JPH0980705A - ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 アスコルビン酸及びその誘導体を用いた現像
液で処理する方法においてランニングでの処理安定性が
著しく向上した感光材料用現像剤及びその処理方法の提
供。 【構成】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を、自動現像機を用い現像補充液
を補充しつつ現像処理する方法において、該ハロゲン化
銀乳剤の塩化銀含有率が50mol%以上であり、該現
像補充液が実質的にジヒドロキシベンゼン類を含有せ
ず,下記一般式(A)で表される化合物とシクロデキス
トリン化合物を含有する事を特徴とする現像処理方法に
より達成。 【化1】 〔式中、R1、R2は各々独立して置換又は無置換のアル
キル基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換の
アルコキシ基、置換又は無置換のアルキルチオ基、又は
R1とR2が互いに結合して環を形成してもよい。kは0
又は1を表し、k=1のときXは−CO−又は−CS−
を表す。M1、M2は各々水素原子又はアルカリ金属を表
す。〕
液で処理する方法においてランニングでの処理安定性が
著しく向上した感光材料用現像剤及びその処理方法の提
供。 【構成】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を、自動現像機を用い現像補充液
を補充しつつ現像処理する方法において、該ハロゲン化
銀乳剤の塩化銀含有率が50mol%以上であり、該現
像補充液が実質的にジヒドロキシベンゼン類を含有せ
ず,下記一般式(A)で表される化合物とシクロデキス
トリン化合物を含有する事を特徴とする現像処理方法に
より達成。 【化1】 〔式中、R1、R2は各々独立して置換又は無置換のアル
キル基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換の
アルコキシ基、置換又は無置換のアルキルチオ基、又は
R1とR2が互いに結合して環を形成してもよい。kは0
又は1を表し、k=1のときXは−CO−又は−CS−
を表す。M1、M2は各々水素原子又はアルカリ金属を表
す。〕
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料(以下、単に感光材料という)の現像処理方法に関
し、更に詳しくは、実質的にハイドロキノンを用いない
現像液での処理方法においてランニング安定性を飛躍的
に向上した現像処理方法に関する。
材料(以下、単に感光材料という)の現像処理方法に関
し、更に詳しくは、実質的にハイドロキノンを用いない
現像液での処理方法においてランニング安定性を飛躍的
に向上した現像処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に感光材料の現像処理方法におい
て、安定性、簡易性、迅速性、取扱い性といった観点か
ら自動現像機による処理が主流を占めている。また黒白
感光材料の現像処理に用いられる現像液には、多くの場
合現像主薬としてハイドロキノンが用いられているが、
空気等の酸化によって現像液が黒化しハイドロキノンの
ポリマーが自動現像機内のローラー等に付着し、これが
さらに感光材料に付着して写真の仕上がりを劣化させて
しまうという問題があった。これを解決する手段として
現像主薬をハイドロキノンからアスコルビン酸に変える
ことが考えられる。
て、安定性、簡易性、迅速性、取扱い性といった観点か
ら自動現像機による処理が主流を占めている。また黒白
感光材料の現像処理に用いられる現像液には、多くの場
合現像主薬としてハイドロキノンが用いられているが、
空気等の酸化によって現像液が黒化しハイドロキノンの
ポリマーが自動現像機内のローラー等に付着し、これが
さらに感光材料に付着して写真の仕上がりを劣化させて
しまうという問題があった。これを解決する手段として
現像主薬をハイドロキノンからアスコルビン酸に変える
ことが考えられる。
【0003】しかしながら、例えば米国特許5,23
6,816号及びWO93/11456号に記載がある
現像液を用いて長期に渡り処理(補充処理)を行うと活
性度が顕著に低下してしまい処理安定性が十分でなく、
また銀汚れが発生してしまうという問題があった。これ
を改良する強い要望があった。
6,816号及びWO93/11456号に記載がある
現像液を用いて長期に渡り処理(補充処理)を行うと活
性度が顕著に低下してしまい処理安定性が十分でなく、
また銀汚れが発生してしまうという問題があった。これ
を改良する強い要望があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、アスコルビン酸及びその誘導体
を用いた現像液で処理する方法においてランニングでの
処理安定性が著しく向上した感光材料用現像剤及びその
処理方法を提供することにある。
して、本発明の課題は、アスコルビン酸及びその誘導体
を用いた現像液で処理する方法においてランニングでの
処理安定性が著しく向上した感光材料用現像剤及びその
処理方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、支
持体上にハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳
剤の塩化銀含有率が50モル%以上であるハロゲン化銀
写真感光材料を、自動現像機を用い現像補充液を補充し
つつ現像処理する方法において、該現像補充液が実質的
にジヒドロキシベンゼン類を含有せず、前記一般式
(A)で表される化合物とシクロデキストリン化合物を
含有する事を特徴とする現像処理方法により達成され
る。
持体上にハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳
剤の塩化銀含有率が50モル%以上であるハロゲン化銀
写真感光材料を、自動現像機を用い現像補充液を補充し
つつ現像処理する方法において、該現像補充液が実質的
にジヒドロキシベンゼン類を含有せず、前記一般式
(A)で表される化合物とシクロデキストリン化合物を
含有する事を特徴とする現像処理方法により達成され
る。
【0006】尚、上記ハロゲン化銀乳剤層及び/又はそ
の隣接層にヒドラジン誘導体又はテトラゾリウム化合物
又はピリジニウム塩化合物を含有することならびに現像
補充量が感光材料1m2あたり50〜300mlである
ことが本発明の好ましい態様である。
の隣接層にヒドラジン誘導体又はテトラゾリウム化合物
又はピリジニウム塩化合物を含有することならびに現像
補充量が感光材料1m2あたり50〜300mlである
ことが本発明の好ましい態様である。
【0007】以下、本発明について具体的に説明する。
【0008】前記一般式(A)で表される化合物を説明
する。
する。
【0009】前記一般式(A)で示される化合物におい
て、R1とR2が互いに結合して環を形成した下記一般式
〔A−a〕で示される化合物が好ましい。
て、R1とR2が互いに結合して環を形成した下記一般式
〔A−a〕で示される化合物が好ましい。
【0010】
【化2】
【0011】式中、R3は水素原子、置換又は未置換の
アルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又は未
置換のアミノ基、置換または無置換のアルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
を表し、Y1はO又はSを表し、Y2はO、SまたはNR
4を表す。R4は置換又は無置換のアルキル基、置換又は
無置換のアリール基を表す。M1,M2は各々水素原子ま
たはアルカリ金属を表す。
アルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又は未
置換のアミノ基、置換または無置換のアルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
を表し、Y1はO又はSを表し、Y2はO、SまたはNR
4を表す。R4は置換又は無置換のアルキル基、置換又は
無置換のアリール基を表す。M1,M2は各々水素原子ま
たはアルカリ金属を表す。
【0012】前記一般式(A)又は一般式〔A−a〕に
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、たとえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ
基としては無置換のアミノ基あるいは低級アルキル基で
置換されたアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては
低級アルコキシ基が好ましく、アリール基としては好ま
しくはフェニル基あるいはナフチル基等であり、これら
の基は置換基を有していてもよく、置換しうる基として
は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
等が好ましい置換基として挙げられる。
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、たとえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ
基としては無置換のアミノ基あるいは低級アルキル基で
置換されたアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては
低級アルコキシ基が好ましく、アリール基としては好ま
しくはフェニル基あるいはナフチル基等であり、これら
の基は置換基を有していてもよく、置換しうる基として
は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
等が好ましい置換基として挙げられる。
【0013】本発明に係る前記一般式(A)又は一般式
〔A−a〕で表される具体的化合物例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
〔A−a〕で表される具体的化合物例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0014】
【化3】
【0015】
【化4】
【0016】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸とその塩又はそれらから誘導
される誘導体であり、市販品として入手できるか或いは
容易に公知の合成法により合成することができる。
ン酸或いはエリソルビン酸とその塩又はそれらから誘導
される誘導体であり、市販品として入手できるか或いは
容易に公知の合成法により合成することができる。
【0017】本発明に用いられるシクロデキストリン化
合物について説明する。
合物について説明する。
【0018】本発明において、シクロデキストリン化合
物とは、シクロデキストリン、シクロデキストリン誘導
体、分岐シクロデキストリン、シクロデキストリンポリ
マー等を包含する。
物とは、シクロデキストリン、シクロデキストリン誘導
体、分岐シクロデキストリン、シクロデキストリンポリ
マー等を包含する。
【0019】本発明に用いられるシクロデキストリン
は、下記一般式〔1〕で表される。
は、下記一般式〔1〕で表される。
【0020】
【化5】
【0021】このうち本発明に特に有用なものはn1=
4のα−シクロデキストリン、n1=5のβ−シクロデ
キストリン、n1=6のγ−シクロデキストリンであ
る。
4のα−シクロデキストリン、n1=5のβ−シクロデ
キストリン、n1=6のγ−シクロデキストリンであ
る。
【0022】更に本発明に係るシクロデキストリン部分
は包接作用を行い包接化合物を形成するが、本発明にお
いては該包接化合物を使用することも可能である。
は包接作用を行い包接化合物を形成するが、本発明にお
いては該包接化合物を使用することも可能である。
【0023】該シクロデキストリンの包接化合物とは、
例えばエフ・クラマー著(F.Cramer)、「アイ
ンシュルス・フエルビンドゥンゲン」(Einschl
usVerbindungen)Springer(1
954)あるいはエム・ハーゲン著(M.Hagan)
「クラスレートインクルージョンコンパウンド」(Cl
athrate Inclusion Conpoun
de)Reinheld(1962)に記載の如く「原
子または分子が結合してできた3次元構造の内部に適当
な大きさの空孔があって、その中にほかの原子または分
子が一定の組成比で入りこんで特定の結晶構造をつくっ
ている物質」のことをいう。
例えばエフ・クラマー著(F.Cramer)、「アイ
ンシュルス・フエルビンドゥンゲン」(Einschl
usVerbindungen)Springer(1
954)あるいはエム・ハーゲン著(M.Hagan)
「クラスレートインクルージョンコンパウンド」(Cl
athrate Inclusion Conpoun
de)Reinheld(1962)に記載の如く「原
子または分子が結合してできた3次元構造の内部に適当
な大きさの空孔があって、その中にほかの原子または分
子が一定の組成比で入りこんで特定の結晶構造をつくっ
ている物質」のことをいう。
【0024】これらのシクロデキストリンの水酸基をエ
ーテル、エステル、アミノ基などにした公知の誘導体が
挙げられる。これらシクロデキストリンに関しては、
M.L.ベンダー、M.コミヤマ著、シクロデキストリ
ン・ケミストリー(Cyclodextrin Che
mistry)スプリンゲル−フェルラーグ社、197
8年刊に詳しく記載されている。
ーテル、エステル、アミノ基などにした公知の誘導体が
挙げられる。これらシクロデキストリンに関しては、
M.L.ベンダー、M.コミヤマ著、シクロデキストリ
ン・ケミストリー(Cyclodextrin Che
mistry)スプリンゲル−フェルラーグ社、197
8年刊に詳しく記載されている。
【0025】本発明に用いられるシクロデキストリン誘
導体としては下記一般式〔2〕又は〔3〕で表される。
導体としては下記一般式〔2〕又は〔3〕で表される。
【0026】
【化6】
【0027】〔式中、R1、R2、R3はそれぞれ同じで
あっても独立にことなっていても良く、水素、アルキル
基、置換アルキル基を示す。特にR1、R3がアルキル化
されたものが好ましい。〕 一般式〔2〕で表される化合物の具体例としては、ヘプ
タキス−2,6−ジメチル−β−シクロデキストリン、
ヘキサキス−2,6−ジメチル−α−シクロデキストリ
ン、オクタキス−2,6−ジメチル−γ−シクロデキス
トリンなどがあげられる。
あっても独立にことなっていても良く、水素、アルキル
基、置換アルキル基を示す。特にR1、R3がアルキル化
されたものが好ましい。〕 一般式〔2〕で表される化合物の具体例としては、ヘプ
タキス−2,6−ジメチル−β−シクロデキストリン、
ヘキサキス−2,6−ジメチル−α−シクロデキストリ
ン、オクタキス−2,6−ジメチル−γ−シクロデキス
トリンなどがあげられる。
【0028】一般式〔3〕 CD−(O−R)m 〔式中、Rは水素、R2COOH、R2SO3H、R2NH
2または(R2)2N−を表す。R2は炭素数1〜5の直鎖
または分岐鎖のアルキレン基を表す。mは1〜5の整数
を表す。〕 具体例としては下記のものが挙げられる。
2または(R2)2N−を表す。R2は炭素数1〜5の直鎖
または分岐鎖のアルキレン基を表す。mは1〜5の整数
を表す。〕 具体例としては下記のものが挙げられる。
【0029】 次に、本発明に用いられる分岐シクロデキストリンにつ
いて説明する。
いて説明する。
【0030】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンとは公知のシクロデキストリンにグルコース、マルト
ース、セロビオーズ、ラクトース、ショ糖、ガラクトー
ス、グルコサミン等の単糖類や2糖類等の水溶性物質を
分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、シ
クロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシル
シクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれでもよい)が挙げられる。
ンとは公知のシクロデキストリンにグルコース、マルト
ース、セロビオーズ、ラクトース、ショ糖、ガラクトー
ス、グルコサミン等の単糖類や2糖類等の水溶性物質を
分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、シ
クロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシル
シクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれでもよい)が挙げられる。
【0031】これら分岐シクロデキストリンの具体的な
合成方法は、例えば澱粉化学、第33巻、第2号、P.
119〜126(1986)、同P.127〜132
(1986)、澱粉化学、第30巻、第2号、P.23
1〜239(1983)等に記載された公知の合成法で
合成可能であり、例えばマルトシルシクロデキストリン
はシクロデキストリンとマルトースを原料とし、イソア
ミラーゼやプルラナーゼ等の酵素を利用して、シクロデ
キストリンにマルトースを結合させる方法で製造でき
る。グルコシルシクロデキストリンも同様の方法で製造
できる。
合成方法は、例えば澱粉化学、第33巻、第2号、P.
119〜126(1986)、同P.127〜132
(1986)、澱粉化学、第30巻、第2号、P.23
1〜239(1983)等に記載された公知の合成法で
合成可能であり、例えばマルトシルシクロデキストリン
はシクロデキストリンとマルトースを原料とし、イソア
ミラーゼやプルラナーゼ等の酵素を利用して、シクロデ
キストリンにマルトースを結合させる方法で製造でき
る。グルコシルシクロデキストリンも同様の方法で製造
できる。
【0032】本発明において、好ましく用いられる分岐
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。
【0033】〔例示化合物〕 D−1 マルトースが1分子結合したα−シクロデキ
ストリン、D−2 マルトースが1分子結合したβ−
シクロデキストリン、D−3 マルトースが1分子結
合したγ−シクロデキストリン、D−4 マルトース
が2分子結合したα−シクロデキストリン、D−5
マルトースが2分子結合したβ−シクロデキストリン、
D−6 マルトースが2分子結合したγ−シクロデキ
ストリン、D−7 マルトースが3分子結合したα−
シクロデキストリン、D−8 マルトースが3分子結
合したβ−シクロデキストリン、D−9 マルトース
が3分子結合したγ−シクロデキストリン、D−10
グルコースが1分子結合したα−シクロデキストリン、
D−11 グルコースが1分子結合したβ−シクロデキ
ストリン、D−12 グルコースが1分子結合したγ−
シクロデキストリン、D−13 グルコースが2分子結
合したα−シクロデキストリン、D−14 グルコース
が2分子結合したβ−シクロデキストリン、D−15
グルコースが2分子結合したγ−シクロデキストリン、
D−16 グルコースが3分子結合したα−シクロデキ
ストリン、D−17 グルコースが3分子結合したβ−
シクロデキストリン、D−18 グルコースが3分子結
合したγ−シクロデキストリン、これら分岐シクロデキ
ストリンの構造については、HPLC,NMR,TLC
(薄層クロマトグラフィー),INEPT法(Inse
nsitive nuclei enhanced b
y polarization transfer)等
の測定法で種々検討されてきているが、現在の科学技術
をもってしてもいまだ確定されておらず推定構造の段階
にある。しかしながら、各単糖類又は2糖類等がシクロ
デキストリンに結合していることは上記測定法で誤りの
ないことである。この故に、本発明においては、単糖類
や2糖類の多分子がシクロデキストリンに結合している
際には、例えば下記に示すようにシクロデキストリンの
各ぶどう糖に個々に結合している場合や、1つのぶどう
糖に直鎖状に結合しているものの両方を包含するもので
ある。
ストリン、D−2 マルトースが1分子結合したβ−
シクロデキストリン、D−3 マルトースが1分子結
合したγ−シクロデキストリン、D−4 マルトース
が2分子結合したα−シクロデキストリン、D−5
マルトースが2分子結合したβ−シクロデキストリン、
D−6 マルトースが2分子結合したγ−シクロデキ
ストリン、D−7 マルトースが3分子結合したα−
シクロデキストリン、D−8 マルトースが3分子結
合したβ−シクロデキストリン、D−9 マルトース
が3分子結合したγ−シクロデキストリン、D−10
グルコースが1分子結合したα−シクロデキストリン、
D−11 グルコースが1分子結合したβ−シクロデキ
ストリン、D−12 グルコースが1分子結合したγ−
シクロデキストリン、D−13 グルコースが2分子結
合したα−シクロデキストリン、D−14 グルコース
が2分子結合したβ−シクロデキストリン、D−15
グルコースが2分子結合したγ−シクロデキストリン、
D−16 グルコースが3分子結合したα−シクロデキ
ストリン、D−17 グルコースが3分子結合したβ−
シクロデキストリン、D−18 グルコースが3分子結
合したγ−シクロデキストリン、これら分岐シクロデキ
ストリンの構造については、HPLC,NMR,TLC
(薄層クロマトグラフィー),INEPT法(Inse
nsitive nuclei enhanced b
y polarization transfer)等
の測定法で種々検討されてきているが、現在の科学技術
をもってしてもいまだ確定されておらず推定構造の段階
にある。しかしながら、各単糖類又は2糖類等がシクロ
デキストリンに結合していることは上記測定法で誤りの
ないことである。この故に、本発明においては、単糖類
や2糖類の多分子がシクロデキストリンに結合している
際には、例えば下記に示すようにシクロデキストリンの
各ぶどう糖に個々に結合している場合や、1つのぶどう
糖に直鎖状に結合しているものの両方を包含するもので
ある。
【0034】
【化7】
【0035】既存のシクロデキストリンの環構造はその
まま保持されているので、既存のシクロデキストリンと
同様な包接作用を示し、かつ水溶性の高いマルトースな
いしグルコースが付加し、水への溶解性が飛躍的に向上
しているのが特徴である。
まま保持されているので、既存のシクロデキストリンと
同様な包接作用を示し、かつ水溶性の高いマルトースな
いしグルコースが付加し、水への溶解性が飛躍的に向上
しているのが特徴である。
【0036】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンは市販品としての入手も可能であり、例えばマルトシ
ルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリートP
として市販されている。
ンは市販品としての入手も可能であり、例えばマルトシ
ルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリートP
として市販されている。
【0037】次に、本発明に用いられるシクロデキスト
リンポリマーについて説明する。
リンポリマーについて説明する。
【0038】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーとしては、下記一般式〔Dp〕で表されるものが
好ましい。
リマーとしては、下記一般式〔Dp〕で表されるものが
好ましい。
【0039】
【化8】
【0040】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーは、シクロデキストリンを例えばエピクロルヒド
リンにより架橋高分子化して製造できる。
リマーは、シクロデキストリンを例えばエピクロルヒド
リンにより架橋高分子化して製造できる。
【0041】前記シクロデキストリンポリマーは、その
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100
mlに対し20g以上であることが好ましく、そのため
には上記一般式〔Dp〕における重合度n2を3〜4と
すればよく、この値が小さい程シクロデキストリンポリ
マー自身の水溶性および前記物質の可溶化効果が高い。
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100
mlに対し20g以上であることが好ましく、そのため
には上記一般式〔Dp〕における重合度n2を3〜4と
すればよく、この値が小さい程シクロデキストリンポリ
マー自身の水溶性および前記物質の可溶化効果が高い。
【0042】これらシクロデキストリンポリマーは、例
えば特開昭61−97025号明細書や、ドイツ特許
3,544,842号明細書等に記載された一般的な方
法で合成できる。
えば特開昭61−97025号明細書や、ドイツ特許
3,544,842号明細書等に記載された一般的な方
法で合成できる。
【0043】該シクロデキストリンポリマーについて
も、前記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合
物として使用してもよい。
も、前記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合
物として使用してもよい。
【0044】シクロデキストリン化合物の添加量は、特
に制限はないが、0.2〜100g/lで用いるのが好
ましい。更に好ましくは、0.5〜40g/lである。
に制限はないが、0.2〜100g/lで用いるのが好
ましい。更に好ましくは、0.5〜40g/lである。
【0045】本発明において、ヒドラジン誘導体として
は、下記一般式〔H〕で表される化合物が好ましい。
は、下記一般式〔H〕で表される化合物が好ましい。
【0046】
【化9】
【0047】式中、Aはアリール基、又は硫黄原子また
は酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を表し、Gは
−(CO)n−基、スルホニル基、スルホキシ基、−P
(=O)R2−基、またはイミノメチレン基を表し、n
は1または2の整数を表し、A1、A2はともに水素原子
あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換の
アルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換のア
シル基を表し、Rは水素原子、各々置換もしくは無置換
のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環
オキシ基、アミノ基、カルバモイル基、またはオキシカ
ルボニル基を表す。R2は各々置換もしくは無置換のア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ
基、アリールオキシ基、アミノ基等を表す。
は酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を表し、Gは
−(CO)n−基、スルホニル基、スルホキシ基、−P
(=O)R2−基、またはイミノメチレン基を表し、n
は1または2の整数を表し、A1、A2はともに水素原子
あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換の
アルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換のア
シル基を表し、Rは水素原子、各々置換もしくは無置換
のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環
オキシ基、アミノ基、カルバモイル基、またはオキシカ
ルボニル基を表す。R2は各々置換もしくは無置換のア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ
基、アリールオキシ基、アミノ基等を表す。
【0048】一般式〔H〕で表される化合物のうち、更
に好ましくは下記一般式〔Ha〕で表される化合物であ
る。
に好ましくは下記一般式〔Ha〕で表される化合物であ
る。
【0049】
【化10】
【0050】式中、R1は脂肪族基(例えばオクチル
基、デシル基)、芳香族基(例えばフェニル基、2−ヒ
ドロキシフェニル基、クロロフェニル基)又は複素環基
(例えばピリジル基、チェニル基、フリル基)を表し、
これらの基はさらに適当な置換基で置換されたものが好
ましく用いられる。更に、R1には、耐拡散基又はハロ
ゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好まし
い。
基、デシル基)、芳香族基(例えばフェニル基、2−ヒ
ドロキシフェニル基、クロロフェニル基)又は複素環基
(例えばピリジル基、チェニル基、フリル基)を表し、
これらの基はさらに適当な置換基で置換されたものが好
ましく用いられる。更に、R1には、耐拡散基又はハロ
ゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好まし
い。
【0051】耐拡散基としてはカプラーなどの不動性写
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数8以上の写真性に対して比較的不
活性である例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などが挙げられる。
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数8以上の写真性に対して比較的不
活性である例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などが挙げられる。
【0052】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。
【0053】一般式〔Ha〕において、Xは、フェニル
基に置換可能な基を表し、mは0〜4の整数を表し、m
が2以上の場合Xは同じであっても異なってもよい。
基に置換可能な基を表し、mは0〜4の整数を表し、m
が2以上の場合Xは同じであっても異なってもよい。
【0054】一般式〔Ha〕において、A3、A4は一般
式〔H〕におけるA1及びA2と同義であり、ともに水
素原子であることが好ましい。
式〔H〕におけるA1及びA2と同義であり、ともに水
素原子であることが好ましい。
【0055】一般式〔Ha〕において、Gはカルボニル
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基または
イミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基が好まし
い。
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基または
イミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基が好まし
い。
【0056】一般式〔Ha〕において、R2としては水
素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リル基、複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、
カルバモイル基、オキシカルボニル基を表す。最も好ま
しいR2としては、−COOR3基及び−CON(R4)
(R5)基が挙げられる(R3はアルキニル基または飽和
複素環基を表し、R4は水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表
し、R5はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環
基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表す)。
素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リル基、複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、
カルバモイル基、オキシカルボニル基を表す。最も好ま
しいR2としては、−COOR3基及び−CON(R4)
(R5)基が挙げられる(R3はアルキニル基または飽和
複素環基を表し、R4は水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表
