JPH0964263A - Lead frame plating apparatus and lead frame plating method - Google Patents

Lead frame plating apparatus and lead frame plating method

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JPH0964263A
JPH0964263A JP21614895A JP21614895A JPH0964263A JP H0964263 A JPH0964263 A JP H0964263A JP 21614895 A JP21614895 A JP 21614895A JP 21614895 A JP21614895 A JP 21614895A JP H0964263 A JPH0964263 A JP H0964263A
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JP
Japan
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lead frame
die pad
plating solution
hole
mask
Prior art date
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Application number
JP21614895A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiichi Kotani
谷 圭 一 小
Kenji Nakamura
村 賢 二 中
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 噴射ノズルからリードフレームにめっき液を
噴射した場合、リードフレームのダイパッドの背面にめ
っき液が回り込むことのないリードフレームのめっき装
置およびめっき方法を提供する。 【解決手段】 透孔4aを有するマスク用治具4に設け
られた透孔3aを有するマスクゴム3と、プレスブロッ
ク1に設けられたシリコンゴム1aとの間でリードフレ
ーム2が挟持される。めっき液タンク10内のめっき液
が、供給ライン21によって噴射ノズル5まで導かれ、
マスク用治具4の透孔4aおよびマスクゴム3の透孔3
aからリードフレーム2に対して噴射される。この場
合、リードフレーム2はシリコンゴム1aに設けられた
ダイパッド吸着孔12により吸着されてシリコンゴム1
a側に密着する。このため、めっき液がリードフレーム
2の背面に回り込むことはない。
(57) Abstract: [PROBLEMS] To provide a lead frame plating apparatus and a plating method in which a plating solution does not circulate to the back surface of a die pad of a lead frame when the plating solution is sprayed from a spray nozzle. A lead frame 2 is sandwiched between a mask rubber 3 having a through hole 3a provided in a mask jig 4 having a through hole 4a and a silicone rubber 1a provided in a press block 1. The plating solution in the plating solution tank 10 is guided to the injection nozzle 5 by the supply line 21,
Through hole 4a of mask jig 4 and through hole 3 of mask rubber 3
It is jetted from a to the lead frame 2. In this case, the lead frame 2 is adsorbed by the die pad adsorption holes 12 provided in the silicone rubber 1a and
Adhere to the a side. Therefore, the plating solution does not flow around the back surface of the lead frame 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームに
対してめっき液を噴射してめっきを施すリードフレーム
のめっき装置およびリードフレームのめっき方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame plating apparatus and a lead frame plating method for plating a lead frame by spraying a plating solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来からリードフレームのめっき装置と
して、図5に示すめっき装置が知られている。図5に示
すように、このめっき装置は透孔4aを有するマスク用
治具4と、このマスク用治具4との間でリードフレーム
2を挟持するプレスブロック1とを備えており、マスク
用治具4の上面にはマスクゴム3が取付けられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a plating apparatus shown in FIG. 5 has been known as a lead frame plating apparatus. As shown in FIG. 5, the plating apparatus includes a mask jig 4 having a through hole 4a and a press block 1 that holds the lead frame 2 between the mask jig 4 and the mask jig 4. The mask rubber 3 is attached to the upper surface of the jig 4.

【0003】このうちプレスブロック1は耐熱塩ビ製と
なっており、プレスブロック1の下面にはシリコンゴム
1aが取付けられている。またマスク用治具4に取付け
られたマスクゴム3にも、マスク用治具4の透孔4aに
対応する透孔3aが設けられている。これら透孔4a,
3aの形状は、後述するリードフレーム2のめっき部3
0に対応して定められている。
Of these, the press block 1 is made of heat-resistant vinyl chloride, and a silicon rubber 1a is attached to the lower surface of the press block 1. The mask rubber 3 attached to the mask jig 4 is also provided with a through hole 3a corresponding to the through hole 4a of the mask jig 4. These through holes 4a,
The shape of 3a is the plated portion 3 of the lead frame 2 described later.
It is set in correspondence with 0.

