JPH10139748A - 新規なアミンイミド化合物 - Google Patents
新規なアミンイミド化合物Info
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- JPH10139748A JPH10139748A JP29678496A JP29678496A JPH10139748A JP H10139748 A JPH10139748 A JP H10139748A JP 29678496 A JP29678496 A JP 29678496A JP 29678496 A JP29678496 A JP 29678496A JP H10139748 A JPH10139748 A JP H10139748A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アニオン重合性モノマーおよびアニオン重合
性オリゴマーなどの重合性化合物を重合する際に重合開
始剤として用いうる新規なアミンイミド化合物を提供す
ること。この化合物はポリウレタン樹脂またはポリウレ
ア樹脂の原料となりうる。 【解決手段】 下記式 [１] で表される新規なアミンイ
ミド化合物： 【化１】 (Ｒ1 はＯＨ含有基またはＮＨ含有基であり、Ｒ2 〜Ｒ
4 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水酸基で置
換されていてもよいアルキル基または水素。)
性オリゴマーなどの重合性化合物を重合する際に重合開
始剤として用いうる新規なアミンイミド化合物を提供す
ること。この化合物はポリウレタン樹脂またはポリウレ
ア樹脂の原料となりうる。 【解決手段】 下記式 [１] で表される新規なアミンイ
ミド化合物： 【化１】 (Ｒ1 はＯＨ含有基またはＮＨ含有基であり、Ｒ2 〜Ｒ
4 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水酸基で置
換されていてもよいアルキル基または水素。)
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、アニオン重合性モノマー
およびアニオン重合性オリゴマーなどの重合性化合物を
重合する際に重合開始剤として用いうる新規なアミンイ
ミド化合物に関する。
およびアニオン重合性オリゴマーなどの重合性化合物を
重合する際に重合開始剤として用いうる新規なアミンイ
ミド化合物に関する。
【０００２】また本発明は、単独でポリウレタン樹脂ま
たは単独でポリウレア樹脂の原料となりうる新規なアミ
ンイミド化合物に関する。
たは単独でポリウレア樹脂の原料となりうる新規なアミ
ンイミド化合物に関する。
【０００３】
【発明の技術的背景】特公昭５５−３７５４７号公報に
は、ジアルキルヒドラジンと、酸ハライドとを反応させ
て得られた化合物を、Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 Ｘで示される第四
級化剤と反応させヒドラジニウム塩とし、次いでこのヒ
ドラジニウム塩を塩基の存在下で処理することを特徴と
するベンジル基を有する新規なアミンイミド化合物の製
法が記載されている。
は、ジアルキルヒドラジンと、酸ハライドとを反応させ
て得られた化合物を、Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 Ｘで示される第四
級化剤と反応させヒドラジニウム塩とし、次いでこのヒ
ドラジニウム塩を塩基の存在下で処理することを特徴と
するベンジル基を有する新規なアミンイミド化合物の製
法が記載されている。
【０００４】この新規な化合物は、一般式
【０００５】
【化９】
【０００６】（上記式中Ｒ1 およびＲ2 は同一でも異な
っていてもよく、アルキル基を意味し、Ｒ3 はアルキル
基、アリール基、アルアルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基またはアルケニル基、Ｙはカルボニル基ま
たはスルホニル基を表す。）で示されている。この公報
には、上記のようなベンジル基を有するアミンイミド化
合物として、具体的に、１，１−ジメチル−１−ベンジ
ルアミンベンゾイルイミド、１，１−ジメチル−１−ベ
ンジルアミンベンゾイルプロピオニルイミド、１，１−
ジメチル−１−ベンジルアミンメタクリロイルイミド、
１，１−ジメチル−１−ベンジルアミンベンゼンスルホ
ニルイミドおよび１，１−ジメチル−１−ベンジルアミ
ンブチルスルホニルイミドが記載されている。
っていてもよく、アルキル基を意味し、Ｒ3 はアルキル
基、アリール基、アルアルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基またはアルケニル基、Ｙはカルボニル基ま
たはスルホニル基を表す。）で示されている。この公報
には、上記のようなベンジル基を有するアミンイミド化
合物として、具体的に、１，１−ジメチル−１−ベンジ
ルアミンベンゾイルイミド、１，１−ジメチル−１−ベ
ンジルアミンベンゾイルプロピオニルイミド、１，１−
ジメチル−１−ベンジルアミンメタクリロイルイミド、
１，１−ジメチル−１−ベンジルアミンベンゼンスルホ
ニルイミドおよび１，１−ジメチル−１−ベンジルアミ
ンブチルスルホニルイミドが記載されている。
【０００７】しかしながら、この公報には、本発明に係
るアミンイミド化合物は記載されていない。
るアミンイミド化合物は記載されていない。
【０００８】
【発明の目的】本発明は、アニオン重合性モノマーおよ
びアニオン重合性オリゴマーなどの重合性化合物の重合
開始剤（重合触媒）として使用できる新規なアミンイミ
ド化合物を提供することを目的としている。
びアニオン重合性オリゴマーなどの重合性化合物の重合
開始剤（重合触媒）として使用できる新規なアミンイミ
ド化合物を提供することを目的としている。
【０００９】また本発明は、ポリウレタン樹脂またはポ
リウレア樹脂の原料（モノマー）となりうる新規なアミ
ンイミド化合物を提供することを目的としている。さら
に本発明は、重合触媒として使用できるとともに、ポリ
ウレタン樹脂またはポリウレア樹脂のモノマーともなり
うる新規なアミンイミド化合物を提供することを目的と
している。
リウレア樹脂の原料（モノマー）となりうる新規なアミ
ンイミド化合物を提供することを目的としている。さら
に本発明は、重合触媒として使用できるとともに、ポリ
ウレタン樹脂またはポリウレア樹脂のモノマーともなり
うる新規なアミンイミド化合物を提供することを目的と
している。
【００１０】
【発明の概要】本発明に係る新規なアミンイミド化合物
は下記式 [１] で表される。
は下記式 [１] で表される。
【００１１】
【化１０】
【００１２】ただし、上記式［１］において、Ｒ1 はＯ
Ｈ含有基またはＮＨ含有基であり、Ｒ2 〜Ｒ4 は同一で
も異なっていてもよく、それぞれ水酸基で置換されてい
てもよいアルキル基または水素である。
Ｈ含有基またはＮＨ含有基であり、Ｒ2 〜Ｒ4 は同一で
も異なっていてもよく、それぞれ水酸基で置換されてい
てもよいアルキル基または水素である。
【００１３】このような新規なアミンイミド化合物か
ら、ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂が得られ
る。
ら、ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂が得られ
る。
【００１４】
【発明の具体的な説明】以下、本発明に係る新規なアミ
ンイミド化合物について、まず説明する。本発明に係る
新規なアミンイミド化合物は、下記式 [１] で表され
る。
ンイミド化合物について、まず説明する。本発明に係る
新規なアミンイミド化合物は、下記式 [１] で表され
る。
【００１５】
【化１１】
【００１６】上記式 [１] において、Ｒ1 はＯＨ含有基
またはＮＨ含有基であり、Ｒ2 〜Ｒ 4 は同一でも異なっ
ていてもよく、それぞれ水酸基で置換されていてもよい
アルキル基または水素である。
またはＮＨ含有基であり、Ｒ2 〜Ｒ 4 は同一でも異なっ
ていてもよく、それぞれ水酸基で置換されていてもよい
アルキル基または水素である。
【００１７】Ｒ1 はＯＨ含有基またはＮＨ含有基であ
り、具体的にはＲ1 はＨＯＣＲ5 Ｒ6−基、ＨＯ（Ｃ
Ｈ2)K −基などのＯＨ含有基またはＮＨＲ7 −基、ＮＨ
2(ＣＨ2) L −基 (Ｒ5 〜Ｒ7 は、水素またはアルキル基
であり、K およびL はそれぞれ１〜５である。) などの
ＮＨ含有基である。
り、具体的にはＲ1 はＨＯＣＲ5 Ｒ6−基、ＨＯ（Ｃ
Ｈ2)K −基などのＯＨ含有基またはＮＨＲ7 −基、ＮＨ
2(ＣＨ2) L −基 (Ｒ5 〜Ｒ7 は、水素またはアルキル基
であり、K およびL はそれぞれ１〜５である。) などの
ＮＨ含有基である。
