JPH0971882A - 金属薄板の処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属薄板に所定の処理を施すための薬液から
金属粉を確実に分離する。 【解決手段】 シャドウマスクの原材料たる金属薄板Ｈ
にレジストを塗布するためのレジスト槽１８には、調整
タンク７０に至るまでのオーバーフロー管６１と第１，
第２回収管６２，６３と回収タンク６０と回収液導入管
７１と、調整タンク７０からレジスト槽１８に至るまで
の第１還流管７２と第１，第２サブタンク７３，７４と
第２還流管７５とからなるレジスト液の循環管路が備え
付けられている。そして、レジスト槽１８には、レジス
ト液の還流箇所（槽底部）に永久磁石７６を格子状に設
置してなるマグネットグリッド７７を備え、上記の循環
経路の回収液導入管７１と第２還流管７５とには、管路
を通過するレジスト液と接触してフィルタとして機能す
るマグネットフィルタ７８，７９が設置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、金属薄板を搬送さ
せつつ該金属薄板に所定の処理を施す金属薄板の処理装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】薬液を用いて金属薄板に施す処理は、種
々のものがあり、用いる薬液の性質を利用して腐食処理
するものや、その薬液の薄膜を形成する処理，金属薄板
表面を洗浄する処理などがある。例えば、カラー受像管
用のシャドウマスクやアパーチャグリル，半導体素子用
のリードフレームなどのエッチング製品では、その製造
工程順に、原材料である金属薄板の主面に脱脂液，酸性
溶液等を供給して当該主面を脱脂或いは整面する処理
（清浄処理）や、その金属薄板の主面にレジストを塗布
してレジスト膜を形成する処理（レジスト塗布処理）
や、所定のパターンの焼き付け後のレジスト膜に現像液
を供給してこれを現像しレジスト膜を溶解除去する処理
（現像処理）のほか、現像後の金属薄板主面にエッチン
グ液を供給してエッチングし透孔を形成する処理（エッ
チング処理）や、エッチング後の金属薄板の主面を純水
にて洗浄する処理（洗浄処理）などがある。なお、生産
性の向上のために、シャドウマスク等の製造に当たって
は、一般に、長尺の金属薄板をその長手方向に搬送させ
つつ、上記の処理がそれぞれの工程にて施されている。

【０００３】上記した処理では、その効率や品質等を考
慮して、それぞれの処理を施すための薬液を貯留した処
理槽に金属薄板を搬入させて引き上げることや、薬液を
飛散等させて金属薄板に供給することなどが行なわれて
いる。そして、その処理品質は、エッチング製品自体の
品質に多大な影響を与える。例えば、レジスト塗布処理
ではレジスト膜の膜厚が均一なことが、現像処理やエッ
チング処理では現像液やエッチング液がレジスト膜の膜
形成領域に均一に行き渡ることが、清浄処理では脱脂或
いは整面が充分なことが、シャドウマスク等のエッチン
グ製品の品質を左右する。上記の処理にてその処理品質
を損なう要因としては、金属薄板に異物が付着すること
が挙げられ、例えば異物が付着したままではレジスト処
理では膜の欠損を招いていた。

【０００４】このため、従来は、処理槽への異物混入を
回避すべく、各処理槽への薬液供給経路に、セラミック
フィルタや層ろ過式のカートリッジフィルタを装着し、
処理槽手前で異物の除去が図られていた。また、それぞ
れの処理槽内では、搬送時における金属薄板の主面の損
傷や異物の付着を防止するために、金属薄板は、その両
端面から僅かに入り込んだ端縁部領域のみで複数の搬送
ローラに支持され、この搬送ローラの回転により長手方
向に搬送されていた。つまり、それぞれの処理における
処理槽内にも上記の搬送ローラを配設し、この槽内の搬
送ローラと槽外部の搬送ローラとの間に金属薄板を掛け
渡して、金属薄板の搬入・引き上げがなされている。薬
液を飛散等させて金属薄板に供給する場合には、薬液の
飛散・供給箇所の前後に亘って上記の搬送ローラを配設
して、金属薄板を薬液の飛散・供給箇所を通過させるこ
とがなされている。これらの場合、薬液の処理槽内や飛
散・供給箇所の搬送の間における金属薄板の蛇行を防止
するため、薬液の処理槽の内外および飛散・供給箇所の
前後の搬送ローラは、以下のようにして形成されてい
る。

