JPH0962005A - ネガ型感光性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 64
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 32
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 24
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 45
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 25
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 58
- -1 hydroxy imide compound Chemical class 0.000 description 48
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 40
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 7
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 150000007978 oxazole derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDOWNLMZVKJRSC-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 CDOWNLMZVKJRSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100518501 Mus musculus Spp1 gene Proteins 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 244000309464 bull Species 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical class CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CCl DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGCGFUOYEVLOPJ-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC(O)OC1=CC=CC=C1 SGCGFUOYEVLOPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004814 1,1-dimethylethylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([*:1])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005656 1,2-cyclobutylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000005654 1,2-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([*:2])C([H])([*:1])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004815 1,2-dimethylethylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([*:2])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004830 1-ethyl-1-methylethylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([*:1])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethenylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=C)C1=CC=CC=C1 ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical group CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLLSSPDPJPLOR-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbut-2-ene Chemical group CC(C)=C(C)C WGLLSSPDPJPLOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVUARPCSZQNJJZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(C=C)C=C1 TVUARPCSZQNJJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJWRLHIZONGPGV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-3-hydroxyterephthalic acid Chemical compound CCC1=C(O)C(C(O)=O)=CC=C1C(O)=O IJWRLHIZONGPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXTNFIYGTWARIN-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enylbenzene Chemical group CC(=C)CC1=CC=CC=C1 MXTNFIYGTWARIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Polymers OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABZJDNLKVWSLPM-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylethyl prop-2-enoate Chemical compound SCCOC(=O)C=C ABZJDNLKVWSLPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDCKRJKSXAFBHB-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethenylphenyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 JDCKRJKSXAFBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 3-chlorofuran-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)OC1=O CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=C)=C1 YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)O JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100132433 Arabidopsis thaliana VIII-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical group CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical class C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N icos-1-ene Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M sodium bisulfate Chemical compound [Na+].OS([O-])(=O)=O WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000342 sodium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- RSEHMVDVWGHIAQ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OC(C)(C)C)=CC=CC2=C1 RSEHMVDVWGHIAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 鮮明なネガ画像が作成可能な新規な感光性組
成物が得られ、更に露光光源の発光波長に依存せずに記
録可能な感光性組成物、特に近赤外から赤外(熱線)で
記録可能な感光性組成物を得る。また、鮮明なネガ画像
が作成可能な新規な画像記録材料の製造方法を提供す
る。更に、近赤外から赤外に発光領域をもつ固体レーザ
・半導体レーザ(熱モード)を用いて、コンピュータ等
のディジタルデータを直接記録することが可能で、かつ
従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用できるヒート
モード書き込み型ダイレクト製版用平版印刷版を得るこ
とができる。 【解決手段】 酸前駆体、特定のヒドロキシイミド化合
物、および水酸基を有する線状高分子を含むことを特徴
とするネガ型感光性組成物、及びそれを用いた画像記録
材料の製造方法。
成物が得られ、更に露光光源の発光波長に依存せずに記
録可能な感光性組成物、特に近赤外から赤外(熱線)で
記録可能な感光性組成物を得る。また、鮮明なネガ画像
が作成可能な新規な画像記録材料の製造方法を提供す
る。更に、近赤外から赤外に発光領域をもつ固体レーザ
・半導体レーザ(熱モード)を用いて、コンピュータ等
のディジタルデータを直接記録することが可能で、かつ
従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用できるヒート
モード書き込み型ダイレクト製版用平版印刷版を得るこ
とができる。 【解決手段】 酸前駆体、特定のヒドロキシイミド化合
物、および水酸基を有する線状高分子を含むことを特徴
とするネガ型感光性組成物、及びそれを用いた画像記録
材料の製造方法。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、オフセット印刷マ
スターとして使用でき、鮮明なネガ画像が得られる感光
性組成物、及び画像記録材料の製造方法に関するもので
あり、特に、平版印刷版、多色印刷の校正刷り、オーバ
ーヘッドプロジェクター用図面、さらには半導体素子の
集積回路を製造する際に優れたレジストパターンを形成
することが可能な感光性組成物、及び画像記録材料の製
造方法に関する。
スターとして使用でき、鮮明なネガ画像が得られる感光
性組成物、及び画像記録材料の製造方法に関するもので
あり、特に、平版印刷版、多色印刷の校正刷り、オーバ
ーヘッドプロジェクター用図面、さらには半導体素子の
集積回路を製造する際に優れたレジストパターンを形成
することが可能な感光性組成物、及び画像記録材料の製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、種々の光硬化性材料を利用した画
像形成法は多数知られており、印刷版、プリント回路、
塗料、インキ、ホログラム記録、3次元造形等の広い分
野に用いられている。例えば、光硬化性材料を支持体上
に皮膜層として設け、所望画像を像露光して露光部分を
硬化させ、未露光部を溶解除去することにより硬化レリ
ーフ画像を形成する方法、少なくとも一方が透明である
2枚の支持体間に上述の光重合性の層を設け、透明支持
体側より像露光し光による接着強度の変化を誘起させた
後、支持体を剥離することにより画像を形成する方法、
光硬化性組成物およびロイコ色素等の色材料を内容物に
有するマイクロカプセル層を設けた感光材料を作成し、
該感光材料を画像露光して露光部分のカプセルを光硬化
させ、未露光部分のカプセルを加圧処理、あるいは加熱
処理により破壊し、色材料顕色剤と接触させることによ
り発色させ着色画像を形成する方法、その他、硬化性組
成物の光によるトナー付着性の変化を利用した画像形成
法、硬化性組成物の光による屈折率の変化を利用した画
像形成法等が知られている。
像形成法は多数知られており、印刷版、プリント回路、
塗料、インキ、ホログラム記録、3次元造形等の広い分
野に用いられている。例えば、光硬化性材料を支持体上
に皮膜層として設け、所望画像を像露光して露光部分を
硬化させ、未露光部を溶解除去することにより硬化レリ
ーフ画像を形成する方法、少なくとも一方が透明である
2枚の支持体間に上述の光重合性の層を設け、透明支持
体側より像露光し光による接着強度の変化を誘起させた
後、支持体を剥離することにより画像を形成する方法、
光硬化性組成物およびロイコ色素等の色材料を内容物に
有するマイクロカプセル層を設けた感光材料を作成し、
該感光材料を画像露光して露光部分のカプセルを光硬化
させ、未露光部分のカプセルを加圧処理、あるいは加熱
処理により破壊し、色材料顕色剤と接触させることによ
り発色させ着色画像を形成する方法、その他、硬化性組
成物の光によるトナー付着性の変化を利用した画像形成
法、硬化性組成物の光による屈折率の変化を利用した画
像形成法等が知られている。
【0003】この様な画像形成に使用される光硬化性材
料としては多数の技術が公開されているが、代表的なも
のとして重クロム酸塩等を利用した架橋材料、ケイ皮酸
ビニル等の光2量化型架橋材料、アジド基ペンダント型
架橋材料、ビスアジドによる架橋材料、ジメチルマレイ
ミドの光2量型架橋材料、ラジカル重合性モノマー、光
ラジカル開始剤を主成分とする光ラジカル重合材料、カ
チオン重合性モノマー、光酸発生剤を主成分とする光カ
チオン重合材料、エポキシ基等を含有する樹脂と光酸発
生剤よりなる光架橋材料、ジアゾ樹脂、バインダーから
なるジアゾ硬化型材料等があり、用途、目的により適宜
に単独系または複合系で使用される。いずれにしても、
露光前と露光後の物性変化の大きい材料ほど、使用時の
処理のラチチュード、使用環境ラチチュードが大きく実
用に供しやすい。例えば、露光部と未露光部の現像液
(アルカリ水溶液等)への溶解性が大きく異なれば、現
像で得られた画像は現像液の濃度変化や現像液の温度の
影響を受けることが小さく鮮明な一定した画質を得易く
なる。従来の光硬化性材料で実用に供されているものは
この様に、光さらに必要に応じ加熱等の処理を加えるこ
とにより光硬化性材料の物性が大きくかわるものであ
り、このような性質を有する新規材料の更なる開発が望
まれていた。
料としては多数の技術が公開されているが、代表的なも
のとして重クロム酸塩等を利用した架橋材料、ケイ皮酸
