JPH0966591A - 積層フイルム - Google Patents
積層フイルムInfo
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- JPH0966591A JPH0966591A JP22507695A JP22507695A JPH0966591A JP H0966591 A JPH0966591 A JP H0966591A JP 22507695 A JP22507695 A JP 22507695A JP 22507695 A JP22507695 A JP 22507695A JP H0966591 A JPH0966591 A JP H0966591A
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Abstract
れ、かつロール状に巻き取る際にフイルム層間から空気
が抜け易くかつ滑り性が良好なために良好な巻姿の得ら
れる積層フイルムを提供する。 【解決手段】 不活性粒子を実質的に含有しないポリエ
ステルフイルム(C層)の一つの表面に平均粒径(d
x)が1〜300nmの粒子Xを0.01〜50重量%
含有する塗膜(A層)を設け、該フイルム(C層)のも
う一方の表面に平均粒径の異なる2種の粒子を含有する
塗膜(B層)を設け、該塗膜(B層)の含有する2種の
粒子が平均粒径(dy)が100〜1000nmの粒子
Yと、平均粒径(dz)が5〜100nmでかつdy/
dzが1.2以上の粒子Zであり、粒子Yの含有量が
0.01〜40重量%、粒子Zの含有量が1〜70重量
%かつ粒子Yと粒子Zの総量が75重量%以下であり、
そして塗膜(A層)の厚みがdx/100以上dx未満
であり、塗膜(B層)の厚みがdy/100以上dz未
満であることを特徴とする積層フイルム。
Description
し、更に詳しくは表面が極めて平坦でありながら搬送性
に優れ、かつロール状に巻き取る際に積層フイルム層間
からの空気が抜け易くかつ滑り性が良好なために良好な
巻姿の得られる積層フイルムに関する。
って、近年ベースフイルムには優れた滑り性(搬送性)
を保持しながら表面平坦性をより一層向上することが要
求されている。
る手段として、例えば不活性粒子(滑剤)を全く含有し
ないか極くわずかしか含有しないポリエステルフイルム
(層)の片面に不活性粒子を含有したポリエステルフイ
ルム(層)を積層して、表面平坦性と巻取り性又は搬送
性の両立を狙った積層フイルム(例えば特開平7―88
952号)が提案されている。
積層フイルムにあっては、例えば磁性塗料塗布後のカレ
ンダー処理において粗面側粒子の平坦面への突き出し現
象を回避することが困難であった。すなわち、磁性塗料
を塗布した後のカレンダー仕上げ工程で非常に高い圧力
がベースフイルムに負荷されるが、このときたとえ一方
のフイルム層表面(磁性層形成面)に突起が存在してい
なくとも、もう一方のフイルム(走行面)層に含有され
ている粒子の影響で磁性層表面が粗れてしまう、いわゆ
る突出し現象が生じる。この現象は粒子の粒径が大き
く、含有量が高いほど、また粒子含有フイルム層の厚み
が厚く、粒子無含有フイルム層の厚みが薄いほど顕著で
ある。そこで、特に高級ビデオ用途のようにベースフイ
ルム全体の厚みが薄い場合注意を要する。
法による積層フイルムでは、フイルム製膜時の溶融押出
工程へのポリマー安定供給の点から、粒子含有フイルム
層の厚みをある程度以上薄くすることができず、このた
めにこの問題を厚み調整で解決することに限界があっ
た。さらに、粒子の粒径を小さくしたり、含有量を下げ
ることで突出し現象を回避しようとすると、ベースフイ
ルムを巻き取る際にエア抜け性、滑り性が悪化するため
に良好な巻姿のフイルムロールを確保できないという問
題が起こってくる。
しを回避するための別の方法として、不活性粒子を含有
するベースフイルムの片面に、微細粒子を含有する塗膜
層を設ける方法が考えられる。この方法によれば、微細
粒子の平均粒径や含有量を特定すればカレンダー工程で
の粒子の突出し抑制に効果的であり、巻姿の良好なフイ
ルムロールも得られる。
変換特性が要求されるデジタル記録用途等においては、
不活性粒子を含有するベースフイルムをもってしては、
その要求に応えられなくなりつつある。
イルムを用い、その片面に上記微粒子含有塗膜層を設け
ることによって、カレンダー工程での粒子の突き上げの
解消、及び高度な電磁変換特性の発現は達成されるが、
副作用として次のような問題点が新たに発生する。
で、粒子を含有しないフイルム層とガイドロール等が接
触する際、滑り性が悪く、シワが発生したり、切断など
のトラブルを引き起こしたりするという問題を生じる。
エア抜け性が悪くなり、良好な巻姿のフイルムロールが
得られないという問題が生じる。さらに、フイルムをロ
ール状で保管した場合、特に高温下で顕著であるが、フ