【０００５】この搬送ローラ１１０は、図５に示すよう
に、その両端部に大径の搬送ローラ部１１２を有する。
そして、搬送ローラ１１０は、この搬送ローラ部１１２
のローラ面に金属薄板Ｈの端縁部を接触させて回転する
ことで金属薄板Ｈを搬送し、処理槽にあっては図示する
ように上下に配置されている。また、搬送ローラ１１０
は、搬送ローラ部１１２の外側にこれより大径の端部ロ
ーラ１１４を有し、この端部ローラ１１４で金属薄板Ｈ
の処理槽内での蛇行を防止する。

【０００６】なお、それぞれの処理槽では、該当する薬
液の処理品質を維持するために、或いは使用した分を補
給するために、新規の薬液が適宜に加えられ、処理槽内
の使用済みの薬液と共に循環使用されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
フィルタや搬送ローラで異物付着の回避がなされている
にも拘らず、以下に記すような新たな問題点が指摘され
るに到った。

【０００８】レジスト塗布処理によりレジスト膜を金属
薄板の主面に形成した後には、焼き付け工程において、
当該金属薄板に所定の焼き付けパターンを焼き付けるた
めのパターン板が密着され、金属薄板のレジスト膜は、
例えば紫外線にて所定パターンに露光される。このパタ
ーン板は、透光性の板状体から形成され、金属薄板への
密着面側には焼き付けパターンに応じた凹凸が設けられ
ており、その凸部或いは凹部が非透光性とされている。

【０００９】このようなパターン板を用いて繰り返し焼
き付けを行なっていると、パターン板の金属薄板への密
着面側におけるエッジ部、即ち、上記の凸部の周縁部
に、だれやいわゆるへたりが生じたり、傷がついたりす
ることがあった。エッジ部にこのような事態が生じる
と、レジスト膜への露光部形状に乱れが起きるため、エ
ッチングにより金属薄板に形成される透孔に形状異常や
寸法異常を来す。上記のようにパターン板のエッジ部に
異常をもたらす原因としては、エッジに異常を起こさせ
る硬い異物が金属薄板の主面に付着していることが挙げ
られ、その異物としては金属粉が考えられる。そして、
焼き付けには薬液を用いないことから、金属粉の付着
は、焼き付けの前の処理である清浄処理やレジスト塗布
処理の際に起きており、これは、上記のフィルタでは金
属粉の除去が不十分なためである。

【００１０】また、金属薄板は、鋼板メーカーにおいて
圧延して出荷するに当たり、その端縁が切り出しローラ
にていわゆる押し切りされて所定幅とされるので、端縁
にはバリが残っていることがある。そして、このバリ
が、処理槽での金属薄板の搬送の間に、上記の搬送ロー
ラ１１０両端の端部ローラ１１４でこすり取られて金属
粉となり、これが金属薄板に付着して上記したようにパ
ターン板のエッジ部に異常をもたらすと考えられる。こ
れは、処理槽での金属粉の除去が図られていないことに
よる。なお、バリが金属粉となって付着することは、焼
き付けの前の処理である清浄処理やレジスト塗布処理に
限られるものではなく、エッチング処理の際において金
属薄板を搬送する間にも起きると考えられる。そして、
エッチング処理の際には、この金属粉によりレジスト膜
が損傷される虞があり、このような事態になると、本来
エッチングされないはずの金属薄板の部分がエッチング
されてしまい、パターンの形状に乱れが起きる。

【００１１】本発明は、上記問題点を解決するためにな
され、金属薄板に所定の処理を施すための薬液から金属
粉を確実に分離して、その処理品質を向上させることを
目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段およびその作用・効果】か
かる課題を解決するため、第１の発明の金属薄板の処理
装置は、金属薄板を搬送させつつ該金属薄板に所定の処
理を施す金属薄板の処理装置において、金属薄板を搬送
させつつ、所定の薬液を金属薄板に供給する薬液供給手
段と、前記薬液供給手段により供給される薬液を回収す
る回収手段と、前記薬液を前記薬液供給手段と回収手段
との間で循環させる循環管路を備えた循環手段と、前記
循環管路内に設けられ、前記循環される薬液に接触して
薬液中に含まれる金属粉を磁力にて吸着して、薬液中か
ら金属粉を除去する管路内磁石と、を有する。

【００１３】この構成を有する第１の発明の金属薄板の
処理装置は、循環手段により薬液を薬液供給手段と回収
手段との間で循環させて使用し、その循環管路で、薬液
中に含まれる金属粉を管路内磁石に吸着して除去する。
このため、第１の発明の金属薄板の処理装置によれば、
金属薄板に所定の処理を施すために循環使用される薬液
から金属粉を確実に分離することができる。そして、薬
液供給手段には金属粉が除去された薬液を循環させるの
で、薬液による処理品質を高めることができる。