し、R5はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環
基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表す)。
【0057】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0058】
【化11】
【0059】
【化12】
【0060】
【化13】
【0061】
【化14】
【0062】
【化15】
【0063】その他の好ましいヒドラジン誘導体の具体
例としては、米国特許5,229,248号第4カラム
〜第60カラムに記載されている(1)〜(252)で
ある。
例としては、米国特許5,229,248号第4カラム
〜第60カラムに記載されている(1)〜(252)で
ある。
【0064】本発明に係るヒドラジン誘導体は、公知の
方法により合成することができ、例えば米国特許5,2
29,248号第59カラム〜第80カラムに記載され
たような方法により合成することができる。
方法により合成することができ、例えば米国特許5,2
29,248号第59カラム〜第80カラムに記載され
たような方法により合成することができる。
【0065】添加量は、硬調化させる量(硬調化量)で
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲である。
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲である。
【0066】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
ハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に添加される。
ハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に添加される。
【0067】ヒドラジン誘導体による硬調化を効果的に
促進するために、下記一般式〔Na〕又は〔Nb〕で表
される造核促進剤を用いることが好ましい。
促進するために、下記一般式〔Na〕又は〔Nb〕で表
される造核促進剤を用いることが好ましい。
【0068】
【化16】
【0069】一般式〔Na〕において、R11、R12、R
13は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
置換アリール基を表す。R11、R12、R13で環を形成す
ることができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化
合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又は
ハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性
を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量300以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。一
般式〔Na〕としては、分子中に少なくとも一つのハロ
ゲン化銀吸着基を有するものが好ましく、特に好ましく
は、分子中にハロゲン化銀吸着基としてチオエーテル基
を少なくとも一つ有する化合物である。
13は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
置換アリール基を表す。R11、R12、R13で環を形成す
ることができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化
合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又は
ハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性
を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量300以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。一
般式〔Na〕としては、分子中に少なくとも一つのハロ
ゲン化銀吸着基を有するものが好ましく、特に好ましく
は、分子中にハロゲン化銀吸着基としてチオエーテル基
を少なくとも一つ有する化合物である。
【0070】以下にこれら造核促進剤〔Na〕の具体例
を挙げる。
を挙げる。
【0071】
【化17】
【0072】
【化18】
【0073】
【化19】
【0074】
【化20】
【0075】一般式〔Nb〕においてArは置換又は無
置換の芳香族基又は複素環基を表す。R14は水素原子、
アルキル基、アルキニル基、アリール基を表すが、Ar
とR14は連結基で連結されて環を形成してもよい。これ
らの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着
基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性をもたせ
るための分子量は120以上が好ましく、特に好ましく
は300以上である。又、好ましいハロゲン化銀吸着基
としては一般式〔H〕で表される化合物のハロゲン化銀
吸着基と同義の基が挙げられる。
置換の芳香族基又は複素環基を表す。R14は水素原子、
アルキル基、アルキニル基、アリール基を表すが、Ar
とR14は連結基で連結されて環を形成してもよい。これ
らの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着
基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性をもたせ
るための分子量は120以上が好ましく、特に好ましく
は300以上である。又、好ましいハロゲン化銀吸着基
としては一般式〔H〕で表される化合物のハロゲン化銀
吸着基と同義の基が挙げられる。
【0076】一般式〔Nb〕の具体的化合物としては以
下に示すものが挙げられる。
下に示すものが挙げられる。
【0077】
【化21】
【0078】
【化22】
【0079】その他の好ましい造核促進化合物の具体例
は、特開平6−258751号報(13)頁「006
2」〜(15)頁「0065」に記載されている(2−
1)〜(2−20)の化合物及び同6−258751号
報(15)頁「0067」〜(16)頁「0068」に
記載されている3−1〜3−6である。
は、特開平6−258751号報(13)頁「006
2」〜(15)頁「0065」に記載されている(2−
1)〜(2−20)の化合物及び同6−258751号
報(15)頁「0067」〜(16)頁「0068」に
記載されている3−1〜3−6である。
【0080】これらの造核促進化合物は、ハロゲン化銀
乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができる
が、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に用
いることが好ましい。
乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができる
が、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に用
いることが好ましい。
【0081】本発明の感光材料に用いられるテトラゾリ
ウム化合物は下記一般式〔T〕で表される。
ウム化合物は下記一般式〔T〕で表される。
【0082】
【化23】
【0083】本発明において、上記一般式〔T〕で示さ
れるトリフェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の
置換基R1、R2、R3は水素原子もしくは電子吸引性度
を示すハメットのシグマ値(σP)が負又は正のものが
好ましい。特に負のものが好ましい。
れるトリフェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の
置換基R1、R2、R3は水素原子もしくは電子吸引性度
を示すハメットのシグマ値(σP)が負又は正のものが
好ましい。特に負のものが好ましい。
【0084】フェニル置換におけるハメットのシグマ値
は多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ
ミストリー(Journal of Medical
Chemistry)第20巻、304頁、1977
年、記載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文
等に見ることが出来、とくに好ましい負のシグマ値を有
する基としては、例えばメチル基(σP=−0.17以
下いずれもσP値)エチル基(−0.15)、シクロプ
ロピル基(−0.21)、n−プロピル基(−0.1
3)、isoプロピル基(−0.15)、シクロブチル
基(−0.15)、n−ブチル基(−0.16)、is
o−ブチル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.
15)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基
(−0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒ
ドロキシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.2
7)、エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−
0.25)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基
(−0.34)等が挙げられ、これらはいずれも本発明
の一般式〔T〕の化合物の置換基として有用である。
は多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ
ミストリー(Journal of Medical
Chemistry)第20巻、304頁、1977
年、記載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文
等に見ることが出来、とくに好ましい負のシグマ値を有
する基としては、例えばメチル基(σP=−0.17以
下いずれもσP値)エチル基(−0.15)、シクロプ
ロピル基(−0.21)、n−プロピル基(−0.1
3)、isoプロピル基(−0.15)、シクロブチル
基(−0.15)、n−ブチル基(−0.16)、is
o−ブチル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.
15)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基
(−0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒ
ドロキシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.2
7)、エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−
0.25)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基
(−0.34)等が挙げられ、これらはいずれも本発明
の一般式〔T〕の化合物の置換基として有用である。
【0085】nは、1あるいは2を表し、X−で示され
るアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等のポリエ
ーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステアリン酸
アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリアクリル酸アニ
オン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げることが
できる。
るアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等のポリエ
ーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステアリン酸
アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリアクリル酸アニ
オン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げることが
できる。
【0086】以下、一般式[T]で表される化合物の具
体例を下記に挙げるが、テトラゾリウム化合物はこれに
限定されるものではない。
体例を下記に挙げるが、テトラゾリウム化合物はこれに
限定されるものではない。
【0087】
【化24】
【0088】上記テトラゾリウム化合物は、例えばケミ
カル・レビュー(ChemicalReviews)第
55巻、第335頁〜483頁に記載の方法にしたがっ
て容易に合成することができる。
カル・レビュー(ChemicalReviews)第
55巻、第335頁〜483頁に記載の方法にしたがっ
て容易に合成することができる。
【0089】一般式〔T〕で表されるテトラゾリウム化
合物は1種を用いてもまた2種以上を適宜の比率で組み
合わせて用いてもよい。
合物は1種を用いてもまた2種以上を適宜の比率で組み
合わせて用いてもよい。
【0090】本発明に用いられるピリジニウム塩及びそ
の誘導体、キノリニウム塩及びその誘導体並びにイソキ
ノリニウム塩及びその誘導体(以下、これらピリジニウ
ム塩及びその誘導体以下を単にピリジニウム塩誘導体類
と言う)などを挙げることができる。
の誘導体、キノリニウム塩及びその誘導体並びにイソキ
ノリニウム塩及びその誘導体(以下、これらピリジニウ
ム塩及びその誘導体以下を単にピリジニウム塩誘導体類
と言う)などを挙げることができる。
【0091】本発明に用いるハロゲン化銀写真感光材料
において使用するピリジニウム塩誘導体類としては、下
記一般式(N−I)で表されるピリジニウム塩誘導体、
一般式(N−II)で表されるキノリニウム塩誘導体およ
び一般式(N−III)で表されるイソキノリニウム塩誘
導体などである。
において使用するピリジニウム塩誘導体類としては、下
記一般式(N−I)で表されるピリジニウム塩誘導体、
一般式(N−II)で表されるキノリニウム塩誘導体およ
び一般式(N−III)で表されるイソキノリニウム塩誘
導体などである。
【0092】
【化25】
【0093】式中、R1はアミノ基、アルキル置換アミ
ノ基(N−メチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基
など)、フェニル基やピリジル基などの芳香族基または
−A−Zを表す。Aは炭素原子数が1から20のアルキ
レン基または−CH2CH=CHCH2−を表し、Zは水
素原子、置換されていてもよいフェニル基、水酸基、メ
トキシ基やエトキシ基などのアルコキシ基、ベンゾイル
基やアセチル基などのアシル基、メトキシカルボニル基
やエトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル
基、シアノ基、N−アルキルアミド基、アミド基または
一般式(N−Ia)で表される基を表す。
ノ基(N−メチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基
など)、フェニル基やピリジル基などの芳香族基または
−A−Zを表す。Aは炭素原子数が1から20のアルキ
レン基または−CH2CH=CHCH2−を表し、Zは水
素原子、置換されていてもよいフェニル基、水酸基、メ
トキシ基やエトキシ基などのアルコキシ基、ベンゾイル
基やアセチル基などのアシル基、メトキシカルボニル基
やエトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル
基、シアノ基、N−アルキルアミド基、アミド基または
一般式(N−Ia)で表される基を表す。
【0094】
【化26】
【0095】一般式(N−I)及び一般式(N−Ia)
中、R2は低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基など)、水酸基、アルコキシ基、フェ
ニル基やピリジル基などの芳香族基で置換されている低
級アルキル基(2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキ
シプロピル基、2−メトキシエチル基、4−エトキシブ
チル基、ベンジン基、2−フェニルエチル基、3−(4
−ピリジル)プロピル基など)、アミド基(−CONH
2−CONHCH3など)または置換されてもよいアミノ
基(−NH2、−NHSO2C5H11、−NHSO2Phな
ど)を表す。n1は0、1、2又は3を表す。ただし、
R2が複数個存在する場合にはそれぞれが異なるもので
もよい。X-はヨウ素イオン、臭素イオン、塩素イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、
メチル硫酸イオンなどのアニオンを表す。ただし、一般
式(N−I)がベタイン構造のときXは存在しない。
中、R2は低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基など)、水酸基、アルコキシ基、フェ
ニル基やピリジル基などの芳香族基で置換されている低
級アルキル基(2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキ
シプロピル基、2−メトキシエチル基、4−エトキシブ
チル基、ベンジン基、2−フェニルエチル基、3−(4
−ピリジル)プロピル基など)、アミド基(−CONH
2−CONHCH3など)または置換されてもよいアミノ
基(−NH2、−NHSO2C5H11、−NHSO2Phな
ど)を表す。n1は0、1、2又は3を表す。ただし、
R2が複数個存在する場合にはそれぞれが異なるもので
もよい。X-はヨウ素イオン、臭素イオン、塩素イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、
メチル硫酸イオンなどのアニオンを表す。ただし、一般
式(N−I)がベタイン構造のときXは存在しない。
【0096】
【化27】
【0097】式中、R3は置換もしくは無置換の低級ア
ルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を表す。置
換基としては水酸基、メトキシ基、エトシキ基などの低
級アルコキシ基、フェニル基などの芳香族基、アセチル
基、ベンゾイル基などのアシル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、などのアルコキシカルボニ
ル基、アミド基、シアノ基などが好ましい。R3の具体
例としてメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、
2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、
2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、2−
フェニルエチル基、3−アセチルプロピル基、2−ベン
ゾイルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2
−シアノエチル基、2−カルバモイルエチル基、ブテニ
ル基、プロパギル基、ベンジル基、トルイル基、フェネ
チル基などを挙げることができる。R4およびR5はそれ
ぞれ独立にハロゲン原子、低級アルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基など)、置換さ
れた低級アルキル基または低級アルコキシ基(例えばメ
トキシ基、エトキシ基など)を表す。置換された低級ア
ルキル基の置換基としては、水酸基、低級アルコキシ
基、置換もしくは無置換の芳香族基(例えばフェニル
基、アルキル置換フェニル基など)が好ましい。置換さ
れた低級アルキル基の具体例としては、例えばヒドロキ
シメチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシ
プロピル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチ
ル基、ベンジル基、2−フェニルエチル基、2−トリル
エチル基などを挙げることができる。n2およびn3は
それぞれ独立に0、1または2を表す。R4および/あ
るいはR5が複数個存在する場合、それぞれが異なるも
のでもよいし、それら相互間で環を形成(例えば5員
環、6員環、7員環など)してもよい。X-はヨウ素イ
オン、臭素イオン、塩素イオン、p−トルエンスルホン
酸イオン、過塩素酸イオン、メチル硫酸イオンなどのア
ニオンを表す。ただし、一般式(N−II)がベタイン構
造のときXは存在しない。
ルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を表す。置
換基としては水酸基、メトキシ基、エトシキ基などの低
級アルコキシ基、フェニル基などの芳香族基、アセチル
基、ベンゾイル基などのアシル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、などのアルコキシカルボニ
ル基、アミド基、シアノ基などが好ましい。R3の具体
例としてメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、
2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、
2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、2−
フェニルエチル基、3−アセチルプロピル基、2−ベン
ゾイルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2
−シアノエチル基、2−カルバモイルエチル基、ブテニ
ル基、プロパギル基、ベンジル基、トルイル基、フェネ
チル基などを挙げることができる。R4およびR5はそれ
ぞれ独立にハロゲン原子、低級アルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基など)、置換さ
れた低級アルキル基または低級アルコキシ基(例えばメ
トキシ基、エトキシ基など)を表す。置換された低級ア
ルキル基の置換基としては、水酸基、低級アルコキシ
基、置換もしくは無置換の芳香族基(例えばフェニル
基、アルキル置換フェニル基など)が好ましい。置換さ
れた低級アルキル基の具体例としては、例えばヒドロキ
シメチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシ
プロピル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチ
ル基、ベンジル基、2−フェニルエチル基、2−トリル
エチル基などを挙げることができる。n2およびn3は
それぞれ独立に0、1または2を表す。R4および/あ
るいはR5が複数個存在する場合、それぞれが異なるも
のでもよいし、それら相互間で環を形成(例えば5員
環、6員環、7員環など)してもよい。X-はヨウ素イ
オン、臭素イオン、塩素イオン、p−トルエンスルホン
酸イオン、過塩素酸イオン、メチル硫酸イオンなどのア
ニオンを表す。ただし、一般式(N−II)がベタイン構
造のときXは存在しない。
【0098】
【化28】
【0099】式中、R6はアルキル基(メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基など)または
置換アルキルを表す。さらに、R6とR8とで6員環もし
くは5員環を形成してもよい。R7は水素原子、低級ア
ルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基など)置換アルキル基またはアリール基
(フェニル基、アルキル置換フェニル基など)を表す。
R6およびR7における置換アルキル基の置換基としては
例えば水酸基、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基
など)、アリール基(フェニル基、アルキル置換フェニ
ル基など)などを挙げることができる。置換アルキル基
の具体例としては例えば2−ヒドロキシエチル基、3−
ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2−エ
トキシエチル基、3−メトキシプロピル基、ベンジル
基、2−フェニルエチル基などを挙げることができる。
R8およびR9はそれぞれ独立に水素原子、低級アルキル
基(メチル基、エチル基、プロピル基など)、水酸基、
アルコキシ基、芳香族基などで置換された低級アルキル
基(2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、
ベンジン基、2−フェニルエチル基など)、アルコキシ
基(メトキシ基、エトキシ基など)またはアミド基を表
す。さらにR8とR9とで5員環あるいは6員環などの環
や芳香族環を形成してもよい。R10はハロゲン原子(塩
素原子、臭素原子など)、置換されていてもよい低級ア
ルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、2−ヒド
ロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル、2−メトキ
シエチル基、ベンジル基など)、アルコキシ基(メトキ
シ基、エトキシ基など)またはアルキル基で置換されて
いてもよいアミノ基を表す。n4は0、1または2を表
す、R10が複数個存在する場合には、それぞれが異なる
ものでもよい。X-はヨウ素イオン、臭素イオン、塩素
イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオ
ン、メチル硫酸イオンなどのアニオンを表す。ただし、
一般式(N−III)がベタイン構造のときXは存在しな
い。
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基など)または
置換アルキルを表す。さらに、R6とR8とで6員環もし
くは5員環を形成してもよい。R7は水素原子、低級ア
ルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基など)置換アルキル基またはアリール基
(フェニル基、アルキル置換フェニル基など)を表す。
R6およびR7における置換アルキル基の置換基としては
例えば水酸基、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基
など)、アリール基(フェニル基、アルキル置換フェニ
ル基など)などを挙げることができる。置換アルキル基
の具体例としては例えば2−ヒドロキシエチル基、3−
ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2−エ
トキシエチル基、3−メトキシプロピル基、ベンジル
基、2−フェニルエチル基などを挙げることができる。
R8およびR9はそれぞれ独立に水素原子、低級アルキル
基(メチル基、エチル基、プロピル基など)、水酸基、
アルコキシ基、芳香族基などで置換された低級アルキル
基(2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、
ベンジン基、2−フェニルエチル基など)、アルコキシ
基(メトキシ基、エトキシ基など)またはアミド基を表
す。さらにR8とR9とで5員環あるいは6員環などの環
や芳香族環を形成してもよい。R10はハロゲン原子(塩
素原子、臭素原子など)、置換されていてもよい低級ア
ルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、2−ヒド
ロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル、2−メトキ
シエチル基、ベンジル基など)、アルコキシ基(メトキ
シ基、エトキシ基など)またはアルキル基で置換されて
いてもよいアミノ基を表す。n4は0、1または2を表
す、R10が複数個存在する場合には、それぞれが異なる
ものでもよい。X-はヨウ素イオン、臭素イオン、塩素
イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオ
ン、メチル硫酸イオンなどのアニオンを表す。ただし、
一般式(N−III)がベタイン構造のときXは存在しな
い。
【0100】本発明で用いる感光材料で使用するピリジ
ニウム塩誘導体類の還元電位は−0.60ボルトより卑
の化合物、より好ましくは−0.80ボルトより卑であ
る化合物を用いる。
ニウム塩誘導体類の還元電位は−0.60ボルトより卑
の化合物、より好ましくは−0.80ボルトより卑であ
る化合物を用いる。
【0101】ここで用いる還元電位Eredの値は、ピ
リジニウム塩誘導体類がボルタンメトリーにおいて陰極
で電子の注入をうけて還元される電位を意味する。還元
電位Eredの値はボルタンメトリーによって正確に測
定することができる。即ち、支持電解質としてテトラ−
n−ブチルアンモニウム過塩素酸塩0.1Mを含むアセ
トニトリル中で、ビリジニウム塩誘導体類1×10-3モ
ルから1×10-4モルのボルタモグラムを測定し、これ
より得られる半波電位として求めた。作用電極には白金
を、比較電極には飽和カロメル電極(SCE)を使用
し、測定は25℃で行った。更に詳しくは、米国特許第
3,501,307号やドラハイ(P.Delaha
y)著、「ニュー インストルメンタル メソーズ イ
ン エレクトロケミストリー(New Instrum
ental Methods inElectroch
emistry)」(インターサイエンス パブリッシ
ャーズ(Interscience Publishe
rs)社、1954年)などに記載されている。
リジニウム塩誘導体類がボルタンメトリーにおいて陰極
で電子の注入をうけて還元される電位を意味する。還元
電位Eredの値はボルタンメトリーによって正確に測
定することができる。即ち、支持電解質としてテトラ−
n−ブチルアンモニウム過塩素酸塩0.1Mを含むアセ
トニトリル中で、ビリジニウム塩誘導体類1×10-3モ
ルから1×10-4モルのボルタモグラムを測定し、これ
より得られる半波電位として求めた。作用電極には白金
を、比較電極には飽和カロメル電極(SCE)を使用
し、測定は25℃で行った。更に詳しくは、米国特許第
3,501,307号やドラハイ(P.Delaha
y)著、「ニュー インストルメンタル メソーズ イ
ン エレクトロケミストリー(New Instrum
ental Methods inElectroch
emistry)」(インターサイエンス パブリッシ
ャーズ(Interscience Publishe
rs)社、1954年)などに記載されている。
【0102】以下に本発明に用いる感光材料で使用する
ピリジニウム塩誘導体類の代表例を挙げるが、本発明は
これらにより限定されるものではない。
ピリジニウム塩誘導体類の代表例を挙げるが、本発明は
これらにより限定されるものではない。
【0103】
【化29】
【0104】
【化30】
【0105】
【化31】
【0106】
【化32】
【0107】
【化33】
【0108】
【化34】
【0109】
【化35】
【0110】
【化36】
【0111】
【化37】
【0112】
【化38】
【0113】
【化39】
【0114】
【化40】
【0115】
【化41】
【0116】
【化42】
【0117】
【化43】
【0118】
【化44】
【0119】
【化45】
【0120】
【化46】
【0121】
【化47】
【0122】
【化48】
【0123】
【化49】
【0124】
【化50】
【0125】
【化51】
【0126】これらのピリジニウム塩誘導体類は、小竹
無二雄監修「大有機化学」16巻(III)7頁および1
29頁(1959年、朝倉書店)に記載されているよう
に、相当するピリジン、キノリンまたはイソキノリン誘
導体とハロゲン化アルキル誘導体との反応で合成するこ
とができる。具体的な合成法は、A.Grob,E.R
enk著の報文、Helv.Chim.Acta 3
7,1672(1954);R.E.Lyle,E.
