【図17】参考例5の同定例で得られた生成物−1の光
学活性ガスクロマトグラフィーのチャートである。
学活性ガスクロマトグラフィーのチャートである。
【図18】syn−(2S,3R)−2−{4−[4−
(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾ
イルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの液晶表示素子のダブルヒス
テリシス曲線である。
(4 −n−デシルフェニル)ベンゾイルオキシ]ベンゾ
イルオキシ}−7−エトキシ−3−メトキシ−1,1,
1−トリフルオロヘプタンの液晶表示素子のダブルヒス
テリシス曲線である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年1月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0066
【補正方法】変更
【補正内容】
【0066】
【化15】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0068
【補正方法】変更
【補正内容】
【0068】各目的生成物より、第1フラクションの取
得比率は第三段反応の19FNMRスペクトルの第1ピ
ークの面積比と一致することにより、第1フラクション
はsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンであることが確認される。ま
た光学活性液体クロマトグラフィー分析を行うと1本の
光学活性ピークが得られ、その保持時間からsyn体
(2S,3R)型本発明化合物であることが確認出来
る。
得比率は第三段反応の19FNMRスペクトルの第1ピ
ークの面積比と一致することにより、第1フラクション
はsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンであることが確認される。ま
た光学活性液体クロマトグラフィー分析を行うと1本の
光学活性ピークが得られ、その保持時間からsyn体
(2S,3R)型本発明化合物であることが確認出来
る。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0075
【補正方法】変更
【補正内容】
【0075】
【化18】
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0085
【補正方法】変更
【補正内容】
【0085】この生成物の1HNMRスペクトル、19
FNMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの
生成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光
学的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl3 ) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3 21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext.CF3C
OOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm−1(CO)、3,330cm−1(O
H) MSスペクトル m/z 197(M+)
FNMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、かつこの
生成物の不斉炭素原子の立体配置には無関係であり、光
学的反転は起こらないことより、生成物は原料化合物
(S)−N−(2−ヒドロキシ−3,3,3−トリクル
オロプロピオニル)ピロリジンであることが確認され
た。1 HNMRスペクトル(CDCl3 ) 1.53〜2.37ppm(4H,m)、3 21〜
3.88ppm(4H,m)、4.14ppm(1H,
br)、4.58(1H,q)19 FNMRスペクトル(from ext.CF3C
OOH) −4.2ppm(d,J=6.0) 1R吸収スペクトル(neat) 1,640cm−1(CO)、3,330cm−1(O
H) MSスペクトル m/z 197(M+)
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0104
【補正方法】変更
【補正内容】
【0104】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.86〜1.00ppm(3H)、1.06〜1.2
4ppm(6H)、2.69〜2.80ppm(2
H)、2.95〜3.16ppm(1H)、3.20〜
3.35ppm(2H)、3.52〜3.66ppm
(2H)、4.08〜4.16ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,150cm−1(COC)、3,270cm
−1(OH)、 MSスペクトル m/z. 230(M+) また、1HNMRスペクトル図を図5に示した。
4ppm(6H)、2.69〜2.80ppm(2
H)、2.95〜3.16ppm(1H)、3.20〜
3.35ppm(2H)、3.52〜3.66ppm
(2H)、4.08〜4.16ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,150cm−1(COC)、3,270cm
−1(OH)、 MSスペクトル m/z. 230(M+) また、1HNMRスペクトル図を図5に示した。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0113
【補正方法】変更
【補正内容】
【0113】反応終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペク
トルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピー
クの位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述
の同定例2より、O−メチル化誘導体はsyn体(2
S、3R)型/anti体(2S、3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認された。
液を加えて、中和した後、溶媒を減圧留去した後、飽和
チオ硫酸ソーダ水溶液を加えた後、エーテル抽出し、抽
出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、減圧濃縮し、シロップ状の残渣を得た。この残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液n−ヘキ
サン/イソプロピルアルコール=95/5(容量比)]
で精製し、無色透明な液状のO−メチル化誘導体[収量
5.79g(12.75ミリモル)収率85%]を得
た。得られたO−メチル化誘導体の19FNMRスペク
トルを測定した結果、2本のピークが認められ、各ピー
クの位置と面積比を示すと次の通り19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) したがって、19FNMRスペクトルの結果および後述