【００１４】この場合、循環管路における管路内磁石
は、永久磁石或いは電磁石から構成できる。

【００１５】また、上記の第１の発明の金属薄板の処理
装置において、前記回収手段により回収された薬液と新
規の薬液とを混合して、該混合した薬液を前記循環管路
を介して前記薬液供給手段に送液する薬液混合手段を有
する。

【００１６】この構成では、金属粉が除去済みの薬液と
新規の薬液とを混合した薬液により金属薄板を処理す
る。このため、この構成によれば、新規薬液の補給によ
る薬液疲労の抑制と上記した薬液からの金属粉除去とに
よって、金属薄板の処理品質を高めることができる。

【００１７】また、上記したいずれかの構成の金属薄板
の処理装置において、前記薬液供給手段は、前記薬液を
貯留する貯留槽と、前記貯留槽に貯留された薬液に金属
薄板を浸漬させる浸漬手段とを有する。

【００１８】この構成によれば、貯留槽の薬液への浸漬
により行なう金属薄板の処理品質を、上記した薬液から
の金属粉除去によって、或いはこの金属粉除去と新規薬
液の補給による薬液疲労の抑制とによって、高めること
ができる。

【００１９】上記の構成の金属薄板の処理装置におい
て、前記貯留槽に貯留される薬液内に設けられ、薬液に
接触して薬液中に含まれる金属粉を磁力にて吸着して、
薬液中から金属粉を除去する貯留槽内磁石を有する。

【００２０】この構成では、金属薄板が浸漬される貯留
槽において、貯留された薬液中に含まれる金属粉を貯留
槽内磁石により金属粉を吸着・除去する。このため、こ
の構成によっても、薬液から金属粉を確実に分離するこ
とができると共に、薬液による処理品質を高めることが
できる。

【００２１】

【発明の他の態様】上記した第１の発明の金属薄板の処
理装置において、以下のような態様を採ることも可能で
ある。第１の態様は、循環管路での磁力による金属粉の
吸着・分離を、循環管路に配置された棒状磁石やマグネ
ットフィルタ等のマグネットセパレータで行なう。これ
により、従来のセラミックフィルタや層ろ過式のカート
リッジフィルタとの交換で、薬液から金属粉を確実に分
離することができる。

【００２２】また、第２の態様は、貯留槽における貯留
槽内磁石の磁力による金属粉の吸着・分離を、貯留槽の
底部にて或いは循環管路からの薬液の補給箇所にて行な
う。これにより、金属粉を貯留槽底部或いは薬液補給箇
所にて吸着・分離してここに止め置き、金属粉を貯留槽
内の薬液中に散乱させない。よって、貯留槽内の金属薄
板に金属粉を近づけることがない。

【００２３】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態をシャ
ドウマスクの製造の実施例に基づき説明する。図１は実
施例のシャドウマスクの製造ラインの概要図である。

【００２４】この図１に示すように、シャドウマスク
は、ロール状に巻取った長尺の金属薄板（例えば、厚み
が０．０８ｍｍ〜０．２８ｍｍの範囲の低炭素アルミキ
ルド鋼やインバー材等）を原材料として製造される。ま
ず、長尺の金属薄板Ｈは、整面コーティングラインに搬
送され、その後は、焼付ライン，現像ライン，エッチン
グラインの順に送られ、最終的には所定サイズに切断さ
れてシャドウマスクとされる。なお、これら各ラインに
は、図５に示す搬送ローラ１１０がそれぞれ複数配置さ
れている。

【００２５】整面コーティングラインでは、長尺の金属
薄板Ｈは、第１洗浄槽１０，第２洗浄槽１２，防錆液槽
１４，第３洗浄槽１６，レジスト槽１８および乾燥器２
０の順に搬送され、それぞれの槽にて洗浄，防錆塗布お
よびその洗浄，レジスト塗布，レジスト乾燥が行なわれ
る。これにより、主面の洗浄，清浄（整面）並びにレジ
スト塗布・乾燥が行なわれる。

【００２６】上記したそれぞれの槽には、当該槽にて行
なう処理に適した薬液、例えばレジスト槽１８であれ
ば、カゼインと重クロム酸塩（例えば、牛乳カゼインと
重クロム酸アンモニウム）とを所定比率で含有する水溶
液がレジストとして所定の水位で貯留されている。な
お、この整面コーティングラインにおけるそれぞれの槽
は、本発明に係る構成を有するので、その詳細について
は後述する。

