JPH10123687A - ハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 低補充・迅速処理系において一日当たり感光
材料の処理量を少なくした場合でも、液の保存性が良好
で、安定した定着性能を維持できるハロゲン化銀写真感
光材料用の処理液及びそれを用いる処理方法を提供す
る。 【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物を含
有するハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処
理液、該処理液を用いる工程を有するハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法。
材料の処理量を少なくした場合でも、液の保存性が良好
で、安定した定着性能を維持できるハロゲン化銀写真感
光材料用の処理液及びそれを用いる処理方法を提供す
る。 【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物を含
有するハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処
理液、該処理液を用いる工程を有するハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料用の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理
方法に関し、詳しくはどの様な処理条件下においても安
定した定着性能が得られるハロゲン化銀写真感光材料用
の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理方法に関
する。
光材料用の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理
方法に関し、詳しくはどの様な処理条件下においても安
定した定着性能が得られるハロゲン化銀写真感光材料用
の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、地球環境保護を目的としてロンド
ン条約が締結され、日本では１９９６年１月１日より写
真処理廃液の海洋投棄が禁止された。このため写真業界
では写真処理廃液を極限にまで低減する努力が行なわれ
て来た。例えば定着液の低補充化と定着廃液の低減に関
する技術ついては、特開平８−２０１９９７号等に記載
されている。
ン条約が締結され、日本では１９９６年１月１日より写
真処理廃液の海洋投棄が禁止された。このため写真業界
では写真処理廃液を極限にまで低減する努力が行なわれ
て来た。例えば定着液の低補充化と定着廃液の低減に関
する技術ついては、特開平８−２０１９９７号等に記載
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、更なる
定着液の低補充化を行うと液中に蓄積する銀イオンとハ
ロゲンイオンが増加するために定着能力が大幅に低下
し、上記公知例に記載の技術では定着不良や定着ムラが
発生してしまう。加えて近年は、沃化銀含有率の高いハ
ロゲン化銀を用いた高感度のカラーネガフィルムが増加
し、銀イオン及びハロゲンイオンの定着液中での蓄積量
が増加する傾向にあり、定着不良が起こり易い状況にあ
る。
定着液の低補充化を行うと液中に蓄積する銀イオンとハ
ロゲンイオンが増加するために定着能力が大幅に低下
し、上記公知例に記載の技術では定着不良や定着ムラが
発生してしまう。加えて近年は、沃化銀含有率の高いハ
ロゲン化銀を用いた高感度のカラーネガフィルムが増加
し、銀イオン及びハロゲンイオンの定着液中での蓄積量
が増加する傾向にあり、定着不良が起こり易い状況にあ
る。
【０００４】又、近年のミニラボ店の増加により処理の
迅速化の要望はますます高まり、定着処理工程において
もその低補充化のみならず迅速化のために定着剤である
チオ硫酸塩の高濃度化が行われている。高濃度化する
と、一日当たりの感光材料の処理量が少ない場合、定着
液中の亜硫酸の空気酸化を防止することが困難になり、
亜硫酸が減少した定着処理液が次槽の安定化槽１槽目に
持ち込まれ、該槽の液保存性が大きく低下し、チオ硫酸
塩の分解物からなる不溶物が発生し感光材料に傷が付い
たり付着したりするという問題が発生する。又、定着処
理槽から安定化１槽目への渡りローラー部に付着した定
着液の乾燥や空気酸化による固着物の発生により感光材
料に擦り傷やジャムトラブルを発生させる問題も起き易
くなる。これらのことから、チオ硫酸塩の低濃度化も要
望されてきている。
迅速化の要望はますます高まり、定着処理工程において
もその低補充化のみならず迅速化のために定着剤である
チオ硫酸塩の高濃度化が行われている。高濃度化する
と、一日当たりの感光材料の処理量が少ない場合、定着
液中の亜硫酸の空気酸化を防止することが困難になり、
亜硫酸が減少した定着処理液が次槽の安定化槽１槽目に
持ち込まれ、該槽の液保存性が大きく低下し、チオ硫酸
塩の分解物からなる不溶物が発生し感光材料に傷が付い
たり付着したりするという問題が発生する。又、定着処
理槽から安定化１槽目への渡りローラー部に付着した定
着液の乾燥や空気酸化による固着物の発生により感光材
料に擦り傷やジャムトラブルを発生させる問題も起き易
くなる。これらのことから、チオ硫酸塩の低濃度化も要
望されてきている。
【０００５】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、低補充・迅速処理系において一日
当たりの感光材料の処理量が少ない場合でも、液の保存
性が良好で、安定した定着性能を維持できるハロゲン化
銀写真感光材料用の処理液及びそれを用いる処理方法を
提供することにある。
であり、その目的は、低補充・迅速処理系において一日
当たりの感光材料の処理量が少ない場合でも、液の保存
性が良好で、安定した定着性能を維持できるハロゲン化
銀写真感光材料用の処理液及びそれを用いる処理方法を
提供することにある。
【０００６】これ以外の本発明の目的は以下の明細書の
記載の中で明らかとなろう。
記載の中で明らかとなろう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 前記一般式（１）で表される化合物を含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液、該処
理液が定着液又は漂白定着液であること、該処理液がチ
オ硫酸塩を含有し、該チオ硫酸塩に対して前記一般式
（１）で表される化合物を０．０５〜５重量％で含有す
ること、該処理液が沃素イオンを０．００１〜０．００
６モル／ｌ含有すること、該処理液が更に前記一般式
（２）で表される化合物を含有すること、前記一般式
（１）で表される化合物に対して前記一般式（２）で表
される化合物を０．０１〜２０重量％で含有すること、 前記定着能を有する処理液を用いる工程（以下、定
着能を有する工程とも言う。）を有するハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法、該工程に引き続く処理工程の処
理槽の少なくとも１つから汲み出した処理液を、該定着
能を有する処理液を用いる工程の処理槽の少なくとも１
つに導入すること、前記定着能を有する処理液を用いる
工程への補充液の補充量が処理される感光材料１ｍ2当
たり８００ｍｌ以下であること、前記定着能を有する処
理液を用いる工程に引き続く処理工程が、実質的にホル
ムアルデヒドを含有しない安定化処理液を用いる安定化
工程であること、前記安定化処理液が前記一般式（Ｆ−
１）〜（Ｆ−１４）から選ばれる式で表される化合物を
含有すること、によって達成される。
ゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液、該処
理液が定着液又は漂白定着液であること、該処理液がチ
オ硫酸塩を含有し、該チオ硫酸塩に対して前記一般式
（１）で表される化合物を０．０５〜５重量％で含有す
ること、該処理液が沃素イオンを０．００１〜０．００
６モル／ｌ含有すること、該処理液が更に前記一般式
（２）で表される化合物を含有すること、前記一般式
（１）で表される化合物に対して前記一般式（２）で表
される化合物を０．０１〜２０重量％で含有すること、 前記定着能を有する処理液を用いる工程（以下、定
着能を有する工程とも言う。）を有するハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法、該工程に引き続く処理工程の処
理槽の少なくとも１つから汲み出した処理液を、該定着
能を有する処理液を用いる工程の処理槽の少なくとも１
つに導入すること、前記定着能を有する処理液を用いる
工程への補充液の補充量が処理される感光材料１ｍ2当
たり８００ｍｌ以下であること、前記定着能を有する処
理液を用いる工程に引き続く処理工程が、実質的にホル
ムアルデヒドを含有しない安定化処理液を用いる安定化
工程であること、前記安定化処理液が前記一般式（Ｆ−
１）〜（Ｆ−１４）から選ばれる式で表される化合物を
含有すること、によって達成される。
【０００８】以下、本発明について詳述する。
【０００９】本発明の定着能を有する処理液は一般式
（１）で表される化合物を含有することをその特徴と
し、好ましくは一般式（２）で表される化合物を併用す
る。
（１）で表される化合物を含有することをその特徴と
し、好ましくは一般式（２）で表される化合物を併用す
る。
【００１０】以下に一般式（１）で表される化合物及び
一般式（２）で表される化合物（以下、本発明の化合物
とも言う。）の具体例を挙げるが、これらに限定されな
い。
一般式（２）で表される化合物（以下、本発明の化合物
とも言う。）の具体例を挙げるが、これらに限定されな
い。
【００１１】
【化１３】
【００１２】
【化１４】
【００１３】
【化１５】
【００１４】
【化１６】
【００１５】
【化１７】
【００１６】これらの化合物のうち好ましいのは１−
１、１−２、１−４、１−１０、１−１４、２−９、２
−１０、２−１３、２−３０、２−３１であり、特に好
ましくは１−１、１−４、１−１０、２−１０である。
又、これらは単独で用いても併用してもよい。
１、１−２、１−４、１−１０、１−１４、２−９、２
−１０、２−１３、２−３０、２−３１であり、特に好
ましくは１−１、１−４、１−１０、２−１０である。
又、これらは単独で用いても併用してもよい。
【００１７】一般式（１）で表される化合物及び一般式
（２）で表される化合物は銀イオンとの相互作用が非常
に高いため、通常、銀イオンとチオ硫酸塩の分解物から
なる不溶物の生成に対して、これらの化合物を定着及び
漂白定着用処理液に含有させることにより、１日当たり
の感光材料の処理量が少ない場合においても、定着、漂
白定着処理液又は安定槽１槽目等での不溶物の発生を防
止することが可能となる。
（２）で表される化合物は銀イオンとの相互作用が非常
に高いため、通常、銀イオンとチオ硫酸塩の分解物から
なる不溶物の生成に対して、これらの化合物を定着及び
漂白定着用処理液に含有させることにより、１日当たり
の感光材料の処理量が少ない場合においても、定着、漂
白定着処理液又は安定槽１槽目等での不溶物の発生を防
止することが可能となる。
【００１８】また前記化合物を含有させることにより定
着反応を完了させるために必要なチオ硫酸塩濃度を低減
することが可能になる。このチオ硫酸塩の低濃度化によ
り定着能を有する処理槽及びそれに引き続く処理槽での
チオ硫酸塩の分解物の析出、固着発生を防止でき、なお
かつ安定した定着性能を維持できることが可能になる。
着反応を完了させるために必要なチオ硫酸塩濃度を低減
することが可能になる。このチオ硫酸塩の低濃度化によ
り定着能を有する処理槽及びそれに引き続く処理槽での
チオ硫酸塩の分解物の析出、固着発生を防止でき、なお
かつ安定した定着性能を維持できることが可能になる。
【００１９】本発明においては、定着能を有する処理液
に直接供給する補充量を８００ｍｌ／ｍ2以下にするこ
とにより、本発明の効果をより大きく発揮することがで
きる。というのは、８００ｍｌ／ｍ2以下の補充量にな
ると、該処理液中に蓄積する銀イオン及びハロゲンイオ
ン濃度が一層増加し、更なる定着性能の劣化を引き起こ
し易くなると同時に更新率が低下し保存性も悪化するた
めである。本発明の化合物を定着能を有する処理液に含
有させることによって、補充量が８００ｍｌ／ｍ2以下
の場合においても、定着不良を起こすことなく安定した
処理性能を発揮できるのである。
に直接供給する補充量を８００ｍｌ／ｍ2以下にするこ
とにより、本発明の効果をより大きく発揮することがで
きる。というのは、８００ｍｌ／ｍ2以下の補充量にな
ると、該処理液中に蓄積する銀イオン及びハロゲンイオ
ン濃度が一層増加し、更なる定着性能の劣化を引き起こ
し易くなると同時に更新率が低下し保存性も悪化するた
めである。本発明の化合物を定着能を有する処理液に含
有させることによって、補充量が８００ｍｌ／ｍ2以下
の場合においても、定着不良を起こすことなく安定した
処理性能を発揮できるのである。
【００２０】更に、補充量が３０〜６００ｍｌ／ｍ2、
更には５０〜４００ｍｌ／ｍ2において本発明の効果を
更に遺憾なく発揮する。
更には５０〜４００ｍｌ／ｍ2において本発明の効果を
更に遺憾なく発揮する。
【００２１】又、定着能を有する処理工程に引く続く処
理工程の処理槽から直接汲み出した処理液を定着能を有
する処理工程の処理槽へ導入することで、本発明の効果
をより良好に奏するばかりか、廃液の低減化の観点から
も好ましい態様の１つである。
理工程の処理槽から直接汲み出した処理液を定着能を有
する処理工程の処理槽へ導入することで、本発明の効果
をより良好に奏するばかりか、廃液の低減化の観点から
も好ましい態様の１つである。
【００２２】本発明において上述の効果をより発揮させ
るためにはチオ硫酸塩に対する一般式（１）で表される
化合物の重量比率が０．０５重量％以上、５重量％以下
であることが好ましく、０．１重量％以上、３重量％以
下、更には０．３重量％以上、２重量％以下であること
が本発明の目的の効果及び低温時の析出性の面からもよ
り好ましい。又、一般式（１）で表される化合物に対し
て一般式（２）で表される化合物を０．０１〜２０重量
％で用いることが好ましく、更には０．１〜２重量％で
用いることが本発明の目的の効果と析出性の点で好まし
い。
るためにはチオ硫酸塩に対する一般式（１）で表される
化合物の重量比率が０．０５重量％以上、５重量％以下
であることが好ましく、０．１重量％以上、３重量％以
下、更には０．３重量％以上、２重量％以下であること
が本発明の目的の効果及び低温時の析出性の面からもよ
り好ましい。又、一般式（１）で表される化合物に対し
て一般式（２）で表される化合物を０．０１〜２０重量
％で用いることが好ましく、更には０．１〜２重量％で
用いることが本発明の目的の効果と析出性の点で好まし
い。
【００２３】処理される感光材料のハロゲン化銀は塩化
銀、塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀等が挙げら
れるが、本発明の効果を発揮させるためには撮影用感光
材料等の沃化銀含有率が全ハロゲン化銀の５モル％以上
の、沃化銀含有率が比較的高い沃化銀写真感光材料であ
ることが好ましい。また磁気記録層を設けた感光材料で
あってもよい。
銀、塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀等が挙げら
れるが、本発明の効果を発揮させるためには撮影用感光
材料等の沃化銀含有率が全ハロゲン化銀の５モル％以上
の、沃化銀含有率が比較的高い沃化銀写真感光材料であ
ることが好ましい。また磁気記録層を設けた感光材料で
あってもよい。
【００２４】本発明の化合物は定着能を有する処理液中
の蓄積した沃素イオンの濃度が高い場合に効果をより発
揮する。即ち、蓄積沃素イオンの濃度が０．００１〜
０．００６モル／ｌ程度、更には０．００３〜０．００
５モル／ｌの際に本発明の効果をより顕著に奏する。
の蓄積した沃素イオンの濃度が高い場合に効果をより発
揮する。即ち、蓄積沃素イオンの濃度が０．００１〜
０．００６モル／ｌ程度、更には０．００３〜０．００
５モル／ｌの際に本発明の効果をより顕著に奏する。
【００２５】本発明に係る定着液及び漂白定着液には所
謂定着剤が必須である。
謂定着剤が必須である。
【００２６】定着剤としては、ハロゲン化銀と反応して
水溶性の銀錯塩を形成する化合物、例えばチオ硫酸カリ
ウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムの如
きチオ硫酸塩、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸ナ
トリウム、チオシアン酸アンモニウムの如きチオシアン
酸塩、或いはチオエーテル等が挙げられる。