ビニル等の光2量化型架橋材料、アジド基ペンダント型
架橋材料、ビスアジドによる架橋材料、ジメチルマレイ
ミドの光2量型架橋材料、ラジカル重合性モノマー、光
ラジカル開始剤を主成分とする光ラジカル重合材料、カ
チオン重合性モノマー、光酸発生剤を主成分とする光カ
チオン重合材料、エポキシ基等を含有する樹脂と光酸発
生剤よりなる光架橋材料、ジアゾ樹脂、バインダーから
なるジアゾ硬化型材料等があり、用途、目的により適宜
に単独系または複合系で使用される。いずれにしても、
露光前と露光後の物性変化の大きい材料ほど、使用時の
処理のラチチュード、使用環境ラチチュードが大きく実
用に供しやすい。例えば、露光部と未露光部の現像液
(アルカリ水溶液等)への溶解性が大きく異なれば、現
像で得られた画像は現像液の濃度変化や現像液の温度の
影響を受けることが小さく鮮明な一定した画質を得易く
なる。従来の光硬化性材料で実用に供されているものは
この様に、光さらに必要に応じ加熱等の処理を加えるこ
とにより光硬化性材料の物性が大きくかわるものであ
り、このような性質を有する新規材料の更なる開発が望
まれていた。
【0004】また、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に近赤外から赤外に発光領域をもつ固体レーザ
・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手でき
るようになってきている。これらのレーザはコンピュー
タ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源
として非常に有用である。
しく、特に近赤外から赤外に発光領域をもつ固体レーザ
・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手でき
るようになってきている。これらのレーザはコンピュー
タ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源
として非常に有用である。
【0005】従来、コンピュータのディジタルデータか
ら直接描画できる平版印刷版として、電子写真方式を利
用した印刷版、アルゴンレーザやYAGレーザによる露
光、必要に応じ後加熱を組み合わせた光重合系印刷版、
感光性樹脂上に銀塩感材を積層したもの、銀塩拡散転写
式のもの、放電やレーザ光によりシリコーンゴム層を破
壊するタイプの印刷版等が知られている。
ら直接描画できる平版印刷版として、電子写真方式を利
用した印刷版、アルゴンレーザやYAGレーザによる露
光、必要に応じ後加熱を組み合わせた光重合系印刷版、
感光性樹脂上に銀塩感材を積層したもの、銀塩拡散転写
式のもの、放電やレーザ光によりシリコーンゴム層を破
壊するタイプの印刷版等が知られている。
【0006】電子写真方式を用いるものは、帯電、露
光、現像処理が煩雑であり、装置が複雑で大型になる。
光重合型印刷版は本来感度に限界があり、小型レーザー
の使用が困難であり、かつ明室での取扱いが難しい。銀
塩感材を積層したもの、銀塩拡散転写式のものは、処理
が煩雑であり、コストが高くなる欠点を有する。また、
レーザーによりシリコーンゴム層を破壊するタイプのも
のは、版面に残るシリコーン滓の除去に問題点を残して
いる。
光、現像処理が煩雑であり、装置が複雑で大型になる。
光重合型印刷版は本来感度に限界があり、小型レーザー
の使用が困難であり、かつ明室での取扱いが難しい。銀
塩感材を積層したもの、銀塩拡散転写式のものは、処理
が煩雑であり、コストが高くなる欠点を有する。また、
レーザーによりシリコーンゴム層を破壊するタイプのも
のは、版面に残るシリコーン滓の除去に問題点を残して
いる。
【0007】これらの光源を利用して、画像形成可能な
技術として、特開昭52−113219号公報には、光
および熱で分解する化合物(例えばジアゾニウム化合
物)と光を吸収し熱に変えることのできる物質粒子と結
着剤とからなるポジ型記録材料が開示されている。ま
た、特開昭58−148792号公報には、熱可塑性樹
脂粒子と光―熱変換物質と光架橋性物質(例えばジアゾ
ニウム化合物)を主成分とするポジ型の感光、感熱記録
材料が開示されている。
技術として、特開昭52−113219号公報には、光
および熱で分解する化合物(例えばジアゾニウム化合
物)と光を吸収し熱に変えることのできる物質粒子と結
着剤とからなるポジ型記録材料が開示されている。ま
た、特開昭58−148792号公報には、熱可塑性樹
脂粒子と光―熱変換物質と光架橋性物質(例えばジアゾ
ニウム化合物)を主成分とするポジ型の感光、感熱記録
材料が開示されている。
【0008】しかしながら、上記レーザを光源として利
用できる記録材料は感度が低く、更に直接製版の場合、
コンピュータ等のディジタルデータを直接、レーザビー
ムをスキャンさせて版材に書き込むので、上記ポジ型材
料はかなりの書き込み時間を必要とする。そのため、書
き込み時間が短縮できる近赤外から赤外に発光領域をも
つ固体レーザ・半導体レーザ(熱モード)可能な高感度
な材料(できればネガ型)の開発が望まれていた。この
ように従来のコンピュータのディジタルデータから直接
描画できる平版印刷版は、十分満足できるものではな
い。
用できる記録材料は感度が低く、更に直接製版の場合、
コンピュータ等のディジタルデータを直接、レーザビー
ムをスキャンさせて版材に書き込むので、上記ポジ型材
料はかなりの書き込み時間を必要とする。そのため、書
き込み時間が短縮できる近赤外から赤外に発光領域をも
つ固体レーザ・半導体レーザ(熱モード)可能な高感度
な材料(できればネガ型)の開発が望まれていた。この
ように従来のコンピュータのディジタルデータから直接
描画できる平版印刷版は、十分満足できるものではな
い。
【0009】一方、上記のような新規材料を用いて、種
々の画像記録材料の製造方法がある。それらの製造方法
においては、それらの新規材料の優れた性質を十分発揮
させ、優れた画像が得られる方法が要求される。
々の画像記録材料の製造方法がある。それらの製造方法
においては、それらの新規材料の優れた性質を十分発揮
させ、優れた画像が得られる方法が要求される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、鮮明
なネガ画像が作成可能な新規な感光性組成物を提供する
ことである。本発明の更なる目的は、露光光源の発光波
長に依存せずに記録可能な感光性組成物を提供すること
であり、特に近赤外から赤外(熱線)で記録可能な感光
性組成物を提供することにある。本発明の他の目的は、
鮮明なネガ画像が作成可能な新規な画像記録材料の製造
方法を提供することである。更に本発明の目的は、近赤
外から赤外に発光領域をもつ固体レーザ・半導体レーザ
(熱モード)を用いて、コンピュータ等のディジタルデ
ータを直接記録することが可能で、かつ従来の処理装置
や印刷装置をそのまま利用できるヒートモード書き込み
型ダイレクト製版用平版印刷版を提供することである。
なネガ画像が作成可能な新規な感光性組成物を提供する
ことである。本発明の更なる目的は、露光光源の発光波
長に依存せずに記録可能な感光性組成物を提供すること
であり、特に近赤外から赤外(熱線)で記録可能な感光
性組成物を提供することにある。本発明の他の目的は、
鮮明なネガ画像が作成可能な新規な画像記録材料の製造
方法を提供することである。更に本発明の目的は、近赤
外から赤外に発光領域をもつ固体レーザ・半導体レーザ
(熱モード)を用いて、コンピュータ等のディジタルデ
ータを直接記録することが可能で、かつ従来の処理装置
や印刷装置をそのまま利用できるヒートモード書き込み
型ダイレクト製版用平版印刷版を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目標を達成するため
に種々のネガ型感光材料の探索を行っていたが、水酸基
を有する線状高分子が、酸存在下で、一般式(I)で示
されるヒドロキシイミド化合物により効率よく架橋され
ることを見いだした。更に、水酸基を有する線状高分
子、酸前駆体、ヒドロキシイミド化合物からなる感光性
組成物溶液に、輻射線を吸収する物質(例えばカーボン
ブラック分散溶液)を混合し、支持体に塗布乾燥した皮
膜が、YAGレーザー光の照射により、熱架橋し、溶剤
やアルカリ水溶液に不溶になる事実を見いだし、本発明
に到達した。本発明はすなわち、 (1)酸前駆体、下記一般式(I)で示される化合物、
および水酸基を有する線状高分子を含むことを特徴とす
るネガ型感光性組成物であり、この発明により上記目的
を達成できる。
に種々のネガ型感光材料の探索を行っていたが、水酸基
を有する線状高分子が、酸存在下で、一般式(I)で示
されるヒドロキシイミド化合物により効率よく架橋され
ることを見いだした。更に、水酸基を有する線状高分
子、酸前駆体、ヒドロキシイミド化合物からなる感光性
組成物溶液に、輻射線を吸収する物質(例えばカーボン
ブラック分散溶液)を混合し、支持体に塗布乾燥した皮
膜が、YAGレーザー光の照射により、熱架橋し、溶剤
やアルカリ水溶液に不溶になる事実を見いだし、本発明
に到達した。本発明はすなわち、 (1)酸前駆体、下記一般式(I)で示される化合物、
および水酸基を有する線状高分子を含むことを特徴とす
るネガ型感光性組成物であり、この発明により上記目的
を達成できる。
【0012】
【化2】
【0013】式中、Aは2価の置換もしくは未置換の脂
肪族残基、2価の置換もしくは未置換の芳香族残基を示
す。 (2) 輻射線を吸収する物質を含むことを特徴とする
上記(1)に記載のネガ型感光性組成物。 (3) 前記(1)に記載の感光性組成物を、画像露光
後加熱処理、更に現像処理を行うことを特徴とする画像
記録材料の製造方法。本発明の好ましい実施態様とし
て、下記(4)〜(8)のものが挙げられる。 (4)支持体上に、赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱
を発生する物質、酸前駆体、水酸基を有する線状高分子
化合物、および一般式(I)で表される化合物を含む層
を設けてなることを特徴とするヒートモード書き込み型
ダイレクト製版用平版印刷版であるネガ型感光性組成
物。 (5)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として染料を用いる上記(4)の感光性組成物。 (6)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として顔料を用いる上記(4)の感光性組成物。 (7)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質としてカーボンブラックを用いる上記(4)の感光性
組成物。 (8)支持体としてポリエステルフイルムを用いる上記
(4)の感光性組成物。 (9)支持体としてアルミ板を用いる上記(4)の感光
性組成物。 (10)支持体上に、赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱
を発生する物質、酸前駆体、水酸基を有する線状高分子
化合物、および一般式(I)で表される化合物を含む層
を設けてなるネガ感光性組成物を、近赤外もしくは赤外
光を発するレーザを用いて露光し、その後アルカリ水で
現像することを特徴とするネガ型画像記録方法。
肪族残基、2価の置換もしくは未置換の芳香族残基を示
す。 (2) 輻射線を吸収する物質を含むことを特徴とする
上記(1)に記載のネガ型感光性組成物。 (3) 前記(1)に記載の感光性組成物を、画像露光
後加熱処理、更に現像処理を行うことを特徴とする画像
記録材料の製造方法。本発明の好ましい実施態様とし
て、下記(4)〜(8)のものが挙げられる。 (4)支持体上に、赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱
を発生する物質、酸前駆体、水酸基を有する線状高分子
化合物、および一般式(I)で表される化合物を含む層
を設けてなることを特徴とするヒートモード書き込み型
ダイレクト製版用平版印刷版であるネガ型感光性組成
物。 (5)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として染料を用いる上記(4)の感光性組成物。 (6)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として顔料を用いる上記(4)の感光性組成物。 (7)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質としてカーボンブラックを用いる上記(4)の感光性
組成物。 (8)支持体としてポリエステルフイルムを用いる上記
(4)の感光性組成物。 (9)支持体としてアルミ板を用いる上記(4)の感光
性組成物。 (10)支持体上に、赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱
を発生する物質、酸前駆体、水酸基を有する線状高分子
化合物、および一般式(I)で表される化合物を含む層
を設けてなるネガ感光性組成物を、近赤外もしくは赤外
光を発するレーザを用いて露光し、その後アルカリ水で
現像することを特徴とするネガ型画像記録方法。
【0014】本発明は、露光、必要により加熱処理、現
像処理を行うことにより、水酸基を有する線状高分子化
合物と一般式(I)で表される化合物とを酸前駆体より
生じた酸存在下で熱架橋させて、優れたネガ画像を作成
するものである。
像処理を行うことにより、水酸基を有する線状高分子化
合物と一般式(I)で表される化合物とを酸前駆体より
生じた酸存在下で熱架橋させて、優れたネガ画像を作成
するものである。
【0015】本発明は、また、露光による光エネルギー
を熱エネルギーに変換し、発生した熱エネルギーによ
り、水酸基を有する線状高分子化合物と一般式(I)で
表される化合物とを酸前駆体より生じた酸存在下で熱架
橋させ、優れたネガ画像を作成するものである。ここ
で、輻射線が、赤外光もしくは近赤外光であると、熱モ
ードでの記録を良好にすることができ好ましい。本発明
において、赤外光もしくは近赤外光を吸収する物質が、
染料であると露光後の現像性の点で好ましく、また顔料
であると感度が良好になり好ましい。カーボンブラック
の場合は吸収波長域が広くかつ感度が高いという点で好
ましい。
を熱エネルギーに変換し、発生した熱エネルギーによ
り、水酸基を有する線状高分子化合物と一般式(I)で
表される化合物とを酸前駆体より生じた酸存在下で熱架
橋させ、優れたネガ画像を作成するものである。ここ
で、輻射線が、赤外光もしくは近赤外光であると、熱モ
ードでの記録を良好にすることができ好ましい。本発明
において、赤外光もしくは近赤外光を吸収する物質が、
染料であると露光後の現像性の点で好ましく、また顔料
であると感度が良好になり好ましい。カーボンブラック
の場合は吸収波長域が広くかつ感度が高いという点で好
ましい。
【0016】本発明において、支持体としてポリエステ
ルを用いると軽量である点、透光性画像ができる点で好
ましく、アルミ板を用いると、寸度安定性、耐久性の面
で優れる。本発明の感光性組成物は、赤外光もしくは近
赤外光を発するレーザを用いて露光し、その後アルカリ
水で現像する記録方法されるのが好ましい。
ルを用いると軽量である点、透光性画像ができる点で好
