JPH10113865A - 電解インプロセスドレッシング装置および研削装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 経済的で電解効率の高いインプロセスドレッ
シングが可能な電解インプロセスドレッシング技術を提
供する。 【解決手段】 対向して配置されたドレッシング電極５
と砥石車Ｇの研削面Ｇａとの間が外部から封止された封
止空間１０とされるとともに、封止空間１０内に、電解
クーラントがクーラントノズル７により供給される構成
とされている。これにより、ドレッシング電極５と砥石
車Ｇとの間隙への空気の流入が抑制されるとともに、こ
の間隙からの電解クーラントの流出が抑制されて、砥石
車Ｇの周速にかかわらず、電解クーラントは封止空間１
０内の電解ドレッシング領域全体に均一に保持されて、
経済的で電解効率の高いインプロセスドレッシングが確
保される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電解インプロセス
ドレッシング装置および研削装置に関し、さらに詳細に
は、研削加工中に電解ドレッシングが行われる研削装置
において、ドレッシング電極と砥石面との間に電解液を
均一に安定供給するための技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】先端精密加工技術の一つとして、微粒メ
タルボンド砥石を用いた研削技術が注目されてきてお
り、これと並行して、メタルボンド砥石の能力を充分に
発揮する電解ドレッシング技術が開発されている。特に
近時は、この電解ドレッシングを研削加工中に行う電解
インプロセスドレッシング（Electrolytic In-process
Dressing：ELID) 研削が実用化されて、信頼性の高い安
定した超精密研削加工が実現されるに至った。

【０００３】図６にＥＬＩＤ研削技術を利用したセンタ
レス研削盤が示されており、メタルボンド砥石からなる
砥石車ａが（＋）極とされるとともに、この砥石車ａの
円筒研削面ｂに対向して設けられたドレッシング電極ｃ
が（−）極とされ、これらの間隙における砥石車ａの回
転方向上流側位置に、電解クーラント（電解液）を供給
するクーラントノズルｄがクーラント通路ｅを介して臨
んでいる。ｆは調整車、ｇはブレード、Ｗはワーク（工
作物）をそれぞれ示している。

【０００４】そして、ワークＷの研削加工中において、
クーラントノズルｄから電解クーラントを供給しながら
直流パルス電流を流すことにより、電解作用によって上
記研削面ｂのメタルボンド部分が溶出されて、研削面ｂ
における砥粒の突出状態が維持されることになる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のＥＬＩＤ研削装置においては次の列挙するよ
うな種々の問題点があり、その改良が要望されていた。

【０００６】(1) 砥石車ａの周速を上げると、砥石車ａ
の外周を連れ回る空気が、電解クーラントと共にドレッ
シング電極ｃと砥石車ａの間隙に多量に侵入して、電解
クーラントの供給が不均一で悪くなるとともに、遠心力
により電解クーラントが飛散して、いわゆるクーラント
剥離を生じる。これがため、電解効率の大幅な低下を招
くとともに、砥石車ａの切れ味寿命も短くしてしまう。

【０００７】(2)(1)により、電解クーラントの消耗が激
しいため、電解ドレッシング中はクーラントノズルｄか
ら多量の電解クーラントを供給する必要があって、不経
済であり、また、電解クーラントやミストの飛散による
作業環境の悪化・汚染という問題も生じる。

【０００８】(3) ドレッシング電極ｃ内にクーラント通
路ｅがあるため、ドレッシング電極ｃの加工に制約があ
り、クーラント通路ｅの自由度も少なく、クーラントノ
ズルｄの形状寸法にも制限がある。これがため、これら
を介して供給される電解クーラント量の分布にも限界が
あり、電解インプロセスドレッシング効果が十分に発揮
されない。

【０００９】(4) 電解ドレッシングを安定させて行うた
めには、砥石車ａとドレッシング電極ｃとの間隙に流れ
る電解クーラントの流量を大きくする必要があるが、反
面、この流量があまり大きいと、ワークＷが軽量の場
合、その支持状態が不安定になってしまい、高精度な研
削が確保できない。

