JPH0974014A - 磁気記録媒体、及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体、及びその製造方法Info
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- JPH0974014A JPH0974014A JP22835895A JP22835895A JPH0974014A JP H0974014 A JPH0974014 A JP H0974014A JP 22835895 A JP22835895 A JP 22835895A JP 22835895 A JP22835895 A JP 22835895A JP H0974014 A JPH0974014 A JP H0974014A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 保磁力が大きく、高密度記録に対応できる磁
気記録媒体を提供することである。 【解決手段】 支持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性
膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Ｆｅ系
金属磁性膜は、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４０５０
Å）に対するブラッグ角２θのピークが４１度±０．９
度及び４３度±０．９度にあり、かつ、少なくとも４１
度±０．９度及び４３度±０．９度のいずれかにおいて
最大ピークを有する磁気記録媒体。
気記録媒体を提供することである。 【解決手段】 支持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性
膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Ｆｅ系
金属磁性膜は、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４０５０
Å）に対するブラッグ角２θのピークが４１度±０．９
度及び４３度±０．９度にあり、かつ、少なくとも４１
度±０．９度及び４３度±０．９度のいずれかにおいて
最大ピークを有する磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｆｅ系金属磁性膜
を有する磁気記録媒体に関する。
を有する磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】磁性膜を蒸着やスパッ
タ等の乾式メッキ手段で構成した金属薄膜型の磁気記録
媒体が広く知られている。この磁性膜を構成する材料と
して種々のものが有る。このような磁性材料は、これま
で、主として、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｃｒ系の磁性合金が
用いられている。
タ等の乾式メッキ手段で構成した金属薄膜型の磁気記録
媒体が広く知られている。この磁性膜を構成する材料と
して種々のものが有る。このような磁性材料は、これま
で、主として、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｃｒ系の磁性合金が
用いられている。
【０００３】しかし、Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｒ等は価格が高
い。又、公害問題なども心配されている。前記の問題点
に鑑みて、Ｆｅが注目されている。このＦｅは、価格が
安く、かつ、公害問題を引き起こすことも少ない。そし
て、Ｆｅ系金属磁性膜として、Ｆｅ−Ｎ系金属磁性膜が
提案されている。
い。又、公害問題なども心配されている。前記の問題点
に鑑みて、Ｆｅが注目されている。このＦｅは、価格が
安く、かつ、公害問題を引き起こすことも少ない。そし
て、Ｆｅ系金属磁性膜として、Ｆｅ−Ｎ系金属磁性膜が
提案されている。
【０００４】しかし、これまで提案されて来たＦｅ系金
属磁性膜は高密度記録に不可欠な保磁力が充分ではなか
った。この点についての研究を鋭意押し進めて行ってい
る中に、予想も出来なかった結果に遭遇した。すなわ
ち、Ｆｅ2 ＮやＦｅ3 Ｎの窒化鉄は決して優れた磁気特
性を示すものではなかったが、これらが共存する場合に
は優れた磁気特性を示したのである。
属磁性膜は高密度記録に不可欠な保磁力が充分ではなか
った。この点についての研究を鋭意押し進めて行ってい
る中に、予想も出来なかった結果に遭遇した。すなわ
ち、Ｆｅ2 ＮやＦｅ3 Ｎの窒化鉄は決して優れた磁気特
性を示すものではなかったが、これらが共存する場合に
は優れた磁気特性を示したのである。
【０００５】特に、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４０