【００１８】ＨＯＣＲ5 Ｒ6 −基としては、ヒドロキシ
メチル基、α- ヒドロキシエチル基、α- ヒドロキシプ
ロピル基などのα- ヒドロキシアルキル基を例示でき
る。ＨＯ（ＣＨ2)K −基としては、ヒドロキシエチル、
ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチルなどのＫが２
〜５の基を例示することができる。
メチル基、α- ヒドロキシエチル基、α- ヒドロキシプ
ロピル基などのα- ヒドロキシアルキル基を例示でき
る。ＨＯ（ＣＨ2)K −基としては、ヒドロキシエチル、
ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチルなどのＫが２
〜５の基を例示することができる。
【００１９】ＮＨＲ7 −基としては、アミノ基、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基などのＲ
7 が水素またはＣ1 〜Ｃ10のアルキル基などのアルキル
アミノ基を例示できる。
アミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基などのＲ
7 が水素またはＣ1 〜Ｃ10のアルキル基などのアルキル
アミノ基を例示できる。
【００２０】ＮＨ2(ＣＨ2)L −基としては、アミノメチ
ル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチ
ル基などのアミノアルキル基を例示できる。また上記式
[１] において、Ｒ2 〜Ｒ4 は同一でも異なっていても
よく、それぞれ水酸基で置換されていてもよいアルキル
基または水素である。
ル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチ
ル基などのアミノアルキル基を例示できる。また上記式
[１] において、Ｒ2 〜Ｒ4 は同一でも異なっていても
よく、それぞれ水酸基で置換されていてもよいアルキル
基または水素である。
【００２１】このようなＲ2 〜Ｒ4 としては、直鎖状ま
たは分岐状のアルキル基が例示され、このうちでもＣ1
〜Ｃ10のアルキル基が好ましい。このようなアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基などのＣ1
〜Ｃ10の直鎖状アルキル基またはイソプロピル基、イソ
ブチル基、t-ブチル基などのＣ2 〜Ｃ10の分岐状アルキ
ル基を例示することができる。
たは分岐状のアルキル基が例示され、このうちでもＣ1
〜Ｃ10のアルキル基が好ましい。このようなアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基などのＣ1
〜Ｃ10の直鎖状アルキル基またはイソプロピル基、イソ
ブチル基、t-ブチル基などのＣ2 〜Ｃ10の分岐状アルキ
ル基を例示することができる。
【００２２】また、水酸基で置換されるアルキル基とし
ては、前記したようなメチル基、エチル基、プロピル基
などのＣ1 〜Ｃ10直鎖状アルキル基またはイソプロピル
基、イソブチル基、t-ブチル基などのＣ2 〜Ｃ10の分岐
状アルキル基の少なくとも一個の水素基が水酸基と置換
したアルキル基を挙げることができ、置換される水酸基
の位置は特に限定されず、また置換される水酸基の数も
特に限定されない。
ては、前記したようなメチル基、エチル基、プロピル基
などのＣ1 〜Ｃ10直鎖状アルキル基またはイソプロピル
基、イソブチル基、t-ブチル基などのＣ2 〜Ｃ10の分岐
状アルキル基の少なくとも一個の水素基が水酸基と置換
したアルキル基を挙げることができ、置換される水酸基
の位置は特に限定されず、また置換される水酸基の数も
特に限定されない。
【００２３】このような水酸基置換アルキル基としては
具体的には、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル
基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒド
ロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基などのＣ1 〜
Ｃ10のヒドロキシアルキル基が例示される。
具体的には、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル
基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒド
ロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基などのＣ1 〜
Ｃ10のヒドロキシアルキル基が例示される。
【００２４】このような上記式 [１] で示されるアミン
イミド化合物として、ＯＨ含有基を有するアミンイミド
化合物としては具体的には１，１，１−トリメチル−２
−（４−ヒドロキシメチルベンゾイル）イミド、１，
１，１−トリエチル−２−（４−ヒドロキシメチルベン
ゾイル）イミド、１，１，１−トリメチル−２−（４−
ヒドロキシエチルベンゾイル）イミドなどを例示するこ
とができる。
イミド化合物として、ＯＨ含有基を有するアミンイミド
化合物としては具体的には１，１，１−トリメチル−２
−（４−ヒドロキシメチルベンゾイル）イミド、１，
１，１−トリエチル−２−（４−ヒドロキシメチルベン
ゾイル）イミド、１，１，１−トリメチル−２−（４−
ヒドロキシエチルベンゾイル）イミドなどを例示するこ
とができる。
【００２５】またＮＨ含有基を有するアミンイミド化合
物としては、１，１，１−トリメチル−２−（４−アミ
ノベンゾイル）イミド、１，１，１−トリエチル−２−
（４−アミノベンゾイル）イミド、１，１，−ジメチル
−２−（４−アミノベンゾイル）イミドなどを例示する
ことができる。
物としては、１，１，１−トリメチル−２−（４−アミ
ノベンゾイル）イミド、１，１，１−トリエチル−２−
（４−アミノベンゾイル）イミド、１，１，−ジメチル
−２−（４−アミノベンゾイル）イミドなどを例示する
ことができる。
【００２６】本発明では、このような上記化合物におい
て、Ｒ1 がパラ位にある下記式 [１１] に示されるp-ベ
ンゾイルアミンイミド化合物が好ましい。
て、Ｒ1 がパラ位にある下記式 [１１] に示されるp-ベ
ンゾイルアミンイミド化合物が好ましい。
【００２７】
【化１２】
【００２８】上記式 [１１] 中、Ｒ1 〜Ｒ4 は式 [１]
と同様である。本発明に係るアミンイミド化合物とし
て、前記したアミンイミド化合物 [１]でも、特に1,1,1
-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベンゾイル) イミ
ド、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロピル-2-(ヒドロキ
シメチルベンゾイル) イミド、1,1-ジヒドロキシプロピ
ル-1- メチル-2-(ヒドロキシメチルベンゾイル) イミ
ド、1,1,1-トリヒドロキシプロピル-2-(ヒドロキシメチ
ルベンゾイル) イミドなどの2-ヒドロキシメチルベンゾ
イルアミンイミドおよび1,1,1-トリメチル-2-(アミノベ
ンゾイル) イミド、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロピ
ル-2-(アミノベンゾイル) イミド、1,1-ジヒドロキシプ
ロピル-1- メチル-2-(アミノベンゾイル) イミド、1,1,
1-トリヒドロキシプロピル-2-(アミノベンゾイル) イミ
ドなどの2-アミノベンゾイルアミンイミドが好ましい。
このようなアミンイミド化合物の中でも前記式［４］で
表される以下のようなp-ベンゾイルアミンイミド化合物
が特に好ましい。
と同様である。本発明に係るアミンイミド化合物とし
て、前記したアミンイミド化合物 [１]でも、特に1,1,1
-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベンゾイル) イミ
ド、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロピル-2-(ヒドロキ
シメチルベンゾイル) イミド、1,1-ジヒドロキシプロピ
ル-1- メチル-2-(ヒドロキシメチルベンゾイル) イミ
ド、1,1,1-トリヒドロキシプロピル-2-(ヒドロキシメチ
ルベンゾイル) イミドなどの2-ヒドロキシメチルベンゾ
イルアミンイミドおよび1,1,1-トリメチル-2-(アミノベ
ンゾイル) イミド、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロピ
ル-2-(アミノベンゾイル) イミド、1,1-ジヒドロキシプ
ロピル-1- メチル-2-(アミノベンゾイル) イミド、1,1,