【００１０】これらの問題点は平面研削盤等の他の研削
装置においても同様であった。

【００１１】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたものであって、その目的とするところは、ドレッ
シング電極と砥石車との間隙への空気の流入とこの間隙
からの電解クーラントの流出を抑制することにより、経
済的で電解効率の高いインプロセスドレッシングが可能
な電解インプロセスドレッシング装置を提供することに
ある。

【００１２】また、本発明の他の目的とするところは、
上記電解インプロセスドレッシング装置を備えた信頼性
の高い安定した超精密研削加工が可能な研削装置を提供
することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の電解インプロセスドレッシング装置は、導
電性のボンド材を用いた砥石車を備える研削装置に装着
されるものであって、上記砥石車の研削面に対向してド
レッシング電極が設けられるとともに、このドレッシン
グ電極と上記研削面の間隙が外部から封止された封止空
間とされ、この封止空間内に、電解クーラントを供給す
るクーラントノズルが連通されていることを特徴とす
る。

【００１４】また、本発明の研削装置は、導電性のボン
ド材を用いた砥石車を備えるとともに、この砥石車の研
削加工部と干渉しない部位に、上記電解インプロセスド
レッシング装置が設けられていることを特徴とする。

【００１５】ここに、「封止空間」とは、電解クーラン
トが一定期間均一に滞留保持されうる程度の密封性を有
する空間を意味し、より具体的には、砥石車の外周を連
れ回りする外部空気の内部への流入が抑制されるととも
に、内部の電解クーラントの外部への流出が抑制される
程度の密封性を有する空間を意味し、以下明細書全体を
通じて同様とする。

【００１６】本発明においては、研削加工中に電解ドレ
ッシングが行われるところ、対向して配置されたドレッ
シング電極と砥石車の研削面との間が外部から封止され
た封止空間とされるとともに、この封止空間内に、電解
クーラントがクーラントノズルにより供給される構成と
されているから、ドレッシング電極と砥石車との間隙へ
の空気の流入が抑制されるとともに、この間隙からの電
解クーラントの流出が抑制される。これにより、砥石車
の周速にかかわらず、電解クーラントは上記封止空間内
つまり電解ドレッシングが行われる領域全体に均一に保
持されて、経済的で電解効率の高いインプロセスドレッ
シングが確保されるとともに、ワークの支持状態が不安
定になることもなく、また電解クーラントやミストの飛
散も有効に防止される。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。

【００１８】実施形態１ 本発明に係る電解インプロセスドレッシング方式の研削
装置を図１および図２に示し、この研削装置は、具体的
には、工作物（ワーク）Ｗとして電子部品材料等の円筒
外径面に鏡面研削加工等の超精密研削加工を施すための
センタレス研削盤であって、回転駆動される砥石車Ｇお
よび調整車Ｒと、ワークＷを回転支持するブレードＢ
と、電解インプロセスドレッシング装置Ｄとを主要部と
して備えてなる。

【００１９】砥石車Ｇおよび調整車Ｒはいずれも従来周
知の一般的基本構成を備えてなる。例えば、砥石車Ｇ
は、図示しないが、装置ベッドの砥石車台上に回転可能
に装着されるとともに、伝達ベルト機構や歯車機構等の
動力伝達機構を介して駆動モータ等の回転駆動源に連係
されている。同じく、調整車Ｒは、装置ベッドのスライ
ドベース上に回転可能に装着されるとともに、動力伝達
機構を介して駆動モータ等の回転駆動源に連係されてい
る。

【００２０】また、上記砥石車Ｇとしては、導電性のボ
ンド材を用いた砥石が用られ、例えば、鋳鉄ファイバボ
ンド等を用いたメタルボンド超砥粒砥石が好適に使用さ
れている。この砥石車Ｇは、給電体１を介して電源２の
（＋）極に電気的に接続されている。３は研削加工中の
ワークＷに対して研削クーラント（研削液）を供給する
ためのクーラントノズルを示している。