ましく、アルミ板を用いると、寸度安定性、耐久性の面
で優れる。本発明の感光性組成物は、赤外光もしくは近
赤外光を発するレーザを用いて露光し、その後アルカリ
水で現像する記録方法されるのが好ましい。
【0017】また、本発明の感光性組成物が、平版印刷
版である場合、ヒートモード書き込み型ダイレクト製版
用平版印刷版であることが好ましい。ヒートモード書き
込みとは、適当な熱線源を用い、ディジタルデータを基
にこの熱線源を制御し、感光性組成物へ記録することで
ある。この際の熱線源としては、ファクシミリ、感熱複
写機等に使用されているサーマルヘッドや赤外光もしく
は近赤外光を発するレーザであるが、ダイレクト製版用
としては、赤外光もしくは近赤外光を発するレーザが好
ましい。
版である場合、ヒートモード書き込み型ダイレクト製版
用平版印刷版であることが好ましい。ヒートモード書き
込みとは、適当な熱線源を用い、ディジタルデータを基
にこの熱線源を制御し、感光性組成物へ記録することで
ある。この際の熱線源としては、ファクシミリ、感熱複
写機等に使用されているサーマルヘッドや赤外光もしく
は近赤外光を発するレーザであるが、ダイレクト製版用
としては、赤外光もしくは近赤外光を発するレーザが好
ましい。
【0018】本発明で使用される好ましい光は、近赤外
線、赤外線であり、この内赤外線は一般に熱線とも呼ば
れており、赤外線で本発明の記録を行う場合、本発明は
感熱性とも言える。
線、赤外線であり、この内赤外線は一般に熱線とも呼ば
れており、赤外線で本発明の記録を行う場合、本発明は
感熱性とも言える。
【0019】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。次
に本発明に使用される一般式(I)で示されるヒドロキ
シイミド化合物について説明する。式中、Aは2価の置
換もしくは未置換の脂肪族残基、2価の置換もしくは未
置換の芳香族基を挙げることができる。一般式(I)に
おいて、Aの2価の脂肪族残基としては直鎖、分岐およ
び/または環状のものであり、飽和結合および/または
不飽和結合を有し、好ましくは炭素原子数が2〜20の
ものである。例えばエチレン基、トリエチレン基、プロ
ピレン基、エチルエチレン基、1,1−ジメチルエチレ
ン基、1−エチル−1−メチルエチレン基、1,2−ジ
メチルエチレン基、テトラメチルエチレン基、ドデシル
エチレン基、オクタデシルエチレン基、2−メチルトリ
メチレン基、2−エチルトリメチレン基、1,1−ジメ
チルトリメチレン基、2,2−ジメチルトリメチレン
基、2−エチル−2−メチルトリメチレン基、1−エチ
ル−3−メチルトリメチレン基、1,2−シクロブチレ
ン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,2,2−トリ
メチル−1,3−シクロペンチレン基、2,3−ノルボ
ルニレン基、ビニレン基、メチルビニレン基、1,1−
ジメチルビニレン基、メチレンエチレン基、ノネニルエ
チレン基、ドデシニルエチレン基、オクタドデセニルエ
チレン基、1−シクロヘキセン−1,2−イレン基、4
−シクロヘキセン−1,2−イレン基、5−メチル−4
−シクロヘキセン−1,2−イレン基、4,5,6−ト
リメチル−4−シクロヘキセン−1,2−イレン基、5
−ノルボルネン−2,3−イレン基、ビシクロ〔2,
2,2〕オクト−5−エン−2,3−イレン基などが含
まれる。
に本発明に使用される一般式(I)で示されるヒドロキ
シイミド化合物について説明する。式中、Aは2価の置
換もしくは未置換の脂肪族残基、2価の置換もしくは未
置換の芳香族基を挙げることができる。一般式(I)に
おいて、Aの2価の脂肪族残基としては直鎖、分岐およ
び/または環状のものであり、飽和結合および/または
不飽和結合を有し、好ましくは炭素原子数が2〜20の
ものである。例えばエチレン基、トリエチレン基、プロ
ピレン基、エチルエチレン基、1,1−ジメチルエチレ
ン基、1−エチル−1−メチルエチレン基、1,2−ジ
メチルエチレン基、テトラメチルエチレン基、ドデシル
エチレン基、オクタデシルエチレン基、2−メチルトリ
メチレン基、2−エチルトリメチレン基、1,1−ジメ
チルトリメチレン基、2,2−ジメチルトリメチレン
基、2−エチル−2−メチルトリメチレン基、1−エチ
ル−3−メチルトリメチレン基、1,2−シクロブチレ
ン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,2,2−トリ
メチル−1,3−シクロペンチレン基、2,3−ノルボ
ルニレン基、ビニレン基、メチルビニレン基、1,1−
ジメチルビニレン基、メチレンエチレン基、ノネニルエ
チレン基、ドデシニルエチレン基、オクタドデセニルエ
チレン基、1−シクロヘキセン−1,2−イレン基、4
−シクロヘキセン−1,2−イレン基、5−メチル−4
−シクロヘキセン−1,2−イレン基、4,5,6−ト
リメチル−4−シクロヘキセン−1,2−イレン基、5
−ノルボルネン−2,3−イレン基、ビシクロ〔2,
2,2〕オクト−5−エン−2,3−イレン基などが含
まれる。
【0020】また、Aの2価の置換脂肪族残基は、上記
の如き2価の脂肪族残基に例えばフェニル基などのアリ
ール基が置換したもの、酸素原子により構造中にエーテ
ル結合を形成させたもの、あるいはクロロ基などのハロ
ゲン基が置換したものなどが含まれる。例えば、1−メ
チル−1−フェニルエチレン基、1−ベンジル−1−メ
チルエチレン基、1−フェニルエチレン基、1,1−ジ
フェニルエチレン基、1−フェニルトリメチレン基、2
−フェニルトリメチレン基、1−エチル−1−フェニル
トリメチレン基、フェニルビニレン基、3,6−オキソ
−1,2,3,6−テトラヒドロフタリル基、1,4,
5,6,7,7−ヘキサクロロ−5−ノルボルネン−
2,3−イレン基などが挙げられる。Aの2価の芳香族
残基としては、アリーレン基および複素芳香族残基を含
み、好ましくは単環あるいは2環のものであり、例え
ば、O−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、1,8
−ナフチレン基、2,3−ピリジイリル基、2,3−ピ
ラジンジイル基、2,3−ベンゾ〔b〕チオフェンジイ
ル基などが含まれる。
の如き2価の脂肪族残基に例えばフェニル基などのアリ
ール基が置換したもの、酸素原子により構造中にエーテ
ル結合を形成させたもの、あるいはクロロ基などのハロ
ゲン基が置換したものなどが含まれる。例えば、1−メ
チル−1−フェニルエチレン基、1−ベンジル−1−メ
チルエチレン基、1−フェニルエチレン基、1,1−ジ
フェニルエチレン基、1−フェニルトリメチレン基、2
−フェニルトリメチレン基、1−エチル−1−フェニル
トリメチレン基、フェニルビニレン基、3,6−オキソ
−1,2,3,6−テトラヒドロフタリル基、1,4,
5,6,7,7−ヘキサクロロ−5−ノルボルネン−
2,3−イレン基などが挙げられる。Aの2価の芳香族
残基としては、アリーレン基および複素芳香族残基を含
み、好ましくは単環あるいは2環のものであり、例え
ば、O−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、1,8
−ナフチレン基、2,3−ピリジイリル基、2,3−ピ
ラジンジイル基、2,3−ベンゾ〔b〕チオフェンジイ
ル基などが含まれる。
【0021】また、Aの2価の置換芳香族残基は、上記
の如き2価の芳香族残基に、例えばメチル基などの低級
アルキル基が置換したもの、クロロ基、ブロモ基などの
ハロゲン基が置換したもの、あるいはニトロ基、アセト
アミノ基などが置換したものが含まれ、例えば3−メチ
ル−1,2−フェニレン基、4−メチル−1,2−フェ
ニレン基、3−クロロ−1,2−フェニレン基、4−ク
ロロ−1,2−フェニレン基、3−ブロモ−1,2−フ
ェニレン基、3,6−ジクロロ−1,2−フェニレン
基、3,6−ジブロモ−1,2−フェニレン基、3,
4,5,6−テトラクロロ−1,2−フェニレン基、
3,4,5,6−テトラブロモ−1,2−フェニレン
基、3−ニトロ−1,2−フェニレン基、3−アセトア
ミノ−1,2−フェニレン基、4−クロロ−1,8−ナ
フチレン基、4−ブロモ−1,8−ナフチレン基、4,
5−ジブロモ−1,8−ナフチレン基、4−ブロモ−5
−クロロ−1,8−ナフチレン基、4−ニトロ−1,8
−ナフチレン基、5−メチル−2,3−ベンゾ〔b〕チ
オフェンジイル基、5−クロロ−2,3−ベンゾ〔b〕
チオフェンジイル基、1−エチル−2,3−インドール
ジイリル基などが挙げられる。本発明で用いられる前記
の一般式(I)で表されるヒドロキシイミド化合物は、
G.F.Jaubert著、Berichte der
DeutschenChemischen Gese
llschaft,28,360〜364(1895)
に記載の方法、D.E.Amesら著、Journal
of the chemical Society.
3518〜3521(1955)に記載の方法、M.
A.Stolbergら著、Journal of t
he chemical Society.79,26
15〜2617(1957)記載の方法、L.Baue
rら著、Journal of Organic ch
emistry,24,1293〜1296(195
9)記載の方法、あるいはL.M.Werbelら著、
Journal of Medical chemis
try,10,32〜36(1967)記載の方法など
に従い合成される。次に本発明に用いられるヒドロキシ
アミド化合物を例示するがこれに限定されるものではな
い。
の如き2価の芳香族残基に、例えばメチル基などの低級
アルキル基が置換したもの、クロロ基、ブロモ基などの
ハロゲン基が置換したもの、あるいはニトロ基、アセト
アミノ基などが置換したものが含まれ、例えば3−メチ
ル−1,2−フェニレン基、4−メチル−1,2−フェ
ニレン基、3−クロロ−1,2−フェニレン基、4−ク
ロロ−1,2−フェニレン基、3−ブロモ−1,2−フ
ェニレン基、3,6−ジクロロ−1,2−フェニレン
基、3,6−ジブロモ−1,2−フェニレン基、3,
4,5,6−テトラクロロ−1,2−フェニレン基、
3,4,5,6−テトラブロモ−1,2−フェニレン
基、3−ニトロ−1,2−フェニレン基、3−アセトア
ミノ−1,2−フェニレン基、4−クロロ−1,8−ナ
フチレン基、4−ブロモ−1,8−ナフチレン基、4,
5−ジブロモ−1,8−ナフチレン基、4−ブロモ−5
−クロロ−1,8−ナフチレン基、4−ニトロ−1,8
−ナフチレン基、5−メチル−2,3−ベンゾ〔b〕チ
オフェンジイル基、5−クロロ−2,3−ベンゾ〔b〕
チオフェンジイル基、1−エチル−2,3−インドール
ジイリル基などが挙げられる。本発明で用いられる前記
の一般式(I)で表されるヒドロキシイミド化合物は、
G.F.Jaubert著、Berichte der
DeutschenChemischen Gese
llschaft,28,360〜364(1895)
に記載の方法、D.E.Amesら著、Journal
of the chemical Society.
3518〜3521(1955)に記載の方法、M.
A.Stolbergら著、Journal of t
he chemical Society.79,26
15〜2617(1957)記載の方法、L.Baue
rら著、Journal of Organic ch
emistry,24,1293〜1296(195
9)記載の方法、あるいはL.M.Werbelら著、
Journal of Medical chemis
try,10,32〜36(1967)記載の方法など
に従い合成される。次に本発明に用いられるヒドロキシ
アミド化合物を例示するがこれに限定されるものではな
い。
【0022】
【化3】
【0023】
【化4】
【0024】
【化5】
【0025】
【化6】
【0026】これらの上記一般式(I)で表される化合
物の添加量は、感光性組成物の全固形分を基準として通
常0.1〜50重量%の範囲であり、好ましくは1〜4
0重量%、より好ましくは5〜30重量%の範囲であ
る。
物の添加量は、感光性組成物の全固形分を基準として通
常0.1〜50重量%の範囲であり、好ましくは1〜4
0重量%、より好ましくは5〜30重量%の範囲であ
る。
【0027】次に本発明で使用される酸前駆体について
説明する。本発明で使用できる酸前駆体としては、光カ
チオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色
素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト
等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の熱分解し
て酸を発生する化合物、及びそれらの混合物を適宜に選
択して使用することができる。
説明する。本発明で使用できる酸前駆体としては、光カ
チオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色
素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト
等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の熱分解し
て酸を発生する化合物、及びそれらの混合物を適宜に選
択して使用することができる。
【0028】例えば、S.I.Schlesinge
r,Photogr.Sci.Eng.,18,387
(1974)、T.S.Bal et al,Poly
mer,21,423(1980)に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第4,069,055号、同4,06
9,056号、同Re27,992号、特開平4−36
5049号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.
Necker et al,Macromolecul
es,17,2468(1984)、C.S.Wen
et al,Teh,Proc.Conf.Rad,C
uring ASIA,p478 Tokyo,Oct
(1988)、米国特許第4,069,055号、同
4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.
V.Crivello et al,Macromol
ecules,10(6),1307(1977)、C
hem.& Eng.News,Nov.28,p31
(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許
第339,049号、同第410,201号、特開平2
−150848号、特開平2−296514号に記載の
ヨードニウム塩、J.V.Crivello et a
l,Polymer J.17,73(1985)、
J.V.Crivello et al.J.Org.
Chem.,43,3055(1978)、W.R.W
att et al,J.Polymer Sci.,
Polymer Chem.Ed.,22,1789
(1984)、J.V.Crivello et a
l,PolymerBull.,14,279(198
5)、J.V.Crivello et al,Mac
romolecules,14(5),1141(19
81)、J.V.Crivello et al,J.