1-トリヒドロキシプロピル-2-(アミノベンゾイル) イミ
ドなどの2-アミノベンゾイルアミンイミドが好ましい。
このようなアミンイミド化合物の中でも前記式［４］で
表される以下のようなp-ベンゾイルアミンイミド化合物
が特に好ましい。
【００２９】1,1,1-トリメチル-2-(p-ヒドロキシメチル
ベンゾイル) イミド、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロ
ピル-2-(p-ヒドロキシメチルベンゾイル) イミド、1,1-
ジヒドロキシプロピル-1- メチル-2-(p-ヒドロキシメチ
ルベンゾイル) イミド、1,1,1-トリヒドロキシプロピル
-2-(p-ヒドロキシメチルベンゾイル) イミドなどの2-ヒ
ドロキシメチルベンゾイルアミンイミドおよび1,1,1-ト
リメチル-2-(p-アミノベンゾイル) イミド、1,1-ジメチ
ル-1- ヒドロキシプロピル-2-(p-アミノベンゾイル) イ
ミド、1,1-ジヒドロキシプロピル-1- メチル-2-(p-アミ
ノベンゾイル)イミド、1,1,1-トリヒドロキシプロピル-
2-(p-アミノベンゾイル) イミドなどの2-アミノベンゾ
イルアミンイミド。
ベンゾイル) イミド、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロ
ピル-2-(p-ヒドロキシメチルベンゾイル) イミド、1,1-
ジヒドロキシプロピル-1- メチル-2-(p-ヒドロキシメチ
ルベンゾイル) イミド、1,1,1-トリヒドロキシプロピル
-2-(p-ヒドロキシメチルベンゾイル) イミドなどの2-ヒ
ドロキシメチルベンゾイルアミンイミドおよび1,1,1-ト
リメチル-2-(p-アミノベンゾイル) イミド、1,1-ジメチ
ル-1- ヒドロキシプロピル-2-(p-アミノベンゾイル) イ
ミド、1,1-ジヒドロキシプロピル-1- メチル-2-(p-アミ
ノベンゾイル)イミド、1,1,1-トリヒドロキシプロピル-
2-(p-アミノベンゾイル) イミドなどの2-アミノベンゾ
イルアミンイミド。
【００３０】アミンイミドの製造方法 次に本発明に係る新規なアミンイミド化合物 [１] の製
造方法について述べる。
造方法について述べる。
【００３１】まず、下記式 [４] で表されるＯＨ基含有
アミンイミド化合物について、その製造方法を述べる。
アミンイミド化合物について、その製造方法を述べる。
【００３２】
【化１３】
【００３３】(ただし上記式［４］中、Ｒ2 〜Ｒ4 は前
記式 [１] と同一であり、Ｒa は前記式 [１] のＲ1 基
におけるＯＨ含有基と同じ意味である。) 本発明に係るアミンイミド化合物のうち、上記式［４］
で表されるＯＨ基含有アミンイミド化合物は、下記式
記式 [１] と同一であり、Ｒa は前記式 [１] のＲ1 基
におけるＯＨ含有基と同じ意味である。) 本発明に係るアミンイミド化合物のうち、上記式［４］
で表されるＯＨ基含有アミンイミド化合物は、下記式
【００３４】
【化１４】
【００３５】（上記式中、Ｒは水素またはアルキル基
であり、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式 [１] と同様である。）で
表される芳香族ヒドラジニウム化合物と、下記式
であり、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式 [１] と同様である。）で
表される芳香族ヒドラジニウム化合物と、下記式
【００３６】
【化１５】
【００３７】（上記式中、Ｒは前記同様であり、Ｒa
は前記式 [１] のＲ1 基におけるＯＨ含有基と同一であ
る。）で表されるＯＨ含有安息香酸エステルとを、アル
カリ金属アルコラートの存在下で接触させて得られる。
は前記式 [１] のＲ1 基におけるＯＨ含有基と同一であ
る。）で表されるＯＨ含有安息香酸エステルとを、アル
カリ金属アルコラートの存在下で接触させて得られる。
【００３８】前記式で表される芳香族ヒドラジニウム
化合物としては、以下の化合物を例示することができ
る。1,1,1-トリアルキルヒドラジニウムトシラートとし
ては、ヒドラジニウムトシラート、1,1,1-トリメチルヒ
ドラジニウムトシラート、1,1,1-トリエチルヒドラジニ
ウムトシラート、1,1,1-トリプロピルヒドラジニウムト
シラートなどの直鎖状または分岐状のトリアルキルヒド
ラジニウムトシラートを例示することができ、また1,1-
ジメチル-1- ヒドロキシメチルヒドラジニウムトシラー
ト、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシエチルヒドラジニウム
トシラート、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロピルヒド
ラジニウムトシラート、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシブ
チルヒドラジニウムトシラート、1,1-ジメチル-1- ヒド
ロキシペンチルヒドラジニウムトシラートなどの水酸基
含有直鎖状または分岐状のトリアルキルヒドラジニウム
トシラートを例示することができる。
化合物としては、以下の化合物を例示することができ
る。1,1,1-トリアルキルヒドラジニウムトシラートとし
ては、ヒドラジニウムトシラート、1,1,1-トリメチルヒ
ドラジニウムトシラート、1,1,1-トリエチルヒドラジニ
ウムトシラート、1,1,1-トリプロピルヒドラジニウムト
シラートなどの直鎖状または分岐状のトリアルキルヒド
ラジニウムトシラートを例示することができ、また1,1-
ジメチル-1- ヒドロキシメチルヒドラジニウムトシラー
ト、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシエチルヒドラジニウム
トシラート、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシプロピルヒド
ラジニウムトシラート、1,1-ジメチル-1- ヒドロキシブ
チルヒドラジニウムトシラート、1,1-ジメチル-1- ヒド
ロキシペンチルヒドラジニウムトシラートなどの水酸基
含有直鎖状または分岐状のトリアルキルヒドラジニウム
トシラートを例示することができる。
【００３９】ＯＨ含有基を有する安息香酸エステルと
しては、ヒドロキシメチル安息香酸メチルエステル、ヒ
ドロキシエチル安息香酸メチルエステル、ヒドロキシプ
ロピル安息香酸メチルエステル、ヒドロキシブチル安息
香酸メチルエステルなどのヒドロキシアルキル安息香酸
アルキルエステル、メチルヒドロキシメチル安息香酸メ
チルエステル、ヒドロキシエチル安息香酸エチルエステ
ル、ヒドロキシエチル安息香酸プロピルエステル、ヒド
ロキシエチル安息香酸ブチルエステルなどを例示するこ
とができる。
しては、ヒドロキシメチル安息香酸メチルエステル、ヒ
ドロキシエチル安息香酸メチルエステル、ヒドロキシプ
ロピル安息香酸メチルエステル、ヒドロキシブチル安息
香酸メチルエステルなどのヒドロキシアルキル安息香酸
アルキルエステル、メチルヒドロキシメチル安息香酸メ
チルエステル、ヒドロキシエチル安息香酸エチルエステ
ル、ヒドロキシエチル安息香酸プロピルエステル、ヒド
ロキシエチル安息香酸ブチルエステルなどを例示するこ
とができる。
【００４０】このようなトリアルキルヒドラジニウムト
シラートと、ＯＨ含有基を有する安息香酸エステルと
を、アルカリ金属アルコラートの存在下で接触させるに
は、これらをアルコール、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、ジメチルアセトアミドなどの溶媒に別々に溶解し
た溶液中にナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、ターシャリーブトキシカリウムなどのアルカリ金属
アルコラートを加えて接触させてもよく、加える順序は
特に制限されない。このような接触の際に攪拌、震盪な
どを行うことが好ましい。また冷却下、常温下または加
温下のいずれかで接触させてもよく、さらに、このよう
な条件下で接触させた後、さらに加温してもよい。この
ように接触して反応させた後に濾別することによって、
本発明に係るＯＨ含有基を有するアミンイミド化合物が
得られる。
シラートと、ＯＨ含有基を有する安息香酸エステルと
を、アルカリ金属アルコラートの存在下で接触させるに
は、これらをアルコール、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、ジメチルアセトアミドなどの溶媒に別々に溶解し
た溶液中にナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、ターシャリーブトキシカリウムなどのアルカリ金属