【００２７】乾燥器２０は、その内部に面状ヒータを対
向させた面状ヒータ対を有し、この面状ヒータ対の間を
金属薄板Ｈが通過する間に、金属薄板Ｈの主面における
レジストを乾燥させる。これにより、金属薄板Ｈの主面
には、カゼインと重クロム酸塩からなるレジスト膜が形
成される。なお、乾燥器２０内での金属薄板Ｈの搬送に
は、やはり図５に示すような搬送ローラが用いられる。

【００２８】焼付ラインには、金属薄板Ｈの搬送方向に
複数の、本実施例においては８台の焼付装置３０が設置
されている。これら複数の焼付装置３０に金属薄板Ｈを
繰り出した後、金属薄板Ｈを一旦静止させて、図示しな
い所定のパターンが形成されたパターン板を金属薄板Ｈ
の表裏にそれぞれ密着させる。次に複数の焼付装置３０
のパターン板の上方および下方にそれぞれ設けられた紫
外線ランプ３１を点灯させて、それぞれのパターン板を
介在させてレジスト膜に紫外線を照射する。このように
パターン板を介して紫外線が照射されたレジスト膜に
は、紫外線が照射された露光部と照射されなかった未露
光部が形成される。その後、焼付処理を終えた金属薄板
Ｈは、再度巻取られ現像ラインに送られる。

【００２９】現像ラインでは、長尺の金属薄板Ｈは、現
像液槽３２，硬膜液槽３４，洗浄槽３６および乾燥器３
８の順に搬送され、それぞれの槽にて現像，硬膜化，洗
浄，乾燥が行なわれる。この現像ラインにおけるそれぞ
れの槽であっては、当該槽にて行なう処理に適した薬
液、例えば現像液槽３２であれば水等の現像液が複数の
ノズルにより金属薄板に吹き付けられ、槽内には上記の
搬送ローラが回転自在に配置されている。

【００３０】そして、レジスト膜への所定のパターンの
焼き付けを経た金属薄板Ｈは、現像液槽３２の上流側ロ
ーラから槽内ローラ，下流側ローラとに掛け渡されて搬
送され、現像液槽３２内を通過する。従って、金属薄板
Ｈが現像液槽３２内を通過する間に、レジスト膜の未露
光部が現像液により溶融除去され、当該領域、即ち被エ
ッチング領域に亘っては金属薄板Ｈの主面が露出する。
しかし、レジスト膜の露光部は、レジスト膜が残ったま
まである。

【００３１】現像液槽３２を通過した後は、金属薄板Ｈ
が硬膜液槽３４を通過する間に当該槽における硬膜液に
より、レジスト膜自体が硬膜化され、洗浄槽３６を通過
する間に、硬膜液は勿論のこと、現像液も洗浄される。
そして、この下流の乾燥器３８は既述した乾燥器２０と
同様の構成を備え、面状ヒータ対を金属薄板Ｈが順次通
過する間に洗浄水が除去される。その後は、金属薄板Ｈ
は乾燥器３８の下流にて巻取られエッチングラインに送
られる。

【００３２】エッチングラインでは、前処理槽４０，エ
ッチングブース４２，洗浄槽４４，剥膜処理槽４６，純
水洗浄槽４８，乾燥器５０および切断器５２の順に搬送
される。前処理槽４０では、エッチング前のレジスト膜
の調整処理が行なわれる。エッチングブース４２では、
エッチング液が金属薄板Ｈの表裏の主面に供給され、当
該主面がエッチングされる。本実施例では、上記したレ
ジスト（カゼイン，重クロム酸塩の含有水溶液）に対す
るエッチング性を考慮して、塩化第２鉄溶液がエッチン
グ液として供給される。なお、エッチングブース４２と
エッチング液の供給の様子については後述する。洗浄槽
４４では、当該槽を通過する間にエッチング液が洗浄さ
れ、続く剥膜処理槽４６にて、レジスト膜が主面から剥
離される。続いては、純水洗浄槽４８にて純水洗浄され
た後に乾燥器５０で乾燥に処され、切断器５２にて金属
薄板Ｈが所定サイズごとに切断されて、エッチング製品
たるシャドウマスクが完成する。

【００３３】次に、本発明の薬液供給部たる上記した各
処理槽およびエッチングブース４２の構成について、順
次、詳述する。

【００３４】レジスト槽１８は、図２に示すように、レ
ジストに埋没した槽内ローラ１８ａを回転自在に備え、
金属薄板Ｈは、レジスト貯留槽外の上流側ローラ１８ｂ
から槽内ローラ１８ａ，下流側ローラ１８ｃとに掛け渡
されて搬送され、レジスト槽１８内を通過する。従っ
て、金属薄板Ｈがレジスト槽１８内を通過しその液面か
ら引き上げられると、金属薄板Ｈの表裏の主面には、レ
ジストが塗布された状態になる。なお、上記した槽内外
のローラは、図５に示す搬送ローラ１１０にほかならな
い。