【００２１】電解インプロセスドレッシング装置Ｄは、
研削加工中に上記砥石車Ｇの研削面Ｇａに対して電解ド
レッシングを行うもので、砥石車Ｇの研削加工部と干渉
しない部位に、つまり、図示のものにおいては、ワーク
Ｗの支持位置から離隔した砥石車Ｇの上部位置に設けら
れている。

【００２２】電解インプロセスドレッシング装置Ｄは、
ドレッシング電極５、封止空間形成部６およびクーラン
トノズル７などを主要部として備えてなる。

【００２３】ドレッシング電極５は上記砥石車Ｇの円筒
状研削面Ｇａに対応した円筒電極面５ａを備えてなり、
この円筒電極面５ａの全面が上記研削面Ｇａに近接した
等距離をもって対向するように配置されている。また、
ドレッシング電極５は、給電体８を介して上記電源２の
（−）極に電気的に接続されている。

【００２４】封止空間形成部６は、ドレッシング電極５
と砥石車Ｇの研削面Ｇａの間隙に封止空間１０を形成す
るもので、具体的には、電気絶縁材料からなる封止ハウ
ジングの形態とされている。

【００２５】この封止ハウジング６は、円周カバー１１
と側部カバー１２からなるスカート状のもので、上記ド
レッシング電極５の外周部に、このドレッシング電極５
の周囲を被覆するように取り囲んで、垂下状に一体的に
設けられている。

【００２６】円周カバー１１は、上記砥石車Ｇの研削面
Ｇａの円周方向部位を被覆する平板状のもので、ドレッ
シング電極５における砥石車Ｇの回転方向両側位置にそ
れぞれ取り付け固定されるとともに、その水平な下部先
端縁１１ａが上記砥石車Ｇの研削面Ｇａに接近または接
触している。これに対応して、図１に示すように、円周
カバー１１の下端面が、上記ドレッシング電極５の円筒
電極面５ａに連続する円筒面に形成されている。

【００２７】また、上記側部カバー１２は、上記砥石車
Ｇの研削面Ｇａの側部を被覆する平板状のもので、ドレ
ッシング電極５の左右両側位置にそれぞれ取り付け固定
されるとともに、その先端縁が上記砥石車Ｇに摺接して
いる。具体的には、側部カバー１２の内側面に、耐磨耗
性の電気絶縁材料からなるシールテープ１３が水平状に
一体的に取り付けられており、このシールテープ１３
が、上記砥石車Ｇの砥粒のない平坦な母体部分に摺接し
ている。

【００２８】このように構成された封止ハウジング６
（１１，１２）は、上記ドレッシング電極５の周囲を被
覆するように取り囲んで、外部から封止された上記封止
空間１０を形成している。これにより、砥石車Ｇの回転
方向上流側においては、砥石車Ｇの外周を連れ回りする
空気の上記封止空間１０内への侵入が遮断され、一方、
砥石車Ｇの回転方向下流側においては、封止空間１０か
らの電解クーラントの流出が抑制される。

【００２９】クーラントノズル７は、上記封止空間１０
内に電解クーラントを供給するもので、上記封止空間１
０内における砥石車Ｇの回転方向上流側に連通されてい
る。具体的には、上記砥石車Ｇ回転方向上流側に位置す
る上記円周カバー１１に、クーラント通路１５が垂直方
向に貫設されて、上記封止空間１０内に連通するととも
に、このクーラント通路１５に上記クーラントノズル７
が下向きに接続されている。

【００３０】上記クーラントノズル７により供給される
電解クーラントは、弱導電性の研削液であり、具体的に
は、その成分や組成を調製することにより、電解専用の
もの、通常の研削用のもの、あるいは両者を共用するも
のが適宜選択使用される。図示の場合は、電解用のクー
ラントノズル７と前述した研削用のクーラントノズル３
から、同じクーラントが供給される。

【００３１】なお、研削盤の研削条件やワークＷの形状
寸法等に応じて、研削用のクーラントノズル３が省略さ
れ、電解用のクーラントノズル７が、本来の電解用とし
ての機能に加えて、研削用としての機能を兼備すること
も可能である。