Polymer Sci.,Polymer Che
m.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第
370,693号、同390,214号、同233,5
67号、同297,443号、同297,442号、米
国特許第4,933,377号、同161,811号、
同410,201号、同339,049号、同4,76
0,013号、同4,734,444号、同2,83
3,827号、独国特許第2,904,626号、同
3,604,580号、同3,604,581号に記載
のスルホニウム塩、
r,Photogr.Sci.Eng.,18,387
(1974)、T.S.Bal et al,Poly
mer,21,423(1980)に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第4,069,055号、同4,06
9,056号、同Re27,992号、特開平4−36
5049号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.
Necker et al,Macromolecul
es,17,2468(1984)、C.S.Wen
et al,Teh,Proc.Conf.Rad,C
uring ASIA,p478 Tokyo,Oct
(1988)、米国特許第4,069,055号、同
4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.
V.Crivello et al,Macromol
ecules,10(6),1307(1977)、C
hem.& Eng.News,Nov.28,p31
(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許
第339,049号、同第410,201号、特開平2
−150848号、特開平2−296514号に記載の
ヨードニウム塩、J.V.Crivello et a
l,Polymer J.17,73(1985)、
J.V.Crivello et al.J.Org.
Chem.,43,3055(1978)、W.R.W
att et al,J.Polymer Sci.,
Polymer Chem.Ed.,22,1789
(1984)、J.V.Crivello et a
l,PolymerBull.,14,279(198
5)、J.V.Crivello et al,Mac
romolecules,14(5),1141(19
81)、J.V.Crivello et al,J.
Polymer Sci.,Polymer Che
m.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第
370,693号、同390,214号、同233,5
67号、同297,443号、同297,442号、米
国特許第4,933,377号、同161,811号、
同410,201号、同339,049号、同4,76
0,013号、同4,734,444号、同2,83
3,827号、独国特許第2,904,626号、同
3,604,580号、同3,604,581号に記載
のスルホニウム塩、
【0029】J.V.Crivello et al,
Macromolecules,10(6),1307
(1977)、J.V.Crivello et a
l,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載
のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Te
h,Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,9
05,815号、特公昭46−4605号、特開昭48
−36281号、特開昭55−32070号、特開昭6
0−239736号、特開昭61−169835号、特
開昭61−169837号、特開昭62−58241
号、特開昭62−212401号、特開昭63−702
43号、特開昭63−298339号に記載の有機ハロ
ゲン化合物、K.Meier et al,J.Ra
d.Curing,13(4),26(1986),
T.P.Gill et al,Inorg.Che
m.,19,3007(1980)、D.Astru
c,Acc.Chem.Res.,19(12),37
7(1896)、特開平2−161445号に記載の有
機金属/有機ハロゲン化物、S.Hayase eta
l,J.Polymer Sci.,25,753(1
987)、E.Reichmanis et al,
J.Polymer Sci.,PolymerChe
m.Ed.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu
et al,J.Photochem.,36,85,
39,317(1987)、B.Amit et a
l,Tetrahedron Lett.,(24)2
205(1973),
Macromolecules,10(6),1307
(1977)、J.V.Crivello et a
l,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載
のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Te
h,Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,9
05,815号、特公昭46−4605号、特開昭48
−36281号、特開昭55−32070号、特開昭6
0−239736号、特開昭61−169835号、特
開昭61−169837号、特開昭62−58241
号、特開昭62−212401号、特開昭63−702
43号、特開昭63−298339号に記載の有機ハロ
ゲン化合物、K.Meier et al,J.Ra
d.Curing,13(4),26(1986),
T.P.Gill et al,Inorg.Che
m.,19,3007(1980)、D.Astru
c,Acc.Chem.Res.,19(12),37
7(1896)、特開平2−161445号に記載の有
機金属/有機ハロゲン化物、S.Hayase eta
l,J.Polymer Sci.,25,753(1
987)、E.Reichmanis et al,
J.Polymer Sci.,PolymerChe
m.Ed.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu
et al,J.Photochem.,36,85,
39,317(1987)、B.Amit et a
l,Tetrahedron Lett.,(24)2
205(1973),
【0030】D.H.R.Barton et al,
J.Chem.Soc.3571(1965)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Perkin I,1695(1975)、M.
Rudinstein etal,Tetrahedr
on Lett.,(17),1445(1975)、
J.W.Walker et al,J.Am.Che
m.Soc.,110,7170(1988)、S.
C.Busman et al,J.Imaging
Technol.,11(4),191(1985)、
H.M.Houlihan et al,Macrom
olecules,21,2001(1988)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Chem.Commun.,532(197
2)、S.Hayase et al,Macromo
lecules,18,1799(1985)、E.R
eichmanis et al,J.Electro
chem.Soc.,SolidState Sci.
Technol.,130(6)、F.M.Houli
han et al,Macromolecules,
21,2001(1988)、欧州特許第0290,7
50号、同046,083号、同156,535号、同
271,851号、同0,388,343号、米国特許
第3,901,710号、同4,181,531号、特
開昭60−198538号、特開昭53−133022
号に記載のo−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発
生剤、M.TUNOOKA et al,Polyme
r Preprints Japan,38(8)、
G.Berner et al,J.Rad.Curi
ng,13(4)、W.J.Mijs et al,C
oating Technol.,55(697),4
5(1983)、Akzo,H.Adachi eta
l,Polymer Preprints,Japa
n,37(3)、欧州特許第0199,672号、同8
4515号、同199,672号、同044,115
号、同0101,122号、米国特許第4,618,5
64号、同4,371,605号、同4,431,77
4号、特開昭64−18143号、特開平2−2457
56号、特願平3−140109号に記載のイミノスル
フォネート等に代表される、光分解してスルホン酸を発
生する化合物、特開昭61−166544号に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。
J.Chem.Soc.3571(1965)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Perkin I,1695(1975)、M.
Rudinstein etal,Tetrahedr
on Lett.,(17),1445(1975)、
J.W.Walker et al,J.Am.Che
m.Soc.,110,7170(1988)、S.
C.Busman et al,J.Imaging
Technol.,11(4),191(1985)、
H.M.Houlihan et al,Macrom
olecules,21,2001(1988)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Chem.Commun.,532(197
2)、S.Hayase et al,Macromo
lecules,18,1799(1985)、E.R
eichmanis et al,J.Electro
chem.Soc.,SolidState Sci.
Technol.,130(6)、F.M.Houli
han et al,Macromolecules,
21,2001(1988)、欧州特許第0290,7
50号、同046,083号、同156,535号、同
271,851号、同0,388,343号、米国特許
第3,901,710号、同4,181,531号、特
開昭60−198538号、特開昭53−133022
号に記載のo−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発
生剤、M.TUNOOKA et al,Polyme
r Preprints Japan,38(8)、
G.Berner et al,J.Rad.Curi
ng,13(4)、W.J.Mijs et al,C
oating Technol.,55(697),4
5(1983)、Akzo,H.Adachi eta
l,Polymer Preprints,Japa
n,37(3)、欧州特許第0199,672号、同8
4515号、同199,672号、同044,115
号、同0101,122号、米国特許第4,618,5
64号、同4,371,605号、同4,431,77
4号、特開昭64−18143号、特開平2−2457
56号、特願平3−140109号に記載のイミノスル
フォネート等に代表される、光分解してスルホン酸を発
生する化合物、特開昭61−166544号に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。
【0031】またこれらの酸を発生する基、あるいは化
合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、M.E.Woodhouse et al,J.A
m.Chem.Soc.,104,5586(198
2)、S.P.Pappaset al,J.Imag
ing Sci.,30(5),218(1986)、
S.Kondo et al. Makromol.C
hem.,RapidCommun.,9,625(1
988)、Y.Yamada et al,Makro
mol.Chem.,152,153,163(197
2)、J.V.Crivello et al.J.P
oylmer Sci.,Polymer Chem.
Ed.,17,3845(1979)、米国特許第3,
849,137号、独国特許第3,914,407、特
開昭63−26653号、特開昭55−164824
号、特開昭62−69263号、特開昭63−1460
37、特開昭63−163452号、特開昭62−15
3853号、特開昭63−146029号に記載の化合
物を用いることができる。
合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、M.E.Woodhouse et al,J.A
m.Chem.Soc.,104,5586(198
2)、S.P.Pappaset al,J.Imag
ing Sci.,30(5),218(1986)、
S.Kondo et al. Makromol.C
hem.,RapidCommun.,9,625(1
988)、Y.Yamada et al,Makro
mol.Chem.,152,153,163(197
2)、J.V.Crivello et al.J.P
oylmer Sci.,Polymer Chem.
Ed.,17,3845(1979)、米国特許第3,
849,137号、独国特許第3,914,407、特
開昭63−26653号、特開昭55−164824
号、特開昭62−69263号、特開昭63−1460
37、特開昭63−163452号、特開昭62−15
3853号、特開昭63−146029号に記載の化合
物を用いることができる。
【0032】更に、V. N. R. Pillai, Synthesis, (1),
1(1980)、A. Abad et al, Tetrahedron Lett., (47)45
55(1971)、D. H. R. Barton et al, J. Chem, Soc.,
(C), 329(1970)、米国特許第3,779,778号、欧
州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生
する化合物も使用することができる。上記酸前駆体の中
で、特に有効に用いられるものについて以下に説明す
る。
1(1980)、A. Abad et al, Tetrahedron Lett., (47)45
55(1971)、D. H. R. Barton et al, J. Chem, Soc.,
(C), 329(1970)、米国特許第3,779,778号、欧
州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生
する化合物も使用することができる。上記酸前駆体の中
で、特に有効に用いられるものについて以下に説明す
る。
【0033】(1)トリハロメチル基が置換した下記一
般式(VIII)で表されるオキサゾール誘導体又は下記一
般式(IX)で表されるS−トリアジン誘導体。
般式(VIII)で表されるオキサゾール誘導体又は下記一
般式(IX)で表されるS−トリアジン誘導体。
【0034】
【化7】
【0035】
【化8】
【0036】式中、R1 は置換もしくは未置換のアリー
ル基又はアルケニル基であり、R2は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は-CY3を
表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキサゾ
ール誘導体(VIII)及びS−トリアジン誘導体(IX)の
具体例としては、以下のVIII−1〜8及び化合物IX−1
〜10を挙げることができるが、これに限定されるもの
ではない。
ル基又はアルケニル基であり、R2は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は-CY3を
表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキサゾ
ール誘導体(VIII)及びS−トリアジン誘導体(IX)の
具体例としては、以下のVIII−1〜8及び化合物IX−1
〜10を挙げることができるが、これに限定されるもの
ではない。
【0037】
【化9】
【0038】
【化10】
【0039】
【化11】
【0040】(2)下記一般式(X)で表されるヨード
ニウム塩又は下記一般式(XI)で表されるスルホニウム
塩。
ニウム塩又は下記一般式(XI)で表されるスルホニウム
塩。
【0041】
【化12】
【0042】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換
もしくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基と
しては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカ
プト基及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及び
R5 は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又
はアリール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリ
ール基、炭素数1〜8のアルキル基又はそれらの置換誘
導体である。好ましい置換基は、アリール基に対しては
炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキル
基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基又はハロ
ゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数1〜8の
アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基である。
もしくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基と
しては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカ
プト基及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及び
R5 は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又
はアリール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリ
ール基、炭素数1〜8のアルキル基又はそれらの置換誘
導体である。好ましい置換基は、アリール基に対しては
炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキル
基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基又はハロ
ゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数1〜8の
アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基である。
【0043】Z- は対アニオンを示し、例えばBF4 - 、
AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、SiF6 - 、ClO4 - 、 CF3 S
O3 - 、BPh4 - (Ph=フェニル)、ナフタレン−1−スル
ホン酸アニオン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオ
ン、アントラキノンスルホン酸アニオン、スルホン酸基
含有染料等を挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。
AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、SiF6 - 、ClO4 - 、 CF3 S
O3 - 、BPh4 - (Ph=フェニル)、ナフタレン−1−スル
ホン酸アニオン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオ
ン、アントラキノンスルホン酸アニオン、スルホン酸基
含有染料等を挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。
【0044】また、R3 、R4 及びR5 のうちの2つ並
びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結合又は置換基を介
して結合してもよい。一般式(X)及び(XI)で示され
るオニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Knapczyk et
al, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969) 、A. L. Mayc
ok et al, J.Org. Chem., 35, 2532(1970)、E. Goethas
et al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546(1964) 、H.