F.Perlowski,H.J.Trosciani
ec,G.G.Lyle著の報文、J.Org.Che
m.20,1761(1955);M.R.Lambo
rg,R.M.Burton,N.O.Kaplan著
の報文、J.Am.Chem.Soc.79,6173
(1957);W.Ciusa,A.Buccelli
著の報文、GazzettaChimia Itali
ana88,393(1958)などに記載されてい
る。
無二雄監修「大有機化学」16巻(III)7頁および1
29頁(1959年、朝倉書店)に記載されているよう
に、相当するピリジン、キノリンまたはイソキノリン誘
導体とハロゲン化アルキル誘導体との反応で合成するこ
とができる。具体的な合成法は、A.Grob,E.R
enk著の報文、Helv.Chim.Acta 3
7,1672(1954);R.E.Lyle,E.
F.Perlowski,H.J.Trosciani
ec,G.G.Lyle著の報文、J.Org.Che
m.20,1761(1955);M.R.Lambo
rg,R.M.Burton,N.O.Kaplan著
の報文、J.Am.Chem.Soc.79,6173
(1957);W.Ciusa,A.Buccelli
著の報文、GazzettaChimia Itali
ana88,393(1958)などに記載されてい
る。
【0127】本発明において用いる感光材料で使用する
ビリジニウム塩誘導体類は、感光材料を構成する少なく
とも一層のネガ型ハロゲン化銀乳剤層あるいは、それ以
外の親水性コロイド層から成る非感光性層、例えば保護
層、中間層、ハレーション防止層、フィルター層などに
含有させることもできる。
ビリジニウム塩誘導体類は、感光材料を構成する少なく
とも一層のネガ型ハロゲン化銀乳剤層あるいは、それ以
外の親水性コロイド層から成る非感光性層、例えば保護
層、中間層、ハレーション防止層、フィルター層などに
含有させることもできる。
【0128】本発明に用いる感光材料で使用するピリジ
ニウム塩誘導体類の感光材料への添加量は、ハロゲン化
銀1モル当たり1×10-6モルから当モルの範囲が適切
であり、通常は1×10-4モルから0.1モルが好まし
く用いられる。また本発明に用いるピリジニウム塩誘導
体類は、一種以上を併用して用いることもできる。
ニウム塩誘導体類の感光材料への添加量は、ハロゲン化
銀1モル当たり1×10-6モルから当モルの範囲が適切
であり、通常は1×10-4モルから0.1モルが好まし
く用いられる。また本発明に用いるピリジニウム塩誘導
体類は、一種以上を併用して用いることもできる。
【0129】本発明に用いる感光材料で使用するピリジ
ニウム塩誘導体類をネガ型ハロゲン化銀乳剤層あるいは
それ以外の非感光性層に添加するには、水または水と混
合しうる有機溶媒、例えばアルコール類、ケトン類、エ
ステル類、アミド類などに溶解して本発明に用いるネガ
型ハロゲン化銀乳剤もしくは非感光性の親水性コロイド
溶液に添加すればよい。
ニウム塩誘導体類をネガ型ハロゲン化銀乳剤層あるいは
それ以外の非感光性層に添加するには、水または水と混
合しうる有機溶媒、例えばアルコール類、ケトン類、エ
ステル類、アミド類などに溶解して本発明に用いるネガ
型ハロゲン化銀乳剤もしくは非感光性の親水性コロイド
溶液に添加すればよい。
【0130】本発明に用いる感光材料で使用するピリジ
ニウム塩誘導体類を感光材料に添加する時期は、感光材
料を製造する工程中の任意の時期を選ぶことができる。
例えばネガ型ハロゲン化銀乳剤に添加する場合には化学
熟成の開始から塗布前までの任意の時期に添加すること
ができるが、化学熟成終了後塗布直前までの任意の時期
に添加するのが好ましい。
ニウム塩誘導体類を感光材料に添加する時期は、感光材
料を製造する工程中の任意の時期を選ぶことができる。
例えばネガ型ハロゲン化銀乳剤に添加する場合には化学
熟成の開始から塗布前までの任意の時期に添加すること
ができるが、化学熟成終了後塗布直前までの任意の時期
に添加するのが好ましい。
【0131】本発明におけるピリジニウム塩誘導体類の
作用機構は充分に明らかではないが、ピリジニウム塩誘
導体類はアルカリ性現像剤を用いた現像処理時に造核反
応を行って感光材料の感度および階調を高める硬調化剤
としての作用をしていると推定される。このようなピリ
ジニウム塩誘導体類による著しい高感度化と超硬調化作
用はこれまで知られておらず全く予期せぬ効果である。
作用機構は充分に明らかではないが、ピリジニウム塩誘
導体類はアルカリ性現像剤を用いた現像処理時に造核反
応を行って感光材料の感度および階調を高める硬調化剤
としての作用をしていると推定される。このようなピリ
ジニウム塩誘導体類による著しい高感度化と超硬調化作
用はこれまで知られておらず全く予期せぬ効果である。
【0132】本発明における現像液は、実質的にジヒド
ロキシベンゼン類を含有しない。実質的に含有しないと
は、現像液1リットルあたり0.01モル未満の量であ
る。
ロキシベンゼン類を含有しない。実質的に含有しないと
は、現像液1リットルあたり0.01モル未満の量であ
る。
【0133】本発明においては、本発明に係る一般式
(A)の現像主薬と3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾ
リドン等)やアミノフェノール類(例えばo−アミノフ
ェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−o−ア
ミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノール、
2,4−ジアミノフェノール等)の現像主薬を組み合わ
せて使用することが出来る。組み合わせて使用する場
合、3−ピラゾリドン類やアミノフェノール類の現像主
薬は、通常現像液1リットルあたり0.01〜1.4モ
ルの量で用いられるのが好ましい。
(A)の現像主薬と3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾ
リドン等)やアミノフェノール類(例えばo−アミノフ
ェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−o−ア
ミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノール、
2,4−ジアミノフェノール等)の現像主薬を組み合わ
せて使用することが出来る。組み合わせて使用する場
合、3−ピラゾリドン類やアミノフェノール類の現像主
薬は、通常現像液1リットルあたり0.01〜1.4モ
ルの量で用いられるのが好ましい。
【0134】本発明の現像液には、下記一般式(S)で
あらわされる化合物が含有されることができる。
あらわされる化合物が含有されることができる。
【0135】 一般式(S) Z1−SM1 式中Z1は、アルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環基
であって、ヒドロキシル基、−SO3M1基、−COOM
1基(ここでM1は水素原子、アルカリ金属原子、または
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つまた
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。
であって、ヒドロキシル基、−SO3M1基、−COOM
1基(ここでM1は水素原子、アルカリ金属原子、または
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つまた
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。
【0136】また、一般式(S)において、Z1で表さ
れるアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のもので
あって特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のア
ルキル基であって上記の置換基の他に置換基を有してい
てもよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数
6〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換基
の他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテ
ロ環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環で
あり、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテ
ロ原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。ただし、ヘ
テロ環基がテトラゾールの場合、置換基として、置換も
しくは無置換のナフチル基を有しない。一般式(S)で
あらわされる化合物のうち、好ましくはZ1が、2個以
上の窒素原子を有するヘテロ環基である化合物である。
れるアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のもので
あって特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のア
ルキル基であって上記の置換基の他に置換基を有してい
てもよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数
6〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換基
の他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテ
ロ環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環で
あり、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテ
ロ原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。ただし、ヘ
テロ環基がテトラゾールの場合、置換基として、置換も
しくは無置換のナフチル基を有しない。一般式(S)で
あらわされる化合物のうち、好ましくはZ1が、2個以
上の窒素原子を有するヘテロ環基である化合物である。
【0137】アンモニオ基としては好ましくは炭素数2
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(例えば、メチル基、エチ
ル基、ベンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシ
ル基など)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基
を表す。
0以下であって置換基としては置換又は無置換の直鎖、
分岐、又は環状のアルキル基(例えば、メチル基、エチ
ル基、ベンジル基、エトキシプロピル基、シクロヘキシ
ル基など)、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基
を表す。
【0138】さらに一般式(S)で表される化合物のう
ち、更に好ましいものは下記一般式(S−a)で表され
る化合物である。
ち、更に好ましいものは下記一般式(S−a)で表され
る化合物である。
【0139】
【化52】
【0140】式中、Zは窒素原子を有する不飽和の5員
ヘテロ環または、6員ヘテロ環(例えば、ピロール、イ
ミダゾール、ピラゾール、ピリミジン、ピリダジン、ピ
ラジン等)を形成するのに必要な基であり、少なくとも
一つの−SM1基またはチオン基を有する化合物であっ
て、かつヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置
換のアンモニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一
つの置換基を有する。式中、R11、R12は、水素原子、
−SM1基、ハロゲン原子、アルキル基(置換基を有す
るものを含む)、アルコキシ基(置換基を有するものを
含む)、ヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、アルケニル基(置換基を有するものを含む)、アミ
ノ基(置換基を有するものを含む)、カルバモイル基
(置換基を有するものを含む)、フェニル基(置換基を
有するものを含む)であり、R11とR12で環を形成して
もよい。形成できる環としては、5員環または6員環で
あり、好ましくは含窒素ヘテロ環である。M1は、前記
一般式(S)で表される化合物で定義されたM1と同じ
である。好ましくはZは二つ以上の窒素原子を含むヘテ
ロ環化合物を形成する基であり、前記−SM1基もしく
はチオン基以外の置換基を有していてもよく、該置換基
としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭
素)、低級アルキル基(置換基を有するものを含む。メ
チル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好まし
い。)、低級アルコキシ基(置換基を有するものを含
む。メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の炭素数5以下の
ものが好ましい。)、低級アルケニル基(置換基を有す
るものを含む。炭素数5以下のものが好ましい。)、カ
ルバモイル基、フェニル基等が挙げられる。更に一般式
(S−a)において次の一般式AからFで表される化合
物が特に好ましい。
ヘテロ環または、6員ヘテロ環(例えば、ピロール、イ
ミダゾール、ピラゾール、ピリミジン、ピリダジン、ピ
ラジン等)を形成するのに必要な基であり、少なくとも
一つの−SM1基またはチオン基を有する化合物であっ
て、かつヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置
換のアンモニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一
つの置換基を有する。式中、R11、R12は、水素原子、
−SM1基、ハロゲン原子、アルキル基(置換基を有す
るものを含む)、アルコキシ基(置換基を有するものを
含む)、ヒドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1
基、アルケニル基(置換基を有するものを含む)、アミ
ノ基(置換基を有するものを含む)、カルバモイル基
(置換基を有するものを含む)、フェニル基(置換基を
有するものを含む)であり、R11とR12で環を形成して
もよい。形成できる環としては、5員環または6員環で
あり、好ましくは含窒素ヘテロ環である。M1は、前記
一般式(S)で表される化合物で定義されたM1と同じ
である。好ましくはZは二つ以上の窒素原子を含むヘテ
ロ環化合物を形成する基であり、前記−SM1基もしく
はチオン基以外の置換基を有していてもよく、該置換基
としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭
素)、低級アルキル基(置換基を有するものを含む。メ
チル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好まし
い。)、低級アルコキシ基(置換基を有するものを含
む。メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の炭素数5以下の
ものが好ましい。)、低級アルケニル基(置換基を有す
るものを含む。炭素数5以下のものが好ましい。)、カ
ルバモイル基、フェニル基等が挙げられる。更に一般式
(S−a)において次の一般式AからFで表される化合
物が特に好ましい。
【0141】
【化53】
【0142】式中、各々R1、R2、R3、R4は、水素原
子、−SM1基、ハロゲン原子、低級アルキル基(置換
基を有するものを含む。メチル基、エチル基等の炭素数
5以下のものが好ましい。)、低級アルコキシ基(置換
基を有するものを含む。炭素数5以下のものが好まし
い。)、ヒドロキシ基、−COOM2、−SO3M3基、
低級アルケニル基(置換基を有するものを含む。炭素数
5以下のものが好ましい。)、アミノ基、カルバモイル
基、フェニル基であり、少なくとも一つは−SM1基で
ある。M1、M2、M3は各々水素原子、アルカリ金属原
子またはアンモニウム基を表し、同じであっても異なっ
てもよい。特に、−SM1以外の置換基としはヒドロキ
シ基、−COOM2、−SO3M3基、アミノ基等の水溶
性基を持つことが好ましい。R1、R2、R3で表される
アミノ基は置換または非置換のアミノ基を表し、好まし
い置換基としては低級アルキル基である。アンモニウム
基としては置換または非置換のアンモニウム基であり、
好ましくは非置換のアンモニウム基である。
子、−SM1基、ハロゲン原子、低級アルキル基(置換
基を有するものを含む。メチル基、エチル基等の炭素数
5以下のものが好ましい。)、低級アルコキシ基(置換
基を有するものを含む。炭素数5以下のものが好まし
い。)、ヒドロキシ基、−COOM2、−SO3M3基、
低級アルケニル基(置換基を有するものを含む。炭素数
5以下のものが好ましい。)、アミノ基、カルバモイル
基、フェニル基であり、少なくとも一つは−SM1基で
ある。M1、M2、M3は各々水素原子、アルカリ金属原
子またはアンモニウム基を表し、同じであっても異なっ
てもよい。特に、−SM1以外の置換基としはヒドロキ
シ基、−COOM2、−SO3M3基、アミノ基等の水溶
性基を持つことが好ましい。R1、R2、R3で表される
アミノ基は置換または非置換のアミノ基を表し、好まし
い置換基としては低級アルキル基である。アンモニウム
基としては置換または非置換のアンモニウム基であり、
好ましくは非置換のアンモニウム基である。
【0143】以下に銀スラッジ防止剤として一般式
(S)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
(S)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
【0144】
【化54】
【0145】
【化55】
【0146】
【化56】
【0147】
【化57】
【0148】
【化58】
【0149】
【化59】
【0150】本発明の一般式(S)化合物の使用量は、
現像液1リットル中に10-6から10-1モルであること
が好ましく、さらには10-5から10-2モルであること
が好ましい。
現像液1リットル中に10-6から10-1モルであること
が好ましく、さらには10-5から10-2モルであること
が好ましい。
【0151】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
【0152】本発明においては、現像液には、アルカリ
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチ
レン類を含む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化
合物等)、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば
臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニ
トロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダゾール、
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール
類、チアゾール類等)、キレート化剤(例えばエチレン
ジアミン四酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢
酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許
2,304,025号、特公昭47−45541号に記
載の化合物等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又
は、その重亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを
添加することができる。現像液のpHは7.5以上1
0.5未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.4以下である。
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチ
レン類を含む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化
合物等)、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば
臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニ
トロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダゾール、
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール
類、チアゾール類等)、キレート化剤(例えばエチレン
ジアミン四酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢
酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許
2,304,025号、特公昭47−45541号に記
載の化合物等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又
は、その重亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを
添加することができる。現像液のpHは7.5以上1
0.5未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.4以下である。
【0153】現像廃液は通電して再生することができ
る。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレスウ
ール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液に陽
極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない電気
伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液槽と
電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再生す
る。通電しながら本発明に係る感光材料を処理すること
もできる。その際、現像液に添加される各種の添加剤、
例えば現像液に添加することができる保恒剤、アルカリ
剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッジ防
止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液に通
電しながら感光材料を処理する方法があり、その際に上
記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加でき
る。現像廃液を再生して利用する場合には、用いられる
現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好まし
い。
る。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレスウ
ール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液に陽
極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない電気
伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液槽と
電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再生す
る。通電しながら本発明に係る感光材料を処理すること
もできる。その際、現像液に添加される各種の添加剤、
例えば現像液に添加することができる保恒剤、アルカリ
剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッジ防
止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液に通
電しながら感光材料を処理する方法があり、その際に上
記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加でき
る。現像廃液を再生して利用する場合には、用いられる
現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好まし
い。
【0154】現像処理の特殊な形式として、現像主薬を
感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に含
み、感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わ
せるアクチベータ処理液に用いてもよい。また、現像主
薬を感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に
含んだ感光材料を現像液で処理しても良い。このような
現像処理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組
み合わせて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利
用されることが多く、そのような処理液に適用も可能で
ある。
感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に含
み、感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わ
せるアクチベータ処理液に用いてもよい。また、現像主
薬を感光材料中、例えば乳剤層中またはその隣接層中に
含んだ感光材料を現像液で処理しても良い。このような
現像処理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組
み合わせて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利
用されることが多く、そのような処理液に適用も可能で
ある。
【0155】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
【0156】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタ
ルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)
などを加えることができる。
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタ
ルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)
などを加えることができる。
【0157】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、ク
エン酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあ
るキレート剤等の化合物を含むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、ク
エン酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあ
るキレート剤等の化合物を含むことができる。
【0158】本発明においては定着液中のアンモニウム
イオン濃度が定着液1リットル当たり0.1モル以下で
あることが好ましい。
イオン濃度が定着液1リットル当たり0.1モル以下で
あることが好ましい。
【0159】アンモニウムイオン濃度は定着液1リット
ル当たり特に好ましくは0〜0.05モルの範囲であ
る。定着主薬としてチオ硫酸アンモニウムの代わりにチ
オ硫酸ナトリウムを使用してもよく、チオ硫酸アンモニ
ウムとチオ硫酸ナトリウムを併用して使用してもよい。
ル当たり特に好ましくは0〜0.05モルの範囲であ
る。定着主薬としてチオ硫酸アンモニウムの代わりにチ
オ硫酸ナトリウムを使用してもよく、チオ硫酸アンモニ
ウムとチオ硫酸ナトリウムを併用して使用してもよい。
【0160】本発明においては定着液中の酢酸イオン濃
度が0.33モル/リットル未満であることが好まし
い。酢酸イオンの種類は任意で、定着液中で酢酸イオン
を解離する任意の化合物に対して本発明は適用できる
が、酢酸や酢酸のリチウム、カリウム、ナトリウム、ア
ンモニウム塩などが好ましく用いられ、特にナトリウム
塩、アンモニウム塩が好ましい。酢酸イオン濃度は更に
好ましくは定着液1リットル当たり0.22モル以下、
特に好ましくは0.13モル以下で、これにより酢酸ガ
ス発生量を高度に減少させることができる。最も好まし
いのは酢酸イオンを実質的に含まないものである。
度が0.33モル/リットル未満であることが好まし
い。酢酸イオンの種類は任意で、定着液中で酢酸イオン
を解離する任意の化合物に対して本発明は適用できる
が、酢酸や酢酸のリチウム、カリウム、ナトリウム、ア
ンモニウム塩などが好ましく用いられ、特にナトリウム
塩、アンモニウム塩が好ましい。酢酸イオン濃度は更に
好ましくは定着液1リットル当たり0.22モル以下、
特に好ましくは0.13モル以下で、これにより酢酸ガ
ス発生量を高度に減少させることができる。最も好まし
いのは酢酸イオンを実質的に含まないものである。
【0161】本発明の定着液はチオ硫酸塩を含有するこ
とが好ましい。チオ硫酸塩としてはリチウム、カリウ
ム、ナトリウム、アンモニウム塩などが挙げられ、好ま
しくはナトリウム塩又はアンモニウム塩である。チオ硫
酸塩の添加量は定着液1リットル当たり0.1〜5モル
で、より好ましくは0.5〜2.0モルで、さらに好ま
しく0.7〜1.8モルである。最も好ましいのは0.
8〜1.5モルである。
とが好ましい。チオ硫酸塩としてはリチウム、カリウ
ム、ナトリウム、アンモニウム塩などが挙げられ、好ま
しくはナトリウム塩又はアンモニウム塩である。チオ硫
酸塩の添加量は定着液1リットル当たり0.1〜5モル
で、より好ましくは0.5〜2.0モルで、さらに好ま
しく0.7〜1.8モルである。最も好ましいのは0.