【００３５】また、レジスト槽１８の液面の近傍にスク
ィージローラ１９が配置されている。このスクィージロ
ーラ１９は、一様断面を有する各ローラを所定間隔だけ
離して構成されているので、このスクィージローラ１９
を金属薄板Ｈが通過することで、金属薄板Ｈの表裏の主
面には一様厚さでレジストが塗布されることになる。

【００３６】このレジスト槽１８は、槽内で使用されて
疲労したレジストを回収しこれを一時的に貯留する回収
タンク６０を備える。この回収タンク６０には、レジス
ト槽１８からオーバーフローしたレジストを回収するオ
ーバーフロー管６１と、レジスト槽１８の周壁近傍で強
制的にレジストを吸引して回収する第１，第２回収管６
２，６３とが配置されている。なお、第１，第２回収管
６２，６３には、図示しないポンプが設けられており、
当該ポンプにより、これら回収管からレジストが回収タ
ンク６０に回収される。

【００３７】また、レジスト槽１８へのレジストの供給
系として、未使用の牛乳カゼインと重クロム酸アンモニ
ウムとをそれぞれ貯留した第１，第２タンク６４，６５
と、これらの濃度調整用の純水を貯留した第３タンク６
６と、これら各タンクからそれぞれの導入管６７，６
８，６９を経て牛乳カゼイン，重クロム酸アンモニウム
および純水が導入される調整タンク７０とが備え付けら
れている。そして、この調整タンク７０には、回収タン
ク６０から使用済みのレジストを導入する回収液導入管
７１が設けられている。一方、調整タンク７０からは、
第１還流管７２が第１サブタンク７３と第２サブタンク
７４に分岐して設けられており、調整タンク７０内のレ
ジストはこれら各サブタンクに分配される。第１，第２
サブタンク７３，７４からは、レジスト槽１８の底部に
至るまで、第２還流管７５が合流して設けられている。
なお、導入管６７，６８，６９と回収液導入管７１と第
１，第２還流管７２，７５には、第１，第２回収管６
２，６３と同様に、図示しないポンプが設けられてお
り、当該ポンプにより、レジストが送り出される。

【００３８】従って、レジスト槽１８には、調整タンク
７０に至るまでのオーバーフロー管６１と第１，第２回
収管６２，６３と回収タンク６０と回収液導入管７１
と、調整タンク７０からレジスト槽１８に至るまでの第
１還流管７２と第１，第２サブタンク７３，７４と第２
還流管７５とからなるレジストの循環管路が備え付けら
れていることになる。そして、この循環経路を経てレジ
スト槽１８にはレジストが循環する。

【００３９】調整タンク７０は、攪拌器７０ａを底面近
傍に備え、第１，第２タンク６４，６５からの未使用の
牛乳カゼイン，重クロム酸アンモニウムと、回収タンク
６０から使用済みのレジストとを、純水を加えながら攪
拌し、レジスト槽１８でのレジスト濃度に調整する。従
って、調整済みのレジストが第１還流管７２と第１，第
２サブタンク７３，７４と第２還流管７５をこの順に経
てレジスト槽１８にその底部から流れ込む。しかも、レ
ジスト槽１８には、調整タンク７０にて濃度調整済みの
レジストが流れ込み、レジストが補給される。

【００４０】また、レジスト槽１８の底部、即ち、濃度
調整済みのレジストが流れ込む還流箇所には、複数本の
棒状の永久磁石７６が格子状に設置されている。そし
て、この格子状に配置された永久磁石７６で、上記還流
箇所にマグネットグリッド７７が槽内ローラ１８ａと干
渉しないよう形成されている。更に、回収液導入管７１
には、管路を通過するレジストと接触してフィルタとし
て機能するマグネットフィルタ７８が設置されており、
第２還流管７５の合流箇所下流にも、マグネットフィル
タ７８と同様のマグネットフィルタ７９が設置されてい
る。