アルコラートを加えて接触させてもよく、加える順序は
特に制限されない。このような接触の際に攪拌、震盪な
どを行うことが好ましい。また冷却下、常温下または加
温下のいずれかで接触させてもよく、さらに、このよう
な条件下で接触させた後、さらに加温してもよい。この
ように接触して反応させた後に濾別することによって、
本発明に係るＯＨ含有基を有するアミンイミド化合物が
得られる。
【００４１】本発明に係るＯＨ基含有アミンイミド化合
物のうち、下記式 [１２] に示す特に好ましいパラ位の
アミンイミド化合物は、パラ位の安息香酸エステルを原
料として製造することができる。
物のうち、下記式 [１２] に示す特に好ましいパラ位の
アミンイミド化合物は、パラ位の安息香酸エステルを原
料として製造することができる。
【００４２】
【化１６】
【００４３】また、本発明に係るＮＨ含有基を有するア
ミンイミド化合物［５］
ミンイミド化合物［５］
【００４４】
【化１７】
【００４５】（上記式［５］中、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式
[１] と同じ意味であり、Ｒb は前記式[１] のＲ1 基に
おけるＮＨ含有基と同一である。）は、以下のようにし
て製造することができる。
[１] と同じ意味であり、Ｒb は前記式[１] のＲ1 基に
おけるＮＨ含有基と同一である。）は、以下のようにし
て製造することができる。
【００４６】まず、下記式で示されるニトロベンゾイル
アシル化合物
アシル化合物
【００４７】
【化１８】
【００４８】（上記式中、Ｘはハロゲン基を表す。）
で表されるニトロベンゾイルアシル化合物と、下記式 ＮＨ2 −ＮＲ2 Ｒ3 … （式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記式 [１] と同一であ
る。）で表されるヒドラジンとを接触、中和させた後、
還元し、得られる化合物を下記式 Ｒ4 Ｘ … （式中、Ｒ4 は前記式 [１] と同一であり、Ｘはハロ
ゲン基である。）で表されるハロゲン化アルキルとを反
応させてヒドラジニウム塩とし、次いでアルカリの存在
下に処理して本発明に係るＮＨ含有基を有するアミンイ
ミド化合物［４］が得られる。
で表されるニトロベンゾイルアシル化合物と、下記式 ＮＨ2 −ＮＲ2 Ｒ3 … （式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記式 [１] と同一であ
る。）で表されるヒドラジンとを接触、中和させた後、
還元し、得られる化合物を下記式 Ｒ4 Ｘ … （式中、Ｒ4 は前記式 [１] と同一であり、Ｘはハロ
ゲン基である。）で表されるハロゲン化アルキルとを反
応させてヒドラジニウム塩とし、次いでアルカリの存在
下に処理して本発明に係るＮＨ含有基を有するアミンイ
ミド化合物［４］が得られる。
【００４９】ニトロベンゾイルアシル化合物としては、
ニトロベンゾイルフルオリド、ニトロベンゾイルクロリ
ド、ニトロベンゾイルブロミドおよびニトロベンゾイル
ヨードなどのハロゲン化ニトロベンゾイル化合物が例示
される。
ニトロベンゾイルフルオリド、ニトロベンゾイルクロリ
ド、ニトロベンゾイルブロミドおよびニトロベンゾイル
ヨードなどのハロゲン化ニトロベンゾイル化合物が例示
される。
【００５０】式で表されるヒドラジンとしては、ジメ
チルヒドラジン、ジエチルヒドラジン、ジプロピルヒド
ラジン、ジブチルヒドラジン、ジペンチルヒドラジン、
ジヘキシルヒドラジンおよびメチルエチルヒドラジン、
メチルプロピルヒドラジン、メチルブチルヒドラジン、
メチルペンチルヒドラジン、メチルヘキシルヒドラジ
ン、エチルプロピルヒドラジン、エチルブチルヒドラジ
ン、エチルペンチルヒドラジン、エチルヘキシルヒドラ
ジンなどのジアルキルヒドラジンを例示することができ
る。
チルヒドラジン、ジエチルヒドラジン、ジプロピルヒド
ラジン、ジブチルヒドラジン、ジペンチルヒドラジン、
ジヘキシルヒドラジンおよびメチルエチルヒドラジン、
メチルプロピルヒドラジン、メチルブチルヒドラジン、
メチルペンチルヒドラジン、メチルヘキシルヒドラジ
ン、エチルプロピルヒドラジン、エチルブチルヒドラジ
ン、エチルペンチルヒドラジン、エチルヘキシルヒドラ
ジンなどのジアルキルヒドラジンを例示することができ
る。
【００５１】また、式で表されるハロゲン化アルキル
としては、前記したような水酸基で置換されていてもよ
いアルキル基と、ハロゲンとの化合物を例示することが
できる。このような化合物としては具体的には、フルオ
ロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、沃化メチル、
ヒドロキシフルオロメチル、ヒドロキシクロロメチル、
ヒドロキシブロモメチル、ヒドロキシ沃化メチル、フル
オロエチル、クロロエチル、ブロモエチル、沃化エチ
ル、ヒドロキシフルオロエチル、ヒドロキシクロロエチ
ル、ヒドロキシブロモエチル、ヒドロキシ沃化エチル、
フルオロプロピル、クロロプロピル、ブロモプロピル、
沃化プロピル、ヒドロキシフルオロプロピル、ヒドロキ
シクロロプロピル、ヒドロキシブロモプロピル、ヒドロ
キシ沃化プロピル、フルオロブチル、クロロブチル、ブ
ロモブチル、沃化ブチル、ヒドロキシフルオロブチル、
ヒドロキシクロロブチル、ヒドロキシブロモブチル、ヒ
ドロキシ沃化ブチル、フルオロペンチル、クロロペンチ
ル、ブロモペンチル、沃化ペンチル、ヒドロキシフルオ
ロペンチル、ヒドロキシクロロペンチル、ヒドロキシブ
ロモペンチル、ヒドロキシ沃化ペンチル、フルオロヘキ
シル、クロロヘキシル、ブロモヘキシル、沃化ヘキシ
ル、ヒドロキシフルオロヘキシル、ヒドロキシクロロヘ
キシル、ヒドロキシブロモヘキシル、ヒドロキシ沃化ヘ
キシルなどが挙げられる。
としては、前記したような水酸基で置換されていてもよ
いアルキル基と、ハロゲンとの化合物を例示することが
できる。このような化合物としては具体的には、フルオ
ロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、沃化メチル、
ヒドロキシフルオロメチル、ヒドロキシクロロメチル、
ヒドロキシブロモメチル、ヒドロキシ沃化メチル、フル
オロエチル、クロロエチル、ブロモエチル、沃化エチ
ル、ヒドロキシフルオロエチル、ヒドロキシクロロエチ
ル、ヒドロキシブロモエチル、ヒドロキシ沃化エチル、
フルオロプロピル、クロロプロピル、ブロモプロピル、
沃化プロピル、ヒドロキシフルオロプロピル、ヒドロキ
シクロロプロピル、ヒドロキシブロモプロピル、ヒドロ
キシ沃化プロピル、フルオロブチル、クロロブチル、ブ
ロモブチル、沃化ブチル、ヒドロキシフルオロブチル、
ヒドロキシクロロブチル、ヒドロキシブロモブチル、ヒ
ドロキシ沃化ブチル、フルオロペンチル、クロロペンチ
ル、ブロモペンチル、沃化ペンチル、ヒドロキシフルオ
ロペンチル、ヒドロキシクロロペンチル、ヒドロキシブ
ロモペンチル、ヒドロキシ沃化ペンチル、フルオロヘキ
シル、クロロヘキシル、ブロモヘキシル、沃化ヘキシ
ル、ヒドロキシフルオロヘキシル、ヒドロキシクロロヘ
キシル、ヒドロキシブロモヘキシル、ヒドロキシ沃化ヘ
キシルなどが挙げられる。
【００５２】このようにニトロベンゾイルアシル化合物
【００５３】
【化１９】
【００５４】（式中、Ｘはハロゲン基を示す。）で表
されるニトロベンゾイルアシル化合物と、下記式 ＮＨ2 −ＮＲ2 Ｒ3 … （式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記同様である。）で表さ
れるヒドラジンとを接触させるには、ニトロベンゾイル
アシル化合物のエーテル、アセトン、アセトニトリル、
クロロホルムなどの溶液中にヒドラジンを加えて接触さ
せることができるが、ヒドラジン中に前記溶液を加えて
攪拌または震盪しながら接触させることができる。この
ようにして得られた結晶物を塩化メチレン、クロロホル
ムなどの溶媒に溶解した後、重曹、苛性ソウダ溶液など
で中和することによって下記式の化合物が得られる。
されるニトロベンゾイルアシル化合物と、下記式 ＮＨ2 −ＮＲ2 Ｒ3 … （式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記同様である。）で表さ
れるヒドラジンとを接触させるには、ニトロベンゾイル
アシル化合物のエーテル、アセトン、アセトニトリル、
クロロホルムなどの溶液中にヒドラジンを加えて接触さ
せることができるが、ヒドラジン中に前記溶液を加えて
攪拌または震盪しながら接触させることができる。この
ようにして得られた結晶物を塩化メチレン、クロロホル
ムなどの溶媒に溶解した後、重曹、苛性ソウダ溶液など
で中和することによって下記式の化合物が得られる。
【００５５】
【化２０】
【００５６】このような上記化合物を還元して、下記式
の化合物を得る。
の化合物を得る。
【００５７】