【００３２】しかして、以上のように構成されたセンタ
レス研削装置において、ワークＷは、その外径面が砥石
車Ｇと調整車Ｒに挟圧されて回転されるとともに、その
外径面下部がブレードＢにより回転支持された状態で、
その外径面に研削加工が施される。一方、この研削加工
中に、ドレッシング装置Ｄにより、上記研削面Ｇａの性
状に応じた電解ドレッシングがインプロセスで随時行わ
れる。

【００３３】この電解ドレッシングにおいては、電解用
クーラントがクーラントノズル７から封止空間１０（ド
レッシング電極面と研削面Ｇａ間）に供給されるととも
に、砥石車Ｇとドレッシング電極５に直流パルス電流が
流され、これにより、上記研削面Ｇａのメタルボンド部
分が電解作用で溶出されて、研削面Ｇａにおける砥粒の
突出状態が維持されることとなる。

【００３４】この場合、対向して配置されたドレッシン
グ電極５と砥石車Ｇの研削面Ｇａとの間が外部から封止
された封止空間１０とされるとともに、この封止空間１
０内に、電解クーラントがクーラントノズル７により供
給される構成とされているから、ドレッシング電極５と
砥石車Ｇとの間隙への空気の流入が抑制されるととも
に、この間隙からの電解クーラントの流出が抑制され
る。また、砥石車Ｇの回転による遠心力により、電解ク
ーラントが飛散してしまう、いわゆるクーラント剥離も
防止される。

【００３５】したがって、砥石車Ｇの周速にかかわら
ず、電解クーラントは上記封止空間１０内つまり電解ド
レッシングが行われる領域全体に均一に保持されて、経
済的で電解効率の高いインプロセスドレッシングが確保
され、砥石車Ｇの切れ味寿命も長くなる。

【００３６】また、封止空間１０内には電解クーラント
が確実に滞留保持されることから、クーラントノズル７
からのクーラント供給量は、基本的に封止空間１０から
のわずかなクーラント流出量を補給する程度でよく、経
済的である。また、電解クーラントやミストの飛散が有
効に防止されて、作業環境の悪化や汚染も少ない。

【００３７】また、クーラント通路１５が、加工に制約
があるドレッシング電極５ではなく、封止ハウジング６
に設けられているため、クーラント通路１５の形状寸法
等に自由度があり、封止空間１０の容量やクーラント必
要供給量に応じた規格寸法（形状、開口断面積等）のク
ーラントノズル７を採用することができ、この点から
も、封止空間１０内における電解クーラント量の分布を
均一にでき、電解インプロセスドレッシング効果を十分
に発揮し得る。

【００３８】さらに、封止空間１０の容量を目的に応じ
て適宜設定することにより、安定した電解ドレッシング
を行うために十分な量の電解クーラントを確保すること
ができるとともに、封止空間１０からの電解クーラント
の流出量も抑制されており、軽量なワークＷにあって
も、その支持状態が不安定になることはなく、高精度な
研削を確保することができる。

【００３９】実施形態２ 本実施形態は図３に示されており、実施形態１における
電解インプロセスドレッシング装置Ｄの封止ハウジング
６の構成が改変されたものである。

【００４０】すなわち、砥石車Ｇの回転方向下流側の円
周カバー２１が、弾性ゴム等の弾性を有する電気絶縁材
料からなるシール板の形態とされてなる。この円周カバ
ー２１は、ドレッシング電極５における砥石車Ｇの回転
方向下流側位置に、締付けねじ２２，２２により一体的
に取り付け固定されるとともに、その水平な下部先端縁
２１ａが、砥石車Ｇの研削面Ｇａに弾性的に接触するシ
ールリップとされている。

【００４１】しかして、このように構成された封止ハウ
ジング６においては、実施形態１と同様に外部から封止
された上記封止空間１０を形成するとともに、砥石車Ｇ
の回転方向下流側におけるシール機能、つまり封止空間
１０からの電解クーラントの流出を抑制する機能がより
強化され、ないしは長期にわたり発揮されることとな
る。その他の構成および作用は実施形態１と同様であ
る。