の同定例2より、O−メチル化誘導体はsyn体(2
S、3R)型/anti体(2S、3S)型=70/3
0(面積比)からなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認された。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0116
【補正方法】変更
【補正内容】
【0116】1HNMRスペクトル(CDCl3) 0.87〜0.96ppm(3H)、1.09〜1.5
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H)、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm−1(COC)、1,740cm
−1(COO)、3,300cm−1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
3ppm(6H)、2.60〜2.72ppm(2
H)、2.75ppm(3H)、2.87〜3.00p
pm(1H)、3.27〜3.42ppm(2H)、
4.18〜4.35ppm(1H)、5.41ppm
(1H)、6.69〜7.98ppm(4H、ABパタ
ーン)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,110cm−1(COC)、1,740cm
−1(COO)、3,300cm−1(OH)、 MSスペクトル m/z. 364(M+) また、1HNMRスペクトル図を図7に示した。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0118
【補正方法】変更
【補正内容】
【0118】[同定例2:第二段反応で得られたO−メ
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプロンからなり、そ
の生成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)のジアステレオマ
ー混合物−1であることの同定]温度計、攪拌機、還流
冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、実施例
1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導体1.82
g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlとメタノール
80mlを入れ、攪拌しながら、80℃まで昇温し、6
時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、室温まで冷
却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、溶媒を
減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量0.78g
(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
チル化誘導体はsyn体(2S,3R)型/anti体
(2S,3S)型=70/30(面積比)からなるジア
ステレオマー混合物であり、また、第三段反応で得られ
たジアステレオマー混合物−1はsyn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタンおよびanti−(2S,3S)−2−(4−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ−3−メト
キシ−1,1,1−トリフルオロヘプロンからなり、そ
の生成比率syn体(2S,3R)型/anti体(2
S,3S)型=70/30(面積比)のジアステレオマ
ー混合物−1であることの同定]温度計、攪拌機、還流
冷却器、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、実施例
1の第二段反応で得られたO−メチル化誘導体1.82
g(4ミリモル)と、3規定塩酸20mlとメタノール
80mlを入れ、攪拌しながら、80℃まで昇温し、6
時間還流し、加水分解反応を得た。次いで、室温まで冷
却した後、エーテル抽出し、抽出液を20%炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄し、次いで水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した後、溶媒を
減圧留去し、無色透明な液状の生成物[収量0.78g
(3.2ミリモル)収率80%]を得た。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0119
【補正方法】変更
【補正内容】
【0119】この生成物の1HNMRスペクトル、19
FNMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は
2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.81〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm−1(COC)、1,670cm
−1(OH)、 MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図8に示した。
FNMRスペクトル、1R吸収スペクトル、およびMS
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物は
2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−1,
1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.81〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm−1(COC)、1,670cm
−1(OH)、 MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図8に示した。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0121
【補正方法】変更
【補正内容】
【0121】光学活性ガスクロマトグラフィーのチャー
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。
トを示すと図9となった。図9のチャートの解析結果よ
り、2本の光学活性なピークが認められ、各ピークの保
持時間と面積比を示すと次の通り。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0132
【補正方法】変更
【補正内容】
【0132】第1フラクシヨン[syn−(2S,3
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フランクシヨン[anti−(2S,3S)−2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−