【0004】マスク用治具4は、めっき液を受ける外槽
15の上端開口に設置され、この外槽15内には、噴射
ノズル5が設けられた噴射タンク6が配設されている。
The mask jig 4 is installed at the upper end opening of an outer tank 15 for receiving a plating solution, and in the outer tank 15, an injection tank 6 having an injection nozzle 5 is arranged.

【0005】また外槽15の外方には、めっき液を貯え
るめっき液タンク10が配設され、このめっき液タンク
10と噴射タンク6とは、圧送ポンプ9が取付けられた
供給ライン21によって連結されている。さらに外槽1
5の底部とめっき液タンク10とは、戻りライン22に
よって連結されている。
A plating solution tank 10 for storing a plating solution is provided outside the outer tank 15, and the plating solution tank 10 and the injection tank 6 are connected by a supply line 21 to which a pressure pump 9 is attached. Has been done. Outer tank 1
The bottom of 5 and the plating solution tank 10 are connected by a return line 22.

【0006】このようなリードフレームのめっき装置に
おいて、まずリードフレーム2がマスク用治具4個のマ
スクゴム3とプレスブロック1側のシリコンゴム1aと
の間で挟持される。次にめっき液タンク10内のめっき
液が、圧送ポンプ9によって噴射タンク6内に供給ライ
ン21を通って供給される。さらに噴射タンク6内のめ
っき液は、噴射ノズル5からマスク用治具4の透孔4a
およびマスクゴム3の透孔3aを経てリードフレーム2
に対して噴射される。この場合、リードフレーム2を陰
極としてこのリードフレーム2に通電され、このように
してリードフレーム2に対してめっきが施される。
In such a lead frame plating apparatus, first, the lead frame 2 is sandwiched between the mask rubber 3 of the four mask jigs and the silicon rubber 1a on the press block 1 side. Next, the plating solution in the plating solution tank 10 is supplied into the injection tank 6 by the pressure pump 9 through the supply line 21. Further, the plating solution in the spray tank 6 is supplied from the spray nozzle 5 to the through hole 4a of the mask jig 4.
And the lead frame 2 through the through hole 3a of the mask rubber 3.
Is jetted against. In this case, the lead frame 2 is used as a cathode and electricity is applied to the lead frame 2, and thus the lead frame 2 is plated.

【0007】リードフレーム2に噴射されためっき液
は、その後外槽15内に溜まり、外槽15の底部から戻
りライン22を通ってめっき液タンク10内に戻され
る。
The plating solution sprayed onto the lead frame 2 is then accumulated in the outer tank 15 and returned from the bottom of the outer tank 15 through the return line 22 into the plating solution tank 10.