水溶性の銀錯塩を形成する化合物、例えばチオ硫酸カリ
ウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムの如
きチオ硫酸塩、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸ナ
トリウム、チオシアン酸アンモニウムの如きチオシアン
酸塩、或いはチオエーテル等が挙げられる。
【００２７】更に定着液及び漂白定着液には、これらの
定着剤の他に硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリ
ウム、重炭酸カリウム、酢酸、酢酸ナトリウム、水酸化
アンモニウム等の各種の塩から成るｐＨ緩衝剤を単独或
いは２種以上含むことができる。また蓚酸塩、燐酸塩等
のその他のｐＨ緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレ
ンオキサイド類等の通常定着液及び漂白定着液に添加す
ることが知られているものを適宜添加することができ
る。
定着剤の他に硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリ
ウム、重炭酸カリウム、酢酸、酢酸ナトリウム、水酸化
アンモニウム等の各種の塩から成るｐＨ緩衝剤を単独或
いは２種以上含むことができる。また蓚酸塩、燐酸塩等
のその他のｐＨ緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレ
ンオキサイド類等の通常定着液及び漂白定着液に添加す
ることが知られているものを適宜添加することができ
る。
【００２８】前記定着剤は処理液１ｌ当たり０．１モル
以上で用いられ、本発明の目的の効果の点から好ましく
は０．６〜４モルの範囲、特に好ましくは０．９〜３．
０モルの範囲、とりわけ特に好ましくは１．１〜２．０
モルの範囲で用いられる。
以上で用いられ、本発明の目的の効果の点から好ましく
は０．６〜４モルの範囲、特に好ましくは０．９〜３．
０モルの範囲、とりわけ特に好ましくは１．１〜２．０
モルの範囲で用いられる。
【００２９】本発明の定着液及び漂白定着液は好ましく
はｐＨ４〜８で用いられる。
はｐＨ４〜８で用いられる。
【００３０】本発明の定着液及び漂白定着液は亜硫酸塩
及び亜硫酸放出化合物を含むことが好ましく、該化合物
としては、亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
アンモニウム、亜硫酸水素アンモニウム、亜硫酸水素カ
リウム、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウ
ム等が挙げられる。
及び亜硫酸放出化合物を含むことが好ましく、該化合物
としては、亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
アンモニウム、亜硫酸水素アンモニウム、亜硫酸水素カ
リウム、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウ
ム等が挙げられる。
【００３１】これらの亜硫酸塩及び亜硫酸放出化合物
は、定着液又は漂白定着液１ｌ当たり亜硫酸として少な
くとも０．１モルであることが好ましいが、０．１２〜
０．５５モル／ｌの範囲が好ましく、０．１５〜０．５
０モル／ｌの範囲が特に好ましい。とりわけ特に０．２
０〜０．４０モル／ｌの範囲が好ましい。
は、定着液又は漂白定着液１ｌ当たり亜硫酸として少な
くとも０．１モルであることが好ましいが、０．１２〜
０．５５モル／ｌの範囲が好ましく、０．１５〜０．５
０モル／ｌの範囲が特に好ましい。とりわけ特に０．２
０〜０．４０モル／ｌの範囲が好ましい。
【００３２】本発明の定着液及び漂白定着液にはスルフ
ィン酸誘導体を含んでもよい。
ィン酸誘導体を含んでもよい。
【００３３】本発明の方法を実施する際、定着能を有す
る処理液から銀回収する方法は定着能を有する処理液か
ら銀回収できる方法であれば何れのものであってもよ
く、例えば電気分解法（仏国特許第２，２９９，６６７
号明細書記載）、沈澱法（特開昭５２−７３０３７号公
報記載、独国特許第２，３３１，２２０号明細書記
載）、イオン交換法（特開昭５１−１７１１４号公報記
載、独国特許第２，５４８，２３７号明細書記載）及び
金属置換法（英国特許第１，３５３，８０５号明細書記
載）等が有効に利用できる。
る処理液から銀回収する方法は定着能を有する処理液か
ら銀回収できる方法であれば何れのものであってもよ
く、例えば電気分解法（仏国特許第２，２９９，６６７
号明細書記載）、沈澱法（特開昭５２−７３０３７号公
報記載、独国特許第２，３３１，２２０号明細書記
載）、イオン交換法（特開昭５１−１７１１４号公報記
載、独国特許第２，５４８，２３７号明細書記載）及び
金属置換法（英国特許第１，３５３，８０５号明細書記
載）等が有効に利用できる。
【００３４】銀回収が終了した定着能を有する処理液
は、元の定着能を有する処理槽に戻されるが、戻される
前に亜硫酸塩等の酸化防止剤を添加することができる。
は、元の定着能を有する処理槽に戻されるが、戻される
前に亜硫酸塩等の酸化防止剤を添加することができる。
【００３５】本発明における定着槽、若しくは漂白定着
槽は１槽であっても、また複数の処理槽であってもよ
い。定着槽又は漂白定着槽が複数の場合は、そのうち最
も後ろの槽に補充用処理剤が補充され、該槽の前槽にオ
ーバーフロー液が流入するような形式が好ましい。又、
漂白定着槽は漂白槽のオーバーフロー液と定着槽のオー
バーフロー液と混合した液から構成されるようになって
いてもよく、その場合は漂白槽−漂白定着槽−定着槽の
順に配列されていることが好ましい。
槽は１槽であっても、また複数の処理槽であってもよ
い。定着槽又は漂白定着槽が複数の場合は、そのうち最
も後ろの槽に補充用処理剤が補充され、該槽の前槽にオ
ーバーフロー液が流入するような形式が好ましい。又、
漂白定着槽は漂白槽のオーバーフロー液と定着槽のオー
バーフロー液と混合した液から構成されるようになって
いてもよく、その場合は漂白槽−漂白定着槽−定着槽の
順に配列されていることが好ましい。
【００３６】本発明に用いられるポンプとしては、定量
的に送液できかつ小型である点から、ベローズポンプ
（例えば（株）イワキ製ベローズポンプ，ＫＢ，ＫＢＭ
シリーズ）、ペリスタポンプ（例えばアトー（株）製，
ＳＪシリーズ）、電磁定量ポンプ（例えば小林理化器械
（株）製又は（株）第一科学製，ＥＸ及びＥＸ−Ｅシリ
ーズ）等が、挙げられる。
的に送液できかつ小型である点から、ベローズポンプ
（例えば（株）イワキ製ベローズポンプ，ＫＢ，ＫＢＭ
シリーズ）、ペリスタポンプ（例えばアトー（株）製，
ＳＪシリーズ）、電磁定量ポンプ（例えば小林理化器械
（株）製又は（株）第一科学製，ＥＸ及びＥＸ−Ｅシリ
ーズ）等が、挙げられる。
【００３７】本発明において写真処理液蒸留装置を併用
すると廃液量が著しく低減されるため、併用することが
より好ましい。特にその蒸留液を溶解水又は補充水とし
て利用することにより補充タンクへの補給量も減少する
ことができるため作業者の作業量低減の面からも併用が
好ましい。
すると廃液量が著しく低減されるため、併用することが
より好ましい。特にその蒸留液を溶解水又は補充水とし
て利用することにより補充タンクへの補給量も減少する
ことができるため作業者の作業量低減の面からも併用が
好ましい。
【００３８】一般に自動現像機は温調のため、電気ヒー
タにより処理液を温調しており、処理部としての処理タ
ンクと連結した補助タンクに熱交換部を設け、ヒータを
設置しこの補助タンクには処理タンクから液を一定循環
量で送り込み、温度を一定にするようポンプが配置され
ている。
タにより処理液を温調しており、処理部としての処理タ
ンクと連結した補助タンクに熱交換部を設け、ヒータを
設置しこの補助タンクには処理タンクから液を一定循環
量で送り込み、温度を一定にするようポンプが配置され
ている。
【００３９】そして通常は処理液中に混入したり、結晶
化で生じる結晶異物を取り除く目的でフィルターが配置
され、異物を除去する役割を担っている。
化で生じる結晶異物を取り除く目的でフィルターが配置
され、異物を除去する役割を担っている。
【００４０】フィルターや濾過装置等の材質は一般的な
自動現像機に用いるものは全て本発明に使用でき、特殊
な構造や材料が本発明の効果を左右するものではない。
自動現像機に用いるものは全て本発明に使用でき、特殊
な構造や材料が本発明の効果を左右するものではない。
【００４１】本発明に係わる処理方法の好ましい具体的
処理工程を以下に示す。
処理工程を以下に示す。
【００４２】（１）発色現像→漂白→定着→水洗 （２）発色現像→漂白→定着→水洗→安定 （３）発色現像→漂白→定着→安定 （４）発色現像→漂白→定着→第１安定→第２安定 （５）発色現像→漂白→漂白定着→水洗 （６）発色現像→漂白→漂白定着→水洗→安定 （７）発色現像→漂白→漂白定着→安定 （８）発色現像→漂白→漂白定着→第１安定→第２安定 （９）発色現像→漂白→漂白定着→定着→水洗→安定 （１０）発色現像→漂白→漂白定着→定着→第１安定→
第２安定 （１１）発色現像→漂白定着→安定 これらの工程の中で（３），（４），（７），（１０）
が好ましく、特に（３），（４）が好ましい。
第２安定 （１１）発色現像→漂白定着→安定 これらの工程の中で（３），（４），（７），（１０）
が好ましく、特に（３），（４）が好ましい。
【００４３】更に、安定処理液が実質的にホルムアルデ
ヒドを含有しないことにより本発明の効果がより一層発
揮される。一般式（１）又は（２）で表される化合物を
組み合わせた処理により、処理される感光材料の裏面汚
れや硫化の問題が大幅に改善される。未反応マゼンタカ
プラーの活性点を封鎖する目的では、安定処理液が前記
一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−１４）で表される化合物から
選ばれる少なくとも１つを含有するのが好ましい。
ヒドを含有しないことにより本発明の効果がより一層発
揮される。一般式（１）又は（２）で表される化合物を
組み合わせた処理により、処理される感光材料の裏面汚
れや硫化の問題が大幅に改善される。未反応マゼンタカ
プラーの活性点を封鎖する目的では、安定処理液が前記
一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−１４）で表される化合物から
選ばれる少なくとも１つを含有するのが好ましい。
【００４４】一般式（Ｆ−１）においてＲ11〜Ｒ16は、
各々、水素原子又は１価の有機基を表すが、１価の有機
基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、
アラルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基、アシル基、スルホニル基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環残基、カルバモイル基、スルファモ
イル基又はアルキルアミノ基等を挙げることができる。
これらの１価の有機基は置換基（例えば、ヒドロキシ
基、アシル基、スルホニル基、ハロゲン原子、アミノ
基、カルボキシ基等を挙げることができ、好ましくはヒ
ドロキシ基、ハロゲン原子である。）を有することがで
きる。又、Ｒ11〜Ｒ16で示される置換基の総炭素数は１
０以下が好ましい。
各々、水素原子又は１価の有機基を表すが、１価の有機
基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、
アラルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基、アシル基、スルホニル基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環残基、カルバモイル基、スルファモ
イル基又はアルキルアミノ基等を挙げることができる。
これらの１価の有機基は置換基（例えば、ヒドロキシ
基、アシル基、スルホニル基、ハロゲン原子、アミノ
基、カルボキシ基等を挙げることができ、好ましくはヒ
ドロキシ基、ハロゲン原子である。）を有することがで
きる。又、Ｒ11〜Ｒ16で示される置換基の総炭素数は１
０以下が好ましい。
【００４５】Ｒ11、Ｒ13、Ｒ15の群と、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ
16の群は同一でも異なってもよいが、どちらかの群の一
方が水素原子である場合が好ましい。
16の群は同一でも異なってもよいが、どちらかの群の一
方が水素原子である場合が好ましい。
【００４６】以下に一般式（Ｆ−１）で表される化合物
の具体例を挙げるが、これに限定されない。
の具体例を挙げるが、これに限定されない。
【００４７】
【化１８】
【００４８】
【化１９】
【００４９】
【化２０】
【００５０】これら一般式（Ｆ−１）で表されるトリア
ジン系化合物は、処理液１ｌ当たり０．０５〜５０ｇの
範囲で用いられることが好ましく、より好ましくは０．
１〜２０ｇの範囲である。
ジン系化合物は、処理液１ｌ当たり０．０５〜５０ｇの
範囲で用いられることが好ましく、より好ましくは０．
１〜２０ｇの範囲である。
【００５１】一般式（Ｆ−２）、（Ｆ−３）又は（Ｆ−
４）で表されるメチロール系化合物の具体例としては、
以下の化合物が挙げられる。
４）で表されるメチロール系化合物の具体例としては、
以下の化合物が挙げられる。
【００５２】（Ｆ−２−１）ジメチロール尿素 （Ｆ−２−２）トリメチロール尿素 （Ｆ−３−１）トリメチロールメラミン （Ｆ−３−２）テトラメチロールメラミン （Ｆ−３−３）ペンタメチロールメラミン （Ｆ−３−４）ヘキサメチロールメラミン （Ｆ−４−１）ジメチロールグアニジン （Ｆ−４−２）メチロールグアニジン （Ｆ−４−３）トリメチロールグアニジン これらの化合物は、処理液１ｌ当たり０．０５〜２０ｇ
の範囲で用いられることが好ましく、より好ましくは
０．１〜１０ｇの範囲である。
の範囲で用いられることが好ましく、より好ましくは
０．１〜１０ｇの範囲である。
【００５３】一般式（Ｆ−５）及び（Ｆ−６）におい
て、Ｖ1及びＷ1で表される電子吸引性の基としては、ハ
メットのσp値（Ｌａｎｇｅ′ａ Ｈａｎｄｂｏｏｋ
ｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ １２ｔｈ ｅｄ． Ｖｏｌ．
３，Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ ＆Ａ．Ｌｅｏ，Ｓｕｂｓｔｉｔ
ｕｅｎｔ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ ｆｏｒ Ｃｏｒｒｅｌ
ａｔｉｏｎ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ（Ｊｏｎｅ Ｗｉｌｅｙ
＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９７９））が正
である基から選ばれるもので、具体的には、アシル基
（例えば、アセチル、ベンゾイル、モノクロロアセチル
等の各基）、アルコキシカルボニル基（例えば、エトキ
シカルボニル、メトキシエトキシカルボニル等の基）、
アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカル
ボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニル等の基）、カ
ルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，
Ｎ−テトラメチレンカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバ
モイル等の基）、シアノ基、アルキルスルホニル基（例
えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等の基）、
アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、
ｐ−トルエンスルホニル等の基）、スルファモイル基
（例えば、スルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ペンタメチレンスルファモイル等の基）等
が挙げられる。
て、Ｖ1及びＷ1で表される電子吸引性の基としては、ハ
メットのσp値（Ｌａｎｇｅ′ａ Ｈａｎｄｂｏｏｋ
ｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ １２ｔｈ ｅｄ． Ｖｏｌ．
３，Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ ＆Ａ．Ｌｅｏ，Ｓｕｂｓｔｉｔ