イルム同士が貼りついてしまう、いわゆるブロッキング
現象が発生するという問題が生じる。
度磁気記録媒体用ベースフイルムとして特に有用な表面
平坦性と優れた搬送性を兼備し、カレンダー工程におけ
る突起の突上げ防止と易巻取り性及び耐ブロッキング性
という相反した特性を同時に満足しうる積層フイルムを
開発すべく鋭意研究を重ねた結果、不活性粒子を実質的
に含有しないポリエステルフイルム(C層)の一つの表
面に特定の平均粒径を有する粒子を特定量含有する塗膜
(A層)を設け、該フイルム(C層)のもう一方の表面
に平均粒径の異なる2種の微細粒子を特定量含有した塗
膜(B層)を設け、この2種の粒子の平均粒径の比及び
塗膜A、B層の厚みを特定の値とすることで上述の課題
を解決しうることを見出し、本発明に到達した。
活性粒子を実質的に含有しないポリエステルフイルム
(C層)の一つの表面に平均粒径(dx)が1〜300
nmの粒子Xを0.01〜50重量%含有する塗膜(A
層)を設け、該フイルム(C層)のもう一方の表面に平
均粒径の異なる2種の粒子を含有する塗膜(B層)を設
け、該塗膜(B層)の含有する2種の粒子が平均粒径
(dy)が100〜1000nmの粒子Yと、平均粒径
(dz)が5〜100nmでかつdy/dzが1.2以
上の粒子Zであり、粒子Yの含有量が0.01〜40重
量%、粒子Zの含有量が1〜70重量%かつ粒子Yと粒
子Zの総量が75重量%以下であり、そして塗膜(A
層)の厚みがdx/100以上dx未満であり、塗膜
(B層)の厚みがdy/100以上dz未満であること
を特徴とする積層フイルムである。
ジカルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを
主たるグリコール成分とするポリエステルである。かか
るポリエステルは実質的に線状であり、そしてフイルム
形成性特に溶融成形によるフイルム形成性を有する。
フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、ジ
フェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン
酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスル
ホンジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、ア
ンスラセンジカルボン酸等を挙げることができる。
ングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレ
ングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコール、デカメチレングリコール等の如き炭素
数2〜10のポリメチレングリコール、あるいはシクロ
ヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を挙げる
ことができる。
えばアルキレンテレフタレート及び/又はアルキレンナ
フタレートを主たる構成成分とするものが好ましく用い
られる。
エチレンテレフタレート、ポリエチレン―2,6―ナフ
タレートをはじめとして、例えば全ジカルボン酸成分の
80モル%以上がテレフタル酸及び/又は2,6―ナフ
タレンジカルボン酸であり、全グリコール成分の80モ
ル%以上がエチレングリコールである共重合体が好まし
い。
フタル酸及び/又は2,6―ナフタレンジカルボン酸以
外の上記芳香族ジカルボン酸であることができ、また例
えばアジピン酸、セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン
酸;シクロヘキサン―1,4―ジカルボン酸の如き脂環
族ジカルボン酸等であることができる。
は、エチレングリコール以外の上記グリコールであるこ
とができ、また例えばハイドロキノン、レゾルシン、
2,2―ビス(4―ヒドロキシフェニル)プロパン等の
如き芳香族ジオール;1,4―ジヒドロキシジメチルベ
ンゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオール;ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテト
ラメチレングリコール等の如きポリアルキレングリコー
ル(ポリオキシアルキレングリコール)等であることも
できる。
例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω―
ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシ
カルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分及びオ
キシカルボン酸成分の総量に対し20モル%以下で共重