【0008】上述のようにしてリードフレーム2に対し
てめっきが施されると、リードフレーム2の下面に図6
に示すようなめっき部30が形成される。なお、図6に
おいて、リードフレーム2はダイパッド2aとリード部
2bとを有しており、めっき部30はダイパッド2aお
よびダイパッド2a周囲のリード部2b上に形成されて
いる。
When the lead frame 2 is plated as described above, the lower surface of the lead frame 2 shown in FIG.
A plated portion 30 as shown in is formed. In FIG. 6, the lead frame 2 has a die pad 2a and a lead portion 2b, and the plated portion 30 is formed on the die pad 2a and the lead portion 2b around the die pad 2a.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、リードフレ
ーム2に対してめっき液を噴射する場合、リードフレー
ム2はマスク用治具4のマスクゴム3とプレスブロック
側のシリコンゴム1aとの間で挟持されるが、上述のよ
うにマスク用治具4およびマスクゴム3にはめっき部3
0に対応して透孔4a,3aが設けられている。従って
リードフレーム2をマスク用治具4側のマスクゴム3と
プレスブロック1側のシリコンゴム1aとの間で挟持し
た場合、リードフレーム2のダイパッド2a部分はマス
クゴム3側からは押圧されない状態となる。このような
状態でリードフレーム2に対してめっき液を噴射する
と、リードフレーム2のうち、とりわけダイパッド2a
の背面(上面)側にめっき液が回り込み、回り込んだめ
っき液によってリードフレーム2のダイパッド2aの上
面に追加めっき部31が形成されてしまう(図7参
照)。
By the way, when the plating solution is sprayed onto the lead frame 2, the lead frame 2 is sandwiched between the mask rubber 3 of the mask jig 4 and the silicon rubber 1a on the press block side. However, as described above, the mask jig 4 and the mask rubber 3 have the plated portion 3
Through holes 4a and 3a are provided corresponding to 0. Therefore, when the lead frame 2 is sandwiched between the mask rubber 3 on the mask jig 4 side and the silicon rubber 1a on the press block 1 side, the die pad 2a portion of the lead frame 2 is not pressed from the mask rubber 3 side. When the plating solution is sprayed onto the lead frame 2 in such a state, among the lead frames 2, especially the die pad 2a
The plating solution wraps around to the back surface (upper surface) side, and the wraparound plating solution forms an additional plated portion 31 on the upper surface of the die pad 2a of the lead frame 2 (see FIG. 7).

【0010】このような状況を防ぐため、マスクゴム3
の厚さおよび硬度を変えたりしているが、リードフレー
ム2の背面側にめっき液が進入することを効果的に防止
することはできない。
In order to prevent such a situation, the mask rubber 3
However, it is not possible to effectively prevent the plating solution from entering the back surface side of the lead frame 2.

【0011】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、リードフレームの背面にめっき液が回り込
むことを効果的に防止することができるリードフレーム
のめっき装置およびリードフレームのめっき方法を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above points, and a lead frame plating apparatus and a lead frame plating method capable of effectively preventing the plating solution from flowing around the back surface of the lead frame. The purpose is to provide.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、ダイパッドを
有するリードフレームを載置するとともに、前記ダイパ
ッドに対応して設けられた透孔を有するマスク用治具
と、このマスク用治具との間でリードフレームを挟持す
るプレスブロックと、マスク用治具の透孔近傍に配置さ
れ透孔を通してめっき液をリードフレームに対して噴射
する噴射ノズルとを備え、前記プレスブロックのうち、
ダイパッドに当接する面にダイパッド吸着孔を設けたこ
とを特徴とするリードフレームのめっき装置、および透
孔を有するマスク用治具の上に、ダイパッドを有するリ
ードフレームをダイパッドを前記透孔に対応させて載置
する工程と、マスク用治具上のリードフレームをプレス
ブロックとの間で挟持する工程と、リードフレームのダ
イパッドをプレスブロックに設けられたダイパッド吸着
孔により吸引する工程と、マスク用治具の透孔近傍に配
置された噴射ノズルから、めっき液を透孔を通してリー
ドフレームに対して噴射する工程と、を備えたことを特
徴とするリードフレームのめっき方法である。
According to the present invention, a lead frame having a die pad is placed, and a mask jig having through holes provided corresponding to the die pad, and the mask jig are provided. A press block for sandwiching the lead frame between them, and a spray nozzle disposed near the through hole of the mask jig and spraying a plating solution to the lead frame through the through hole.
A lead frame plating device characterized in that a die pad suction hole is provided on the surface that comes into contact with the die pad, and a lead frame having a die pad is made to correspond to the through hole on a mask jig having a through hole. Mounting step, sandwiching the lead frame on the mask jig with the press block, sucking the die pad of the lead frame with the die pad suction holes provided in the press block, and mask treatment. And a step of spraying a plating solution through a through hole from a spray nozzle arranged in the vicinity of the through hole of the tool onto the lead frame.