【００４２】実施形態３ 本実施形態は図４に示されており、電解インプロセスド
レッシング装置Ｄが平面研削盤に適用されたものであ
る。

【００４３】この平面研削盤は、砥石車Ｇの回転軸２０
が垂直に配された縦軸平面研削盤であって、ワークＷを
供給排出するロータリテーブルＴが上記砥石車Ｇの研削
面Ｇａと平行に配されている。

【００４４】砥石車Ｇは、実施形態１と同様に、従来周
知の一般的基本構成を備えてなり、図示のものにおいて
は、メタルボンド超砥粒砥石からなるカップ型砥石車が
用いられ、給電体１を介して電源２の（＋）極に電気的
に接続されている。

【００４５】電解インプロセスドレッシング装置Ｄは、
基本構成が実施形態１と同様で、砥石車Ｇの研削加工部
と干渉しない部位に、つまり、図示のものにおいては、
ワークＷの加工位置と対向する砥石車Ｇの水平方向反対
側位置に設けられている。また、電解インプロセスドレ
ッシング装置Ｄを構成するドレッシング電極１０５、封
止ハウジング１０６およびクーラントノズル１０７の具
体的構造は、上記カップ型砥石車Ｇの形状に対応したも
のとされている。

【００４６】ドレッシング電極１０５は上記砥石車Ｇの
環状研削面Ｇａに対応した扇状の平面電極面１０５ａを
備えてなり、この平面電極面１０５ａの全面が、上記研
削面Ｇａに近接した等距離をもって、つまり平行に対向
して配置されている。また、ドレッシング電極１０５
は、給電体８を介して上記電源２の（−）極に電気的に
接続されている。

【００４７】封止ハウジング１０６は、実施形態１と同
様、円周カバー１１１と側部カバー１１２からなり、上
記ドレッシング電極１０５の外周部に、このドレッシン
グ電極１０５の周囲を被覆するように取り囲んで、起立
状に一体的に設けられている。

【００４８】円周カバー１１１は、ドレッシング電極１
０５における砥石車Ｇの回転方向両側位置にそれぞれ取
り付け固定され、その水平な上部先端縁１１１ａが上記
砥石車Ｇの研削面Ｇａに接近または接触している。

【００４９】また、上記側部カバー１１２は、ドレッシ
ング電極１０５の円弧状輪郭を有する左右両側縁部にそ
れぞれ取り付け固定される円弧状断面のもので、その先
端縁が上記砥石車Ｇに摺接している。具体的には、側部
カバー１１２の円筒内側面に、耐磨耗性の電気絶縁材料
からなるシールテープ１１３が一体的に取り付けられて
おり、このシールテープ１１３が、上記砥石車Ｇの砥粒
のない円筒状の母体部分に摺接している。

【００５０】しかして、このように構成された封止ハウ
ジング１０６（１１１，１１２）は、上記ドレッシング
電極１０５の周囲を被覆するように取り囲んで、外部か
ら封止された封止空間１１０を形成している。これによ
り、実施形態１と同様、砥石車Ｇの回転方向上流側にお
いては、砥石車Ｇの外周を連れ回りする空気の上記封止
空間１０内への侵入を遮断し、一方、砥石車Ｇの回転方
向下流側においては、封止空間１０からの電解クーラン
トの流出を抑制する。

【００５１】クーラントノズル１０７の取付け構造は、
具体的には、上記砥石車Ｇの回転方向上流側に位置する
上記円周カバー１１１に、クーラント通路１５が上記封
止空間１１０内に連通するように貫設され、このクーラ
ント通路１１５に上記クーラントノズル１０７が下向き
に接続されている。その他の構成および作用は実施形態
１と同様である。

【００５２】図示しないが、縦軸両頭平面研削盤におい
ても、上記電解インプロセスドレッシング装置Ｄが天地
逆転した状態で下側の砥石車に適用されることで、容易
に電解インプロセスドレッシング方式の研削装置とする
ことが可能である。