合あるいは結合するものも包含される。
質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し2モ
ル%以下の量で、3官能以上のポリカルボン酸又はポリ
ヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエリ
スリトール等を共重合したものも包含される。
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。
ェノール中の溶液として35℃で測定して求めた固有粘
度が約0.4〜0.9のものが好ましい。
ムは二軸配向していることが好ましい。二軸配向フイル
ムは従来から知られている方法で製造することができ
る。例えば、ポリエステルをスリット状ダイからシート
状に溶融押出し、急冷固化して未延伸フイルムとし、次
いで該未延伸フイルムを一軸方向(好ましくは縦方向)
に(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(但し、T
g:ポリエステルのガラス転移温度)で2.5倍以上、
好ましくは3〜7倍の倍率で延伸し、続いて上記延伸方
向と直角方向(好ましくは横方向)にTg(℃)〜(T
g+70)℃の温度で2.5倍以上、好ましくは3〜7
倍の倍率で延伸して二軸配向フイルムを製造することが
できる。この場合、面積延伸倍率は9〜36倍、更には
12〜34倍とするのが好ましい。更に該二軸配向フイ
ルムは(Tg+70)℃以上Tm(℃)未満の温度(但
し、Tm:ポリエステルの融点)で熱固定することが好
ましい。例えばポリエチレンテレフタレートフイルムに
ついては190〜230℃で熱固定することが好まし
い。熱固定時間は例えば1〜60秒である。
層)には不活性粒子が実質的に含有されていないことが
必要がある。ここで、不活性粒子を実質的に含有しない
とは、フイルム表面に突起を形成するような外部添加粒
子や内部析出粒子は含有しないが、例えばポリエステル
の重合に必須の触媒によって生じることのある、滑剤作
用を実質的に奏さない極々少量の粒子は含有しても良い
ことを意味する。そして、ポリエステルフイルムは、例
えば酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤
等の他の添加剤(表面突起を形成するような粒子は除
く)を必要に応じて含有することができる。
1.5〜80μmであることが好ましく、更に好ましく
は2〜25μm、特に好ましくは2〜15μmである。
ポリエステルフイルム(C層)の一つの表面に微細粒子
Xを含有する塗膜(A層)を設けかつ、該ポリエステル
フイルム(C層)のもう一方の表面に平均粒径の異なる
2種の粒子Y、Zを含有する塗膜(B層)を設ける必要
がある。
場合、製膜工程中及び加工工程中のガイドロール等に、
実質的に粒子を含有しない為に表面が極めて平坦なポリ
エステルフイルムC層が直接接触するようになり、該フ
イルムC層の滑り性が極めて悪いことに起因して、シ
ワ、切断等のトラブルが発生する。また、エア抜け性、
フイルム同士の滑り性が悪化するために巻姿の良好なフ
イルムロールが得られにくくなる。さらにフイルムをロ
ール状に巻き取った後高温下で保管しなければならない
ときブロッキング現象を引き起こし易くなってしまう。
ない場合には、フイルムの滑り性が悪くなりすぎ、製膜
工程中でロール状に巻き取ることさえ不可能となる。
径(dx)は1〜300nm、好ましくは5〜250n
m、特に好ましくは10〜20nmである。粒子Xの平
均粒径dxが1nm未満では滑り性付与の効果が得られ
ず、一方300nmを超えると磁気テープとしたとき電
磁変換特性の悪化をもたらす。
1〜50重量%、好ましくは0.1〜45重量%、特に
好ましくは1〜40重量%である。粒子Xの含有量が
0.01重量%未満では形成する突起の頻度が少なすぎ
るため滑り性が改善されず、一方50重量%を超えると
塗膜から脱落する粒子が多くなり工程を汚してしまう。
は特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的
低比重のものが好ましい。例えば、耐熱性ポリマー(例
えば、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポ
リスチレン、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、芳香族
ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエス
テル、全芳香族ポリエステル等)からなる粒子、二酸化
ケイ素(シリカ)、炭酸カルシウム等が好ましく挙げら
れる。
もしくは球状に近いものの方が効率的な突起を形成する
点で有利である。また粒子Xは粒径分布が狭いことが好
ましく、例えば相対標準偏差が0.5以下、さらに0.