【0013】本発明によれば、プレスブロックのダイパ
ッド吸着孔によってリードフレームのダイパッドを吸着
し、これによってダイパッドをプレスブロックに密着さ
せたので、リードフレームに対してめっき液を噴射した
場合、ダイパッドの背面にめっき液が回り込むことはな
い。
According to the present invention, the die pad of the lead frame is adsorbed by the die pad adsorption hole of the press block, and the die pad is brought into close contact with the press block. Therefore, when the plating solution is sprayed onto the lead frame, The plating solution does not go around to the back surface.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1および図2は本発明に
よるリードフレームのめっき装置の第1の実施の形態を
示す図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 are views showing a first embodiment of a lead frame plating apparatus according to the present invention.

【0015】図1に示す実施の形態において、図5に示
す従来技術と同一部分には同一符号を付して詳細な説明
は省略する。図1に示すように、めっき装置は透孔4a
を有するマスク用治具4と、このマスク用治具4との間
でリードフレーム2を挟持するプレスブロック1とを備
えており、マスク用治具4の上面にはマスクゴム3が取
付けられている。
In the embodiment shown in FIG. 1, the same parts as those in the prior art shown in FIG. 5 are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted. As shown in FIG. 1, the plating device has a through hole 4a.
The mask jig 4 having the above and the press block 1 for sandwiching the lead frame 2 between the mask jig 4 and the mask jig 4 are provided, and the mask rubber 3 is attached to the upper surface of the mask jig 4. .

【0016】プレスブロック1は耐熱塩ビ製となってお
り、プレスブロック1の下面にはシリコンゴム1aが取
付けられている。またマスク用治具4に取付けられたマ
スクゴム3にも、マスク用治具4の透孔4aに対応して
透孔3aが設けられている。これら透孔4a,3aの形
状は、リードフレーム2のめっき部30(図7参照)に
対応して定められている。
The press block 1 is made of heat-resistant vinyl chloride, and a silicon rubber 1a is attached to the lower surface of the press block 1. The mask rubber 3 attached to the mask jig 4 is also provided with through holes 3a corresponding to the through holes 4a of the mask jig 4. The shapes of the through holes 4a and 3a are determined corresponding to the plated portion 30 (see FIG. 7) of the lead frame 2.

【0017】マスク用治具4は、めっき液を受ける外槽
15の上端開口に設置され、この外槽15内には、噴射
ノズル5が設けられた噴射タンク6が配設されている。
The mask jig 4 is installed in the upper end opening of an outer tank 15 for receiving the plating solution, and in the outer tank 15, an injection tank 6 having an injection nozzle 5 is arranged.

【0018】また外槽15の外方には、めっき液を貯え
るめっき液タンク10が配設され、このめっき液タンク
10と噴射タンク6とは、圧送ポンプ9が取付けられた
供給ライン21によって連結されている。さらに外槽1
5の底部とめっき液タンク10とは、戻りライン22に
よって連結されている。
A plating solution tank 10 for storing a plating solution is arranged outside the outer tank 15, and the plating solution tank 10 and the injection tank 6 are connected by a supply line 21 to which a pressure feed pump 9 is attached. Has been done. Outer tank 1
The bottom of 5 and the plating solution tank 10 are connected by a return line 22.

【0019】次に各部の材質について説明する。外槽1
5、噴射タンク6、めっきタンク10、供給ライン21
および戻りライン22は耐熱塩ビまたは通常の塩ビから
なり、噴射ノズル5はSUS製で、めっき時の陽極を兼
ねている。
Next, the material of each part will be described. Outer tank 1
5, injection tank 6, plating tank 10, supply line 21
The return line 22 is made of heat-resistant PVC or normal PVC, and the injection nozzle 5 is made of SUS and also serves as an anode during plating.