５０Å）に対するブラッグ角２θのピークが４１度±
０．９度及び４３度±０．９度にあり、かつ、少なくと
も４１度±０．９度及び４３度±０．９度のいずれかに
おいて最大ピークを有するＦｅ−Ｎ系金属磁性膜の保磁
力Ｈｃは極めて大きく（例えば、１０００〜２０００Ｏ
ｅ）、又、飽和磁束密度Ｂｓも大きく（例えば、４００
０〜１００００Ｇ）、更には耐蝕性にも富むものであっ
た。
５０Å）に対するブラッグ角２θのピークが４１度±
０．９度及び４３度±０．９度にあり、かつ、少なくと
も４１度±０．９度及び４３度±０．９度のいずれかに
おいて最大ピークを有するＦｅ−Ｎ系金属磁性膜の保磁
力Ｈｃは極めて大きく（例えば、１０００〜２０００Ｏ
ｅ）、又、飽和磁束密度Ｂｓも大きく（例えば、４００
０〜１００００Ｇ）、更には耐蝕性にも富むものであっ
た。
【０００６】この知見を基にして本発明が達成されたも
のであり、保磁力が大きく、高密度記録に対応できる磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
のであり、保磁力が大きく、高密度記録に対応できる磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、支
持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてな
る磁気記録媒体であって、前記Ｆｅ系金属磁性膜は、Ｃ
ｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４０５０Å）に対するブラ
ッグ角２θのピークが４１度±０．９度及び４３度±
０．９度にあり、かつ、少なくとも４１度±０．９度及
び４３度±０．９度のいずれかにおいて最大ピークを有
することを特徴とする磁気記録媒体によって達成され
る。
持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてな
る磁気記録媒体であって、前記Ｆｅ系金属磁性膜は、Ｃ
ｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４０５０Å）に対するブラ
ッグ角２θのピークが４１度±０．９度及び４３度±
０．９度にあり、かつ、少なくとも４１度±０．９度及
び４３度±０．９度のいずれかにおいて最大ピークを有
することを特徴とする磁気記録媒体によって達成され
る。
【０００８】又、支持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁
性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Ｆｅ
系金属磁性膜はＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎを含有することを
特徴とする磁気記録媒体によって達成される。又、支持
体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる
磁気記録媒体の製造方法であって、Ｆｅ系材料を支持体
に向けて飛散・堆積せしめる工程と、堆積したＦｅ系金
属磁性膜に向けてイオンガンで窒素イオンを照射する工
程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法によって達成される。
性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Ｆｅ
系金属磁性膜はＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎを含有することを
特徴とする磁気記録媒体によって達成される。又、支持
体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる
磁気記録媒体の製造方法であって、Ｆｅ系材料を支持体
に向けて飛散・堆積せしめる工程と、堆積したＦｅ系金
属磁性膜に向けてイオンガンで窒素イオンを照射する工
程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法によって達成される。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、支持体
上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる磁
気記録媒体であって、前記Ｆｅ系金属磁性膜は、ＣｕＫ
α特性Ｘ線（波長１．５４０５０Å）に対するブラッグ
角２θのピークが４１度±０．９度及び４３度±０．９
度にあり、かつ、少なくとも４１度±０．９度及び４３
度±０．９度のいずれかにおいて最大ピークを有するも
のである。
上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる磁