ｕｅｎｔ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ ｆｏｒ Ｃｏｒｒｅｌ
ａｔｉｏｎ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ（Ｊｏｎｅ Ｗｉｌｅｙ
＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９７９））が正
である基から選ばれるもので、具体的には、アシル基
（例えば、アセチル、ベンゾイル、モノクロロアセチル
等の各基）、アルコキシカルボニル基（例えば、エトキ
シカルボニル、メトキシエトキシカルボニル等の基）、
アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカル
ボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニル等の基）、カ
ルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，
Ｎ−テトラメチレンカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバ
モイル等の基）、シアノ基、アルキルスルホニル基（例
えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等の基）、
アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、
ｐ−トルエンスルホニル等の基）、スルファモイル基
（例えば、スルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ペンタメチレンスルファモイル等の基）等
が挙げられる。
【００５４】Ｙ1で表される加水分解によって離脱する
基としては、例えばトリアルキル置換シリル基（例え
ば、トリメチルシリル基等）、アシル基（例えば、アセ
チル、ベンゾイル、モノクロロアセチル、トリクロロア
セチル等の基）、スルフェート基、アミノカルボニル基
（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボニル、Ｎ−メチルカ
ルボニル、Ｎ−フェニルカルボニル等の基）、スルホナ
ート基（例えば、メタンスルホナート、ベンゼンスルホ
ナート、ｐ−トルエンスルホナート等の基）等が挙げら
れる。
基としては、例えばトリアルキル置換シリル基（例え
ば、トリメチルシリル基等）、アシル基（例えば、アセ
チル、ベンゾイル、モノクロロアセチル、トリクロロア
セチル等の基）、スルフェート基、アミノカルボニル基
（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボニル、Ｎ−メチルカ
ルボニル、Ｎ−フェニルカルボニル等の基）、スルホナ
ート基（例えば、メタンスルホナート、ベンゼンスルホ
ナート、ｐ−トルエンスルホナート等の基）等が挙げら
れる。
【００５５】Ｚで表される窒素原子と共に形成される５
員又は６員の含窒素ヘテロ環としては、［Ｃ1Ｎ4］、
［Ｃ2Ｎ3］、［Ｃ3Ｎ2］、［Ｃ4Ｎ］、［Ｃ2Ｎ4］、
［Ｃ3Ｎ3］、［Ｃ4Ｎ2］、［Ｃ5Ｎ］、［Ｃ2Ｎ2Ｏ］、
［Ｃ3ＮＯ］、［Ｃ3Ｎ2Ｏ］、［Ｃ4ＮＯ］、［Ｃ2Ｎ
2Ｓ］、［Ｃ3ＮＳ］、［Ｃ3Ｎ2Ｓ］、［Ｃ2Ｎ2Ｓｅ］、
［Ｃ3ＮＳｅ］、［Ｃ4ＮＳｅ］、［Ｃ3ＮＴｅ］等の元
素構成からなる単環類や、［Ｃ3Ｎ2−Ｃ6］、［Ｃ4Ｎ−
Ｃ6］、［Ｃ4Ｎ−Ｃ3Ｎ2］、［Ｃ3Ｎ2−Ｃ3Ｎ2］、［Ｃ
3ＮＳ−Ｃ6］、［Ｃ5Ｎ−Ｃ5Ｎ］、［Ｃ5Ｎ−Ｃ6］、
［Ｃ4Ｎ2−Ｃ6］等の元素構成からなる縮合環類が挙げ
られ、これらの環は、例えばアルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、メトキシエチル、ベンジル、カルボキシメ
チル、スルホプロピル等の基）、アリール基（例えば、
フェニル、ｐ−メトキシフェニル等の基）、ヒドロキシ
基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、メト
キシエトキシ等の基）、アリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、ｐ−カルボキシフェニル等の基）、カルボキ
シ基、スルホ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル等の基）、アリ
ールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニ
ル基等）、アミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ等の基）、
アシルアミド（例えば、アセトアミド、ベンズアミド等
の基）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、Ｎ−
メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テトラメチレンカルバモ
イル等の基）、スルホンアミド基（例えば、メタンスル
ホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等の基）、スルフ
ァモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，
Ｎ−ジメチルスルファモイル等の基）、アルキルスルホ
ニル基（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル
等の基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンス
ルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等の基）、アシル基
（例えば、アセチル、ベンゾイル等の基）等を置換基で
有してもよい。
員又は６員の含窒素ヘテロ環としては、［Ｃ1Ｎ4］、
［Ｃ2Ｎ3］、［Ｃ3Ｎ2］、［Ｃ4Ｎ］、［Ｃ2Ｎ4］、
［Ｃ3Ｎ3］、［Ｃ4Ｎ2］、［Ｃ5Ｎ］、［Ｃ2Ｎ2Ｏ］、
［Ｃ3ＮＯ］、［Ｃ3Ｎ2Ｏ］、［Ｃ4ＮＯ］、［Ｃ2Ｎ
2Ｓ］、［Ｃ3ＮＳ］、［Ｃ3Ｎ2Ｓ］、［Ｃ2Ｎ2Ｓｅ］、
［Ｃ3ＮＳｅ］、［Ｃ4ＮＳｅ］、［Ｃ3ＮＴｅ］等の元
素構成からなる単環類や、［Ｃ3Ｎ2−Ｃ6］、［Ｃ4Ｎ−
Ｃ6］、［Ｃ4Ｎ−Ｃ3Ｎ2］、［Ｃ3Ｎ2−Ｃ3Ｎ2］、［Ｃ
3ＮＳ−Ｃ6］、［Ｃ5Ｎ−Ｃ5Ｎ］、［Ｃ5Ｎ−Ｃ6］、
［Ｃ4Ｎ2−Ｃ6］等の元素構成からなる縮合環類が挙げ
られ、これらの環は、例えばアルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、メトキシエチル、ベンジル、カルボキシメ
チル、スルホプロピル等の基）、アリール基（例えば、
フェニル、ｐ−メトキシフェニル等の基）、ヒドロキシ
基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、メト
キシエトキシ等の基）、アリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、ｐ−カルボキシフェニル等の基）、カルボキ
シ基、スルホ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル等の基）、アリ
ールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニ
ル基等）、アミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ等の基）、
アシルアミド（例えば、アセトアミド、ベンズアミド等
の基）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、Ｎ−
メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テトラメチレンカルバモ
イル等の基）、スルホンアミド基（例えば、メタンスル
ホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等の基）、スルフ
ァモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，
Ｎ−ジメチルスルファモイル等の基）、アルキルスルホ
ニル基（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル
等の基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンス
ルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等の基）、アシル基
（例えば、アセチル、ベンゾイル等の基）等を置換基で
有してもよい。
【００５６】一般式（Ｆ−５）において、各々２価の電
子吸引性基であるＶ1とＷ1を介して形成することができ
る５員又は６員の含窒素ヘテロ環としては、下記一般式
（Ｆ−５−ａ）で表されるものが挙げられる。
子吸引性基であるＶ1とＷ1を介して形成することができ
る５員又は６員の含窒素ヘテロ環としては、下記一般式
（Ｆ−５−ａ）で表されるものが挙げられる。
【００５７】
【化２１】
【００５８】上式において、Ｖ1及びＷ1は各々−ＣＯ
−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2又は−ＣＳ−基
を表し、Ｚ5はＶ1及びＷ1と結合して５員又は６員の単
環或いは縮合環を形成するに必要な非金属原子群を表
す。
−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2又は−ＣＳ−基
を表し、Ｚ5はＶ1及びＷ1と結合して５員又は６員の単
環或いは縮合環を形成するに必要な非金属原子群を表
す。
【００５９】Ｚ5で形成される５員又は６員の単環或い
は縮合環は置換基を有してもよく、例えば、アルキル基
（例えば、メチル、エチル、メトキシエチル、ベンジ
ル、カルボキシメチル、スルホプロピル等の基）、アリ
ール基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル等の
基）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えば、メトキ
シ、エトキシ、メトキシエトキシ等の基）、アリールオ
キシ基（例えば、フェノキシ、ｐ−カルボキシフェニル
等の基）、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシカルボ
ニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル等の基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、
フェノキシカルボニル基等）、アミノ基（例えば、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−フェニル
アミノ等の基）、アシルアミド基（例えば、アセトアミ
ド、ベンズアミド等の基）、カルバモイル基（例えば、
カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テト
ラメチレンカルバモイル等の基）、スルホンアミド基
（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド等の基）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチル
スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル等の
基）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニ
ル、エタンスルホニル等の基）、アリールスルホニル基
（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニ
ル等の基）、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル
等の基）等が挙げられる。
は縮合環は置換基を有してもよく、例えば、アルキル基
（例えば、メチル、エチル、メトキシエチル、ベンジ
ル、カルボキシメチル、スルホプロピル等の基）、アリ
ール基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル等の
基）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えば、メトキ
シ、エトキシ、メトキシエトキシ等の基）、アリールオ
キシ基（例えば、フェノキシ、ｐ−カルボキシフェニル
等の基）、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシカルボ
ニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル等の基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、
フェノキシカルボニル基等）、アミノ基（例えば、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−フェニル
アミノ等の基）、アシルアミド基（例えば、アセトアミ
ド、ベンズアミド等の基）、カルバモイル基（例えば、
カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テト
ラメチレンカルバモイル等の基）、スルホンアミド基
（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド等の基）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチル
スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル等の
基）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニ
ル、エタンスルホニル等の基）、アリールスルホニル基
（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニ
ル等の基）、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル
等の基）等が挙げられる。
【００６０】以下に一般式（Ｆ−５）、（Ｆ−６）で表
される化合物の具体例を示すが、これに限定されない。
される化合物の具体例を示すが、これに限定されない。
【００６１】
【化２２】
【００６２】
【化２３】
【００６３】
【化２４】
【００６４】一般式（Ｆ−５）、（Ｆ−６）で表される
化合物の添加量は、処理液１ｌ当たり０．０１〜２０ｇ
程度、好ましくは０．０３〜１５ｇ、より好ましくは
０．０５〜１０ｇである。
化合物の添加量は、処理液１ｌ当たり０．０１〜２０ｇ
程度、好ましくは０．０３〜１５ｇ、より好ましくは
０．０５〜１０ｇである。
【００６５】一般式（Ｆ−７）において、Ｒ31、Ｒ32及
びＲ33で表される脂肪族基としては、飽和のアルキル基
（例えば、メチル、エチル、ブチル等の非置換のアルキ
ル基及びベンジル、カルボキシメチル、ヒドロキシメチ
ル、メトキシエチル等の置換されたアルキル基）、不飽
和のアルキル基（例えば、アリル、２−ブテニル等の
基）、環状のアルキル基（例えば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル等の基）等が挙げられる。
びＲ33で表される脂肪族基としては、飽和のアルキル基
（例えば、メチル、エチル、ブチル等の非置換のアルキ
ル基及びベンジル、カルボキシメチル、ヒドロキシメチ
ル、メトキシエチル等の置換されたアルキル基）、不飽
和のアルキル基（例えば、アリル、２−ブテニル等の
基）、環状のアルキル基（例えば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル等の基）等が挙げられる。
【００６６】Ｒ31、Ｒ32及びＲ33で表されるアリール基
は、置換及び非置換のものを含み、置換基としては、例
えばアルキル基（例えば、メチル、エチル、メトキシエ
チル、ベンジル、カルボキシメチル、スルホプロピル等
の基）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシ
フェニル等の基）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例え
ば、メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ等の基）、
アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ｐ−カルボキ
シフェニル等の基）、カルボキシ基、スルホ基、アルコ
キシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル等の基）、アリールオキシカルボニル基
（例えば、フェノキシカルボニル基等）、アミノ基（例
えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ
−フェニルアミノ等の基）、アシルアミド基（例えば、
アセトアミド、ベンズアミド等の基）、カルバモイル基
（例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、
Ｎ，Ｎ−テトラメチレンカルバモイル等の基）、スルホ
ンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼン
スルホンアミド等の基）、スルファモイル基（例えば、
Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファ
モイル等の基）、アルキルスルホニル基（例えば、メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル等の基）、アリールス
ルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエ
ンスルホニル等の基）、アシル基（例えば、アセチル、
ベンゾイル等の基）等が挙げられる。
は、置換及び非置換のものを含み、置換基としては、例
えばアルキル基（例えば、メチル、エチル、メトキシエ
チル、ベンジル、カルボキシメチル、スルホプロピル等
の基）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシ
フェニル等の基）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例え
ば、メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ等の基）、
アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ｐ−カルボキ
シフェニル等の基）、カルボキシ基、スルホ基、アルコ
キシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル等の基）、アリールオキシカルボニル基
（例えば、フェノキシカルボニル基等）、アミノ基（例
えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ
−フェニルアミノ等の基）、アシルアミド基（例えば、
アセトアミド、ベンズアミド等の基）、カルバモイル基
（例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、
Ｎ，Ｎ−テトラメチレンカルバモイル等の基）、スルホ
ンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼン
スルホンアミド等の基）、スルファモイル基（例えば、
Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファ
モイル等の基）、アルキルスルホニル基（例えば、メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル等の基）、アリールス
ルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエ
ンスルホニル等の基）、アシル基（例えば、アセチル、
ベンゾイル等の基）等が挙げられる。
【００６７】Ｒ32とＲ33が結合して形成する環は５〜８
員のヘテロ環があり、結合炭素の一部が複素原子で置換
されているものも含む。
員のヘテロ環があり、結合炭素の一部が複素原子で置換
されているものも含む。
【００６８】Ｒ31としては水素原子が好ましい。
【００６９】以下に一般式（Ｆ−７）で表される化合物
の例を挙げるが、これに限定されない。
の例を挙げるが、これに限定されない。
【００７０】
【化２５】
【００７１】一般式（Ｆ−７）で表される化合物の添加
量は処理液１ｌ当たり０．０１〜２０ｇ程度、好ましく
は０．０３〜１５ｇ、特には０．０５〜１０ｇである。
量は処理液１ｌ当たり０．０１〜２０ｇ程度、好ましく
は０．０３〜１５ｇ、特には０．０５〜１０ｇである。
【００７２】一般式（Ｆ−８）〜（Ｆ−１０）におい
て、Ｒ35、Ｒ36及びＺ3で表される脂肪族炭化水素基と
しては、飽和のアルキル基（例えば、メチル、エチル、
ブチル等の非置換アルキル基及びカルボキシメチル、メ
トキシメチル、メトキシエチル、ヒドロキシエチル、ベ
ンジル等の置換アルキル基）、不飽和のアルキル基（例
えば、アリル、２−ブテニル等の基）、環状のアルキル
基（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基）
等が挙げられる。Ｒ36及びＺ3で表されるアリール基は
置換されていてもよく、例えばアルキル基（メチル、エ
チル、メトキシエチル、ベンジル、カルボキシメチル、
スルホプロピル等の基）、アリール基（例えば、フェニ
ル、ｐ−メトキシフェニル等の基）、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、メトキシエ
トキシ等の基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキ
シ、ｐ−カルボキシフェニル等の基）、カルボキシ基、
スルホ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル等の基）、アリールオ
キシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基
等）、アミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ
−エチルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ等の基）、アシル
アミド基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド等の
基）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、Ｎ−メ
チルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テトラメチレンカルバモイ
ル等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンア
ミド、ベンゼンスルホンアミド等の基）、スルファモイ
ル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルスルファモイル等の基）、アルキルスルホニル基
（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等の
基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホ
ニル、ｐ−トルエンスルホニル等の基）、アシル基（例
えば、アセチル、ベンゾイル等の基）等の置換基が挙げ
られる。
て、Ｒ35、Ｒ36及びＺ3で表される脂肪族炭化水素基と
しては、飽和のアルキル基（例えば、メチル、エチル、
ブチル等の非置換アルキル基及びカルボキシメチル、メ
トキシメチル、メトキシエチル、ヒドロキシエチル、ベ
ンジル等の置換アルキル基）、不飽和のアルキル基（例
えば、アリル、２−ブテニル等の基）、環状のアルキル
基（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基）
等が挙げられる。Ｒ36及びＺ3で表されるアリール基は
置換されていてもよく、例えばアルキル基（メチル、エ
チル、メトキシエチル、ベンジル、カルボキシメチル、
スルホプロピル等の基）、アリール基（例えば、フェニ
ル、ｐ−メトキシフェニル等の基）、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、メトキシエ
トキシ等の基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキ
シ、ｐ−カルボキシフェニル等の基）、カルボキシ基、
スルホ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル等の基）、アリールオ
キシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基
等）、アミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ
−エチルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ等の基）、アシル
アミド基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド等の
基）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、Ｎ−メ
チルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テトラメチレンカルバモイ
ル等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンア
ミド、ベンゼンスルホンアミド等の基）、スルファモイ
ル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルスルファモイル等の基）、アルキルスルホニル基
（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等の
基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホ
ニル、ｐ−トルエンスルホニル等の基）、アシル基（例
えば、アセチル、ベンゾイル等の基）等の置換基が挙げ
られる。
【００７３】Ｖ2、Ｗ2、Ｙ2及びＺ3で表される加水分解
によって脱離する基としては、例えば、アシル基（例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル、モ
ノクロロアセチル等の基）、トリアルキルシリル基（例
えば、トリメチルシリル基等）等が挙げられる。
によって脱離する基としては、例えば、アシル基（例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル、モ
ノクロロアセチル等の基）、トリアルキルシリル基（例
えば、トリメチルシリル基等）等が挙げられる。
【００７４】Ｒ36がＺ3と結合して形成する環は、５〜
８員の飽和環又は縮合環であり、結合炭素鎖の一部が他
の複素原子に置換されているものも包含する。具体的に
は、１，２−ジオキサンシクロペンタン、ｍ−ジオキサ
ン、トリオキサン、テトラオキサン、ベンズジオキソラ
ン等の環が挙げられる。
８員の飽和環又は縮合環であり、結合炭素鎖の一部が他
の複素原子に置換されているものも包含する。具体的に
は、１，２−ジオキサンシクロペンタン、ｍ−ジオキサ
ン、トリオキサン、テトラオキサン、ベンズジオキソラ
ン等の環が挙げられる。
【００７５】Ｍで表されるカチオンとしては、例えば水
素イオン、アルカリ金属イオン（例えば、リチウム、ナ
トリウム、カリウム等のイオン）、アルカリ土類金属イ
オン（例えば、マグネシウム、カルシウム等のイオ
ン）、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオン
（例えば、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアン
モニウム、テトラメチルアンモニウム等のアンモニウム
イオン）、ピリジニウムイオン等が挙げられる。
素イオン、アルカリ金属イオン（例えば、リチウム、ナ
トリウム、カリウム等のイオン）、アルカリ土類金属イ
オン（例えば、マグネシウム、カルシウム等のイオ
ン）、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオン
（例えば、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアン
モニウム、テトラメチルアンモニウム等のアンモニウム
イオン）、ピリジニウムイオン等が挙げられる。
【００７６】Ｒ35で表される脂肪族炭化水素基は炭素原
子数が１又は２の低級アルキル基が好ましく、更にはＲ
35が水素原子であることが好ましい。
子数が１又は２の低級アルキル基が好ましく、更にはＲ
35が水素原子であることが好ましい。
【００７７】以下に、一般式（Ｆ−８）〜（Ｆ−１０）
で表される化合物の具体例を示すが、これに限定される
ものではない。
で表される化合物の具体例を示すが、これに限定される
ものではない。
【００７８】
【化２６】
【００７９】
【化２７】
【００８０】一般式（Ｆ−８）〜（Ｆ−１０）で表され
る化合物の添加量は処理液１ｌ当たり０．０１〜２０ｇ
程度、好ましくは０．０３〜１５ｇ、更には０．０５〜
１０ｇである。
る化合物の添加量は処理液１ｌ当たり０．０１〜２０ｇ
程度、好ましくは０．０３〜１５ｇ、更には０．０５〜
１０ｇである。
【００８１】一般式（Ｆ−１１）で表される化合物の塩
としては、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩の如き無機酸塩、フ
ェノール塩の如き有機酸塩、金属塩との複塩又は錯塩、
含水塩、分子内塩等が挙げられる。
としては、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩の如き無機酸塩、フ
ェノール塩の如き有機酸塩、金属塩との複塩又は錯塩、
含水塩、分子内塩等が挙げられる。
【００８２】一般式（Ｆ−１１）で表される化合物は、
具体的には、バイルシュタインズ：ハンドブッヒ・デア
・オルガニッシェン・ヘミー（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎｓ
Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃ
ｈｅｍｉｅ）の第II増補編の２６巻、２００〜２１２頁
に記載の化合物を挙げることができる。それらのうち本
発明では水に可溶なものが好ましい。以下に、その代表
例を挙げる。
具体的には、バイルシュタインズ：ハンドブッヒ・デア
・オルガニッシェン・ヘミー（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎｓ
Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃ
ｈｅｍｉｅ）の第II増補編の２６巻、２００〜２１２頁
に記載の化合物を挙げることができる。それらのうち本
発明では水に可溶なものが好ましい。以下に、その代表
例を挙げる。
【００８３】
【化２８】
【００８４】
【化２９】
【００８５】
【化３０】
【００８６】
【化３１】
【００８７】
【化３２】
【００８８】
【化３３】
【００８９】
【化３４】
【００９０】一般式（Ｆ−１１）で表される化合物の添
加量は処理液１ｌ当たり０．１〜２０ｇが好ましい。
加量は処理液１ｌ当たり０．１〜２０ｇが好ましい。
【００９１】一般式（Ｆ−１２）において、Ｚ4は置換
もしくは未置換の炭素環又は置換もしくは未置換のヘテ
ロ環を形成するに必要な原子群を表し、上記炭素環及び
ヘテロ環は単環であっても縮合環であってもよく、好ま
しくはＺ4が置換基を有する芳香族炭素環又はヘテロ環
であることである。前記Ｚ4の置換基が、アルデヒド
基、水酸基、アルキル基（例えば、メチル、エチル、メ
トキシエチル、ベンジル、カルボキシメチル、スルホプ
ロピル等）、アラルキル基、アルコキシ基（例えば、メ
トキシ、エトキシ、メトキシエトキシ等）、ハロゲン原
子、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、アミノ基（例
えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ
−フェニルアミノ等）、ヒドロキシアルキル基、アリー
ル基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル等）、
シアノ基、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ｐ
−カルボキシフェニル等）、アシルオキシ基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基（例え