8〜1.5モルである。
【0162】本発明の定着液にはクエン酸、酒石酸、り
んご酸、こはく酸などの塩及びこれらの光学異性体など
が含まれる。クエン酸、酒石酸、りんご酸、こはく酸な
どの塩としてはこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナト
リウム塩、アンモニウム塩など、酒石酸の水素リチウ
ム、水素カリウム、水素ナトリウム、水素アンモニウ
ム、酒石酸のアンモニウムカリウム、酒石酸のナトリウ
ムカリウムなどを用いてもよい。これらの中でより好ま
しいものとしてはクエン酸、イソクエン酸、りんご酸、
こはく酸及びこれらの塩である。最も好ましくはりんご
酸とその塩である。
んご酸、こはく酸などの塩及びこれらの光学異性体など
が含まれる。クエン酸、酒石酸、りんご酸、こはく酸な
どの塩としてはこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナト
リウム塩、アンモニウム塩など、酒石酸の水素リチウ
ム、水素カリウム、水素ナトリウム、水素アンモニウ
ム、酒石酸のアンモニウムカリウム、酒石酸のナトリウ
ムカリウムなどを用いてもよい。これらの中でより好ま
しいものとしてはクエン酸、イソクエン酸、りんご酸、
こはく酸及びこれらの塩である。最も好ましくはりんご
酸とその塩である。
【0163】本発明においては、定着処理後、水洗及び
/または安定化浴で処理される。安定化浴としては、画
像を安定化させる目的で、膜pHを調整(処理後の膜面
pHを3〜8に)するための無機及び有機の酸及びその
塩、またはアルカリ剤及びその塩(例えばほう酸塩、メ
タほう酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン
酸、ジカルボン酸、ポリカルボン酸、くえん酸、蓚酸、
リンゴ酸、酢酸等を組み合わせて使用)、アルデヒド類
(例えばホルマリン、グリオキザール、グルタルアルデ
ヒド等)、キレート剤(例えばエチレンジアミン四酢酸
又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸
塩等)、防バイ剤(例えばフェノール、4−クロロフェ
ノール、クレゾール、o−フェニルフェノール、クロロ
フェン、ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、p−ヒド
ロキシ安息香酸エステル、2−(4−チアゾリン)−ベ
ンゾイミダゾール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、
ドデシル−ベンジル−メチルアンモニウム−クロライ
ド、N−(フルオロジクロロメチルチオ)フタルイミ
ド、2,4,4′−トリクロロ−2′−ハイドロオキシ
ジフェニルエーテル等)、色調調整剤及び/または残色
改良剤(例えばメルカプト基を置換基として有する含窒
素ヘテロ環化合物;具体的には2−メルカプト−5−ス
ルホン酸ナトリウム−ベンズイミダゾール、1−フェニ
ル−5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベン
ズチアゾール、2−メルカプト−5−プロピル−1,
3,4−トリアゾール、2−メルカプトヒポキサンチン
等)を含有させる。その中でも安定化浴中には防バイ剤
が含まれることが好ましい。これらは、液状でも固体状
で補充されてもよい。固体状で補充される場合は、前述
の固体状処理剤の製造方法、使用方法を用いることがで
きる。
/または安定化浴で処理される。安定化浴としては、画
像を安定化させる目的で、膜pHを調整(処理後の膜面
pHを3〜8に)するための無機及び有機の酸及びその
塩、またはアルカリ剤及びその塩(例えばほう酸塩、メ
タほう酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン
酸、ジカルボン酸、ポリカルボン酸、くえん酸、蓚酸、
リンゴ酸、酢酸等を組み合わせて使用)、アルデヒド類
(例えばホルマリン、グリオキザール、グルタルアルデ
ヒド等)、キレート剤(例えばエチレンジアミン四酢酸
又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸
塩等)、防バイ剤(例えばフェノール、4−クロロフェ
ノール、クレゾール、o−フェニルフェノール、クロロ
フェン、ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、p−ヒド
ロキシ安息香酸エステル、2−(4−チアゾリン)−ベ
ンゾイミダゾール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、
ドデシル−ベンジル−メチルアンモニウム−クロライ
ド、N−(フルオロジクロロメチルチオ)フタルイミ
ド、2,4,4′−トリクロロ−2′−ハイドロオキシ
ジフェニルエーテル等)、色調調整剤及び/または残色
改良剤(例えばメルカプト基を置換基として有する含窒
素ヘテロ環化合物;具体的には2−メルカプト−5−ス
ルホン酸ナトリウム−ベンズイミダゾール、1−フェニ
ル−5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベン
ズチアゾール、2−メルカプト−5−プロピル−1,
3,4−トリアゾール、2−メルカプトヒポキサンチン
等)を含有させる。その中でも安定化浴中には防バイ剤
が含まれることが好ましい。これらは、液状でも固体状
で補充されてもよい。固体状で補充される場合は、前述
の固体状処理剤の製造方法、使用方法を用いることがで
きる。
【0164】本発明は廃液量の低減の要望から、感光材
料の面積に比例した一定量の現像液および定着液を補充
しながら処理される。その現像液補充量および定着液補
充量はそれぞれ1m2当たり330ml以下である。好
ましくはそれぞれ1m2当たり30〜200mlであ
る。ここでいう現像液補充量および定着液補充量とは、
補充される液の量を示す。具体的には、現像母液および
定着母液と同じ液を補充する場合のそれぞれの液の補充
量であり、現像濃縮液および定着濃縮液を水で希釈した
液で補充される場合のそれぞれの濃縮液と水の合計量で
あり、固体現像処理剤および固体定着処理剤を水で溶解
した液で補充される場合のそれぞれの固体処理剤容積と
水の容積の合計量であり、また固体現像処理剤および固
体定着処理剤と水を別々に補充する場合のそれぞれの固
体処理剤容積と水の容積の合計量である。
料の面積に比例した一定量の現像液および定着液を補充
しながら処理される。その現像液補充量および定着液補
充量はそれぞれ1m2当たり330ml以下である。好
ましくはそれぞれ1m2当たり30〜200mlであ
る。ここでいう現像液補充量および定着液補充量とは、
補充される液の量を示す。具体的には、現像母液および
定着母液と同じ液を補充する場合のそれぞれの液の補充
量であり、現像濃縮液および定着濃縮液を水で希釈した
液で補充される場合のそれぞれの濃縮液と水の合計量で
あり、固体現像処理剤および固体定着処理剤を水で溶解
した液で補充される場合のそれぞれの固体処理剤容積と
水の容積の合計量であり、また固体現像処理剤および固
体定着処理剤と水を別々に補充する場合のそれぞれの固
体処理剤容積と水の容積の合計量である。
【0165】固体処理剤で補充される場合は自動現像機
の処理槽に直接投入する固体処理剤の容積と、別に加え
る補充水の容積を合計した量を表すことが好ましい。そ
の現像補充液および定着補充液はそれぞれ自動現像機の
タンク内の現像母液および定着母液と同じ液でも、異な
った液または固形処理剤でも良い。特に現像液補充量が
1m2当たり120ml以下の場合は、現像補充液は自
動現像機のタンク内の現像母液と異なった液または固体
処理剤であることが好ましく、現像補充液に含まれるメ
ルカプト基を有する銀スラッジ防止剤の量は現像母液に
含まれる量より多いことが好ましく、現像補充液に含ま
れる本発明の一般式(A)で表される化合物または遷移
金属錯塩の量は現像母液に含まれる量の1.2倍〜4倍
の量であることが好ましい。また特に定着液補充量が1
m2当たり150ml以下の場合は、定着現像補充液は
自動現像機のタンク内の定着母液と異なった液または固
体処理剤であることが好ましく、定着補充液に含まれる
チオ硫酸塩の量は定着母液に含まれる量より多いことが
好ましい。
の処理槽に直接投入する固体処理剤の容積と、別に加え
る補充水の容積を合計した量を表すことが好ましい。そ
の現像補充液および定着補充液はそれぞれ自動現像機の
タンク内の現像母液および定着母液と同じ液でも、異な
った液または固形処理剤でも良い。特に現像液補充量が
1m2当たり120ml以下の場合は、現像補充液は自
動現像機のタンク内の現像母液と異なった液または固体
処理剤であることが好ましく、現像補充液に含まれるメ
ルカプト基を有する銀スラッジ防止剤の量は現像母液に
含まれる量より多いことが好ましく、現像補充液に含ま
れる本発明の一般式(A)で表される化合物または遷移
金属錯塩の量は現像母液に含まれる量の1.2倍〜4倍
の量であることが好ましい。また特に定着液補充量が1
m2当たり150ml以下の場合は、定着現像補充液は
自動現像機のタンク内の定着母液と異なった液または固
体処理剤であることが好ましく、定着補充液に含まれる
チオ硫酸塩の量は定着母液に含まれる量より多いことが
好ましい。
【0166】なお、本発明においては、固体処理剤から
なる現像剤及び定着剤を水に溶解することもできる。
なる現像剤及び定着剤を水に溶解することもできる。
【0167】現像、定着、水洗及び/または安定化浴の
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
【0168】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が50秒以下10秒以上であ
ることが好ましい。ここでいう全処理時間とは、黒白感
光材料を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的
には処理に必要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安
定化処理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つま
りDry to Dryの時間である。全処理時間が1
0秒未満では減感、軟調化等で満足な写真性能が得られ
ない。更に好ましくは全処理時間(Dry to Dr
y)が15〜44秒である。また、10m2以上の大量
の感光材料を安定にランニング処理するためには、現像
時間は18秒以下2秒以上であることが好ましい。
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が50秒以下10秒以上であ
ることが好ましい。ここでいう全処理時間とは、黒白感
光材料を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的
には処理に必要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安
定化処理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つま
りDry to Dryの時間である。全処理時間が1
0秒未満では減感、軟調化等で満足な写真性能が得られ
ない。更に好ましくは全処理時間(Dry to Dr
y)が15〜44秒である。また、10m2以上の大量
の感光材料を安定にランニング処理するためには、現像
時間は18秒以下2秒以上であることが好ましい。
【0169】本発明の効果を顕著に発現させるために
は、自動現像機には60℃以上の伝熱体(例えば60℃
〜130℃のヒートローラー等)あるいは150℃以上
の輻射物体(例えばタングステン、炭素、ニクロム、酸
化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混
合物、炭化ケイ素などに直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックなどの放射体に伝達させて発
熱させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥するゾー
ンを持つものが好ましく用いられる。
は、自動現像機には60℃以上の伝熱体(例えば60℃
〜130℃のヒートローラー等)あるいは150℃以上
の輻射物体(例えばタングステン、炭素、ニクロム、酸
化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混
合物、炭化ケイ素などに直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックなどの放射体に伝達させて発
熱させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥するゾー
ンを持つものが好ましく用いられる。
【0170】用いられる60℃以上の伝熱体としては、
ヒートローラーが例として挙げられる。ヒートローラー
はアルミ製の中空とされたローラーの外周部がシリコン
ゴム、ポリウレタン、テフロンによって被覆されている
ことが好ましい。このヒートローラーの両端部は、耐熱
性樹脂(例えば商品名ルーロン)の軸受によって乾燥部
の搬送口近傍内側に配設され側壁に回転自在に軸支され
ていることが好ましい。
ヒートローラーが例として挙げられる。ヒートローラー
はアルミ製の中空とされたローラーの外周部がシリコン
ゴム、ポリウレタン、テフロンによって被覆されている
ことが好ましい。このヒートローラーの両端部は、耐熱
性樹脂(例えば商品名ルーロン)の軸受によって乾燥部
の搬送口近傍内側に配設され側壁に回転自在に軸支され
ていることが好ましい。
【0171】また、ヒートローラーの一方の端部にはギ
アが固着されており、駆動手段及び駆動伝達手段によっ
て搬送方向に回転されることが好ましい。ヒートローラ
ーのローラー内には、ハロゲンヒーターが挿入されてお
り、このハロゲンヒーターは自動現像機に配設された温
度コントローラーに接続されていることが好ましい。
アが固着されており、駆動手段及び駆動伝達手段によっ
て搬送方向に回転されることが好ましい。ヒートローラ
ーのローラー内には、ハロゲンヒーターが挿入されてお
り、このハロゲンヒーターは自動現像機に配設された温
度コントローラーに接続されていることが好ましい。
【0172】また、温度コントローラーには、ヒートロ
ーラーの外周面に接触配置されたサーミスタが接続され
ており、温度コントローラーはサーミスタからの検出温
度が60℃〜150℃、好ましくは70℃〜130℃と
なるように、ハロゲンヒーターをオンオフ制御するよう
になっていることが好ましい。
ーラーの外周面に接触配置されたサーミスタが接続され
ており、温度コントローラーはサーミスタからの検出温
度が60℃〜150℃、好ましくは70℃〜130℃と
なるように、ハロゲンヒーターをオンオフ制御するよう
になっていることが好ましい。
【0173】150℃以上の放射温度を発する輻射物体
としては以下の例が挙げられる。(好ましくは250℃
以上が良い)タングステン、炭素、タンタル、ニクロ
ム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウ
ムの混合物、炭化ケイ素、二ケイ化モリブデン、クロム
酸ランタンに直接電流を通して発熱放射させて放射温度
を制御するか、抵抗発熱体から熱エネルギーを放射体に
伝達させて制御する方法があるが、放射体例として銅、
ステンレス、ニッケル、各種セラミックスなどが挙げら
れる。
としては以下の例が挙げられる。(好ましくは250℃
以上が良い)タングステン、炭素、タンタル、ニクロ
ム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウ
ムの混合物、炭化ケイ素、二ケイ化モリブデン、クロム
酸ランタンに直接電流を通して発熱放射させて放射温度
を制御するか、抵抗発熱体から熱エネルギーを放射体に
伝達させて制御する方法があるが、放射体例として銅、
ステンレス、ニッケル、各種セラミックスなどが挙げら
れる。
【0174】本発明では60℃以上の伝熱体と150℃
以上の反射温度の輻射物体を組み合わせてもよい。又、
従来のような60℃以下の温風を組み合わせてもよい。
以上の反射温度の輻射物体を組み合わせてもよい。又、
従来のような60℃以下の温風を組み合わせてもよい。
【0175】また、本発明には下記に記載された方法及
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
【0176】(1)脱臭装置:特開昭64−37560
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄。
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄。
【0177】(2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平
6−250352号(3)頁「0011」〜(8)頁
「0058」。
6−250352号(3)頁「0011」〜(8)頁
「0058」。
【0178】(3)廃液処理方法:特開平2−6463
8号388(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄。
8号388(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄。
【0179】(4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特
開平4−313749号(18)頁「0054」〜(2
1)頁「0065」。
開平4−313749号(18)頁「0054」〜(2
1)頁「0065」。
【0180】(5)水補充方法:特開平1−28144
6号250(2)頁左下欄〜右下欄。
6号250(2)頁左下欄〜右下欄。
【0181】(6)外気温度湿度検出して自動現像機の
乾燥風を制御する方法:特開平1−315745号49
6(2)頁右下欄〜501(7)頁右下欄および特開平
2−108051号588(2)頁左下欄〜589
(3)頁左下欄。
乾燥風を制御する方法:特開平1−315745号49
6(2)頁右下欄〜501(7)頁右下欄および特開平
2−108051号588(2)頁左下欄〜589
(3)頁左下欄。
【0182】(7)定着廃液の銀回収方法:特開平6−
27623号報(4)頁「0012」〜(7)頁「00
71」。
27623号報(4)頁「0012」〜(7)頁「00
71」。
【0183】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤中の
ハロゲン化銀のハロゲン組成は、塩化銀、50モル%以
上の塩化銀を含む塩臭化銀、50モル%以上の塩化銀を
含む塩沃臭化銀の組成からなるハロゲン化銀乳剤を用い
るのが好ましい。
ハロゲン化銀のハロゲン組成は、塩化銀、50モル%以
上の塩化銀を含む塩臭化銀、50モル%以上の塩化銀を
含む塩沃臭化銀の組成からなるハロゲン化銀乳剤を用い
るのが好ましい。
【0184】ハロゲン化銀の平均粒子サイズは1.2μ
m以下であることが好ましく、特に0.8〜0.1μm
が好ましい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家に
は常用されており、容易に理解される用語である。粒径
とは、粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒
子直径を意味する。粒子が立方体である場合には球に換
算し、その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方
法の詳細については、ミース,ジェームス:ザ・セオリ
ー・オブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.
Mees&T.H.James著:The theor
y of the photographic pro
cess),第3版,36〜43頁(1966年(マク
ミラン「Mcmillan」社刊))を参照すればよ
い。
m以下であることが好ましく、特に0.8〜0.1μm
が好ましい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家に
は常用されており、容易に理解される用語である。粒径
とは、粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒
子直径を意味する。粒子が立方体である場合には球に換
算し、その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方
法の詳細については、ミース,ジェームス:ザ・セオリ
ー・オブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.