気記録媒体であって、前記Ｆｅ系金属磁性膜は、ＣｕＫ
α特性Ｘ線（波長１．５４０５０Å）に対するブラッグ
角２θのピークが４１度±０．９度及び４３度±０．９
度にあり、かつ、少なくとも４１度±０．９度及び４３
度±０．９度のいずれかにおいて最大ピークを有するも
のである。
【００１０】あるいは、支持体上にＮを含有するＦｅ系
金属磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前
記Ｆｅ系金属磁性膜はＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎを含有する
ものである。特に、支持体上にＮを含有するＦｅ系金属
磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Ｆ
ｅ系金属磁性膜はＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎを主成分とする
ものである。
金属磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前
記Ｆｅ系金属磁性膜はＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎを含有する
ものである。特に、支持体上にＮを含有するＦｅ系金属
磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、前記Ｆ
ｅ系金属磁性膜はＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎを主成分とする
ものである。
【００１１】尚、上記本発明のＦｅ系金属磁性膜におい
て、Ｆｅ：Ｎは６５〜９５ａｔ％：５〜３５ａｔ％（Ｆ
ｅ＋Ｎ＝１００％）が好ましい。より好ましくは、７５
〜９０ａｔ％：１０〜２５ａｔ％である。このような磁
気記録媒体は、蒸着やスパッタ等のＰＶＤ（フィジカル
ベーパーデポジション）法を用いることで作製できる。
例えば、成膜速度が大きな蒸着法を例にとって説明する
と次のようになる。先ず、例えば全金属成分中Ｆｅが９
５〜９８．５ｗｔ％（所謂、純度が９５〜９８．５ｗｔ
％のＦｅ）、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇの合計量が０〜０．０５
ｗｔ％（０であることに越したことはないが、不可避不
純物として多少含まれる場合が有る。又、含有するにし
ても、ＡｕとＰｔとＡｇの合計量を出来るだけ少なく、
例えば０．０５ｗｔ％以下に抑える）、残りがその他の
金属成分（例えば、Ｃｏ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｒ等）である
Ｆｅ系金属材料を、斜め蒸着装置のルツボの中に入れ
る。このような純度（９５〜９８．５ｗｔ％）のＦｅ材
料を用いたのは、純度が９９．９５ｗｔ％以上と言った
ような高純度のＦｅを用いる場合に比べて遙に安価であ
るからによる。勿論、９８．５ｗｔ％以上の高純度のＦ
ｅを用いても良い。そして、斜め蒸着装置内を所定の真
空度に排気すると共に、電子銃あるいはその他の手段に
よりＦｅ系金属材料を蒸発（飛散）させ、走行する支持
上にＦｅ系金属粒子を付着・堆積させる。この付着・堆
積に際して、Ｆｅ系金属粒子堆積面に向けて窒素イオン
を照射する。この窒素イオンの照射量が従来より大幅に
多いことが特徴の一つである。すなわち、窒素イオンの
照射量が少ない場合には、本発明の特徴を有する金属磁
性膜が得られなかった。因みに、窒素イオンを照射する
イオンガンへの窒素ガス供給量が従来の約５〜１０倍程
度（例えば、２０〜７０ｓｃｃｍ、より好ましくは２５
〜６０ｓｃｃｍ）必要であった。尚、従来におけるガス
供給量は、真空槽内の真空度が７×１０-5Ｔｏｒｒ程度
を保ちながら、５ｓｃｃｍ程度流すものである。
て、Ｆｅ：Ｎは６５〜９５ａｔ％：５〜３５ａｔ％（Ｆ
ｅ＋Ｎ＝１００％）が好ましい。より好ましくは、７５
〜９０ａｔ％：１０〜２５ａｔ％である。このような磁
気記録媒体は、蒸着やスパッタ等のＰＶＤ（フィジカル
ベーパーデポジション）法を用いることで作製できる。
例えば、成膜速度が大きな蒸着法を例にとって説明する
と次のようになる。先ず、例えば全金属成分中Ｆｅが９
５〜９８．５ｗｔ％（所謂、純度が９５〜９８．５ｗｔ
％のＦｅ）、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇの合計量が０〜０．０５
ｗｔ％（０であることに越したことはないが、不可避不
純物として多少含まれる場合が有る。又、含有するにし
ても、ＡｕとＰｔとＡｇの合計量を出来るだけ少なく、
例えば０．０５ｗｔ％以下に抑える）、残りがその他の
金属成分（例えば、Ｃｏ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｒ等）である