ば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスル
ファモイル等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイ
ル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テトラメチレン
カルバモイル等）又はスルホニル基（例えば、メタンス
ルホニル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ
−トルエンスルホニル等）であることが好ましい。
もしくは未置換の炭素環又は置換もしくは未置換のヘテ
ロ環を形成するに必要な原子群を表し、上記炭素環及び
ヘテロ環は単環であっても縮合環であってもよく、好ま
しくはＺ4が置換基を有する芳香族炭素環又はヘテロ環
であることである。前記Ｚ4の置換基が、アルデヒド
基、水酸基、アルキル基（例えば、メチル、エチル、メ
トキシエチル、ベンジル、カルボキシメチル、スルホプ
ロピル等）、アラルキル基、アルコキシ基（例えば、メ
トキシ、エトキシ、メトキシエトキシ等）、ハロゲン原
子、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、アミノ基（例
えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ
−フェニルアミノ等）、ヒドロキシアルキル基、アリー
ル基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル等）、
シアノ基、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ｐ
−カルボキシフェニル等）、アシルオキシ基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基（例え
ば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスル
ファモイル等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイ
ル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−テトラメチレン
カルバモイル等）又はスルホニル基（例えば、メタンス
ルホニル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ
−トルエンスルホニル等）であることが好ましい。
【００９２】Ｚ4が表す炭素環としては好ましくはベン
ゼン環であり、またＺ4が表すヘテロ環としては好まし
くは５員もしくは６員のヘテロ環であり、例えば５員環
としてはチオフェン、ピロール、フラン、チアゾール、
イミダゾール、ピラゾール、スクシンイミド、トリアゾ
ール、テトラゾール等であり、また６員環としては、ピ
リジン、ピリミジン、トリアジン、チアジアジン等がそ
れぞれ挙げられる。
ゼン環であり、またＺ4が表すヘテロ環としては好まし
くは５員もしくは６員のヘテロ環であり、例えば５員環
としてはチオフェン、ピロール、フラン、チアゾール、
イミダゾール、ピラゾール、スクシンイミド、トリアゾ
ール、テトラゾール等であり、また６員環としては、ピ
リジン、ピリミジン、トリアジン、チアジアジン等がそ
れぞれ挙げられる。
【００９３】縮合環としてはナフタレン、ベンゾフラ
ン、インドール、チオナフタレン、ベンズイミダゾー
ル、ベンゾトリアゾール、キノリン等が挙げられる。
ン、インドール、チオナフタレン、ベンズイミダゾー
ル、ベンゾトリアゾール、キノリン等が挙げられる。
【００９４】以下に一般式（Ｆ−１２）で示される化合
物の好ましい例示化合物を挙げる。
物の好ましい例示化合物を挙げる。
【００９５】
【化３５】
【００９６】例示化合物（Ｆ−１２−１）〜（Ｆ−１２
−５２）は以下のように上式における１〜６に各種置換
基を挿入して得られる。
−５２）は以下のように上式における１〜６に各種置換
基を挿入して得られる。
【００９７】
【化３６】
【００９８】
【化３７】
【００９９】
【化３８】
【０１００】
【化３９】
【０１０１】
【化４０】
【０１０２】これら一般式（Ｆ−１２）で示される化合
物の具体例のうち、より好ましい化合物としては（Ｆ−
１２−２）、（Ｆ−１２−３）、（Ｆ−１２−４）、
（Ｆ−１２−６）、（Ｆ−１２−２３）、（Ｆ−１２−
２４）、（Ｆ−１２−５２）が挙げられるが、最も好ま
しくは（Ｆ−１２−３）である。
物の具体例のうち、より好ましい化合物としては（Ｆ−
１２−２）、（Ｆ−１２−３）、（Ｆ−１２−４）、
（Ｆ−１２−６）、（Ｆ−１２−２３）、（Ｆ−１２−
２４）、（Ｆ−１２−５２）が挙げられるが、最も好ま
しくは（Ｆ−１２−３）である。
【０１０３】一般式（Ｆ−１２）で示される化合物は市
販品としても容易に入手できる。
販品としても容易に入手できる。
【０１０４】一般式（Ｆ−１２）で示される化合物の添
加量は安定液１ｌ当たり０．０５〜２０ｇが好ましく、
より好ましくは０．１〜１５ｇの範囲であり、特に好ま
しくは０．５〜１０ｇの範囲である。
加量は安定液１ｌ当たり０．０５〜２０ｇが好ましく、
より好ましくは０．１〜１５ｇの範囲であり、特に好ま
しくは０．５〜１０ｇの範囲である。
【０１０５】一般式（Ｆ−１３）において、Ｒ51、Ｒ52
及びＲ53はそれぞれ、水素原子、置換されてもよいアル
キル基（例えばメチル、エチル、メトキシエチル、ベン
ジル、カルボキシメチル、スルホプロピル、ヒドロキシ
エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、クロロメチ
ル、カルボキシエチル等）又はアリール基（例えば、フ
ェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｐ−ヒドロキシフェニ
ル、ｍ−スルホフェニル、ｍ−カルボキシフェニル等）
を表し、Ｘは置換されてもよい含窒素ヘテロ環（例えば
ピロール、イミダゾール、ピペリジン、ピラゾール、ス
クシンイミド、トリアゾール、テトラゾール、チアジア
ジン、チアジアゾリン、モルホリン、ピペラジン、チア
モルホリン、インドール、インダゾール、ベンゾイミダ
ゾール、ベンゾトリアゾール、ピロリジン、ピラゾリジ
ン、ヒダントイン、ウラゾール等）を表す。
及びＲ53はそれぞれ、水素原子、置換されてもよいアル
キル基（例えばメチル、エチル、メトキシエチル、ベン
ジル、カルボキシメチル、スルホプロピル、ヒドロキシ
エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、クロロメチ
ル、カルボキシエチル等）又はアリール基（例えば、フ
ェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｐ−ヒドロキシフェニ
ル、ｍ−スルホフェニル、ｍ−カルボキシフェニル等）
を表し、Ｘは置換されてもよい含窒素ヘテロ環（例えば
ピロール、イミダゾール、ピペリジン、ピラゾール、ス
クシンイミド、トリアゾール、テトラゾール、チアジア
ジン、チアジアゾリン、モルホリン、ピペラジン、チア
モルホリン、インドール、インダゾール、ベンゾイミダ
ゾール、ベンゾトリアゾール、ピロリジン、ピラゾリジ
ン、ヒダントイン、ウラゾール等）を表す。
【０１０６】以下一般式（Ｆ−１３）で表される化合物
の例示化合物を挙げる。
の例示化合物を挙げる。
【０１０７】
【化４１】
【０１０８】
【化４２】
【０１０９】
【化４３】
【０１１０】
【化４４】
【０１１１】
【化４５】
【０１１２】
【化４６】
【０１１３】これら一般式（Ｆ−１３）で表される化合
物の具体例のうちより好ましい化合物としては（Ｆ−１
３−１）、（Ｆ−１３−２）、（Ｆ−１３−３）、（Ｆ
−１３−８）、（Ｆ−１３−１０）、（Ｆ−１３−１
４）（Ｆ−１３−３５）、（Ｆ−１３−３６）、（Ｆ−
１３−３９）、（Ｆ−１３−４５）、（Ｆ−１３−５
５）、（Ｆ−１３−６０）、（Ｆ−１３−６５）、（Ｆ
−１３−６７）、（Ｆ−１３−６８）、（Ｆ−１３−６
９）、（Ｆ−１３−７２）、（Ｆ−１３−７４）が挙げ
られる。
物の具体例のうちより好ましい化合物としては（Ｆ−１
３−１）、（Ｆ−１３−２）、（Ｆ−１３−３）、（Ｆ
−１３−８）、（Ｆ−１３−１０）、（Ｆ−１３−１
４）（Ｆ−１３−３５）、（Ｆ−１３−３６）、（Ｆ−
１３−３９）、（Ｆ−１３−４５）、（Ｆ−１３−５
５）、（Ｆ−１３−６０）、（Ｆ−１３−６５）、（Ｆ
−１３−６７）、（Ｆ−１３−６８）、（Ｆ−１３−６
９）、（Ｆ−１３−７２）、（Ｆ−１３−７４）が挙げ
られる。
【０１１４】一般式（Ｆ−１３）で表される化合物は市
販品としても容易に入手できる。
販品としても容易に入手できる。
【０１１５】一般式（Ｆ−１３）で表される化合物の添
加量は安定処理液１リットル当たり０．０５〜２０ｇが
好ましく、より好ましくは０．１〜１５ｇの範囲であ
り、特に好ましくは０．５〜１０ｇの範囲である。
加量は安定処理液１リットル当たり０．０５〜２０ｇが
好ましく、より好ましくは０．１〜１５ｇの範囲であ
り、特に好ましくは０．５〜１０ｇの範囲である。
【０１１６】一般式（Ｆ−１４）において、Ｚ5及びＺ6
の少なくとも一方が一般式（Ｆ−１４）中の窒素原子、
Ｘ2及びＸ3又は窒素原子、Ｘ4及びＸ5と共に芳香環又は
互変異性体として形式上芳香環が形成できる環を形成す
るのに必要な非金属原子群であることが好ましい。Ｚ5
が一般式（Ｆ−１４）中の窒素原子、Ｘ2及びＸ3と共に
芳香環又は互変異性体として形式上芳香環が形成できる
環を形成するのに必要な非金属原子群であり、且つＺ6
が窒素原子、Ｘ4及びＸ5と共に非芳香族環を形成するの
に必要な非金属原子群であることがより好ましい。Ｚ5
で形成される芳香環又は互変異性体として形式上芳香環
が形成できる環としては５員環が好ましく、より好まし
くはピラゾール環、トリアゾール環（１，２，４−トリ
アゾール環及び１，２，３−トリアゾール環）、ウラゾ
ール環である。Ｚ6で形成される非芳香族環としては、
ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環及びピペラ
ジン環が好ましい。
の少なくとも一方が一般式（Ｆ−１４）中の窒素原子、
Ｘ2及びＸ3又は窒素原子、Ｘ4及びＸ5と共に芳香環又は
互変異性体として形式上芳香環が形成できる環を形成す
るのに必要な非金属原子群であることが好ましい。Ｚ5
が一般式（Ｆ−１４）中の窒素原子、Ｘ2及びＸ3と共に
芳香環又は互変異性体として形式上芳香環が形成できる
環を形成するのに必要な非金属原子群であり、且つＺ6
が窒素原子、Ｘ4及びＸ5と共に非芳香族環を形成するの
に必要な非金属原子群であることがより好ましい。Ｚ5
で形成される芳香環又は互変異性体として形式上芳香環
が形成できる環としては５員環が好ましく、より好まし
くはピラゾール環、トリアゾール環（１，２，４−トリ
アゾール環及び１，２，３−トリアゾール環）、ウラゾ
ール環である。Ｚ6で形成される非芳香族環としては、
ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環及びピペラ
ジン環が好ましい。
【０１１７】以下一般式（Ｆ−１４）で表される化合物
の具体例を挙げる。
の具体例を挙げる。
【０１１８】
【化４７】
【０１１９】
【化４８】
【０１２０】
【化４９】
【０１２１】
【化５０】
【０１２２】
【化５１】
【０１２３】
【化５２】
【０１２４】本発明を実施するに当たり、発色現像処理
工程や漂白処理工程は通常の方法、例えば特開平５−２
２４３７３号等に記載の方法に即して構成すればよい。
工程や漂白処理工程は通常の方法、例えば特開平５−２
２４３７３号等に記載の方法に即して構成すればよい。
【０１２５】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【０１２６】実施例１ 定着能を有する処理液が定着液である場合の実験を図１
に示す様な処理槽を持つ自動現像機（以下、自現機とも
言う。）を用いて以下の様に行った。
に示す様な処理槽を持つ自動現像機（以下、自現機とも
言う。）を用いて以下の様に行った。
【０１２７】図１の処理槽の構造を以下に示す。
【０１２８】感光材料の処理槽１Ｙには、搬送経路に沿
った形状の処理槽タンクの下側を形状を規定し、ハロゲ
ン化銀写真感光材料の搬送ガイドを兼ねている下側部材
１３Ｙと、搬送経路に沿った形状の処理タンクの上側を
形状を規定し、ハロゲン化銀写真感光材料の搬送ガイド
を兼ねている上側部材１２Ｙと、下側部材１３Ｙと上側
部材１２Ｙとの間の搬送経路上のハロゲン化銀写真感光
材料を駆動させ、ハロゲン化銀写真感光材料を搬送する
搬送ローラ１６Ｙ，１７Ｙ，１８Ｙを有する。そして、
下側部材１３Ｙと上側部材１２Ｙとの間で規定されてい
る搬送経路の挿入口１４Ｙと排出口１５Ｙのみが、処理
槽１Ｙにある処理液の気液界面となっている。更に、図
示していないが、排出口１５Ｙの搬送経路下流側に上側
部材１３Ｙと密接して設けられた渡りガイド２８Ｙと渡
りガイド２８Ｙに沿ってハロゲン化銀写真感光材料を搬
送させる対向ローラである渡りローラ対２９Ｙが設けら
れている。
った形状の処理槽タンクの下側を形状を規定し、ハロゲ
ン化銀写真感光材料の搬送ガイドを兼ねている下側部材
１３Ｙと、搬送経路に沿った形状の処理タンクの上側を
形状を規定し、ハロゲン化銀写真感光材料の搬送ガイド
を兼ねている上側部材１２Ｙと、下側部材１３Ｙと上側
部材１２Ｙとの間の搬送経路上のハロゲン化銀写真感光
材料を駆動させ、ハロゲン化銀写真感光材料を搬送する
搬送ローラ１６Ｙ，１７Ｙ，１８Ｙを有する。そして、
下側部材１３Ｙと上側部材１２Ｙとの間で規定されてい
る搬送経路の挿入口１４Ｙと排出口１５Ｙのみが、処理
槽１Ｙにある処理液の気液界面となっている。更に、図
示していないが、排出口１５Ｙの搬送経路下流側に上側
部材１３Ｙと密接して設けられた渡りガイド２８Ｙと渡
りガイド２８Ｙに沿ってハロゲン化銀写真感光材料を搬
送させる対向ローラである渡りローラ対２９Ｙが設けら
れている。
【０１２９】感光材料の処理槽１Ｙの側には、処理槽１
Ｙと別に設けた補助タンク２Ｙを有する。そして、処理
槽１Ｙから補助タンク２Ｙの下部へ循環パイプ２１Ｙが
形成され、処理液が流れるようになっている。
Ｙと別に設けた補助タンク２Ｙを有する。そして、処理
槽１Ｙから補助タンク２Ｙの下部へ循環パイプ２１Ｙが
形成され、処理液が流れるようになっている。
【０１３０】棒状のヒータ２６Ｙは、補助タンク２Ｙの
上方壁を貫通して補助タンク２Ｙ内の処理液中に浸漬す
るよう配設されている。このヒータ２６Ｙは、補助タン
ク２Ｙ内に設けられた図示されていない温度計により検
出された温度に基づいて、処理液の循環経路と処理槽１
Ｙにある処理液を加温するものであり、換言すると処理
槽１Ｙ内の処理液を処理に適した温度範囲（例えば２０
〜５５℃）に保持する温度調整手段である。
上方壁を貫通して補助タンク２Ｙ内の処理液中に浸漬す
るよう配設されている。このヒータ２６Ｙは、補助タン
ク２Ｙ内に設けられた図示されていない温度計により検
出された温度に基づいて、処理液の循環経路と処理槽１
Ｙにある処理液を加温するものであり、換言すると処理
槽１Ｙ内の処理液を処理に適した温度範囲（例えば２０
〜５５℃）に保持する温度調整手段である。
【０１３１】板状のフィルター２２Ｙは、補助タンク２
Ｙの下部と処理液収容タンク４Ｙへの循環パイプ２９Ｙ
とを仕切るように、補助タンク２Ｙに交換可能に設けら
れ、処理液中の不溶物、例えば析出物等を除去する機能
を果たす。循環パイプ２９Ｙは補助タンク２Ｙの下部と
処理液収容タンク４Ｙの上部に連通している。処理液収
容タンク４Ｙの下部には、処理液収容タンク４Ｙの下方
壁を貫通して設けられた循環パイプ２３Ｙを介して循環
ポンプ２４Ｙ（循環手段）の吸引側に連通している。
Ｙの下部と処理液収容タンク４Ｙへの循環パイプ２９Ｙ
とを仕切るように、補助タンク２Ｙに交換可能に設けら
れ、処理液中の不溶物、例えば析出物等を除去する機能
を果たす。循環パイプ２９Ｙは補助タンク２Ｙの下部と
処理液収容タンク４Ｙの上部に連通している。処理液収
容タンク４Ｙの下部には、処理液収容タンク４Ｙの下方
壁を貫通して設けられた循環パイプ２３Ｙを介して循環
ポンプ２４Ｙ（循環手段）の吸引側に連通している。
【０１３２】循環系は、補助タンク２Ｙ・循環パイプ２
９Ｙ・処理液収容タンク４Ｙ・循環パイプ２３Ｙ・循環
ポンプ２４Ｙ及び循環パイプ２５Ｙで形成される処理液
の循環経路と、処理槽１Ｙとで構成されていることにな
る。前記循環ポンプ２４Ｙの吐出側に連通した循環パイ
プ２５Ｙの他端は処理槽１Ｙの下方壁を貫通し、処理槽
１Ｙの搬送経路に向けて幅手方向に均一に処理液を吐出
するノズル２７Ｙに連通している。この様な構成によ
り、循環ポンプ２４Ｙが作動すると処理液は補助タンク
２Ｙから吸い込まれ、処理槽１Ｙに吐出されて、再び補
助タンク２Ｙへと入る循環を繰り返すことになる。