Mees&T.H.James著:The theor
y of the photographic pro
cess),第3版,36〜43頁(1966年(マク
ミラン「Mcmillan」社刊))を参照すればよ
い。
【0185】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方
が好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイ
ズ域内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るよ
うな、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方
が好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイ
ズ域内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るよ
うな、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
【0186】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子
を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる
逆混合法)を用いることもできる。同時混合法の一つの
形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを
一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル
ジェット法を用いることができ、この方法によると、結
晶形が規則的で粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳
剤が得られる。
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子
を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる
逆混合法)を用いることもできる。同時混合法の一つの
形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを
一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル
ジェット法を用いることができ、この方法によると、結
晶形が規則的で粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳
剤が得られる。
【0187】本発明の効果を顕著に発現させるために
は、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化
銀乳剤が、平板状粒子を含有し、平板状粒子が使用され
ている乳剤層の全粒子の投影面積の総和の50%以上が
アスペクト比2以上の平板状粒子であることが好まし
い。特に平板状粒子の割合が60%から70%、さらに
80%へと増大するほど好ましい結果が得られる。アス
ペクト比は平板状粒子の投影面積と同一の面積を有する
円の直径と2つの平行平面間距離の比を表す。本発明に
おいて、平板状粒子は、50モル%以上の塩化銀からな
る粒子は(100)を主平面するためアスペクト比とい
う尺度でなく縦横比で表すことができ、その比が1.2
から8が好ましい。また、内部の核形成サイトに沃度を
0.001から1モル%の範囲で含有させることができ
る。塩化銀成分の多い平板粒子は米国特許第5,32
0,938号に記載されている方法を参考にすることが
できる。ハロゲン化銀粒子の内部に0.001モル%以
上10%未満の高沃化銀部位が存在したり、銀核がある
ことは、粒子の耐圧性を向上させるに好ましい。アスペ
クト比あるいは縦横比は大きい程平板になる。平板粒子
の好ましい厚さは0.01〜0.5μになるがアスペク
ト比と平均体積粒子径の設定により任意に選択すること
ができる。また、平板粒子径の分布は、しばしば使用さ
れる変動係数(投影面積を円近似した場合の標準偏差S
を直径Dで割った値S/Dの100倍)が30%以下、
特に20%以下である単分散乳剤であることが好まし
い。また平板粒子と正常晶粒子を2種以上混合すること
ができる。
は、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化
銀乳剤が、平板状粒子を含有し、平板状粒子が使用され
ている乳剤層の全粒子の投影面積の総和の50%以上が
アスペクト比2以上の平板状粒子であることが好まし
い。特に平板状粒子の割合が60%から70%、さらに
80%へと増大するほど好ましい結果が得られる。アス
ペクト比は平板状粒子の投影面積と同一の面積を有する
円の直径と2つの平行平面間距離の比を表す。本発明に
おいて、平板状粒子は、50モル%以上の塩化銀からな
る粒子は(100)を主平面するためアスペクト比とい
う尺度でなく縦横比で表すことができ、その比が1.2
から8が好ましい。また、内部の核形成サイトに沃度を
0.001から1モル%の範囲で含有させることができ
る。塩化銀成分の多い平板粒子は米国特許第5,32
0,938号に記載されている方法を参考にすることが
できる。ハロゲン化銀粒子の内部に0.001モル%以
上10%未満の高沃化銀部位が存在したり、銀核がある
ことは、粒子の耐圧性を向上させるに好ましい。アスペ
クト比あるいは縦横比は大きい程平板になる。平板粒子
の好ましい厚さは0.01〜0.5μになるがアスペク
ト比と平均体積粒子径の設定により任意に選択すること
ができる。また、平板粒子径の分布は、しばしば使用さ
れる変動係数(投影面積を円近似した場合の標準偏差S
を直径Dで割った値S/Dの100倍)が30%以下、
特に20%以下である単分散乳剤であることが好まし
い。また平板粒子と正常晶粒子を2種以上混合すること
ができる。
【0188】これらの平板状粒子のうち、塩化銀50モ
ル%以上を有する(100)面を主平面とする平板状粒
子が好ましく用いられ、これらは米国特許第5,26
4,337号、同第5,314,798号、同第5,3
20,958号等に記載されており、容易に目的の平板
状粒子を得ることができる。平板状粒子は、特定表面部
位に組成の異なるハロゲン化銀をエピタキシャル成長さ
せたり、シェリングさせたりすることができる。また感
光核を制御するために、平板状粒子の表面あるいは内部
に転移線を持たせることもできる。転移線を持たせるに
は沃化銀の微粒子を化学増感時に存在させたり沃素イオ
ンを添加して形成することができる。粒子の調製は、酸
性法,中性法,アンモニア法等適宜選択する事ができ
る。金属をドープする際には、特にpH1〜5の酸性下
で粒子形成をすることが好ましい。平板粒子の形成時に
粒子の成長を制御するためにハロゲン化銀溶剤として例
えばアンモニア,チオエーテル,チオ尿素化合物,チオ
ン化合物などを使用することができる。チオエーテル化
合物として、ドイツ特許第1,147,845号記載の
3,6,9,15,18,21−ヘキサオキサ−12−
チアトリコサン,3,9,15−トリオキサ−6,12
−ジチアヘプタデカン;1,17−ジオキシ−3,9−
15−トリオキサ−6,12−ジチアヘプタデカン−
4,14−ジオン;1,20−ジオキシ−3,9,1
2,18−テトロキサ−6,15,−ジチアエイコサン
−4,17−ジオン;7,10−ジオキサ−4,13−
ジチアヘキサデカン−2,15−ジカルボキサミド。特
開昭56−94347号、同特開平1−121847号
記載のオキサチオエーテル化合物、特開昭63−259
653号、同63−301939号記載の環状オキサチ
オエーテル化合物が挙げられる。特にチオ尿素としては
特開昭53−82408号に記載されているものが有用
である。具体的には、テトラメチルチオ尿素、テトラエ
チルチオ尿素、ジメチルピペリジノチオ尿素、ジモルホ
リノチオ尿素;1,3−ジメチルイミダゾール−2−チ
オン;1,3−ジメチルイミダゾール−4−フェニル−
2−チオン;テトラプロピルチオ尿素などが挙げられ
る。
ル%以上を有する(100)面を主平面とする平板状粒
子が好ましく用いられ、これらは米国特許第5,26
4,337号、同第5,314,798号、同第5,3
20,958号等に記載されており、容易に目的の平板
状粒子を得ることができる。平板状粒子は、特定表面部
位に組成の異なるハロゲン化銀をエピタキシャル成長さ
せたり、シェリングさせたりすることができる。また感
光核を制御するために、平板状粒子の表面あるいは内部
に転移線を持たせることもできる。転移線を持たせるに
は沃化銀の微粒子を化学増感時に存在させたり沃素イオ
ンを添加して形成することができる。粒子の調製は、酸
性法,中性法,アンモニア法等適宜選択する事ができ
る。金属をドープする際には、特にpH1〜5の酸性下
で粒子形成をすることが好ましい。平板粒子の形成時に
粒子の成長を制御するためにハロゲン化銀溶剤として例
えばアンモニア,チオエーテル,チオ尿素化合物,チオ
ン化合物などを使用することができる。チオエーテル化
合物として、ドイツ特許第1,147,845号記載の
3,6,9,15,18,21−ヘキサオキサ−12−
チアトリコサン,3,9,15−トリオキサ−6,12
−ジチアヘプタデカン;1,17−ジオキシ−3,9−
15−トリオキサ−6,12−ジチアヘプタデカン−
4,14−ジオン;1,20−ジオキシ−3,9,1
2,18−テトロキサ−6,15,−ジチアエイコサン
−4,17−ジオン;7,10−ジオキサ−4,13−
ジチアヘキサデカン−2,15−ジカルボキサミド。特
開昭56−94347号、同特開平1−121847号
記載のオキサチオエーテル化合物、特開昭63−259
653号、同63−301939号記載の環状オキサチ
オエーテル化合物が挙げられる。特にチオ尿素としては
特開昭53−82408号に記載されているものが有用
である。具体的には、テトラメチルチオ尿素、テトラエ
チルチオ尿素、ジメチルピペリジノチオ尿素、ジモルホ
リノチオ尿素;1,3−ジメチルイミダゾール−2−チ
オン;1,3−ジメチルイミダゾール−4−フェニル−
2−チオン;テトラプロピルチオ尿素などが挙げられ
る。
【0189】物理熟成時や化学熟成時に亜鉛、鉛、タリ
ウム、イリジウム、ロジウム,ルテニウム、オスミウ
ム、パラジウム、プラチナ等の金属円等を共存させるこ
とができる。高照度特性を得るためにイリジウムを10
-9から10-3の範囲でドープさせることは、ハロゲン化
銀乳剤においてしばしば常用される。本発明において
は、硬調乳剤を得るためにはロジウム、ルテニウム、オ
スミウム及び/またはレニウムをハロゲン化銀1モルあ
たり10-9モルから10-3モルの範囲でドープさせるこ
とが好ましい。
ウム、イリジウム、ロジウム,ルテニウム、オスミウ
ム、パラジウム、プラチナ等の金属円等を共存させるこ
とができる。高照度特性を得るためにイリジウムを10
-9から10-3の範囲でドープさせることは、ハロゲン化
銀乳剤においてしばしば常用される。本発明において
は、硬調乳剤を得るためにはロジウム、ルテニウム、オ
スミウム及び/またはレニウムをハロゲン化銀1モルあ
たり10-9モルから10-3モルの範囲でドープさせるこ
とが好ましい。
【0190】金属化合物を粒子中に添加するときには、
金属にハロゲン、カルボニル、ニトロシル、チオニトロ
シル、アミン、シアン、チオシアン、アンモニア、テル
ロシアン、セレノシアン、ジピリジル、トリピリジル、
フェナンスロリンあるいはこれらの化合物を組み合わせ
て配位させることができる。金属の酸化状態は、最大の
酸化レベルから最低の酸化レベルまで任意に選択するこ
とができる。好ましい配位子としては、特開平2−20
82号、同2−20853号、同2−20854号、同
2−20855号に記載されている6座配位子、アルカ
リ錯塩としては一般的なナトリウム塩、カリウム塩、セ
シウム塩あるいは第1、第2、第3級のアミン塩があ
る。またアコ錯体の形で遷移金属錯塩を形成することが
できる。これらの例として、例えば、K2[RuC
l6]、(NH4)2[RuCl6]、K2[Ru(NO)
Cl4(SCN)]、K2[RuCl5(H2O)]等のよ
うに表すことができる。Ruの部分をRh、Os、R
e、Ir、Pd及びPtに置き換えて表すことができ
る。
金属にハロゲン、カルボニル、ニトロシル、チオニトロ
シル、アミン、シアン、チオシアン、アンモニア、テル
ロシアン、セレノシアン、ジピリジル、トリピリジル、
フェナンスロリンあるいはこれらの化合物を組み合わせ
て配位させることができる。金属の酸化状態は、最大の
酸化レベルから最低の酸化レベルまで任意に選択するこ
とができる。好ましい配位子としては、特開平2−20
82号、同2−20853号、同2−20854号、同
2−20855号に記載されている6座配位子、アルカ
リ錯塩としては一般的なナトリウム塩、カリウム塩、セ
シウム塩あるいは第1、第2、第3級のアミン塩があ
る。またアコ錯体の形で遷移金属錯塩を形成することが
できる。これらの例として、例えば、K2[RuC
l6]、(NH4)2[RuCl6]、K2[Ru(NO)
Cl4(SCN)]、K2[RuCl5(H2O)]等のよ
うに表すことができる。Ruの部分をRh、Os、R
e、Ir、Pd及びPtに置き換えて表すことができ
る。
【0191】ロジウム、ルテニウム、オスミウム及び/
またはレニウム化合物は、ハロゲン化銀粒子形成中に添
加することが好ましい。添加位置としては粒子中に均一
に分布させる方法,コア・シェル構造にしてコア部にあ
るいはシェル部に多く局在させる方法がある。
またはレニウム化合物は、ハロゲン化銀粒子形成中に添
加することが好ましい。添加位置としては粒子中に均一
に分布させる方法,コア・シェル構造にしてコア部にあ
るいはシェル部に多く局在させる方法がある。
【0192】シェル部に多く存在させるほうがしばしば
良い結果が得られる。また、不連続な層構成に局在させ
る以外に連続的に粒子の外側になるに従い、存在量を増
やす方法でもよい。添加量は、ハロゲン化銀1モル当た
り10-9モルから10-3モルの範囲を適宜選択できる。
良い結果が得られる。また、不連続な層構成に局在させ
る以外に連続的に粒子の外側になるに従い、存在量を増
やす方法でもよい。添加量は、ハロゲン化銀1モル当た
り10-9モルから10-3モルの範囲を適宜選択できる。
【0193】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
【0194】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されても、さ
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感,セ
レン増感,テルル増感,還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。硫黄増感剤としては、公知の硫黄増感剤が使
用できるが、好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えば
チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィ
ド化合物等を用いることができる。セレン増感剤として
は、公知のセレン増感剤を用いることができる。例えば
米国特許1623499号、特開昭50−71325
号、特開昭60−150046号等に記載された化合物
を好ましく用いることができる。
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感,セ
レン増感,テルル増感,還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。硫黄増感剤としては、公知の硫黄増感剤が使
用できるが、好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えば
チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィ
ド化合物等を用いることができる。セレン増感剤として
は、公知のセレン増感剤を用いることができる。例えば
米国特許1623499号、特開昭50−71325
号、特開昭60−150046号等に記載された化合物
を好ましく用いることができる。
【0195】テルル増感剤としては、公知のテルル増感
剤を用いることができる。例えば米国特許1,623,
499号、同3,772,031号、同3,320,0
69号等に記載された化合物を好ましく用いることがで
きる。
剤を用いることができる。例えば米国特許1,623,
499号、同3,772,031号、同3,320,0
69号等に記載された化合物を好ましく用いることがで
きる。
【0196】貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
【0197】還元増感剤としては第一錫塩、アミン類、
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
【0198】これらの増感剤は、微粒子分散にして添加
すると増感効果をより高めることができる。また、Ag
I粒子を微粒子分散して化学増感時に添加すると粒子表
面にAgIが形成されて色素増感の効果を高めることが
できる。平板粒子のAgI形成時には、0〜1000本
に及ぶ転移線部分の寄与がしばしば利用される。
すると増感効果をより高めることができる。また、Ag
I粒子を微粒子分散して化学増感時に添加すると粒子表
面にAgIが形成されて色素増感の効果を高めることが
できる。平板粒子のAgI形成時には、0〜1000本
に及ぶ転移線部分の寄与がしばしば利用される。
【0199】本発明に於いて使用できるセレン増感剤は
広範な種類のセレン化合物を含む。例えば、これに関し
ては、米国特許1,574,944号、同1,602,
592号、同1,623,499号、特開昭60−15
0046号、特開平4−25832号、同4−1092
40号、同4−147250号等に記載されている。有
用なセレン増感剤としては、コロイドセレン金属、イソ
セレノシアネート類(例えば、アリルイソセレノシアネ
ート等)、セレノ尿素類(例えば、N,N−ジメチルセ
レノ尿素、N,N,N′−トリエチルセレノ尿素、N,
N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿
素、N,N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロ
プロピルカルボニルセレノ尿素、N,N,N′−トリメ
チル−N′−4−ニトロフェニルカルボニルセレノ尿素
等)、セレノケトン類(例えば、セレノアセトン、セレ
ノアセトフェノン等)、セレノアミド類(例えば、セレ
ノアセトアミド、N,N−ジメチルセレノベンズアミド
等)、セレノカルボン酸類及びセレノエステル類(例え
ば、2−セレノプロピオン酸、メチル−3−セレノブチ
レート等)、セレノフォスフェート類(例えば、トリ−
p−トリセレノフォスフェート、ジフェニルテトラフロ
ロフェニルセレノホスフェート等)、セレナイド類(ジ
エチルセレナイド、ジエチルジセレナイド等)が挙げら
れる。特に、好ましいセレン増感剤は、セレノ尿素類、
セレノアミド類、及びセレンケトン類である。
広範な種類のセレン化合物を含む。例えば、これに関し
ては、米国特許1,574,944号、同1,602,
592号、同1,623,499号、特開昭60−15
0046号、特開平4−25832号、同4−1092
40号、同4−147250号等に記載されている。有
用なセレン増感剤としては、コロイドセレン金属、イソ
セレノシアネート類(例えば、アリルイソセレノシアネ
ート等)、セレノ尿素類(例えば、N,N−ジメチルセ
レノ尿素、N,N,N′−トリエチルセレノ尿素、N,
N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿
素、N,N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロ
プロピルカルボニルセレノ尿素、N,N,N′−トリメ
チル−N′−4−ニトロフェニルカルボニルセレノ尿素
等)、セレノケトン類(例えば、セレノアセトン、セレ
ノアセトフェノン等)、セレノアミド類(例えば、セレ
ノアセトアミド、N,N−ジメチルセレノベンズアミド
等)、セレノカルボン酸類及びセレノエステル類(例え
ば、2−セレノプロピオン酸、メチル−3−セレノブチ
レート等)、セレノフォスフェート類(例えば、トリ−
p−トリセレノフォスフェート、ジフェニルテトラフロ
ロフェニルセレノホスフェート等)、セレナイド類(ジ
エチルセレナイド、ジエチルジセレナイド等)が挙げら
れる。特に、好ましいセレン増感剤は、セレノ尿素類、
セレノアミド類、及びセレンケトン類である。
【0200】これらのセレン増感剤の使用技術の具体例
は、米国特許1,574,944号、同1,602,5
92号、同1,623,499号、同3,297,44
6号、同3,297,447号、同3,320,069
号、同3,408,196号、同3,408,197
号、同3,442,653号、同3,420,670
号、同3,591,385号に開示されている。
は、米国特許1,574,944号、同1,602,5
92号、同1,623,499号、同3,297,44
6号、同3,297,447号、同3,320,069
号、同3,408,196号、同3,408,197
号、同3,442,653号、同3,420,670
号、同3,591,385号に開示されている。
【0201】セレン増感剤の使用量は、使用するセレン
化合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わ
るが、一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-3
モル程度を用いる。また、添加方法は、使用するセレン
化合物の性質に応じて、水またはメタノール、エタノー
ルなどの有機溶媒の単独または混合溶媒に溶解して添加
する方法でも、或いは、ゼラチン溶液と予め混合して添
加する方法でも、特開平4−140739号に開示され
ている方法、即ち、有機溶媒可溶性の重合体との混合溶
液の乳化分散物の形態で添加する方法でも良い。また、
粒子径0.01〜500μの固体分散にして使用するこ
とができる。固体分散の方法は、染料や色素の固体分散
の方法に準じて製造することができる。本発明に於ける
セレン増感剤を用いる化学熟成の温度は、40〜90℃
の範囲が好ましい。より好ましくは、45℃以上80℃
以下である。また、pHは4〜9、pAgは臭化カリウ
ムや塩化ナトリウムなどの水溶性ハロゲン化合物あるい
は硝酸銀で調節して5〜10の範囲が好ましい。
化合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わ
るが、一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-3
モル程度を用いる。また、添加方法は、使用するセレン
化合物の性質に応じて、水またはメタノール、エタノー
ルなどの有機溶媒の単独または混合溶媒に溶解して添加
する方法でも、或いは、ゼラチン溶液と予め混合して添
加する方法でも、特開平4−140739号に開示され
ている方法、即ち、有機溶媒可溶性の重合体との混合溶
液の乳化分散物の形態で添加する方法でも良い。また、
粒子径0.01〜500μの固体分散にして使用するこ
とができる。固体分散の方法は、染料や色素の固体分散
の方法に準じて製造することができる。本発明に於ける
セレン増感剤を用いる化学熟成の温度は、40〜90℃
の範囲が好ましい。より好ましくは、45℃以上80℃
以下である。また、pHは4〜9、pAgは臭化カリウ
ムや塩化ナトリウムなどの水溶性ハロゲン化合物あるい
は硝酸銀で調節して5〜10の範囲が好ましい。
【0202】セレン化合物の他にテルル化合物を使用す
ることができる。テルル化合物は、セレン化合物のSe
をTe原子に置換することにより表すことができる。例
えばN,N−ジメチルテルロ尿素、N,N,N′−トリ
エチルテルロ尿素、N,N,N′−トリメチル−N′−
ヘプタフルオロテルロ尿素、N,N,N′−トリメチル
−N′−4−ニトロフェニルカルボニルテルロ尿素、ジ
フェニルテトラフロロフェニルテルロホスフェート、ジ
フェニルペンタフロロフェニルテルロホスフェート、ト
リフェニルホスフィンセレナイド等である。
ることができる。テルル化合物は、セレン化合物のSe
をTe原子に置換することにより表すことができる。例
えばN,N−ジメチルテルロ尿素、N,N,N′−トリ
エチルテルロ尿素、N,N,N′−トリメチル−N′−
ヘプタフルオロテルロ尿素、N,N,N′−トリメチル
−N′−4−ニトロフェニルカルボニルテルロ尿素、ジ
フェニルテトラフロロフェニルテルロホスフェート、ジ
フェニルペンタフロロフェニルテルロホスフェート、ト
リフェニルホスフィンセレナイド等である。
【0203】ハロゲン化銀乳剤は増感色素により所望の
波長に分光増感できる。用いることができる増感色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオキソノ
ール色素が包含される。これらの色素類には、塩基性異
節環核としてシアニン色素類に通常利用される核のいず
れをも適用できる。すなわち、ピロリン核、オキサゾリ
ン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラ
ゾール核、ピリジン核など;これらの核に脂環式炭化水
素環が融合した核;及びこれらの核に芳香炭化水素環が
融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズインドレニ
ン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナフトオ
キサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール
核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール核、キ
ノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原子上に
置換されていてもよい。メロシアニン色素又は複合メロ
シアニン色素にはケトメチレン構造を有する核として、
ピラゾリン−5−オン核、チオヒダントイン核、2−チ
オオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリジン−
2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツール酸
核などの5〜6員異節環を適用することができる。具体
的には、リサーチ・ディスクロージャー第176巻RD
−17643(1978年12月号)第2・3頁、米国
特許4,425,425号、同4,425,426号に
記載されているものを用いることができる。また増感色
素は米国特許3,485,634号に記載されている超
音波振動を用いて溶解してもよい。その他に本発明の増
感色素を溶解、或いは分散して乳剤中に添加する方法と
しては、米国特許3,482,981号、同3,58
5,195号、同3,469,987号、同3,42
5,835号、同3,342,605号、英国特許1,
271,329号、同1,038,029号、同1,1
21,174号、米国特許3,660,101号、同
3,658,546号に記載の方法を用いることができ
る。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは
特に強色増感の目的でしばしば用いられる。有用な強色
増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を示す物質は
リサーチ・ディスクロージャー(Research D
isclosure)176巻17643(1978年
12月発行)第23頁IVのJ項に記載されている。
波長に分光増感できる。用いることができる増感色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオキソノ
ール色素が包含される。これらの色素類には、塩基性異
節環核としてシアニン色素類に通常利用される核のいず
れをも適用できる。すなわち、ピロリン核、オキサゾリ
ン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラ
ゾール核、ピリジン核など;これらの核に脂環式炭化水
素環が融合した核;及びこれらの核に芳香炭化水素環が
融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズインドレニ
ン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナフトオ
キサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール
核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール核、キ
ノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原子上に
置換されていてもよい。メロシアニン色素又は複合メロ
シアニン色素にはケトメチレン構造を有する核として、
ピラゾリン−5−オン核、チオヒダントイン核、2−チ
オオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリジン−
2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツール酸
核などの5〜6員異節環を適用することができる。具体
的には、リサーチ・ディスクロージャー第176巻RD
−17643(1978年12月号)第2・3頁、米国
特許4,425,425号、同4,425,426号に
記載されているものを用いることができる。また増感色
素は米国特許3,485,634号に記載されている超
音波振動を用いて溶解してもよい。その他に本発明の増
感色素を溶解、或いは分散して乳剤中に添加する方法と
しては、米国特許3,482,981号、同3,58
5,195号、同3,469,987号、同3,42
5,835号、同3,342,605号、英国特許1,
271,329号、同1,038,029号、同1,1
21,174号、米国特許3,660,101号、同
3,658,546号に記載の方法を用いることができ
る。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは
特に強色増感の目的でしばしば用いられる。有用な強色
増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を示す物質は
リサーチ・ディスクロージャー(Research D
isclosure)176巻17643(1978年
12月発行)第23頁IVのJ項に記載されている。
【0204】本発明に用いられる感光材料には、感光材
料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防
止し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の
化合物を含有させることができる。即ちアゾール類、例
えばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニ
トロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール
類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾー
ル類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベン
ズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミ
ノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベン
ゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1
−フェニル−5−メルカプトテトラゾール)等;メルカ
プトピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、例えばトリアザインデン類、テトラザインデン類
(特に4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン類)、ペンタザインデン類等;ベンゼンチオ
スルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン
酸アミド等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知ら