【0020】ところで、図1および図2(a)(b)に
示すように、プレスブロック1に設けられたシリコンゴ
ム1aの表面には、リードフレーム2のうちダイパッド
2aを吸着するためのダイパッド吸着孔12が複数設け
られている。ここで図2(a)はプレスブロック1の側
面図、図2(b)はプレスブロック1の底面図である。
By the way, as shown in FIGS. 1 and 2A and 2B, a die pad suction for adsorbing the die pad 2a of the lead frame 2 is formed on the surface of the silicon rubber 1a provided on the press block 1. A plurality of holes 12 are provided. Here, FIG. 2A is a side view of the press block 1, and FIG. 2B is a bottom view of the press block 1.

【0021】図2(a)(b)に示すように、ダイパッ
ド吸着孔12は、シリコンゴム1aおよびプレスブロッ
ク1を貫通して延びる連通路13を介して真空ポンプ1
1に連絡されている。なお、真空ポンプ11の代わり
に、エジェクタまたはアスピレータ等を用いてもよい。
As shown in FIGS. 2A and 2B, the die pad suction hole 12 has a vacuum pump 1 through a communicating passage 13 extending through the silicon rubber 1a and the press block 1.
1 has been contacted. Instead of the vacuum pump 11, an ejector, an aspirator or the like may be used.

【0022】マスク用治具4側のマスクゴム3に上にリ
ードフレーム2を載置した場合、リードフレーム2のダ
イパッド2aはダイパッド吸着孔12に対応する位置に
くるようになっている。そして真空ポンプ11を作動す
ることによりダイパッド吸着孔12によってダイパッド
2aを吸着し、このダイパッド2aをシリコンゴム1a
側に密着させるようになっている。
When the lead frame 2 is placed on the mask rubber 3 on the mask jig 4 side, the die pad 2a of the lead frame 2 is located at a position corresponding to the die pad suction hole 12. Then, by operating the vacuum pump 11, the die pad 2a is sucked by the die pad suction hole 12, and the die pad 2a is attached to the silicone rubber 1a.
It is designed to be in close contact with the side.

【0023】次にこのような構成からなる本実施例の作
用について説明する。図1においてマスク用治具4のマ
スクゴム3上にリードフレーム2が載置され、このリー
ドフレーム2に対してプレスブロック1が降下し、マス
ク用治具4のマスクゴム3とプレスブロック1のシリコ
ンゴム1aとの間でリードフレーム2が挟持される。こ
の場合、マスク用治具4の透孔4aおよびマスクゴム3
の透孔3aはリードフレーム2のめっき部30(図6)
に対応し、またリードフレーム2のダイパッド2aはダ
イパッド吸着孔12を覆っている。
Next, the operation of this embodiment having such a configuration will be described. In FIG. 1, the lead frame 2 is placed on the mask rubber 3 of the mask jig 4, the press block 1 descends with respect to the lead frame 2, and the mask rubber 3 of the mask jig 4 and the silicon rubber of the press block 1 are placed. The lead frame 2 is sandwiched between the lead frame 1 and 1a. In this case, the through hole 4a of the mask jig 4 and the mask rubber 3
Through hole 3a is the plated portion 30 of the lead frame 2 (FIG. 6).
The die pad 2a of the lead frame 2 covers the die pad suction hole 12.

【0024】その後、真空ポンプ11が作動して、ダイ
パッド吸着孔12によってダイパッド2aが吸着され、
この結果としてダイパッド2aがシリコンゴム1a側に
密着する。次に、めっき液タンク10内に30℃〜50
℃の温度で貯えられためっき液が、圧送ポンプ9によっ
て供給ライン21を経て噴射タンク6に供給される。め
っき液は、更に噴射タンク6から噴射ノズル5を経て、
マスク用治具4の透孔4aおよびマスクゴム3の透孔3
aからリードフレーム2に対して噴射される。この場
合、リードフレーム2に対してリードフレーム2を陰極
として通電が行われる。
Thereafter, the vacuum pump 11 is operated, and the die pad 2a is adsorbed by the die pad adsorption hole 12,
As a result, the die pad 2a comes into close contact with the silicone rubber 1a side. Next, in the plating solution tank 10, 30 ° C. to 50 ° C.
The plating solution stored at a temperature of ° C is supplied to the injection tank 6 by the pressure feed pump 9 via the supply line 21. The plating solution further passes from the injection tank 6 through the injection nozzle 5,
Through hole 4a of mask jig 4 and through hole 3 of mask rubber 3
It is jetted from a to the lead frame 2. In this case, the lead frame 2 is energized with the lead frame 2 as a cathode.