【００５３】なお、上述した実施形態１ないし３はあく
までも本発明の好適な実施態様を示すものであって、本
発明はこれに限定されることなくその範囲内で種々の設
計変更が可能である。

【００５４】例えば、封止ハウジング６，１０６の具体
的構造は図示の実施形態のものに限定されず、封止され
た封止空間を形成しうる他の構造も採用可能である。

【００５５】一例として、実施形態１または２におい
て、図示しないが、円周カバー１１の下部先端縁１１ａ
の部分に、砥石車Ｇの研削面Ｇａに接触するブラシが設
けられたり、あるいは、エアノズルが設けられて、上記
下部先端縁１１ａと研削面Ｇａとの間を封止するエアカ
ーテンが形成されても良い。

【００５６】また、図５に示すような構成も採用可能で
ある。すなわち、実施形態１、２と同様なセンタレス研
削盤の電解インプロセスドレッシング装置において、こ
れら実施形態における砥石車Ｇの回転方向上流側の円周
カバー１１が省略された構造とされている。具体的に
は、砥石車Ｇの回転方向下流側において、円周カバー１
１が砥石カバー２５に取り付けられるとともに、ドレッ
シング電極５に固定されている。一方、砥石車Ｇの回転
方向上流側において、クーラントノズル７が上記ドレッ
シング電極５と砥石車Ｇとの間隙に臨んで設けられてい
る。このクーラントノズル７の取り付けは、図示しない
が、上記砥石カバー２５に直接取り付けられても、ある
いは上記ドレッシング電極５に取り付けられても良い。

【００５７】さらに、本発明は上述したセンタレス研削
盤や平面研削盤の他、超精密研削加工を施す他の方式の
研削盤等にももちろん採用可能である。この場合、電解
インプロセスドレッシング装置Ｄの各構成部材は、適用
される研削盤の砥石車形状に対応したものとされてい
る。

【００５８】

【発明の効果】以上詳細したように、本発明の電解イン
プロセスドレッシング装置によれば、導電性のボンド材
を用いた砥石車の研削面に対向してドレッシング電極が
設けられるとともに、このドレッシング電極と上記研削
面の間隙が外部から封止された封止空間とされ、この封
止空間内に、電解クーラントを供給するクーラントノズ
ルが連通されているから、ドレッシング電極と砥石車と
の間隙への空気の流入が抑制されるとともに、この間隙
からの電解クーラントの流出が抑制され、また、砥石車
の回転による遠心力に起因するクーラント剥離も有効に
防止される。

【００５９】したがって、砥石車の周速にかかわらず、
電解クーラントは上記封止空間内の電解ドレッシングが
行われる領域全体に確実に滞留保持されるとともに、砥
石車の回転により発生する動圧との相乗効果により電解
クーラントの分布が密となり、電解効率の高い安定した
電解インプロセスドレッシングが実現する。これによ
り、砥石車の切れ味寿命の大幅な延長も可能となる。

【００６０】しかも、クーラントノズルからのクーラン
ト供給量は、基本的に上記封止空間からのクーラント流
出量に対応するところ、上記封止空間内には電解クーラ
ントが確実に滞留保持されて、その流出量もわずかであ
り、経済的である。

【００６１】また、クーラント通路が、加工に制約があ
るドレッシング電極ではなく、形状寸法等に自由度があ
る封止ハウジングに設けられていると、上記封止空間の
容量やクーラント必要供給量に最適な規格寸法のクーラ
ントノズルを採用することができる。これにより、上記
効果とも相まって、封止空間内における電解クーラント
量の分布をより均一にすることができ、電解インプロセ
スドレッシング効果を十分に発揮し得る。

【００６２】さらに、上記封止空間からの電解クーラン
トの流出量はわずかであるから、安定した電解ドレッシ
ングを行うために多量の電解クーラントを供給しても、
ワーク重量のいかんにかかわらず、その支持状態が不安
定になることはなく、高精度な研削を確保することがで
き、電解クーラントやミストの飛散が有効に防止され作
業環境の汚染も少ない。