【００４１】このため、上記の循環管路を循環するレジ
ストからは、使用済みレジストにあっては、回収液導入
管７１にて管路のマグネットフィルタ７８により当該レ
ジストに混入している金属粉は強制的に吸着・分離さ
れ、調整済みのレジストにあっては、第２還流管７５に
て管路のマグネットフィルタ７９により金属粉は強制的
に吸着・分離される。また、レジスト槽１８において
は、マグネットフィルタ７８，７９により金属粉の吸着
・分離済みのレジストについて、その還流箇所で再度、
マグネットグリッド７７による金属粉の吸着・分離を行
なう。よって、この構成のレジスト槽１８を用いれば、
金属薄板Ｈにレジスト膜を形成するために用いられるレ
ジストから確実に金属粉を吸着・分離できる。しかも、
この金属粉をレジスト槽１８では処理槽底部たる還流箇
所（補給箇所）のマグネットグリッド７７に吸着して止
め置くので、マグネットグリッド７７の上方には金属粉
を散乱させない。また、レジスト槽１８には、金属粉を
含まない調整済みのレジストが循環し、当該レジストが
循環使用される。従って、レジスト槽１８内で搬送され
る金属薄板Ｈには、金属粉を近づけることがないので、
金属粉が付着したままレジスト膜を形成したりすること
がない。このため、後の焼き付けラインでパターン板を
損傷することがなく、これに伴う露光不良も起こさな
い。

【００４２】上記したように循環管路にマグネットフィ
ルタ７８，７９を設ける構成は、整面コーティングライ
ンにおける防錆液槽１４や、現像ラインにおける現像液
槽３２，硬膜液槽３４のほか、エッチングラインにおけ
る前処理槽４０，剥膜処理槽４６でも採られている。こ
の場合、各処理槽では、その処理に用いる薬液が、上記
したレジスト槽１８と異なる。また、各処理槽にそれぞ
れの薬液を貯留する場合には、処理槽底部に上記したマ
グネットグリッド７７を設けることが好ましい。

【００４３】その一方、上記の各ラインにおけるそれぞ
れの洗浄槽、例えば、第１洗浄槽１０は、図３に示すよ
うに、２槽の洗浄槽１０ａ，１０ｂを有し、洗浄槽１０
ｂには、洗浄槽１０ａをオーバーフローした純水が貯留
される。図示するように、それぞれの洗浄槽には、純水
に埋没した槽内ローラ１０ｃ，１０ｄを回転自在に備
え、金属薄板Ｈは、洗浄槽外の上流側ローラ１０ｅから
槽内ローラ１０ｃ，中間ローラ１０ｆ，槽内ローラ１０
ｄ，下流側ローラ１０ｇとに掛け渡されて搬送され、第
１洗浄槽１０内を通過する。つまり、レジスト槽１８の
場合と同様に、金属薄板Ｈが第１洗浄槽１０のそれぞれ
の洗浄槽内を通過しその液面から引き上げられると、金
属薄板Ｈの表裏の主面は純水洗浄を受けたことになる。
なお、上記した槽内外のローラは、図５に示す搬送ロー
ラ１１０にほかならない。

【００４４】また、第１洗浄槽１０は、槽内で使用され
て汚濁した純水を回収しこれを再利用するために、洗浄
槽１０ｂからオーバーフローした汚濁純水を回収するオ
ーバーフロー管８１と、洗浄槽１０ｂの周壁近傍で強制
的に純水を吸引して回収する回収管８２とを有する。な
お、回収管８２には、図示しないポンプが設けられてお
り、当該ポンプにより、回収管８２から純水を吸引す
る。このオーバーフロー管８１と回収管８２とは油水分
離器８３に接続されており、この油水分離器８３で分離
された油分は、ドレンとして管路から除去される。そし
て、油水分離器８２から洗浄槽１０ａには、図示しない
ポンプが設置済みの還流管８４が設けられている。従っ
て、第１洗浄槽１０には、洗浄槽１０ｂから洗浄槽１０
ａに亘って、オーバーフロー管８１と回収管８２と還流
管８４とからなる純水の循環管路が備え付けられている
ことになり、この循環経路を経て第１洗浄槽１０には純
水が循環し、純水は循環使用される。

【００４５】この還流管８４には、レジスト槽１８と同
様のマグネットフィルタ８５が設置されている。このた
め、還流管８４のポンプを駆動することで、洗浄槽１０
ａには、油水分離器８３により油分が分離され、且つ、
マグネットフィルタ８５により純水中の金属粉が吸着・
分離された使用済み純水が還流（補給）される。つま
り、洗浄槽１０ａには、油分と金属粉を含まない純水が
還流する。このほか、第１洗浄槽１０には、未使用の純
水を貯留した純水タンク８６から導入管８７を経て、未
使用の純水が補給される。なお、未使用の純水の補給
は、導入管８７に設置された図示しないポンプにより行
なわれる。