3以下、特に0.2以下であることが好ましい。
を固着させるのにバインダー樹脂を用いる。このバイン
ダー樹脂としては例えば水性ポリエステル樹脂、水性ア
クリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂等が好ましく挙げら
れるが、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。
テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4―シク
ロヘキサンジカルボン酸、2,6―ナフタレンジカルボ
ン酸、4,4′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン
酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、5
―Naスルホイソフタル酸、2―Kスルホテレフタル
酸、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モ
ノカリウム塩、P―ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボ
ン酸よりなり、グリコール成分が例えばエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、
1,4―ブタンジオール、1,6―ヘキサンジオール、
1,4―シクロヘキサンジメタノール、P―キシリレン
グリコール、ジメチロールプロピオン酸、ビスフェノー
ルAのエチレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ化合
物より主としてなるポリエステル樹脂であり、またポリ
エステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポ
リマー又はブロックコポリマー、あるいは2種のポリマ
ーがミクロな粒子内で特定の物理的構成(IPN、コア
シエル)を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂を包
含する。この水性ポリエステル樹脂としては水に溶解、
乳化、微分散するタイプを自由に用いることができ、ま
たこれらは親水性を付与するため分子内に例えばスルホ
ン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単位等が導入
されていてもよい。
/100(nm)以上dx(nm)未満、好ましくはd
x/50(nm)以上dx(nm)未満、さらに好まし
くはdx/30(nm)以上dx(nm)未満である。
塗膜(A層)の厚みがdx/100nm未満であると、
A層中の粒子を塗膜中に保持することが困難となり、結
果として粒子の脱落を起こしてしまう。また、含有量を
増加させないで塗膜の厚みのみをdx/100nm未満
にすると、粒子の間の距離が大きくなりすぎるために、
滑り性、耐ブロッキング性が悪化する。一方この厚みが
dx(nm)以上であると、粒子Xによる滑り性向上効
果が十分に発揮されない。さらに厚みが厚すぎるほど含
有される(厚み方向の)粒子数が増えるためカレンダー
工程での突出し現象が起こりやすくなる。
2種の粒子のうち、大きい平均粒径をもつ粒子Yの平均
粒径dyは100〜1000nm、好ましくは105〜
800nm、特に好ましくは110〜500nmであ
り、小さい平均粒径をもつ粒子Zの平均粒径dzは5〜
100nm、好ましくは10〜95nm、特に好ましく
は15〜90nmであり、そしてこれら平均粒径の比
(dy/dz)が1.2以上、好ましくは1.3以上、
特に好ましくは1.4以上である。この比の上限は特に
限定しないが、粒子Yと粒子Zの粒径範囲及び塗膜厚み
から100以下とするのが好ましい。
は、フイルムをロール状に巻取る際に巻き込まれるエア
ーを排除可能な空間を、フイルム同士の間に形成するこ
とができないため、フイルムが横ずれを起こしたり、し
わが入ったりするという問題が生じる。一方、粒子Yの
平均粒径dyが1000nmを超えると、塗膜(B層)
から脱落し易くなってしまい、製膜工程中あるいは加工
工程中で接触するロールを汚してしまういう問題が生じ
る。
であると、フイルム同士の滑り性を改良することができ
ないために、フイルムをロール状に捲取る際に巻姿が悪
化しかつ耐ブロッキング性も悪化させる。一方、粒子Z
の平均粒径dzが100nmを超える場合も、フイルム
ロールの巻姿が悪化しかつ耐ブロッキング性も悪化す
る。そして、平均粒径の比(dy/dz)が1.2未満
であると塗膜(B層)に形成される突起の高さが均一に
近くなるため、充分なエア抜け性を確保することができ
ない。