Ｆｅ系金属材料を、斜め蒸着装置のルツボの中に入れ
る。このような純度（９５〜９８．５ｗｔ％）のＦｅ材
料を用いたのは、純度が９９．９５ｗｔ％以上と言った
ような高純度のＦｅを用いる場合に比べて遙に安価であ
るからによる。勿論、９８．５ｗｔ％以上の高純度のＦ
ｅを用いても良い。そして、斜め蒸着装置内を所定の真
空度に排気すると共に、電子銃あるいはその他の手段に
よりＦｅ系金属材料を蒸発（飛散）させ、走行する支持
上にＦｅ系金属粒子を付着・堆積させる。この付着・堆
積に際して、Ｆｅ系金属粒子堆積面に向けて窒素イオン
を照射する。この窒素イオンの照射量が従来より大幅に
多いことが特徴の一つである。すなわち、窒素イオンの
照射量が少ない場合には、本発明の特徴を有する金属磁
性膜が得られなかった。因みに、窒素イオンを照射する
イオンガンへの窒素ガス供給量が従来の約５〜１０倍程
度（例えば、２０〜７０ｓｃｃｍ、より好ましくは２５
〜６０ｓｃｃｍ）必要であった。尚、従来におけるガス
供給量は、真空槽内の真空度が７×１０-5Ｔｏｒｒ程度
を保ちながら、５ｓｃｃｍ程度流すものである。
【００１２】そして、本発明の磁気記録媒体は、支持体
上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる磁
気記録媒体の製造方法であって、Ｆｅ系材料を支持体に
向けて飛散・堆積せしめる工程と、堆積したＦｅ系金属
磁性膜に向けてイオンガンで窒素イオンを照射する工程
とを具備する製造方法によって得られる。特に、支持体
上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる磁
気記録媒体の製造方法であって、Ｆｅ系材料を支持体に
向けて飛散・堆積せしめる工程と、堆積したＦｅ系金属
磁性膜に向けてイオンガンで窒素イオンを照射する工程
とを具備してなり、前記イオンガンへの窒素ガス供給量
が２０〜７０ｓｃｃｍである製造方法によって得られ
る。
上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる磁
気記録媒体の製造方法であって、Ｆｅ系材料を支持体に
向けて飛散・堆積せしめる工程と、堆積したＦｅ系金属
磁性膜に向けてイオンガンで窒素イオンを照射する工程
とを具備する製造方法によって得られる。特に、支持体
上にＮを含有するＦｅ系金属磁性膜が設けられてなる磁
気記録媒体の製造方法であって、Ｆｅ系材料を支持体に
向けて飛散・堆積せしめる工程と、堆積したＦｅ系金属
磁性膜に向けてイオンガンで窒素イオンを照射する工程
とを具備してなり、前記イオンガンへの窒素ガス供給量
が２０〜７０ｓｃｃｍである製造方法によって得られ
る。
【００１３】上記のようにして１５００〜２０００Å厚
さのＦｅ系金属磁性膜が設けられると、必要に応じて、
ダイヤモンドライクカーボン、炭化ホウ素、窒化珪素な
どからなる５０〜２００Å程度の厚さの保護膜がＦｅ系
金属磁性膜上に設けられる。又、パーフルオロポリエー
テル等のフッ素系の潤滑剤が２０〜７０Å程度の厚さ設
けられる。
さのＦｅ系金属磁性膜が設けられると、必要に応じて、
ダイヤモンドライクカーボン、炭化ホウ素、窒化珪素な
どからなる５０〜２００Å程度の厚さの保護膜がＦｅ系
金属磁性膜上に設けられる。又、パーフルオロポリエー
テル等のフッ素系の潤滑剤が２０〜７０Å程度の厚さ設
けられる。
【００１４】そして、上記のように構成させた磁気記録
媒体は、高い保磁力、かつ、高い飽和磁束密度を有する
ものであり、高密度記録に対応できる。しかも、耐蝕性
にも優れていた。かつ、磁性材料のＦｅは安価で、公害
問題を起こし難い。特に、高純度Ｆｅを用いなくても良
いから、コストがより低廉である。
媒体は、高い保磁力、かつ、高い飽和磁束密度を有する
ものであり、高密度記録に対応できる。しかも、耐蝕性
にも優れていた。かつ、磁性材料のＦｅは安価で、公害
問題を起こし難い。特に、高純度Ｆｅを用いなくても良
いから、コストがより低廉である。
【００１５】
【実施例１】図１は本発明になる磁気記録媒体の製造装
置の概略図、図２はイオンガンの概略図である。図１
中、１は非磁性の支持体、例えばＰＥＴフィルム、２ａ
はＰＥＴフィルム１の供給側ロール、２ｂはＰＥＴフィ
ルム１の巻取側ロール、３は冷却キャンロール、４は遮
蔽板、５はルツボ、６はＦｅ系磁性金属、７は出力１０
ｋＷの電子銃、８は真空槽、９はイオンガンである。こ
のイオンガン９は、図２に示す構成であり、０．３ｍｍ
φのタングステンのカソード１０に８Ａの電流を流し、
アノード１１とスクリーングリッド１２との間に５００
Ｖの電位差が形成できるものであって、ノズル１３より
窒素ガスが供給されることによって、窒素イオンが放出
されるよう構成されたものである。尚、１４はマグネッ
トである。
置の概略図、図２はイオンガンの概略図である。図１
中、１は非磁性の支持体、例えばＰＥＴフィルム、２ａ
はＰＥＴフィルム１の供給側ロール、２ｂはＰＥＴフィ