れた多くの化合物を加えることができる。
料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防
止し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の
化合物を含有させることができる。即ちアゾール類、例
えばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニ
トロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール
類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾー
ル類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベン
ズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミ
ノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベン
ゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1
−フェニル−5−メルカプトテトラゾール)等;メルカ
プトピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、例えばトリアザインデン類、テトラザインデン類
(特に4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン類)、ペンタザインデン類等;ベンゼンチオ
スルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン
酸アミド等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知ら
れた多くの化合物を加えることができる。
【0205】本発明に係るハロゲン化銀乳剤の結合剤又
は保護コロイドとしてはゼラチンを用いるのが有利であ
るが、それ以外の親水性コロイドも用いることができ
る。例えばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子との
グラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘
導体、アルギン酸ナトリウム、澱粉誘導体などの糖誘導
体;ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分
アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一ある
いは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用い
ることができる。
は保護コロイドとしてはゼラチンを用いるのが有利であ
るが、それ以外の親水性コロイドも用いることができ
る。例えばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子との
グラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘
導体、アルギン酸ナトリウム、澱粉誘導体などの糖誘導
体;ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分
アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一ある
いは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用い
ることができる。
【0206】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
【0207】本発明のハロゲン化銀乳剤には、寸度安定
性の改良などの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマーの
分散物を含むことができる。例えばアルキル(メタ)ア
クリレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリ
ルアミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アク
リロニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしく
は組合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、
α,β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とする
ポリマーを用いることができる。
性の改良などの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマーの
分散物を含むことができる。例えばアルキル(メタ)ア
クリレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリ
ルアミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アク
リロニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしく
は組合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、
α,β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とする
ポリマーを用いることができる。
【0208】本発明の効果を顕著に発現させるための一
つの方法として、少なくとも一層の構成層中に親水性ポ
リマーを含有することが好ましい。好ましい親水性ポリ
マーとしては、でんぷん、葡萄糖、デキストリン、デキ
ストラン、シクロデキストリン、蔗糖、麦芽糖、キサン
タンガム、カラギーナンなどが挙げられる。親水性ポリ
マーの分子量は600から100万まで適宜選択する事
ができる。処理に際して迅速に処理液に溶出するために
は分子量が低い程よいが、低すぎるとフィルムの膜強度
を劣化させるので400以上は必要である。親水性ポリ
マーを使用するとフィルム擦り傷耐性が劣化するため、
無機のコロイダルシリカ、コロイダル錫,コロイダル亜
鉛、コロイダルチタン、コロイダルイットリウム、コロ
イダルプラセオジウム、ネオジム、ゼオライト、アパタ
イトなどを添加することが好ましい。ゼオライトとして
は、アナルサイト、エリオナイト、モルデナイト、シャ
バサイト、グメリナイト、レビナイトが、また合成ゼオ
ライトとして、ゼオライトA、X、Y、Lなどが挙げら
れる。
つの方法として、少なくとも一層の構成層中に親水性ポ
リマーを含有することが好ましい。好ましい親水性ポリ
マーとしては、でんぷん、葡萄糖、デキストリン、デキ
ストラン、シクロデキストリン、蔗糖、麦芽糖、キサン
タンガム、カラギーナンなどが挙げられる。親水性ポリ
マーの分子量は600から100万まで適宜選択する事
ができる。処理に際して迅速に処理液に溶出するために
は分子量が低い程よいが、低すぎるとフィルムの膜強度
を劣化させるので400以上は必要である。親水性ポリ
マーを使用するとフィルム擦り傷耐性が劣化するため、
無機のコロイダルシリカ、コロイダル錫,コロイダル亜
鉛、コロイダルチタン、コロイダルイットリウム、コロ
イダルプラセオジウム、ネオジム、ゼオライト、アパタ
イトなどを添加することが好ましい。ゼオライトとして
は、アナルサイト、エリオナイト、モルデナイト、シャ
バサイト、グメリナイト、レビナイトが、また合成ゼオ
ライトとして、ゼオライトA、X、Y、Lなどが挙げら
れる。
【0209】アパタイトとしてはヒドロキシアパタイ
ト、フッソアパタイト、塩素アパタイトなどが挙げられ
る。好ましい添加量は、親水性バインダー当たり重量で
1%から200%の割合で添加することができる。上記
無機化合物は、シランカップリング剤で処理する事によ
り乳剤中に添加しても凝集しにくく、塗布液を安定にす
ることが出来る。また、無機化合物によるひび割れを防
止することができる。シランカップリング剤として、ト
リエトキシシラノビニル、トリメトキシシラノビニル,
トリメトキシプロピルメタアクリレート、トリメトキシ
シラノプロピルグリシジル、1−メルカプト−3−トリ
エトキシシラノプロパン、1−アミノ−3−トリエトキ
シシラノプロパン、トリエトキシシラノフェニル、トリ
エトキシメチルシランなどが挙げられる。
ト、フッソアパタイト、塩素アパタイトなどが挙げられ
る。好ましい添加量は、親水性バインダー当たり重量で
1%から200%の割合で添加することができる。上記
無機化合物は、シランカップリング剤で処理する事によ
り乳剤中に添加しても凝集しにくく、塗布液を安定にす
ることが出来る。また、無機化合物によるひび割れを防
止することができる。シランカップリング剤として、ト
リエトキシシラノビニル、トリメトキシシラノビニル,
トリメトキシプロピルメタアクリレート、トリメトキシ
シラノプロピルグリシジル、1−メルカプト−3−トリ
エトキシシラノプロパン、1−アミノ−3−トリエトキ
シシラノプロパン、トリエトキシシラノフェニル、トリ
エトキシメチルシランなどが挙げられる。
【0210】シランカップリング剤は、上記無機化合物
と一緒に高温処理することにより、単純混合よりも特性
を向上させることができる。混合比は1:100から1
00:1の範囲で選択するのがよい。
と一緒に高温処理することにより、単純混合よりも特性
を向上させることができる。混合比は1:100から1
00:1の範囲で選択するのがよい。
【0211】本発明の効果を更に顕著に発現させるため
には、ハロゲン化銀乳剤層の反対側に少なくとも一層の
親水性コロイド層を有し、その外側に少なくとも一層の
疎水性ポリマー層を有することが好ましい。ここでは、
ハロゲン化銀写真乳剤層の反対側の親水性コロイド層と
は、いわゆるバック層を含む。本発明においては、バッ
ク層の外側に少なくとも一層の疎水性ポリマー層を有す
る構成が好ましい。
には、ハロゲン化銀乳剤層の反対側に少なくとも一層の
親水性コロイド層を有し、その外側に少なくとも一層の
疎水性ポリマー層を有することが好ましい。ここでは、
ハロゲン化銀写真乳剤層の反対側の親水性コロイド層と
は、いわゆるバック層を含む。本発明においては、バッ
ク層の外側に少なくとも一層の疎水性ポリマー層を有す
る構成が好ましい。
【0212】本発明における、疎水性ポリマー層とは疎
水性ポリマーをバインダーとする層である。ポリマー層
のバインダーの具体例として、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニル、ウレ
タン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、テトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビ
ニリデン等のフッ素系樹脂、ブタジエンゴム、クロロプ
レンゴム、天然ゴム等のゴム類、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリエチルアクリレート等のアクリル酸又はメタ
クリル酸のエステル、ポリエチレンフタレート等のポリ
エステル樹脂、ナイロン6,ナイロン66等のポリアミ
ド樹脂、セルローストリアセテート等のセルロース樹
脂、シリコーン樹脂などの水不溶性ポリマー又は、これ
らの誘導体を挙げることができる。更にポリマー層のバ
インダーとして、1種類のモノマーから成るホモポリマ
ーでも、2種類以上のモノマーから成るコポリマーでも
良い。特に好ましいバインダーとしては、アルキルアク
リレート又はアルキルメタクリレートとアクリル酸又は
メタクリル酸のコポリマー(アクリル酸又はメタクリル
酸は5モル%以下が好ましい)、スチレン−ブタジエン
コポリマー、スチレン−ブタジエン−アクリル酸コポリ
マー(アクリル酸は5モル%以下が好ましい)、スチレ
ン−ブタジエン−ジビニルベンゼン−メタクリル酸コポ
リマー(メタクリル酸は5モル%以下が好ましい)、酢
酸ビニル−エチレン−アクリル酸コポリマー(アクリル
酸は5モル%以下)、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル−メチルメタクリレート−エチルアクリレート−アク
リル酸コポリマー(アクリル酸5モル%以下)、エチル
アクリレート−グリシジルメタクリレート−アクリル酸
コポリマー等である。これらは1種類を単独で用いても
よいし2種以上を併用して用いてもよい。
水性ポリマーをバインダーとする層である。ポリマー層
のバインダーの具体例として、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニル、ウレ
タン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、テトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビ
ニリデン等のフッ素系樹脂、ブタジエンゴム、クロロプ
レンゴム、天然ゴム等のゴム類、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリエチルアクリレート等のアクリル酸又はメタ
クリル酸のエステル、ポリエチレンフタレート等のポリ
エステル樹脂、ナイロン6,ナイロン66等のポリアミ
ド樹脂、セルローストリアセテート等のセルロース樹
脂、シリコーン樹脂などの水不溶性ポリマー又は、これ
らの誘導体を挙げることができる。更にポリマー層のバ
インダーとして、1種類のモノマーから成るホモポリマ
ーでも、2種類以上のモノマーから成るコポリマーでも
良い。特に好ましいバインダーとしては、アルキルアク
リレート又はアルキルメタクリレートとアクリル酸又は
メタクリル酸のコポリマー(アクリル酸又はメタクリル
酸は5モル%以下が好ましい)、スチレン−ブタジエン
コポリマー、スチレン−ブタジエン−アクリル酸コポリ
マー(アクリル酸は5モル%以下が好ましい)、スチレ
ン−ブタジエン−ジビニルベンゼン−メタクリル酸コポ
リマー(メタクリル酸は5モル%以下が好ましい)、酢
酸ビニル−エチレン−アクリル酸コポリマー(アクリル
酸は5モル%以下)、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル−メチルメタクリレート−エチルアクリレート−アク
リル酸コポリマー(アクリル酸5モル%以下)、エチル
アクリレート−グリシジルメタクリレート−アクリル酸
コポリマー等である。これらは1種類を単独で用いても
よいし2種以上を併用して用いてもよい。
【0213】本発明における疎水性ポリマー層には、必
要に応じてマット剤、界面活性剤、染料、すべり剤、架
橋剤、増粘剤、UV吸収剤、コロイダルシリカ等の無機
微粒子などの写真用添加剤を添加してもよい。これらの
添加剤についてもリサーチ・ディスクロージャー誌17
6巻17646項(1978年12月)の記載などを参
考にすることができる。
要に応じてマット剤、界面活性剤、染料、すべり剤、架
橋剤、増粘剤、UV吸収剤、コロイダルシリカ等の無機
微粒子などの写真用添加剤を添加してもよい。これらの
添加剤についてもリサーチ・ディスクロージャー誌17
6巻17646項(1978年12月)の記載などを参
考にすることができる。
【0214】本発明における疎水性ポリマー層は1層で
あっても2層以上であっても良い。本発明のポリマー層
の厚みには特に制限はない。しかし疎水性ポリマー層の
厚みが小さ過ぎる場合、疎水性ポリマー層の耐水性が不
充分となり、バック層が処理液に膨潤する様になってし
まい不適切である。逆に疎水性ポリマー層の厚みが大き
過ぎる場合、ポリマー層の水蒸気透過性が不充分とな
り、バック層の親水性コロイド層の吸脱湿が阻害されて
カールが不良となってしまう。勿論疎水性ポリマー層の
厚みは用いるバインダーの物性値にも依存する。従って
ポリマー層厚みは、この両者を考慮して決定する必要が
ある。疎水性ポリマー層の好ましい厚みは、疎水性ポリ
マー層のバインダー種にもよるが、0.05〜10μ
m、より好ましくは0.1〜5μmの範囲である。なお
本発明における疎水性ポリマー層が2層以上から成る場
合には、すべての疎水性ポリマー層の厚みの和を本発明
における感光材料の疎水性ポリマー層の厚みとする。
あっても2層以上であっても良い。本発明のポリマー層
の厚みには特に制限はない。しかし疎水性ポリマー層の
厚みが小さ過ぎる場合、疎水性ポリマー層の耐水性が不
充分となり、バック層が処理液に膨潤する様になってし
まい不適切である。逆に疎水性ポリマー層の厚みが大き
過ぎる場合、ポリマー層の水蒸気透過性が不充分とな
り、バック層の親水性コロイド層の吸脱湿が阻害されて
カールが不良となってしまう。勿論疎水性ポリマー層の
厚みは用いるバインダーの物性値にも依存する。従って
ポリマー層厚みは、この両者を考慮して決定する必要が
ある。疎水性ポリマー層の好ましい厚みは、疎水性ポリ
マー層のバインダー種にもよるが、0.05〜10μ
m、より好ましくは0.1〜5μmの範囲である。なお
本発明における疎水性ポリマー層が2層以上から成る場
合には、すべての疎水性ポリマー層の厚みの和を本発明
における感光材料の疎水性ポリマー層の厚みとする。
【0215】本発明における疎水性ポリマー層を塗設す
る方法に特に制限はない。バック層を塗布乾燥した後
に、バック層上にポリマー層を塗布しその後乾燥しても
良いし、バック層と疎水性ポリマー層を同時に塗布し、
その後乾燥してもよい。疎水性ポリマー層はポリマー層
のバインダーの溶媒に溶解して溶剤系で塗布しても良い
し、バインダーのポリマーの水分散物を用いて、水系で
塗布してもよい。
る方法に特に制限はない。バック層を塗布乾燥した後
に、バック層上にポリマー層を塗布しその後乾燥しても
良いし、バック層と疎水性ポリマー層を同時に塗布し、
その後乾燥してもよい。疎水性ポリマー層はポリマー層
のバインダーの溶媒に溶解して溶剤系で塗布しても良い
し、バインダーのポリマーの水分散物を用いて、水系で
塗布してもよい。
【0216】本発明の黒白感光材料の乳剤層の反対側の
面には、支持体上に接着層/帯電防止層/親水性コロイ
ドを含有するバック層/疎水性ポリマー層を設けること
が好ましい。更にその上に保護層を設けてもよい。接着
層としてはコロナ放電した支持体上に塩化ビニリデン共
重合体やスチレン−グリシジルアクリレート共重合体を
0.1〜1μmの厚さで塗布した後、インジウムやリン
をドープした平均粒子径0.01μm〜1μmの酸化
錫、5酸化バナジウムの微粒子を含むゼラチン層で塗布
して得ることができる。また、スチレンスルホン酸とマ
レイン酸共重合体を前述したアジリジンやカルボニル活
性型の架橋剤で造膜して設けることができる。これら帯
電防止層の上に染料バック層を設けることができる。こ
れらの層中には、コロイダルシリカなどの寸法安定のた
めの無機充填物や接着防止のシリカやメタクリル酸メチ
ルマット剤、搬送性の制御のためのシリコン系滑り剤あ
るいは剥離剤などを含有させることができる。バック層
にはバッキング染料を含有してもよく、バッキング染料
としては、ベンジリデン染料やオキソノール染料が使用
される。これらアルカリ可溶性あるいは分解性染料を微
粒子にして固定しておくこともできる。ハレーション防
止のための濃度としては、各感光性波長で0.1〜2.
0までの濃度であることが好ましい。
面には、支持体上に接着層/帯電防止層/親水性コロイ
ドを含有するバック層/疎水性ポリマー層を設けること
が好ましい。更にその上に保護層を設けてもよい。接着
層としてはコロナ放電した支持体上に塩化ビニリデン共
重合体やスチレン−グリシジルアクリレート共重合体を
0.1〜1μmの厚さで塗布した後、インジウムやリン
をドープした平均粒子径0.01μm〜1μmの酸化
錫、5酸化バナジウムの微粒子を含むゼラチン層で塗布
して得ることができる。また、スチレンスルホン酸とマ
レイン酸共重合体を前述したアジリジンやカルボニル活
性型の架橋剤で造膜して設けることができる。これら帯
電防止層の上に染料バック層を設けることができる。こ
れらの層中には、コロイダルシリカなどの寸法安定のた
めの無機充填物や接着防止のシリカやメタクリル酸メチ
ルマット剤、搬送性の制御のためのシリコン系滑り剤あ
るいは剥離剤などを含有させることができる。バック層
にはバッキング染料を含有してもよく、バッキング染料
としては、ベンジリデン染料やオキソノール染料が使用
される。これらアルカリ可溶性あるいは分解性染料を微
粒子にして固定しておくこともできる。ハレーション防
止のための濃度としては、各感光性波長で0.1〜2.
0までの濃度であることが好ましい。
【0217】本発明のハロゲン化銀乳剤及び非感光性の
親水性コロイド層には無機又は有機の硬膜剤を、ゼラチ
ン等の親水性コロイドの架橋剤として添加される。例え
ばクロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアル
デヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿
素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン
誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビ
ニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒ
ドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチ
ルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニル
スルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化
合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリア
ジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキ
シムコクロル酸等)イソオキサゾール類、ジアルデヒド
澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラ
チン、カルボキシル基活性化型硬膜剤等を、単独又は組
み合わせて用いることができる。
親水性コロイド層には無機又は有機の硬膜剤を、ゼラチ
ン等の親水性コロイドの架橋剤として添加される。例え
ばクロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアル
デヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿
素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン
誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビ
ニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒ
ドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチ
ルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニル
スルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化
合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリア
ジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキ
シムコクロル酸等)イソオキサゾール類、ジアルデヒド
澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラ
チン、カルボキシル基活性化型硬膜剤等を、単独又は組
み合わせて用いることができる。
【0218】これらの硬膜剤はリサーチ・ディスクロー
ジャー(Research Disclosure)1
76巻17643(1978年12月発行)第26頁の
A〜C項に記載されている。
ジャー(Research Disclosure)1
76巻17643(1978年12月発行)第26頁の
A〜C項に記載されている。
【0219】本発明のハロゲン化銀乳剤層及び/又は非
感光性の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防止、
滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良など
種々の目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよい。
感光性の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防止、
滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良など
種々の目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよい。
【0220】各層にはゼラチンの他にデキストリン類、
澱粉、ブドウ糖など親水性ポリマーや疎水性のラテック
スを導入して膨潤度を調節することができる。膨潤度と
しては120から200位までが一般的である。各層の
乾燥は、水分の蒸発速度に応じて温度、時間を調節す
る。温度として25℃〜200℃、時間として0.1秒
から200秒位までが一般的に適用される。膨潤度は、
水中に浸して顕微鏡で測定したり、膨潤度計で求めるこ
とができる。膨潤度として、乾燥膜厚=Ld(23℃5
0%の相対湿度で24時間調湿後の膜厚)に対して23
℃の水中での膨潤した厚さLwの比(Lw/Ld)に1
00を掛けた値を指標とすることができる。
澱粉、ブドウ糖など親水性ポリマーや疎水性のラテック
スを導入して膨潤度を調節することができる。膨潤度と
しては120から200位までが一般的である。各層の
乾燥は、水分の蒸発速度に応じて温度、時間を調節す
る。温度として25℃〜200℃、時間として0.1秒
から200秒位までが一般的に適用される。膨潤度は、
水中に浸して顕微鏡で測定したり、膨潤度計で求めるこ
とができる。膨潤度として、乾燥膜厚=Ld(23℃5
0%の相対湿度で24時間調湿後の膜厚)に対して23
℃の水中での膨潤した厚さLwの比(Lw/Ld)に1
00を掛けた値を指標とすることができる。
【0221】表面張力や濡れ指数の求め方は、JISを
参考にして求めることができる。
参考にして求めることができる。
【0222】本発明に使用するハロゲン化銀乳剤層側の
膜面pHは、pH4.5以上pH5.8以下であること
が好ましい。膜面pHとは、塗布乾燥後に測定するpH
であり、測定は、被測定部1cm2当たりに1mlの純
水を滴下してpH測定計で求める。pHを下げるとき
は、クエン酸、シュウ酸、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、炭
酸などの酸で、またpHを上げるときは、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、酢酸ナトリウムなどのアルカリ剤を使用するこ
とができる。写真添加剤を使用するときにpHを調節す
るときも同様の方法を適用できる。
膜面pHは、pH4.5以上pH5.8以下であること
が好ましい。膜面pHとは、塗布乾燥後に測定するpH
であり、測定は、被測定部1cm2当たりに1mlの純
水を滴下してpH測定計で求める。pHを下げるとき
は、クエン酸、シュウ酸、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、炭
酸などの酸で、またpHを上げるときは、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、酢酸ナトリウムなどのアルカリ剤を使用するこ
とができる。写真添加剤を使用するときにpHを調節す
るときも同様の方法を適用できる。
【0223】本発明に用いられる感光材料には、その他
の種々の添加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑
剤、滑り剤、現像促進剤、オイルなどが挙げられる。
の種々の添加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑
剤、滑り剤、現像促進剤、オイルなどが挙げられる。
【0224】本発明に用いられる支持体は、透過性,非
透過性どちらのものでもよいが、本発明の目的には、好
ましくは透過性のプラスチック支持体がよい。プラスチ
ック支持体には、ポリエチレン化合物(例えばポリエチ
レンテレフタレート,ポリエチレンナフタレート等)、
トリアセテート化合物(例えばトリアセテートセルロー
ス等)、ポリスチレン化合物等からなる支持体が用いら
れる。その中でも、本発明においては、自動現像機での
乾燥性及び寸法安定性能を向上させるためには、シンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体あるいはそ
れを含む組成物からなる延伸フィルムからなる支持体
(以下SPSと略す)が特に好ましい。SPSとは、そ
の構成単位が、シンジオタクチックな立体規則性をもつ
SPS単位から構成されているホモポリマーを指すが、
少量例えば20モル%以下、好ましくは10モル%以
下、更に好ましくは5モル%以下の第2成分によって改
質されたSPSも含まれる。第2成分としては、例えば
エチレン,プロピレン,ブテン,ヘキセン等のオレフィ
ンモノマー、ブタジエン,イソプレン等のジエンモノマ
ー、環状オレフィンモノマー、環状ジエンモノマーやメ
タクリル酸メチル,無水マレイン酸,アクリロニトリル
等の極性ビニルモノマー等を含むものが挙げられる。一
般に有機金属触媒を使用してスチレンまたはその誘導体
から適当な反応条件のもとに重合せしめることによって
製造される。シジオタクチックポリスチレンとは、ラッ
セミダイアッドでその75%以上、このましくは80%
以上、またはラセミペンタッドで30%以上、好ましく
は50%以上の立体規則性を有するものである。その場
合、第2成分として一般のプラスチック可塑剤を曲げ弾
性率を劣化させない範囲で添加することができるし、こ
のようなことは適切な曲げ弾性率を得るために行われ
る。
透過性どちらのものでもよいが、本発明の目的には、好
ましくは透過性のプラスチック支持体がよい。プラスチ
ック支持体には、ポリエチレン化合物(例えばポリエチ
レンテレフタレート,ポリエチレンナフタレート等)、
トリアセテート化合物(例えばトリアセテートセルロー
ス等)、ポリスチレン化合物等からなる支持体が用いら
れる。その中でも、本発明においては、自動現像機での
乾燥性及び寸法安定性能を向上させるためには、シンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体あるいはそ
れを含む組成物からなる延伸フィルムからなる支持体
(以下SPSと略す)が特に好ましい。SPSとは、そ
の構成単位が、シンジオタクチックな立体規則性をもつ
SPS単位から構成されているホモポリマーを指すが、
少量例えば20モル%以下、好ましくは10モル%以
下、更に好ましくは5モル%以下の第2成分によって改
質されたSPSも含まれる。第2成分としては、例えば
エチレン,プロピレン,ブテン,ヘキセン等のオレフィ
ンモノマー、ブタジエン,イソプレン等のジエンモノマ
ー、環状オレフィンモノマー、環状ジエンモノマーやメ
タクリル酸メチル,無水マレイン酸,アクリロニトリル
等の極性ビニルモノマー等を含むものが挙げられる。一
般に有機金属触媒を使用してスチレンまたはその誘導体
から適当な反応条件のもとに重合せしめることによって
製造される。シジオタクチックポリスチレンとは、ラッ
セミダイアッドでその75%以上、このましくは80%
以上、またはラセミペンタッドで30%以上、好ましく
は50%以上の立体規則性を有するものである。その場
合、第2成分として一般のプラスチック可塑剤を曲げ弾
性率を劣化させない範囲で添加することができるし、こ
のようなことは適切な曲げ弾性率を得るために行われ
る。
【0225】SPSはスチレンまたはその誘導体をチタ
ン化合物およびトリアルキルアルミニウムの縮合生成物
の触媒の存在下で適当な反応温度で重合させることで合
成できる。これらは、特開昭62−187708号公
報、特開平1−46912号公報、同1−178505
号公報に記載された方法を参考にすることができる。S
PSの重合度は特に制限はないが、1万以上、500万
以下のものが好ましく使用できる。SPSの曲げ弾性率
を高くするには、最適な延伸条件を選択する必要があ
る。未延伸フィルムのガラス転移点より30℃±25℃
の点、即ち、120℃±25℃で先ず縦に3.3±0.