1〜40重量%、好ましくは0.05〜35重量%、特
に好ましくは0.1〜30重量%であり、粒子Zの含有
量は1〜70重量%、好ましくは5〜60重量%、特に
好ましくは7〜50重量%であり、そして粒子YとZの
総含有量は75重量%以下、好ましくは65重量%以
下、特に好ましくは60重量%以下である。また総含有
量の下限は好ましくは3重量%、更に好ましくは5重量
%、特に好ましくは10重量%である。
表面突起の頻度が少なすぎるために、フイルム同士が密
着し、巻込みエアーの排除がなされず、一方40重量%
を超えると塗膜から脱落する粒子が多くなり工程を汚し
てしまう。また粒子Zの含有量が1重量%未満であると
フイルム同士の滑り性が悪化するためにフイルムロール
の巻姿が悪化しかつ耐ブロッキング性も悪化する。一方
70重量%を超えると、塗膜から粒子が脱落しやすくな
ってしまう。また粒子Yと粒子Zの総含有量が75重量
%を超えると、バインダー樹脂の割合が少なくなりす
ぎ、粒子の脱落が極めて起こりやすくなる。
類は特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較
的低比重のものが好ましい。例えば、耐熱性ポリマー
(例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架
橋ポリスチレン、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、芳
香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリ
エステル、全芳香族ポリエステル等)からなる粒子、二
酸化ケイ素(シリカ)、炭酸カルシウム等が挙げられ
る。粒子Yと粒子Zの種類は同じでも異なってもよい。
れないが、球状もしくは球状に近いものの方が効率的な
突起を形成する点から有利である。また、かかる粒子は
それぞれ粒径分布が狭いことが好ましく、例えば相対標
準偏差が0.5以下、さらに0.3以下、特に0.2以
下であることが好ましい。
た2種の粒子を固着させるのにバインダー樹脂を用い
る。このバインダー樹脂としては、塗膜(A層)のバイ
ンダー樹脂として例示したものを好ましく用いることが
できる。
でもよいし、異なっていてもよい。
/100(nm)以上dz(nm)未満である。この厚
みがdy/100未満であるとB層中の粒子Yを塗膜中
に保持することが困難となり、結果として粒子の脱落を
引き起こしてしまう。また、粒子Y、粒子Zの含有量は
一定で、塗膜B層の厚みのみを薄くした場合には、粒子
間の距離が大きくなりすぎるために滑り性、エア抜け
性、耐ブロッキング性が低下する。一方、B層の厚みが
B層中の粒子Zの平均粒径dz以上であると、粒子Zの
添加による滑り性及び耐ブロッキング特性向上の効果が
十分発揮されない。さらに、B層の厚みが厚ければ厚い
程、含有させる(厚み方向の)粒子の数が増えるためカ
レンダー工程で突出し現象が起こり易くなり、結果とし
て磁気テープとしたときの電磁変換特性が劣る。
ルフイルムの一つの表面に前述した粒子X及びバインダ
ー樹脂を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布、乾燥す
ることで形成し、また塗膜(B層)は該フイルムのもう
一方の表面に、前述した粒子Y、Z及びバインダー樹脂
を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布、乾燥すること
で形成するが、それぞれの塗液の固形分濃度は1〜10
重量%、さらに1.5〜8重量%、特に2〜6重量%で
あることが好ましい。そしてこれら塗液(好ましくは水
性塗液)には、所望により、他の成分例えば、界面活性
剤、安定剤、分散剤、UV吸収剤、増粘剤等を添加する
ことができる。
テルフイルムに行ない、塗布後にはフイルムを少なくと
も一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前乃至
途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸ポリ
エステルフイルム又は縦(一軸)延伸ポリエステルフイ
ルム、特に縦(一軸)延伸ポリエステルフイルムに行な
うのが好ましい。塗布方法としては特に限定されない
が、例えばロールコート法、ダイコート法等があげられ
る。
(A層)面と塗膜(B層)面の間の摩擦係数が0.6以
下で、かつエア抜け指数が6000秒以下、特に500
0秒以下であることが好ましい。これにより積層フイル
ムをロール状に巻き取るとき、より巻姿の良好なフイル
ムロールが得られる。
工工程での搬送性に優れ、表面が極めて平坦でありなが
ら巻取り性にも優れ、かつ、過酷な加工条件例えばカレ