９Ｙ・処理液収容タンク４Ｙ・循環パイプ２３Ｙ・循環
ポンプ２４Ｙ及び循環パイプ２５Ｙで形成される処理液
の循環経路と、処理槽１Ｙとで構成されていることにな
る。前記循環ポンプ２４Ｙの吐出側に連通した循環パイ
プ２５Ｙの他端は処理槽１Ｙの下方壁を貫通し、処理槽
１Ｙの搬送経路に向けて幅手方向に均一に処理液を吐出
するノズル２７Ｙに連通している。この様な構成によ
り、循環ポンプ２４Ｙが作動すると処理液は補助タンク
２Ｙから吸い込まれ、処理槽１Ｙに吐出されて、再び補
助タンク２Ｙへと入る循環を繰り返すことになる。
【０１３３】図２は本実施例の図１で示す処理槽を連結
させた自現機の搬送方向に断面をとった部分的な概略構
成図である概略横断面図である。処理槽はハロゲン化銀
写真感光材料Ｐの搬送方向に沿って左から発色現像槽Ｃ
Ｄ・漂白槽ＢＬ・第１定着槽Ｆｉｘ１・第２定着槽Ｆｉ
ｘ２・安定化槽ＳＴＢ１、ＳＴＢ２、ＳＴＢ３が横方向
に配置されている。それぞれの槽の中には発色現像液、
漂白液、定着液、安定化液が充填されている。感光材料
Ｐは搬送ローラによって搬送される構成をとっている。
各処理槽の処理液はこの実施例ではほぼ同じ高さまで満
たされている。
させた自現機の搬送方向に断面をとった部分的な概略構
成図である概略横断面図である。処理槽はハロゲン化銀
写真感光材料Ｐの搬送方向に沿って左から発色現像槽Ｃ
Ｄ・漂白槽ＢＬ・第１定着槽Ｆｉｘ１・第２定着槽Ｆｉ
ｘ２・安定化槽ＳＴＢ１、ＳＴＢ２、ＳＴＢ３が横方向
に配置されている。それぞれの槽の中には発色現像液、
漂白液、定着液、安定化液が充填されている。感光材料
Ｐは搬送ローラによって搬送される構成をとっている。
各処理槽の処理液はこの実施例ではほぼ同じ高さまで満
たされている。
【０１３４】処理槽は併せて１つの槽ユニットに形成さ
れており、従来の自動現像機に比して高さは極めて薄く
構成されている。これにより、開口面積を著しく小さく
していると同時に、タンク容量も小さいものにしてい
る。これらの上面部材は搬送経路に沿った形状の処理タ
ンクの上側の形状を規定し、ハロゲン化銀写真感光材料
の搬送経路を兼ねている。
れており、従来の自動現像機に比して高さは極めて薄く
構成されている。これにより、開口面積を著しく小さく
していると同時に、タンク容量も小さいものにしてい
る。これらの上面部材は搬送経路に沿った形状の処理タ
ンクの上側の形状を規定し、ハロゲン化銀写真感光材料
の搬送経路を兼ねている。
【０１３５】図３は処理槽１Ｙの具体的構成を示す図で
ある。図３（Ａ）は、処理槽１Ｙの形状を示す図であ
る。図３（Ｂ）は、ノズル２７Ｙの吐出方向からみた孔
の配置を示す図である。ノズル２７Ｙは、幅手方向に均
一に処理液を吐出するために、搬送される感光材料の幅
よりも長い幅手方向に分布し、その間隔が均一であるノ
ズル例を搬送方向に複数列設けられている。これらのノ
ズルは搬送方向に対して９０°の角度を成している。
又、図３（Ｂ）に示すように、ノズル２７Ｙは等間隔に
設けられ、更に隣接するノズル列にもノズルが前記ノズ
ル列のノズルと１／２ピッチずらして同様に設けられ、
全体としてノズルが千鳥状に配置されている。これらの
ノズル２７Ｙは加圧した処理液を吹き付け角９０°で直
径２．０ｍｍの孔より吹き付けている。
ある。図３（Ａ）は、処理槽１Ｙの形状を示す図であ
る。図３（Ｂ）は、ノズル２７Ｙの吐出方向からみた孔
の配置を示す図である。ノズル２７Ｙは、幅手方向に均
一に処理液を吐出するために、搬送される感光材料の幅
よりも長い幅手方向に分布し、その間隔が均一であるノ
ズル例を搬送方向に複数列設けられている。これらのノ
ズルは搬送方向に対して９０°の角度を成している。
又、図３（Ｂ）に示すように、ノズル２７Ｙは等間隔に
設けられ、更に隣接するノズル列にもノズルが前記ノズ
ル列のノズルと１／２ピッチずらして同様に設けられ、
全体としてノズルが千鳥状に配置されている。これらの
ノズル２７Ｙは加圧した処理液を吹き付け角９０°で直
径２．０ｍｍの孔より吹き付けている。
【０１３６】上記自動現像機を用いて、コニカカラーネ
ガティブフィルムＬＶ４００（コニカ（株）製）を用い
て、カメラにて実写露光を行ったもので６０日間、定着
槽の容量の２倍の量の定着補充液が補充されるまでラン
ニング処理を行った。ランニング処理の工程及び条件を
以下に示す。
ガティブフィルムＬＶ４００（コニカ（株）製）を用い
て、カメラにて実写露光を行ったもので６０日間、定着
槽の容量の２倍の量の定着補充液が補充されるまでラン
ニング処理を行った。ランニング処理の工程及び条件を
以下に示す。
【０１３７】 処理工程 処理時間 処理温度（℃） 補充量（ｍｌ／感光材料１ｍ2） 発色現像 ３分１５秒 ３８ ６２５ 漂 白 ４５秒 ３５〜４０ ２５０ 定着−１ ４５秒 ３５〜４０ − 定着−２ ４５秒 ３５〜４０ ５５０ 安定−１ ２０秒 ３５〜４０ − 安定−２ ２０秒 ３５〜４０ − 安定−３ ２０秒 ３５〜４０ ６００ 乾 燥 ６０秒 ７０ − 尚、定着槽、安定槽は前槽への向流方式であり、各補充
は各槽の最終槽へ行う。
は各槽の最終槽へ行う。
【０１３８】使用した処理液の組成を以下に示す。
【０１３９】 《発色現像液》 炭酸カリウム ３０ｇ 炭酸水素ナトリウム ２．５ｇ 亜硫酸カリウム ４ｇ 臭化ナトリウム １．３ｇ 沃化カリウム １．２ｍｇ ヒドロキシルアミン硫酸塩 ２．５ｇ 塩化ナトリウム ０．６ｇ ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル） アニリン硫酸塩 ４．８ｇ 水酸化カリウム １．２ｇ 水を加えて１ｌとし、水酸化カリウム又は５０％硫酸を
用いてｐＨ１０．０６に調整する。
用いてｐＨ１０．０６に調整する。
【０１４０】 《発色現像補充液》 炭酸カリウム ４０ｇ 炭酸水素ナトリウム ３ｇ 亜硫酸カリウム ７ｇ 臭化ナトリウム ０．５ｇ ヒドロキシルアミン硫酸塩 ３．１ｇ ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル） アニリン硫酸塩 ６．０ｇ 水酸化カリウム ２ｇ 水を加えて１ｌとし、水酸化カリウム又は５０％硫酸を
用いてｐＨ１０．１１に調整する。
用いてｐＨ１０．１１に調整する。
【０１４１】 《漂白液及び漂白補充液》 １，３−プロパンジアミン４酢酸第２鉄アンモニウム塩 １５０ｇ 臭化アンモニウム １００ｇ 水を加えて１ｌとし、アンモニア水又は氷酢酸を用いて
ｐＨ４．０に調整する。
ｐＨ４．０に調整する。
【０１４２】 《定着液及び定着補充液》 チオ硫酸アンモニウム 表１に記載 添加剤（表１に記載） 表１に記載 亜硫酸アンモニウム １０ｇ エチレンジアミン４酢酸２ナトリウム ５ｇ 水を加えて１ｌとし、酢酸とアンモニア水を用いてｐＨ
７．０に調整する。
７．０に調整する。
【０１４３】 《安定液及び安定補充液》 化合物Ａ １ｍｌ 化合物Ｂ ０．２ｇ ５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン ０．０２ｇ Ｆ−１２−３ ２ｇ 水を加えて１ｌとし、アンモニア水及び氷酢酸にてｐＨ
７．０に調整した。
７．０に調整した。
【０１４４】
【化５３】
【０１４５】定着液及び定着補充液中のチオ硫酸アンモ
ニウム添加量及び添加物を表１に記載の如くに変化させ
てランニング処理を行った。
ニウム添加量及び添加物を表１に記載の如くに変化させ
てランニング処理を行った。
【０１４６】ランニング処理終了後の定着２槽目から安
定化槽１槽目への渡りローラーの状況を観察し、以下の
基準で評価した。又、処理済みフィルムの未露光部の残
留銀量を蛍光Ｘ線法にて測定した。更に、定着１槽目の
定着液の保存安定性を見るため、該定着液を開口面積比
率１０ｃｍ2／ｌの容器に入れて５０℃で１週間保存
し、保存後の定着液の様子を観察して以下の基準で評価
した。
定化槽１槽目への渡りローラーの状況を観察し、以下の
基準で評価した。又、処理済みフィルムの未露光部の残
留銀量を蛍光Ｘ線法にて測定した。更に、定着１槽目の
定着液の保存安定性を見るため、該定着液を開口面積比
率１０ｃｍ2／ｌの容器に入れて５０℃で１週間保存
し、保存後の定着液の様子を観察して以下の基準で評価
した。
【０１４７】《渡りローラーの状況》 ◎ 固着物は全く無い ○ 固着物が確認されるが問題の無い程度である × 固着物が見られる ×× 固着物がかなり見られ、処理後の感光材料に擦り
傷が発生している。
傷が発生している。
【０１４８】《保存後の定着液の様子》 ◎ 沈殿、液の濁りは全く無い ○ 液の濁りが確認される △ 液の表面に浮遊物が確認される × 沈殿が発生している ×× 沈殿がかなり発生し、容器の壁に固着している。
【０１４９】以上の結果を表１に示す。
【０１５０】
【表１】
【０１５１】これにより、本発明の化合物を用いれば、
定着性と保存性の大幅な向上が実現でき、定着２槽目か
ら安定化１槽目への渡りローラーの固着物が改善される
ことが判る。又、チオ硫酸塩の濃度の大幅な低減も同時
に可能となり、公害負荷も低減される。
定着性と保存性の大幅な向上が実現でき、定着２槽目か
ら安定化１槽目への渡りローラーの固着物が改善される
ことが判る。又、チオ硫酸塩の濃度の大幅な低減も同時
に可能となり、公害負荷も低減される。
【０１５２】実施例２ 定着能を有する処理液が漂白定着液である場合の実験を
図４に示す様な、実施例１で用いた自現機と同様な自現
機を用いて以下の様に行った。
図４に示す様な、実施例１で用いた自現機と同様な自現
機を用いて以下の様に行った。
【０１５３】コニカカラーＱＡペーパータイプＡ６（コ
ニカ（株）製）を用いて通常のウェッジ露光を行ったも
ので、２０日間、漂白定着槽の容量の２倍の量の漂白定
着補充液が補充されるまでランニング処理を行った。該
処理の工程及び条件は以下の如くした。
ニカ（株）製）を用いて通常のウェッジ露光を行ったも
ので、２０日間、漂白定着槽の容量の２倍の量の漂白定
着補充液が補充されるまでランニング処理を行った。該
処理の工程及び条件は以下の如くした。
【０１５４】 処理工程（１） 温度（℃） 処理時間 補充量（ｍｌ／ｍ2） （１）発色現像 ３９．５ ２５秒 ８０ （２）漂白定着 ３８．０ １５秒 ５４ （３）安定化＊ ３８．０ ３０秒×３ １８０ （４）乾燥 ０〜８０ ３０秒 − ＊安定化槽は３槽で構成され、前槽への向流方式であ
り、補充は最終槽へ行う。
り、補充は最終槽へ行う。
【０１５５】 ［発色現像タンク液及び補充液］〜１ｌ当たり 発色現像タンク液 補充液 ジエチレングリコール １０ｇ １５ｇ ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム ２０ｇ ３０ｇ 臭化カリウム ３．０×１０-4モル １．５×１０-4モル 塩化カリウム ４．０×１０-2モル − ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−（メタンスルホンアミド） エチル）アニリン硫酸塩 １．９×１０-2モル ２．５×１０-2モル ジエチルヒドロキシルアミン ３．５ｇ ５．０ｇ 炭酸カリウム ３０ｇ ３０ｇ ジエチレントリアミン五酢酸 １．０ｇ １．０ｇ 蛍光増白剤Ｚ １．５ｇ １．５ｇ ｐＨ １０．１０ １０．６０
【０１５６】
【化５４】
【０１５７】 ［漂白定着タンク液及び補充液］〜１ｌ当たり 漂白定着タンク液 補充液 エチレンジアミン四酢酸第２鉄アンモニウム塩 ０．２０モル ０．４０モル エチレンジアミン四酢酸 ２．０ｇ ４．０ｇ チオ硫酸アンモニウム ７５ｇ １５０ｇ 添加剤（表２に記載） （表２に記載） タンク液の２倍量 ｐＨ ５．００ ４．６５ ［安定化タンク液及び安定化補充液］〜１ｌ当たり 安定化タンク液及び補充液 オルトフェニルフェノール ０．１５ｇ ＺｎＳＯ4・７Ｈ2Ｏ ０．２ｇ 亜硫酸アンモニウム（４０％） ５．０ｍｌ １−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（６０％溶液） ３．８ｇ エチレンジアミン四酢酸 ２．０ｇ 蛍光増白剤（チノパールＳＦＰチバガイギー社） ２．０ｇ ｐＨ ７．８０ ランニング処理終了後の漂白定着槽から安定化１槽目へ
の渡りローラーの状況を実施例１と同じ基準で評価し
た。又、ランニング処理終了時の漂白定着液を実施例１
と同じ保存容器に入れ、５０℃で２週間保存を行い、保
存後の漂白定着液の様子を実施例１と同様な基準で評価
した。更に、ランニング処理終了時に全面露光カラーペ
ーパー試料を処理し、残留銀量を実施例１と同様にして
測定した。
の渡りローラーの状況を実施例１と同じ基準で評価し
た。又、ランニング処理終了時の漂白定着液を実施例１
と同じ保存容器に入れ、５０℃で２週間保存を行い、保
存後の漂白定着液の様子を実施例１と同様な基準で評価
した。更に、ランニング処理終了時に全面露光カラーペ
ーパー試料を処理し、残留銀量を実施例１と同様にして
測定した。
【０１５８】結果を表２に示す。
【０１５９】
【表２】
【０１６０】これにより、本発明の化合物を用いれば定
着性と保存性の大幅な向上が実現でき、漂白定着槽から
安定化１槽目への渡りローラの固着物が改善されること
が判る。
着性と保存性の大幅な向上が実現でき、漂白定着槽から
安定化１槽目への渡りローラの固着物が改善されること
が判る。
【０１６１】実施例３ 使用する化合物を１−１０、２−１０に固定し、定着液
中のこれらの化合物及びチオ硫酸アンモニウムの添加量
を表に記載の様に変化させた以外は実施例１の実験Ｎ
ｏ．１−１０と同様なランニング処理を行った。実施例
１と同様にして残留銀量の測定を行い、ランニング処理
後の安定化１槽目の状況を以下の基準で評価した。
中のこれらの化合物及びチオ硫酸アンモニウムの添加量
を表に記載の様に変化させた以外は実施例１の実験Ｎ
ｏ．１−１０と同様なランニング処理を行った。実施例
１と同様にして残留銀量の測定を行い、ランニング処理
後の安定化１槽目の状況を以下の基準で評価した。
【０１６２】《安定化１槽目の様子》 ◎ 沈殿は全く見られない ○ 沈殿は見られないが、若干の浮遊物が確認される △ 実害は無いが沈殿がタンクの底に僅かに確認される × 沈殿が発生している ×× 沈殿が発生し、ラックの液界面に固着している。
【０１６３】結果を表３に示す。
【０１６４】
【表３】
【０１６５】これから、チオ硫酸塩に対して一般式
（１）で表される化合物の添加量が０．０５〜５重量
％、更には０．１〜３重量％、とりわけ０．３〜２重量
％である場合に本発明の効果をより一層発揮できること
が判る。又、一般式（１）で表される化合物の添加量に
対して一般式（２）で表される化合物が重量比で０．０
１〜２０、更には０．１〜２である場合に本発明の効果
をより一層発揮できる。
（１）で表される化合物の添加量が０．０５〜５重量
％、更には０．１〜３重量％、とりわけ０．３〜２重量
％である場合に本発明の効果をより一層発揮できること
が判る。又、一般式（１）で表される化合物の添加量に
対して一般式（２）で表される化合物が重量比で０．０
１〜２０、更には０．１〜２である場合に本発明の効果
をより一層発揮できる。
【０１６６】実施例４ 実施例１の実験Ｎｏ．１−１０におけるランニング処理
開始時の定着液（タンク液）を用い、定着１、２槽にＡ
ｇＢｒをそれぞれ０．０９モル／ｌ、０．０３モル／ｌ
添加し、更に沃化アンモニウム（ＮＨ4Ｉ）を定着１、
２槽とも同じ量で表４に記載の如く添加し、同様にして
処理を行い、処理後の残留銀量を実施例１と同様に測定
し、処理後の感光材料の未露光部の様子について以下の
基準で目視により評価を行った。又、定着液の保存性に
ついては実施例１と同様な保存実験を行った。
開始時の定着液（タンク液）を用い、定着１、２槽にＡ
ｇＢｒをそれぞれ０．０９モル／ｌ、０．０３モル／ｌ
添加し、更に沃化アンモニウム（ＮＨ4Ｉ）を定着１、
２槽とも同じ量で表４に記載の如く添加し、同様にして
処理を行い、処理後の残留銀量を実施例１と同様に測定
し、処理後の感光材料の未露光部の様子について以下の
基準で目視により評価を行った。又、定着液の保存性に
ついては実施例１と同様な保存実験を行った。
【０１６７】《未露光部の様子》 ◎ 定着ムラは全く見られない ○ 定着ムラがパーフォレーション部に若干確認される
が、画像部分には全く見られない △ 画像部分に定着ムラが僅かに確認されるが、カラー
ペーパーへのプリントには影響がない程度である × スジ状の定着ムラが見られ、プリント時に影響が出
る ×× スジ状の定着ムラがはっきり見える。
が、画像部分には全く見られない △ 画像部分に定着ムラが僅かに確認されるが、カラー
ペーパーへのプリントには影響がない程度である × スジ状の定着ムラが見られ、プリント時に影響が出
る ×× スジ状の定着ムラがはっきり見える。
【０１６８】結果を表４に示す。
【０１６９】
【表４】
【０１７０】これにより、定着液中に蓄積した沃素イオ
ンが０．００１〜０．００６モル／ｌ、更には０．００
３〜０．００５モル／ｌである場合に、本発明の化合物
が有効に定着を促進していることが判る。析出性、保存