【００４６】また、第１洗浄槽１０の洗浄槽１０ａへの
純水の還流箇所（補給箇所）には、複数本の棒状の永久
磁石８８が格子状に設置されている。そして、この格子
状に配置された永久磁石８８で、上記還流箇所にマグネ
ットグリッド８９が形成されている。このため、既述し
たように還流管８４での純水からの金属粉の吸着・分離
に加え、洗浄槽１０ａにおいても純水の還流箇所（補給
箇所）でマグネットグリッド８９により金属粉の吸着・
分離を行なう。よって、この第１洗浄槽１０を用いれ
ば、金属薄板Ｈを洗浄するための純水から確実に金属粉
を吸着・分離できる。しかも、この金属粉を還流箇所
（補給箇所）のマグネットグリッド８９に吸着して止め
置くので、洗浄槽１０ａ内で不用意に金属粉を散乱させ
ない。従って、洗浄槽１０ａ内で搬送される金属薄板Ｈ
には、金属粉をあまり近づけないので、金属粉が付着し
たまま第１洗浄槽１０から金属薄板Ｈを後工程に搬送し
たりすることがない。

【００４７】なお、上記した第１洗浄槽１０において、
洗浄槽１０ｂにもその底部にマグネットグリッド８９を
設置することもでき、このように構成すれば、洗浄槽１
０ｂ内でも不用意に金属粉を散乱させないので好まし
い。

【００４８】上記した第１洗浄槽１０と同一の構成は、
整面コーティングラインにおける第２洗浄槽１２，第３
洗浄槽１６や、現像ラインにおける洗浄槽３６のほか、
エッチングラインにおける洗浄槽４４，純水洗浄槽４８
でも採られている。この場合、第２洗浄槽１２は、第１
洗浄槽１０に続く洗浄槽なので相当程度洗浄が進んだ金
属薄板Ｈの洗浄に供される。よって、上記した第１洗浄
槽１０とは異なり、第２洗浄槽１２を、永久磁石８８か
らなるマグネットグリッド８９と純水タンク８６および
導入管８７を備えない構成とすることができる。

【００４９】また、エッチングラインにおけるエッチン
グブース４２は、その個々のブースに、図４に示すよう
に、上下のエッチング液供給管９０ａ，９０ｂの間に２
対の対向ローラ９２を回転自在に備える。金属薄板Ｈ
は、上下のエッチング液供給管９０ａ，９０ｂの間にお
いて対向ローラ９２に挟持されて搬送され、ブース内を
通過する。従って、金属薄板Ｈがブース内を通過する間
に上下のエッチング液供給管９０ａ，９０ｂからエッチ
ング液が金属薄板Ｈの表裏面にスプレー状に供給される
と、金属薄板Ｈの表裏の主面は、このエッチング液によ
りレジストの未露光部がエッチングされる。なお、上記
の対向ローラ９２は、金属薄板Ｈの両端縁部のみを挟持
してこれを搬送する。

【００５０】また、エッチングブース４２は、ブース内
で使用されて疲労したエッチング液を回収するエッチン
グ液の回収系として、ブース底部から後述の調整タンク
に亘って設けられた回収管９３を有する。そして、その
管路に設けられた図示しないポンプにより、この回収管
９３からエッチング液が調整タンク９４に回収される。

【００５１】また、エッチングブース４２のエッチング
液供給管９０ａ，９０ｂへのエッチング液の供給系とし
て、未使用のエッチング液を貯留したエッチング液タン
ク９５と、このタンクから未使用のエッチング液を調整
タンク９４に導入する導入管９６と、調整タンク９４か
らエッチング液供給管９０ａ，９０ｂに至るエッチング
液還流管９７とが備え付けられている。なお、導入管９
６とエッチング液還流管９７には、回収管９３と同様
に、図示しないポンプが設けられており、当該ポンプに
より、エッチング液が送り出される。

【００５２】従って、エッチングブース４２には、調整
タンク９４に至るまでの回収管９３と、調整タンク９４
からブースのエッチング液供給管９０ａ，９０ｂに至る
までのエッチング液還流管９７とからなるエッチング液
の循環管路が備え付けられていることになる。そして、
この循環経路を経てエッチングブース４２にはエッチン
グ液が循環する。

【００５３】調整タンク９４は、攪拌器９４ａを底面近
傍に備え、エッチング液タンク９５からの未使用のエッ
チング液と、回収管９３を経て回収した使用済みのエッ
チング液とを攪拌して、エッチングブース４２に供給す
るエッチング液を調整する。従って、調整済みのエッチ
ング液がエッチング液供給管９０ａ，９０ｂに分配して
供給される。