3倍に延伸する。次に同じ温度条件で3.6±0.6倍
に横に延伸する。延伸後の熱処理は230±18℃で行
う。熱処理は1段だけでなく2段で熱処理すると良い結
果が得られる。かくして曲げ弾性率が350kg/mm
2以上のSPSフィルムが製造される。
ン化合物およびトリアルキルアルミニウムの縮合生成物
の触媒の存在下で適当な反応温度で重合させることで合
成できる。これらは、特開昭62−187708号公
報、特開平1−46912号公報、同1−178505
号公報に記載された方法を参考にすることができる。S
PSの重合度は特に制限はないが、1万以上、500万
以下のものが好ましく使用できる。SPSの曲げ弾性率
を高くするには、最適な延伸条件を選択する必要があ
る。未延伸フィルムのガラス転移点より30℃±25℃
の点、即ち、120℃±25℃で先ず縦に3.3±0.
3倍に延伸する。次に同じ温度条件で3.6±0.6倍
に横に延伸する。延伸後の熱処理は230±18℃で行
う。熱処理は1段だけでなく2段で熱処理すると良い結
果が得られる。かくして曲げ弾性率が350kg/mm
2以上のSPSフィルムが製造される。
【0226】このような曲げ弾性率の高いフィルムは、
写真層をそのまま塗設して強固に接着させることは難し
い。その方法について多くの特許や文献があることは、
特開平3−54551号3〜4頁に記載してあるので参
考にすることができる。
写真層をそのまま塗設して強固に接着させることは難し
い。その方法について多くの特許や文献があることは、
特開平3−54551号3〜4頁に記載してあるので参
考にすることができる。
【0227】例えば、表面処理に関しては、コロナ放電
処理することや更に下塗層を塗設することが述べられて
いる。下塗り層として、塩化ビニリデン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等などが
挙げられる。
処理することや更に下塗層を塗設することが述べられて
いる。下塗り層として、塩化ビニリデン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等などが
挙げられる。
【0228】支持体の厚みとしては好ましくは50〜2
50μm、特に好ましくは70〜200μmである。
50μm、特に好ましくは70〜200μmである。
【0229】更に支持体の巻き癖,カールを向上せるに
は製膜後熱処理をすることが好ましい。最も好ましいの
は製膜後乳剤塗布後の間であるが,乳剤塗布後であって
もよい。熱処理の条件は45℃以上ガラス転移温度以下
で1秒から10日の間が好ましい。生産性の点から1時
間以内にすることが好ましい。
は製膜後熱処理をすることが好ましい。最も好ましいの
は製膜後乳剤塗布後の間であるが,乳剤塗布後であって
もよい。熱処理の条件は45℃以上ガラス転移温度以下
で1秒から10日の間が好ましい。生産性の点から1時
間以内にすることが好ましい。
【0230】本発明において、下記に記載された化合物
をハロゲン化銀写真感光材料中に含有させることが好ま
しい。
をハロゲン化銀写真感光材料中に含有させることが好ま
しい。
【0231】(1)染料の固体分散微粒子体 特開平7−5629号公報(3)頁[0017]〜(1
6)頁[0042]記載の化合物 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報292(8)頁左下欄
11行目 〜309(25)頁右下欄3行目記載の化合
物 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁[0036]
〜(17)頁[0062]記載の化合物 (4)増感色素 特開平5−224330号公報(3)頁[0017]〜
(13)頁[0040]記載の化合物 特開平6−194771号公報(11)頁[0042]
〜(22)頁[0094]記載の化合物 特開平6−242533号公報(2)頁[0015]〜
(8)頁[0034]記載の化合物 特開平6−337492号公報(3)頁[0012]〜
(34)頁[0056]記載の化合物 特開平6−337494号公報(4)頁[0013]〜
(14)頁[0039]記載の化合物 (5)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁[0011]〜
(16)頁[0066]記載の化合物 (6)レドックス化合物 特開平4−245243号公報235(7)頁〜250
(22)頁記載の化合物 前述の添加剤およびその他の公知の添加剤については、
例えばリサーチ・ディスクロージャーNo.17643
(1978年12月)、同No.18716(1979
年11月)及び同No.308119(1989年12
月)に記載された化合物が挙げられる。これら三つのリ
サーチ・ディスクロージャーに示されている化合物種類
と記載箇所を下記に掲載した。
6)頁[0042]記載の化合物 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報292(8)頁左下欄
11行目 〜309(25)頁右下欄3行目記載の化合
物 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁[0036]
〜(17)頁[0062]記載の化合物 (4)増感色素 特開平5−224330号公報(3)頁[0017]〜
(13)頁[0040]記載の化合物 特開平6−194771号公報(11)頁[0042]
〜(22)頁[0094]記載の化合物 特開平6−242533号公報(2)頁[0015]〜
(8)頁[0034]記載の化合物 特開平6−337492号公報(3)頁[0012]〜
(34)頁[0056]記載の化合物 特開平6−337494号公報(4)頁[0013]〜
(14)頁[0039]記載の化合物 (5)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁[0011]〜
(16)頁[0066]記載の化合物 (6)レドックス化合物 特開平4−245243号公報235(7)頁〜250
(22)頁記載の化合物 前述の添加剤およびその他の公知の添加剤については、
例えばリサーチ・ディスクロージャーNo.17643
(1978年12月)、同No.18716(1979
年11月)及び同No.308119(1989年12
月)に記載された化合物が挙げられる。これら三つのリ
サーチ・ディスクロージャーに示されている化合物種類
と記載箇所を下記に掲載した。
【0232】 添加剤 RD−17643 RD−18716 RD−308119 頁 分類 頁 分類 頁 分類 化学増感剤 23 III 648右上 996 III 増感色素 23 IV 648〜649 996〜8 IV 減感色素 23 IV 998 B 染料 25〜26 VIII 649〜650 1003 VIII 現像促進剤 29 XXI 648右上 カブリ抑制剤・安定剤 24 IV 649右上 1006〜7 VI 増白剤 24 V 998 V 硬膜剤 26 X 651左 1004〜5 X 界面活性剤 26〜7 XI 650右 1005〜6 XI 帯電防止剤 27 XII 650右 1006〜7 XIII 可塑剤 27 XII 650右 1006 XII スベリ剤 27 XII マット剤 28 XVI 650右 1008〜9 XVI バインダー 26 XXII 1003〜4 IX 支持体 28 XVII 1009 XVII 本発明に使用する各種写真添加剤は、水溶液や有機溶媒
に溶かして使用してもよいが、水に難溶性の場合、微粒
子結晶状態にして水,ゼラチン,親水性あるは疎水性ポ
リマー中に分散させて使用することができる。本発明の
染料,色素,減感色素,ヒドラジン,レドックス化合
物,カブリ抑制剤,紫外線吸収剤等を分散するには、公
知の分散機で分散できる。具体的には、ボールミル,サ
ンドミル,コロイドミル,超音波分散機,高速インペラ
ー分散機が挙げられる。本発明において分散されたこれ
らの写真添加剤は、100μ以下の平均粒子サイズを有
する微粒子であるが、通常0.02〜10μの平均微粒
子径で使用される。分散方法として機械的に高速撹拌す
る方法(特開昭58−105141号)、有機溶媒で加
熱溶解してこれを前記した表面活性剤や消泡剤の入った
ゼラチン、親水性ポリマー添加しながら分散して有機溶
媒を除いていく方法(特開昭44−22948号)クエ
ン酸,酢酸,硫酸,塩酸,リンゴ酸等の酸に溶かしたも
のをpH4.5から7.5のポリマー中に結晶析出分散
する方法(特開昭50−80119号)、水酸化ナトリ
ウム,炭酸水素ナトリウム,炭酸ナトリウム等のアルカ
リに溶かしてpH4.5から7.5のゼラチンなどのポ
リマーに結晶析出分散する方法(特開平2−15252
号)等を適用することができる。例えば、水に溶けにく
いヒドラジンは特開平2−3033号明細書を参考にし
て溶かすことができ、この方法を他の添加剤に適用する
ことができる。また、カルボキシルを有する染料や増感
色素、抑制剤などはカルボキシル基のキレート能力を活
かして微粒子結晶の固定化率を上げることができる。即
ちカルシウムイオンやマグネシムイオンなどを200か
ら4000ppm親水性コロイド層中に添加することに
より難溶性の塩にすることが好ましい。難溶性の塩を形
成することができれば他の塩を使用することを限定する
ものではない。写真添加剤の微粒子分散方法は、増感
剤,染料,抑制剤,促進剤,硬調化剤,硬調化助剤など
に適用することはその化学的物理的性質に合わせて任意
にできる。
に溶かして使用してもよいが、水に難溶性の場合、微粒
子結晶状態にして水,ゼラチン,親水性あるは疎水性ポ
リマー中に分散させて使用することができる。本発明の
染料,色素,減感色素,ヒドラジン,レドックス化合
物,カブリ抑制剤,紫外線吸収剤等を分散するには、公
知の分散機で分散できる。具体的には、ボールミル,サ
ンドミル,コロイドミル,超音波分散機,高速インペラ
ー分散機が挙げられる。本発明において分散されたこれ
らの写真添加剤は、100μ以下の平均粒子サイズを有
する微粒子であるが、通常0.02〜10μの平均微粒
子径で使用される。分散方法として機械的に高速撹拌す
る方法(特開昭58−105141号)、有機溶媒で加
熱溶解してこれを前記した表面活性剤や消泡剤の入った
ゼラチン、親水性ポリマー添加しながら分散して有機溶
媒を除いていく方法(特開昭44−22948号)クエ
ン酸,酢酸,硫酸,塩酸,リンゴ酸等の酸に溶かしたも
のをpH4.5から7.5のポリマー中に結晶析出分散
する方法(特開昭50−80119号)、水酸化ナトリ
ウム,炭酸水素ナトリウム,炭酸ナトリウム等のアルカ
リに溶かしてpH4.5から7.5のゼラチンなどのポ
リマーに結晶析出分散する方法(特開平2−15252
号)等を適用することができる。例えば、水に溶けにく
いヒドラジンは特開平2−3033号明細書を参考にし
て溶かすことができ、この方法を他の添加剤に適用する
ことができる。また、カルボキシルを有する染料や増感
色素、抑制剤などはカルボキシル基のキレート能力を活
かして微粒子結晶の固定化率を上げることができる。即
ちカルシウムイオンやマグネシムイオンなどを200か
ら4000ppm親水性コロイド層中に添加することに
より難溶性の塩にすることが好ましい。難溶性の塩を形
成することができれば他の塩を使用することを限定する
ものではない。写真添加剤の微粒子分散方法は、増感
剤,染料,抑制剤,促進剤,硬調化剤,硬調化助剤など
に適用することはその化学的物理的性質に合わせて任意
にできる。
【0233】本発明の2層から10層の複数の構成層を
1分当たり30から1000メートルの高速で同時塗布
するには米国特許第3,636,374号、同3,50
8,947号明細書記載の公知のスライドホッパー式あ
るいはカーテン塗布を使用することができる。塗布時の
ムラを少なくするには、塗布液の表面張力を下げること
や、剪断力により粘度が低下するチキソトロピック性を
付与できる前記親水性ポリマーを使用することが好まし
い。
1分当たり30から1000メートルの高速で同時塗布
するには米国特許第3,636,374号、同3,50
8,947号明細書記載の公知のスライドホッパー式あ
るいはカーテン塗布を使用することができる。塗布時の
ムラを少なくするには、塗布液の表面張力を下げること
や、剪断力により粘度が低下するチキソトロピック性を
付与できる前記親水性ポリマーを使用することが好まし
い。
【0234】本発明における感光材料にはクロスオーバ
ーカット層や帯電防止層、アンチハレーション層、バッ
クコート層を設けても良い。
ーカット層や帯電防止層、アンチハレーション層、バッ
クコート層を設けても良い。
【0235】本発明の感光材料を包装する方法として公
知の方法を使用する。
知の方法を使用する。
【0236】感光材料は熱、湿度に弱いので過酷な条件
で保存することは避けるのが好ましい。一般的には、5
℃から30℃に保存するのが良い。湿度は相対湿度で3
5%から60%の間にするのがよい。湿度から守るため
に1〜2000μのポリエチレンに包装することが一般
に行われている。ポリエチレンは、メタロセン触媒を使
用することにより結晶の規則性を向上させることにより
水分の透過を抑制させることができる。また、ポリエチ
レンの表面を0.1〜1000μの厚さでシリカ蒸着被
覆することにより水分透過を抑制することができる。
で保存することは避けるのが好ましい。一般的には、5
℃から30℃に保存するのが良い。湿度は相対湿度で3
5%から60%の間にするのがよい。湿度から守るため
に1〜2000μのポリエチレンに包装することが一般
に行われている。ポリエチレンは、メタロセン触媒を使
用することにより結晶の規則性を向上させることにより
水分の透過を抑制させることができる。また、ポリエチ
レンの表面を0.1〜1000μの厚さでシリカ蒸着被
覆することにより水分透過を抑制することができる。
【0237】
【実施例】以下実施例によって本発明を具体的に説明す
る。なお、当然のことではあるが、本発明は以下に述べ
る実施例に限定されるものではない。
る。なお、当然のことではあるが、本発明は以下に述べ
る実施例に限定されるものではない。
【0238】(支持体の作成) (SPSの合成)トルエン200重量部にスチレンを1
00重量部、トリイソブチルアルミニウム56g、ペン
タメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキサイド
234gを使用して96℃8時間反応を行った。水酸化
ナトリウムのメタノール溶液で触媒を分解除去した後、
メタノールで3回洗浄して目的の化合物(SPS)を3
4重量部得た。
00重量部、トリイソブチルアルミニウム56g、ペン
タメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキサイド
234gを使用して96℃8時間反応を行った。水酸化
ナトリウムのメタノール溶液で触媒を分解除去した後、
メタノールで3回洗浄して目的の化合物(SPS)を3
4重量部得た。
【0239】(SPSフィルムの作成)得られたSPS
を330℃でTダイからフィルム状に溶融押し出しをお
こない、冷却ドラム上で急冷固化して未延伸フィルムを
得た。このとき、冷却ドラムの引き取り速度を2段階で
おこない、厚さ1054μmの未延伸フィルムを135
℃で予熱し、縦延伸(3.1倍)した後、130℃で横
延伸(3.4倍)し、更に250℃で熱固定をおこなっ
た。その結果、支持体として曲げ弾性率450kg/m
m2、厚さ100μの2軸延伸フィルムを得た。
を330℃でTダイからフィルム状に溶融押し出しをお
こない、冷却ドラム上で急冷固化して未延伸フィルムを
得た。このとき、冷却ドラムの引き取り速度を2段階で
おこない、厚さ1054μmの未延伸フィルムを135
℃で予熱し、縦延伸(3.1倍)した後、130℃で横
延伸(3.4倍)し、更に250℃で熱固定をおこなっ
た。その結果、支持体として曲げ弾性率450kg/m
m2、厚さ100μの2軸延伸フィルムを得た。
【0240】(SPSフィルムの下塗)上記SPSフィ
ルムの上にシリカ蒸着した後に、スチレン−グリシジル
アクリレートおよび酸化スズ微粒子を含む帯電防止加工
を施した下塗層を形成した。
ルムの上にシリカ蒸着した後に、スチレン−グリシジル
アクリレートおよび酸化スズ微粒子を含む帯電防止加工
を施した下塗層を形成した。
【0241】〈感光材料1の作成〉 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm、平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モルあたり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際、K2IrCl6を銀1
モルあたり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平
均厚み0.10μm、平均直径0.25μmのコア/シ
ェル型単分散(変動係数10%)の(100)面を主平
面として有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化
銀0.2モル%、残りは臭化銀からなる)平板状粒子の
乳剤であった。ついで特開平2−280139号に記載
の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカル
バミルで置換したもので例えば特開平2−280139
号287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で190mvであった。
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm、平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀1モルあたり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際、K2IrCl6を銀1
モルあたり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平
均厚み0.10μm、平均直径0.25μmのコア/シ
ェル型単分散(変動係数10%)の(100)面を主平
面として有する塩沃臭化銀(塩化銀90モル%、沃臭化
銀0.2モル%、残りは臭化銀からなる)平板状粒子の
乳剤であった。ついで特開平2−280139号に記載
の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカル
バミルで置換したもので例えば特開平2−280139
号287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で190mvであった。
【0242】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mvに調整して、
塩化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を3×
10-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化
学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mvに調整して、
塩化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を3×
10-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化
学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0243】(ハロゲン化銀乳剤Bの調製)同時混合法
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm、平均直径0.
15μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混
合時にK3Rh(H2O)Br5を銀1モルあたり2×1
0-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を用い
てシェルを付けた。その際K 2IrCl6を銀1モルあた
り3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み
0.10μm、平均直径0.42μmのコア/シェル型
単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モ
ル%、沃臭化銀0.5モル%、残りは臭化銀からなる)
平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−28013
9号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフ
ェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2−2
80139号287(3)頁の例示化合物G−8)を使
い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で180mvであ
った。
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm、平均直径0.
15μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混
合時にK3Rh(H2O)Br5を銀1モルあたり2×1
0-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を用い
てシェルを付けた。その際K 2IrCl6を銀1モルあた
り3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み
0.10μm、平均直径0.42μmのコア/シェル型
単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モ
ル%、沃臭化銀0.5モル%、残りは臭化銀からなる)
平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−28013
9号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフ
ェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2−2
80139号287(3)頁の例示化合物G−8)を使
い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で180mvであ
った。
【0244】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mvに調整して、
塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,N′−
トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を3×1
0-5モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化学
熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあたり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mvに調整して、
塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,N′−
トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を3×1
0-5モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化学
熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあたり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0245】(HeNeレーザー光源用印刷製版スキャ
ナー用ハロゲン化銀写真感光材料1の調製)上記の支持
体の一方の下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層
をゼラチンが0.5g/m2になるように、その上に処
方2のハロゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼ
ラチン量が0.5g/m2になるように、さらにその上
層に中間保護層として下記処方3の塗布液をゼラチン量
が0.3g/m2になるように、さらにその上層に処方
4のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.4g/m2、ゼラ
チン量が0.4g/m2になるように、さらに下記処方
5の塗布液をゼラチン量が0.6g/m2になるよう同
時重層塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方6
のバッキング層をゼラチン量が0.6g/m2になるよ
うに、その上に下記処方7の疎水性ポリマー層を、さら
にその上に下記処方8のバッキング保護層をゼラチン量
が0.4g/m2になるように乳剤層側と同時重層塗布
することで試料を得た。
ナー用ハロゲン化銀写真感光材料1の調製)上記の支持
体の一方の下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層
をゼラチンが0.5g/m2になるように、その上に処
方2のハロゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼ
ラチン量が0.5g/m2になるように、さらにその上
層に中間保護層として下記処方3の塗布液をゼラチン量
が0.3g/m2になるように、さらにその上層に処方
4のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.4g/m2、ゼラ
チン量が0.4g/m2になるように、さらに下記処方
5の塗布液をゼラチン量が0.6g/m2になるよう同
時重層塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方6
のバッキング層をゼラチン量が0.6g/m2になるよ
うに、その上に下記処方7の疎水性ポリマー層を、さら
にその上に下記処方8のバッキング保護層をゼラチン量
が0.4g/m2になるように乳剤層側と同時重層塗布
することで試料を得た。
【0246】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料AD−1の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A 銀量1.5g/m2になるように 染料AD−8の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 20mg/m2 シクロデキストリン(親水性ポリマー) 0.5g/m2 増感色素d−1 5mg/m2 増感色素d−2 5mg/m2 ヒドラジン誘導体H−7 20mg/m2 レドックス化合物:RE−1 20mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 30mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 処方3(中間層組成) ゼラチン 0.3g/m2 S−1 2mg/m2 処方4(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤B 銀量1.4g/m2になるように 増感色素d−1 3mg/m2 増感色素d−2 3mg
/m2 ヒドラジン誘導体H−20 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物Nb−12 40mg/m2 レドックス化合物:RE−2 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 20mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 S−1 1.7mg/m2 処方5(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料AD−5の固体分散体(平均粒径0.1μm) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−3 40mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 硬膜剤:K−1 30mg/m2 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方7(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方8(バッキング保護層) ゼラチン 0.4
g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤:K−1 20mg/m2
/m2 ヒドラジン誘導体H−20 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物Nb−12 40mg/m2 レドックス化合物:RE−2 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 20mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 S−1 1.7mg/m2 処方5(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料AD−5の固体分散体(平均粒径0.1μm) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−3 40mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 硬膜剤:K−1 30mg/m2 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方7(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方8(バッキング保護層) ゼラチン 0.4
g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤:K−1 20mg/m2
【0247】
【化60】
【0248】
【化61】
【0249】
【化62】
【0250】 なお塗布乾燥後のバッキング側の表面比抵抗値は23℃
20%RHで6×1011で、乳剤側の表面の膜面pH
は5.5、膨潤度は175であった。
20%RHで6×1011で、乳剤側の表面の膜面pH
は5.5、膨潤度は175であった。
【0251】 <感光材料2の作成> (ハロゲン化銀乳剤Cの調製) 塩化銀80モル%、臭化銀20モル%のハロゲン化銀組
成になる様に硝酸銀水溶液及びNaCl、KBrの混合
水溶液をコントロールドダブルジェット法で混合してハ
ロゲン化銀粒子を成長させた。此の際混合は36℃、p
Ag7.8、pH3.0の条件下で行い、粒子形成中に
K3RuCl6を銀1モルあたり8×10-8モルとK2I
rCl6を銀1モルあたり3×10-7モル添加した。そ
の後フェニルイソシアネートで処理した変性ゼラチンに
より脱塩を行い、オセインゼラチンを添加し再分散し
た。得られた乳剤は平均粒径0.18μm、変動係数1
0%の立方体粒子からなる乳剤であった。
成になる様に硝酸銀水溶液及びNaCl、KBrの混合
水溶液をコントロールドダブルジェット法で混合してハ
ロゲン化銀粒子を成長させた。此の際混合は36℃、p
Ag7.8、pH3.0の条件下で行い、粒子形成中に
K3RuCl6を銀1モルあたり8×10-8モルとK2I
rCl6を銀1モルあたり3×10-7モル添加した。そ
の後フェニルイソシアネートで処理した変性ゼラチンに
より脱塩を行い、オセインゼラチンを添加し再分散し
た。得られた乳剤は平均粒径0.18μm、変動係数1
0%の立方体粒子からなる乳剤であった。
【0252】 このようにして得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メ
チル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してpH5.6、EAg123mvに調整し
て塩化金酸を2×10-5モル添加した後、N,N,N′
−トリメチル−N′ヘプタフルオロセレノ尿素を2×1
0-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化学
熟成を行った。
チル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してpH5.6、EAg123mvに調整し
て塩化金酸を2×10-5モル添加した後、N,N,N′
−トリメチル−N′ヘプタフルオロセレノ尿素を2×1
0-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化学
熟成を行った。
【0253】 熟成終了後4−メチル−6−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり3×10-3
モルを加えた。
a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり3×10-3
モルを加えた。
【0254】 (He−Neレーザー光源用印刷製版スキャナー用ハロ
ゲン化銀写真感光材料2の調製) SPS支持体の一方の下塗層上に、下記の処方21のゼ
ラチン下塗層をゼラチン量が1.0g/m2になるよう
に、その上に処方22のハロゲン化銀乳剤層を銀量3.