【0025】このようにリードフレーム2に対して通電
することにより、リードフレーム2に対してめっきが施
され、リードフレーム2の下面にめっき部30が形成さ
れる(図6参照)。この場合、ダイパッド吸着孔12に
よってリードフレーム2のダイパッド2aを吸着しダイ
パッド2aをシリコンゴム1aに密着させることができ
るので、めっき液がダイパッド2aの背面側に回り込む
ことはない。このため、ダイパッド2aの背面側に追加
めっき部31(図7参照)が形成されるおそれはない。
By energizing the lead frame 2 in this manner, the lead frame 2 is plated, and the plated portion 30 is formed on the lower surface of the lead frame 2 (see FIG. 6). In this case, since the die pad 2a of the lead frame 2 can be adsorbed by the die pad adsorption hole 12 and the die pad 2a can be brought into close contact with the silicone rubber 1a, the plating solution does not flow around to the back side of the die pad 2a. Therefore, there is no possibility that the additional plating portion 31 (see FIG. 7) is formed on the back surface side of the die pad 2a.

【0026】リードフレーム2に噴射されためっき液
は、その後、外槽15の底部まで自重で降下し、めっき
液は外槽15の底部から戻りライン22を経てめっき液
タンク10内に戻る。次にプレスブロック1が上昇し
て、マスクゴム3上からリードフレーム2が取り出され
る。
The plating solution sprayed onto the lead frame 2 then descends to the bottom of the outer tank 15 by its own weight, and the plating solution returns from the bottom of the outer tank 15 into the plating solution tank 10 via the return line 22. Next, the press block 1 rises, and the lead frame 2 is taken out from the mask rubber 3.

【0027】以上のように本実施例によれば、ダイパッ
ド吸着孔12によってリードフレーム2のダイパッド2
aを吸着し、ダイパッド2aをシリコンゴム1a側に密
着させた状態でリードフレーム2に対してめっき液を噴
射するので、めっき液がダイパッド2aの背面側に回り
込むことはなく、ダイパッド2aの背面側に追加めっき
部31が形成されることもない。
As described above, according to this embodiment, the die pad 2 of the lead frame 2 is formed by the die pad suction holes 12.
Since the plating solution is sprayed onto the lead frame 2 while adsorbing a and adhering the die pad 2a to the silicon rubber 1a side, the plating solution does not circulate to the back side of the die pad 2a and the back side of the die pad 2a. Further, the additional plated portion 31 is not formed.

【0028】なお、上記実施例において、マスク用治具
4にマスクゴム3を設けるとともに、プレスブロック1
にシリコンゴム1aを設けた例を示したが、マスクゴム
3およびシリコンゴム1aは必ずしも設ける必要はな
い。マスクゴム3およびシリコンゴム1aを設けない場
合、ダイパッド吸着孔12はプレスブロック1に直接設
けられることになる。
In the above embodiment, the mask jig 3 is provided with the mask rubber 3 and the press block 1 is used.
Although the example in which the silicone rubber 1a is provided is shown, the mask rubber 3 and the silicone rubber 1a are not necessarily provided. When the mask rubber 3 and the silicone rubber 1a are not provided, the die pad suction holes 12 are directly provided on the press block 1.

【0029】次に図3により本発明の第2の実施の形態
について説明する。図3に示す第2の実施の形態は、シ
リコンゴム1aに設けたダイパッド吸着孔12の開口端
に比較的面積の大きな端部溝18を設けたものであり、
他は図1および図2に示す第1の実施の形態と略同一で
ある。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the second embodiment shown in FIG. 3, an end groove 18 having a relatively large area is provided at the opening end of the die pad suction hole 12 provided in the silicon rubber 1a.
Others are substantially the same as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2.