エトキシ−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘ
プタン] 保持時間 25.30〜32.30分 収得量 1.95g(5.36ミリモル)収得率63%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −1.86ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間10.11
分 第2フランクシヨン[anti−(2S,3S)−2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタン] 保持時間 34.25〜44.25分 収得量 0.83g(2.30ミリモル)収得率27%19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −2.33ppm 光学活性液体クロマトグラフィー:保持時間11.46
分
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0140
【補正方法】変更
【補正内容】
【0140】この生成物の1HNMRスペクトル、1R
吸収スペクトル、およびMSスペクトルを測定した結果
は実施例1の第三段反応と同じであり、生成物は2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19FNMR
スペクトルを測定した結果、2本のピークが認められ、
各ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH)
吸収スペクトル、およびMSスペクトルを測定した結果
は実施例1の第三段反応と同じであり、生成物は2−
(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−7−エトキシ
−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロヘプタンで
あることが確認された。得られた生成物の19FNMR
スペクトルを測定した結果、2本のピークが認められ、
各ピークの位置と面積比を示すと次の通り。19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH)
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0160
【補正方法】変更
【補正内容】
【0160】この生成物−1の1HNMRスペクトル、
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびM
Sスペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物
−1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm−1(COC)、1,670cm
−1(OH) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
19FNMRスペクトル、1R吸収スペクトルおよびM
Sスペクトルを測定した結果は次の通りであり、生成物
−1は2−ヒドロキシ−7−エトキシ−3−メトキシ−
1,1,1−トリフルオロヘプタンであった。1 HNMRスペクトル(CDCl3) 0.80〜1.00ppm(3H)、1.04〜1.3
0ppm(6H)、2.48〜2.64ppm(3
H)、2.69ppm(3H)、2.84〜3.00p
pm(1H)、3.12〜3.26ppm(2H)、
3.77〜3.90ppm(1H)、4.02〜4.1
4ppm(1H)19 FNMRスペクトル(from ext. CF3
COOH) −2.12ppm 1R吸収スペクトル(neat) 1,120cm−1(COC)、1,670cm
−1(OH) MSスペクトル m/z 244(M+) また、1HNMRスペクトル図を図16に示した。
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0167
【補正方法】変更
【補正内容】
【0167】(液晶表示素子の作成)透明電極付きの2
枚のガラス基板に、ポリイミドをスピンコートした配向
膜をラビング処理し、それぞれのラビング方向が互に平
行となるように、1.7μmのギャップ間隔で貼り合せ
て、セルを組み立てた。上記で得たセルに参考例5で得
た化合物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶
状態まで徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させ
た偏光子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相
における分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向
が一致するように設置し、電界無印加時(0V)のと
き、第3安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カ
イラルスメクチックC相に変化させ、その状態を明状態
として用いることより、暗および明の表示を行うことが
出来る液晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が
0Vのとき透過光量が最小となるように偏光子に対する
セルの角度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸
を回転させ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を1
00%とした。
枚のガラス基板に、ポリイミドをスピンコートした配向
膜をラビング処理し、それぞれのラビング方向が互に平
行となるように、1.7μmのギャップ間隔で貼り合せ
て、セルを組み立てた。上記で得たセルに参考例5で得
た化合物を等方性液体相にして注入した。次いで、液晶
状態まで徐冷した。この液晶入セルを透過軸を直交させ
た偏光子と検光子とで挟み、カイラルスメクチックC相
における分子層の法線方向と偏光子または検光子の方向
が一致するように設置し、電界無印加時(0V)のと
き、第3安定状態を暗状態とし、電界印加によって、カ
イラルスメクチックC相に変化させ、その状態を明状態
として用いることより、暗および明の表示を行うことが
出来る液晶表示素子を作成した。すなわち、印加電圧が
0Vのとき透過光量が最小となるように偏光子に対する
セルの角度を調整した。なお透過光量は検光子の透過軸
を回転させ、偏光子の透過軸と一致させたときの値を1
00%とした。
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0168
【補正方法】変更
【補正内容】
【0168】(液晶表示素子の評価)上述で作成した液
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図15
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2μs(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/μm(25℃において、完