M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587(1929)、
J. B.Crivello et al, J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677
(1980) 、米国特許第2,807,648号及び同4,
247,473号、特開昭53−101331号の明細
書又は公報等に記載の方法により合成することができ
る。
びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結合又は置換基を介
して結合してもよい。一般式(X)及び(XI)で示され
るオニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Knapczyk et
al, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969) 、A. L. Mayc
ok et al, J.Org. Chem., 35, 2532(1970)、E. Goethas
et al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546(1964) 、H.
M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587(1929)、
J. B.Crivello et al, J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677
(1980) 、米国特許第2,807,648号及び同4,
247,473号、特開昭53−101331号の明細
書又は公報等に記載の方法により合成することができ
る。
【0045】一般式(X)及び(XI)のオニウム化合物
の具体例としては、以下に示す化合物X−1〜22及び
XI−1〜34が挙げられるが、これに限定されるもので
はない。
の具体例としては、以下に示す化合物X−1〜22及び
XI−1〜34が挙げられるが、これに限定されるもので
はない。
【0046】
【化13】
【0047】
【化14】
【0048】
【化15】
【0049】
【化16】
【0050】
【化17】
【0051】
【化18】
【0052】
【化19】
【0053】
【化20】
【0054】
【化21】
【0055】
【化22】
【0056】(3)下記一般式(XII)で示されるジス
ルホン誘導体又は下記一般式(XIII)で表されるイミノ
スルホネート誘導体。
ルホン誘導体又は下記一般式(XIII)で表されるイミノ
スルホネート誘導体。
【0057】
【化23】
【0058】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換
もしくは未置換のアリール基を示す。R6 は置換もしく
は未置換のアルキル基又はアリール基を表す。Aは置換
もしくは未置換のアルキレン基、アルケニル基又はアリ
ーレン基を示す。一般式(XII )及び(XIII)で示され
る化合物の具体例としては、以下に示す化合物XII −1
〜12及びXIII−1〜12が挙げられるが、これに限定
されるものではない。
もしくは未置換のアリール基を示す。R6 は置換もしく
は未置換のアルキル基又はアリール基を表す。Aは置換
もしくは未置換のアルキレン基、アルケニル基又はアリ
ーレン基を示す。一般式(XII )及び(XIII)で示され
る化合物の具体例としては、以下に示す化合物XII −1
〜12及びXIII−1〜12が挙げられるが、これに限定
されるものではない。
【0059】
【化24】
【0060】
【化25】
【0061】
【化26】
【0062】
【化27】
【0063】これらの輻射線の照射により分解して酸を
発生する化合物の添加量は、感光性組成物の全固形分を
基準として通常0.001〜40重量%の範囲で用いら
れ、好ましくは0.1〜20重量%の範囲で使用され
る。
発生する化合物の添加量は、感光性組成物の全固形分を
基準として通常0.001〜40重量%の範囲で用いら
れ、好ましくは0.1〜20重量%の範囲で使用され
る。
【0064】本発明で使用される水酸基を有する高分子
化合物は、酸の存在下でN−ヒドロキシイミド化合物と
熱的に反応し、化学結合を有するものであれば任意に選
択して用いることができる。本発明で使用される水酸基
を有する高分子化合物として、具体的には、下記の高分
子化合物等を挙げることができる。 水酸基を有するビニルポリマーとそれらと共重合可能
な他のビニルモノマーとの共重合体。本発明において使
用される水酸基を含むビニルモノマーとしては、ブタン
ジオールモノアクリレート、EHC変性ブチルアクリレ
ート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、グリセロールメタクリレート、グリセロールアク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレ
ート、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート、E
O変性フタル酸アクリレート、EO,PO変性フタル酸
メタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールメタクリレート、p−2
−ヒドロキシエチルスチレン、m−ヒドロキシスチレン
等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
化合物は、酸の存在下でN−ヒドロキシイミド化合物と
熱的に反応し、化学結合を有するものであれば任意に選
択して用いることができる。本発明で使用される水酸基
を有する高分子化合物として、具体的には、下記の高分
子化合物等を挙げることができる。 水酸基を有するビニルポリマーとそれらと共重合可能
な他のビニルモノマーとの共重合体。本発明において使
用される水酸基を含むビニルモノマーとしては、ブタン
ジオールモノアクリレート、EHC変性ブチルアクリレ
ート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、グリセロールメタクリレート、グリセロールアク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレ
ート、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート、E
O変性フタル酸アクリレート、EO,PO変性フタル酸
メタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールメタクリレート、p−2
−ヒドロキシエチルスチレン、m−ヒドロキシスチレン
等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【0065】上記モノマーと共重合可能な他のモノマー
としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、p−
ビニル安息香酸、p−ビニルベンゼンスルホン酸、p−
ビニル桂皮酸、マレイン酸モノメチルエーテル、マイレ
ン酸モノエチルエーテル、アクリロニトリル、アクリル
アミド、メタクリルアミド、メチルメタクリレート、エ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
ビニルベンゾエート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ス
チレン、酢酸ビニル、N−(4−スルファモイルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−フェニルホスホニルメタク
リルアミド、ブダジエン、クロロプレン、イソプレン、
2−メルカプトエチルアクリレート等を挙げることがで
きるが、これに限定されるものではない。水酸基を含有
するビニルモノマーと他の共重合可能なモノマーとは任
意の組み合わせでかつ任意の数のモノマーを共重合させ
ることができるが、水酸基を含有するビニルモノマーと
他の共重合可能なモノマーの比率としては重量%で0.
5〜90:99.5〜10の範囲が適当であり、好まし
い範囲としては1〜70:99〜30、更に好ましい範
囲としては3〜40:97〜60である。
としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、p−
ビニル安息香酸、p−ビニルベンゼンスルホン酸、p−
ビニル桂皮酸、マレイン酸モノメチルエーテル、マイレ
ン酸モノエチルエーテル、アクリロニトリル、アクリル
アミド、メタクリルアミド、メチルメタクリレート、エ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
ビニルベンゾエート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ス
チレン、酢酸ビニル、N−(4−スルファモイルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−フェニルホスホニルメタク
リルアミド、ブダジエン、クロロプレン、イソプレン、
2−メルカプトエチルアクリレート等を挙げることがで
きるが、これに限定されるものではない。水酸基を含有
するビニルモノマーと他の共重合可能なモノマーとは任
意の組み合わせでかつ任意の数のモノマーを共重合させ
ることができるが、水酸基を含有するビニルモノマーと
他の共重合可能なモノマーの比率としては重量%で0.
5〜90:99.5〜10の範囲が適当であり、好まし
い範囲としては1〜70:99〜30、更に好ましい範
囲としては3〜40:97〜60である。
【0066】水酸基を有するジカルボン酸化合物とジ
オール化合物との共縮合体。それら共縮合体としては、
例えば、2−ヒドロキシテレフタル酸、3−エチルヒド
ロキシテレフタル酸、2−ヒドロキシ−プロピルジカル
ボン酸等のジカルボン酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、1,3−ブチレングリコール、ビスフェ
ノールA、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノール
F等のジオール化合物の共縮合物を挙げることができる
がこれらに限定されるものではない。また上記高分子化
合物は必要に応じ、他のジオール、ジカルボン酸を共縮
合して多元系の線状高分子を得ることができる。水酸基
を有するジカルボン酸と他のモノマーとの比率としては
重量%で0.5〜90:99.5〜10の範囲が適当で
あり、好ましい範囲としては1〜70:99〜30、更
に好ましい範囲としては3〜40:97〜60である。
オール化合物との共縮合体。それら共縮合体としては、
例えば、2−ヒドロキシテレフタル酸、3−エチルヒド
ロキシテレフタル酸、2−ヒドロキシ−プロピルジカル
ボン酸等のジカルボン酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、1,3−ブチレングリコール、ビスフェ
ノールA、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノール
F等のジオール化合物の共縮合物を挙げることができる
がこれらに限定されるものではない。また上記高分子化
合物は必要に応じ、他のジオール、ジカルボン酸を共縮
合して多元系の線状高分子を得ることができる。水酸基
を有するジカルボン酸と他のモノマーとの比率としては
重量%で0.5〜90:99.5〜10の範囲が適当で
あり、好ましい範囲としては1〜70:99〜30、更
に好ましい範囲としては3〜40:97〜60である。
【0067】溶媒に溶解可能な種々のエポキシ樹脂、
フェノキシ樹脂等の樹脂。 フェノール性水酸基を含有する樹脂をあげることがで
きる。それらの樹脂としては、具体的にはフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、o−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、レゾール型のフ
ェノール樹脂類、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒ
ドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、フェノール性水酸基を有するアクリル樹脂等を挙げ
ることができるがこれらに限定されるものではない。本
発明において、上記の高分子化合物の中で好ましいもの
はとである。
フェノキシ樹脂等の樹脂。 フェノール性水酸基を含有する樹脂をあげることがで
きる。それらの樹脂としては、具体的にはフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、o−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、レゾール型のフ
ェノール樹脂類、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒ
ドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、フェノール性水酸基を有するアクリル樹脂等を挙げ
ることができるがこれらに限定されるものではない。本
発明において、上記の高分子化合物の中で好ましいもの
はとである。
【0068】これらの線状高分子の分子量は、1,00
0〜1,000,000、好ましくは1,500〜20
0,000、より好ましくは2,000〜100,00
0である。本発明の線状高分子は単一で使用できるが、
数種の混合物として使用してもよい。感光性組成物中の
線状高分子の添加量は、一般に感光性組成物の全固形分
に対し、1〜95重量%、好ましくは20〜90重量
%、より好ましくは30〜80重量%の範囲である。
0〜1,000,000、好ましくは1,500〜20
0,000、より好ましくは2,000〜100,00
0である。本発明の線状高分子は単一で使用できるが、
数種の混合物として使用してもよい。感光性組成物中の
線状高分子の添加量は、一般に感光性組成物の全固形分
に対し、1〜95重量%、好ましくは20〜90重量
%、より好ましくは30〜80重量%の範囲である。
【0069】本発明の感光性組成物に好ましく用いるこ
とができる輻射線を吸収する物質は、光(輻射線)を吸
収して熱を発生する物質である。このような物質として
種々の顔料もしくは染料が用いられる。顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便
覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977
年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)に記載されている顔料が利用できる。
とができる輻射線を吸収する物質は、光(輻射線)を吸
収して熱を発生する物質である。このような物質として
種々の顔料もしくは染料が用いられる。顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便
覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977
年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)に記載されている顔料が利用できる。
【0070】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、その他、ポリマー結合
色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾ
レーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロ
シアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよ
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、その他、ポリマー結合
色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾ
レーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロ
シアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよ
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
【0071】これらの顔料は表面処理をせずに用いても
よく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の
方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活
性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカ
ップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、198
6年刊)に記載されている。
よく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の
方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活
性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカ
ップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、198
6年刊)に記載されている。
【0072】顔料の粒径は、0.01μm〜10μmの
範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範
囲にあることがさらに好ましい。顔料を分散する方法と
しては、インク製造やトナー製造等に用いられている公
知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分
散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパ
ーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KD
ミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、
加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範
囲にあることがさらに好ましい。顔料を分散する方法と
しては、インク製造やトナー製造等に用いられている公
知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分
散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパ
ーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KD
ミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、
加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
【0073】また、染料としては、市販の染料および文
献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和4
5年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属鎖塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料などの染料が挙げられる。
献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和4
5年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属鎖塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料などの染料が挙げられる。
【0074】これらの顔料、もしくは染料のうち赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが特に好ましい。
赤外光、もしくは近赤外光を吸収する顔料としてはカー
ボンブラックが好適に用いられる。赤外光、もしくは近
赤外光を吸収する染料としては例えば特開昭58−12
5246号、同59−84356号、同59−2028
29号、同60−78787号等に記載されているシア
ニン染料、特開昭58−173696号、同58−18
1690号、同58−194595号等に記載されてい
るメチン染料、特開昭58−112793号、同58−
224793号、同59−48187号、同59−73
996号、同60−52490号、同60−63744
号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−
112792号等に記載されているスクワリリウム色
素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を
挙げることができる。
光、もしくは近赤外光を吸収するものが特に好ましい。
赤外光、もしくは近赤外光を吸収する顔料としてはカー
ボンブラックが好適に用いられる。赤外光、もしくは近
赤外光を吸収する染料としては例えば特開昭58−12
5246号、同59−84356号、同59−2028
29号、同60−78787号等に記載されているシア
ニン染料、特開昭58−173696号、同58−18
1690号、同58−194595号等に記載されてい
るメチン染料、特開昭58−112793号、同58−
224793号、同59−48187号、同59−73
996号、同60−52490号、同60−63744
号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−
112792号等に記載されているスクワリリウム色
素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を
挙げることができる。
【0075】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収剤も好適に用いられる。更に、米国特許
第3,881,924号記載の置換されたアリールベン
ゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号
(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同5
8−220143号、同59−41363号、同59−
84248号、同59−84249号、同59−146
063号、同59−146061号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭59−216146号記載の
シアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物は特に好ましく用いられる。
載の近赤外吸収剤も好適に用いられる。更に、米国特許
第3,881,924号記載の置換されたアリールベン
ゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号
(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同5
8−220143号、同59−41363号、同59−
84248号、同59−84249号、同59−146
063号、同59−146061号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭59−216146号記載の
シアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物は特に好ましく用いられる。
【0076】また、特に好ましい別の例として米国特許
第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)と
して記載されている近赤外吸収染料を挙げることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光性組成物全固形
分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜2
0重量%、より好ましくは0.5〜15重量%の割合で
感光性組成物中に添加することができる。添加量が0.