【0030】本実施例によれば、ダイパッド吸着孔12
からダイパッド2aを吸着した場合、ダイパッド2aは
その周縁部においてシリコンゴム1aにより密着する。
このためダイパッド2aの背面へめっき液が回り込むこ
とはない。
According to this embodiment, the die pad suction holes 12
When the die pad 2a is sucked from the die pad 2a, the die pad 2a is adhered to the peripheral portion by the silicone rubber 1a.
Therefore, the plating solution does not flow around the back surface of the die pad 2a.

【0031】なお、図3において、プレスブロック1に
シリコンゴム1aを設け、このシリコンゴム1aにダイ
パッド吸着孔12および端部溝18を設けた例を示した
が、シリコンゴム1aを設けることなくプレスブロック
1に直接ダイパッド吸着孔12および端部溝18を設け
てもよい。
Although FIG. 3 shows an example in which the press block 1 is provided with the silicon rubber 1a and the die pad suction holes 12 and the end grooves 18 are provided in the silicon rubber 1a, the press without the silicon rubber 1a is performed. The block 1 may be directly provided with the die pad suction holes 12 and the end grooves 18.

【0032】次に図4により本発明の第3の実施の形態
について説明する。図4に示す第3の実施の形態は、シ
リコンゴム1aに吸着孔12を1つのダイパットに対し
て複数個設けたものであり、他は図1および図2に示す
第1の実施の形態と略同一である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The third embodiment shown in FIG. 4 is one in which a plurality of suction holes 12 are provided for one die pad in the silicon rubber 1a, and the others are the same as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2. It is almost the same.

【0033】本実施例によれば、複数のダイパット吸着
孔12からダイパット2aを吸着した場合、ダイパット
2aはより均等にシリコンゴム1aに吸着されるため、
ダイパット2aは変形することなくシリコンゴム1aに
より密着する。このためダイパット2aの背面へめっき
液が回り込むことはない。
According to the present embodiment, when the die pads 2a are adsorbed from the plurality of die pad adsorption holes 12, the die pads 2a are evenly adsorbed to the silicone rubber 1a,
The die pad 2a is adhered to the silicone rubber 1a without deformation. Therefore, the plating solution does not flow around the back surface of the die pad 2a.

【0034】なお図4において、プレスブロック1にシ
リコンゴム1aを設け、このシリコンゴム1aにダイパ
ット吸着孔12を設けた例を示したが、シリコンゴム1
aを設けることなくプレスブロックに直接ダイパット吸
着孔12を設けてもよい。
Although FIG. 4 shows an example in which the press block 1 is provided with the silicone rubber 1a and the silicon rubber 1a is provided with the die pad suction holes 12, the silicone rubber 1a is shown.
The die pad suction holes 12 may be provided directly in the press block without providing a.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ダイパ
ッドをプレスブロック側に確実に密着させることができ
るので、リードフレームに対してめっき液を噴射した場
合ダイパッドの背面にめっき液が回り込むことはない。
このため、ダイパッドの所定位置にのみ精度良くめっき
を施すことができる。
As described above, according to the present invention, since the die pad can be surely brought into close contact with the press block side, when the plating solution is sprayed onto the lead frame, the plating solution wraps around the back surface of the die pad. There is no such thing.
Therefore, it is possible to accurately perform plating only on a predetermined position of the die pad.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるリードフレームのめっき装置の第
1の実施の形態を示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing a first embodiment of a lead frame plating apparatus according to the present invention.

【図2】本発明によるリードフレームのめっき装置のプ
レスブロックを示す図。
FIG. 2 is a view showing a press block of a lead frame plating apparatus according to the present invention.