ンダー条件においても走行面側粒子が反対面へ突出すこ
とがなく磁気用途をはじめ他用途でも極めて有用であ
る。
性は、以下の如く測定したものであり、かつ定義され
る。
クル サイズ アナライザー(Centrifugal Particle S
ize Analyzer)を用いて測定する。得られる遠心沈降曲
線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲
線から、50マスパーセントに相当する粒径を読み取
り、この値を上記平均粒径とする(Book「粒度測定技
術」日刊工業新聞発行、1975年、頁242〜247
参照)。
トームにて約600オングストロームの厚みの超薄切片
(フイルムの流れ方向に平行に切断する)を作成する。
この試料を透過型電子顕微鏡(日立製作所製:H―80
0型)にて観察し、各層の境界面を捜して各層の層厚み
を求める。
さ:Ra) 中心線平均粗さ(Ra)はJIS―B601に準じて測
定する。本発明では(株)小坂研究所の触針式表面粗さ
計(SURFCORDER SE-30C )を用い、次の条件で測定して
求める。 (a)触針先端半径:2μm (b)測定圧力 :30mg (c)カットオフ :0.08mm (d)測定長 :8.0mm (e)データーのまとめ方:同一試料について6回繰返
し測定し、最も大きい値を1つ除き、残り5つのデータ
を用いて平均値としての中心線平均粗さ(Ra)を求め
る。
定したガラスを置き、重ね合せたフイルムの下側(ガラ
ス板と接しているフイルム)のフイルムを定速ロールに
て引取り(約10cm/分)、上側のフイルムの一端
(下側フイルムの引取り方向と逆端)に検出機を固定し
てフイルム/フイルム間の引張力(F)を検出する。な
お、その時に用いる上側のフイルムの上に載せてあるス
レッドは下側面積が50cm2 (80mm×62.5m
m)であり、フイルムに接する面は80°のネオプレン
ゴムであり、その重さ(W)は1.2kgとする。$静
摩擦係数は下記式で算出される。
枚には中央に1辺2mmの三角形の穴をあげておく。東
洋測機製ベック平滑度試験機(デジベック)を用いてこ
のサンプルの2mmHg、空気抜け時間(単位:秒)を
5回測定し、平均値をエア抜け指数とする。
巻取った時に次の欠点がないものを良品としてカウント
し、下記の判定をする。 欠点1:ロール端面がずれている。 欠点2:ロール表面に突起(ブツ)が3個以上存在す
る。 欠点3:ロールに縦シワが発生している。 判定 ◎:良品が90本以上 ○:良品が80〜89本 ×:良品が79本以下
図1中、1は巻出しリール、2はテンションコントロー
ラ、3、5、6、8、9及び11はフリーローラ、4は
テンション検出機(入口)、7はステンレス鋼SUS3
04製の固定棒(外径5mmφ、表面粗さRa=20n
m)、10はテンション検出機(出口)、12はガイド
ローラ、13は巻取りリールをそれぞれ示す。
2インチに裁断したフイルムの塗膜(A層)を7の固定
棒にθ=(90/180)πラジアン(90°)で接触
させて、2m/分の速度で100m走行させ(入口テン
ションは40g一定とする)、次の基準により判定す
る。 判定 ◎:ピンに削れ粉がついていない ○:ピンに削れ粉がわずかに付着 ×:ピンに削れ粉が多量に付着
記のようにして測定する。$ 温度20℃、湿度60%の環境で、巾1/2インチに裁
断したフイルムのB層を7の固定棒にθ=(90/18
0)πラジアン(90°)で接触させて、入口テンショ
ンを40gとして2m/分の速度で100m走行させ、
100m走行時の出口テンションT2 を出口テンション
検出機で検出し、次式で走行摩擦係数を算出する。
気テープのS/N比を測定し、表2に示す比較例1のテ
ープに対するS/N比の差を求める。使用するVTRは
ソニー(株)EDV―6000である。
る。
ルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル
交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化
アンチモンを、安定剤として亜燐酸を使用して、常法に
より重合し、固有粘度0.62のポリエチレンテレフタ
レートを得た。
トを170℃、3時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、
溶融温度280〜300℃で溶解し、この溶融ポリマー
を1mmのスリット状ダイを通して表面仕上げ0.3s
程度、表面温度20℃の回転冷却ドラム上に押出し、8
8μmの未延伸フイルムを得た。
75℃にて予熱し、更に低速、高速のロール間で10m
m上方より900℃の表面温度のIRヒーターにて加熱
して縦方向に3.9倍延伸し、次いで縦延伸フイルムの
それぞれの面に表1、表2に示す塗膜組成を含む水性塗