全に明状態になる電圧 チルト角 :30.20°(25℃において、しき
い値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、参考例5の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、
3安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
晶表示素子を用い、25℃において、印加電圧±8.7
Vに対する透過光量変化を測定した図を示すと、図15
となった。図より、1つの暗状態と2つの明状態を示し
たダブルヒステリシス曲線が得られた。また、25℃に
おける印加電圧変化に対する透過光量変化により、液晶
表示素子の性能評価を行った結果は以下の通りであっ
た。 応答時間 :28.2μs(25℃において明状態
から暗状態に変化させた時間) しきい値電圧:5.12V/μm(25℃において、完
全に明状態になる電圧 チルト角 :30.20°(25℃において、しき
い値電圧のときの光軸が偏光子となる角度) 以上の結果、参考例5の化合物は室温付近で反強誘電性
液晶相を有し、それを用いた液晶表示素子は25℃で、
3安定状態を有するダブルヒステリシス曲線を示し、応
答時間が早く、しきい値電圧が低く、かつチルト角が大
きく、大画面ディスプレイ材料等として優れた反強誘電
性液晶化合物であることが確認出来た。
【手続補正16】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0169
【補正方法】変更
【補正内容】
【0169】
【発明の効果】本発明は、室温でのスイッチング操作の
容易な反強誘電性液晶化合物の前駆体として有用な新規
のsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアル
カンの提供であり、(S)−2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシヘプタノン−3を金属水素化物で還元し、生成し
た反応生成物をメトキシ化した後、脱トルエンすること
により、効率的に製造することが出来る。
容易な反強誘電性液晶化合物の前駆体として有用な新規
のsyn−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベン
ゾイルオキシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフル
オロ末端エトキシアルカンおよびanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアル
カンの提供であり、(S)−2−(4−ベンジルオキシ
ベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシヘプタノン−3を金属水素化物で還元し、生成し
た反応生成物をメトキシ化した後、脱トルエンすること
により、効率的に製造することが出来る。
【手続補正17】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図12
【補正方法】変更
【補正内容】
【図12】
【手続補正18】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図14
【補正方法】変更
【補正内容】
【図14】
【手続補正19】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図15
【補正方法】変更
【補正内容】
【図15】
Claims (3)
- 【請求項1】 式(1) 【化1】 (式中、mは3〜6の整数を表わす)で示されるsyn
−(2S,3R)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端
エトキシアルカン。 - 【請求項2】式(2) 【化2】 [式中、mは式(1)と同じ]で示されるanti−
(2S,3S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキ
シ)−3−メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エ
トキシアルカン。 - 【請求項3】有機溶媒中で、式(3) 【化3】 [式中、mは上と同じ]で示される(S)−2−(4−
ベンジルオキシベンゾイルオキシ)−1,1,1−トリ
フルオロ末端エトキシアルカノン−3を金属水素化物を
用いて還元し、次いで反応生成物とヨウ化メチルを反応
させO−メチル化誘導体を得、次いで溶媒中で、該O−
メチル化誘導体をパラジウム/炭素触媒の存在下水素を
用いて還元し、得られたジアステレオマー混合物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで分取することを特徴
とする請求項(1)記載のsyn−(2S,3R)−2
−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−メトキシ
−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアルカンおよ
び/または請求項(2)記載のanti−(2S,3
S)−2−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−3−
メトキシ−1,1,1−トリフルオロ末端エトキシアル
カンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23760795A JPH0959221A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | syn体(2S,3R)型およびanti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23760795A JPH0959221A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | syn体(2S,3R)型およびanti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959221A true JPH0959221A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=17017830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23760795A Pending JPH0959221A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | syn体(2S,3R)型およびanti体(2S,3S)型3−メトキシアルカン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959221A (ja) |
-
1995
- 1995-08-23 JP JP23760795A patent/JPH0959221A/ja active Pending
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