01重量%より少ないと画像が得られず、また、50重
量%より多いと印刷時非画像部に汚れを発生する。
第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)と
して記載されている近赤外吸収染料を挙げることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光性組成物全固形
分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜2
0重量%、より好ましくは0.5〜15重量%の割合で
感光性組成物中に添加することができる。添加量が0.
01重量%より少ないと画像が得られず、また、50重
量%より多いと印刷時非画像部に汚れを発生する。
【0077】本発明の感光性組成物は、上記各成分を溶
解又は分散する溶媒を用いて支持体上に塗布することが
できる。また、半導体等のレジスト材料用としては溶媒
に溶解したままで使用することができる。ここで使用す
る溶媒としてば、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、
t−ブチルアルコール、エチレンジクロライド、シクロ
ヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、エチレン
グリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、
1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸
エチル、γ−ブチロラクトン、ジメトキシエタン、テト
ラメチルウレア、N,N−ジメチルアセトアミド、N−
メチルピロリドン、スルホラン、トルエン等があり、こ
れらの溶媒を単独であるいは混合して使用する。また、
これらの溶媒や混合溶媒に少量の水やトルエン等のジア
ゾ樹脂や高分子化合物を溶解させない溶媒を添加した混
合溶媒も適当である。
解又は分散する溶媒を用いて支持体上に塗布することが
できる。また、半導体等のレジスト材料用としては溶媒
に溶解したままで使用することができる。ここで使用す
る溶媒としてば、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、
t−ブチルアルコール、エチレンジクロライド、シクロ
ヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、エチレン
グリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、
1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸
エチル、γ−ブチロラクトン、ジメトキシエタン、テト
ラメチルウレア、N,N−ジメチルアセトアミド、N−
メチルピロリドン、スルホラン、トルエン等があり、こ
れらの溶媒を単独であるいは混合して使用する。また、
これらの溶媒や混合溶媒に少量の水やトルエン等のジア
ゾ樹脂や高分子化合物を溶解させない溶媒を添加した混
合溶媒も適当である。
【0078】溶媒中の上記成分(添加物を含む全固形
分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%、好ましくは
3〜30重量%、より好ましくは5〜20重量%であ
る。また、塗布して使用する場合、塗布量は用途により
異なるが、例えば感光性平版印刷版についていえば一般
的に固形分として0.5〜3.0g/m2 、好ましくは
0.8〜2.5g/m2 、より好ましくは1.0〜2.
0g/m2 であり、またフォトレジストについていえば
一般的に固形分として0.1〜3.0g/m2 が好まし
く、より好ましくは0.2〜2.0g/m2 、更に好ま
しくは0.3〜1.5g/m2 である。塗布量が少なく
なるにつれて、感光性は大になるが、感光膜の皮膜特性
は低下する。
分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%、好ましくは
3〜30重量%、より好ましくは5〜20重量%であ
る。また、塗布して使用する場合、塗布量は用途により
異なるが、例えば感光性平版印刷版についていえば一般
的に固形分として0.5〜3.0g/m2 、好ましくは
0.8〜2.5g/m2 、より好ましくは1.0〜2.
0g/m2 であり、またフォトレジストについていえば
一般的に固形分として0.1〜3.0g/m2 が好まし
く、より好ましくは0.2〜2.0g/m2 、更に好ま
しくは0.3〜1.5g/m2 である。塗布量が少なく
なるにつれて、感光性は大になるが、感光膜の皮膜特性
は低下する。
【0079】これらの溶媒に溶解または分散させた液を
塗布し乾燥させて、皮膜を形成するがネガ型の感光性組
成物を作る場合は、50℃〜100℃で乾燥させること
が望ましい。
塗布し乾燥させて、皮膜を形成するがネガ型の感光性組
成物を作る場合は、50℃〜100℃で乾燥させること
が望ましい。
【0080】また、塗布性を改良するためのアルキルエ
ーテル類(例えばエチルセルロース、メチルセルロー
ス)、界面活性剤類(例えばフッ素系界面活性剤)、膜
の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(例えばト
リクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、リン酸トリオクチル、リン酸トリブチ
ル、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等)を添加することができる。
これらの添加剤の添加量はその使用目的によって異なる
が、一般には感光性組成物の全固形分に対して0.5〜
30重量%である。
ーテル類(例えばエチルセルロース、メチルセルロー
ス)、界面活性剤類(例えばフッ素系界面活性剤)、膜
の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(例えばト
リクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、リン酸トリオクチル、リン酸トリブチ
ル、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等)を添加することができる。
これらの添加剤の添加量はその使用目的によって異なる
が、一般には感光性組成物の全固形分に対して0.5〜
30重量%である。
【0081】また、輻射線吸収後直ちに可視像を得るた
めの焼出し剤として、露光による熱によって酸を放出す
る化合物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表とし
て挙げることができる。具体的には特開昭50−362
09号公報、特開昭53−8128号公報に記載されて
いるo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲ
ニドと塩形成性有機染料の組合せや特開昭53−362
23号公報、特開昭54−74728号公報に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合
せを挙げることができる。画像の着色剤として前記の塩
形成性有機染料以外の他の染料も用いることができる。
塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染料
及び塩基染料を挙げることができる。具体的には、オイ
ルイエロー#101、オイルイエロー#130、オイル
ピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーB
OS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オ
イルブラックBS、オイルブラックT−505(以上、
オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュアブ
ルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メ
チルバイオレット(CI42535)、ローダミンB
(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI42
000)、メチレンブルー(CI52015)等を挙げ
ることができる。
めの焼出し剤として、露光による熱によって酸を放出す
る化合物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表とし
て挙げることができる。具体的には特開昭50−362
09号公報、特開昭53−8128号公報に記載されて
いるo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲ
ニドと塩形成性有機染料の組合せや特開昭53−362
23号公報、特開昭54−74728号公報に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合
せを挙げることができる。画像の着色剤として前記の塩
形成性有機染料以外の他の染料も用いることができる。
塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染料
及び塩基染料を挙げることができる。具体的には、オイ
ルイエロー#101、オイルイエロー#130、オイル
ピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーB
OS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オ
イルブラックBS、オイルブラックT−505(以上、
オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュアブ
ルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メ
チルバイオレット(CI42535)、ローダミンB
(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI42
000)、メチレンブルー(CI52015)等を挙げ
ることができる。
【0082】これらの染料は、感光性組成物の全固形分
に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3
重量%の割合で感光性組成物中に添加することができ
る。
に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3
重量%の割合で感光性組成物中に添加することができ
る。
【0083】また、本発明におけるネガ型感光性組成物
のアルカリ水溶液への溶解性を調整する化合物として
は、環状酸無水物、その他のフィラーなどを加えること
ができる。環状酸無水物としては米国特許第4,11
5,128号明細書に記載されているような無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、3,6−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無
水物を好ましくは感光性組成物の全固形分に対し1〜1
5重量%、好ましくは2〜15重量%、より好ましくは
3〜10重量%含有させることによって感度を最大3倍
程度まで高めることができる。
のアルカリ水溶液への溶解性を調整する化合物として
は、環状酸無水物、その他のフィラーなどを加えること
ができる。環状酸無水物としては米国特許第4,11
5,128号明細書に記載されているような無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、3,6−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無
水物を好ましくは感光性組成物の全固形分に対し1〜1
5重量%、好ましくは2〜15重量%、より好ましくは
3〜10重量%含有させることによって感度を最大3倍
程度まで高めることができる。
【0084】尚、本発明において、輻射線を吸収する物
質を用いる場合、十分な濃度の可視画像が得られる場
合、この様な染料は添加する必要がない。また、塗布量
は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版(感熱
性平版印刷版)についていえば一般的に固形分として
0.5〜3.0g/m2が好ましい塗布量が少くなるにつ
れ感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。更に
必要に応じて、感光膜の上にマットまたはマット層を設
けても良い。
質を用いる場合、十分な濃度の可視画像が得られる場
合、この様な染料は添加する必要がない。また、塗布量
は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版(感熱
性平版印刷版)についていえば一般的に固形分として
0.5〜3.0g/m2が好ましい塗布量が少くなるにつ
れ感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。更に
必要に応じて、感光膜の上にマットまたはマット層を設
けても良い。
【0085】また本発明の感光性組成物が塗布される支
持体としては、例えば、紙、プラスチック(例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネ
ートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金
も含む)、亜鉛、銅等のような金属の板、例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酪酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等のようなプラスチックのフィルム、
上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もし
くはプラスチックフィルム等が含まれる。これらの支持
体のうち、ポリエステルフィルムまたはアルミ板を用い
ることが好ましく、特にアルミ板は寸法的に著しく安定
であり好ましい。更に、特公昭48−18327号公報
に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シー
トも好ましい。
持体としては、例えば、紙、プラスチック(例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネ
ートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金
も含む)、亜鉛、銅等のような金属の板、例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酪酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等のようなプラスチックのフィルム、
上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もし
くはプラスチックフィルム等が含まれる。これらの支持
体のうち、ポリエステルフィルムまたはアルミ板を用い
ることが好ましく、特にアルミ板は寸法的に著しく安定
であり好ましい。更に、特公昭48−18327号公報
に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シー
トも好ましい。
【0086】また、金属、特にアルミニウムの表面を有
する支持体の場合には、適当な親水化処理をすることが
望ましい。このような親水化処理としては、例えばアル
ミニウム表面を、ワイヤブラシグレイニング、研磨粒子
のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブ
ラシグレイニング、ボールグレイニング等の機械的方
法、HFやAlCl3 、HCl をエッチャントとするケミカル
グレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電解グレイ
ニングやこれらの粗面化法を複合して行う複合グレイニ
ングによって表面を砂目立てした後、必要に応じて酸又
はアルカリによりエッチング処理し、引き続き硫酸、リ
ン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸または
これらの混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸化を行い
アルミニウム表面に強固な不動態皮膜を設けることが好
ましい。このような不動態皮膜自体でアルミニウム表面
は親水化されるが、更に必要に応じて米国特許第2,714,
066 号明細書や米国特許第3,181,461 号明細書に記載さ
れている珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム)、米国特許第2,946,638 号明細書に記載されている
弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,24
7 号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、
英国特許第1,108,559 号に記載されているアルキルチタ
ネート処理、独国特許第1,091,433 号明細書に記載され
ているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093 号明
細書や英国特許第1,230,447 号明細書に記載されている
ポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公
報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,
951 号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭
58−16893号や特開昭58−18291号の各公
報に記載されている親水性有機高分子化合物と2価の金
属よりなる複合処理、特開昭59−101651号公報
に記載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の
下塗によって親水化処理を行ったものは特に好ましい。
その他の親水化処理方法としては米国特許第3,658,662
号明細書に記載されているシリケート電着を挙げること
ができる。
する支持体の場合には、適当な親水化処理をすることが
望ましい。このような親水化処理としては、例えばアル
ミニウム表面を、ワイヤブラシグレイニング、研磨粒子
のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブ
ラシグレイニング、ボールグレイニング等の機械的方
法、HFやAlCl3 、HCl をエッチャントとするケミカル
グレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電解グレイ
ニングやこれらの粗面化法を複合して行う複合グレイニ
ングによって表面を砂目立てした後、必要に応じて酸又
はアルカリによりエッチング処理し、引き続き硫酸、リ
ン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸または
これらの混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸化を行い