【００６３】また、上記電解インプロセスドレッシング
装置を備えた研削装置にあっては、は、上記の効果と相
まって、信頼性の高い安定した超精密研削加工が実現す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１である電解インプロセスド
レッシング方式のセンタレス研削盤の要部構成を一部断
面で示す正面図である。

【図２】同じく同研削盤の要部構成を一部断面で示す側
面図である。

【図３】本発明の実施形態２である電解インプロセスド
レッシング方式のセンタレス研削盤の要部構成を一部断
面で示す正面図である。

【図４】本発明の実施形態３である電解インプロセスド
レッシング方式の平面研削盤の要部構成を示し、図４
(a) は一部断面で示す正面図、図４(b) は一部断面で示
す平面図である。

【図５】本発明に係るセンタレス研削盤における電解イ
ンプロセスドレッシング装置の要部構成の改変例を示す
正面図である。

【図６】従来の電解インプロセスドレッシング方式のセ
ンタレス研削盤を示し、図６(a) は一部断面で示す正面
図、図６(b) は一部断面で示す平面図である。

【符号の説明】

Ｗ 工作物（ワーク） Ｇ 砥石車 Ｇａ 砥石車の研削面 Ｄ 電解インプロセスドレッシング装
置 １ 給電体 ２ 電源 ３ クーラントノズル ５ ドレッシング電極 ５ａ ドレッシング電極の電極面 ６ 封止ハウジング ７ クーラントノズル ８ 給電体 １０ 封止空間 １１ 円周カバー １１ａ 円周カバーの先端縁 １２ 側部カバー １３ シールテープ １５ クーラント通路 ２１ 円周カバー ２１ａ 円周カバーの先端縁 １０５ ドレッシング電極 １０５ａ ドレッシング電極の電極面 １０６ 封止ハウジング １０７ クーラントノズル １１０ 封止空間 １１１ 円周カバー １１１ａ 円周カバーの先端縁 １１２ 側部カバー

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性のボンド材を用いた砥石車を備え
   る研削装置に装着されるものであって、 前記砥石車の研削面に対向してドレッシング電極が設け
   られるとともに、このドレッシング電極と前記研削面の
   間隙が外部から封止された封止空間とされ、 この封止空間内に、電解液を供給するクーラントノズル
   が連通されていることを特徴とする電解インプロセスド
   レッシング装置。
2. 【請求項２】 前記ドレッシング電極の外周部に電気絶
   縁材料からなる封止ハウジングが設けられ、 この封止ハウジングは、前記ドレッシング電極と前記砥
   石車の研削面の周囲を被覆して、前記封止空間が形成さ
   れるとともに、この封止空間内の砥石車回転方向上流側
   に、前記クーラントノズルが連通されていることを特徴
   とする請求項１に記載の電解インプロセスドレッシング
   装置。
3. 【請求項３】 前記封止ハウジングは、前記砥石車の研
   削面の円周方向部位を被覆する円周カバーと、前記砥石
   車の研削面の側部を被覆する側部カバーとからなり、 前記円周カバーは、その先端縁が前記砥石車の研削面に
   接近または接触して、砥石車の外周を連れ回りする空気
   を遮断するとともに、前記側部カバーは、その先端縁が
   前記砥石車に摺接するように構成されていることを特徴
   とする請求項２に記載の電解インプロセスドレッシング
   装置。
4. 【請求項４】 前記砥石車回転方向上流側に位置する前
   記円周カバーに、前記封止空間内に連通するクーラント
   通路が貫設されるとともに、このクーラント通路に前記
   クーラントノズルが連通されていることを特徴とする請
   求項３に記載の電解インプロセスドレッシング装置。
5. 【請求項５】 研削加工中に電解ドレッシングが行われ
   る電解インプロセスドレッシング方式の研削装置であっ
   て、 導電性のボンド材を用いた砥石車を備えるとともに、こ
   の砥石車の研削加工部と干渉しない部位に、請求項１か
   ら４のいずれか一つに記載の電解インプロセスドレッシ
   ング装置が設けられてなることを特徴とする研削装置。