5g/m2、ゼラチン量が1.5g/m2になるように、
さらに下記処方23の塗布液をゼラチン量が0.6g/
m2になるよう同時重層塗布した。また反対側の下塗層
上には下記処方24のバッキング層をゼラチン量が2.
0g/m2になるように、さらにその上に下記処方25
のバッキング保護層をゼラチン量が1.0g/m2にな
るように乳剤層側と同時重層塗布することで試料を得
た。
ゲン化銀写真感光材料2の調製) SPS支持体の一方の下塗層上に、下記の処方21のゼ
ラチン下塗層をゼラチン量が1.0g/m2になるよう
に、その上に処方22のハロゲン化銀乳剤層を銀量3.
5g/m2、ゼラチン量が1.5g/m2になるように、
さらに下記処方23の塗布液をゼラチン量が0.6g/
m2になるよう同時重層塗布した。また反対側の下塗層
上には下記処方24のバッキング層をゼラチン量が2.
0g/m2になるように、さらにその上に下記処方25
のバッキング保護層をゼラチン量が1.0g/m2にな
るように乳剤層側と同時重層塗布することで試料を得
た。
【0255】 処方21(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 1.0g/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 1mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方22(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤C 銀量3.5g/m2 増感色素d−1 3mg/m2 増感色素d−2 3mg/m2 表1に示す一般式(N−1)のピリジニウム塩誘導体 52.5mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 15mg/m2 EDTA 30mg/m2 処方23(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 1,3ービニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 硬膜剤k−1 30mg/m2 処方24(バッキング層組成) ゼラチン 2.0g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスホ゜リマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方25(バッキング保護層) ゼラチン 1.0g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤g 20mg/m2 <処理液処方> 開始現像液 使用液1リットル分 純水 400ml ジエチレントリアミン5酢酸ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 31.52g 炭酸カリウム 155g 8−メルカプトアデニン 0.06g ジエチレングリコール 50g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.27g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.03g ジメゾンS(1−フェニル−4−ヒドロキシメチル −4−メチルピラゾリドン) 1.1g エリソルビン酸ナトリウム(A−18の化合物) 38g ジエチルアミノプロパンジオール 25g イソエリートP(塩水港精糖) 20g KOH(55%水溶液)及び純水を用い500ml(pH10.45)に仕上 げる。なお使用する際は純水500mlと上記濃厚液500mlを混合して用い る。
【0256】 現像補充液 使用液1リットル分 純水 400ml ジエチレントリアミン5酢酸ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 31.52g 炭酸カリウム 155g 8−メルカプトアデニン 0.06g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.27g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.03g ジメゾンS 1.1g エリソルビン酸ナトリウム(A−18の化合物) 38g シクロデキストリン化合物 表1に示す量 KOH(55%水溶液)及び純水を用い500ml(pH10.45)に仕上 げる。なお使用する際は,純水500mlと上記濃厚液500mlを混合して用 いる。補充液のpHは10.4であった。
【0257】 開始定着液 使用液1リットル分 純水 120ml チオ硫酸アンモニウム 140g 亜硫酸ナトリウム(10%Na塩:ヘキスト社製) 22g ほう酸 10g 酒石酸 3g 酢酸ナトリウム・3水塩 37.8g 酢酸(90%水溶液) 13.5g 硫酸アルミニウム・18水塩 18g イソエリートP(塩水港精糖) 5g 50%硫酸水溶液及び純水を用い500ml(pH4.83)に仕上げる。な お使用する際は純水500mlと上記濃厚液500mlを混合して用いる。
【0258】 定着補充液 使用液1リットル分 純水 250ml チオ硫酸アンモニウム 140g 重亜硫酸ナトリウム(10%Na塩:ヘキスト社製) 16g ほう酸 10g 酒石酸 3g 酢酸ナトリウム 40g 硫酸水素ナトリウム 18g 硫酸アルミニウム・18水塩 37g 純水を用い500ml(pH4.05)に仕上げる。なお使用する際は純水5 00mlと上記濃厚液500mlを混合して用いる。補充液のpHは4.10で あった。
【0259】<自動現像機>コニカ(株)社製GR−2
6を使用した。補充液補充の場合は、大全サイズ(61
0×508mm)の感光材料1枚当たり現像40ml,
定着40mlの補充を行った。
6を使用した。補充液補充の場合は、大全サイズ(61
0×508mm)の感光材料1枚当たり現像40ml,
定着40mlの補充を行った。
【0260】 処理条件 温度 時間 現像 35℃ 30秒 定着 34℃ 20秒 水洗 常温 20秒 乾燥 45℃ 20秒 ラインスピード(搬送速度) 984mm/min <評価>補充濃厚液(2倍濃縮)をポリエチレンテレフ
タレート製の容器(酸素透過率45ml/atm・m2
・25・day)に密閉して入れ、温度50℃で3日間
保存後開封してものを使用した。
タレート製の容器(酸素透過率45ml/atm・m2
・25・day)に密閉して入れ、温度50℃で3日間
保存後開封してものを使用した。
【0261】新液及び感光材料(黒化率50%)100
0枚処理した後の感度、γ(ガンマ)、ドット品質(D
Q)の評価を行った。
0枚処理した後の感度、γ(ガンマ)、ドット品質(D
Q)の評価を行った。
【0262】(相対感度の評価方法)HeNeレーザー
露光の代用評価として633nmの干渉フィルターを用
い10-6秒で光学楔を介して露光を行った後上記の処理
を行った。得られた現像処理済みの試料をコニカデジタ
ル濃度計PDA−65で測定し、新液処理での濃度2.
5における感度を100とした相対感度で示す。
露光の代用評価として633nmの干渉フィルターを用
い10-6秒で光学楔を介して露光を行った後上記の処理
を行った。得られた現像処理済みの試料をコニカデジタ
ル濃度計PDA−65で測定し、新液処理での濃度2.
5における感度を100とした相対感度で示す。
【0263】(γの評価方法)ガンマは、上記処理フィ
ルムの濃度0.1と3.0の正接をもって表し、表中γ
値が6未満では使用不可能の感光材料であり、6以上1
0未満でもまだ不十分な硬調性である。γ値が10以上
ではじめて超硬調な画像が得られ、十分に実用可能な感
光材料であることを表す。
ルムの濃度0.1と3.0の正接をもって表し、表中γ
値が6未満では使用不可能の感光材料であり、6以上1
0未満でもまだ不十分な硬調性である。γ値が10以上
ではじめて超硬調な画像が得られ、十分に実用可能な感
光材料であることを表す。
【0264】(DQの評価方法)大日本スクリーニング
社製SG−747RUにて16ミクロンのランダムパタ
ーンの網点(FMスクリーン)で露光を行った後上記の
処理のような処理を行った。網点パターンの中点(目標
50%)を100倍のルーペを使い目視評価にてランク
評価を行った。最高を5ランクとし、網点品質の劣化に
伴って4、3、2、1、とランクを下げ評価した。2ラ
ンク以下は実用に耐えないレベルである。
社製SG−747RUにて16ミクロンのランダムパタ
ーンの網点(FMスクリーン)で露光を行った後上記の
処理のような処理を行った。網点パターンの中点(目標
50%)を100倍のルーペを使い目視評価にてランク
評価を行った。最高を5ランクとし、網点品質の劣化に
伴って4、3、2、1、とランクを下げ評価した。2ラ
ンク以下は実用に耐えないレベルである。
【0265】(黒ポツ評価方法)3.5×12cmのフ
ィルム片を未露光で処理して、40倍のルーペをつかい
評価した。評価は、5段階評価とし、全く黒ポツの発生
していないものを最高ランク5とし、黒ポツの発生度に
応じて4、3、2、1とランクを下げていった。ランク
3未満では実用上許容できないレベルである。
ィルム片を未露光で処理して、40倍のルーペをつかい
評価した。評価は、5段階評価とし、全く黒ポツの発生
していないものを最高ランク5とし、黒ポツの発生度に
応じて4、3、2、1とランクを下げていった。ランク
3未満では実用上許容できないレベルである。
【0266】(銀スラッジの評価方法)3.5×12c
mのフィルム片を未露光で処理してフィルム表面の汚れ
を黙視評価した。銀スラッジの評価は、5段階評価と
し、汚れの最もひどいものをランク1とし、汚れのない
ものをランク5とした。ランク3未満では実用上許容で
きないレベルである。
mのフィルム片を未露光で処理してフィルム表面の汚れ
を黙視評価した。銀スラッジの評価は、5段階評価と
し、汚れの最もひどいものをランク1とし、汚れのない
ものをランク5とした。ランク3未満では実用上許容で
きないレベルである。
【0267】結果を表1及び表2に示す。
【0268】
【表1】
【0269】
【表2】
【0270】表1及び表2の結果から感光材料1及び感
光材料2のいずれの場合にもランニング液でも本発明の
試料は感度、γ、DQ、が良好で黒ポツ及び銀スラッジ
の発生も少ないことがわかる。
光材料2のいずれの場合にもランニング液でも本発明の
試料は感度、γ、DQ、が良好で黒ポツ及び銀スラッジ
の発生も少ないことがわかる。
【0271】実施例2 <感光材料3の作成> (乳剤の調製)同時混合法を用いて塩化銀98モル%、
臭化銀2モル%の平均粒径0.15μmの単分散、立方
晶の塩臭化銀粒子を調製した。混合時に、K3Rh(H2
O)Br5を銀1モル当たり7×10-5モル添加した。
また、常法による可溶性塩類を除去する脱塩工程の前に
4−ヒドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,7−テト
ラザインデンを銀1モル当たり0.6g添加した。
臭化銀2モル%の平均粒径0.15μmの単分散、立方
晶の塩臭化銀粒子を調製した。混合時に、K3Rh(H2
O)Br5を銀1モル当たり7×10-5モル添加した。
また、常法による可溶性塩類を除去する脱塩工程の前に
4−ヒドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,7−テト
ラザインデンを銀1モル当たり0.6g添加した。
【0272】(以下、特に記載がない場合は、銀1モル
当たりの量とする)この乳剤を60℃に昇温し、4−ヒ
ドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデンを60mg、チオ硫酸ナトリウム0.75mgを
添加し、4−ヒドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,
7−テトラザインデンを添加してから60分後に更に4
−ヒドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデンを600mg添加し温度を下げてセットさせ
た。
当たりの量とする)この乳剤を60℃に昇温し、4−ヒ
ドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデンを60mg、チオ硫酸ナトリウム0.75mgを
添加し、4−ヒドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,
7−テトラザインデンを添加してから60分後に更に4
−ヒドロキシ−6ーメチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデンを600mg添加し温度を下げてセットさせ
た。
【0273】(乳剤塗布液の調製)単位m2当たり以下
の量になるよう塗布液を調製した。
の量になるよう塗布液を調製した。
【0274】 ゼラチン10%溶液 5.26ml/m2 NaOH 0.5N溶液 4.39ml/m2 化合物 イ 6.53mg/m2 テトラゾリウム化合物 40mg/m2 キラヤサポニン 107mg/m2 化合物 ロ 18.5mg/m2 化合物 ハ 9.8mg/m2 ゼラチンラテックス 480mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 52.2mg/m2 (保護層下層液調製) ゼラチン 0.5g/m2 化合物 ニ 62.0mg/m2 クエン酸 4.1mg/m2 ホルマリン 1.7mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 11.0mg/m2 (保護層上層液調製) ゼラチン 0.3g/m2 化合物 ホ 18.0mg/m2 化合物 ニ 48.4mg/m2 化合物 ヘ 105.0mg/m2 化合物 ト 1.25mg/m2 不定形シリカ(平均粒1.63ミクロン) 15.0mg/m2 不定形シリカ(平均粒径3.5ミクロン) 21.0mg/m2 クエン酸 4.5mg/m2 ポリスチレンスルホン酸Na 11.0mg/m2 ホルマリン(インライン添加) 10.0mg/m2 (バッキング塗布液調製) 化合物 チ 170mg/m2 化合物 ニ 30mg/m2 化合物 リ 45mg/m2 化合物 ヌ 10mg/m2 キラヤサポニン 111mg/m2 化合物 ル 200mg/m2 コロイダルシリカ 200mg/m2 化合物 オ 35mg/m2 化合物 ワ 31mg/m2 化合物 カ 3.1mg/m2 ポリメチルメタアクリレート酸ポリマー(平均粒径5.6μm) 28.9mg/m2 ク゛リオキサ゛ール 10.1mg/m2 クエン酸 9.3mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 71.1mg/m2 インラインで以下のものを添加 化合物 ヨ 81mg/m2 化合物 タ 88.2mg/m2 酢酸カルシウム 3.0mg/m2 ホルマリン 10mg/m2
【0275】
【化63】
【0276】
【化64】
【0277】
【化65】
【0278】 <処理液処方> 開始現像液 使用液1リットル分 純水 400
ml ジエチレントリアミン・5酢酸ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 18g 炭酸カリウム 120g 8−メルカプトアデニン 0.06g ジエチレングリコール 50g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.55g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g ジメゾンS 1.4g エリソルビン酸ナトリウム(A−18の化合物) 38g イソエリートP(塩水港精糖) 20g KOH(55%水溶液)及び純水を用い500ml(pH10.05)に仕上 げる。なお使用する際は純水500mlと上記濃厚液500mlを混合して用い る。
ml ジエチレントリアミン・5酢酸ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 18g 炭酸カリウム 120g 8−メルカプトアデニン 0.06g ジエチレングリコール 50g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.55g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g ジメゾンS 1.4g エリソルビン酸ナトリウム(A−18の化合物) 38g イソエリートP(塩水港精糖) 20g KOH(55%水溶液)及び純水を用い500ml(pH10.05)に仕上 げる。なお使用する際は純水500mlと上記濃厚液500mlを混合して用い る。
【0279】 現像補充液 使用液1リットル分 純水 400ml ジエチレントリアミン・5酢酸ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 20.15g 炭酸カリウム 120g 8−メルカプトアデニン 0.06g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.55g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g ジメゾンS 1.4g エリソルビン酸ナトリウム(A−18の化合物) 38g シクロデキストリン化合物 表1に示す量 KOH(55%水溶液)及び純水を用い500ml(pH10.05)に仕上 げる。なお使用する際は純水500mlと上記濃厚液500mlを混合して用い る。補充液のpHは10.1であった。
【0280】定着剤は実施例1で用いたものを使用し
た。
た。
【0281】<自動現像機>コニカ(株)社製GR−2
6SRを使用した。補充液補充の場合は、大全サイズ
(610×508mm)の感光材料1枚当たり現像40
ml、定着40mlの補充を行った。
6SRを使用した。補充液補充の場合は、大全サイズ
(610×508mm)の感光材料1枚当たり現像40
ml、定着40mlの補充を行った。
【0282】 処理条件 温度 時間 現像 35℃ 15秒 定着 34℃ 10秒 水洗 常温 10秒 乾燥 45℃ 10秒 ラインスピード(搬送速度) 1968mm/min <評価>補充濃厚液(2倍濃縮)をポリエチレンテレフ
タレート製の容器(酸素透過率45ml/atm・m2
・25・day)に密閉していれ、温度50℃で3日間
保存後開封してものを使用した。
タレート製の容器(酸素透過率45ml/atm・m2
・25・day)に密閉していれ、温度50℃で3日間
保存後開封してものを使用した。
【0283】新液及び感光材料(黒化率20%)100
0枚処理した後のγ、抜き文字画質の評価を行った。
0枚処理した後のγ、抜き文字画質の評価を行った。
【0284】(抜き文字画質及びγ評価方法)感光材料
試料の乳剤面に予め準備した原稿を密着させ米国Fus
ion製無電極放電管光源を使った明室プリンターP6
27FMにて画像露光を行い、上記現像処理御の抜き文
字画質を5ランク評価した。抜き文字画質5としては、
50%の網点面積が感光材料上に50%の網点面積とな
るよう適性露光を行った時に、30μm巾の文字が再現
できる画質をいい、非常に良好な抜き文字品質である。
抜き文字画質1とは、同様の適性露光を与えた時150
μm以上の文字しか再現することのできない画質をい
い、良くない抜き文字品質である。3以上が実用に耐え
うるレベルである。
試料の乳剤面に予め準備した原稿を密着させ米国Fus
ion製無電極放電管光源を使った明室プリンターP6
27FMにて画像露光を行い、上記現像処理御の抜き文
字画質を5ランク評価した。抜き文字画質5としては、
50%の網点面積が感光材料上に50%の網点面積とな
るよう適性露光を行った時に、30μm巾の文字が再現
できる画質をいい、非常に良好な抜き文字品質である。
抜き文字画質1とは、同様の適性露光を与えた時150
μm以上の文字しか再現することのできない画質をい
い、良くない抜き文字品質である。3以上が実用に耐え
うるレベルである。
【0285】γ=(1.0−0.1)/{log(濃度
1.0を与える露光量)−log(濃度0.1を与える
露光量)} をγ値が6未満では使用不可能の感光材料であり、6以
上10未満でもまだ不十分な硬調性である。γ値が10
以上ではじめて超硬調な画像が得られ、十分に実用可能
な感光材料であることを表す。
1.0を与える露光量)−log(濃度0.1を与える
露光量)} をγ値が6未満では使用不可能の感光材料であり、6以
上10未満でもまだ不十分な硬調性である。γ値が10
以上ではじめて超硬調な画像が得られ、十分に実用可能
な感光材料であることを表す。
【0286】(銀スラッジの評価方法)3.5×12c
mのフィルム片を未露光で処理してフィルム表面の汚れ
を黙視評価した。銀スラッジの評価は、5段階評価と
し、汚れの最もひどいものをランク1とし、汚れのない
ものをランク5とした。ランク3未満では実用上許容で
きないレベルである。
mのフィルム片を未露光で処理してフィルム表面の汚れ
を黙視評価した。銀スラッジの評価は、5段階評価と
し、汚れの最もひどいものをランク1とし、汚れのない
ものをランク5とした。ランク3未満では実用上許容で
きないレベルである。
【0287】結果を表3に示す。
【0288】
【表3】
【0289】表3の結果から、本発明の試料はランニン
グ液でもγ、抜き文字品質に優れ、銀スラッジも良好で
あることがわかる。
グ液でもγ、抜き文字品質に優れ、銀スラッジも良好で
あることがわかる。
【0290】
【発明の効果】本発明により、アスコルビン酸及びその
誘導体を用いた現像液で処理する方法においてランニン
グでの処理安定性が著しく向上した感光材料用現像剤及
びその処理方法を提供することができた。
誘導体を用いた現像液で処理する方法においてランニン
グでの処理安定性が著しく向上した感光材料用現像剤及
びその処理方法を提供することができた。
Claims (5)
- 【請求項1】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有し、
該ハロゲン化銀乳剤の塩化銀含有率が50モル%以上で
あるハロゲン化銀写真感光材料を、自動現像機を用い現
像補充液を補充しつつ現像処理する方法において、該現
像補充液が実質的にジヒドロキシベンゼン類を含有せ
ず、下記一般式(A)で表される化合物とシクロデキス
トリン化合物を含有する事を特徴とする現像処理方法。 【化1】 〔式中、R1、R2は各々独立して置換又は無置換のアル
キル基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は無置換の
アルコキシ基、置換又は無置換のアルキルチオ基、又は
R1とR2が互いに結合して環を形成してもよい。kは0
又は1を表し、k=1のときXは−CO−又は−CS−
を表す。M1、M2は各々水素原子又はアルカリ金属を表
す。〕 - 【請求項2】 上記ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその
隣接層にヒドラジン誘導体を含有することを特徴とする
請求項1に記載の現像処理方法。 - 【請求項3】 上記ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその
隣接層にテトラゾリウム化合物を含有することを特徴と
する請求項1に記載の現像処理方法。 - 【請求項4】 上記ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその
隣接層にピリジニウム塩化合物を含有することを特徴と
する請求項1に記載の現像処理方法。 - 【請求項5】 現像補充量が感光材料1m2あたり50
〜300mlであることを特徴とする請求項1〜4のい
ずれか1項に記載の現像処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23420295A JPH0980705A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23420295A JPH0980705A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0980705A true JPH0980705A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=16967296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23420295A Pending JPH0980705A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0980705A (ja) |
-
1995
- 1995-09-12 JP JP23420295A patent/JPH0980705A/ja active Pending
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