ルム１の巻取側ロール、３は冷却キャンロール、４は遮
蔽板、５はルツボ、６はＦｅ系磁性金属、７は出力１０
ｋＷの電子銃、８は真空槽、９はイオンガンである。こ
のイオンガン９は、図２に示す構成であり、０．３ｍｍ
φのタングステンのカソード１０に８Ａの電流を流し、
アノード１１とスクリーングリッド１２との間に５００
Ｖの電位差が形成できるものであって、ノズル１３より
窒素ガスが供給されることによって、窒素イオンが放出
されるよう構成されたものである。尚、１４はマグネッ
トである。
【００１６】本実施例の磁気記録媒体（磁気テープ）は
図１に示す斜め蒸着装置を用いることによって得られ
る。すなわち、６．３μｍ厚さのＰＥＴフィルム１を供
給側ロール２ａと巻取側ロール２ｂとの間に掛け渡し、
冷却キャンロール３に沿って走行させる。真空槽８内を
１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ、例えば５×１０-6Ｔｏｒｒ程
度の真空度に排気した後、電子銃７からの電子ビーム加
熱によりルツボ５内の磁性金属（純度が９９．９ｗｔ％
のＦｅ）を溶融、蒸発させ、ＰＥＴフィルム１上に厚さ
が１５００〜２０００Å、例えば１８３０ÅのＦｅ系金
属磁性膜を設けた。
図１に示す斜め蒸着装置を用いることによって得られ
る。すなわち、６．３μｍ厚さのＰＥＴフィルム１を供
給側ロール２ａと巻取側ロール２ｂとの間に掛け渡し、
冷却キャンロール３に沿って走行させる。真空槽８内を
１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ、例えば５×１０-6Ｔｏｒｒ程
度の真空度に排気した後、電子銃７からの電子ビーム加
熱によりルツボ５内の磁性金属（純度が９９．９ｗｔ％
のＦｅ）を溶融、蒸発させ、ＰＥＴフィルム１上に厚さ
が１５００〜２０００Å、例えば１８３０ÅのＦｅ系金
属磁性膜を設けた。
【００１７】Ｆｅ系金属磁性膜の成膜時に、窒素ガス供
給ノズル１３から窒素ガスを４０ｓｃｃｍ供給し、イオ
ンガン９からＦｅ系金属磁性膜に向けて窒素イオンを照
射した。このようにして得られたＦｅ−Ｎ系金属磁性膜
を有する原反の裏面に、平均粒径が４０ｎｍのカーボン
ブラックと平均粒径が８０ｎｍのカーボンブラックとを
２：１の割合で混ぜ、ウレタン系樹脂と塩化ビニル系樹
脂とのバインダ樹脂中に分散させたバックコート用塗料
をダイコーティング方式により乾燥膜厚が０．５μｍと
なるよう塗布し、乾燥させた。
給ノズル１３から窒素ガスを４０ｓｃｃｍ供給し、イオ
ンガン９からＦｅ系金属磁性膜に向けて窒素イオンを照
射した。このようにして得られたＦｅ−Ｎ系金属磁性膜
を有する原反の裏面に、平均粒径が４０ｎｍのカーボン
ブラックと平均粒径が８０ｎｍのカーボンブラックとを
２：１の割合で混ぜ、ウレタン系樹脂と塩化ビニル系樹
脂とのバインダ樹脂中に分散させたバックコート用塗料
をダイコーティング方式により乾燥膜厚が０．５μｍと
なるよう塗布し、乾燥させた。
【００１８】この後、パーフルオロポリエーテル（ＦＯ
ＭＢＬＩＮ ＺＤＯＬ モンテカチーニ社製）をフッ素
系不活性液体（フロリナート ＦＣ−７７ 住友３Ｍ社
製）に０．０５ｗｔ％となるよう希釈した塗料を用い
て、ダイコーティング方式により乾燥膜厚が２０Åとな
るようＦｅ−Ｎ系金属磁性膜上に塗布し、１０５℃で乾
燥させた。
ＭＢＬＩＮ ＺＤＯＬ モンテカチーニ社製）をフッ素
系不活性液体（フロリナート ＦＣ−７７ 住友３Ｍ社
製）に０．０５ｗｔ％となるよう希釈した塗料を用い
て、ダイコーティング方式により乾燥膜厚が２０Åとな
るようＦｅ−Ｎ系金属磁性膜上に塗布し、１０５℃で乾
燥させた。
【００１９】この後、８ｍｍ幅にスリットし、カセット
に装填して、８ｍｍＶＴＲ用磁気テープとした。
に装填して、８ｍｍＶＴＲ用磁気テープとした。
【００２０】
【実施例２】実施例１において、アノード１１とスクリ
ーングリッド１２との間の電位差を３００Ｖ、ノズル１
３よりの窒素ガス供給量を２５ｓｃｃｍとした以外は実
施例１に準じて行った。尚、得られたＦｅ系金属磁性膜
は１８１０Åであった。
ーングリッド１２との間の電位差を３００Ｖ、ノズル１
３よりの窒素ガス供給量を２５ｓｃｃｍとした以外は実
施例１に準じて行った。尚、得られたＦｅ系金属磁性膜
は１８１０Åであった。
【００２１】
【実施例３】実施例１において、ノズル１３よりの窒素
ガス供給量を６０ｓｃｃｍとした以外は実施例１に準じ
て行った。尚、得られたＦｅ系金属磁性膜は１８００Å
であった。
ガス供給量を６０ｓｃｃｍとした以外は実施例１に準じ
て行った。尚、得られたＦｅ系金属磁性膜は１８００Å
であった。
【００２２】
【比較例１】実施例１において、ノズル１３よりの窒素
ガス供給量を６ｓｃｃｍとした以外は実施例１に準じて
行った。尚、得られたＦｅ系金属磁性膜は１７９０Åで
あった。
ガス供給量を６ｓｃｃｍとした以外は実施例１に準じて