【化２１】
【００５８】( 前記式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記同様
であり、Ｒb は前記式 [１] 中のＲ1基におけるＮＨ含
有基と同じ意味である。） このような上記化合物を還元するには、通常使用される
還元法、たとえばニトロベンゼンからアニリンを合成す
る際に使用される還元法、すなわち亜鉛、スズまたは鉄
などの金属と塩酸とで還元する方法、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ
などの触媒を用いて接触還元する方法を使用することが
できる。また、ＰｄをＣ上に担持したＰｄ−Ｃ触媒など
を用いることもできる。さらに、カーボン、アルミナ、
シリカ、シリカアルミナ等に担持させた白金触媒などを
用いた還元法を採用することもできる。
であり、Ｒb は前記式 [１] 中のＲ1基におけるＮＨ含
有基と同じ意味である。） このような上記化合物を還元するには、通常使用される
還元法、たとえばニトロベンゼンからアニリンを合成す
る際に使用される還元法、すなわち亜鉛、スズまたは鉄
などの金属と塩酸とで還元する方法、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ
などの触媒を用いて接触還元する方法を使用することが
できる。また、ＰｄをＣ上に担持したＰｄ−Ｃ触媒など
を用いることもできる。さらに、カーボン、アルミナ、
シリカ、シリカアルミナ等に担持させた白金触媒などを
用いた還元法を採用することもできる。
【００５９】たとえばＰｄ−Ｃ触媒を用いた場合には、
Ｐｄ−Ｃ触媒を上記式の化合物１ｇあたり０．０００
１〜０．０１ｇ、好ましくは０．００１〜０．００３ｇ
程度の量で用いることができ（Ｐｄ換算値）、水素下、
１〜２０気圧、好ましくは８〜１２気圧で１〜３０時間
還元する方法が採用される。
Ｐｄ−Ｃ触媒を上記式の化合物１ｇあたり０．０００
１〜０．０１ｇ、好ましくは０．００１〜０．００３ｇ
程度の量で用いることができ（Ｐｄ換算値）、水素下、
１〜２０気圧、好ましくは８〜１２気圧で１〜３０時間
還元する方法が採用される。
【００６０】このような還元方法では、通常還元される
温度で行うことができる。このようにして得られた化合
物を下記式 Ｒ4 Ｘ … （式中、Ｒ4 は前記式 [１] と同一であり、Ｘはハロ
ゲン基である。）で表されるハロゲン化アルキルとを反
応させて下記式で表されるヒドラジニウム塩とし、
温度で行うことができる。このようにして得られた化合
物を下記式 Ｒ4 Ｘ … （式中、Ｒ4 は前記式 [１] と同一であり、Ｘはハロ
ゲン基である。）で表されるハロゲン化アルキルとを反
応させて下記式で表されるヒドラジニウム塩とし、
【００６１】
【化２２】
【００６２】（前記式中、Ｒ2 〜Ｒ4 、Ｒb およびＸ
は前記同様である。）次いでアルカリの存在下に処理し
て本発明に係るＮＨ含有基を有するアミンイミド化合物
［５］が得られる。
は前記同様である。）次いでアルカリの存在下に処理し
て本発明に係るＮＨ含有基を有するアミンイミド化合物
［５］が得られる。
【００６３】
【化２３】
【００６４】（前記式［５］中、Ｒ2 〜Ｒ4 およびＲb
は前記同様である。） 特に前記同様、好ましいパラ位のアミンイミド化合物
［１３］は、以下のようにして合成することができる。
は前記同様である。） 特に前記同様、好ましいパラ位のアミンイミド化合物
［１３］は、以下のようにして合成することができる。
【００６５】
【化２４】
【００６６】前記のようにして、前記式 [１] のアミン
イミド化合物を得ることができる。このようにして得ら
れたアミンイミド化合物 [１] は、たとえばエポキシ樹
脂、アクリロニトリル、ＭＭＡ等のアニオン重合性ビニ
ルモノマーなどのアニオン重合触媒として使用できる。
イミド化合物を得ることができる。このようにして得ら
れたアミンイミド化合物 [１] は、たとえばエポキシ樹
脂、アクリロニトリル、ＭＭＡ等のアニオン重合性ビニ
ルモノマーなどのアニオン重合触媒として使用できる。
【００６７】ポリウレタン樹脂およびポリウレア樹脂の
製造方法 次に、前記式 [１] のアミンイミド化合物を用いたポリ
ウレタン樹脂およびポリウレア樹脂の製造方法について
述べる。
製造方法 次に、前記式 [１] のアミンイミド化合物を用いたポリ
ウレタン樹脂およびポリウレア樹脂の製造方法について
述べる。
【００６８】本発明に係るアミンイミド化合物 [１] を
用いることによって、ポリウレタン樹脂またはポリウレ
ア樹脂を一段階の操作で直接的に製造することができ
る。すなわち、前記したような式 [１] に示すアミンイ
ミド化合物を、加熱することによって、ポリウレタン樹
脂またはポリウレア樹脂が製造される。
用いることによって、ポリウレタン樹脂またはポリウレ
ア樹脂を一段階の操作で直接的に製造することができ
る。すなわち、前記したような式 [１] に示すアミンイ
ミド化合物を、加熱することによって、ポリウレタン樹
脂またはポリウレア樹脂が製造される。
【００６９】
【化２５】
【００７０】上記式［Ａ］において、Ｒ10は式［１］の
Ｒ1 のＯＨ含有基またはＮＨ含有基のＨが脱離した基で
ある。たとえばＲ1 基がＨＯＣＨ2 −基またはＮＨ2 −
基の場合にはＲ10はそれぞれ−ＯＣＨ2 −基および−Ｎ
Ｈ−基を表す。
Ｒ1 のＯＨ含有基またはＮＨ含有基のＨが脱離した基で
ある。たとえばＲ1 基がＨＯＣＨ2 −基またはＮＨ2 −
基の場合にはＲ10はそれぞれ−ＯＣＨ2 −基および−Ｎ
Ｈ−基を表す。
【００７１】このような樹脂の重合の際の加熱温度は限
定されないが、好ましくは１２０〜２００℃、さらに好
ましくは１４０〜１８０℃、特に１５０〜１７０℃程度
である。またアミンイミド化合物［１］から、ポリウレ
タン樹脂またはポリウレア樹脂を製造する際に、使用さ
れる溶媒は限定されない。さらに無溶媒下で、前記した
アミンイミド化合物［１］から、ポリウレタン樹脂また
はポリウレア樹脂を製造することができる。
定されないが、好ましくは１２０〜２００℃、さらに好
ましくは１４０〜１８０℃、特に１５０〜１７０℃程度
である。またアミンイミド化合物［１］から、ポリウレ
タン樹脂またはポリウレア樹脂を製造する際に、使用さ
れる溶媒は限定されない。さらに無溶媒下で、前記した
アミンイミド化合物［１］から、ポリウレタン樹脂また
はポリウレア樹脂を製造することができる。
【００７２】このようなアミンイミド化合物［１］の中
でも特に下記式 [２] で表されるアミンイミド化合物を
用いることによって、線状のポリウレタン樹脂を製造す
ることができる。
でも特に下記式 [２] で表されるアミンイミド化合物を
用いることによって、線状のポリウレタン樹脂を製造す
ることができる。
【００７３】
【化２６】
【００７４】(ただし、上記式［２］において、Ｒ2 〜
Ｒ4 は前記式［１］と同様である。) なおこのようなアミンイミド化合物をエポキシ化合物な
どのアニオン重合性樹脂とともに加熱することによっ
て、本願発明に係るアミンイミド化合物はこれらアニオ
ン重合性樹脂の重合触媒として作用するとともに、ウレ
タン樹脂などの原料モノマーとしての役割を有すること
となる。
Ｒ4 は前記式［１］と同様である。) なおこのようなアミンイミド化合物をエポキシ化合物な
どのアニオン重合性樹脂とともに加熱することによっ
て、本願発明に係るアミンイミド化合物はこれらアニオ
ン重合性樹脂の重合触媒として作用するとともに、ウレ
タン樹脂などの原料モノマーとしての役割を有すること
となる。
【００７５】またＮＨ含有基を有するアミンイミド化合
物において、下記式 [３] で表されるパラ位のＮＨ含有
基を有するアミンイミド化合物を用いることによって、
前記ポリウレタン樹脂の合成と同様に線状のポリウレア
樹脂が製造される。
物において、下記式 [３] で表されるパラ位のＮＨ含有
基を有するアミンイミド化合物を用いることによって、
前記ポリウレタン樹脂の合成と同様に線状のポリウレア
樹脂が製造される。
【００７６】
【化２７】
【００７７】(ただし、上記式中、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記同
様である。)
様である。)
【００７８】
【発明の効果】本発明に係るアミンイミド化合物は、エ
ポキシ樹脂などのアニオン重合性樹脂の重合触媒（硬化
剤）として使用することができる。
ポキシ樹脂などのアニオン重合性樹脂の重合触媒（硬化
剤）として使用することができる。
【００７９】また本発明に係るアミンイミド化合物は、
ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂の原料として使
用することができる。さらに本発明に係るアミンイミド
化合物は、同時にアニオン重合性樹脂の重合触媒および
ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂のモノマーとし
ての機能を有しており、このような化合物をアニオン重
合性樹脂と併用することによって、アニオン重合性樹脂
の硬化と、ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂の重
合を同時に行うことができうる新規なアミンイミド化合
物を提供することができる。
ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂の原料として使
用することができる。さらに本発明に係るアミンイミド
化合物は、同時にアニオン重合性樹脂の重合触媒および
ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂のモノマーとし
ての機能を有しており、このような化合物をアニオン重
合性樹脂と併用することによって、アニオン重合性樹脂
の硬化と、ポリウレタン樹脂またはポリウレア樹脂の重
合を同時に行うことができうる新規なアミンイミド化合
物を提供することができる。
【００８０】
【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。
明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００８１】
【実施例１】1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ヒドロキシメチルベンゾ
イル) イミド(LM1) の合成 1,1,1-トリメチルヒドラジニウム-p- トルエンスルホン
酸11.8g をtert- ブタノール70mlに溶解し、ナトリウム
メチラート2.6gを室温で攪拌しながら加えた。
イル) イミド(LM1) の合成 1,1,1-トリメチルヒドラジニウム-p- トルエンスルホン
酸11.8g をtert- ブタノール70mlに溶解し、ナトリウム
メチラート2.6gを室温で攪拌しながら加えた。
【００８２】次いでtert- ブタノール35mlにp-ヒドロキ
シメチルベンゾエイト8.0gを溶解した溶液を室温下で30
分かけて滴下した。これを55℃に昇温して68時間攪拌し
た。得られた沈澱物を濾過し、tert- ブタノールで洗浄
した後60℃で減圧乾燥し、残渣を酢酸エチル/ メタノー
ル( 容量比9/1)から再結晶して、表題の化合物2.3g(収
率78.0%)を得た。得られた化合物のデータは以下のとお
りであった。 Td 188℃ 1H NMR(DMSO-d6) d 7.75-7.84(d,J=8.10,2H,
C6H4), 7.16-7.25(d,J=8.37,2H,C6H4), 5.25(br,1H,O
H), 4.50(s,2H,CH2), 3.37(s,9H,N(CH3)3); 13C NMR(DM
SO-d6) d 167.8, 142.9, 138.0, 127.0, 125.1, 62.7,
54.5; IR(KBr) 3181, 1552, 1061 cm-1. Calcd for C11
H16N2O2: H, 7.74; C,63.44 N, 13.45. Found: H, 7.6
8; C, 63.22; N, 13.41 また得られた表題のＩＲデータおよびＮＭＲデータを図
１および図２に示す。
シメチルベンゾエイト8.0gを溶解した溶液を室温下で30
分かけて滴下した。これを55℃に昇温して68時間攪拌し
た。得られた沈澱物を濾過し、tert- ブタノールで洗浄
した後60℃で減圧乾燥し、残渣を酢酸エチル/ メタノー
ル( 容量比9/1)から再結晶して、表題の化合物2.3g(収
率78.0%)を得た。得られた化合物のデータは以下のとお
りであった。 Td 188℃ 1H NMR(DMSO-d6) d 7.75-7.84(d,J=8.10,2H,
C6H4), 7.16-7.25(d,J=8.37,2H,C6H4), 5.25(br,1H,O
H), 4.50(s,2H,CH2), 3.37(s,9H,N(CH3)3); 13C NMR(DM
SO-d6) d 167.8, 142.9, 138.0, 127.0, 125.1, 62.7,
54.5; IR(KBr) 3181, 1552, 1061 cm-1. Calcd for C11
H16N2O2: H, 7.74; C,63.44 N, 13.45. Found: H, 7.6
8; C, 63.22; N, 13.41 また得られた表題のＩＲデータおよびＮＭＲデータを図
１および図２に示す。
【００８３】
【実施例２】 (1)1,1- ジメチル-2-(4-ニトロベンゾイル) ヒドラジド
の合成 p-ニトロベンゾイルクロライド25g をジエチルエーテル
50mlに溶解し、unsym-ジメチルヒドラジン8.1gを0 ℃
下、15分で滴下して加えた後、室温下で1 日攪拌した。
の合成 p-ニトロベンゾイルクロライド25g をジエチルエーテル
50mlに溶解し、unsym-ジメチルヒドラジン8.1gを0 ℃
下、15分で滴下して加えた後、室温下で1 日攪拌した。
【００８４】白色固体が析出した後、これを濾過し、ジ
エチルエーテルで洗浄した。次いで洗浄した沈澱物を塩
化メチレンに溶解し、重曹を加えて中和した後、吸引濾
過して得られた濾液を60℃下で溶媒を除去し、残渣をベ
ンゼンで再結晶して、表題の化合物( 収率64%)を得た。
エチルエーテルで洗浄した。次いで洗浄した沈澱物を塩
化メチレンに溶解し、重曹を加えて中和した後、吸引濾
過して得られた濾液を60℃下で溶媒を除去し、残渣をベ
ンゼンで再結晶して、表題の化合物( 収率64%)を得た。
【００８５】(2) 1,1- ジメチル-2-(4-アミノベンゾイ
ル) ヒドラジドの合成 前記の 1,1- ジメチル-2-(4-ニトロベンゾイル) ヒドラ
ジド3gをエタノールに溶解し、10% パラジウム- 炭素0.
07g を加えて混合物を得た。得られた混合物を水素下、
オートクレーブ10気圧中に置き、18時間水素化が終了す
るまで反応させた。反応終了後、溶液を濾過して黄色針
状晶が得られるまで減圧乾燥させて表題の化合物を得
た。
ル) ヒドラジドの合成 前記の 1,1- ジメチル-2-(4-ニトロベンゾイル) ヒドラ
ジド3gをエタノールに溶解し、10% パラジウム- 炭素0.
07g を加えて混合物を得た。得られた混合物を水素下、
オートクレーブ10気圧中に置き、18時間水素化が終了す
るまで反応させた。反応終了後、溶液を濾過して黄色針
状晶が得られるまで減圧乾燥させて表題の化合物を得
た。
【００８６】(3) 1,1- トリメチル-2-(4-アミノベンゾ
イル) ヒドラジニウムアイオダイドの合成 次に前記の1,1-ジメチル-2-(4-アミノベンゾイル) ヒド
ラジド2.68g とヨウ化メチル4.26g をアセトニトリル30
mlに溶解し、室温下、白色固体が析出するまで2 時間反
応させた。得られた固体を濾過し、ジエチルエーテルで
洗浄し、50℃下1 日減圧乾燥させて表題の化合物( 収率
70%)を得た。
イル) ヒドラジニウムアイオダイドの合成 次に前記の1,1-ジメチル-2-(4-アミノベンゾイル) ヒド
ラジド2.68g とヨウ化メチル4.26g をアセトニトリル30
mlに溶解し、室温下、白色固体が析出するまで2 時間反
応させた。得られた固体を濾過し、ジエチルエーテルで
洗浄し、50℃下1 日減圧乾燥させて表題の化合物( 収率
70%)を得た。
【００８７】(4) 1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-アミノ
ベンゾイル) イミド(LM2) の合成 次に前記の 1,1- トリメチル-2-(4-アミノベンゾイル)
ヒドラジニウムアイオダイド3gを水100ml に溶解して、
5M水酸化ナトリウムを用いて滴定し( 終点: フェノール
フタレイン) 、減圧乾固して溶媒を除去した後、クロロ
ホルム150ml を用いて抽出した。抽出液を減圧して溶媒
を除去すると、淡黄色の結晶が析出した。この結晶を塩
化メチレンで再結晶して、表題の化合物1.5gが得られた
(収率83%)。得られた化合物から、得られたデータを以
下に示す。 Td 178℃; Mp 168;1H NMR(DMSO-d6)δ 7.79(dd,J=2.2,
6.8Hz, 2H,C6H2), 6.63(dd,J=2,6.8Hz,2H,C6H2), 3.75
(br,2H,NH2), 3.51(s,9H,N(CH3)3); 13C NMR(DMSO-d6)
δ170.7, 147.8, 128.9, 128.5, 114.1, 55.8; IR(KBr)
3376, 3331, 1589,cm-1. Anal.Calcd for C10H15N3O :
H, 7.82; C,62.15 N, 21.74. Found: H, 7.83; C, 61.