液(いずれもバインダー樹脂として下記共重合ポリエス
テル水分散体を使用し、かつHLB値12.6のポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテルを5重量%含有。
全固形分濃度4重量%)をキスコート法により塗布し、
続いて乾燥し、横方向に4.1倍延伸し、さらに210
℃の温度で4秒間熱固定して厚み5μmの積層フイルム
を得た。
組成の塗液をバックコート層として厚さ0.8μmに塗
布し、乾燥した。
り)の塗膜(A層)の上に下記調製の磁性塗料を塗布厚
1.2μmとなるように塗布し、次いで2500ガウス
の直流磁場中で配向処理を行ない、120℃で加熱乾燥
後、スーパーカレンダー処理(線圧300kg/cm、
温度90℃)を行ない、巻き取った。この巻き取ったロ
ールを55℃のオーブン中に3日間放置した後裁断し、
磁気テープを得た。
ミルに入れ、16時間混練、分散した後、イソシアネー
ト化合物(バイエル社製のデスモジュールL)5重量部
を加え、1時間高速剪断分散して磁性塗料とした。
表1、表2に示す。表1、2から明らかなように、本発
明によるものは、表面が極めて平坦でありながら搬送性
(走行性)に優れ、かつ巻姿が良好なフイルムであり、
磁気変換特性に優れた磁気テープとなっている。
g/mm2 、横600kg/mm2であった。
(B層)を設けない以外は実施例1と同様にして積層フ
イルムを得た。さらにこの積層フイルムを用いて実施例
1と同様にして磁気テープを得た。
2に示す。塗膜(A層)または塗膜(B層)が存在しな
いため、フイルム/フイルム摩擦係数は高いか測定不能
であり、エア抜け性も極めて悪く、結果としてフイルム
ロールの巻姿が不良であった。また、塗膜の存在しない
ポリエステルフイルム面の削れ性、走行摩擦係数はフイ
ルムが走行しないため測定不能であった。
層)の最終厚みを10.0μmとし、延伸条件を、縦延
伸で予熱温度77℃、表面温度750℃のIRヒーター
3本使用、延伸倍率3.4倍とし、さらに横延伸で予熱
温度100℃、延伸温度120℃、倍率4.2倍とする
以外は、実施例1と同様にして積層フイルム、さらに磁
気テープを得た。
を表1に示すが、実施例1〜6と同様、搬送性、巻取
性、電磁変換特性が良好である。このフイルムのヤング
率は縦460kg/mm2 、横680kgmm2 であっ
た。
ジカルボン酸に変更するほかは実施例1と同様にしてC
層用のポリエチレン―2,6―ナフタレンジカルボキシ
レート(PEN)のペレットを得た。
カルボキシレートのペレットを170℃で5時間乾燥
後、実施例1と同様にして未延伸フイルムを得た。
120℃に予熱し、更に低速、高速のロール間で15m
m上方より900℃の表面温度のIRヒーターにて加熱
して3.6倍に延伸し、実施例1と同様に表1に示す組
成の塗膜(A層)及び塗膜(B層)の水性塗液をそれぞ
れ塗布し、続いてステンターに供給し140℃にて横方
向に5.3倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを
210℃の熱風で4秒間熱固定し、厚み5.5μmの積
層フイルムを得た。この積層フイルムのヤング率は縦6
00kg/mm2 、横900kg/mm2 であった。
にして磁気テープを得た。得られたフイルム、磁気テー
プの特性を表1に示す。
も、本発明によるものは表面が極めて平坦でありながら
搬送性(走行性)に優れ、かつ巻姿が良好なフイルムで
あり、電磁変換特性に関しては、フイルムの機械強度が
大きいが故に実施例6のポリエチレンテレフタレートフ
イルムよりさらに良好となっている。
の最終厚みをそれぞれ3μm、7μmとするほかは実施
例8と同様にして積層フイルムを得た。
も、良好な搬送性、巻取性、電磁変換特性を示す。
層)に平均粒径140nmのシリカ粒子を0.08重量
%含有させ、かつ塗膜(A層)を設けない以外は実施例
1と同様にして積層フイルム、さらに磁気テープを得
た。
特性を表2に示す。表2から明らかなように、この積層
フイルムは搬送性、巻取性には優れているものの、表面
平坦性がポリエステルフイルムへの粒子添加によって損
なわれており、電磁変換特性が悪かった。
りながら搬送性に優れ、かつ巻取り性、電磁変換特性の
良好な積層フイルムを提供することができる。
る装置の概略図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 不活性粒子を実質的に含有しないポリエ
ステルフイルム(C層)の一つの表面に平均粒径(d
x)が1〜300nmの粒子Xを0.01〜50重量%
含有する塗膜(A層)を設け、該フイルム(C層)のも
う一方の表面に平均粒径の異なる2種の粒子を含有する
塗膜(B層)を設け、該塗膜(B層)の含有する2種の