性から本発明の化合物を用いる場合は上記沃素イオン濃
度の範囲が最適であると考えられる。
ンが０．００１〜０．００６モル／ｌ、更には０．００
３〜０．００５モル／ｌである場合に、本発明の化合物
が有効に定着を促進していることが判る。析出性、保存
性から本発明の化合物を用いる場合は上記沃素イオン濃
度の範囲が最適であると考えられる。
【０１７１】実施例５ 実施例１の実験Ｎｏ．１−９、１０において、安定処理
槽３槽のうちの定着槽に最も近い安定処理槽からフィル
ム１ｍ2当たり２７５ｍｌを直前の定着処理槽にベロー
ズポンプで供給する様にし、定着補充液を２倍に濃厚化
し、該濃厚化された定着補充液をフィルム１ｍ2当たり
２７５ｍｌ定着処理槽の２槽目に補充する様にして、ラ
ンニングテストを行ったところ、ランニング終了時の残
留銀量は共に０となり、定着性能の改良が認められた。
他の性能は実施例１での条件と同じであり、更にこの処
理の際に発生する写真総廃液量は約１５％減少したこと
が確認された。
槽３槽のうちの定着槽に最も近い安定処理槽からフィル
ム１ｍ2当たり２７５ｍｌを直前の定着処理槽にベロー
ズポンプで供給する様にし、定着補充液を２倍に濃厚化
し、該濃厚化された定着補充液をフィルム１ｍ2当たり
２７５ｍｌ定着処理槽の２槽目に補充する様にして、ラ
ンニングテストを行ったところ、ランニング終了時の残
留銀量は共に０となり、定着性能の改良が認められた。
他の性能は実施例１での条件と同じであり、更にこの処
理の際に発生する写真総廃液量は約１５％減少したこと
が確認された。
【０１７２】これらのことより、本発明に係わる安定処
理槽液の一部又は全部を定着槽に用いることにより、本
発明の効果をより良好に奏するばかりか、写真総廃液量
の減少をも可能とすることが判る。
理槽液の一部又は全部を定着槽に用いることにより、本
発明の効果をより良好に奏するばかりか、写真総廃液量
の減少をも可能とすることが判る。
【０１７３】実施例６ 表５に記載の如く定着液の補充量を変化させ、チオ硫酸
アンモニウムを１５０ｇ／ｌとした以外は、実施例１の
実験Ｎｏ．１−９、１０と同様にしてランニング処理を
行い、ランニング処理終了時の処理後の感光材料の残留
銀量を実施例１と同様に測定した。又、ランニング処理
終了時の感光材料の未露光部の６６０ｎｍにおける透過
濃度（Ｄmin（Ｒ））を測定した。更に処理後の感光材
料の裏面の汚れを以下の基準で評価した。
アンモニウムを１５０ｇ／ｌとした以外は、実施例１の
実験Ｎｏ．１−９、１０と同様にしてランニング処理を
行い、ランニング処理終了時の処理後の感光材料の残留
銀量を実施例１と同様に測定した。又、ランニング処理
終了時の感光材料の未露光部の６６０ｎｍにおける透過
濃度（Ｄmin（Ｒ））を測定した。更に処理後の感光材
料の裏面の汚れを以下の基準で評価した。
【０１７４】《裏面汚れの様子》 ○ 裏面の汚れは全く見られない △ 裏面に僅かに汚れが確認される × 裏面にはっきりと汚れが見られ、実用上問題が起き
るレベルである。
るレベルである。
【０１７５】結果を表５に示す。
【０１７６】
【表５】
【０１７７】これにより、補充量が８００ｍｌ／ｍ2以
下である場合においても本発明の化合物を用いることに
より、未露光部の濃度の上昇を低減することが可能にな
り、本発明の効果が遺憾なく発揮されることが判る。
下である場合においても本発明の化合物を用いることに
より、未露光部の濃度の上昇を低減することが可能にな
り、本発明の効果が遺憾なく発揮されることが判る。
【０１７８】実施例７ 安定化液において、Ｆ−１２−３に代えて表６に記載の
化合物を添加し、定着液中のチオ硫酸アンモニウムを１
５０ｇ／ｌとした以外は、実施例１の実験Ｎｏ．１−
９、１０と同様なランニング処理を行った。ランニング
処理終了時の安定化１槽目の状況を実施例３と同じ基準
で評価した。又、ランニング処理終了時にウェッジ露光
を行った前述のカラーネガフィルムを処理し、処理直後
及び６０℃、２０％ＲＨの状態で４０日間保存後、マゼ
ンタの最高濃度を測定し、保存前後のマゼンタ色素の退
色率ΔＤmax（Ｍ）を求めた。
化合物を添加し、定着液中のチオ硫酸アンモニウムを１
５０ｇ／ｌとした以外は、実施例１の実験Ｎｏ．１−
９、１０と同様なランニング処理を行った。ランニング
処理終了時の安定化１槽目の状況を実施例３と同じ基準
で評価した。又、ランニング処理終了時にウェッジ露光
を行った前述のカラーネガフィルムを処理し、処理直後
及び６０℃、２０％ＲＨの状態で４０日間保存後、マゼ
ンタの最高濃度を測定し、保存前後のマゼンタ色素の退
色率ΔＤmax（Ｍ）を求めた。
【０１７９】更に処理工程の乾燥条件を４５秒、７０℃
に代えた以外は、実施例１の実験Ｎｏ．１−９、１０と
同様にして処理し、処理後の感光材料の乾燥性を以下の
基準で評価した。
に代えた以外は、実施例１の実験Ｎｏ．１−９、１０と
同様にして処理し、処理後の感光材料の乾燥性を以下の
基準で評価した。
【０１８０】《乾燥性の評価基準》 ○ 乾燥している △ 乾燥していない部分が僅かに認められる × 乾燥していない部分がかなり見られる。
【０１８１】結果を表６に示す。
【０１８２】
【表６】
【０１８３】★ホルムアルデヒド３７％水溶液。
【０１８４】この結果から、安定化液にホルムアルデヒ
ドを含有させず、且つ一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−１４）
で表される化合物を含有させることにより、画像保存
性、乾燥性が大幅に向上し、本発明の化合物を用いるに
当たり好ましいことが判る。
ドを含有させず、且つ一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−１４）
で表される化合物を含有させることにより、画像保存
性、乾燥性が大幅に向上し、本発明の化合物を用いるに
当たり好ましいことが判る。
【０１８５】実施例８ 磁気記録媒体の作成 《支持体の作成》２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チル１００重量部、エチレングリコール６０重量部にエ
ステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物０．１重量
部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行った。
得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０５重量部、
リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、０．０５ｍｍ
Ｈｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６０のポリエチ
レン−２，６−ナフタレートを得た。
チル１００重量部、エチレングリコール６０重量部にエ
ステル交換触媒として酢酸カルシウム水和物０．１重量
部を添加し、常法に従ってエステル交換反応を行った。
得られた生成物に、三酸化アンチモン０．０５重量部、
リン酸トリメチルエステル０．０３重量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、２９０℃、０．０５ｍｍ
Ｈｇの条件で重合を行ない固有粘度０．６０のポリエチ
レン−２，６−ナフタレートを得た。
【０１８６】これを、１５０℃で８時間真空乾燥した
後、３００℃でＴダイから層状に溶融押出し、５０℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、１３５℃で縦方向に３．３倍延伸し
た。
後、３００℃でＴダイから層状に溶融押出し、５０℃の
冷却ドラム上に静電印加しながら密着させ、冷却固化さ
せ、未延伸シートを得た。この未延伸シートをロール式
縦延伸機を用いて、１３５℃で縦方向に３．３倍延伸し
た。
【０１８７】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン１４５℃で総横延伸倍
率の５０％延伸し、更に第二延伸ゾーン１５５℃で総横
延伸倍率３．３倍となるように延伸した。次いで、１０
０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾーン２００℃
で５秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン２４０℃で１５秒
間熱固定した。次いで、横方向に５％弛緩処理しながら
室温まで３０秒かけて徐冷して、厚さ８５μｍのポリエ
チレンナフタレートフィルムを得た。
延伸機を用いて、第一延伸ゾーン１４５℃で総横延伸倍
率の５０％延伸し、更に第二延伸ゾーン１５５℃で総横
延伸倍率３．３倍となるように延伸した。次いで、１０
０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾーン２００℃
で５秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン２４０℃で１５秒
間熱固定した。次いで、横方向に５％弛緩処理しながら
室温まで３０秒かけて徐冷して、厚さ８５μｍのポリエ
チレンナフタレートフィルムを得た。
【０１８８】これをステンレス製のコアに巻き付け、１
１０℃で４８時間熱処理（アニール処理）して支持体を
作成した。
１０℃で４８時間熱処理（アニール処理）して支持体を
作成した。
【０１８９】この支持体の両面に１２Ｗ／ｍ2／ｍｉｎ
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下引塗布液Ｂ−１
を乾燥膜厚０．４μｍになるように塗布し、その上に１
２Ｗ／ｍ2／ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下引塗布
液Ｂ−２を乾燥膜厚０．０６μｍになるように塗布し
た。
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下引塗布液Ｂ−１
を乾燥膜厚０．４μｍになるように塗布し、その上に１
２Ｗ／ｍ2／ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、下引塗布
液Ｂ−２を乾燥膜厚０．０６μｍになるように塗布し
た。
【０１９０】１２Ｗ／ｍ2／ｍｉｎのコロナ放電処理を
施した他方の面には、下引塗布液Ｂ−３を乾燥膜厚０．
２μｍになるように塗布し、その上に１２Ｗ／ｍ2／ｍ
ｉｎのコロナ放電処理を施し、塗布液Ｂ−４を乾燥膜厚
０．２μｍになるように塗布した。
施した他方の面には、下引塗布液Ｂ−３を乾燥膜厚０．
２μｍになるように塗布し、その上に１２Ｗ／ｍ2／ｍ
ｉｎのコロナ放電処理を施し、塗布液Ｂ−４を乾燥膜厚
０．２μｍになるように塗布した。
【０１９１】各層はそれぞれ塗布後９０℃で１０秒間乾
燥し、４層塗布後引き続いて１１０℃で２分間熱処理を
行った後、５０℃で３０秒間冷却処理を行った。
燥し、４層塗布後引き続いて１１０℃で２分間熱処理を
行った後、５０℃で３０秒間冷却処理を行った。
【０１９２】 〈下引塗布液Ｂ−１〉 ブチルアクリレート３０重量％，ｔ−ブチルアクリレート２０重量％、 スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５重量％ の共重合体ラテックス液（固形分３０％） １２５ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．４ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素） ０．０５ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ 〈下引塗布液Ｂ−２〉 スチレン−無水マレイン酸共重合体の水酸化ナトリウム水溶液（固形分６％） ５０ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．６ｇ 化合物（ＵＬ−２） ０．０９ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．２ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ 〈塗布液Ｂ−３〉 ブチルアクリレート３０重量％、ｔ−ブチルアクリレート２０重量％、 スチレン２５重量％及び２−ヒドロキシアクリレート２５重量％ の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ５０ｇ 化合物（ＵＬ−１） ０．３ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレン尿素） １．１ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ
【０１９３】
【化５５】
【０１９４】〈塗布液Ｂ−４〉ジカルボン酸成分として
テレフタル酸ジメチル６０モル％、イソフタル酸ジメチ
ル３０モル％、５−スルホイソフタル酸ジメチルのナト
リム塩１０モル％、グリコール成分としてエチレングリ
コール５０モル％、ジエチレングリコール５０モル％を
常法により共重合した。この共重合体を９５℃の熱水中
で３時間撹拌し、１５重量％の水分散液Ａとした。
テレフタル酸ジメチル６０モル％、イソフタル酸ジメチ
ル３０モル％、５−スルホイソフタル酸ジメチルのナト
リム塩１０モル％、グリコール成分としてエチレングリ
コール５０モル％、ジエチレングリコール５０モル％を
常法により共重合した。この共重合体を９５℃の熱水中
で３時間撹拌し、１５重量％の水分散液Ａとした。
【０１９５】 酸化スズ−酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．２μｍ）の水分散液 （固形分４０重量％) １０９ｇ 水分散液Ａ ６７ｇ 水で仕上げる １０００ｍｌ 《磁気記録層の塗設》前記下引処理支持体の下引層Ｕ−
４塗布液を塗設した層上に下記組成の磁気記録層塗布液
を精密イクストルージョンコーターを用い乾燥膜厚０．
８μｍとなるように塗布し、乾燥と同時に塗膜が未乾の
うちに配向磁場中で塗布方向へ磁性体を配向させ、磁気
記録再生時の高出力化を図った。
４塗布液を塗設した層上に下記組成の磁気記録層塗布液
を精密イクストルージョンコーターを用い乾燥膜厚０．
８μｍとなるように塗布し、乾燥と同時に塗膜が未乾の
うちに配向磁場中で塗布方向へ磁性体を配向させ、磁気
記録再生時の高出力化を図った。
【０１９６】 ［磁気記録層塗布液Ｍ−１の組成と調製］ コバルト含有ガンマ酸化鉄 （平均長軸長０．１２μｍ、短軸長０．０１５μｍ、 Ｆｅ2+／Ｆｅ3+＝０．２、 比表面積４０ｍ2／ｇ、Ｈｃ＝７５０エルステッ ド） １０重量部 アルミナ（α−Ａｌ2Ｏ3、平均粒径０．２μｍ） ３重量部 ジアセチルセルロース（帝人（株）製） １５０重量部 ポリウレタン（Ｎ３１３２、日本ポリウレタン（株）製） １５重量部 ステアリン酸 ２重量部 シクロヘキサノン ９２０重量部 アセトン ９２０重量部 上記を良く混合分散した後、サンドミルで分散後、ポリ
イソシアネートのコロネート−３０４１（日本ポリウレ
タン（株）製、固形分５０％）を５０重量部添加した
後、十分撹拌混合して磁性塗料Ｍ−１とした。
イソシアネートのコロネート−３０４１（日本ポリウレ
タン（株）製、固形分５０％）を５０重量部添加した
後、十分撹拌混合して磁性塗料Ｍ−１とした。
【０１９７】《潤滑層の塗設》前記磁気記録層の上にカ
ルナバワックスを０．１％含有するよう水／メタノール
混合溶液に分散した潤滑剤塗布液（下記ワックス液）を
調製し、該ワックスの付量が１５ｍｇ／ｍ2となるよう
に塗布した。ワックス塗布後の原反を１００℃の熱処理
ゾーンに５分間通して乾かした後、４０℃のオーブンで
５日間放置し、イソシアネートの架橋反応を充分に行っ
た。
ルナバワックスを０．１％含有するよう水／メタノール
混合溶液に分散した潤滑剤塗布液（下記ワックス液）を
調製し、該ワックスの付量が１５ｍｇ／ｍ2となるよう
に塗布した。ワックス塗布後の原反を１００℃の熱処理
ゾーンに５分間通して乾かした後、４０℃のオーブンで
５日間放置し、イソシアネートの架橋反応を充分に行っ
た。
【０１９８】（ワックス液の作成）９０℃に加熱した水
１００重量部にポリオキシエチレンラウリルエーテル４
重量部を混合し、別に９０℃で熔融しておいたカルナバ
ワックス４０重量部をこれに添加した後、高速撹拌式ホ
モジナイザーを用いて充分に撹拌し、カルナバワックス
の分散液（ＷＡＸ１）を作成した。
１００重量部にポリオキシエチレンラウリルエーテル４
重量部を混合し、別に９０℃で熔融しておいたカルナバ
ワックス４０重量部をこれに添加した後、高速撹拌式ホ
モジナイザーを用いて充分に撹拌し、カルナバワックス
の分散液（ＷＡＸ１）を作成した。
【０１９９】次に水９９５重量部、メタノール９００重
量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテル１０