【図3】本発明によるリードフレームのめっき装置の第
2の実施の形態を示す説明図。
FIG. 3 is an explanatory view showing a second embodiment of a lead frame plating apparatus according to the present invention.

【図4】本発明によるリードフレームのめっき装置の第
3の実施の形態を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory view showing a third embodiment of a lead frame plating apparatus according to the present invention.

【図5】従来のリードフレームのめっき装置を示す図。FIG. 5 is a view showing a conventional lead frame plating apparatus.

【図6】めっきが施されたリードフレームを示す図。FIG. 6 is a diagram showing a lead frame plated.

【図7】めっき液がリードフレームの背面まだ回り込ん
だ状態を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing a state in which the plating solution still wraps around the back surface of the lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プレスブロック 2 リードフレーム 4 マスク用治具 5 噴射ノズル 6 噴射タンク 9 圧送ポンプ 10 めっき液タンク 11 真空ポンプ 12 ダイパッド吸着孔 13 連通路 15 外槽 16 溝 18 端部溝 21 供給ライン 22 戻りライン 1 Press Block 2 Lead Frame 4 Mask Jig 5 Injection Nozzle 6 Injection Tank 9 Pressure Pump 10 Plating Solution Tank 11 Vacuum Pump 12 Die Pad Adsorption Hole 13 Communication Passage 15 Outer Tank 16 Groove 18 End Groove 21 Supply Line 22 Return Line

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ダイパッドを有するリードフレームを載置
するとともに、前記ダイパッドに対応して設けられた透
孔を有するマスク用治具と、 このマスク用治具との間でリードフレームを挟持するプ
レスブロックと、 マスク用治具の透孔近傍に配置され透孔を通してめっき
液をリードフレームに対して噴射する噴射ノズルとを備
え、 前記プレスブロックのうち、ダイパッドに当接する面に
ダイパッド吸着孔を設けたことを特徴とするリードフレ
ームのめっき装置。
1. A press for mounting a lead frame having a die pad and having a through hole provided corresponding to the die pad and a lead frame sandwiched between the mask jig and the mask jig. The block includes a block and a spray nozzle that is disposed in the vicinity of the through hole of the mask jig and sprays a plating solution to the lead frame through the through hole. A die pad suction hole is provided on a surface of the press block that abuts against the die pad. This is a lead frame plating device.
【請求項2】透孔を有するマスク用治具の上に、ダイパ
ッドを有するリードフレームをダイパッドを前記透孔に
対応させて載置する工程と、 マスク用治具上のリードフレームをプレスブロックとの
間で挟持する工程と、 リードフレームのダイパッドをプレスブロックに設けら
れたダイパッド吸着孔により吸引する工程と、 マスク用治具の透孔近傍に配置された噴射ノズルから、
めっき液を透孔を通してリードフレームに対して噴射す
る工程と、を備えたことを特徴とするリードフレームの
めっき方法。
2. A step of placing a lead frame having a die pad on a mask jig having a through hole so that the die pad corresponds to the through hole, and the lead frame on the mask jig being a press block. Between the step, the step of sucking the die pad of the lead frame by the die pad suction hole provided in the press block, and the injection nozzle arranged near the through hole of the mask jig,
And a step of spraying a plating solution onto the lead frame through the through holes.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2021115500A (en) * 2020-01-23 2021-08-10 日本放送協会 Turn table, attachment, and deposition method
CN117747437A (en) * 2023-11-20 2024-03-22 天水华洋电子科技股份有限公司 Coarsening treatment process for integrated circuit stamping lead frame

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021115500A (en) * 2020-01-23 2021-08-10 日本放送協会 Turn table, attachment, and deposition method
CN117747437A (en) * 2023-11-20 2024-03-22 天水华洋电子科技股份有限公司 Coarsening treatment process for integrated circuit stamping lead frame
CN117747437B (en) * 2023-11-20 2024-06-07 天水华洋电子科技股份有限公司 Coarsening treatment process for integrated circuit stamping lead frame

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