76; N, 21.47 また得られた1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-アミノベン
ゾイル) イミドのＩＲデータおよびＮＭＲデータを図３
および図４に示す。
ベンゾイル) イミド(LM2) の合成 次に前記の 1,1- トリメチル-2-(4-アミノベンゾイル)
ヒドラジニウムアイオダイド3gを水100ml に溶解して、
5M水酸化ナトリウムを用いて滴定し( 終点: フェノール
フタレイン) 、減圧乾固して溶媒を除去した後、クロロ
ホルム150ml を用いて抽出した。抽出液を減圧して溶媒
を除去すると、淡黄色の結晶が析出した。この結晶を塩
化メチレンで再結晶して、表題の化合物1.5gが得られた
(収率83%)。得られた化合物から、得られたデータを以
下に示す。 Td 178℃; Mp 168;1H NMR(DMSO-d6)δ 7.79(dd,J=2.2,
6.8Hz, 2H,C6H2), 6.63(dd,J=2,6.8Hz,2H,C6H2), 3.75
(br,2H,NH2), 3.51(s,9H,N(CH3)3); 13C NMR(DMSO-d6)
δ170.7, 147.8, 128.9, 128.5, 114.1, 55.8; IR(KBr)
3376, 3331, 1589,cm-1. Anal.Calcd for C10H15N3O :
H, 7.82; C,62.15 N, 21.74. Found: H, 7.83; C, 61.
76; N, 21.47 また得られた1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-アミノベン
ゾイル) イミドのＩＲデータおよびＮＭＲデータを図３
および図４に示す。
【００８８】
【重合例１】1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ヒドロキシメチルベンゾ
イル) イミドからのポリウレタンの合成 （充分に脱気した）1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ヒド
ロキシメチルベンゾイル) イミドのジメチルアセトアミ
ド溶液１Ｍ ０．４８ｍｌを、１７０℃下で、３時間加
熱した。得られたポリウレタンは、分子量２０００、分
子量分布２．１３程度であり、ガラス転位温度Ｔｇ＝１
７８．５℃であった。得られた重合体のＩＲデータおよ
びＮＭＲデータを図５および図６に示す。
イル) イミドからのポリウレタンの合成 （充分に脱気した）1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ヒド
ロキシメチルベンゾイル) イミドのジメチルアセトアミ
ド溶液１Ｍ ０．４８ｍｌを、１７０℃下で、３時間加
熱した。得られたポリウレタンは、分子量２０００、分
子量分布２．１３程度であり、ガラス転位温度Ｔｇ＝１
７８．５℃であった。得られた重合体のＩＲデータおよ
びＮＭＲデータを図５および図６に示す。
【００８９】この重合はトリメチルアミンの離脱を伴う
Ｃｕｒｔｉｕｓ転位により生成するｐ−ヒドロキシメチ
ルフェニルイソシアナートの自己重合付加により進行す
ると考えられる。
Ｃｕｒｔｉｕｓ転位により生成するｐ−ヒドロキシメチ
ルフェニルイソシアナートの自己重合付加により進行す
ると考えられる。
【００９０】
【重合例２〜７】1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ヒドロ
キシメチルベンゾイル) イミドの重水素化ジメチルスル
ホキシド(DMSO-d6) 溶液１Ｍを、表１に示す各温度で５
時間加熱した。得られた重合体の数平均分子量（Mn) 、
重量平均分子量と数平均分子量との比(Mw/Mn) 、転化率
(Conv.%)を表１に示す。また、このモノマーの転化率と
温度との関係を図１０に示す。
キシメチルベンゾイル) イミドの重水素化ジメチルスル
ホキシド(DMSO-d6) 溶液１Ｍを、表１に示す各温度で５
時間加熱した。得られた重合体の数平均分子量（Mn) 、
重量平均分子量と数平均分子量との比(Mw/Mn) 、転化率
(Conv.%)を表１に示す。また、このモノマーの転化率と
温度との関係を図１０に示す。
【００９１】
【表１】
【００９２】
【重合例８〜９】1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ヒドロ
キシメチルベンゾイル) イミドを表２に示す溶媒１Ｍ中
で１７０℃３時間加熱した。モノマーの転化率（Conv.
（％）)、水不溶解成分(Y. （％）) 、数平均分子量(M
n)および重量平均分子量と数平均分子量との比(Mw/Mn)
を表２に示す。
キシメチルベンゾイル) イミドを表２に示す溶媒１Ｍ中
で１７０℃３時間加熱した。モノマーの転化率（Conv.
（％）)、水不溶解成分(Y. （％）) 、数平均分子量(M
n)および重量平均分子量と数平均分子量との比(Mw/Mn)
を表２に示す。
【００９３】
【表２】
【００９４】
【重合例１０】1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-アミノベンゾイル) イミ
ドを用いたポリウレアの合成 （重合管中で充分に脱気した）1,1,1-トリメチルアミン
-2-(4-アミノベンゾイル) イミドのジメチルスルホキシ
ド溶液１Ｍ ０．５２ｍｌを、１７０℃、３時間加熱し
た。得られたポリウレアは、分子量１００００、分子量
分布１．８５程度であり、ガラス転位温度Ｔｇ＝１６
６．６℃であった。得られた重合体のＩＲデータを図７
に示す。
ドを用いたポリウレアの合成 （重合管中で充分に脱気した）1,1,1-トリメチルアミン
-2-(4-アミノベンゾイル) イミドのジメチルスルホキシ
ド溶液１Ｍ ０．５２ｍｌを、１７０℃、３時間加熱し
た。得られたポリウレアは、分子量１００００、分子量
分布１．８５程度であり、ガラス転位温度Ｔｇ＝１６
６．６℃であった。得られた重合体のＩＲデータを図７
に示す。
【００９５】この重合はトリメチルアミンの離脱を伴う
Ｃｕｒｔｉｕｓ転位により生成するｐ−アミノフェニル
イソシアナートの自己重合付加により進行すると考えら
れる。
Ｃｕｒｔｉｕｓ転位により生成するｐ−アミノフェニル
イソシアナートの自己重合付加により進行すると考えら
れる。
【００９６】
【重合例１１〜１６】1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ヒ
ドロキシメチルベンゾイル) イミドの重水素化ジメチル
スルホキシド(DMSO-d6) 溶液１Ｍを、１７０℃に設定
し、表３に示す各時間毎にサンプリングした。得られた
重合体の数平均分子量（Mn) 、重量平均分子量と数平均
分子量との比(Mw/Mn) 、転化率(Conv.%)を表３に示す。
また、このモノマーの転化率と温度との関係を図１１に
示す。
ドロキシメチルベンゾイル) イミドの重水素化ジメチル
スルホキシド(DMSO-d6) 溶液１Ｍを、１７０℃に設定
し、表３に示す各時間毎にサンプリングした。得られた
重合体の数平均分子量（Mn) 、重量平均分子量と数平均
分子量との比(Mw/Mn) 、転化率(Conv.%)を表３に示す。
また、このモノマーの転化率と温度との関係を図１１に
示す。
【００９７】
【表３】
【００９８】
【重合例１７〜１９】1,1,1-トリメチルアミン-2-(4-ア
ミノベンゾイル) イミドを表４に示す溶媒１Ｍ中で１７
０℃３時間加熱した。得られた各重合体の収率（Yield
(%)) および固有粘度([η] inh (dL/g)) を表４に示
す。
ミノベンゾイル) イミドを表４に示す溶媒１Ｍ中で１７
０℃３時間加熱した。得られた各重合体の収率（Yield
(%)) および固有粘度([η] inh (dL/g)) を表４に示
す。
【００９９】
【表４】
【０１００】
【重合例２０】アミンイミド化合物の重合触媒能の評価 フェニルグリシジルエーテルに、以下の式で表される1,
1-ジメチル-1-(2-ヒドロキシ) プロピルアミンイミドを
３mol%加え、90〜150 ℃下で8 時間加熱してポリフェニ
ルグリシジルエーテルを得た。
1-ジメチル-1-(2-ヒドロキシ) プロピルアミンイミドを
３mol%加え、90〜150 ℃下で8 時間加熱してポリフェニ
ルグリシジルエーテルを得た。
【０１０１】
【化２８】
【図１】 1,1,1-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベン
ゾイル) アミンイミドのＩＲデータである。
ゾイル) アミンイミドのＩＲデータである。
【図２】 1,1,1-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベン
ゾイル) アミンイミドのＮＭＲデータである。
ゾイル) アミンイミドのＮＭＲデータである。
【図３】 1,1,1-トリメチル-2-(アミノベンゾイル) ア
ミンイミドのＩＲデータである。
ミンイミドのＩＲデータである。
【図４】 1,1,1-トリメチル-2-(アミノベンゾイル) ア
ミンイミドのＮＭＲデータである。
ミンイミドのＮＭＲデータである。
【図５】 1,1,1-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベン
ゾイル) アミンイミドから得られたポリウレタン樹脂の
ＩＲデータである。
ゾイル) アミンイミドから得られたポリウレタン樹脂の
ＩＲデータである。
【図６】 1,1,1-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベン
ゾイル) アミンイミドから得られたポリウレタン樹脂の
ＮＭＲデータである。
ゾイル) アミンイミドから得られたポリウレタン樹脂の
ＮＭＲデータである。
【図７】 1,1,1-トリメチル-2-(アミノベンゾイル) ア
ミンイミドから得られたポリウレア樹脂のＩＲデータで
ある。
ミンイミドから得られたポリウレア樹脂のＩＲデータで
ある。
【図８】 1,1,1-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベン
ゾイル) アミンイミドの熱分析結果を示す模式図であ
る。
ゾイル) アミンイミドの熱分析結果を示す模式図であ
る。
【図９】 1,1,1-トリメチル-2-(アミノベンゾイル) ア
ミンイミドの熱分析結果を示す模式図である。
ミンイミドの熱分析結果を示す模式図である。
【図１０】 1,1,1-トリメチル-2-(ヒドロキシメチルベ