行った。尚、得られたＦｅ系金属磁性膜は１７９０Åで
あった。
【００２３】
【比較例２】実施例１において、イオンガン９を作動さ
せない代わりに、Ｆｅ系金属磁性膜の成膜時にＦｅ系金
属磁性膜に向けて窒素ガスを５ｓｃｃｍの割合で照射し
た以外は実施例１に準じて行った。尚、得られたＦｅ系
金属磁性膜は１８２０Åであった。
せない代わりに、Ｆｅ系金属磁性膜の成膜時にＦｅ系金
属磁性膜に向けて窒素ガスを５ｓｃｃｍの割合で照射し
た以外は実施例１に準じて行った。尚、得られたＦｅ系
金属磁性膜は１８２０Åであった。
【００２４】
【特性】上記各例で得たＦｅ系金属磁性膜について、出
力３ｋＷ、ターゲット１．５４０５０Å（Ｃｕ）、加速
電圧５０．０ｋＶ、加速電流５０．０ｍＡ、サンプリン
グ幅０．０２０ｄｅｇ、サンプリング速度２．０００ｄ
ｅｇ／ｍｉｎの条件下でＸ線回折パターンを調べたの
で、その結果を図３〜図７に示す。
力３ｋＷ、ターゲット１．５４０５０Å（Ｃｕ）、加速
電圧５０．０ｋＶ、加速電流５０．０ｍＡ、サンプリン
グ幅０．０２０ｄｅｇ、サンプリング速度２．０００ｄ
ｅｇ／ｍｉｎの条件下でＸ線回折パターンを調べたの
で、その結果を図３〜図７に示す。
【００２５】これによれば、本発明になるＦｅ系金属磁
性膜のものについては、ブラッグ角２θのピークが４１
度±０．９度及び４３度±０．９度にあり、かつ、少な
くとも４１度±０．９度及び４３度±０．９度のいずれ
かにおいて最大ピークを有する特徴を持つことが判る。
尚、４１度±０．９度、４３度±０．９度の位置におけ
るピークはＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎに起因するものであ
り、４１度±０．９度、４８度±０．９度の位置に両方
ともピークが存在する場合はＦｅ4 Ｎに起因するもので
ある。
性膜のものについては、ブラッグ角２θのピークが４１
度±０．９度及び４３度±０．９度にあり、かつ、少な
くとも４１度±０．９度及び４３度±０．９度のいずれ
かにおいて最大ピークを有する特徴を持つことが判る。
尚、４１度±０．９度、４３度±０．９度の位置におけ
るピークはＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎに起因するものであ
り、４１度±０．９度、４８度±０．９度の位置に両方
ともピークが存在する場合はＦｅ4 Ｎに起因するもので
ある。
【００２６】これに対して、比較例１や比較例２のもの
では、上記のような特徴を示すものでなかった。これら
のピークについてまとめると、表−１に示す通りであ
る。 表−１ Ｘ 線 回 折 強 度 Ｆｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎ Ｆｅ4 Ｎ Ｆｅ 実施例１ ピーク確認 ピーク認めず ピーク認めず 実施例２ ピーク確認 弱いピーク確認 ピーク認めず 実施例３ ピーク確認 ピーク認めず ピーク認めず 比較例１ ピーク認めず 弱いピーク確認 ピーク確認 比較例２ ピーク認めず ピーク認めず 強いピーク確認 そして、得られた上記磁気テープについて、磁気特性
（保磁力Ｈｃ、飽和磁束密度Ｂｓ）及び耐蝕性（２０℃
において５ｗｔ％の食塩水中に１週間漬けた後の、飽和
磁束密度の減少率ΔＢｓ）を調べたので、その結果を表
−２に示す。
では、上記のような特徴を示すものでなかった。これら
のピークについてまとめると、表−１に示す通りであ
る。 表−１ Ｘ 線 回 折 強 度 Ｆｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎ Ｆｅ4 Ｎ Ｆｅ 実施例１ ピーク確認 ピーク認めず ピーク認めず 実施例２ ピーク確認 弱いピーク確認 ピーク認めず 実施例３ ピーク確認 ピーク認めず ピーク認めず 比較例１ ピーク認めず 弱いピーク確認 ピーク確認 比較例２ ピーク認めず ピーク認めず 強いピーク確認 そして、得られた上記磁気テープについて、磁気特性
（保磁力Ｈｃ、飽和磁束密度Ｂｓ）及び耐蝕性（２０℃
において５ｗｔ％の食塩水中に１週間漬けた後の、飽和
磁束密度の減少率ΔＢｓ）を調べたので、その結果を表
−２に示す。
【００２７】 表−２ 保磁力Ｈｃ（Ｏｅ） 飽和磁束密度Ｂｓ（Ｇ） 耐蝕性ΔＢｓ（％） 実施例１ １３００ ６５００ １ 実施例２ １０００ ７５００ ２ 実施例３ １５７０ ５８００ １ 比較例１ ３５０ １３０００ ７ 比較例２ １００ １８０００ ４８ これによれば、本発明になるものは、Ｈｃが１０００Ｏ
ｅ以上あり、Ｂｓは４０００Ｇ以上あり、高密度記録に
対応できることが判る。
ｅ以上あり、Ｂｓは４０００Ｇ以上あり、高密度記録に
対応できることが判る。
【００２８】又、耐蝕性にも優れていることも判る。
【００２９】
【発明の効果】安価なＦｅ系材料を用いて高密度記録に
適し、かつ、耐蝕性に富む磁気記録媒体が得られる。
適し、かつ、耐蝕性に富む磁気記録媒体が得られる。