アルミニウム表面に強固な不動態皮膜を設けることが好
ましい。このような不動態皮膜自体でアルミニウム表面
は親水化されるが、更に必要に応じて米国特許第2,714,
066 号明細書や米国特許第3,181,461 号明細書に記載さ
れている珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム)、米国特許第2,946,638 号明細書に記載されている
弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,24
7 号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、
英国特許第1,108,559 号に記載されているアルキルチタ
ネート処理、独国特許第1,091,433 号明細書に記載され
ているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093 号明
細書や英国特許第1,230,447 号明細書に記載されている
ポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公
報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,
951 号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭
58−16893号や特開昭58−18291号の各公
報に記載されている親水性有機高分子化合物と2価の金
属よりなる複合処理、特開昭59−101651号公報
に記載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の
下塗によって親水化処理を行ったものは特に好ましい。
その他の親水化処理方法としては米国特許第3,658,662
号明細書に記載されているシリケート電着を挙げること
ができる。
【0087】本発明におけるネガ型感光性組成物は公知
の塗布技術により上記の支持体上に塗布される。上記の
塗布技術の例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布
法、ディップ塗布後、エアーナイフ塗布法、ロール塗布
法、ブレード塗布法、カーテン塗布法及びスプレー塗布
法等を挙げることができる。上記のようにして塗布され
たポジ型感光性組成物の層は、40〜150℃で30秒
〜10分間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥
される。本発明のネガ型感光性組成物をフォトレジスト
として使用する場合には銅板又は銅メッキ板、シリコン
板、ステンレス板、ガラス板等の種々の材質の基板を支
持体として用いることができる。本発明におけるネガ型
感光性組成物を含む感光性平版印刷版又はフォトレジス
ト等は、像露光、必要により加熱処理、現像工程を施さ
れる。
の塗布技術により上記の支持体上に塗布される。上記の
塗布技術の例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布
法、ディップ塗布後、エアーナイフ塗布法、ロール塗布
法、ブレード塗布法、カーテン塗布法及びスプレー塗布
法等を挙げることができる。上記のようにして塗布され
たポジ型感光性組成物の層は、40〜150℃で30秒
〜10分間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥
される。本発明のネガ型感光性組成物をフォトレジスト
として使用する場合には銅板又は銅メッキ板、シリコン
板、ステンレス板、ガラス板等の種々の材質の基板を支
持体として用いることができる。本発明におけるネガ型
感光性組成物を含む感光性平版印刷版又はフォトレジス
ト等は、像露光、必要により加熱処理、現像工程を施さ
れる。
【0088】像露光に用いられる活性光線の光源として
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外
線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度
エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アル
ゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられ
る。本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長
を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特
に好ましい。本発明の画像記録材料の製造方法において
行われる露光後の加熱処理は、50℃〜250℃で処理
時間1秒〜30分で行うことができ、好ましくは70℃
〜200℃で処理時間5秒〜5分である。
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外
線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度
エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アル
ゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられ
る。本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長
を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特
に好ましい。本発明の画像記録材料の製造方法において
行われる露光後の加熱処理は、50℃〜250℃で処理
時間1秒〜30分で行うことができ、好ましくは70℃
〜200℃で処理時間5秒〜5分である。
【0089】本発明の感光性組成物の現像液および補充
液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用
できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。
液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用
できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。
【0090】これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以
上を組み合わせて用いられる。それらの濃度は0.1〜
10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように
添加される。
上を組み合わせて用いられる。それらの濃度は0.1〜
10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように
添加される。
【0091】現像液および補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を
高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤があ
げられる。更に現像液および補充液には必要に応じて、
ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更
に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることも
できる。
制、現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を
高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤があ
げられる。更に現像液および補充液には必要に応じて、
ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更
に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることも
できる。
【0092】これらの現像液の中で特に好ましいものと
して、例えば特開昭54−62004号、特公昭57−
7427号明細書に記載されているもの、及び特開昭5
1−77401号に示されている、ベンジルアルコー
ル、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる
現像液組成物、特開昭53−44202号に記載されて
いる、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、水
溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特
開昭55−155355号に記載されている、水に対す
る溶解度が常温において10重量%以下である有機溶剤
とアルカリ剤と水とを含有する現像液組成物等が挙げら
れる。
して、例えば特開昭54−62004号、特公昭57−
7427号明細書に記載されているもの、及び特開昭5
1−77401号に示されている、ベンジルアルコー
ル、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる
現像液組成物、特開昭53−44202号に記載されて
いる、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、水
溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特
開昭55−155355号に記載されている、水に対す
る溶解度が常温において10重量%以下である有機溶剤
とアルカリ剤と水とを含有する現像液組成物等が挙げら
れる。
【0093】本発明の感光性組成物を印刷版として用い
る場合、上記現像液および補充液を用いて現像処理した
後、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理されるこ
とが好ましい。後処理にはこれらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。
る場合、上記現像液および補充液を用いて現像処理した
後、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理されるこ
とが好ましい。後処理にはこれらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。
【0094】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。
【0095】また、実質的に未使用の処理液で処理する
いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【0096】本発明の感光性組成物を用いた感光性平版
印刷版を画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及
び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画
像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)が
ある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれ
る。このような消去は、例えば特公平 2−13293 号公報
に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布
し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することに
より行なう方法等がある。
印刷版を画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及
び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画
像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)が
ある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれ
る。このような消去は、例えば特公平 2−13293 号公報
に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布
し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することに
より行なう方法等がある。
【0097】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができる。
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができる。
【0098】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【0099】実施例1〜10及び比較例1〜3 厚さ0.24mmの1Sアルミニウム板を80℃に保っ
た第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して
脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、アルミン酸
ナトリウムで約10分間エッチングして、硫酸水素ナト
リウム3%水溶液でデスマット処理を行った。このアル
ミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A/dm2 にお
いて2分間陽極酸化を行った。下記表−1に示される種
々の化合物を用いて、下記処方のとおりに13種類の感
光液〔A〕−1〜〔A〕−10、〔A′〕−1〜
〔A′〕−3を調製した。この感光液を上記陽極酸化し
たアルミニウム板上に塗布し、100℃で10分間乾燥
して各々の感光性平版印刷版を作成した。このときの塗
布量は全て乾燥重量で1.7g/m2 になるように調整
した。
た第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して
脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、アルミン酸
ナトリウムで約10分間エッチングして、硫酸水素ナト
リウム3%水溶液でデスマット処理を行った。このアル
ミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A/dm2 にお
いて2分間陽極酸化を行った。下記表−1に示される種
々の化合物を用いて、下記処方のとおりに13種類の感
光液〔A〕−1〜〔A〕−10、〔A′〕−1〜
〔A′〕−3を調製した。この感光液を上記陽極酸化し
たアルミニウム板上に塗布し、100℃で10分間乾燥
して各々の感光性平版印刷版を作成した。このときの塗
布量は全て乾燥重量で1.7g/m2 になるように調整
した。
【0100】 感光液処方〔A〕 表−1の線状高分子化合物 2.0g 表−1のヒドロキシイミド化合物 0.5g 表−1の酸前駆体 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学製染料) 0.1g 1−メトキシ−2−プロピルアセテート 20.0g メチルエチルケトン 40.0g
【0101】次に、得られた感光性平版印刷版の感光層
上に濃度差0.15のグレースケールを密着させ、2k
wの高圧水銀灯で50cmの距離から20秒露光を行っ
た。露光した感光性平版印刷版を120℃で5分加熱し
た後、以下の現像液原液(Y)の2倍希釈水溶液で25
℃において60秒浸漬し現像した。 現像液原液(Y) 水 80g トリエタノールアミン 3g t−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 8g ベンジルアルコール 9g
上に濃度差0.15のグレースケールを密着させ、2k
wの高圧水銀灯で50cmの距離から20秒露光を行っ
た。露光した感光性平版印刷版を120℃で5分加熱し
た後、以下の現像液原液(Y)の2倍希釈水溶液で25
℃において60秒浸漬し現像した。 現像液原液(Y) 水 80g トリエタノールアミン 3g t−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 8g ベンジルアルコール 9g
【0102】得られた画像の鮮明さを目視で評価した。
更に、感度を示すために、グレースケールのどの濃度ま
で、鮮明な画像が得られたかをグレースケールの段数で
示した。グレースケールの段数が多い程、感度が高いこ
とを示す。それらの結果を下記表−1に示す。
更に、感度を示すために、グレースケールのどの濃度ま
で、鮮明な画像が得られたかをグレースケールの段数で
示した。グレースケールの段数が多い程、感度が高いこ
とを示す。それらの結果を下記表−1に示す。
【0103】
【表1】
【0104】
【表2】
【0105】上記表−1の結果から、本発明の感光性組
成物である実施例1〜10はすべて鮮明なネガ画像が得
られたことが判る。それに対して、ヒドロキシイミド化
合物を含まないもの(比較例1)、酸前駆体を含まない
もの(比較例2)、高分子化合物に水酸基を有しないも
のを使用した場合(比較例3)は、全て画像が形成され
なかった。
成物である実施例1〜10はすべて鮮明なネガ画像が得
られたことが判る。それに対して、ヒドロキシイミド化
合物を含まないもの(比較例1)、酸前駆体を含まない
もの(比較例2)、高分子化合物に水酸基を有しないも
のを使用した場合(比較例3)は、全て画像が形成され
なかった。
【0106】実施例11 〔基板の作製〕特開昭56ー28893号公報に開示さ
れた方法により基板を作製した。即ち、厚さ0.24m
mのアルミニウム板を、ナイロンブラシと400メッシ
ュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立て
した後、よく水で洗浄した。次いで10%水酸化ナトリ
ウム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後、更に20%HNO3 で中和洗浄し、
水洗した。次にこの板を陽極時電圧が12.7Vで陽極
時電気量に対する陰極時電気量の比が0.8の条件下で
正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で16
0クーロン/dm 2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を
行った。このときの表面粗さを測定したところ0.6μ
( Ra表示) であった。引き続いて30%の硫酸中に浸
漬し、55℃で2分間デスマットした後、20%硫酸
中、電流密度2A/dm2 において厚さが2.7g/m
2 になるように2分間陽極酸化処理した。その後70℃
の珪酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬後水洗乾燥し
た。
れた方法により基板を作製した。即ち、厚さ0.24m
mのアルミニウム板を、ナイロンブラシと400メッシ
ュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立て
した後、よく水で洗浄した。次いで10%水酸化ナトリ
ウム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後、更に20%HNO3 で中和洗浄し、
水洗した。次にこの板を陽極時電圧が12.7Vで陽極