ンゾイル) アミンイミドからポリウレア樹脂を得た際の
転化率を示す図である。
ンゾイル) アミンイミドからポリウレア樹脂を得た際の
転化率を示す図である。
【図１１】 1,1,1-トリメチル-2-(アミノベンゾイル)
アミンイミドからポリウレア樹脂を得た際の転化率を示
す図である。
アミンイミドからポリウレア樹脂を得た際の転化率を示
す図である。
Claims (6)
- 【請求項１】 下記式 [１] で表される新規なアミンイ
ミド化合物： 【化１】 (ただし上記式［１］において、Ｒ1 はＯＨ含有基また
はＮＨ含有基であり、Ｒ 2 〜Ｒ4 は同一でも異なってい
てもよく、それぞれ水酸基で置換されていてもよいアル
キル基または水素である。) - 【請求項２】 前記式 [１] において、Ｒ1 はパラ位に
あり、かつ、Ｒ1 はＨＯＣＨ2 −またはＮＨ2 −であ
り、Ｒ2 はメチル基または２−ヒドロキシプロピル基か
ら少なくとも選ばれる基であることを特徴とする請求項
１に記載の新規なアミンイミド化合物。 - 【請求項３】 下記式 【化２】 （上記式中、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式 [１] と同様であ
る。）で表される芳香族ヒドラジニウム化合物と、 下記式 【化３】 （上記式中、Ｒa は前記式 [１] のＲ1 基におけるＯ
Ｈ含有基と同一である。）で表されるＯＨ含有安息香酸
エステルとを、アルカリ金属アルコラートの存在下で接
触させることを特徴とする下記一般式 [４] で表される
新規なアミンイミドの製造方法。： 【化４】 (ただし上記式［４］中、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式 [１] と
同一であり、Ｒa は前記式 [１] のＲ1 基におけるＯＨ
含有基と同一である。) - 【請求項４】 下記式 【化５】 （式中、Ｘはハロゲン基を表す。）で表されるニトロ
ベンゾイルアシル化合物と、下記式 ＮＨ2 −ＮＲ2 Ｒ3 … （式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記式 [１] と同一であ
る。）で表されるヒドラジンとを接触、中和させた後、
還元して得られる化合物を下記式 Ｒ4 Ｘ … （式中、Ｒ4 は前記式 [１] と同一であり、Ｘはハロ
ゲン基である。）で表されるハロゲン化アルキルとを反
応させてヒドラジニウム塩となし、 次いでアルカリの存在下に処理することを特徴とする下
記式 [５] で表される新規なアミンイミドの製造方
法。： 【化６】 （上記式［５］中、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式 [１] と同じ意
味であり、Ｒb は前記式 [１] のＲ1 基におけるＮＨ含
有基と同一である。） - 【請求項５】 下記式 [６] で表されるアミンイミド化
合物を、重合させることを特徴とするポリウレタン樹脂
の製造方法。 【化７】 (ただし、上記式［６］において、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式
［１］と同様である。) - 【請求項６】 下記式 [７] で表されるアミンイミド化
合物を、重合させることを特徴とするポリウレア樹脂の
製造方法。 【化８】 (ただし、上記式［７］において、Ｒ2 〜Ｒ4 は前記式
［１］と同様である。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29678496A JPH10139748A (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 新規なアミンイミド化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29678496A JPH10139748A (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 新規なアミンイミド化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10139748A true JPH10139748A (ja) | 1998-05-26 |
Family
ID=17838098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29678496A Pending JPH10139748A (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 新規なアミンイミド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10139748A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002051905A1 (en) * | 2000-12-27 | 2002-07-04 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photobase generators, curable compositions prepared by using the same and process of curing |
| WO2009084229A1 (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Mitsui Chemicals, Inc. | 潜在性硬化剤、それを含むエポキシ樹脂組成物、シール剤および有機ｅｌディスプレイ |
| JP2013508468A (ja) * | 2009-10-15 | 2013-03-07 | サントル ナスォナル ド ラ ルシェルシュ シアンティフィク （セ．エヌ．エル．エス） | 自己縮合によるポリウレタン合成 |
| US10351661B2 (en) | 2015-12-10 | 2019-07-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for producing an aminimide |
| US10377928B2 (en) | 2015-12-10 | 2019-08-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Structural adhesive compositions |
-
1996
- 1996-11-08 JP JP29678496A patent/JPH10139748A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002051905A1 (en) * | 2000-12-27 | 2002-07-04 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photobase generators, curable compositions prepared by using the same and process of curing |
| JP2006328427A (ja) * | 2000-12-27 | 2006-12-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 光塩基発生剤並びにそれを用いた硬化性組成物及び硬化方法 |
| CN1326904C (zh) * | 2000-12-27 | 2007-07-18 | 日立化成工业株式会社 | 光碱发生剂以及应用它的固化性组合物及固化方法 |
| WO2009084229A1 (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Mitsui Chemicals, Inc. | 潜在性硬化剤、それを含むエポキシ樹脂組成物、シール剤および有機ｅｌディスプレイ |
| US8466238B2 (en) | 2007-12-28 | 2013-06-18 | Mitsui Chemicals, Inc. | Latent curing agents, epoxy resin compositions containing the same, sealing materials, and organic EL displays |
| JP5486927B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2014-05-07 | 三井化学株式会社 | 潜在性硬化剤、それを含むエポキシ樹脂組成物、シール剤および有機ｅｌディスプレイ |
| JP2013508468A (ja) * | 2009-10-15 | 2013-03-07 | サントル ナスォナル ド ラ ルシェルシュ シアンティフィク （セ．エヌ．エル．エス） | 自己縮合によるポリウレタン合成 |
| US10351661B2 (en) | 2015-12-10 | 2019-07-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for producing an aminimide |
| US10377928B2 (en) | 2015-12-10 | 2019-08-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Structural adhesive compositions |
| US11518844B2 (en) | 2015-12-10 | 2022-12-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for producing an aminimide |
| US11674062B2 (en) | 2015-12-10 | 2023-06-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Structural adhesive compositions |
| US12421431B2 (en) | 2015-12-10 | 2025-09-23 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Structural adhesive compositions |
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