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造装置の概略図
【図２】イオンガンの概略図
【図３】実施例１のＦｅ−Ｎ系金属磁性膜のＸ線回折パ
ターン図
ターン図
【図４】実施例２のＦｅ−Ｎ系金属磁性膜のＸ線回折パ
ターン図
ターン図
【図５】実施例３のＦｅ−Ｎ系金属磁性膜のＸ線回折パ
ターン図
ターン図
【図６】比較例１のＦｅ−Ｎ系金属磁性膜のＸ線回折パ
ターン図
ターン図
【図７】比較例２のＦｅ−Ｎ系金属磁性膜のＸ線回折パ
ターン図
ターン図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 准子 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性
膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、 前記Ｆｅ系金属磁性膜は、 ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４０５０Å）に対するブ
ラッグ角２θのピークが４１度±０．９度及び４３度±
０．９度にあり、 かつ、少なくとも４１度±０．９度及び４３度±０．９
度のいずれかにおいて最大ピークを有することを特徴と
する磁気記録媒体。 - 【請求項２】 支持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性
膜が設けられてなる磁気記録媒体であって、 前記Ｆｅ系金属磁性膜はＦｅ2 Ｎ及びＦｅ3 Ｎを含有す
ることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 支持体上にＮを含有するＦｅ系金属磁性
膜が設けられてなる磁気記録媒体の製造方法であって、 Ｆｅ系材料を支持体に向けて飛散・堆積せしめる工程
と、 堆積したＦｅ系金属磁性膜に向けてイオンガンで窒素イ
オンを照射する工程とを具備することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22835895A JPH0974014A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 磁気記録媒体、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22835895A JPH0974014A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 磁気記録媒体、及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0974014A true JPH0974014A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=16875214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22835895A Pending JPH0974014A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 磁気記録媒体、及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0974014A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009062597A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置、樹脂フィルムの真空成膜方法、および樹脂フィルム |
| JP2012041641A (ja) * | 2011-11-29 | 2012-03-01 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置、樹脂フィルムの真空成膜方法、および樹脂フィルム |
-
1995
- 1995-09-05 JP JP22835895A patent/JPH0974014A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009062597A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置、樹脂フィルムの真空成膜方法、および樹脂フィルム |
| JP2012041641A (ja) * | 2011-11-29 | 2012-03-01 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置、樹脂フィルムの真空成膜方法、および樹脂フィルム |
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