０重量部を混合し、ここにＷＡＸ１を５重量部添加し、
撹拌してワックス液を作成した。
量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテル１０
０重量部を混合し、ここにＷＡＸ１を５重量部添加し、
撹拌してワックス液を作成した。
【０２００】前記磁気記録媒体の、磁気記録層側とは反
対側に前記下引塗布液Ｂ−１及びＢ−２を同一条件で塗
設した下引層を設けた後、以下に示す組成の写真構成層
を設けて、試料１０１とした。添加量は１ｍ2当たりの
グラム数で表す。但し、ハロゲン化銀とコロイド銀は銀
の量に換算し、増加色素（ＳＤで示す）は銀１モル当た
りのモル数で示した。
対側に前記下引塗布液Ｂ−１及びＢ−２を同一条件で塗
設した下引層を設けた後、以下に示す組成の写真構成層
を設けて、試料１０１とした。添加量は１ｍ2当たりの
グラム数で表す。但し、ハロゲン化銀とコロイド銀は銀
の量に換算し、増加色素（ＳＤで示す）は銀１モル当た
りのモル数で示した。
【０２０１】 第１層（ハレーション防止層） 黒色コロイド銀 ０．１６ ＵＶ−１ ０．３ ＣＭ−１ ０．０４４ ＯＩＬ−１ ０．０４４ ゼラチン １．３３ 第２層（中間層） ＡＳ−１ ０．１６ ＯＩＬ−１ ０．２０ ゼラチン １．４０ 第３層（低感度赤感色性層） 沃臭化銀ａ ０．１２ 沃臭化銀ｂ ０．５０ ＳＤ−１ ３．０×１０-5 ＳＤ−４ １．５×１０-4 ＳＤ−３ ３．０×１０-4 ＳＤ−６ ３．０×１０-6 Ｃ−１ ０．５１ ＣＣ−１ ０．０４７ ＯＩＬ−２ ０．４５ ＡＳ−２ ０．００５ ゼラチン １．４０ 第４層（中感度赤感色性層） 沃臭化銀ｃ ０．６４ ＳＤ−１ ３．０×１０-5 ＳＤ−２ １．５×１０-4 ＳＤ−３ ３．０×１０-4 Ｃ−２ ０．２２ ＣＣ−１ ０．０２８ ＤＩ−１ ０．００２ ＯＩＬ−２ ０．２１ ＡＳ−３ ０．００６ ゼラチン ０．８７ 第５層（高感度赤感色性層） 沃臭化銀ｃ ０．１３ 沃臭化銀ｄ １．１４ ＳＤ−１ ３．０×１０-5 ＳＤ−２ １．５×１０−４ ＳＤ−３ ３．０×１０−４ Ｃ−２ ０．０８５ Ｃ−３ ０．０８４ ＣＣ−１ ０．０２９ ＤＩ−１ ０．０２７ ＯＩＬ−２ ０．２３ ＡＳ−３ ０．０１３ ゼラチン １．２３ 第６層（中間層） ＯＩＬ−１ ０．２９ ＡＳ−１ ０．２３ ゼラチン １．００ 第７層（低感度緑感色性層） 沃臭化銀ａ ０．２４５ 沃臭化銀ｂ ０．１０５ ＳＤ−６ ５．０×１０-4 ＳＤ−５ ５．０×１０-4 Ｍ−１ ０．２１ ＣＭ−２ ０．０３９ ＯＩＬ−１ ０．２５ ＡＳ−２ ０．００３ ＡＳ−４ ０．０６３ ゼラチン ０．９８ 第８層（中間層） Ｍ−１ ０．０３ ＣＭ−２ ０．００５ ＯＩＬ−１ ０．１６ ＡＳ−１ ０．１１ ゼラチン ０．８０ 第９層（中感度緑感色性層） 沃臭化銀ｅ ０．８７ ＳＤ−７ ３．０×１０-4 ＳＤ−８ ６．０×１０-5 ＳＤ−９ ４．０×１０-5 Ｍ−１ ０．１７ ＣＭ−２ ０．０４８ ＣＭ−３ ０．０５９ ＤＩ−２ ０．０１２ ＯＩＬ−１ ０．２９ ＡＳ−４ ０．０５ ＡＳ−２ ０．００５ ゼラチン １．４３ 第１０層（高感度緑感色性層） 沃臭化銀ｆ １．１９ ＳＤ−７ ４．０×１０-4 ＳＤ−８ ８．０×１０-5 ＳＤ−９ ５．０×１０-5 Ｍ−１ ０．０９ ＣＭ−３ ０．０２０ ＤＩ−３ ０．００５ ＯＩＬ−１ ０．１１ ＡＳ−４ ０．０２６ ＡＳ−５ ０．０１４ ＡＳ−６ ０．００６ ゼラチン ０．７８ 第１１層（イエローフィルター層） 黄色コロイド銀 ０．０５ ＯＩＬ−１ ０．１８ ＡＳ−７ ０．１６ ゼラチン １．００ 第１２層（低感度青感色性層） 沃臭化銀ｇ ０．２９ 沃臭化銀ｈ ０．１９ ＳＤ−１０ ８．０×１０-4 ＳＤ−１１ ３．１×１０-4 Ｙ−１ ０．９１ ＤＩ−４ ０．０２２ ＯＩＬ−１ ０．３７ ＡＳ−２ ０．００２ ゼラチン １．２９ 第１３層（高感度青感色性層） 沃臭化銀ｈ ０．１３ 沃臭化銀ｉ １．００ ＳＤ−１０ ４．４×１０-4 ＳＤ−１１ １．５×１０-4 Ｙ−１ ０．４８ ＤＩ−４ ０．０１９ ＯＩＬ−１ ０．２１ ＡＳ−２ ０．００４ ゼラチン １．５５ 第１４層（第１保護層） 沃臭化銀ｊ ０．３０ ＵＶ−１ ０．０５５ ＵＶ−２ ０．１１０ ＯＩＬ−２ ０．６３ ゼラチン １．３２ 第１５層（第２保護層） ＰＭ−１ ０．１５ ＰＭ−２ ０．０４ ＷＡＸ−１ ０．０２ Ｄ−１ ０．００１ ゼラチン ０．５５ 尚、上記の組成物の他に、塗布助剤ＳＵ−１、ＳＵ−
２、ＳＵ−３、分散助剤ＳＵ−４、粘度調整剤Ｖ−１、
安定剤ＳＴ−１、ＳＴ−２、カブリ防止剤ＡＦ−１、重
量平均分子量：１０，０００及び重量平均分子量：１，
１００，０００の２種のポリビニルピロリドン（ＡＦ−
２）、抑制剤ＡＦ−３、ＡＦ−４、ＡＦ−５、硬膜剤Ｈ
−１、Ｈ−２及び防腐剤Ａｓｅ−１を添加した。
２、ＳＵ−３、分散助剤ＳＵ−４、粘度調整剤Ｖ−１、
安定剤ＳＴ−１、ＳＴ−２、カブリ防止剤ＡＦ−１、重
量平均分子量：１０，０００及び重量平均分子量：１，
１００，０００の２種のポリビニルピロリドン（ＡＦ−
２）、抑制剤ＡＦ−３、ＡＦ−４、ＡＦ−５、硬膜剤Ｈ
−１、Ｈ−２及び防腐剤Ａｓｅ−１を添加した。
【０２０２】上記試料に用いた化合物の構造を以下に示
す。また用いた沃臭化銀について表７に示す。
す。また用いた沃臭化銀について表７に示す。
【０２０３】
【表７】
【０２０４】
【化５６】
【０２０５】
【化５７】
【０２０６】
【化５８】
【０２０７】
【化５９】
【０２０８】
【化６０】
【０２０９】
【化６１】
【０２１０】
【化６２】
【０２１１】
【化６３】
【０２１２】
【化６４】
【０２１３】作成した試料を３５ｍｍ幅で長さ１００ｍ
に裁断して、磁気書き込みヘッドにて６ｋＨｚの方形波
信号を１００ｍｍ／Ｓの搬送速度で記録し、リールに巻
いた。
に裁断して、磁気書き込みヘッドにて６ｋＨｚの方形波
信号を１００ｍｍ／Ｓの搬送速度で記録し、リールに巻
いた。
【０２１４】表８に記載の如く添加剤を変化させた以外
は実施例１の実験Ｎｏ．１−９、１−１０と同様な連続
処理を行った後、前述の方法で作成した感光材料を処理
し、実施例１と同様にして残留銀量の測定を行い、更に
処理後の感光材料の磁気記録層の磁気記録について以下
の基準で評価した。
は実施例１の実験Ｎｏ．１−９、１−１０と同様な連続
処理を行った後、前述の方法で作成した感光材料を処理
し、実施例１と同様にして残留銀量の測定を行い、更に
処理後の感光材料の磁気記録層の磁気記録について以下
の基準で評価した。
【０２１５】〈磁気ヘッドの目詰まり評価〉処理後の感
光材料を磁気読み取りヘッドにて同一搬送速度にて方形
波信号を読み取っていき、出力が初期値よりも３ｄＢ以
上下がった点をヘッドクロッグ発生点とし、テスト開始
からの長さ（ｍ）でヘッドクロッグの発生レベルを評価
した。数値が小さい程、即ち短い距離でヘッドクロッグ
が発生すること程、好ましくないことを意味する。
光材料を磁気読み取りヘッドにて同一搬送速度にて方形
波信号を読み取っていき、出力が初期値よりも３ｄＢ以
上下がった点をヘッドクロッグ発生点とし、テスト開始
からの長さ（ｍ）でヘッドクロッグの発生レベルを評価
した。数値が小さい程、即ち短い距離でヘッドクロッグ
が発生すること程、好ましくないことを意味する。
【０２１６】〈磁気特性評価〉前記磁気ヘッドの目詰ま
り評価のテストと同様にして、初期値よりも０．５ｄＢ
未満の低下で再生されたものを○、０．５ｄＢ以上１ｄ
Ｂ未満の低下で再生されたものを△、１ｄＢ以上の低下
で再生されたものを×とした。
り評価のテストと同様にして、初期値よりも０．５ｄＢ
未満の低下で再生されたものを○、０．５ｄＢ以上１ｄ
Ｂ未満の低下で再生されたものを△、１ｄＢ以上の低下
で再生されたものを×とした。
【０２１７】結果を表８に示す。
【０２１８】
【表８】
【０２１９】
【発明の効果】本発明によれば、どの様な状況の処理に
おいても安定な定着性能が得られる。
おいても安定な定着性能が得られる。
【図１】実施例１に用いる自動現像機の処理槽の概略図
である。
である。
【図２】実施例１に用いる自動現像機の概略横断面図で
ある。
ある。
【図３】図１の処理槽の具体的構成図である。
【図４】実施例２に用いる自動現像機の概略横断面図で
ある。
ある。
１Ｙ 処理槽 ２Ｙ 補助タンク ４Ｙ 処理液収容タンク １２Ｙ 上側部材 １３Ｙ 下側部材 １６Ｙ 搬送ローラ ２４Ｙ 循環ポンプ ２５Ｙ 循環パイプ ２７Ｙ 処理液を吐出するノズル Ｐ ハロゲン化銀写真感光材料 ＣＤ 発色現像槽 ＢＬ 漂白槽 Ｆｉｘ 定着槽
Claims (12)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表される化合物を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用の
定着能を有する処理液。 【化１】 〔式中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103及びＲ104は各々、水素原
子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、
アシル基、置換基を有してもよいアミノ基、−Ｎ＝ＣＲ
111Ｒ112、−Ｃ（＝ＮＲ113）ＮＲ114Ｒ115又は複素環
基（５〜６員の不飽和環が縮合しているものも含む）を
表し、これらは互いに結合して環を形成してもよく、ま
た全てが同時に水素原子であることは無い。Ｒ111、Ｒ
112、Ｒ113、Ｒ114及びＲ115は各々、水素原子、置換基
を有してもよいアルキル基又はアミノ基を表す。〕 - 【請求項２】 定着液であることを特徴とする請求項１
に記載のハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する
処理液。 - 【請求項３】 漂白定着液であることを特徴とする請求
項１に記載のハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有
する処理液。 - 【請求項４】 チオ硫酸塩を含有し、該チオ硫酸塩に対
して前記一般式（１）で表される化合物を０．０５〜５
重量％で含有することを特徴とする請求項１、２又は３
に記載のハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する
処理液。 - 【請求項５】 沃素イオンを０．００１〜０．００６モ
ル／ｌ含有することを特徴とする請求項１、２、３又は
４に記載のハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有す
る処理液。 - 【請求項６】 更に下記一般式（２）で表される化合物
を含有することを特徴とする請求項１、２、３、４又は
５に記載のハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有す
る処理液。 【化２】 - 【請求項７】 前記一般式（１）で表される化合物に対
して前記一般式（２）で表される化合物を０．０１〜２
０重量％で含有することを特徴とする請求項６に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液。 - 【請求項８】 請求項１乃至７に記載の定着能を有する
処理液を用いる工程を有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項９】 前記工程に引き続く処理工程の処理槽の
少なくとも１つから汲み出した処理液を、該定着能を有
する処理液を用いる工程の処理槽の少なくとも１つに導
入することを特徴とする請求項８に記載のハロゲン化銀
写真感光材料の処理方法。 - 【請求項１０】 前記定着能を有する処理液を用いる工
程への補充液の補充量が処理される感光材料１ｍ2当た
り８００ｍｌ以下であることを特徴とする請求項８又は
９に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項１１】 前記定着能を有する処理液を用いる工
程に引き続く処理工程が、実質的にホルムアルデヒドを
含有しない安定化処理液を用いる安定化工程であること
を特徴とする請求項８、９又は１０に記載のハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項１２】 前記安定化処理液が下記一般式（Ｆ−
１）〜（Ｆ−１４）から選ばれる式で表される化合物を
含有することを特徴とする請求項１１に記載のハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。 【化３】 〔式中、Ｒ11〜Ｒ16は、各々、水素原子又は１価の有機
基を表す。〕 【化４】 〔式中、Ｒ21〜Ｒ23は、各々、水素原子又はメチロール
基を表す。〕 【化５】 〔式中、Ｖ1及びＷ1は電子吸引性の基を表し、又、Ｖ1
とＷ1で結合して５員又は６員の含窒素ヘテロ環を形成
してもよい。Ｙ1は水素原子又は加水分解によって脱離
する基を表す。Ｚは窒素原子と共に単環又は縮合した含
窒素ヘテロ環を形成するのに必要な非金属原子群を表
す。〕 【化６】 〔式中、Ｒ31は水素原子又は脂肪族基を表し、Ｒ32及び
Ｒ33は各々脂肪族基又はアリール基を表し、Ｒ32とＲ33
は互いに結合して環を形成してもよい。Ｚ1及びＺ2は各
々酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（Ｒ34）−を表す。但
し、Ｚ1とＺ2は同時に酸素原子又は−Ｎ（Ｒ34）−であ
ることはない。Ｒ34は水素原子、ヒドロキシ基、脂肪族
基又はアリール基を表す。〕 【化７】 〔式中、Ｒ35は水素原子又は脂肪族炭化水素基を表し、
Ｖ2は加水分解によって脱離する基を表し、Ｍはカチオ
ンを表し、Ｗ2及びＹ2は各々水素原子又は加水分解によ
って脱離する基を表し、ｎは１〜１０の整数を表し、Ｚ
3は水素原子、脂肪族炭化水素基、アリール基又は加水
分解によって脱離する基を表し、Ｒ36は脂肪族炭化水素
基又はアリール基を表す。Ｚ3はＲ36と結合して環を形
成してもよい。〕 【化８】 〔式中、Ａ1〜Ａ4は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、ピリジル基を表す。ｌは０又は１を表す。〕 【化９】 〔式中、Ｚ4は炭化水素環又はヘテロ環を形成するのに
必要な原子群を表し、Ｘ1はアルデヒド基、 【化１０】 （式中Ｒ41及びＲ42は各々低級アルキル基を表す。）を
表し、ｎは１〜４の整数を表す。〕 【化１１】 〔式中、Ｒ51〜Ｒ53は各々水素原子、アルキル基又はア
リール基を表し、Ｘ1は含窒素ヘテロ環基を表す。〕 【化１２】 〔式中、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4及びＸ5は各々、−ＮＲ60−、＝
Ｎ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＲ61Ｒ62−、＝ＣＲ63−、
−ＣＯ−又は−Ｃ（＝ＮＲ64）−を表し、Ｒ60、Ｒ61、
Ｒ62、Ｒ63及びＲ64は各々水素原子又は置換基を表す。
Ｚ5及びＺ6は各々４〜８員環を形成するのに必要な非金
属原子群を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27337896A JPH10123687A (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | ハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27337896A JPH10123687A (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | ハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123687A true JPH10123687A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17527071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27337896A Pending JPH10123687A (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | ハロゲン化銀写真感光材料用の定着能を有する処理液及びそれを用いる処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10123687A (ja) |
-
1996
- 1996-10-16 JP JP27337896A patent/JPH10123687A/ja active Pending
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