【００５４】また、回収管９３には、管路を通過するエ
ッチング液と接触してフィルタとして機能するマグネッ
トフィルタ９８が設置されており、エッチング液還流管
９７の分岐箇所上流にも、マグネットフィルタ９８と同
様のマグネットフィルタ９９が設置されている。

【００５５】このため、上記の循環管路を循環するエッ
チング液からは、使用済みエッチング液にあっては、回
収管９３にて管路のマグネットフィルタ９８により当該
エッチング液に混入している金属粉は強制的に吸着・分
離され、調整済みのエッチング液にあっては、エッチン
グ液還流管９７にて管路のマグネットフィルタ９９によ
り金属粉は強制的に吸着・分離される。よって、この構
成のエッチングブース４２を用いれば、エッチングブー
ス４２に至る以前で循環使用のエッチング液から確実に
金属粉を分離し、金属粉を含まないエッチング液を金属
薄板Ｈのレジスト膜に供給することができる。このた
め、エッチング液に混入した金属粉による不具合、例え
ばこの金属粉によるレジスト膜の損傷等を回避すること
ができる。

【００５６】以上本発明の一実施例について説明した
が、本発明はこの様な実施例になんら限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々な
る態様で実施し得ることは勿論である。

【００５７】例えば、本実施例では、第１洗浄槽１０を
二つの洗浄槽１０ａ，１０ｂを有するいわゆる二槽式の
ものとして構成したが、単一の槽のみを有する洗浄槽で
あってもよいことは勿論である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した実施例としてのシャドウマス
クの製造ラインの概要図。

【図２】レジスト槽１８を中心としたレジストの循環管
路の構成と、レジストの循環の様子を説明するための概
略構成図。

【図３】第１洗浄槽１０を中心とした洗浄水の循環管路
の構成と、洗浄水の循環の様子を説明するための概略構
成図。

【図４】エッチングブース４２を中心としたエッチング
液の循環管路の構成と、エッチング液の循環の様子を説
明するための概略構成図。

【図５】金属薄板Ｈを搬送する搬送ローラ１１０の構成
を示す概略斜視図。

【符号の説明】

１０…第１洗浄槽 １０ａ，１０ｂ…洗浄槽 １８…レジスト槽 ４２…エッチングブース ６０…回収タンク ６１…オーバーフロー管 ６２…第１回収管 ６３…第２回収管 ６４…第１タンク ６５…第２タンク ６６…第３タンク ６７，６８，６９…導入管 ７０…調整タンク ７０ａ…攪拌器 ７１…回収液導入管 ７２…第１還流管 ７３…第１サブタンク ７４…第２サブタンク ７５…第２還流管 ７６…永久磁石 ７７…マグネットグリッド ７８，７９…マグネットフィルタ ８１…オーバーフロー管 ８２…回収管 ８３…油水分離器 ８４…還流管 ８５…マグネットフィルタ ８６…純水タンク ８７…導入管 ８８…永久磁石 ８９…マグネットグリッド ９０ａ，９０ｂ…エッチング液供給管 ９３…回収管 ９４…調整タンク ９４ａ…攪拌器 ９５…エッチング液タンク ９６…導入管 ９７…エッチング液還流管 ９８…マグネットフィルタ ９９…マグネットフィルタ Ｈ…金属薄板

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属薄板を搬送させつつ該金属薄板に所
   定の処理を施す金属薄板の処理装置において、 金属薄板を搬送させつつ、所定の薬液を金属薄板に供給
   する薬液供給手段と、 前記薬液供給手段により供給される薬液を回収する回収
   手段と、 前記薬液を前記薬液供給手段と回収手段との間で循環さ
   せる循環管路を備えた循環手段と、 前記循環管路内に設けられ、前記循環される薬液に接触
   して薬液中に含まれる金属粉を磁力にて吸着して、薬液
   中から金属粉を除去する管路内磁石と、を有することを
   特徴とする金属薄板の処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の金属薄板の処理装置に
   おいて、 前記回収手段により回収された薬液と新規の薬液とを混
   合して、該混合した薬液を前記循環管路を介して前記薬
   液供給手段に送液する薬液混合手段を有することを特徴
   とする金属薄板の処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の金属薄板
   の処理装置において、 前記薬液供給手段は、 前記薬液を貯留する貯留槽と、 前記貯留槽に貯留された薬液に金属薄板を浸漬させる浸
   漬手段とを有することを特徴とする金属薄板の処理装
   置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の金属薄板の処理装置に
   おいて、 前記貯留槽に貯留される薬液内に設けられ、薬液に接触
   して薬液中に含まれる金属粉を磁力にて吸着して、薬液
   中から金属粉を除去する貯留槽内磁石を有することを特
   徴とする金属薄板の処理装置。