粒子が平均粒径(dy)が100〜1000nmの粒子
Yと、平均粒径(dz)が5〜100nmでかつdy/
dzが1.2以上の粒子Zであり、粒子Yの含有量が
0.01〜40重量%、粒子Zの含有量が1〜70重量
%かつ粒子Yと粒子Zの総量が75重量%以下であり、
そして塗膜(A層)の厚みがdx/100以上dx未満
であり、塗膜(B層)の厚みがdy/100以上dz未
満であることを特徴とする積層フイルム。 - 【請求項2】 粒子Xの平均粒径(dx)が5〜250
nmで、含有量が0.1〜45重量%である請求項1に
記載の積層フイルム。 - 【請求項3】 粒子Yの平均粒径(dy)が105〜8
00nmで、含有量が0.05〜35重量%である請求
項1に記載の積層フイルム。 - 【請求項4】 粒子Zの平均粒径(dz)が10〜95
nmで、含有量が5〜60重量%である請求項1に記載
の積層フイルム。 - 【請求項5】 平均粒径の比(dy/dz)が1.3以
上である請求項1に記載の積層フイルム。 - 【請求項6】 塗膜(A層)と塗膜(B層)との摩擦係
数が0.6未満であり、かつエア抜け指数が6000秒
以下である請求項1に記載の積層フイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22507695A JP3215304B2 (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 積層フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22507695A JP3215304B2 (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 積層フイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0966591A true JPH0966591A (ja) | 1997-03-11 |
| JP3215304B2 JP3215304B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=16823651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22507695A Expired - Fee Related JP3215304B2 (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 積層フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3215304B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000094382A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-04 | Teijin Ltd | 積層フィルム |
| JP2006181994A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Toyobo Co Ltd | 薄層セラミックシート製造用離型フィルムロールの製造方法 |
| JP2006181993A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Toyobo Co Ltd | 薄層セラミックシート製造用離型フィルムロールの製造方法 |
-
1995
- 1995-09-01 JP JP22507695A patent/JP3215304B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000094382A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-04 | Teijin Ltd | 積層フィルム |
| JP2006181994A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Toyobo Co Ltd | 薄層セラミックシート製造用離型フィルムロールの製造方法 |
| JP2006181993A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Toyobo Co Ltd | 薄層セラミックシート製造用離型フィルムロールの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3215304B2 (ja) | 2001-10-02 |
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