時電気量に対する陰極時電気量の比が0.8の条件下で
正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で16
0クーロン/dm 2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を
行った。このときの表面粗さを測定したところ0.6μ
( Ra表示) であった。引き続いて30%の硫酸中に浸
漬し、55℃で2分間デスマットした後、20%硫酸
中、電流密度2A/dm2 において厚さが2.7g/m
2 になるように2分間陽極酸化処理した。その後70℃
の珪酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬後水洗乾燥し
た。
【0107】〔カーボンブラック分散液の作製〕下記重
量比による組成物をガラスビーズにより10分間分散し
カーボンブラック分散液を得た。 カーボンブラック 1 重量部 ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 1.6重量部 (モル比72:28,重量平均分子量7万) シクロヘキサノン 1.6重量部 メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
量比による組成物をガラスビーズにより10分間分散し
カーボンブラック分散液を得た。 カーボンブラック 1 重量部 ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 1.6重量部 (モル比72:28,重量平均分子量7万) シクロヘキサノン 1.6重量部 メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
【0108】〔ネガ型感光性平版印刷版の作製〕上記に
より得られたアルミニウム板に下記感光液を塗布し,8
0℃で2分間乾燥をしてネガ型感光性平版印刷版を得
た。乾燥後の重量は2.0g/m2 であった。 感光液 前記カーボンブラック分散液 10g 本文中の化合物 I−18 2g 本文中の化合物 X−22 0.3g ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ 10g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート60/20/20 モル比共重合体、重量平均分子量3.8 万 FC−430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.1g メチルエチルケトン 50g
より得られたアルミニウム板に下記感光液を塗布し,8
0℃で2分間乾燥をしてネガ型感光性平版印刷版を得
た。乾燥後の重量は2.0g/m2 であった。 感光液 前記カーボンブラック分散液 10g 本文中の化合物 I−18 2g 本文中の化合物 X−22 0.3g ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ 10g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート60/20/20 モル比共重合体、重量平均分子量3.8 万 FC−430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.1g メチルエチルケトン 50g
【0109】得られたネガ型感光性平版印刷版を版面出
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写真
フィルム(株)製現像液、DN−3C(1:1)、ガム
液FN−2(1:1)を仕込んだ自動現像機を通して処
理したところ、ネガ画像が得られた。この平版印刷版を
ハイデルSOR−KZ機で印刷したところ、良好な印刷
物が約3万枚得られた。
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写真
フィルム(株)製現像液、DN−3C(1:1)、ガム
液FN−2(1:1)を仕込んだ自動現像機を通して処
理したところ、ネガ画像が得られた。この平版印刷版を
ハイデルSOR−KZ機で印刷したところ、良好な印刷
物が約3万枚得られた。
【0110】比較例4 実施例11の感光液組成中、カーボンブラック分散液の
かわりに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)
0.3gを用いた以外は実施例11と同様にして、ネガ
型感光性平版印刷版を作製した。この感光性平版印刷版
を、実施例11と同様に露光し現像処理したところ、感
光膜がすべて現像液に溶解してしまい画像が得られなか
った。
かわりに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)
0.3gを用いた以外は実施例11と同様にして、ネガ
型感光性平版印刷版を作製した。この感光性平版印刷版
を、実施例11と同様に露光し現像処理したところ、感
光膜がすべて現像液に溶解してしまい画像が得られなか
った。
【0111】実施例12〜14 実施例11の感光液組成中、化合物I−18 2gのか
わりに表−2の化合物を用いた以外は、実施例11と同
様にサンプルを作成し、同様にYAGレーザで書き込
み、現像処理したところ、ネガ画像が得られた。この印
刷版を用い、実施例11と同様な条件で印刷したところ
表−2の枚数、良好な印刷物が得られた。
わりに表−2の化合物を用いた以外は、実施例11と同
様にサンプルを作成し、同様にYAGレーザで書き込
み、現像処理したところ、ネガ画像が得られた。この印
刷版を用い、実施例11と同様な条件で印刷したところ
表−2の枚数、良好な印刷物が得られた。
【0112】
【表3】
【0113】実施例15〜17 実施例11の感光液組成中、化合物X−22 0.3g
のかわりに表−3の化合物を用いた以外は、実施例11
と同様にサンプルを作成し、同様にYAGレーザで書き
込み、現像処理したところ、ネガ画像が得られた。この
印刷版を用い、実施例11と同様な条件で印刷したとこ
ろ表−3の枚数、良好な印刷物が得られた。
のかわりに表−3の化合物を用いた以外は、実施例11
と同様にサンプルを作成し、同様にYAGレーザで書き
込み、現像処理したところ、ネガ画像が得られた。この
印刷版を用い、実施例11と同様な条件で印刷したとこ
ろ表−3の枚数、良好な印刷物が得られた。
【0114】
【表4】
【0115】実施例18 実施例11の感光液組成中、線状高分子を下記の樹脂に
変えた以外は、全く同様にしてネガ型感光性平版印刷版
を得た。
変えた以外は、全く同様にしてネガ型感光性平版印刷版
を得た。
【0116】
【化28】
【0117】得られたネガ型感光性平版印刷版を版面出
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写真
フィルム(株)製現像液、DN−3C(1:1)、ガム
液FN−2(1:1)を仕込んだ自動現像機を通して処
理したところ、ネガ画像が得られた。この平版印刷板を
ハイデルSOR−KZ機で印刷したところ、良好な印刷
物が約5万枚得られた。
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写真
フィルム(株)製現像液、DN−3C(1:1)、ガム
液FN−2(1:1)を仕込んだ自動現像機を通して処
理したところ、ネガ画像が得られた。この平版印刷板を
ハイデルSOR−KZ機で印刷したところ、良好な印刷
物が約5万枚得られた。
【0118】実施例19 実施例11で用いたカーボンブラック分散液のかわりに
下記染料を用い、実施例11と同様の操作によりネガ型
感光性平版印刷版を得た。
下記染料を用い、実施例11と同様の操作によりネガ型
感光性平版印刷版を得た。
【0119】 染料 2,6−ジ−t−ブチル−4−{5−(2,6−ジ−t− 0.02g ブチル−4H−チオピラン−4−イリデン)−ペンタ− 1,3−ジエニル}チオピリリウムテトラフルオロボレート (米国特許第4,283,475号明細書記載の化合物) 得られたネガ型感光性平版印刷版を半導体レーザ(波長
825nm、スポット径:1/e2=11.9μ)を用
い、線速度8m/secで版面出力110mWに調節
し、露光した。次に実施例11と同様の現像処理を行っ
たところ、線幅10μの細線が形成できた。
825nm、スポット径:1/e2=11.9μ)を用
い、線速度8m/secで版面出力110mWに調節
し、露光した。次に実施例11と同様の現像処理を行っ
たところ、線幅10μの細線が形成できた。
【0120】次に、ビーム径を6μ(1/e2)に調整
し同様にして4000dpiの書き込み解像度にて20
0lpiの網点画像露光後、同様の処理を行い網点画像
を形成した。得られた平版印刷版を用いてハイデルベル
グ社製SOR−KZ型印刷機で市販のインキを用いて上
質紙に印刷したところ実施例11と同様に、優れた印刷
性が得られた。
し同様にして4000dpiの書き込み解像度にて20
0lpiの網点画像露光後、同様の処理を行い網点画像
を形成した。得られた平版印刷版を用いてハイデルベル
グ社製SOR−KZ型印刷機で市販のインキを用いて上
質紙に印刷したところ実施例11と同様に、優れた印刷
性が得られた。
【0121】比較例5 実施例19の感光液組成中、染料のかわりに油溶性染料
(ビクトリアピュアブルーBOH)0.2gを用いた以
外は実施例19と同様にして、ネガ型感光性平版印刷板
を作製した。この感光性平版印刷版を、実施例19と同
様に露光し現像処理したところ、感光膜がすべて現像液
に溶解してしまい画像が得られなかった。
(ビクトリアピュアブルーBOH)0.2gを用いた以
外は実施例19と同様にして、ネガ型感光性平版印刷板
を作製した。この感光性平版印刷版を、実施例19と同
様に露光し現像処理したところ、感光膜がすべて現像液
に溶解してしまい画像が得られなかった。
【0122】
【発明の効果】本発明により、鮮明なネガ画像が作成可
能な新規な感光性組成物を提供することができる。更
に、露光光源の発光波長に依存せずに記録可能な感光性
組成物、特に近赤外から赤外(熱線)で記録可能な感光
性組成物を提供することができる。また、鮮明なネガ画
像が作成可能な新規な画像記録材料の製造方法を提供す
ることができる。更に、近赤外から赤外に発光領域をも
つ固体レーザ・半導体レーザ(熱モード)を用いて、コ
ンピュータ等のディジタルデータを直接記録することが
可能で、かつ従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用
できるヒートモード書き込み型ダイレクト製版用平版印
刷版を得ることができる。
能な新規な感光性組成物を提供することができる。更
に、露光光源の発光波長に依存せずに記録可能な感光性
組成物、特に近赤外から赤外(熱線)で記録可能な感光
性組成物を提供することができる。また、鮮明なネガ画
像が作成可能な新規な画像記録材料の製造方法を提供す
ることができる。更に、近赤外から赤外に発光領域をも
つ固体レーザ・半導体レーザ(熱モード)を用いて、コ
ンピュータ等のディジタルデータを直接記録することが
可能で、かつ従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用
できるヒートモード書き込み型ダイレクト製版用平版印
刷版を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/38 511 G03F 7/38 511 H01L 21/027 H01L 21/30 502R
Claims (3)
- 【請求項1】 酸前駆体、下記一般式(1)で示される
化合物、および水酸基を有する線状高分子を含むことを
特徴とするネガ型感光性組成物。 【化1】 式中、Aは2価の置換もしくは未置換の脂肪族残基、2
価の置換もしくは未置換の芳香族残基を示す。 - 【請求項2】 輻射線を吸収する物質を含むことを特徴
とする請求項1に記載のネガ型感光性組成物。 - 【請求項3】 前記請求項1に記載の感光性組成物を、
画像露光後加熱処理、更に現像処理を行うことを特徴と
する画像記録材料の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7204743A JPH0962005A (ja) | 1995-06-14 | 1995-08-10 | ネガ型感光性組成物 |
| US08/657,193 US5725994A (en) | 1995-06-14 | 1996-06-03 | Negative type photosensitive compositions comprising a hydroxyimide compound |
| EP96109332A EP0750230B1 (en) | 1995-06-14 | 1996-06-11 | Negative type photosensitive compositions |
| DE69601518T DE69601518T2 (de) | 1995-06-14 | 1996-06-11 | Negativ arbeitende fotoempfindliche Zusammensetzungen |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-147626 | 1995-06-14 | ||
| JP14762695 | 1995-06-14 | ||
| JP7204743A JPH0962005A (ja) | 1995-06-14 | 1995-08-10 | ネガ型感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0962005A true JPH0962005A (ja) | 1997-03-07 |
Family
ID=26478109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7204743A Pending JPH0962005A (ja) | 1995-06-14 | 1995-08-10 | ネガ型感光性組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5725994A (ja) |
| EP (1) | EP0750230B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0962005A (ja) |
| DE (1) | DE69601518T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10282654A (ja) * | 1997-04-07 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
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| US6042987A (en) * | 1996-10-16 | 2000-03-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd | Negative type image recording material |
| US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
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| DE19729067A1 (de) | 1997-07-08 | 1999-01-14 | Agfa Gevaert Ag | Infrarot-bebilderbares Aufzeichnungsmaterial und daraus hergestellte Offsetdruckplatte |
| JP2003533707A (ja) | 1997-08-14 | 2003-11-11 | コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド | マスク及び電子パーツの製造方法 |
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| EP1952201B1 (en) * | 2005-11-18 | 2011-01-12 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a photopolymer printing plate |
| WO2014149390A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Isp Investments Inc. | Uv-absorbing polymers and formulations thereof |
| WO2017189589A1 (en) * | 2016-04-25 | 2017-11-02 | Isp Investments Llc | An antimicrobial composition, process for preparing the same and method of use thereof |
| CN119431211B (zh) * | 2023-08-07 | 2025-08-01 | 北京隆熙生物科技有限公司 | 一种中间体及其制备方法和应用 |
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| US4851454A (en) * | 1986-07-17 | 1989-07-25 | The Dow Chemical Company | Photolytically crosslinkable thermally stable composition |
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| JPH0692909A (ja) * | 1992-04-10 | 1994-04-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 炭酸エステル環状化合物、その製造方法及びそれを用いてなるポジ型フォトレジスト組成物 |
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1995
- 1995-08-10 JP JP7204743A patent/JPH0962005A/ja active Pending
-
1996
- 1996-06-03 US US08/657,193 patent/US5725994A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-11 EP EP96109332A patent/EP0750230B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-11 DE DE69601518T patent/DE69601518T2/de not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5725994A (en) | 1998-03-10 |
| EP0750230A3 (en) | 1997-04-16 |
| DE69601518D1 (de) | 1999-03-25 |
| EP0750230B1 (en) | 1999-02-10 |
| EP0750230A2 (en) | 1996-12-27 |
| DE69601518T2 (de) | 1999-06-17 |
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